WO2014014126A1 - 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法 - Google Patents

熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2014014126A1
WO2014014126A1 PCT/JP2013/069963 JP2013069963W WO2014014126A1 WO 2014014126 A1 WO2014014126 A1 WO 2014014126A1 JP 2013069963 W JP2013069963 W JP 2013069963W WO 2014014126 A1 WO2014014126 A1 WO 2014014126A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
thermoelectric conversion
conversion material
raw material
frequency
characteristic
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/069963
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
沢 孝雄
Original Assignee
株式会社 東芝
東芝マテリアル株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社 東芝, 東芝マテリアル株式会社 filed Critical 株式会社 東芝
Priority to JP2014525902A priority Critical patent/JP6058668B2/ja
Priority to CN201380028168.7A priority patent/CN104321890B/zh
Publication of WO2014014126A1 publication Critical patent/WO2014014126A1/ja
Priority to US14/597,609 priority patent/US9570667B2/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/24After-treatment of workpieces or articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/02Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
    • B22F9/04Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/02Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
    • B22F9/06Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
    • B22F9/08Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
    • B22F9/082Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/0433Nickel- or cobalt-based alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045Alloys based on refractory metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C19/00Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/03Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C19/00Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/07Alloys based on nickel or cobalt based on cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C30/00Alloys containing less than 50% by weight of each constituent
    • C22C30/04Alloys containing less than 50% by weight of each constituent containing tin or lead
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • H10N10/851Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
    • H10N10/853Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising arsenic, antimony or bismuth
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • H10N10/851Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
    • H10N10/854Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising only metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/24After-treatment of workpieces or articles
    • B22F2003/248Thermal after-treatment

Definitions

  • Embodiments relate to a thermoelectric conversion material, a thermoelectric conversion module using the thermoelectric conversion material, and a method of manufacturing a thermoelectric conversion material.
  • thermoelectric cooling element using the Peltier effect which is a chlorofluorocarbon-free cooling device
  • the performance index Z of the thermoelectric conversion material is represented by the following formula (1).
  • Z ⁇ 2 / ( ⁇ ) (1)
  • the Seebeck coefficient of the thermoelectric conversion material
  • the electrical resistivity of the thermoelectric conversion material
  • the thermal conductivity of the thermoelectric conversion material
  • thermoelectric conversion material Z has the dimension of the reciprocal of temperature, and when this figure of merit Z is multiplied by the absolute temperature T, it becomes a dimensionless value.
  • This ZT value is called a dimensionless figure of merit, and the thermoelectric conversion efficiency increases as the thermoelectric conversion material has a higher ZT value.
  • the thermoelectric conversion material is required to have a higher Seebeck coefficient, a lower electrical resistivity, and a lower thermal conductivity.
  • Conventional thermoelectric conversion materials used PbTe alloys, but Pb (lead) was harmful to the human body.
  • a half-Heusler compound having an MgAgAs-type crystal phase has attracted attention as one of thermoelectric conversion materials that can be used up to high temperatures and contain no harmful substances or reduced as much as possible.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-173799 Patent Document 1 required a half-Heusler compound to have a higher ZT value, although a certain improvement in ZT value was observed by providing a predetermined composition.
  • Patent Document 2 has developed a half-Heusler alloy having an improved ZT value by providing crystals with different Ti molar concentrations.
  • thermoelectric conversion material including two or more phases of MgAgAs crystals having different Ti molar concentrations shows a certain improvement in ZT value.
  • thermoelectric conversion material since the thermoelectric conversion material is made of a polycrystal, it is difficult to uniformly present two or more phases of MgAgAs crystal particles having different Ti molar concentrations. If the existence ratio of MgAgAs type crystal particles of two or more phases having different Ti molar concentrations varies, the characteristics of the individual thermoelectric conversion materials vary. For this reason, when a thermoelectric conversion module is formed by arranging a plurality of thermoelectric conversion materials, there is a problem that the characteristics of the module vary. Embodiments are for addressing such problems, thermoelectric conversion materials with improved ZT values and reduced characteristic variations thereon, thermoelectric conversion modules using the same, and methods of manufacturing thermoelectric conversion materials Is intended to provide.
  • thermoelectric conversion material of the embodiment is represented by the following composition formula (1), and is a thermoelectric conversion material composed of a polycrystal having an MgAgAs type crystal structure, and an MgAgAs type crystal having regions having different Ti concentrations in the polycrystal. It is characterized by comprising particles.
  • the frequency graph When creating a frequency graph in which the intensity of X-rays and the frequency for each characteristic X-ray intensity of Ti are plotted on the vertical axis, the frequency graph preferably includes MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks. Also, the characteristic X-rays of Ti were measured at 0.2 ⁇ m intervals in one MgAgAs type crystal particle by EBSD (Backscattered Electron Diffraction) on an arbitrary sintered surface of the thermoelectric conversion material, and the horizontal axis represents the Ti characteristics.
  • EBSD Backscattered Electron Diffraction
  • the frequency graph comprises MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks, It is preferable that the ratio (K1 / K2) between the frequency K1 and the frequency K2 with the smallest peak is 1.2 or more.
  • a characteristic X-ray of Ti was measured at an interval of 0.2 ⁇ m in one MgAgAs crystal particle by EBSD (backscattered electron diffraction) with a measurement area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m on an arbitrary sintered surface of a thermoelectric conversion material.
