WO2015129466A1 - 銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法 - Google Patents

銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2015129466A1
WO2015129466A1 PCT/JP2015/053833 JP2015053833W WO2015129466A1 WO 2015129466 A1 WO2015129466 A1 WO 2015129466A1 JP 2015053833 W JP2015053833 W JP 2015053833W WO 2015129466 A1 WO2015129466 A1 WO 2015129466A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
copper
copper nanoparticles
nanoparticles
carbon atoms
protective layer
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/053833
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
英也 川▲崎▼
隆一 荒川
祐樹 穂北
Original Assignee
学校法人関西大学
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 学校法人関西大学 filed Critical 学校法人関西大学
Priority to US15/120,978 priority Critical patent/US10214656B2/en
Priority to KR1020167022649A priority patent/KR101886263B1/ko
Priority to CN201580010610.2A priority patent/CN106029261A/zh
Priority to JP2016505139A priority patent/JP6297135B2/ja
Publication of WO2015129466A1 publication Critical patent/WO2015129466A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/24Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/07Metallic powder characterised by particles having a nanoscale microstructure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054Nanosized particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/10Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material
    • B22F1/102Metallic powder coated with organic material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/10Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material
    • B22F1/107Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material containing organic material comprising solvents, e.g. for slip casting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/14Layered products comprising a layer of synthetic resin next to a particulate layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/16Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/62Metallic pigments or fillers
    • C09C1/627Copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/52Electrically conductive inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C09D17/006Metal
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2301/00Metallic composition of the powder or its coating
    • B22F2301/10Copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures

Definitions

  • the present invention relates to low-temperature sinterable copper nanoparticles and a method for producing the same, a copper nanoparticle dispersion, and a copper nanoink, and relates to a method for preserving monodisperse, nanosized copper nanoparticles with high dispersion stability,
  • the present invention relates to a method for sintering copper nanoparticles.
  • Metal nanoparticles with a diameter of about 2 to 100 nm are different from bulk metals in optical properties, magnetic properties, thermal properties, electrical properties, etc., and are expected to be applied in various technical fields. ing. For example, by utilizing the property that the surface area increases and the melting point decreases when the particle size is reduced, an electronic circuit made of metal fine wiring is produced on a substrate using a fine wiring printing ink containing metal nanoparticles. Research is ongoing.
  • Such a fine wiring printing ink uses a dispersion containing metal nanoparticles whose surface is protected by an organic material as an ink material, prints a circuit pattern on a substrate using a fine wiring printing technique, and heats at a low temperature. Then, the organic substance is removed from the surface of the metal nanoparticle to form a metal bond between the metal nanoparticles.
  • the melting point is remarkably lowered. Thereby, metal fine wiring with high thermal conductivity and high electrical conductivity can be formed.
  • Silver nanoparticles are mainly used as an ink material for fine wiring printing (see Patent Document 1).
  • the silver in the fine wiring is oxidized and ionized, so that a so-called migration phenomenon in which a short circuit is induced by moving on the insulator of the substrate easily occurs.
  • the use of gold has also been studied, and gold is desirable in that it does not easily cause a migration phenomenon, but there is a problem that it is expensive. Therefore, as a metal used for the ink material for fine wiring printing, copper which is less likely to cause a migration phenomenon than silver and has a relatively low cost has attracted attention.
  • bulk copper used as a metal wiring has drawbacks such as being easily oxidized and lowering the conductivity, and having a high firing temperature.
  • copper nanoparticles have a lower sintering temperature than bulk copper, and are expected as materials capable of forming fine metal wiring on a substrate such as paper or plastic that is weak against heat.
  • Non-Patent Document 1 describes that crystalline copper nanoparticles having a particle size of about 50 nm can be obtained by circulating a copper component in an ethylene glycol solvent for 2 hours.
  • Non-Patent Document 2 a solution in which a copper compound, a nickel compound and a base are dissolved in ethylene glycol is rapidly heated to the boiling point using a heater to obtain copper-nickel composite particles having a particle size of several hundred nm. It is described that In particular, it is described that copper nanoparticles having a particle size of several hundreds of nanometers can be obtained in the vicinity of the boiling point of about 165 ° C. in a state where hydration water of a copper compound and a nickel compound is contained.
  • Copper nano particles with an average particle diameter of 10 nm or less which has a remarkable melting point drop, are desired as nano ink materials that can form fine metal wiring on substrates such as heat-sensitive paper and plastics. Copper nanoparticles have not been realized. This is because copper nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm or less are unstable because of high reactivity, and oxidation and aggregation of copper nanoparticles easily occur. Even immediately after obtaining the copper nanoparticles, it is difficult to stably store the copper nanoparticles. Therefore, ultrafine copper nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm are manufactured using a polymer that strongly binds to the copper surface as a protective agent. However, there is a problem that the protective agent cannot be completely removed during low-temperature heating, leading to a decrease in electrical conductivity of the metal fine wiring.
  • a method for producing copper nanoparticles having a small average particle diameter is a method for producing metal nano-particles, wherein metal nanoparticles are obtained by allowing a reducing agent to act on a solution containing an organic acid metal salt and an amine compound ( Patent Document 2) is disclosed. Also disclosed is a method for producing copper nanoparticles by allowing a reducing agent to act on a solution comprising an organic acid copper salt and a monoamine having 8 to 16 carbon atoms (see Patent Document 3).
  • Patent Document 2 discloses a method for producing copper nanoparticles having a size of about 5 nm
  • Patent Document 3 discloses a method for producing copper nanoparticles having an average particle size of 10 nm or less and a uniform particle size distribution. Yes.
  • Patent Documents 2 and 3 are difficult to decompose and remove during low-temperature heating.
  • the organic amine protective layer on the surface of copper nanoparticles may be removed at 150 ° C. or lower.
  • copper nanoparticles composed of an organic amine protective layer having 8 or more carbon atoms are produced, and these copper nanoparticles undergo low-temperature sintering at 150 ° C. or lower, and copper nanoparticles
  • the amine protective layer of the particles can be removed.
  • a protective layer made of a short-chain amine that can remove the amine protective layer from the surface of the copper nanoparticles even at low-temperature sintering at 150 ° C. or lower is desired, but with such a short-chain amine, the protective power is weak, There is a problem that copper nanoparticles are likely to be coarsened, aggregated and oxidized, and stable copper nanoparticles having an average particle diameter of 6 nm or less cannot be obtained.
  • Patent Documents 2 and 3 only disclose copper nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm or less by an electron microscope. In addition, Patent Documents 2 and 3 do not provide data indicating that the obtained copper nanoparticles are not oxidized.
  • Patent Document 4 a method for storing a nanoparticle dispersion characterized by storing a nanoparticle dispersion obtained by dispersing copper nanoparticles or copper oxide nanoparticles coated with a protective agent in a solvent at 10 ° C. or lower is described.
  • the coating amount of the protective agent is 30 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the copper nanoparticles or the copper oxide nanoparticles.
  • a method that can be stored and transported at room temperature (10 ° C. or higher) and that can store copper nanoparticles for a long period of time is desired.
  • the copper nanoparticles used in the conductive copper ink material that can be sintered at a low temperature are (1) highly dispersible copper nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm or less with a remarkable melting point drop, and (2) copper. It is desired that the nanoparticle protective layer can be removed during low-temperature sintering at 150 ° C. or lower, and (3) that the oxidation of the copper nanoparticles is suppressed. In addition, it is desired that (4) copper nanoparticles can be stably stored for a long period of time at room temperature and can be transported in terms of production scale-up for industrialization and low cost. However, a copper nanoparticle, a copper nanoparticle dispersion, a copper nanoink, and a method for preserving copper nanoparticles that satisfy such requirements have not yet been obtained.
  • the oxidation of copper is suppressed, the average particle diameter is 10 nm, the melting point is remarkably lowered, the dispersibility is high, the low temperature sintering is possible, and the protective layer is sintered at a low temperature of 150 ° C. or lower.
  • Copper nanoparticles that can be removed at the time of binding and can be suitably used for conductive copper nanoink materials, copper nanoparticle dispersions in which the copper nanoparticles are dispersed, and copper containing the copper nanoparticle dispersion An object is to provide a nano ink.
  • Another object of the present invention is to provide a method for storing copper nanoparticles that can be stably stored for a long time at room temperature and can be transported.
  • the present invention further aims to provide a method for sintering the copper nanoparticles.
  • the present inventors have determined that the average particle diameter of the copper nanoparticles is a specific range in the copper nanoparticles formed from the central portion made of a single crystal of copper and the surrounding protective layer.
  • the protective layer is made of copper nanoparticles containing at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof. The present inventors have found that this can be done and have completed the present invention.
  • the present invention relates to the following copper nanoparticles, copper nanoparticle dispersion, copper nanoink, copper nanoparticle storage method, and copper nanoparticle sintering method.
  • Copper nanoparticles formed from a central part made of a single crystal of copper and a protective layer around the center part, (1) The average particle diameter of the copper nanoparticles is 10 nm or less, (2) The protective layer includes at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof, (3) The boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer is 150 ° C. or less. Copper nanoparticles characterized by that. 2. Item 2.
  • the copper nanoparticles according to Item 1 wherein the standard deviation based on the particle size distribution is 20% or less of the average particle size of the copper nanoparticles. 3.
  • the copper nanoparticles according to item 1 or 2 wherein the mass ratio of the protective layer in the copper nanoparticles is 10 to 30% by mass, where the mass of the copper nanoparticles is 100% by mass. 4).
  • At least one selected from the primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, the secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof has a group represented by the following formula (1) or (2), Item 4.
  • 9. The copper nanoparticle dispersion liquid according to item 8, wherein the copper fine particles have an average particle diameter of 1 to 200 ⁇ m.
  • the copper nanoparticle dispersion liquid according to 9. 11.
  • a copper nano ink comprising the copper nano particle dispersion liquid according to any one of items 7 to 10 above. 12 5.
  • a method for sintering copper nanoparticles comprising sintering the copper nanoparticles according to any one of Items 1 to 4 at a temperature of 150 ° C. or lower in a non-reducing atmosphere under normal pressure or reduced pressure. 13.
  • Step I for preparing a solution and (II) Step II for hydrazine reduction of the solution at 100 ° C. or less under atmospheric pressure,
  • the average particle diameter of the copper nanoparticles is 10 nm or less, and the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer is 150 ° C. or less.
  • the copper nanoparticles of the present invention have an average particle diameter of 10 nm or less, the melting point is remarkably lowered, the sintering temperature is low, and metal fine wiring is formed on a substrate such as paper or plastic that is weak against heat. be able to.
  • the copper nanoparticles of the present invention have at least one selected from the group consisting of primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof having a central portion made of a single crystal of copper. Is covered with a protective layer. For this reason, aggregation of copper nanoparticles is suppressed, and oxidation of copper is suppressed.
  • the protective layer contains at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof, the protective layer decomposes or evaporates at a low temperature.
  • the protective layer can also be removed. For this reason, the copper nanoparticles of the present invention can be suitably used as an ink material.
  • the copper nanoparticles of the present invention at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof forming the protective layer is volatile. Therefore, in low-temperature sintering under reduced pressure, copper nanoparticles are sintered at a temperature of about 80 ° C., which could not be realized so far, and a copper thin film is formed. Is possible. For this reason, the copper nanoparticle dispersion liquid in which the copper nanoparticles of the present invention are dispersed, and the copper nanoink containing the copper nanoparticle dispersion liquid can be suitably used for forming metal fine wiring.
  • the method for preserving copper nanoparticles of the present invention allows the copper nanoparticles to be separated from the solution surface by precipitating the copper nanoparticles at the bottom of the solution in step 1, and carbon is added to the solution in step 2.
  • the specific gravity of the alkane solvent is small, so that it floats and covers the liquid surface of the solution, so that the copper nanoparticles can be prevented from coming into contact with oxygen.
  • a copper nanoparticle can be stably preserve
  • FIG. 2 is a diagram showing an ultraviolet-visible absorption spectrum of copper nanoparticles obtained in Example 1.
  • FIG. 2 is a diagram showing a TEM observation image of copper nanoparticles obtained in Example 1.
  • FIG. It is a figure which shows the high-resolution TEM observation image (left) and electron beam diffraction image (right) of the copper nanoparticle obtained in Example 1.
  • FIG. 3 is a diagram showing an X-ray diffraction (XRD) measurement result of the copper nanoparticles obtained in Example 1.
  • XRD X-ray diffraction
  • FIG. 3 is a diagram showing the results of infrared spectroscopy (FT-IR) measurement of the copper nanoparticles obtained in Example 1 (top). For comparison, the results of FT-IR measurement of 1-amino-2-propanol are also shown (bottom).
  • 2 is a diagram showing a thermal analysis (TG-DTA) of copper nanoparticles obtained in Example 1.
  • FIG. It is a figure which shows the X-ray-diffraction (XRD) measurement result after 150 degreeC low-temperature sintering of the paste in which the copper nanoparticle disperse
  • XRD X-ray-diffraction
  • FIG. 10 It is a figure which shows the measurement result of the X-ray diffraction (XRD) which performed the octane process to the copper nanoparticle obtained in Example 1, and measured one month later (FIG. 10 upper part). For comparison, an XRD measurement result in the case where the copper fine particles were not subjected to octane treatment is also shown (lower part of FIG. 10).
  • FIG. 4 is a diagram showing an ultraviolet-visible absorption spectrum of copper nanoparticles obtained in Example 2.
  • FIG. 6 is a view showing a high-resolution TEM observation image of copper nanoparticles obtained in Example 2.
  • FIG. 4 is a diagram showing a result of X-ray diffraction (XRD) measurement of copper nanoparticles obtained in Example 2. It is a figure which shows the infrared spectroscopy (FT-IR) measurement result of the copper nanoparticle obtained in Example 2 (lower). For comparison, the results of FT-IR measurement of 2-hydroxybutyric acid are also shown (top).
  • FIG. 6 is a graph showing measurement results of electrical resistance values of copper thin films prepared in Examples 3 to 8 and Comparative Example 6. It is a figure which shows the measurement result of the electrical resistance value of the copper thin film prepared in Examples 9-12.
  • the copper nanoparticles of the present invention are copper nanoparticles formed from a central part composed of a single crystal of copper and a protective layer around the center, and (1) the average particle diameter of the copper nanoparticles is 10 nm or less.
  • the protective layer is at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof (hereinafter referred to as “having 3 to 6 carbon atoms”).
  • the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer is 150 ° C. or lower.
  • the copper nanoparticles of the present invention having the above characteristics have an average particle size of 10 nm or less, the melting point is remarkably lowered, the sintering temperature is low, and the substrate such as paper or plastic which is weak against heat is used. Also, metal fine wiring can be formed.
  • the central portion made of a single crystal of copper is coated with a protective layer containing a primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms. For this reason, aggregation of copper nanoparticles is suppressed, and oxidation of copper is suppressed.
  • the protective layer contains primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and the protective layer has a boiling point or thermal decomposition temperature of 150 ° C. or lower, the protective layer decomposes or evaporates at a low temperature.
  • the protective layer can also be removed.
  • the copper nanoparticles of the present invention can be suitably used as an ink material.
  • the copper nanoparticles of the present invention are volatile in the primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms that form the protective layer, and thus have been realized so far in low-temperature sintering under reduced pressure.
  • the copper nanoparticles are sintered at a temperature of about 80 ° C., which could not be formed, and a copper thin film is formed, it is possible to form metal fine wiring at a lower temperature. For this reason, the copper nanoparticle dispersion liquid in which the copper nanoparticles are dispersed and the copper nanoink containing the copper nanoparticle dispersion liquid can be suitably used for forming metal fine wiring.
  • the method for preserving copper nanoparticles according to the present invention includes (1) step 1 of precipitating copper nanoparticles in a solution in which the copper nanoparticles are dispersed, and (2) b carbon in the solution in which the copper nanoparticles are precipitated. It has the process 2 which adds alkane solvent of several 4-14.
  • the copper nanoparticles can be moved away from the liquid surface of the solution by precipitating the copper nanoparticles at the bottom of the solution in the step 1, and in the step 2
  • an alkane solvent having 4 to 14 carbon atoms to the solution, the alkane solvent has a low specific gravity and floats and covers the liquid surface of the solution, so that the copper nanoparticles can be prevented from coming into contact with oxygen. it can.
  • a copper nanoparticle can be stably preserve
  • Copper nanoparticle The copper nanoparticle of this invention is formed from the center part which consists of a single crystal of copper, and the surrounding protective layer.
  • the copper forming the central part of the copper nanoparticles of the present invention is a single crystal.
  • the single crystal in the present invention refers to a crystal having the same crystal orientation in any part of the crystal and in which atoms constituting the crystal are arranged in a spatially regular manner. That is, the single crystal of copper forming the central part of the copper nanoparticles of the present invention is a single crystal as a whole, crystals grown in various directions are not mixed, and the copper particles are aggregated. Means no. This can be confirmed by peak measurement of XRD analysis of copper nanoparticles and direct observation of atomic arrangement by a high resolution electron microscope.
  • a protective layer is formed around the central portion made of the single crystal of copper.
  • the protective layer includes at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof.
  • the secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group, etc. are added to the secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and the secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms.
  • Specific examples include 1-amino-2-propanol, 2- hydroxybutyric acid, 3- hydroxybutyric acid, 1,2-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol is exemplified. These secondary alcohols may be used alone or in combination.
  • the hydroxy group of the secondary alcohol has a high affinity for both the solvent and the copper surface, and contributes to improved dispersibility. Since the hydroxy group of the secondary alcohol has a reducing ability, the oxidation of copper is suppressed, and the oxide generated during low-temperature sintering is a ketone compound, so that it is easily volatile and decomposed.
  • the above C3-C6 secondary alcohol and its derivatives are preferably monoalcohols.
  • monoalcohol it becomes easy to adjust the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer to 150 ° C. or lower.
  • the secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and the derivative thereof have a group represented by the following formula (1).
  • * represents a bond.
  • the group represented by the above formula (1) is oxidized to form a ketone to produce a group represented by the following formula (3).
  • the groups represented by the above formulas (1) and (3) exhibit a high coordinating power, and form a five-membered ring with a copper atom on the surface of the central portion made of a single crystal of copper. It becomes a group having a metallacycle structure represented by (5) and is stabilized. For this reason, aggregation of copper nanoparticles is further suppressed.
  • the primary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group and the like are added to the primary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and the primary alcohol having 3 to 6 carbon atoms.
  • Specific examples include 2-amino-2-ethyl-1,3-propanediol and 2-amino-1-butanol. These primary alcohols may be used alone or in combination.
  • the primary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and its derivative are preferably monoalcohols.
  • monoalcohol it becomes easy to adjust the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer to 150 ° C. or lower.
  • the primary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof preferably have a group represented by the following formula (2).
  • the group represented by the above formula (2) also forms a 5-membered ring with a copper atom on the surface of the central portion made of a single crystal of copper, becomes a group having a metallacycle structure, and is stabilized. For this reason, aggregation of a copper nanoparticle will be suppressed more.
  • 1-amino-2-propanol is preferable.
  • 1-Amino-2-propanol has the following conditions, which are preferable as a protective agent for low-temperature sinterable copper nanoparticles.
  • the conditions include that the dispersibility of the copper nanoparticles can be increased, the oxidation of the copper nanoparticles can be suppressed, and the decomposition or vaporization is performed at a low temperature of 150 ° C. or lower while suppressing the oxidation of copper during the production process. (Evaporation). For this reason, the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer is 150 ° C. or lower.
  • the thermal decomposition temperature of the protective layer is a temperature at which a substance constituting the protective layer is desorbed from the central portion made of copper single crystal by heat, and the substance constituting the protective layer includes the above desorption. Includes forms that evaporate with heat.
  • copper nanoparticles are produced using the above 1-amino-2-propanol, a complex is formed by coordination to a copper ion by an amino group in the structure, and the hydroxyl group has 2 to 2 carbon atoms such as ethylene glycol.
  • the protective layer is composed of octylamine or the like used as a general amine for copper nanoparticle synthesis, the produced copper nanoparticles are aggregated during production, and bulk copper is generated. Copper nanoparticles cannot be obtained.
  • the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer of copper nanoparticles can be measured by performing thermal analysis with TG-DTA in a nitrogen atmosphere using a dry powder of copper nanoparticles.
  • the protective layer may contain other components other than at least one selected from the above-mentioned primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof.
  • the protective layer can facilitate low-temperature sintering of the copper nanoparticles, and is at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof. It preferably consists of seeds only.
  • the mass ratio of the protective layer in the copper nanoparticles is preferably 10 to 30% by mass, where the mass of the copper nanoparticles is 100% by mass.
  • the mass ratio of the protective layer is too high, there is a possibility that the protective layer cannot be sufficiently removed even when heated at a low temperature of 150 ° C. or lower when sintering the copper nanoparticles. If the mass ratio of the protective layer is too low, the copper single crystal may not be sufficiently protected.
  • the copper nanoparticles of the present invention have an average particle size of 10 nm or less. If the average particle diameter of the copper nanoparticles exceeds 10 nm, the copper nanoparticles cannot be sintered at a low temperature.
  • the average particle diameter is preferably 3 to 8 nm, more preferably 3 to 6 nm. If the average particle diameter of the copper nanoparticles is smaller than 3 nm, the copper nanoparticles may be aggregated.
  • the average particle diameter in this specification is an arithmetic average value of the particle diameters of arbitrary 100 particles in the TEM observation image.
  • the copper nanoparticles of the present invention preferably have a standard deviation based on the particle size distribution of 20% or less of the average particle diameter of the copper nanoparticles. That is, it is preferable that the standard deviation based on the particle size distribution of the copper nanoparticles is divided by the average particle diameter of the copper nanoparticles and the value expressed as a percentage is 20% or less.
  • the standard deviation based on the particle size distribution of the copper nanoparticles is made uniform, and copper nanoparticles suitable for sintering at a low temperature can be obtained.
  • Method for producing copper nanoparticles It does not specifically limit as a manufacturing method which manufactures the copper nanoparticle of this invention, It can manufacture by a conventionally well-known method.
  • a method for producing copper nanoparticles formed from a central portion made of a single crystal of copper and a protective layer around the central portion (I) Copper acetate and at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof were dissolved in diols having 2 to 4 carbon atoms. Step I for preparing a solution, and (II) Step II for hydrazine reduction of the solution at 100 ° C.
  • Examples include a method for producing copper nanoparticles, wherein the copper nanoparticles have an average particle diameter of 10 nm or less, and the protective layer has a boiling point or a thermal decomposition temperature of 150 ° C. or less.
  • the production method will be described as an example.
  • step I copper acetate and at least one selected from primary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof are converted into diols having 2 to 4 carbon atoms. This is a step of preparing a dissolved solution.
  • the copper compound used in Step I is copper acetate [Cu (acac) 2 ].
  • the copper compound used in Step I is preferably a copper ion that is dissolved in a diol having 2 to 4 carbon atoms and does not contain a halogen.
  • copper acetate is used as the copper compound used in Step I, copper ions are easily reduced, and highly dispersible copper nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm or less, particularly 3 to 6 nm, are easily obtained.
  • the content of copper acetate in the solution is not particularly limited, but is preferably about 5 to 1000 mM, more preferably about 100 to 400 mM, and still more preferably about 200 to 300 mM in terms of copper ions.
  • the content of copper acetate in the solution is not particularly limited, but is preferably about 5 to 1000 mM, more preferably about 100 to 400 mM, and still more preferably about 200 to 300 mM in terms of copper ions.
  • Step I at least one selected from primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms and derivatives thereof is used.
  • the primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms By using the primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms, the primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms and the like around the central portion made of a single crystal of copper.
  • a protective layer can be formed. As described above, such a protective layer can be decomposed or vaporized (evaporated) at a low temperature of 150 ° C. or lower.
  • the same ones as those used for forming the above-mentioned copper nanoparticle protective layer can be used.
  • the concentration of primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms in the solution in the above step I is preferably 3 to 20 times the concentration of copper ions in the above solution, more preferably 3 to 10 times. preferable. If the concentration of primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms in the solution is too low, the protective layer may not be sufficiently formed, and the average particle diameter of the obtained copper nanoparticles will increase. There is a fear. If the concentration of primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms in the solution is too high, secondary alcohols and the like are excessively present, which may make it difficult to separate and purify the copper nanoparticles. is there.
  • a diol having 2 to 4 carbon atoms is used as a solvent for preparing the solution.
  • a diol having 2 to 4 carbon atoms is used as the solvent, copper acetate and primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms can be dissolved, and aggregation and oxidation of the obtained copper nanoparticles can be suppressed.
  • the diol having 2 to 4 carbon atoms include ethylene glycol and propylene glycol, and among these, ethylene glycol is preferable because of excellent dispersibility of the obtained copper nanoparticles.
  • the diol having 2 to 4 carbon atoms used as the solvent may be the same as those used as the primary and / or secondary alcohols forming the protective layer.
  • a part of the solvent forms a protective layer of the copper nanoparticles.
  • Examples of the diol having 2 to 4 carbon atoms that is the same as the primary and / or secondary alcohol forming the protective layer include 1,2-propanediol.
  • a diol having 2 to 4 carbon atoms may be used alone, but other polar solvents (for example, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol monomethyl ether, etc.) are mixed and used. May be.
  • the content of the diol having 2 to 4 carbon atoms in the solvent is preferably 60% by weight or more, and more preferably 90% by weight or more.
  • the above solution may contain other additives in addition to copper acetate, primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, and diols having 2 to 4 carbon atoms.
  • the other additives include an ethanol solution of ammonia.
  • the content of ammonia in the ethanol solution is preferably 1 to 5 vol%, with the ethanol solution being 100 vol%.
  • Step II is a step of reducing the hydrazine of the solution prepared in Step I at 100 ° C. or lower under atmospheric pressure.
  • the reducing agent used for hydrazine reduction include hydrazine compounds. Among them, hydrazine, hydrazine sulfate, and phenylhydrazine are preferably used.
  • sodium borohydride is known as a reducing agent used for the synthesis of metal nanoparticles having an average particle size of 6 nm or less. However, when sodium borohydride was used as the reducing agent in the above step II, it was produced. Copper nanoparticles aggregate and bulk copper is deposited.
  • the concentration of the hydrazine compound in the solution in Step II above is preferably 5 to 30 times, more preferably 15 to 30 times the copper ion concentration in the solution. If the concentration of the hydrazine compound in the solution is too low, the ability to reduce copper nanoparticles becomes insufficient, and the average particle size of the copper nanoparticles may increase. Moreover, when the density
  • step II hydrazine reduction is performed under atmospheric pressure.
  • Step I a solution in which copper acetate and a primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms are dissolved in a diol having 2 to 4 carbon atoms is prepared, and the resulting solution is added with hydrazine according to Step II.
  • step II can be performed under atmospheric pressure. For this reason, according to the said manufacturing method, since pressurization is unnecessary in a manufacturing process, a copper nanoparticle can be manufactured easily.
  • step II hydrazine reduction is performed at 100 ° C. or lower. That is, step II may be performed by adjusting the solution prepared in step I to a temperature of 100 ° C. or lower.
  • the hydrazine reduction temperature is preferably 100 ° C. or less, and more preferably 50 ° C. or less. When the temperature of hydrazine reduction is too high, there is a possibility that a by-product is generated.
  • the hydrazine reduction is preferably 5 ° C. or higher, and more preferably 20 ° C. or higher. If the temperature of hydrazine reduction is too low, copper nanoparticles may not be sufficiently produced.
  • the solution prepared in the step I is hydrazine reduced under atmospheric pressure.
  • the copper nanoparticle formed from the center part which consists of a copper single crystal, and the surrounding protective layer can be manufactured with the manufacturing method of the copper nanoparticle demonstrated above. According to this production method, copper nanoparticles having a small average particle diameter of 10 nm or less, particularly about 3 to 6 nm can be obtained.
  • the protective layer contains primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms, it has volatility, and the boiling point or thermal decomposition temperature of the protective layer can be made 150 ° C. or lower.
  • the protective layer can be removed by heating at 150 ° C. or lower, and the copper nanoparticles can be sintered at a low temperature of 150 ° C. or lower.
  • a copper nanoparticle is obtained in the state disperse
  • the copper nanoparticles are obtained in a form dispersed in a solution.
  • the said manufacturing method may have the process of further precipitating the copper nanoparticle in a solution after the process II.
  • the precipitated copper nanoparticle can be extract
  • the method for precipitating the copper nanoparticles in the solution is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known methods such as a method of precipitating by centrifugation. Examples of the method for precipitating the copper nanoparticles in the solution include a method of precipitating the copper nanoparticles by adding a precipitation solvent to the solution.
  • the precipitation solvent is not particularly limited as long as copper nanoparticles can be precipitated, and examples thereof include dimethylacetamide (DMA) and N-methylpyrrolidone (NMP).
  • DMA dimethylacetamide
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • copper nanoparticles can be precipitated in a solution, and hydrazine as an impurity in the solution, and primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms can be dissolved. This makes it easy to separate the copper nanoparticles from hydrazine and primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms.
  • a method of precipitating by copper separation may be performed after the method of precipitating the copper nanoparticles by adding a precipitation solvent to the above solution.
  • the production method may further include a step of washing the precipitated copper nanoparticles with a volatile solvent.
  • a volatile solvent By using the production method having the above steps, hydrazine and excess primary and / or secondary alcohols having 3 to 6 carbon atoms other than the protective layer other than the surface of the copper nanoparticles can be removed with high purity. Of copper nanoparticles can be obtained.
  • the volatile solvent acetone can be used, but dimethylacetamide or N-methylpyrrolidone is preferable from the viewpoint of suppressing the oxidation of the copper nanoparticles.
  • the method for preserving copper nanoparticles of the present invention includes (1) Step 1 for precipitating copper nanoparticles in a solution in which copper nanoparticles are dispersed, and (2) a solution in which copper nanoparticles are precipitated. A step 2 of adding an alkane solvent having 4 to 14 carbon atoms; By the said preservation
  • Step 1 is a step of precipitating copper nanoparticles in a solution in which copper nanoparticles are dispersed. Since the copper nanoparticles can be moved away from the liquid surface of the solution by precipitating the copper nanoparticles at the bottom of the solution in the above step 1, the contact of the copper nanoparticles with oxygen can be suppressed.
  • the method for precipitating the copper nanoparticles in the solution is not particularly limited.
  • a method for precipitating the copper nanoparticles by adding a precipitation solvent to the solution Is mentioned.
  • the precipitation solvent the same precipitation solvent as described in the above production method can be used.
  • Step 2 is a step of adding an alkane solvent having 4 to 14 carbon atoms to the solution in which the copper nanoparticles are precipitated.
  • the alkane solvent has a small specific gravity, so that it floats and covers the liquid surface of the solution. Contact can be suppressed.
  • the copper nanoparticles can be stably stored and transported for a long period of time.
  • the alkane solvent having 4 to 14 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a liquid and can cover the liquid surface of the solution in which the copper nanoparticles are precipitated, but is stable at room temperature of 10 ° C. or higher, and the copper nanoparticles Is preferably hexane, heptane, octane, nonane, decane or dodecane, more preferably octane.
  • the copper nanoparticles can be stably stored for a long period at room temperature and can be transported.
  • the copper nanoparticles of the present invention can be dispersed in a dispersion medium to obtain a copper nanoparticle dispersion (paste) in which the copper nanoparticles are redispersed as a colloid.
  • a copper nanoparticle dispersion is also one aspect of the present invention.
  • dispersion medium examples include alcohols such as methanol, ethanol, propylene glycol, and glycerol, and polar solvents such as toluene, alkanolamine, and N, N-dimethylformamide.
  • alcohols such as methanol, ethanol, propylene glycol, and glycerol
  • polar solvents such as toluene, alkanolamine, and N, N-dimethylformamide.
  • These dispersion media may be used alone or in combination of two or more.
  • propylene glycol and glycerol may be mixed and used at a volume ratio of 1: 1.
  • alkanolamine and the same carbon number as the primary and / or secondary alcohol having 3 to 6 carbon atoms that forms the protective layer of the copper nanoparticles in that high dispersion stability can be maintained. More preferably, 3 to 6 alkanolamines are used.
  • These dispersion media can be appropriately selected depending on the printing technique to which the copper nano ink is
  • the copper nanoparticles of the present invention can also be mixed with copper fine particles and dispersed in a dispersion medium to obtain a copper nanoparticle dispersion (paste) in which the copper nanoparticles and the copper fine particles are redispersed as a colloid.