  • the MgAgAs type crystal particles having two or more peaks
  • the number ratio of crystal grains is preferably 30% or more and 100% or less. Further, when the measurement area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m is analyzed by EBSD (backscattered electron diffraction) on an arbitrary sintered surface of the thermoelectric conversion material, when the total number of crystal particles per unit area is 1, (001) plane, It is preferable that the number ratio of the crystal grains showing any crystal orientation of the (101) plane and the (111) plane is less than 0.5.
  • the average crystal grain size is preferably 2 to 40 ⁇ m.
  • the polycrystalline body is preferably a sintered body. Moreover, it is preferable that MgAgAs type
  • mold crystal particle is 92% or more by area ratio per measurement area of 240 micrometers x 80 micrometers.
  • the thermoelectric conversion module of the embodiment is characterized by using the thermoelectric conversion material of the embodiment. Moreover, the manufacturing method of the 1st thermoelectric conversion material of embodiment prepares a raw material powder by cooling the raw material molten metal at the cooling rate of 100 degrees C / s or less, and the process of preparing the raw material molten material which satisfy
  • the method comprises a step, a step of molding the obtained raw material powder, and a step of sintering the obtained molded body.
  • the process of preparing raw material powder comprises the process of grind
  • the manufacturing method of the 2nd thermoelectric conversion material of embodiment prepares the raw material powder by rapidly cooling the raw material molten metal with the process of preparing the raw material molten metal satisfying the composition formula (1) at a cooling rate exceeding 100 ° C./s. And a step of heat-treating the obtained raw material powder, a step of forming the raw material powder after the heat treatment, and a step of sintering the obtained molded body.
  • the manufacturing method of the 3rd thermoelectric conversion material of embodiment prepares raw material powder by rapidly cooling the raw material molten metal with the process of preparing the raw material molten metal satisfying the composition formula (1) at a cooling rate exceeding 100 ° C./s. And a step of molding the obtained raw material powder, a step of sintering the obtained molded body, and a heat treatment step of heat-treating the obtained sintered body. Moreover, it is preferable that the process of preparing a raw material powder by quenching at a cooling rate exceeding 100 ° C./s is an atomizing method.
  • thermoelectric conversion material of the embodiment has a high ZT value and reduced variation in characteristics. Therefore, the characteristics of the thermoelectric conversion module are also improved. Moreover, if it is the manufacturing method of the thermoelectric conversion material of embodiment, the thermoelectric conversion material of embodiment can be manufactured with a sufficient yield.
  • thermoelectric conversion module of embodiment The figure which shows an example of the thermoelectric conversion module of embodiment.
  • FIG. 4 is a color photograph showing an example of a crystal orientation map by EBSD of Example 1.
  • FIG. 10 is a color photograph showing an example of a crystal orientation map by EBSD of Comparative Example 3.
  • thermoelectric conversion material of the embodiment is represented by the following composition formula (1), and is a thermoelectric conversion material composed of a polycrystal having an MgAgAs type crystal structure, and regions having different Ti concentrations in the polycrystal having the MgAgAs type crystal structure. MgAgAs-type crystal particles having the above are included. (A a Ti b ) c D d X e ...
  • the element A is at least one of Zr (zirconium) and Hf (hafnium).
  • the A element is an element necessary for making the phase having the MgAgAs type crystal structure together with the Ti and X elements described later as the main phase.
  • the Hf / Zr atomic ratio is preferably 0.1 or less (Zr / Hf atomic ratio is 0.9 or more). Since Ti (titanium) is cheaper than Zr and Hf, the cost of the heat conversion material can be reduced by replacing part of the A element with Ti. Moreover, the effect of thermal conductivity reduction is acquired by containing Ti.
  • the X element is at least one element of Sn (tin) or Sb (antimony).
  • the element D is at least one element selected from Ni (nickel), Co (cobalt), and Fe (iron).
  • the D element is an effective element for stabilizing the phase of the MgAgAs crystal structure.
  • Ni and Co are preferable, and the corrosion resistance is further improved.
  • composition formula (1) is an average value when the composition of 0.1 g or more of sample pieces of the thermoelectric conversion material is examined.
  • the D element when an N-type thermoelectric conversion material is used, it is preferable that the D element is Ni-rich and an X element is Sn-rich, and when a P-type thermoelectric conversion material is used, the D element is Co-rich and the X element is Sb-rich.
  • the thermoelectric conversion material of embodiment should just comprise 92% or more of MgAgAs type
  • the other phase is a group 4a-Sn phase (for example, Ti 5 Sn 3 ) Is 8% or less, Sn phase is 2% or less, Group 4a oxide is 1% or less, and the like.
  • the reaction phase with the component mixed from the crucible may be included in the raw material melting step in an amount of 1.5% or less.
  • the reaction phase with components mixed from the crucible include reactants with D elements such as an AlNi phase and an AlCo phase when an Al-based crucible (made of alumina) is used.
  • the metal impurities other than those shown in the composition formula (1) are preferably 3000 wtppm or less, more preferably 2500 wtppm or less.
  • the metal impurity is mainly iron (Fe) or chromium (Cr). Further, part or all of the metal impurities may be contained in the MgAgAs type crystal lattice.
  • the thermoelectric conversion material of the embodiment is represented by the composition formula (1).
  • the thermoelectric conversion material made of a polycrystal having the MgAgAs type crystal structure the crystal particles having regions having different Ti concentrations are included in the MgAgAs type crystal particles. It is characterized by comprising. This means that there is a crystal particle in which a region having a different Ti concentration exists in one MgAgAs type crystal particle.
  • EBSD is backscattered electron diffraction (Electron Backscatter Diffraction). EBSD irradiates a sample set in an SEM sample chamber with an electron beam, captures an image of a backscattered electron diffraction pattern projected on a fluorescent screen with a CCD camera, and indexes the obtained crystal information. This is a method for measuring crystal orientation. Examples of the crystal information include a space group, a lattice constant, and atomic coordinates (crystal orientation).
  • thermoelectric conversion material of the embodiment since the b value indicating the Ti amount in the composition formula (1) is 0.3 ⁇ b ⁇ 0.8, the phase structure having different compositions has two or more phases having different Ti concentrations. It can be said that it is a structure. Further, when the characteristic X-rays of Ti are examined, there are regions where the peak intensity ratios of the characteristic X-rays of Ti are different in one crystal particle, and therefore analysis is possible from this point.
  • the analysis of EBSD is performed after polishing an arbitrary sintered surface of the thermoelectric conversion material to a flat surface with a surface roughness Ra of 5 ⁇ m or less.
  • the analysis of EBSD is observed at an acceleration voltage of 20 kV and a magnification of 1000 times or more.
  • the peak intensity ratio of Ti characteristic X-rays is 15 or more and 15 or less. For example, it can be seen that there are regions having different Ti concentrations in one MgAgAs crystal grain.
  • FIG. 2 shows an example of the crystal structure of the thermoelectric conversion material of the embodiment.
  • 7 is a MgAgAs type crystal particle
  • 8 is a region having a different Ti concentration.
  • a region having a high Ti concentration region having a characteristic X-ray of 15 or more
  • a region having a low Ti concentration The region where the characteristic X-ray is less than 15
  • two or more regions 8 having different Ti concentrations may be provided in one crystal particle.
  • a characteristic X-ray of Ti is measured at intervals of 0.2 ⁇ m in one MgAgAs type crystal particle by EBSD (backscattered electron diffraction) for an arbitrary cross section of the thermoelectric conversion material, and a characteristic X-ray of Ti is plotted on the horizontal axis.
  • the frequency graph is created by plotting the frequency for each characteristic X-ray intensity ratio of Ti on the vertical axis and the vertical axis, the frequency graph preferably includes MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks.
  • FIG. 3 shows an example of a method for measuring Ti characteristic X-rays.
  • 7 is a MgAgAs type crystal particle
  • 9 is a measurement point of characteristic X-rays of Ti.
  • characteristic X-rays of Ti are measured at intervals of 0.2 ⁇ m.
  • the intensity ratio of the measured characteristic X-rays of Ti is obtained.
  • a frequency graph is created by plotting the appearance frequency for each intensity ratio.
  • Example 7 shows the intensity ratio on the horizontal axis and the frequency of the intensity ratio on the vertical axis.
  • the peak of intensity ratio 22.5 is P 1
  • P of intensity ratio 28 peak 2 is P of intensity ratio 32 peak 3
  • Peak of intensity ratio 37 is P 4
  • the characteristic X-rays of Ti were measured at 0.2 ⁇ m intervals in one MgAgAs type crystal particle by EBSD (Backscattered Electron Diffraction) on an arbitrary sintered surface of the thermoelectric conversion material, and the horizontal axis represents the Ti characteristics.
  • the frequency graph comprises MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks
  • the ratio (K1 / K2) between the frequency K1 and the frequency K2 with the smallest peak is 1.2 or more.
  • That two or more peaks exist and the peak ratio is 1.2 or more means that a Ti-rich region and a Ti poor region exist in one crystal particle.
  • the composition of the Ti-rich region has the same composition as the Ti amount
  • the composition of the Ti poor region also has the same composition as the Ti amount.
  • a large Ti concentration region is preferable because the thermal conductivity can be reduced to 3.0 W / m ⁇ K or less, and further to 2.0 W / m ⁇ K or less.
  • the difference between the maximum value and the minimum value is preferably 10 or more, and more preferably 15 or more.
  • “Maximum value ⁇ minimum value ⁇ 10” means that the frequency graph is a broad and broad graph. The broad graph indicates that the difference in Ti concentration in the MgAgAs type crystal particles is large. If the Ti concentration difference in the crystal grains is large, it becomes easier to obtain the effect of improving the characteristics.
  • a measurement area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m is measured by EBSD (backscattered electron diffraction), and a characteristic X-ray of Ti is measured at intervals of 0.2 ⁇ m inside one MgAgAs type crystal particle.
  • EBSD backscattered electron diffraction
  • a characteristic X-ray of Ti is measured at intervals of 0.2 ⁇ m inside one MgAgAs type crystal particle.
  • the MgAgAs crystal grains having regions with different Ti concentrations as described above are present in an amount of 30% to 100% per unit area, so that the variation in the structure per unit area can be reduced and the characteristics can be improved. If the number ratio per unit area is as small as less than 30%, the presence ratio of MgAgAs type crystal particles having regions with different Ti concentrations is small, and there is a risk of variation in characteristics. In particular, since it is a polycrystal, it is preferable that MgAgAs type crystal grains having regions having different Ti concentrations at a predetermined ratio exist as a crystal structure. Therefore, MgAgAs type crystal grains having regions with different Ti concentrations are preferably 30% to 100%, more preferably 50% to 100% per unit area.
  • the method for measuring the number of MgAgAs crystal grains having regions with different Ti concentrations per unit area counts the total number of crystal grains present in an area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m and the number of crystal grains with different Ti concentrations. .