  • a copper nanoparticle dispersion liquid in which the copper nanoparticles and copper fine particles are dispersed in a dispersion medium is also one aspect of the present invention.
  • the dispersion medium used in the copper nanoparticle dispersion liquid the above-mentioned ones can be used.
  • copper fine particles are copper particles having an average particle diameter of 1 ⁇ m or more, and are distinguished from copper nanoparticles.
  • Copper fine particles having an average particle diameter of 1 ⁇ m or more are inexpensive and can be reduced in cost. However, they are difficult to sinter in a low temperature region of 150 ° C. or lower, and have a low electric resistance of 10 ⁇ 5 ⁇ cm. It is difficult to obtain a copper thin film showing a value.
  • a copper thin film having a low electric resistance value of 10 ⁇ 5 ⁇ cm is reduced to 150 ° C. or less. It becomes possible to manufacture by low temperature sintering.
  • the average particle size of the copper fine particles is preferably 1 to 200 ⁇ m, more preferably 1 to 100 ⁇ m, still more preferably 1 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 1 to 5 ⁇ m. If the average particle diameter of the copper fine particles is too small, the copper fine particles become expensive, and there is a fear that the cost reduction by mixing the copper fine particles is insufficient. If the average particle size of the copper fine particles is too large, the electrical resistance value of the circuit may not be sufficiently reduced when a circuit is formed using copper nano ink prepared by mixing the copper fine particles and copper nanoparticles. .
  • the ratio of the mass (Ma) of the copper nanoparticles to the sum (Ma + Mb) of the mass (Ma) of the copper nanoparticles and the mass (Mb) of the copper fine particles is preferably 10% by mass or more. 30% by mass or more is more preferable.
  • the ratio of the mass (Ma) of the copper nanoparticles is too small, the copper fine particles are difficult to sinter at a low temperature of 150 ° C. or less, and the circuit is prepared using the copper nano ink prepared by mixing the copper nanoparticles and the copper fine particles. When this is formed, the circuit is likely to crack, and the electrical resistance value of the circuit may not be sufficiently reduced.
  • the ratio of the mass (Ma) of a copper nanoparticle with respect to the sum (Ma + Mb) of the mass (Ma) of a copper nanoparticle and the mass (Mb) of a copper fine particle is 80 mass% or less. Is preferable, and 50 mass% or less is more preferable.
  • the ratio of the mass (Ma) of the copper nanoparticles is too large, the effect of reducing the electrical resistance value of the circuit by mixing and using the copper nanoparticles is saturated, which may hinder cost reduction.
  • the total content (Ma + Mb) of the mass (Ma) of the copper nanoparticles and the mass (Mb) of the copper fine particles in the copper nanoparticle dispersion is 10 to 80% based on 100 mass% of the copper nanoparticle dispersion. % By mass is preferable, and 30 to 50% by mass is more preferable.
  • the copper nanoparticle dispersion is used by being contained in copper nanoink.
  • the copper nano ink containing the copper nano particle dispersion is also one aspect of the present invention.
  • the copper nanoparticles in the above-described method for storing copper nanoparticles that is, in the storage state where the liquid surface of the solution in which the copper nanoparticles are precipitated is coated with an alkane solvent having 4 to 14 carbon atoms, By discarding and removing the supernatant alkane solvent and the solution, and adding the dispersion medium to the remaining copper nanoparticles, the copper nanoparticles can be easily dispersed in the dispersion medium. For this reason, the copper nanoparticle preserve
  • the dispersion medium is added after leaving the concentration to be optimal for the application. It may be used.
  • terpineol, dodecanol, ethylene glycol, 1-methoxy-2-propanol and the like may be appropriately added to the copper nano ink according to the use.
  • the content of metallic copper in the copper nano ink is preferably 5 wt% or more and less than 80 wt%, and more preferably 10 wt% or more and less than 70 wt%.
  • metallic copper When there is too little content of metallic copper, there exists a possibility that copper nano ink cannot be used suitably as an electrically conductive paste.
  • metallic copper when there is too much content of metallic copper, there exists a possibility that the viscosity of copper nano ink may become high and it may become difficult to handle.
  • the copper nanoparticles of the present invention can be suitably used as an ink material for forming a metal fine wiring, but are not limited to the use, and can be used as a catalyst material (catalyst or catalyst carrier). Also, it can be used as a transparent conductive film instead of ITO, or as an antireflection coating material.
  • the copper nanoparticles of the present invention can be sintered at a low temperature of 150 ° C. or lower even under normal pressure, and can be sintered at a lower temperature, for example, 80 ° C. or lower under reduced pressure. it can.
  • the sintering is preferably performed in a non-reducing atmosphere.
  • Such a method for sintering copper nanoparticles in which copper nanoparticles are sintered at a temperature of 150 ° C. or lower in a non-reducing atmosphere under normal pressure or reduced pressure is also one aspect of the present invention. Although it does not specifically limit as said non-reducing atmosphere, For example, nitrogen, argon, etc. are mentioned.
  • UV-vis Ultraviolet-Visible Absorption
  • TEM Transmission electron microscope
  • IR Infrared spectroscopy
  • TG-DTA Thermal analysis
  • Powder X-ray diffraction (XRD) measurement It measured using Bruker D2 PHASER.
  • XRD Powder X-ray diffraction
  • Example 1 (preparation of copper nanoparticles and various samples)> Copper (II) acetate (2.73 g) was dissolved in ethylene glycol (30 mL) to prepare a 0.3 M copper acetate solution. Also, 1-amino-2-propanol (11.6 mL) was dissolved in ethylene glycol (30 mL) to prepare a 3M 1-amino-2-propanol solution. When the 1-amino-2-propanol solution was added to the copper acetate solution, the solution turned dark blue with complex formation. Hereinafter, this is referred to as “raw material solution”.
  • Example 1 DMA was added to the solution in which the copper nanoparticles were dispersed so that the volume ratio of the solution in which the copper nanoparticles were dispersed and dimethylacetamide (DMA) obtained in Example 1 was 1: 2.
  • the solution was suspended by aggregation of the copper nanoparticles. Centrifugation was performed on the suspended solution at 6000 rpm for 10 minutes to obtain a solution in which a precipitate of copper nanoparticles was precipitated (right side of FIG. 1).
  • the solution was removed, a precipitate of copper nanoparticles was collected, and washed with ethyl acetate twice to separate the copper nanoparticles to obtain copper nanoparticles.
  • Octane was added to the solution in which the precipitates of the copper nanoparticles obtained in operation 1 were precipitated (right side of FIG. 1) and stored at room temperature. Thereby, oxidation of copper was suppressed for one month or more, and long-term storage was possible at room temperature.
  • FIG. 2 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of the copper nanoparticles obtained in operation 1 of Example 1.
  • plasmon absorption is usually observed in the region of 550 to 600 nm, but plasmon absorption is not observed with copper nanoparticles of about 3 nm. Since the plasmon absorption resulting from the copper nanoparticle was not seen, the copper nanoparticle obtained in Example 1 was found to have a copper nanoparticle of 3 nm or less.
  • FIG. 4 A TEM observation image of the copper nanoparticles is shown in FIG. Samples with copper nanoparticles redispersed in ethanol showed high dispersion stability. According to the TEM observation image of FIG. 3, it can be seen that single nano-sized monodispersed copper nanoparticles are obtained. What is the particle size distribution of these copper nanoparticles? The average particle size is 3.5 ⁇ 1.0 mm. According to the high-resolution TEM observation image of FIG. 4 (right of FIG. 4), copper lattice stripes were observed, and diffraction rings from the 111 crystal plane of copper were confirmed from the electron beam diffraction image.
  • the XRD spectrum of the copper nanoparticles is shown in FIG. Since the peak derived from a copper (111) surface was confirmed and the peak derived from copper oxide was not confirmed, it turned out that the copper nanoparticle which has oxidation resistance is obtained.
  • the particle size is estimated to be about 3 nm from the XRD spectrum, which is consistent with the size estimated from TEM observation. Thereby, it was found that the obtained copper nanoparticles were a single crystal of copper.
  • Example 6 the absorption of hydroxyl groups in the region of 3500 ⁇ 3000 cm -1, a methyl group in a region of 3000 ⁇ 2800 cm -1, absorption of ethyl group is seen, the copper nanoparticles and 1-amino-2-propanol red Since the external absorption spectra coincided, it was found that the copper nanoparticles produced according to Example 1 had 1-amino-2-propanol molecules as a surface protective layer. The copper nanoparticles obtained in Example 1 are considered to exhibit high dispersion stability and high oxidation resistance due to adsorption of 1-amino-2-propanol molecules on the surface of the copper nanoparticles.
  • the thermal analysis result (TG-DTA) of the copper nanoparticles is shown in FIG. A weight decrease is observed from around 80 ° C., and a rapid weight decrease is observed between 1 ° C. and 150 ° C. as 1-amino-2-propanol molecules are desorbed and evaporated. Thus, it was found that 1-amino-2-propanol molecules forming the protective layer on the surface of the copper nanoparticles can be removed at a low temperature of 150 ° C. or lower.
  • the copper nanoparticles are considered to have a small particle size and a lower melting point than bulk copper.
  • the copper nanoparticle paste about 30 wt% copper content obtained in operation 4 was heated at a low temperature of about 150 ° C. for 1 hour on polyethylene terephthalate (PET) in a nitrogen atmosphere
  • PET polyethylene terephthalate
  • the copper nanoparticles were sintered.
  • grains grew and a copper thin film with metallic luster was formed.
  • the copper thin film had an electric resistance of about 10 ⁇ 4 ⁇ cm.
  • FIG. 8 shows an XRD spectrum of a copper thin film obtained after low-temperature heating at about 150 ° C. in a nitrogen atmosphere.
  • FIG. 8 shows an XRD spectrum of a copper thin film obtained after low-temperature heating at about 150 ° C. in a nitrogen atmosphere. Compared to copper nanoparticles before low-temperature sintering (FIG.
  • the diffraction peak intensity increased due to grain growth by sintering and became sharper. Moreover, it was confirmed that the copper oxide peak was not observed in the XRD spectrum that the copper thin film after low-temperature sintering was not oxidized.
  • the copper nanoparticle paste was found to undergo low temperature sintering even at about 80 ° C.
  • a copper nanoparticle paste (copper content of about 30 wt%) was heated at a low temperature of about 80 ° C. under reduced pressure on a PET substrate, a metallic thin copper film was formed.
  • FIG. 9 shows an XRD spectrum of a copper thin film obtained after low-temperature heating at about 80 ° C. for 6 hours under reduced pressure. The XRD spectrum confirmed that size growth due to low temperature sintering and copper oxide peaks were not observed. From the result of infrared spectroscopic measurement of copper nanoparticles after low-temperature sintering at 80 ° C. (bottom of FIG.
  • Example 2 (Preparation of copper nanoparticles and various samples)> An ethanol solution (5 mL) containing copper (II) acetate (0.136 g), 2-hydroxybutyric acid (0.390 g) and 4 vol% ammonia was dissolved in ethylene glycol (44 mL), and a 0.015 M copper acetate solution was dissolved. Prepared. The copper acetate solution turned dark blue with complex formation. Hereinafter, this is referred to as “raw material solution”.
  • DMSO dimethyl sulfoxide
  • Example 2 Characteristic Evaluation of Copper Nanoparticles Obtained in Example 2
  • the ultraviolet-visible absorption spectrum of the copper nanoparticles obtained in the operation 2 of Example 2 is shown in FIG.
  • plasmon absorption is usually observed in the region of 550 to 600 nm.
  • the surface is oxidized with copper nanoparticles of about 4 nm or more, plasmon absorption is not observed, and plasmon absorption is used as an index of oxidation of copper nanoparticles. Since the plasmon absorption resulting from the copper nanoparticle was seen, the copper nanoparticle obtained in Example 2 was found to be obtained.
  • FIG. 12 shows a TEM observation image of the copper nanoparticles obtained in operation 3 of Example 2. Samples with copper nanoparticles redispersed in ethanol showed high dispersion stability. According to the TEM observation image of FIG. 12, it can be seen that mono-dispersed copper nanoparticles having a single nano size (about 3 to 6 nm) are obtained. As for the particle size distribution of the copper nanoparticles, the average particle size was 4.3 ⁇ 0.8 nm.
  • the XRD spectrum of the copper nanoparticles is shown in FIG. Since the peak derived from a copper (111) surface was confirmed and the peak derived from copper oxide was not confirmed, it turned out that the copper nanoparticle which has oxidation resistance is obtained.
  • the particle size is estimated to be about 4 nm from the XRD spectrum, which is consistent with the size estimated from TEM observation. Thereby, it was found that the obtained copper nanoparticles were a single crystal of copper.
  • the surface state of copper nanoparticles was examined by infrared spectroscopy.
  • the result of the infrared spectroscopic measurement is shown in the lower part of FIG.
  • the infrared spectroscopic measurement results obtained by measuring only 2-hydroxybutyric acid are also shown in FIG. From the results of FIG. 14, the absorption of hydroxyl groups in the region of 3500 ⁇ 3000 cm -1, a methyl group in a region of 3000 ⁇ 2800 cm -1, absorption of ethyl group is seen, the infrared absorption spectrum of the copper nanoparticles and 2-hydroxybutyric acid Match.
  • the copper nanoparticles produced according to Example 2 had 2-hydroxybutyric acid molecules as a surface protective layer.
  • the copper nanoparticles obtained in Example 2 adsorb 2-hydroxybutyric acid molecules to the surface of the copper nanoparticles. By doing so, it is considered that high dispersion stability and high oxidation resistance are exhibited.
  • Examples 3 to 12 Preparation of Copper Nanoparticles and Copper Nanoparticle-Containing Copper Nanoparticle Dispersion
  • hydrazine was added to the raw material solution and allowed to stand in an air atmosphere for 24 hours to prepare a dispersion liquid in which copper nanoparticles were dispersed.
  • DMA N, N-dimethylacetamide
  • the amount of DMA was 25 ml.
  • the suspended mixed solution was centrifuged at 6000 rpm for 2 minutes to obtain a solution in which a precipitate of copper nanoparticles was precipitated.
  • the clear supernatant was removed from the solution, a precipitate of copper nanoparticles was collected, and 7 ml of DMA was added.
  • the precipitate of copper nanoparticles was dispersed in DMA using a vortex mixer, and re-washing was performed.
  • the precipitate was immediately centrifuged at 6000 rpm for 3 minutes. By the above-mentioned operation, it separated into a substantially transparent supernatant and a precipitate of copper nanoparticles. The supernatant was removed, and 10 ml of toluene was added to the remaining precipitate, followed by redispersion using a vortex mixer for washing. After confirming that the precipitate of copper nanoparticles was dispersed in toluene, the precipitate of copper nanoparticles was separated by centrifugation at 6000 rpm for 1 minute.
  • the clear supernatant was removed, and 10 ml of hexane was added to the remaining precipitate, followed by redispersion using a vortex mixer for washing. After confirming that the precipitate of copper nanoparticles was dispersed in hexane, centrifugation was performed at 6000 rpm for 5 minutes, the transparent supernatant was removed, and the precipitate of copper nanoparticles was separated to complete the washing. .
  • the average particle diameter of the obtained copper nanoparticles was 3 nm.
  • Examples 3 to 8 (Preparation of copper nanoparticle and copper nanoparticle-containing copper nanoparticle dispersion)> Mixed particles were prepared by mixing copper nanoparticles having an average particle diameter of 3 nm obtained by purification and separation by the above operation and copper fine particles having an average particle diameter of 1 ⁇ m at a mixing ratio shown in Table 1.
  • the mixing ratio (X) (mass%) in Table 1 is the ratio of the mass (Ma) of the copper nanoparticles to the total (Ma + Mb) of the mass (Ma) of the copper nanoparticles and the mass (Mb) of the copper fine particles. Is a value represented by mass%, and was calculated by the following formula.
  • (X) (mass%) [(Ma) / (Ma + Mb)] ⁇ 100
  • a solvent obtained by mixing propylene glycol and glycerol at a ratio of 1: 1 (volume ratio) was added so that the copper content was 40% by mass.
  • the hexane remaining in the mixed particles that had floated to the upper layer of the solvent was removed.
  • the mixed particles and the solvent were mixed using a vortex mixer to separate and remove hexane remaining on the mixed particles.
  • vacuum drying was performed for 3 minutes to remove all hexane in the dispersion.
  • a copper nanoparticle dispersion liquid in which copper nanoparticles and copper fine particles were dispersed in a dispersion medium was prepared, and this was used as a copper nanoink.
  • a film was formed on a polyimide substrate by a bar coater to form a coating film.
  • This coating film is dried at 85 ° C. for 1 hour and 30 minutes under a nitrogen flow rate of 1 mL / min, and then heat-fired at 150 ° C. for 15 minutes under a nitrogen flow rate of 1 mL / min to sinter the mixed particles.
  • a bar coater Using the copper nanoink obtained as described above, a film was formed on a polyimide substrate by a bar coater to form a coating film.
  • This coating film is dried at 85 ° C. for 1 hour and 30 minutes under a nitrogen flow rate of 1 mL / min, and then heat-fired at 150 ° C. for 15 minutes under a nitrogen flow rate of 1 mL / min to sinter the mixed particles.
  • a copper nano ink was prepared in the same manner as in Examples 3 to 8 except that only copper fine particles having an average particle diameter of 1 ⁇ m were used and no copper nanoparticles were mixed, and a copper thin film was formed using the copper nano ink.
  • Examples 9 to 12 (Preparation of copper nanoparticle and copper nanoparticle-containing copper nanoparticle dispersion)> The ratio of the mass (Ma) of the copper nanoparticles to the total (Ma + Mb) of the mass (Ma) of copper nanoparticles having an average particle diameter of 3 nm and the mass (Mb) of copper fine particles in the mixed particles (mixing ratio (X )) was 15% by mass. Moreover, the average particle diameter of the copper fine particle to be used was a value shown in Table 2. Otherwise, a copper nano ink was prepared in the same manner as in Examples 3 to 8, and a copper thin film was formed using the copper nano ink.
  • the copper nano ink containing the copper nano particle and the copper nano particle dispersion liquid in which the copper fine particle is dispersed in the dispersion medium when the copper fine particle having an average particle diameter of 5 ⁇ m or less is used, the copper nano ink is used. It was found that the electrical resistance value of the formed copper thin film can be particularly lowered.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