  • the number ratio (number of crystal grains having different Ti concentrations / total number) ⁇ 100%. This operation is performed for three measurement areas (240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m) to obtain the number ratio.
  • color mapping for dividing the Ti concentration into a region having a characteristic X-ray intensity ratio of 15 or more and a region having a characteristic ratio of less than 15 may be performed.
  • the intensity ratio of Ti characteristic X-rays may be an arbitrary intensity ratio such as 20 or more and less than 20. As described above, it is preferable that the Ti concentration frequency graph has two or more peaks.
  • EBSD backscattered electron diffraction
  • the frequency graph When a frequency graph in which the intensity ratio of Ti characteristic X-rays is plotted on the vertical axis and the frequency for each Ti characteristic X-ray intensity is plotted on the vertical axis, the frequency graph has one peak, The lower limit value of the grab is ⁇ 5 or less from the frequency showing the peak, and the upper limit value of the frequency graph is +5 or more from the frequency showing the peak. Further, the value obtained by subtracting the lower limit value from the upper limit value of the frequency graph is preferably 15 or more, and more preferably 20 or more.
  • the MgAgAs type crystal Since the Ti concentration difference in the particles becomes large, the same effect as that obtained when the frequency graph has two or more peaks can be obtained.
  • the value obtained by subtracting the lower limit value from the upper limit value of the frequency graph is 15 or more, and more preferably 20 or more.
  • a concentration difference is generated for each of the constituent elements shown in the composition formula (1).
  • the occurrence of such a concentration difference can also reduce the thermal conductivity of the MgAgAs type crystal particles.
  • EBSD backscattered electron diffraction
  • the number ratio of crystal grains showing any crystal orientation of (001) plane, (101) plane, and (111) plane is less than 0.5. This indicates that the crystal structure is not a crystal structure oriented in a specific crystal orientation but a randomly oriented crystal structure. When the orientation is random, the structure is more uniform and the characteristics are stabilized.
  • the average crystal grain size is preferably 2 to 40 ⁇ m. If the average crystal grain size is less than 2 ⁇ m, the crystal grains are too small to form crystal grains having regions having different Ti concentrations in one crystal grain. Further, if the average crystal grain size is larger than 40 ⁇ m, there is a risk that the variation in crystal structure becomes large.
  • the average crystal grain size is preferably 2 to 40 ⁇ m, more preferably 5 to 20 ⁇ m.
  • the measuring method of an average crystal grain diameter uses the structure
  • the polycrystalline body is preferably a sintered body. As will be described later, a sintered body can be manufactured with good yield. Next, the thermoelectric conversion module will be described. FIG.
  • 1 shows an example of a thermoelectric conversion module.
  • 1 is a P-type thermoelectric conversion material
  • 2 is an N-type thermoelectric conversion material
  • 3a and 3b are electrodes
  • 4a and 4b are insulating substrates
  • 5 is a hole
  • 6 is an electron.
  • the lower surfaces of the P-type thermoelectric conversion material 1 and the N-type thermoelectric conversion material 2 are connected by an electrode 3 supported on the lower insulating substrate 4b.
  • Electrodes 3b and 3b are disposed on the upper surfaces of the P-type thermoelectric conversion material 1 and the N-type thermoelectric conversion material 2, respectively, and an upper insulating substrate 4a is provided outside the electrodes 3b and 3b.
  • thermoelectric conversion material 1 and the N-type thermoelectric conversion material 2 are arranged in pairs, and a plurality of P-type and N-type thermoelectric conversion materials are alternately arranged. It is assumed that the thermoelectric conversion material of the embodiment is used for either one or both of the N type and the P type among the thermoelectric conversion materials of the thermoelectric module. When the thermoelectric conversion material of the embodiment is used for only one of the N-type and the P-type, a Bi-Te-based material, a Pb-Te-based material, or the like may be used for the other. In consideration of the characteristics of the thermoelectric module and the harmfulness of Pb, it is preferable to use the thermoelectric conversion material of the embodiment for both P-type and N-type.
  • the insulating substrate (4a, 4b) is preferably a ceramic substrate, for example, a silicon nitride substrate having a three-point bending strength of 700 MPa or more.
  • the electrodes (3a, 3b, 3) are preferably those having good conductivity such as a copper plate and an aluminum plate.
  • a high-temperature brazing material for joining the electrode and the thermoelectric conversion material.
  • the high temperature brazing material preferably has a melting point in the range of 600 to 900 ° C.
  • thermoelectric conversion material of the embodiment can be used even when the high temperature side is in a high temperature region of 300 to 500 ° C.
  • the melting point of the brazing material is not 600 ° C. or higher, the brazing material will melt and the module will be damaged.
  • the principle of the thermoelectric conversion module will be described. A temperature difference is applied so that the lower insulating substrate 4b is at a low temperature and the upper insulating substrate 4a is at a high temperature. In this case, the positively charged hole 5 moves to the high temperature side (upper side) inside the P-type thermoelectric conversion material 1.
  • thermoelectric conversion material of the embodiment has improved characteristics and reduced characteristic variations, it is effective for stabilizing the characteristics of the thermoelectric conversion module.
  • the manufacturing method of the thermoelectric conversion material of embodiment is demonstrated. Although the manufacturing method of the thermoelectric conversion material of embodiment is not specifically limited, The following manufacturing method is mentioned as a method of obtaining efficiently.
  • the manufacturing method of the 1st thermoelectric conversion material of embodiment prepares a raw material powder by cooling the raw material molten metal at the cooling rate of 100 degrees C / s or less, and the process of preparing the raw material molten material which satisfy
  • the method comprises a step, a step of molding the obtained raw material powder, and a step of sintering the obtained molded body.
  • a step of preparing a raw material melt that satisfies the composition formula (1) is performed.
  • the element A, Ti, D element, and X element are mixed so as to have the target composition formula (1), and melted to prepare the raw material melt.
  • a melting method such as arc melting or high-frequency melting is preferred.
  • the melting crucible is preferably alumina, magnesia, or calcia.
  • components constituting the crucible may be mixed as impurities. Even if the impurity Al is mixed as described above, it reacts with the D element such as Ni or Co, so that the influence of the impurity mixing can be reduced.
  • the raw material molten metal is cooled at a cooling rate of 100 ° C./s or less to prepare a raw material powder.
  • the raw material molten metal usually has a high temperature of 1500 ° C. or higher.
  • the process of preparing raw material powder comprises the process of grind
  • the molten raw material charged into the mold is cooled to become an ingot.
  • the pulverization step include a jet mill, a hammer mill, and a pin mill.
  • a jet mill may be used, and when exceeding 10 ⁇ m, a hammer mill or a pin mill may be used.
  • These pulverization methods may be combined.
  • the average particle diameter of raw material powder shall be 1 micrometer or more and 60 micrometers or less.
  • moldability and sinterability are improved.
  • molding the obtained raw material powder is performed.
  • the molding process include mold molding and sheet molding.
  • an organic binder such as PVA is used as necessary.
  • the size of the molded body may be larger than that of the actual thermoelectric conversion material, or may be a near net shape molded body close to the actual thermoelectric conversion material.
  • the process of sintering the obtained molded object is performed.
  • the sintering method examples include atmospheric pressure sintering, atmospheric pressure sintering method, hot pressing method, SPS (discharge plasma sintering) method, HIP (hot isostatic pressing) method and the like.
  • the hot press method may be a method in which molding and sintering are performed in the same mold.
  • sintering temperature is 950 degreeC or more and 1600 degrees C or less
  • sintering time is 0.5 h or more and 50 h or less
  • sintering pressure is normal pressure or more and 200 MPa or less.
  • the density of the obtained sintered body may be a relative density of 98% or more.
  • the sintered body density can be obtained by (actual measured value / theoretical density by Archimedes method) ⁇ 100%.
  • thermoelectric conversion material thermoelectric element
  • a margin increases and the utilization efficiency of material falls. For this reason, it is preferable to apply a near net shape process, to form a size substantially similar to the element shape, and to sinter.
  • the sintering density is slightly insufficient in the normal pressure sintering, the density can be increased by HIP treatment.
  • thermoelectric conversion material when mounted on the thermoelectric module are, for example, a cylindrical shape with an outer diameter of 0.5 to 10 mm and a thickness of 1 to 30 mm, and a rectangular parallelepiped shape with a thickness of 0.5 to 10 mm and a thickness of 1 to 30 mm. Etc.
  • the tolerance can be reduced by a method such as mechanical polishing.
  • surface treatment such as Ni, Ni / Au or Ti / Ni / Au can be performed on the processed sample by high-heat-resistant insulating coating on four surfaces and plating or vapor deposition on two surfaces.
  • the total thickness may be 1 to 20 ⁇ m. This has an effect as a barrier layer that prevents the diffusion of the material, as well as the high reliability of the joint by improving the wettability at the time of brazing.
  • the second manufacturing method will be described.
  • the second production method includes a step of preparing a raw material melt satisfying the composition formula (1), a step of rapidly cooling the raw material melt at a cooling rate exceeding 100 ° C./s to prepare a raw material powder, and the obtained raw material powder And a step of forming the raw material powder after the heat treatment, and a step of sintering the obtained molded body. Since the process of preparing the raw material melt is the same as the first manufacturing method, it is omitted. In the second production method, the raw material melt is rapidly cooled at a cooling rate exceeding 100 ° C./s to prepare a raw material powder. And the process which heat-processes to the obtained raw material powder is performed.
  • Examples of the step of quenching at a cooling rate exceeding 100 ° C./s include a single roll method, a twin roll method, a rotating disk method, and a gas atomizing method. It is preferable because the particle size of the obtained raw material powder can be controlled by adjusting the amount of molten metal introduced, the rotation speed of the rolls and disks, and the amount of gas injection. Further, the gas atomization method can prevent impurities from being mixed during pulverization. When the raw material powder is prepared in the process of rapid cooling at a cooling rate exceeding 100 ° C./s, unlike the first production method, MgAgAs-type crystal particles having regions with different Ti concentrations are hardly formed in the powder stage. Therefore, it is preferable to heat-treat the raw material powder.
  • the heat treatment is preferably performed at 800 to 1500 ° C. for 1 to 1000 hours in an inert atmosphere. Even if the raw material powder is adjusted at a cooling rate exceeding 100 ° C./s, it is possible to form MgAgAs-type crystal particles having regions with different Ti concentrations by heat treatment.
  • the subsequent molding process and sintering process are the same as in the first manufacturing method.
  • the manufacturing method of the third thermoelectric conversion material of the embodiment includes a step of preparing a raw material melt satisfying the composition formula (1) and a step of rapidly cooling the raw material melt at a cooling rate exceeding 100 ° C./s to prepare a raw material powder.