 本発明は、銅の酸化が抑制されており、平均粒子径が10nm以下であるため融点降下が著しく、且つ分散性が高く、低温焼結可能であり、且つ保護層を150℃以下での低温焼結時に除去することができ、導電性銅ナノインク材料に好適に用いることができる銅ナノ粒子を提供し、また、銅ナノ粒子を室温で長期間安定に保存でき、輸送できる銅ナノ粒子の保存方法を提供することを主な課題とする。 本発明は、銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成された銅ナノ粒子であって、 (1)前記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、  (2)前記保護層が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含み、 (3)前記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、 ことを特徴とする銅ナノ粒子である。

Description

銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法
 本発明は、低温焼結可能な銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、及び銅ナノインクに関し、分散安定性が高い単分散の、ナノサイズの銅ナノ粒子を保存する方法に関し、上記銅ナノ粒子の焼結方法に関する。
 直径2nm~100nm程度までサイズの金属ナノ微粒子は、光特性、磁気特性、熱特性、及び電気特性等において、バルク金属とは異なった性質を示すことから、各種の技術分野への応用が期待されている。例えば、粒子サイズが小さくなると表面積が増加して融点の低下が起こるという特性を利用し、金属ナノ微粒子を含む微細配線印刷用インクを用いて、基板上に金属微細配線からなる電子回路を作製する研究が進められている。 
 このような微細配線印刷用インクは、有機物で表面を保護した金属ナノ微粒子を含む分散液をインク材料とし、微細配線印刷技術を用いて基板の上に回路パターンを印刷し、低温加熱することにより、金属ナノ微粒子表面から有機物が除去されて金属ナノ微粒子間で金属接合を生じる。特に、直径10nm以下の金属ナノ微粒子を用いると、融点の低下が顕著である。これにより、熱伝導性及び電気伝導性が高い金属微細配線を形成することができる。
 微細配線印刷用インク材料として、主に銀ナノ粒子が用いられている(特許文献1参照)。しかしながら、特許文献1に記載の銀ナノ粒子を用いると、微細配線中の銀が酸化することでイオン化し、基板の絶縁物上を移動して短絡を誘導する、いわゆるマイグレーション現象を生じ易い。また、金を用いることも検討されており、金はマイグレーション現象を生じ難い点で望ましいが、高価であるという問題がある。そのため、微細配線印刷用インク材料に用いる金属としては、銀よりもマイグレーション現象を生じ難く、比較的低コストである銅が注目されている。 
 従来から金属配線として用いられるバルク銅は、酸化され易く導電率が低下すること、焼成温度が高いこと等の欠点を有する。これに対して、銅ナノ粒子はバルク銅よりも焼結温度が低く、熱に弱い紙やプラスチック等の基板上にも金属微細配線を形成できる材料として期待されている。 
 しかしながら、銅ナノ粒子は、金、銀等の他の金属ナノ微粒子と比較して凝集し易く、数十nm~数百nmの凝集粒子径を有するため、インク材料として特に有用な平均粒子径が10nm以下の単分散の銅ナノ粒子の合成は困難である。例えば、非特許文献1ではエチレングリコール溶媒中で銅成分を2時間環流することにより、粒径が50nm付近の結晶性の銅ナノ粒子が得られることが記載されている。また、非特許文献2では銅化合物とニッケル化合物と塩基とをエチレングリコールに溶解した溶液を、ヒーターを用いて沸点まで急速加熱することにより、粒径が数百nmの銅-ニッケル複合粒子が得られることが記載されている。特に、銅化合物及びニッケル化合物の水和水が含まれる状態では、約165℃の沸点付近で粒径が数百nmの銅ナノ粒子が得られることが記載されている。 
 熱に弱い紙やプラスチック等の基板上にも金属微細配線を形成できるナノインク材料として、融点降下が著しい平均粒子径10nm以下の銅ナノ粒子が望まれるが、このような温度域で低温焼結可能な銅ナノ粒子は実現していない。これは、平均粒子径10nm以下の銅ナノ粒子は、反応性が高いために不安定であり、銅ナノ粒子の酸化や凝集が容易に起こるためである。銅ナノ粒子を得た直後であっても銅ナノ粒子を安定に保存することは困難である。そのため、平均粒子径10nmの極微小サイズの銅ナノ粒子は、銅表面と強く結合する高分子などを保護剤に用いて製造される。しかしながら、当該保護剤は、低温加熱時に完全に除去できず、金属微細配線の電気伝導性の低下につながるという問題がある。 
 平均粒子径が微小な銅ナノ粒子を製造する方法として、有機酸金属塩とアミン化合物を含む溶液に還元剤を作用させることにより金属ナノ粒子を得ることを特徴とする金属ナノ 粒子の製造方法(特許文献2参照)が開示されている。また、有機酸銅塩と炭素数8~16のモノアミンとからなる溶液に還元剤を作用させて銅ナノ粒子を製造する方法(特許文献3参照)が開示されている。特許文献2では約5nmの銅ナノ粒子の製造方法が開示されており、特許文献3では、平均粒子径が10nm以下であって、粒子径分布の揃った銅ナノ粒子の製造方法が開示されている。
 しかしながら、特許文献2及び3で示されている炭素数8以上のアミンは、低温加熱時の分解除去が困難であり、例えば、150℃以下で銅ナノ粒子表面の有機アミン保護層を除くことができない。実際に、特許文献2及び3では、炭素数8以上の有機アミン保護層からなる銅ナノ粒子を製造しており、これらの銅ナノ粒子が150℃以下で低温焼結が起こること、及び銅ナノ粒子のアミン保護層が除去できることは開示されていない。このため、150℃以下の低温焼結でも、銅ナノ粒子表面からアミン保護層が除去できる短鎖アミンからなる保護層が望まれるが、このような短鎖アミンでは、保護力が弱いために、銅ナノ粒子の粗大化、凝集、酸化が生じ易く、平均粒子径が6nm以下の安定な銅ナノ粒子を得ることができないという問題がある。
 また、平均粒子径が10nm以下の銅ナノ粒子は表面積が大きく容易に酸化するが、特許文献2及び3では、電子顕微鏡による平均粒子径が10nm以下の銅ナノ粒子が開示されているのみであり、また、特許文献2及び3には得られた銅ナノ粒子が酸化していないことを示すデータは提示されていない。
 また、保護剤により被覆されている銅ナノ粒子又は銅酸化物ナノ粒子を溶剤に分散してなるナノ粒子分散体を10℃以下で保存することを特徴とするナノ粒子分散体の保存方法が記載されている(特許文献4参照)。特許文献4の[0015]には、保護剤の被覆量が銅ナノ粒子又は銅酸化物ナノ粒子100質量部に対して、30質量部以上150質量部以下であることが記載されている。しかし、簡便性や輸送面の利便性の観点から、室温(10℃以上)で保存・輸送でき、銅ナノ粒子を長期保存できる方法が望まれている。 
 以上の観点から、低温焼結可能な導電性銅インク材料に用いる銅ナノ粒子として、(1)融点降下が著しい平均粒子径10nm以下の分散性の高い銅ナノ粒子であること、(2)銅ナノ粒子の保護層が150℃以下での低温焼結時に除去できること、(3)銅ナノ粒子の酸化が抑制されていること、が望まれる。加えて、工業化に向けた製造スケールアップ及び低コストの点で、(4)銅ナノ粒子を室温で長期間安定に保存でき、輸送できることが望まれている。しかしながら、このような要件を満たす銅ナノ粒子、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク及び銅ナノ粒子の保存方法は未だ得られていない。
特開2009-227736号公報 特開2007-321216号公報 特開2007-84879号公報 特開2007-197756号公報
J Phys Chem C, Vol.115 No.6 Page.2656-2664 (2011.02.17) Chem Mater, Vol.22 No.7 Page.2175-2177 (2010.04.13)
 本発明は、銅の酸化が抑制されており、平均粒子径が10nmであるため融点降下が著しく、且つ分散性が高く、低温焼結可能であり、且つ保護層を150℃以下での低温焼結時に除去することができ、導電性銅ナノインク材料に好適に用いることができる銅ナノ粒子、当該銅ナノ粒子が分散されている銅ナノ粒子分散液、及び当該銅ナノ粒子分散液を含有する銅ナノインクを提供することを目的とする。
 本発明は、また、銅ナノ粒子を室温で長期間安定に保存でき、輸送できる銅ナノ粒子の保存方法を提供することを目的とする。
 本発明は、更に、上記銅ナノ粒子の焼結方法を提供することを目的とする。
 本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成された銅ナノ粒子において、銅ナノ粒子の平均粒子径を特定の範囲とし、上記保護層が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含む銅ナノ粒子とすることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 即ち、本発明は、下記の銅ナノ粒子、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法、及び、銅ナノ粒子の焼結方法に関する。
1.銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成された銅ナノ粒子であって、
(1)前記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、 
(2)前記保護層が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含み、
(3)前記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、
ことを特徴とする銅ナノ粒子。
2.粒度分布に基づく標準偏差が銅ナノ粒子の平均粒子径の20%以下である、上記項1に記載の銅ナノ粒子。
3.前記保護層の、前記銅ナノ粒子中の質量比は、前記銅ナノ粒子の質量を100質量%として10~30質量%である、上記項1又は2に記載の銅ナノ粒子。
4.前記炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種は、下記式(1)又は(2)で示される基を有する、上記項1~3のいずれかに記載の銅ナノ粒子。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式(1)及び(2)中、*は結合手を示す。)
5.上記項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子の保存方法であって、
(1)前記銅ナノ粒子が分散した溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程1、及び
(2)前記銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加する工程2を有することを特徴とする銅ナノ粒子の保存方法。
6.保存温度が10℃以上である、上記項5に記載の保存方法。
7.上記項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液。
8.上記項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子、及び、銅微粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液。
9.前記銅微粒子の平均粒子径は、1~200μmである、上記項8に記載の銅ナノ粒子分散液。
10.前記銅ナノ粒子の質量(Ma)と、前記銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する前記銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合が、2質量%以上である、上記項8又は9に記載の銅ナノ粒子分散液。
11.上記項7~10のいずれかに記載の銅ナノ粒子分散液を含有する、銅ナノインク。
12.上記項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子を、非還元性雰囲気中で、常圧又は減圧下で、150℃以下の温度で焼結させる、銅ナノ粒子の焼結方法。
13.銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成される銅ナノ粒子の製造方法であって、
(I)酢酸銅と、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種とが、炭素数2~4のジオールに溶解した溶液を調製する工程I、及び
(II)前記溶液を、大気圧下で100℃以下でヒドラジン還元する工程IIを有し、
 前記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、且つ、前記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、
銅ナノ粒子の製造方法。
 本発明の銅ナノ粒子は、平均粒子径が10nm以下であるので、融点の低下が顕著であり、焼結温度が低く、熱に弱い紙やプラスチック等の基板上にも金属微細配線を形成することができる。 また、本発明の銅ナノ粒子は、銅の単結晶からなる中心部が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含む保護層に被覆されている。このため、銅ナノ粒子の凝集が抑制されており、且つ、銅の酸化が抑制されている。更に、保護層が炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含むので、当該保護層が低温で分解又は蒸発するため、銅ナノ粒子を150℃以下の低温で焼結させる際に、保護層も除去することができる。このため、本発明の銅ナノ粒子は、インク材料として好適に用いることができる。
 また、本発明の銅ナノ粒子は、保護層を形成する炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種が揮発性を示すので、減圧下での低温焼結においては、これまで実現できなかった約80℃の温度で銅ナノ粒子が焼結し、銅薄膜を形成するので、更に低温で金属微細配線を形成することも可能である。このため、本発明の銅ナノ粒子が分散されている銅ナノ粒子分散液、及び当該銅ナノ粒子分散液を含有する銅ナノインクは、金属微細配線を形成するのに好適に用いることができる。
 また、本発明の銅ナノ粒子の保存方法は、工程1により銅ナノ粒子を溶液の底部に沈殿させることにより銅ナノ粒子を溶液の液面から遠ざけることができ、且つ、工程2において溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加することにより当該アルカン溶媒の比重が小さいために浮上し、溶液の液面を被覆するので、銅ナノ粒子が酸素と接触することを抑制することができる。また、上記保存方法によれば、10℃以上の室温でも安定なアルカン溶媒を用いることにより、銅ナノ粒子を室温で安定的に保存することができる。
実施例1で得られた銅ナノ粒子が分散した溶液(左)、及び沈殿分離後(右)の写真である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子の紫外可視吸光スペクトルを示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子のTEM観察像を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子の高分解能TEM観察像(左)と電子線回折像(右)を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子のX線回折(XRD)測定結果を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ微粒子の赤外分光(FT-IR)測定結果を示す図である(上)。比較のために、1-アミノ-2-プロパノールのFT-IR測定結果も示す(下)。 実施例1で得られた銅ナノ粒子の熱分析(TG-DTA)を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子が分散したペーストの、窒素雰囲気下での150℃の低温焼結後のX線回折(XRD)測定結果を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子が分散したペーストの、減圧下80℃の低温焼成後のX線回折(XRD)測定結果(上)及び赤外分光(FT-IR)測定結果(下)を示す図である。 実施例1で得られた銅ナノ粒子にオクタン処理を行い、一ヶ月後に測定したX線回折(XRD)の測定結果を示す図である(図10上)。比較のために、銅の微粒子にオクタン処理を行わなかった場合のXRD測定結果も示す(図10下)。 実施例2で得られた銅ナノ粒子の紫外可視吸光スペクトルを示す図である。 実施例2で得られた銅ナノ粒子の高分解能TEM観察像を示す図である。 実施例2で得られた銅ナノ粒子のX線回折(XRD)測定結果を示す図である。 実施例2で得られた銅ナノ粒子の赤外分光(FT-IR)測定結果を示す図である(下)。比較のために、2-ヒドロキシ酪酸のFT-IR測定結果も示す(上)。 実施例3~8及び比較例6で調製された銅薄膜の電気抵抗値の測定結果を示す図である。 実施例9~12で調製された銅薄膜の電気抵抗値の測定結果を示す図である。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 本発明の銅ナノ粒子は、銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成された銅ナノ粒子であって、(1)上記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、(2)上記保護層が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種(以下、「炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等」とも示す。)を含み、(3)上記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下であることを特徴とする。上記特徴を有する本発明の銅ナノ粒子は、銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であるので、融点の低下が顕著であり、焼結温度が低く、熱に弱い紙やプラスチック等の基板上にも金属微細配線を形成することができる。 また、本発明の銅ナノ粒子は、銅の単結晶からなる中心部が、炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を含む保護層に被覆されている。このため、銅ナノ粒子の凝集が抑制されており、且つ、銅の酸化が抑制されている。更に、保護層が炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を含み、保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下であるので、当該保護層が低温で分解又は蒸発するため、銅ナノ粒子を150℃以下の低温で焼結させる際に、保護層も除去することができる。このため、本発明の銅ナノ粒子は、インク材料として好適に用いることができる。また、本発明の銅ナノ粒子は、保護層を形成する炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等が揮発性を示すので、減圧下での低温焼結においては、これまで実現できなかった約80℃の温度で銅ナノ粒子が焼結し、銅薄膜を形成するので、更に低温で金属微細配線を形成することも可能である。このため、当該銅ナノ粒子が分散されている銅ナノ粒子分散液、及び当該銅ナノ粒子分散液を含有する銅ナノインクは、金属微細配線を形成するのに好適に用いることができる。
 また、本発明の銅ナノ粒子の保存方法は、(1)前記銅ナノ粒子が分散した溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程1、及び(2)b前記銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加する工程2を有することを特徴とする。上記特徴を有する本発明の銅ナノ粒子の保存方法は、上記工程1により銅ナノ粒子を溶液の底部に沈殿させることにより銅ナノ粒子を溶液の液面から遠ざけることができ、且つ、工程2において溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加することにより当該アルカン溶媒の比重が小さいために浮上し、溶液の液面を被覆するので、銅ナノ粒子が酸素と接触することを抑制することができる。また、上記保存方法によれば、10℃以上の室温でも安定なアルカン溶媒を用いることにより、銅ナノ粒子を室温で安定的に保存することができる。
 1.銅ナノ粒子
 本発明の銅ナノ粒子は、銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成される。
 本発明の銅ナノ粒子の中心部を形成する銅は、単結晶である。なお、本発明における単結晶とは、結晶のどの部分をとっても同じ結晶方位をもっており、それを構成している原子が空間的に規則正しい配列になっているものをいう。すなわち、本発明の銅ナノ粒子の中心部を形成する銅の単結晶は、粒子全体が一つの結晶であり、色々な方向に成長した結晶が混ざり合っておらず、銅粒子が凝集等していないことを意味する。これは銅ナノ粒子のXRD解析のピーク測定と高分解能電子顕微鏡による原子配列の直接観察により確認することができる。
 本発明の銅ナノ粒子は、上記銅の単結晶からなる中心部の周囲には、保護層が形成されている。上記保護層は、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含む。
 上記炭素数3~6の2級アルコール及びその誘導体としては、炭素数3~6の2級アルコール、及び、当該炭素数3~6の2級アルコールにアミノ基、カルボキシル基、水酸基等が付加された化合物が挙げられ、具体的には、1-アミノ-2-プロパノール、2- ヒドロキシ酪酸、3- ヒドロキシ酪酸、1,2-プロパンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオールが挙げられる。これらの2級アルコール等は、単独であってもよいし、混合して用いられてもよい。
 2級アルコールのヒドロキシ基は,溶媒及び銅表面ともに親和性が高く、分散性向上に寄与する。2級アルコールのヒドロキシ基は還元能を有するために、銅の酸化を抑制し、かつ低温焼結の際に生成する酸化物が、ケトン化合物であるため、揮発分解し易い。