  • a step of molding the obtained raw material powder, a step of sintering the obtained molded body, and a heat treatment step of subjecting the obtained sintered body to a heat treatment is the same as the first manufacturing method.
  • the process of rapidly cooling the raw material melt at a cooling rate exceeding 100 ° C./s to prepare the raw material powder is the same as in the second manufacturing method.
  • the molding process and the sintering process are the same as in the first manufacturing method.
  • the third production method is characterized in that a heat treatment is performed after obtaining a sintered body. This heat treatment is preferably performed at 800 to 1600 ° C. for 1 to 1000 hours in an inert atmosphere.
  • thermoelectric conversion material thermoelectric element
  • MgAgAs-type crystal particles having regions having different Ti concentrations can be formed.
  • this heat treatment may be performed after a thermoelectric conversion material having a final shape is cut out from a large sintered body.
  • heat treatment is performed after making the thermoelectric conversion material (thermoelectric element) in the final shape, heat can be evenly transmitted to the sintered body, and MgAgAs type crystal particles having regions with different Ti concentrations can be formed. From this point of view, it is also effective to perform near-net shape so that the sintered body has a shape close to the final shape thermoelectric conversion material (thermoelectric element) in advance.
  • the first, second and third production methods are suitable for producing a thermoelectric conversion material having a frequency graph of Ti concentration having two or more peaks. If it is the above 1st manufacturing method, 2nd manufacturing method, and 3rd manufacturing method, the thermoelectric conversion material of embodiment can be manufactured with a sufficient yield. In addition, it is also effective to use a mixture of two or more raw material powders that satisfy the composition formula (1) for both the first production method, the second production method, and the third production method. In particular, by using two or more raw material powders having different Ti amounts, a difference in Ti concentration can be easily imparted.
  • a Ti concentration frequency graph has one peak, and a thermoelectric conversion material having a lower limit value of ⁇ 5 or less and an upper limit value of +5 or more with respect to the frequency of the peak is produced.
  • This is a suitable production method.
  • a step of preparing a raw material melt that satisfies the composition formula (1) is performed.
  • the element A, Ti, D element, and X element are mixed so as to have the target composition formula (1), and melted to prepare the raw material melt.
  • a melting method such as arc melting or high-frequency melting is preferred.
  • the melting crucible is preferably alumina, magnesia, or calcia.
  • the raw material melt is cooled to prepare a raw material powder.
  • the cooling rate at this time may exceed 100 ° C./s. Specifically, normal furnace cooling (500 degrees C / s) is mentioned.
  • a cooling process puts a raw material molten metal in a metal mold
  • Examples of the pulverization step include a jet mill, a hammer mill, and a pin mill.
  • a jet mill may be used, and when exceeding 10 ⁇ m, a hammer mill or a pin mill may be used.
  • These pulverization methods may be combined.
  • the average particle diameter of raw material powder shall be 1 micrometer or more and 60 micrometers or less.
  • an organic binder such as PVA is used as necessary.
  • the size of the molded body may be larger than that of the actual thermoelectric conversion material, or may be a near net shape molded body close to the actual thermoelectric conversion material.
  • the process of sintering the obtained molded object is performed.
  • the sintering method include atmospheric pressure sintering, atmospheric pressure sintering method, hot pressing method, SPS (discharge plasma sintering) method, HIP (hot isostatic pressing) method and the like.
  • the hot press method may be a method in which molding and sintering are performed in the same mold.
  • sintering temperature is 950 degreeC or more and 1600 degrees C or less
  • sintering time is 0.5 h or more and 50 h or less
  • sintering pressure is normal pressure or more and 200 MPa or less.
  • the cooling rate after a sintering process shall be 100 degrees C / s or less.
  • the cooling rate after the sintering process is slowly cooled to 100 ° C./s or less, the Ti concentration in the MgAgAs-type crystal particles is uniform, the concentration distribution changes due to the heat of the sintering process, and the changed state It becomes stable. By performing this process, the Ti frequency graph has one peak, but it can be broad.
  • the cooling process is performed for each sintering process. For example, when atmospheric pressure sintering and HIP sintering are combined, the cooling rate after atmospheric pressure sintering is set to 100 ° C./s or less, and the cooling rate after HIP sintering is set to 100 ° C./s or less.
  • the density of the obtained sintered compact may become 98% or more of a relative density irrespective of which manufacturing method it is.
  • the sintered body density can be obtained by (actual measured value / theoretical density by Archimedes method) ⁇ 100%.
  • thermoelectric conversion material thermoelectric element
  • a margin increases and the utilization efficiency of material falls. For this reason, it is preferable to apply a near net shape process, to form a size substantially similar to the element shape, and to sinter.
  • the sintering density is slightly insufficient in the normal pressure sintering, the density can be increased by HIP treatment.
  • Example 1 and 2 A raw material melt was prepared by high-frequency heating using an alumina crucible. Next, it was put into a preheated mold and cooled at a cooling rate of 100 ° C./s or less to prepare an ingot. In Example 1 and Example 2, the cooling rate was 20 ° C./s. The obtained ingot was pulverized by a hammer mill method to obtain a raw material powder having an average particle diameter of 20 ⁇ m. Thereafter, HIP sintering (1230 ° C. ⁇ 4 hours ⁇ 100 MPa) was performed to produce a large sintered body. Next, 100 thermoelectric conversion materials of 2 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 4 mm height were cut out from the large sintered body.
  • thermoelectric conversion material The composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 1. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the metal impurity content was in the range of 500 to 1000 wtppm. (Examples 3 to 4) After preparing the raw material melt by high-frequency heating using an alumina crucible, a raw material powder was produced at a cooling rate exceeding 100 ° C./s using a gas atomization method. The cooling rate of Example 3 and Example 4 was 1000 ° C./s. The obtained raw material powder had an average particle size of 30 ⁇ m. This raw material powder was heat-treated at 1200 ° C. for 30 hours in an Ar atmosphere.
  • thermoelectric conversion material 1200 ° C. ⁇ 2 hours ⁇ 120 MPa
  • the composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 2. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the content of metal impurities was in the range of 200 to 700 wtppm.
  • Examples 5 to 6 After preparing the raw material melt by high-frequency heating using a magnetic crucible, a raw material powder was produced at a cooling rate exceeding 100 ° C./s using a gas atomization method. The cooling rate of Example 5 and Example 6 was 500 ° C./s. The obtained raw material powder had an average particle size of 35 ⁇ m. Thereafter, HIP sintering (1150 ° C. ⁇ 5 hours ⁇ 150 MPa) was performed to produce a large sintered body. Next, 100 thermoelectric conversion materials of 2 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 4 mm height were cut out from the large sintered body. Next, heat treatment was performed at 1200 ° C. for 100 hours in an Ar atmosphere.
  • thermoelectric conversion material The composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 3. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the content of metal impurities was in the range of 200 to 700 wtppm. (Examples 7 to 8)
  • a raw material melt was prepared by high-frequency heating using an alumina crucible. Next, it was put into a preheated mold and cooled at a cooling rate of 100 ° C./s or less to prepare ingots having the compositions shown in Table 4. In Example 7, the cooling rate was 100 ° C./s, and in Example 8, the cooling rate was 80 ° C./s.
  • the obtained ingot was pulverized by a hammer mill method to obtain raw material powders each having an average particle diameter of 20 ⁇ m.
  • raw material 1 and raw material 2 were mixed at a weight ratio of 1: 1 using a ball mill to obtain a powder for a sintered body.
  • raw material 3 and raw material 4 were mixed at a weight ratio of 1: 1 using a ball mill to obtain a powder for a sintered body.
  • HIP sintering (1230 ° C. ⁇ 4 hours ⁇ 100 MPa) was performed to produce a large sintered body.
  • 100 thermoelectric conversion materials of 2 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 4 mm height were cut out from the large sintered body.
  • thermoelectric conversion material The composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 4. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the content of metal impurities was in the range of 500 to 1300 wtppm.
  • Examples 9 to 10 A raw material melt was prepared by high-frequency heating using an alumina crucible. Next, it was put into a preheated mold and cooled at a cooling rate of 100 ° C./s or less to prepare an ingot. In Example 9, the cooling rate was 20 ° C./s, and in Example 10, the cooling rate was 5 ° C./s. Thereafter, heat treatment was performed at 1200 ° C. for 10 hours in an Ar atmosphere.
  • Example 9 obtained a raw material powder having an average particle diameter of 25 ⁇ m and Example 10 having an average particle diameter of 42 ⁇ m. Thereafter, HIP sintering (1200 ° C. ⁇ 10 hours ⁇ 100 MPa) was performed to produce a large sintered body. Next, 100 thermoelectric conversion materials of 2 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 4 mm height were cut out from the large sintered body. The composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 5. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the metal impurity content was in the range of 700 to 1500 wtppm.
  • Comparative Examples 1 and 2 A raw material melt was prepared using an alumina crucible. Next, it put into the metal mold
  • the obtained ingot was pulverized using a hammer mill to obtain a raw material powder having an average particle diameter of 20 ⁇ m. Thereafter, HIP sintering (1250 ° C. ⁇ 3.5 hours ⁇ 100 MPa) was performed to produce a large sintered body. Next, 100 thermoelectric conversion materials of 2 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 4 mm height were cut out from the large sintered body.
  • thermoelectric conversion material The composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 6. In all cases, the content of metal impurities was in the range of 800 to 1700 wtppm.
  • Comparative Examples 3 to 4 After adjusting the raw material melt by high-frequency heating using an alumina crucible, raw material powders related to the raw materials 5 to 8 shown in Table 7 were obtained using a gas atomization method. The raw material 5 had an average particle size of 34 ⁇ m, the raw material 6 had an average particle size of 37 ⁇ m, the raw material 7 had an average particle size of 38 ⁇ m, and the raw material 8 had an average particle size of 40 ⁇ m.
  • the cooling rate of Comparative Example 3 and Comparative Example 4 was 1000 ° C./s.
  • the mass ratio of the raw material 5 and the raw material 6 was measured so that it might become a sintered compact composition, and it mixed using the ball mill.
  • the mixed powder was hot-pressed in an Ar atmosphere at 1200 ° C. ⁇ 3 hours ⁇ 40 MPa.
  • the cooling rate after hot pressing was furnace cooling (600 ° C./s).
  • a P-type thermoelectric conversion material according to Comparative Example 3 was prepared.
  • the mass ratio of the raw material 7 and the raw material 8 was measured so that it might become the composition of a sintered compact, and it mixed using the ball mill.
  • the mixed powder was hot-pressed in an Ar atmosphere at 1300 ° C. ⁇ 1 hour ⁇ 40 MPa.
  • the cooling rate after hot pressing was furnace cooling (600 ° C./s).