 上記炭素数3~6の2級アルコール及びその誘導体は、モノアルコールであることが好ましい。モノアルコールを用いることにより、保護層の沸点又は熱分解温度を150℃以下に調整し易くなる。 
 上記炭素数3~6の2級アルコール及びその誘導体は、下記式(1)で示される基を有することが好ましい。なお、下記式(1)~(5)中、*は、結合手を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 上記式(1)で示される基は、当該基が酸化されてケトンとなり、下記式(3)で示される基を生成する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 上記式(1)及び(3)で示される基は、高い配位力を示し、銅の単結晶からなる中心部の表面の銅原子と5員環を形成して、下記式(4)及び(5)で示されるメタラサイクル構造を有する基となり、安定化する。このため、銅ナノ粒子の凝集がより抑制される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 上記炭素数3~6の1級アルコール及びその誘導体としては、炭素数3~6の1級アルコール、及び、当該炭素数3~6の1級アルコールにアミノ基、カルボキシル基、水酸基等が付加された化合物が挙げられ、具体的には、2-アミノ-2エチル-1,3-プロパンジオール、2-アミノ-1-ブタノールが挙げられる。これらの1級アルコール等は、単独であってもよいし、混合して用いられてもよい。
 上記炭素数3~6の1級アルコール及びその誘導体は、モノアルコールであることが好ましい。モノアルコールを用いることにより、保護層の沸点又は熱分解温度を150℃以下に調整し易くなる。 
 上記炭素数3~6の1級アルコール及びその誘導体は、下記式(2)で示される基を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 上記式(2)で示される基も、銅の単結晶からなる中心部の表面の銅原子と5員環を形成して、メタラサイクル構造を有する基となり、安定化する。このため、銅ナノ粒子の凝集がより抑制されることとなる。
 上記炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等の中でも、1-アミノ-2-プロパノールが好ましい。1-アミノ-2-プロパノールは、低温焼結可能な銅ナノ粒子のための保護剤として好ましい、以下の条件を備えている。当該条件とは、銅ナノ粒子の分散性を高めることができること、銅ナノ粒子の酸化を抑制できること、製造時に、焼成の過程で銅の酸化を抑制しながら、150℃以下の低温で分解又は気化(蒸発)することである。このため、上記保護層の沸点又は熱分解温度は150℃以下である。ここで、保護層の熱分解温度とは、保護層を構成する物質が熱により銅の単結晶からなる中心部から脱離する温度であり、上記脱離には、保護層を構成する物質が熱により蒸散する形態を含む。上記1-アミノ-2-プロパノールを用いて銅ナノ粒子の製造を行うと、構造中のアミノ基による銅イオンへの配位で錯体を形成して、ヒドロキシル基がエチレングリコール等の炭素数2~4のジオールに対しての溶解性を高めることにより、高い銅イオン濃度(例えば、銅イオン換算で1000mM)であるにもかかわらず、平均粒子径が6nm以下の単分散の銅ナノ粒子の合成が可能である。更に、ヒドロキシル基を有しているために耐酸化性が向上し、かつ揮発性があるために150℃以下の低温加熱で分解、気化により除去できるとともに、低温加熱における銅の酸化を抑制することができる。例えば、1-アミノ-2-プロパノールの揮発性を利用することで、従来実現できなかった80℃(減圧下)で1-アミノ-2-プロパノールからなる保護層を除去することが可能となり、且つ、銅ナノ粒子の低温焼結が可能となる。なお、保護層が、銅ナノ粒子合成の一般的なアミンとして使用されるオクチルアミン等からなる構成とした場合、製造時に、生成した銅ナノ粒子が凝集してしまい、バルク銅が生成して、銅ナノ粒子が得られない。
 銅ナノ粒子の保護層の沸点又は熱分解温度は、銅ナノ粒子の乾燥粉末を用いて、窒素雰囲気下でTG-DTAによる熱分析を行うことにより測定することができる。
 保護層は、上記炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種以外の他の成分を含有していてもよいが、上記保護層は、銅ナノ粒子の低温焼結を容易にすることができる点で、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種のみからなることが好ましい。
 銅ナノ粒子中の保護層の質量比は、銅ナノ粒子の質量を100質量%として10~30質量%が好ましい。保護層の質量比が高過ぎると、銅ナノ粒子を焼結させる際に、150℃以下の低温で加熱しても保護層が十分に除去できないおそれがある。保護層の質量比が低過ぎると、銅の単結晶を十分に保護できないおそれがある。
 本発明の銅ナノ粒子は、平均粒子径が10nm以下である。銅ナノ粒子の平均粒子径が10nmを超えると、銅ナノ粒子を低温で焼結できない。上記平均粒子径は3~8nmが好ましく、3~6nmがより好ましい。銅ナノ粒子の平均粒子径が3nmよりも小さいと、銅ナノ粒子が凝集してしまうおそれがある。
 なお、本明細書における平均粒子径は、TEM観察像中の任意の100個の粒子の粒子径の算術平均値である。
 本発明の銅ナノ粒子は、粒度分布に基づく標準偏差が銅ナノ粒子の平均粒子径の20%以下であることが好ましい。すなわち、銅ナノ粒子の粒度分布に基づく標準偏差を銅ナノ粒子の平均粒子径で除して、百分率で示した値が20%以下であることが好ましい。銅ナノ粒子の粒度分布に基づく標準偏差を上述の範囲とすることで、銅ナノ粒子の平均粒子径が均一化されて、低温で焼結するのに適した銅ナノ粒子とすることができる。
 (銅ナノ粒子の製造方法)
 本発明の銅ナノ粒子を製造する製造方法としては特に限定されず、従来公知の方法により製造することができる。
 本発明の銅ナノ粒子の製造方法としては、例えば、
 銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成される銅ナノ粒子の製造方法であって、
(I)酢酸銅と、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種とが、炭素数2~4のジオールに溶解した溶液を調製する工程I、及び
(II)上記溶液を、大気圧下で100℃以下でヒドラジン還元する工程IIを有し、
 上記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、且つ、上記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、銅ナノ粒子の製造方法が挙げられる。以下、例示的に上記製造方法について説明する。
 上記工程Iは、酢酸銅と、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種とが、炭素数2~4のジオールに溶解した溶液を調製する工程である。
 上記工程Iに用いられる銅化合物は、酢酸銅[Cu(acac)]である。導電材料としての利用を考えた場合は、工程Iに用いられる銅化合物には、炭素数2~4のジオールに溶解して、ハロゲンを含まない銅イオンが望ましい。工程Iに用いられる銅化合物として酢酸銅を用いると、銅イオンが還元され易く、平均粒子径が10nm以下、特に、3~6nmの分散性の高い銅ナノ粒子が得られ易い。これに対し、工程Iに用いられる銅化合物として、例えば、ギ酸銅[Cu(HCOO)]を用いた場合、ギ酸が強酸イオンであることから凝集が促進され、粗大銅粒子の凝集体が生成してしまうこととなる。 
 上記工程Iにおいて、溶液中の酢酸銅の含有量は特に限定されないが、銅イオン換算で5~1000mM程度が好ましく、100~400mM程度がより好ましく、200~300mM程度が更に好ましい。溶液中の酢酸銅の含有量が少な過ぎると、銅ナノ粒子が得られ難いおそれがある。また、溶液中の酢酸銅の含有量が多過ぎると、生成した銅ナノ粒子が凝集してバルク銅が析出するおそれがある。 
 上記工程Iには、炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール並びにそれらの誘導体から選択される少なくとも1種が用いられる。上記炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を用いることにより、銅の単結晶からなる中心部の周囲に、当該炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等からなる保護層を形成することができる。このような保護層は、上述のように、150℃以下の低温で分解又は気化(蒸発)することが可能である。
 炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等としては、上述の銅ナノ粒子の保護層を形成するものと同一のものを用いることができる。
 上記工程Iにおいて溶液中の、炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等の濃度は、上述の溶液中の銅イオンの濃度の3~20倍が好ましく、3~10倍がより好ましい。溶液中の炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等の濃度が低過ぎると、保護層が十分に形成できないおそれがあり、また、得られる銅ナノ粒子の平均粒子径が大きくなるおそれがある。溶液中の炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等の濃度が高過ぎると、2級アルコール等が過剰に存在するので、銅ナノ粒子を分離精製することが困難となるおそれがある。 
 上記工程Iでは、溶液を調製する際の溶媒として、炭素数2~4のジオールが用いられる。上記溶媒として炭素数2~4のジオールを用いると、酢酸銅及び炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を溶解できるとともに、得られる銅ナノ粒子の凝集及び酸化を抑制することができる。上記炭素数2~4のジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコールが挙げられ、これらの中でも、得られる銅ナノ粒子の分散性に優れる点で、エチレングリコールが好ましい。
 溶媒として用いられる炭素数2~4のジオールは、上記保護層を形成する1級及び/又は2級アルコール等として用いられるものと同一のものを用いてもよい。溶媒として、保護層を形成する1級及び/又は2級アルコール等と同一の炭素数2~4のジオールを用いることにより、溶媒の一部が銅ナノ粒子の保護層を形成するので、溶媒の他に保護層を形成するための1級及び/又は2級アルコール等を別途添加する工程が必要でないので、容易に銅ナノ粒子を製造することができる。上記保護層を形成する1級及び/又は2級アルコール等と同一の炭素数2~4のジオールとしては、例えば、1,2-プロパンジオールが挙げられる。
 工程Iに用いられる溶媒として、炭素数2~4のジオールを単独で用いてもよいが、他の極性溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、エチレングリコールモノメチルエーテル等)を混合して用いてもよい。2種以上の溶媒を混合する場合には、溶媒中の炭素数2~4のジオールの含有量は60重量%以上が好ましく、90重量%以上がより好ましい。
 上記溶液には、酢酸銅、炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等、及び炭素数2~4のジオールの他に、他の添加剤が含まれていてもよい。当該他の添加剤としては、例えば、アンモニアのエタノール溶液が挙げられる。当該エタノール溶液中のアンモニアの含有量は、エタノール溶液を100vol%として、1~5vol%が好ましい。
 以上説明した工程Iにより、酢酸銅と炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等とが炭素数2~4のジオールに溶解した溶液が調製される。
 上記工程IIは、工程Iにより調製された溶液を、大気圧下で100℃以下でヒドラジン還元する工程である。ヒドラジン還元に用いられる還元剤としてはヒドラジン化合物が挙げられ、中でも、ヒドラジン、硫酸ヒドラジン、フェニルヒドラジンが好適に用いられる。一方、平均粒子径が6nm以下の金属ナノ粒子の合成に用いられる還元剤として、水素化ホウ素ナトリウムが知られているが、上記工程IIにおいて、還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを用いると、生成した銅ナノ粒子が凝集してバルク銅が析出してしまう。
 上記工程IIにおける溶液中のヒドラジン化合物の濃度は、溶液中の銅イオン濃度の5~30倍が好ましく、15~30倍がより好ましい。溶液中のヒドラジン化合物の濃度が低過ぎると、銅ナノ粒子への還元能が不十分となり、銅ナノ粒子の平均粒子径が大きくなるおそれがある。また、溶液中のヒドラジン化合物の濃度が高過ぎると、ヒドラジン化合物が過剰となり、銅ナノ粒子を分離精製することが困難となるおそれがある。
 上記工程IIにおいて、ヒドラジン還元は、大気圧下で行われる。上記工程Iにおいて、酢酸銅と炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等とが炭素数2~4のジオールに溶解した溶液を調製し、得られた溶液を、工程IIによりヒドラジン還元することにより、工程IIを大気圧下で行うことが可能となる。このため、上記製造方法によれば、製造工程において加圧が不要であるので、銅ナノ粒子を容易に製造することができる。
 上記工程IIにおいて、ヒドラジン還元は、100℃以下で行われる。すなわち、工程Iにおいて調製された溶液を100℃以下の温度に調整して工程IIを行えばよい。上記ヒドラジン還元の温度は、100℃以下が好ましく、50℃以下がより好ましい。ヒドラジン還元の温度が高過ぎると、副生成物が生成するおそれがある。また、上記工程IIにおいて、ヒドラジン還元は、5℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましい。ヒドラジン還元の温度が低過ぎると、銅ナノ粒子が十分に製造できないおそれがある。
 以上説明した工程IIにより、工程Iで調製された溶液が、大気圧下でヒドラジン還元される。
 以上説明した銅ナノ粒子の製造方法により、銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成される銅ナノ粒子を製造することができる。当該製造方法によれば、平均粒子径が小さく、10nm以下、特に、3~6nm程度の銅ナノ粒子を得ることができる。また、保護層が、炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を含むので揮発性を有しており、保護層の沸点又は熱分解温度を150℃以下とすることができるので、保護層を150℃以下の加熱で除去することができ、銅ナノ粒子を150℃以下の低温で焼結することが可能となる。また、上記製造方法において、銅ナノ粒子は上記溶液中に均一に分散した状態で得られる。このため、得られた銅ナノ粒子が溶液中に分散した状態で、当該溶液を所望の目的に使用することができる。
 上記製造方法では、銅ナノ粒子は、溶液に分散した形態で得られる。上記製造方法は、工程IIの後に、更に、溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程を有していてもよい。上記工程を有する製造方法とすることにより、沈殿した銅ナノ粒子を採取して用いることができる。溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる方法としては特に限定されず、遠心分離により沈殿させる方法等、従来公知の方法が挙げられる。溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる方法としては、また、上記溶液に沈殿溶媒を添加することにより銅ナノ粒子を沈殿させる方法が挙げられる。上記沈殿溶媒としては、銅ナノ粒子を沈殿させることができれば特に限定されないが、例えば、ジメチルアセトアミド(DMA)、N-メチルピロリドン(NMP)等が挙げられる。これらの沈殿溶媒を用いることにより、銅ナノ粒子を溶液中で沈殿させ、且つ、溶液中の不純物であるヒドラジン、及び炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を溶解させることができるので、銅ナノ粒子と、ヒドラジン並びに炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等とを分離させ易くなる。
 上記溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程としては、上述の溶液に沈殿溶媒を添加することにより銅ナノ粒子を沈殿させる方法の後に、遠心分離により沈殿させる方法を行ってもよい。上記方法により溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させることにより、より効率よく銅ナノ粒子を沈殿させることができ、銅ナノ粒子を分離し易くなる。
 上記製造方法は、更に、上記沈殿した銅ナノ粒子を揮発性溶媒により洗浄する工程を有していてもよい。上記工程を有する製造方法とすることにより、銅ナノ粒子の表面からヒドラジン、及び保護層以外の過剰の炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコール等を除去することができ、高純度の銅ナノ粒子を得ることができる。なお、上記揮発性溶媒としてはアセトンを用いることも可能であるが、銅ナノ粒子の酸化を抑制することができる観点から、ジメチルアセトアミド、又はN-メチルピロリドンが好ましい。
 2.銅ナノ粒子の保存方法
 本発明の銅ナノ粒子の保存方法は、(1)銅ナノ粒子が分散した溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程1、及び(2)銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加する工程2を有する。上記保存方法により、本発明の銅ナノ粒子を室温で長期間安定に保存でき、輸送することができる。
 工程1は、銅ナノ粒子が分散した溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程である。上記工程1により銅ナノ粒子を溶液の底部に沈殿させることにより、銅ナノ粒子を溶液の液面から遠ざけることができるので、銅ナノ粒子の酸素との接触を抑制することができる。
 上記溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる方法としては特に限定されないが、例えば、上述の銅ナノ粒子の製造方法において説明したように、溶液に沈殿溶媒を添加することにより銅ナノ粒子を沈殿させる方法が挙げられる。沈殿溶媒としては、上記製造方法において説明した沈殿溶媒と同一のものを用いることができる。
 工程2は、上記銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加する工程である。銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加することにより、当該アルカン溶媒の比重が小さいために浮上して溶液の液面を被覆するので、銅ナノ粒子の酸素との接触を抑制することができる。これにより、上記工程1で銅ナノ粒子を溶液の底部に沈殿させ、溶液の液面から遠ざけることとあいまって、銅ナノ粒子を長期間安定に保存し、輸送することが可能となる。
 上記炭素数4~14のアルカン溶媒としては、液体であり、銅ナノ粒子が沈殿した溶液の液面を被覆することができれば特に限定されないが、10℃以上の室温で安定であり、銅ナノ粒子を10℃以上の室温で安定的に保存することができる点で、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン又はドデカンが好ましく、オクタンがより好ましい。
 以上説明した保存方法により、銅ナノ粒子を室温で長期間安定に保存でき、輸送することができる。
 本発明の銅ナノ粒子は、分散媒に分散させることにより、銅ナノ粒子がコロイドとして再分散した銅ナノ粒子分散液(ペースト)とすることができる。このような、銅ナノ粒子分散液も本発明の一つである。
 上記分散媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロピレングリコール、グリセロール等のアルコール、トルエン、アルカノールアミン、N,N-ジメチルホルミアミド等の極性溶媒が挙げられる。これらの分散媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、プロピレングリコールとグリセロールとを体積比で1:1の割合で混合して用いてもよい。これらの中でも、アルカノールアミンを用いることが好ましく、高い分散安定性を維持できる点で、銅ナノ粒子の保護層を形成する炭素数3~6の1級及び/又は2級アルコールと同一の炭素数3~6のアルカノールアミンを用いることがより好ましい。これらの分散媒は、銅ナノインクを適用する印刷手法、所望の粘度、形成したい銅回路の種類等によって適宜選択することができる。
 本発明の銅ナノ粒子は、また、銅微粒子と混合して分散媒に分散させることにより、銅ナノ粒子及び銅微粒子がコロイドとして再分散した銅ナノ粒子分散液(ペースト)とすることができる。このような、上記銅ナノ粒子、及び、銅微粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液も本発明の一つである。当該銅ナノ粒子分散液に用いられる分散媒としては、上述のものを用いることができる。なお、本明細書において、銅微粒子とは、平均粒子径が1μm以上の銅の粒子であり、銅ナノ粒子とは区別される。平均粒子径が1μm以上の銅微粒子は、価格が安価であり、これを用いることでコストダウンが可能であるが、150℃以下の低温領域では焼結し難く、10-5Ωcmの低電気抵抗値を示す銅薄膜が得られ難い。本発明の銅ナノ粒子を低温焼結助剤として、平均粒子径が1μm以上のマイクロオーダーの銅微粒子に添加することにより、10-5Ωcmの低電気抵抗値を示す銅薄膜を150℃以下の低温焼結で製造することが可能となる。
 上記銅微粒子の平均粒子径は、1~200μmが好ましく、1~100μmがより好ましく、1~40μmが更に好ましく、1~5μmが特に好ましい。銅微粒子の平均粒子径が小さ過ぎると、銅微粒子が高価となり、銅微粒子を混合することによるコストの低減が不十分であるおそれがある。銅微粒子の平均粒子径が大きすぎると、当該銅微粒子と銅ナノ粒子とを混合して調製した銅ナノインクを用いて回路を形成した際に、回路の電気抵抗値を十分に低減できないおそれがある。
 上記銅ナノ粒子分散液において、銅ナノ粒子の質量(Ma)と、銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合は、10質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましい。上記銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合が少な過ぎると、150℃以下の低温では銅微粒子が焼結し難くなり、銅ナノ粒子と銅微粒子とを混合して調製した銅ナノインクを用いて回路を形成した際に、当該回路に亀裂が生じやすく、回路の電気抵抗値を十分に低減できないおそれがある。また、上記銅ナノ粒子分散液において、銅ナノ粒子の質量(Ma)と、銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合は、80質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。上記銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合が多過ぎると、銅ナノ粒子を混合して用いることによる回路の電気抵抗値の低減効果が飽和して、コストの低減を妨げるおそれがある。
 上記銅ナノ粒子分散液中の銅ナノ粒子の質量(Ma)と、銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)の含有量は、銅ナノ粒子分散液を100質量%として、10~80質量%が好ましく、30~50質量%がより好ましい。
 上記銅ナノ粒子分散液は、銅ナノインクに含有されて用いられる。上記銅ナノ粒子分散液を含有する銅ナノインクも本発明の一つである。
 また、上述の銅ナノ粒子の保存方法における銅ナノ粒子の保存状態、すなわち、銅ナノ粒子が底部に沈殿した溶液の液面が炭素数4~14のアルカン溶媒で被覆されている保存状態において、上澄みのアルカン溶媒、及び溶液を捨てて除去し、残った銅ナノ粒子に上記分散媒を添加することにより、銅ナノ粒子を分散媒に容易に分散させることができる。このため、本発明の銅ナノ粒子の保存方法により保存された銅ナノ粒子を容易に銅ナノ粒子分散液、及び銅ナノインクとすることが可能である。
 上記銅ナノ粒子分散液、及び銅ナノインクにおいては、溶媒やアミンは完全に除去することは必ずしも必要ではなく、用途に合わせて最適な濃度となるように残した上で、分散媒を添加して用いてもよい。また、銅ナノインクには、用途に合わせてテルピネオール、ドデカノール、エチレングリコール、1-メトキシ-2-プロパノール等を適宜添加してもよい。 
 銅ナノインク中の金属銅の含有量は、5wt%以上80wt%未満が好ましく、10wt%以上70wt%未満がより好ましい。金属銅の含有量が少な過ぎると、銅ナノインクを導電ペーストとして好適に用いることができないおそれがある。一方、金属銅の含有量が多過ぎると、銅ナノインクの粘度が高くなり、扱い難くなるおそれがある。 
 なお、本発明の銅ナノ粒子は、金属微細配線を形成するためのインク材料として好適に用いることができるが、当該用途に限られず、触媒材料(触媒又は触媒担体)としても利用することができ、また、ITOに変わる透明導電膜、反射防止コーティング材料としても利用することができる。
 本発明の銅ナノ粒子は、上述の構成であるので、常圧でも150℃以下の低温で焼結させることができ、減圧下では、更に低い、例えば80℃以下の温度で焼結させることができる。上記焼結は、非還元性雰囲気中で行うとよい。このような、銅ナノ粒子を、非還元性雰囲気中で、常圧又は減圧下で、150℃以下の温度で焼結させる銅ナノ粒子の焼結方法も、本発明の一つである。上記非還元性雰囲気としては特に限定されないが、例えば、窒素、アルゴン等が挙げられる。
 以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。
 実施例及び比較例で使用した装置及び試料は下記の通りである。
 紫外可視吸収(UV-vis)スペクトル測定
 JASCOのV-670を用いて、四面型石英セル(光路長1cm)に試料を2ml入れて測定した。試料として、後述の操作2で得られた銅ナノ粒子のエタノール分散液を用いた。
 透過型電子顕微鏡(TEM)
 JEOL JEM-2010Fを用いて測定した。試料として、後述の操作2で得られた銅ナノ粒子のエタノール分散液を用いた。
 赤外分光(IR)測定
 JASCOのFT/IR-4200を用いて測定した。試料として、後述の操作1で得られた銅ナノ粒子の乾燥粉末を用いた。
 熱分析(TG-DTA)
 リガクのThermo plus EVOを用いて測定した。試料として、後述の操作1で得られた銅ナノ粒子の乾燥粉末を用いた。
 粉末X線回折(XRD)測定
 ブルカーD2 PHASERを用いて測定した。試料として、後述の操作4で得られた銅ナノ粒子ペースト(銅含量 30wt%)、及びその銅ナノ粒子ペーストを窒素雰囲気下150℃で1時間熱焼成した銅薄膜、又は、銅ナノ粒子ペースト(30wt%)を減圧下80℃で6時間熱焼成した銅薄膜を用いた。
 四探針法による電気抵抗測定
 三菱化学アナテリックロレスターを用いて測定した。試料として、後述の操作4で得られた銅ナノ粒子ペースト(30wt%)を窒素雰囲気下150℃で1時間熱焼成して得られた銅薄膜を用いた。
 <実施例1(銅ナノ微粒子及び各種試料の調製)> 
 酢酸銅(II)(2.73g)をエチレングリコール(30mL)に溶解させ、0.3Mの酢酸銅溶液を調製した。また、1-アミノ-2-プロパノール(11.6mL)をエチレングリコール(30mL)に溶解させ、3Mの1-アミノ-2-プロパノールの溶液を調製した。上記酢酸銅溶液に、上記1-アミノ-2-プロパノールの溶液を加えると、錯形成に伴い溶液は濃い青色に変化した。以下、これを「原料溶液」とする。
 原料溶液を1500rpmで撹拌しながら大気圧下(空気雰囲気下)で25℃において、銅モル換算で約15倍量のヒドラジン(7.29mL)を添加した。ヒドラジンの添加直後に、原料溶液から大量の気泡が発生して、瞬時に赤みのある黒色へと変化した。次いで、空気雰囲気下で1日放置した。
 上述の反応では、原料溶液を1500rpmの速い撹拌スピードで撹拌したため、均一な還元反応の進行による単分散なサイズの銅ナノ粒子が生成し易く、生成した粒子の凝集の抑制が容易であった。上記反応の結果、溶液に分散した銅ナノ粒子(銅イオン換算:300mM)が得られた(図1左)。 
 銅ナノ粒子が分散した溶液からの銅ナノ粒子の分離・精製、及び回収した銅ナノ粒子の保存は、下記の操作により行った。 
 (操作1) 
 実施例1で得られた、銅ナノ粒子が分散した溶液と、ジメチルアセトアミド(DMA)との体積比が1:2となるように、銅ナノ粒子が分散した溶液にDMAを添加した。銅ナノ粒子の凝集により溶液が懸濁した。懸濁した溶液に、6000rpm、10分間の条件で遠心分離を行い、銅ナノ粒子の沈殿物が沈殿した溶液を得た(図1右)。溶液を除去して銅ナノ粒子の沈殿物を採取し、酢酸エチルで2回洗浄することにより、銅ナノ粒子を分離して、銅ナノ粒子を得た。
 (操作2) 
 操作1で得られた銅ナノ粒子にエタノールを加えて銅ナノ粒子を分散させ、銅ナノ粒子分散液(ペースト)を得た。 
 (操作3) 
 操作1で得られた銅ナノ粒子の沈殿物が沈殿した溶液(図1右)にオクタンを加えて室温で保存した。これにより、一ヶ月以上銅の酸化を抑制して、室温で長期保存可能であった。
 (操作4) 
 操作3で保存した銅ナノ粒子から、オクタンを除去した後、1-アミノ-2-プロパノールを加えて、銅ナノ粒子を超音波により再分散させ、銅ナノ粒子の分散液(ペースト)を得た。1-アミノ-2-プロパノールを添加する量を変えることにより、銅ナノ粒子のペースト中の銅の含有量は、5%~80%程度まで調整可能であった。1-アミノ-2-プロパノールはオクタンよりも比重が大きいため、オクタンを除去せず1-アミノ-2-プロパノールを加えることでも同様に、調製することは可能であった。
 実施例1で得られた銅ナノ粒子の特性評価 
 実施例1の操作1で得られた銅ナノ粒子の紫外可視吸光スペクトルを図2に示す。銅ナノ粒子では、通常プラズモン吸収が550~600nmの領域で観測されるが、約3nm程度の銅ナノ粒子では、プラズモン吸収が見られない。実施例1で得られた銅ナノ粒子は、銅ナノ粒子に起因するプラズモン吸収は見られないことから、3nm以下の銅ナノ粒子が得られていることが分かった。
 銅ナノ粒子のTEM観察像を図3に示す。銅ナノ粒子をエタノールに再分散させた試料は高い分散安定性を示した。図3のTEM観察像によれば、シングルナノサイズの単分散の銅ナノ微粒子が得られていることが分かる。この銅ナノ微粒子の粒子径分布は。平均粒子径が3.5±1.0 nmである。図4の高分解能TEM観察像(図4右)によれば銅の格子縞が見られ、電子線回折像から銅の111結晶面からの回折環が確認された。 
 銅ナノ微粒子のXRDスペクトルを図5に示す。銅(111)面に由来するピークが確認され、酸化銅に由来するピークが確認されていないことから、耐酸化性を有する銅ナノ粒子が得られていることが分かった。XRDスペクトルから粒子サイズは約3nmと見積もられ、TEM観察から評価されたサイズと一致している。これにより、得られた銅ナノ粒子は銅の単結晶であることが分かった。 
 銅ナノ粒子の高い分散安定性と耐酸化性の理由を調べるために、銅ナノ粒子の表面状態を赤外分光測定により調べた。赤外分光測定の結果を図6上に示す。比較のために、1-アミノ-2-プロパノールのみを測定した赤外分光測定結果も図6下に示す。図6の結果から、3500~3000cm-1の領域に水酸基の吸収、3000~2800cm-1の領域にメチル基、エチル基の吸収が見られ、銅ナノ粒子と1-アミノ-2-プロパノールの赤外吸収スペクトルが一致していることから、実施例1により製造された銅ナノ粒子は、1-アミノ-2-プロパノール分子が表面保護層として存在していることが分かった。実施例1で得られた銅ナノ粒子は、1-アミノ-2-プロパノール分子が銅ナノ粒子表面に吸着することにより高い分散安定性と高い耐酸化性を示すと考えられる。 
 銅ナノ粒子の熱分析結果(TG-DTA)を図7に示す。約80℃付近から重量減少がみられ、100℃から150℃の間で1-アミノ-2-プロパノール分子が脱離、蒸発することに伴う急激な重量減少が見られる。これにより、銅ナノ粒子の表面の保護層を形成する1-アミノ-2-プロパノール分子が、150℃以下の低温で除去できることが分かった。 
 銅ナノ粒子は、粒子サイズが小さくバルク銅と比べて融点が低下していると考えられる。操作4で得られた銅ナノ粒子ペースト(約30wt%銅含量)をポリエチレンテレフタラート(PET)上で窒素雰囲気下にて、約150℃で1時間低温加熱したところ、銅ナノ粒子が焼結して粒成長し、金属光沢のある銅薄膜が生成した。当該銅薄膜の電気抵抗値は約10-4Ωcm程度であった。図8に、窒素雰囲気下での約150℃の低温加熱後に得られた銅薄膜のXRDスペクトルを示す。低温焼結前の銅ナノ粒子に比べて(図5)、焼結による粒成長により回折ピーク強度が増大し、シャープになった。また、低温焼結後の銅薄膜が酸化していないことは、XRDスペクトルにおいて酸化銅のピークが観察されないことから確認された。 
 銅ナノ粒子ペーストは、約80℃においても低温焼結が起こることが分かった。銅ナノ粒子ペースト(銅の含有量約30wt%)をPET基板上で減圧下にて、約80℃で低温加熱したところ、金属光沢のある銅薄膜が生成した。図9上に、減圧下にて約80℃で6時間低温加熱後に得られた銅薄膜のXRDスペクトルを示す。当該XRDスペクトルにより、低温焼結によるサイズ成長と酸化銅のピークが観察されないことが確認された。80℃での低温焼結後の銅ナノ粒子の赤外分光測定結果より(図9下)、低温焼結前に観測された銅ナノ微粒子の表面に吸着している1-アミノ-2-プロパノール分子の吸収(図6上)が、減圧下で消失していることが確認された。1-アミノ-2-プロパノール分子の沸点は160℃であるが、その揮発性により蒸発消失したため、沸点以下の80℃にもかかわらず銅ナノ粒子の焼結が起こったものと考えられる。 
 操作3により、得られた銅ナノ粒子を空気雰囲気下、室温で一ヶ月保存したところ、銅の酸化が抑制されていることが、XRDスペクトルから確認された(図10上)。これに対し、オクタンによる保存を行わなかった銅の微粒子(平均粒子径4nm)を、空気雰囲気下にて乾燥状態で保存したところ、3日後には酸化が観察された(図10下)。
 <実施例2(銅ナノ微粒子及び各種試料の調製)> 
 酢酸銅(II)(0.136g)と2-ヒドロキシ酪酸(0.390g)と4vol%アンモニアを含むエタノール溶液(5 mL)をエチレングリコール(44mL)に溶解させ、0.015Mの酢酸銅溶液を調製した。上記酢酸銅溶液は、錯形成に伴い溶液は濃い青色に変化した。以下、これを「原料溶液」とする。
 原料溶液を1500rpmで撹拌しながら大気圧下(空気雰囲気下)で25℃において、銅モル換算で約30倍量のヒドラジン(0.74mL)を添加した。ヒドラジンの添加直後に、原料溶液から大量の気泡が発生して、瞬時に赤みのある黒色へと変化した。次いで、空気雰囲気下で1日放置した。
 上述の反応では、原料溶液を1500rpmの速い撹拌スピードで撹拌したため、均一な還元反応の進行による単分散なサイズの銅ナノ粒子が生成し易く、生成した粒子の凝集の抑制が容易であった。上記反応の結果、溶液に分散した銅ナノ粒子が得られた。 銅ナノ粒子が分散した溶液からの銅ナノ粒子の分離・精製、及び回収した銅ナノ粒子の保存は、下記の操作により行った。 
 (操作1)
 実施例2で得られた、銅ナノ粒子が分散した溶液と、ジメチルスルホキシド (DMSO)との体積比が1:3となるように、銅ナノ粒子が分散した溶液にDMSOを添加した。銅ナノ粒子の凝集により溶液が懸濁した。懸濁した溶液に、6000rpm、10分間の条件で遠心分離を行い、銅ナノ粒子の沈殿物が沈殿した溶液を得た。
 (操作2) 
 操作1で得られた銅ナノ粒子にエチレングリコールを加えて銅ナノ粒子を分散させ、銅ナノ粒子分散液(ペースト)を得た。 
 (操作3) 
 操作1で得られた銅ナノ粒子にエタノールを加えて銅ナノ粒子を分散させ、銅ナノ粒子分散液(ペースト)を得た。 
 実施例2で得られた銅ナノ粒子の特性評価
 実施例2の操作2で得られた銅ナノ粒子の紫外可視吸光スペクトルを図11に示す。約4nm以上の銅ナノ粒子では、通常プラズモン吸収が550~600nmの領域で観測される。他方、約4nm以上の銅ナノ粒子で表面が酸化されると、プラズモン吸収が観測されなくなることから、プラズモン吸収は、銅ナノ粒子の酸化の指標に利用される。実施例2で得られた銅ナノ粒子は、銅ナノ粒子に起因するプラズモン吸収は見られたことから、銅ナノ粒子が得られていることが分かった。
 実施例2の操作3で得られた銅ナノ粒子のTEM観察像を図12に示す。銅ナノ粒子をエタノールに再分散させた試料は高い分散安定性を示した。図12のTEM観察像によれば、シングルナノサイズ(約3~6nm)の単分散の銅ナノ微粒子が得られていることが分かる。この銅ナノ微粒子の粒子径分布は、平均粒子径が4.3±0.8 nmであった。
 銅ナノ微粒子のXRDスペクトルを図13に示す。銅(111)面に由来するピークが確認され、酸化銅に由来するピークが確認されていないことから、耐酸化性を有する銅ナノ粒子が得られていることが分かった。XRDスペクトルから粒子サイズは約4nmと見積もられ、TEM観察から評価されたサイズと一致している。これにより、得られた銅ナノ粒子は銅の単結晶であることが分かった。 
 銅ナノ粒子の高い分散安定性と耐酸化性の理由を調べるために、銅ナノ粒子の表面状態を赤外分光測定により調べた。赤外分光測定の結果を図14下に示す。比較のために、2-ヒドロキシ酪酸のみを測定した赤外分光測定結果も図14上に示す。図14の結果から、3500~3000cm-1の領域に水酸基の吸収、3000~2800cm-1の領域にメチル基、エチル基の吸収が見られ、銅ナノ粒子と2-ヒドロキシ酪酸の赤外吸収スペクトルが一致している。これにより、実施例2により製造された銅ナノ粒子は、2-ヒドロキシ酪酸分子が表面保護層として存在していることが分かった。特に、2級アルコール部分の水酸基が関連する3500~3000cm-1の吸収がブロード化していることから、実施例2で得られた銅ナノ粒子は、2-ヒドロキシ酪酸分子が銅ナノ粒子表面に吸着することにより高い分散安定性と高い耐酸化性を示すと考えられる。
 <比較例1(銅原料の相違)> 
 銅原料として、酢酸銅の代わりにギ酸銅を用いた以外は実施例1と同様にして、銅ナノ粒子を調製した。 実施例1で合成した試料では赤褐色の分散性の高い銅ナノ粒子分散液が得られたが、酢酸銅の代わりにギ酸銅を用いて合成された比較例1の銅ナノ粒子は、凝集して平均粒子径が10nmを超え、懸濁して溶液の色が茶褐色であった。比較例1では、溶液中の銅ナノ粒子の分散性は低かった。
 <比較例2(反応溶媒の相違)> 
 溶媒をエタノールに代えた以外は実施例1と同様にして、銅ナノ粒子を調製した。比較例2では、ヒドラジン還元剤を添加した直後に、銅ナノ粒子が凝集して平均粒子径が10nmを超え、懸濁した。比較例2では、いずれも溶液中の銅ナノ粒子の分散性は低かった。
 <比較例3及び4(保護剤の相違)> 
 1-アミノ-2-プロパノールに代えて、モノエタノールアミン(比較例3)、又はオクチルアミン(比較例4)を用いた以外は実施例1と同様にして、銅ナノ粒子を調製した。比較例3及び4では、いずれも銅ナノ粒子が凝集して平均粒子径が10nmを超え、懸濁した。比較例3及び4では、溶液中の銅ナノ粒子の分散性は低かった。
 <比較例5(還元剤の相違)> 
 還元剤を水素化ホウ素ナトリウムに代えた以外は実施例1と同様にして、銅ナノ粒子を調製した。比較例5では、還元直後に銅ナノ粒子が凝集して平均粒子径が10nmを超え、懸濁した。比較例5では、溶液中の銅ナノ粒子の分散性は低かった。
 <実施例3~12(銅ナノ微粒子及び銅微粒子含有銅ナノ粒子分散液の調製)> 
 (銅ナノ粒子の調製)
 実施例1と同様にして、原料溶液にヒドラジンを添加し、空気雰囲気下で24時間放置して、銅ナノ粒子が分散した分散液を調製した。また、体積比で分散液の2倍量のN,N-ジメチルアセトアミド(以下DMAとも示す)を別途用意した。DMAの量は、25mlであった。ヒドラジン添加から24時間後、用意したDMAに対して銅ナノ粒子分散液12.5mlを液滴が見える程度にゆっくりと滴下して混合溶液を調製した。DMAにより、過剰なヒドラジン、イソプロパノールアミン、及びエチレングリコールが除去できた。当該混合溶液を、数分間大気中に放置して、空気にさらした。上述の操作により、混合溶液が懸濁し始めて、遠心分離での粒子の回収が可能な状態となった。
 懸濁した混合溶液に、6000rpm、2分間の条件で遠心分離を行い、銅ナノ粒子の沈殿物が沈殿した溶液を得た。溶液から透明な上澄みを除去し、銅ナノ粒子の沈殿物を採取して、7mlのDMAを添加した。次いで、ボルテックスミキサーを用いて銅ナノ粒子の沈殿物をDMA中に分散させて、再洗浄を行った。
 銅ナノ粒子の沈殿物がDMA中に分散したことを確認した後、直ぐに6000rpm、3分間の条件で遠心分離を行った。上述の操作により、ほぼ透明な上澄みと銅ナノ粒子の沈殿物とに分離した。上澄みを除去し、残った沈殿物に対してトルエンを10ml添加して、ボルテックスミキサーを用いて再分散させて洗浄を行った。銅ナノ粒子の沈殿物がトルエン中に分散したことを確認後、6000rpm、1分間の条件で遠心分離を行って銅ナノ粒子の沈殿物を分離した。透明な上澄みを除去し、残った沈殿物に対してヘキサンを10ml添加して、ボルテックスミキサーを用いて再分散させて洗浄を行った。銅ナノ粒子の沈殿物がヘキサン中に分散したことを確認後、6000rpm、5分間の条件で遠心分離を行い、透明な上澄みを除去して銅ナノ粒子の沈殿物を分離し、洗浄を完了した。得られた銅ナノ粒子の平均粒子径は、3nmであった。
 <実施例3~8(銅ナノ微粒子及び銅微粒子含有銅ナノ粒子分散液の調製)>
 上記の操作により精製分離して得られた平均粒子径3nmの銅ナノ粒子と、平均粒子径1μmの銅微粒子とを、表1に記載の混合比で混合した混合粒子を調製した。なお、表1における混合比(X)(質量%)は、銅ナノ粒子の質量(Ma)と、銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合を質量%で示した値であり、下記計算式により算出した。
(X)(質量%)=[(Ma)/(Ma+Mb)]×100
 得られた混合粒子に、プロピレングリコールとグリセロールとを1:1(体積比)の割合で混合して得られた溶媒を、銅の含有量が40質量%となるようにして添加した。溶媒添加後、溶媒の上層に浮上してきた、混合粒子中に残留していたヘキサンを除去した。更に、ボルテックスミキサーを用いて、混合粒子と溶媒とを混合して、混合粒子に残留していたヘキサンを分離除去した。次いで、減圧乾燥を3分間行い、分散液中のヘキサンを全て除去した。以上の操作により、銅ナノ粒子及び銅微粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液を調製し、これを銅ナノインクとした。
 上述のようにして得られた銅ナノインクを用いて、バーコーターによりポリイミド基板上に製膜し、塗膜を形成した。この塗膜を、窒素の流量1mL/minの条件下で85℃で1時間30分間乾燥させ、窒素の流量1mL/minの条件下で150℃で15分間熱焼成を行い、混合粒子を焼結させて、銅の薄膜を形成した。
 <比較例6>
 平均粒子径1μmの銅微粒子のみを用い、銅ナノ粒子を混合しなかった以外は実施例3~8と同様にして、銅ナノインクを調製し、当該銅ナノインクを用いて銅の薄膜を形成した。
 実施例3~8及び比較例6で調製された銅薄膜について、三菱化学アナテリックロレスターを用いて四探針法による電気抵抗測定を行った。結果を表1及び図15に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 <実施例9~12(銅ナノ微粒子及び銅微粒子含有銅ナノ粒子分散液の調製)> 
 混合粒子中の、平均粒子径3nmの銅ナノ粒子の質量(Ma)と、銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する前記銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合(混合比(X))を15質量%とした。また、用いる銅微粒子の平均粒子径を表2に示す値とした。それ以外は実施例3~8と同様にして、銅ナノインクを調製し、当該銅ナノインクを用いて銅の薄膜を形成した。
 実施例9~12で調製された銅薄膜について、三菱化学アナテリックロレスターを用いて四探針法による電気抵抗測定を行った。結果を表2及び図16に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 表2の結果から、銅微粒子の平均粒子径が5μm以下であると、均一な銅薄膜が形成されて、10-2Ω/□との低い電気抵抗値を示した(実施例9及び10)。一方、銅微粒子の平均粒子径が45μm以上であると、銅薄膜に若干亀裂が生じ、電気抵抗値が10-1Ω/□となり、5μm以下の場合よりも増大した(実施例11及び12)。従って、銅ナノ粒子、及び、銅微粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液を含有する銅ナノインクでは、平均粒子径が5μm以下の銅微粒子を用いると、当該銅ナノインクを用いて形成された銅薄膜の電気抵抗値を特に低くできることが分かった。

Claims (13)

  1.  銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成された銅ナノ粒子であって、
    (1)前記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、 
    (2)前記保護層が、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種を含み、
    (3)前記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、
    ことを特徴とする銅ナノ粒子。
  2.  粒度分布に基づく標準偏差が銅ナノ粒子の平均粒子径の20%以下である、請求項1に記載の銅ナノ粒子。
  3.  前記保護層の、前記銅ナノ粒子中の質量比は、前記銅ナノ粒子の質量を100質量%として10~30質量%である、請求項1又は2に記載の銅ナノ粒子。
  4.  前記炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種は、下記式(1)又は(2)で示される基を有する、請求項1~3のいずれかに記載の銅ナノ粒子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式(1)及び(2)中、*は結合手を示す。)
  5.  請求項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子の保存方法であって、
    (1)前記銅ナノ粒子が分散した溶液中の銅ナノ粒子を沈殿させる工程1、及び
    (2)前記銅ナノ粒子が沈殿した溶液に炭素数4~14のアルカン溶媒を添加する工程2を有することを特徴とする銅ナノ粒子の保存方法。
  6.  保存温度が10℃以上である、請求項5に記載の保存方法。
  7.  請求項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液。
  8.  請求項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子、及び、銅微粒子が分散媒中に分散されている銅ナノ粒子分散液。
  9.  前記銅微粒子の平均粒子径は、1~200μmである、請求項8に記載の銅ナノ粒子分散液。
  10.  前記銅ナノ粒子の質量(Ma)と、前記銅微粒子の質量(Mb)との合計(Ma+Mb)に対する前記銅ナノ粒子の質量(Ma)の割合が、2質量%以上である、請求項8又は9に記載の銅ナノ粒子分散液。
  11.  請求項7~10のいずれかに記載の銅ナノ粒子分散液を含有する、銅ナノインク。
  12.  請求項1~4のいずれかに記載の銅ナノ粒子を、非還元性雰囲気中で、常圧又は減圧下で、150℃以下の温度で焼結させる、銅ナノ粒子の焼結方法。
  13.  銅の単結晶からなる中心部と、その周囲の保護層とから形成される銅ナノ粒子の製造方法であって、
    (I)酢酸銅と、炭素数3~6の1級アルコール、炭素数3~6の2級アルコール及びそれらの誘導体から選択される少なくとも1種とが、炭素数2~4のジオールに溶解した溶液を調製する工程I、及び
    (II)前記溶液を、大気圧下で100℃以下でヒドラジン還元する工程IIを有し、
     前記銅ナノ粒子の平均粒子径が10nm以下であり、且つ、前記保護層の沸点又は熱分解温度が150℃以下である、
    銅ナノ粒子の製造方法。
PCT/JP2015/053833 2014-02-27 2015-02-12 銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法 WO2015129466A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/120,978 US10214656B2 (en) 2014-02-27 2015-02-12 Copper nanoparticles and production method for same, copper nanoparticle fluid dispersion, copper nanoink, copper nanoparticle preservation method, and copper nanoparticle sintering method
KR1020167022649A KR101886263B1 (ko) 2014-02-27 2015-02-12 구리 나노 입자 및 그 제조 방법, 구리 나노 입자 분산액, 구리 나노 잉크, 구리 나노 입자의 저장 방법 및 구리 나노 입자의 소결 방법
CN201580010610.2A CN106029261A (zh) 2014-02-27 2015-02-12 铜纳米粒子及其制造方法、铜纳米粒子分散液、铜纳米油墨、铜纳米粒子的保存方法和铜纳米粒子的烧结方法
JP2016505139A JP6297135B2 (ja) 2014-02-27 2015-02-12 銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-037204 2014-02-27
JP2014037204 2014-02-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015129466A1 true WO2015129466A1 (ja) 2015-09-03

Family

ID=54008789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/053833 WO2015129466A1 (ja) 2014-02-27 2015-02-12 銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10214656B2 (ja)
JP (1) JP6297135B2 (ja)
KR (1) KR101886263B1 (ja)
CN (1) CN106029261A (ja)
WO (1) WO2015129466A1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016194047A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 トッパン・フォームズ株式会社 金属インク組成物、配線板及び配線の形成方法
JP2017191723A (ja) * 2016-04-14 2017-10-19 日華化学株式会社 導電性部材の製造方法
WO2018190246A1 (ja) * 2017-04-14 2018-10-18 学校法人 関西大学 銅粒子混合物及びその製造方法、銅粒子混合物分散液、銅粒子混合物含有インク、銅粒子混合物の保存方法及び銅粒子混合物の焼結方法
WO2019093119A1 (ja) * 2017-11-13 2019-05-16 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
WO2019093121A1 (ja) * 2017-11-13 2019-05-16 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
WO2019135306A1 (ja) * 2018-01-05 2019-07-11 住友電気工業株式会社 銅ナノインクの製造方法及び銅ナノインク
JP2020029392A (ja) * 2017-12-21 2020-02-27 国立大学法人北海道大学 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
WO2021132446A1 (ja) 2019-12-27 2021-07-01 花王株式会社 金属微粒子含有インク
JP2022062181A (ja) * 2019-03-20 2022-04-19 尾池工業株式会社 薄片状銀粒子、銀分散液、及び導電性ペースト
CN114464815A (zh) * 2022-03-11 2022-05-10 广汽埃安新能源汽车有限公司 一种金属箔及其制备方法、金属集流体

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201403731D0 (en) 2014-03-03 2014-04-16 P V Nano Cell Ltd Nanometric copper formulations
JP5926322B2 (ja) * 2014-05-30 2016-05-25 協立化学産業株式会社 被覆銅粒子及びその製造方法
JP2019527770A (ja) * 2016-07-18 2019-10-03 リード, ケネスREED, Kenneth 金属ナノ粒子コロイド分散体の製造方法
US11643568B2 (en) 2017-03-09 2023-05-09 Research & Business Foundation Sungkyunkwan University Copper nanoparticle and preparation method therefor
WO2018164479A1 (ko) * 2017-03-09 2018-09-13 성균관대학교산학협력단 구리 나노입자 및 이의 제조방법
KR20190073217A (ko) 2017-12-18 2019-06-26 영남대학교 산학협력단 잉크젯 프린팅용 구리나노잉크
JPWO2019146414A1 (ja) * 2018-01-26 2021-01-07 日清エンジニアリング株式会社 銅微粒子
CN108372311B (zh) * 2018-03-21 2019-07-16 北京科技大学 一种利用改性多糖制备铜纳米粒子的方法
CN108907221A (zh) * 2018-06-10 2018-11-30 江苏经贸职业技术学院 一种铜纳米簇的合成方法
CN110919022A (zh) * 2019-08-19 2020-03-27 张博成 一种表面修饰纳米铜微粒的制备方法
EP4205882A4 (en) * 2020-08-28 2024-01-24 Univ Hokkaido Nat Univ Corp OXIDE-CONTAINING COPPER FINE PARTICLES, METHOD FOR PRODUCING THEREOF AND METHOD FOR PRODUCING A SINTERED BODY WITH OXIDE-CONTAINING COPPER FINE PARTICLES
CN112018031B (zh) * 2020-09-09 2023-12-19 合肥工业大学 一种基于铜纳米粒子填充SiC通孔的方法
KR102279083B1 (ko) * 2020-09-25 2021-07-16 서울과학기술대학교 산학협력단 바인더 프리 구리 페이스트 및 이를 이용한 소결 접합방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009090748A1 (ja) * 2008-01-17 2009-07-23 Applied Nanoparticle Laboratory Corporation 複合銀ナノ粒子、その製法及び製造装置
WO2012147945A1 (ja) * 2011-04-28 2012-11-01 Dowaエレクトロニクス株式会社 平板状の銀微粒子とその製造方法およびそれを用いたペーストとペーストを用いた印刷回路
JP2013007076A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子の製造方法
WO2013035366A1 (ja) * 2011-09-08 2013-03-14 学校法人関西大学 分散安定性の高い銅ナノ粒子の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6613809B2 (en) * 2001-11-28 2003-09-02 The Regents Of The University Of California Metal-doped organic gels and method thereof
JP4822783B2 (ja) * 2005-09-22 2011-11-24 株式会社日本触媒 金属ナノ粒子の製法および当該製法により得られた粒子のコロイド
JP5084145B2 (ja) 2006-01-25 2012-11-28 株式会社日本触媒 ナノ粒子分散体の保存方法及び輸送方法
JP4995492B2 (ja) 2006-06-02 2012-08-08 株式会社日本触媒 銅ナノ粒子の製造方法、銅ナノ粒子、銅ナノ粒子分散体および電子デバイス
JP2008300046A (ja) 2007-05-29 2008-12-11 Mitsuboshi Belting Ltd 被覆組成物及び導電膜
JP2009227736A (ja) 2008-03-19 2009-10-08 Mitsuboshi Belting Ltd インクジェット印刷用インキ組成物
JP5426270B2 (ja) * 2009-08-04 2014-02-26 ハリマ化成株式会社 金属銅微粒子の製造方法
JP2011202265A (ja) 2010-03-26 2011-10-13 Dowa Electronics Materials Co Ltd 低温焼結性金属ナノ粒子組成物および該組成物を用いて形成された電子物品
CN108219591B (zh) * 2012-02-29 2022-02-18 新加坡朝日化学及锡焊制品有限公司 包含金属前体纳米颗粒的油墨
GB201403731D0 (en) * 2014-03-03 2014-04-16 P V Nano Cell Ltd Nanometric copper formulations

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009090748A1 (ja) * 2008-01-17 2009-07-23 Applied Nanoparticle Laboratory Corporation 複合銀ナノ粒子、その製法及び製造装置
WO2009090767A1 (ja) * 2008-01-17 2009-07-23 Applied Nanoparticle Laboratory Corporation 複合銀ナノ粒子、複合銀ナノペースト、その製法、製造装置、接合方法及びパターン形成方法
WO2012147945A1 (ja) * 2011-04-28 2012-11-01 Dowaエレクトロニクス株式会社 平板状の銀微粒子とその製造方法およびそれを用いたペーストとペーストを用いた印刷回路
JP2013007076A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子の製造方法
WO2013035366A1 (ja) * 2011-09-08 2013-03-14 学校法人関西大学 分散安定性の高い銅ナノ粒子の製造方法

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016194047A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 トッパン・フォームズ株式会社 金属インク組成物、配線板及び配線の形成方法
JP2017191723A (ja) * 2016-04-14 2017-10-19 日華化学株式会社 導電性部材の製造方法
JPWO2018190246A1 (ja) * 2017-04-14 2020-02-20 学校法人 関西大学 銅粒子混合物及びその製造方法、銅粒子混合物分散液、銅粒子混合物含有インク、銅粒子混合物の保存方法及び銅粒子混合物の焼結方法
WO2018190246A1 (ja) * 2017-04-14 2018-10-18 学校法人 関西大学 銅粒子混合物及びその製造方法、銅粒子混合物分散液、銅粒子混合物含有インク、銅粒子混合物の保存方法及び銅粒子混合物の焼結方法
US11767443B2 (en) 2017-04-14 2023-09-26 The School Corporation Kansai University Copper particle mixture and method for manufacturing same, copper particle mixture dispersion, ink containing copper particle mixture, method for storing copper particle mixture, and method for sintering copper particle mixture
JPWO2019093121A1 (ja) * 2017-11-13 2020-12-24 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
US11859112B2 (en) 2017-11-13 2024-01-02 Kyocera Corporation Paste composition, semiconductor device, and electrical/electronic component
WO2019093121A1 (ja) * 2017-11-13 2019-05-16 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
JP7222904B2 (ja) 2017-11-13 2023-02-15 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
WO2019093119A1 (ja) * 2017-11-13 2019-05-16 京セラ株式会社 ペースト組成物、半導体装置及び電気・電子部品
JP7398718B2 (ja) 2017-12-21 2023-12-15 国立大学法人北海道大学 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
JP2020029392A (ja) * 2017-12-21 2020-02-27 国立大学法人北海道大学 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
JP2022136081A (ja) * 2017-12-21 2022-09-15 国立大学法人北海道大学 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
JP7150273B2 (ja) 2017-12-21 2022-10-11 国立大学法人北海道大学 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
US11465208B2 (en) 2018-01-05 2022-10-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of manufacturing copper nano-ink and copper nano-ink
JP7003668B2 (ja) 2018-01-05 2022-02-04 住友電気工業株式会社 銅ナノインクの製造方法及び銅ナノインク
JP2019119809A (ja) * 2018-01-05 2019-07-22 住友電気工業株式会社 銅ナノインクの製造方法及び銅ナノインク
WO2019135306A1 (ja) * 2018-01-05 2019-07-11 住友電気工業株式会社 銅ナノインクの製造方法及び銅ナノインク
JP2022062181A (ja) * 2019-03-20 2022-04-19 尾池工業株式会社 薄片状銀粒子、銀分散液、及び導電性ペースト
WO2021132446A1 (ja) 2019-12-27 2021-07-01 花王株式会社 金属微粒子含有インク
US11965105B2 (en) 2019-12-27 2024-04-23 Kao Corporation Ink containing fine metal particles
CN114464815A (zh) * 2022-03-11 2022-05-10 广汽埃安新能源汽车有限公司 一种金属箔及其制备方法、金属集流体
CN114464815B (zh) * 2022-03-11 2024-03-26 广汽埃安新能源汽车有限公司 一种金属箔及其制备方法、金属集流体

Also Published As

Publication number Publication date
KR101886263B1 (ko) 2018-08-07
KR20160126989A (ko) 2016-11-02
CN106029261A (zh) 2016-10-12
JP6297135B2 (ja) 2018-03-20
US20170073538A1 (en) 2017-03-16
JPWO2015129466A1 (ja) 2017-03-30
US10214656B2 (en) 2019-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6297135B2 (ja) 銅ナノ粒子及びその製造方法、銅ナノ粒子分散液、銅ナノインク、銅ナノ粒子の保存方法及び銅ナノ粒子の焼結方法
US11767443B2 (en) Copper particle mixture and method for manufacturing same, copper particle mixture dispersion, ink containing copper particle mixture, method for storing copper particle mixture, and method for sintering copper particle mixture
KR101951452B1 (ko) 피복 금속 미립자와 그 제조 방법
Shim et al. An organometallic route to highly monodispersed silver nanoparticles and their application to ink-jet printing
JP5574761B2 (ja) 被覆銀超微粒子とその製造方法
JP4284283B2 (ja) 銀の粒子粉末の製造法
US20130248775A1 (en) Fine coated copper particles and method for producing same
KR101525099B1 (ko) 미소금속입자함유 조성물 및 그 제조 방법
KR20180126468A (ko) 피복 은 입자와 그 제조 방법, 도전성 조성물, 및 도전체
JP7480947B2 (ja) 広分布な粒度分布を持つ銀ナノ粒子の製造方法及び銀ナノ粒子
JP7150273B2 (ja) 銅酸化物粒子組成物、導電性ペースト及び導電性インク
TWI701683B (zh) 鎳粉及鎳糊
JP2011068936A (ja) 銀コア銀銅合金シェルナノ微粒子とその微粒子被着物及びその焼結被着物
JP5274000B2 (ja) 低温焼結性銀微粉および銀塗料ならびにそれらの製造法
WO2010137080A1 (ja) 低温焼結性金属ナノ粒子の製造方法および金属ナノ粒子およびそれを用いた分散液の製造方法
TWI813559B (zh) 鎳粉及鎳糊
JP7256495B2 (ja) 銅クラスター、混合粒子、導電性ペースト及び導電性インク
JP6968543B2 (ja) 銅粒子構造体及び銅インク
Zhang et al. A simple way to prepare large-scale copper nanoparticles for conductive ink in printed electronics
JP7283703B2 (ja) 広分布な粒度分布を持つ銀ナノ粒子の製造方法及び銀ナノ粒子
JP5822983B2 (ja) 被覆銀超微粒子とその製造方法
Silva et al. Cyclodextrin inclusion compound crystals for growth of Cu–Au core–shell nanoparticles
Yang et al. Preparation of silver nanoplates and application in PCB ink-jet
JP2009091634A (ja) 銀微粉の製造方法
Li et al. Preparation of Cu NPs Suspension for Conductive Ink

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15755098

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016505139

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167022649

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15120978

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15755098

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1