  • thermoelectric conversion material according to Comparative Example 4 was prepared.
  • Comparative Example 3 corresponds to Example 6 of Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-129636), and Comparative Example 4 corresponds to Example 1.
  • the content of metal impurities was in the range of 500 to 1800 wtppm.
  • thermoelectric conversion materials according to Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 an EBSD analysis was performed on an arbitrary cross section. A frequency graph of characteristic X-rays of crystal orientation and Ti was obtained by EBSD analysis.
  • JSM-6500F manufactured by JEOL
  • TFE-SEM thermal field emission scanning electron microscope
  • Genesis-S-UTW manufactured by EDAX
  • EDS energy dispersive X-ray analyzer
  • the analysis conditions were an acceleration voltage of 20.0 kV, an irradiation current of 8.7 nA, and a sample inclination of 70 deg.
  • each sample processed the sintered compact surface into the flat surface of surface roughness Ra1 micrometer or less.
  • the characteristic graph of Ti characteristic X-ray shows the measurement of Ti characteristic X-rays at intervals of 0.2 ⁇ m in one MgAgAs-type crystal particle, the horizontal axis shows the intensity ratio of Ti characteristic X-rays, and the vertical axis shows the characteristic X of Ti.
  • a frequency graph was created by plotting the frequency for each line intensity. This operation was performed for a measurement area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m, and the number ratio of MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks was determined. Similarly, the average crystal grain size and the area ratio of MgAgAs crystal grains were determined using an area of 240 ⁇ m ⁇ 80 ⁇ m. The results are shown in Table 8.
  • the crystal orientation was less than 0.5 for all of the (001) plane, (101) plane, and (111) plane, and was in a random orientation.
  • the frequency graph shows the number ratio of MgAgAs-type crystal particles having two or more peaks. Consistent with the results in Table 8.
  • the frequency graph of Example 7 was shown in FIG. FIG. 5 shows the crystal orientation map (color mapping) by EBSD of Example 1
  • FIG. 6 shows the crystal orientation map (color mapping) by EBSD of Comparative Example 3.
  • FIG. 5 and 6 show the result of color mapping in the region where the intensity ratio of characteristic X-rays of Ti is 15 or more and less than 15.
  • red, blue, and green represent the orientations of the respective crystal grains in the (001), (111), and (101) directions, and the intermediate colors represent the orientations of the respective intermediate directions.
  • a white portion is observed in one crystal particle. For example, when the strength of Ti is 15 or more, a portion having a lower strength is white. That is, a white region existing in one MgAgAs crystal grain is a region having a different Ti intensity ratio. In FIG. 5, there is a white region in most MgAgAs type crystal particles.
  • FIG. 5 shows the color photograph of FIG.
  • each MgAgAs type crystal particle is divided into various colors such as red, pink, blue, light blue, and green.
  • FIG. 6 although there are crystal particles that appear white as a whole, no white region exists in the MgAgAs-type crystal particles. For this reason, it can be seen that Comparative Example 3 does not have regions with different Ti concentrations in the MgAgAs-type crystal particles.
  • Comparative Example 3 does not have regions with different Ti concentrations in the MgAgAs-type crystal particles.
  • concentration was measured in Example 7, the same behavior as the Ti density
  • thermoelectric conversion materials of the examples and comparative examples were measured for the thermoelectric conversion materials of the examples and comparative examples.
  • the ZT value is measured by measuring the electrical resistance and Seebeck coefficient using ULVAC-RIKO's ZEM-3, and the thermal conductivity is calculated by measuring the thermal diffusivity by the laser flash method in an Ar atmosphere, the specific heat by the DSC method, and the density by the Archimedes method. did. Moreover, it measured with respect to 100 each produced, and showed the average value, the maximum value, and the minimum value.
  • Table 9 As can be seen from the table, the thermoelectric conversion materials according to the examples had high average values of ZT values and small variations. That is, it was found that there is an effect of stabilizing the characteristics.
  • thermoelectric conversion module using the thermoelectric conversion material according to the example has stable characteristics. In particular, it is effective for a large-scale thermoelectric conversion module with 50 pairs or more of P-type and N-type pairs.
  • Examples 11 to 14 A raw material melt was prepared by high-frequency heating using an alumina crucible. Next, it was put into a water-cooled mold and cooled at a cooling rate of 500 ° C./s or more to prepare an ingot. In Examples 11-12, the cooling rate was 500 ° C./s, and in Examples 13-14, 600 ° C./s. The alloys of Examples 11 to 12 were heat-treated in an Ar atmosphere at 800 ° C. for 20 hours. The obtained ingot was pulverized by a hammer mill method.
  • Example 11 to 14 raw material powders having an average particle size of 40 ⁇ m were obtained.
  • 5 wt% of PVA was mixed, and a molded body was prepared by a near net shape method using a mold.
  • the molded body was sintered in an Ar atmosphere at 1300 ° C. for 3 hours.
  • the cooling rate after sintering was set to 40 ° C./s for Example 11 and Example 12, and 70 ° C./s for Example 13 and Example 14.
  • HIP sintering (1230 ° C. ⁇ 3 hours ⁇ 120 MPa) was performed to produce 100 thermoelectric conversion materials having a length of 2 mm ⁇ width of 2 mm ⁇ height of 4 mm.
  • thermoelectric conversion material The cooling rate after HIP sintering was set to 10 ° C./s for Example 11 and Example 12, and 5 ° C./s for Example 13 and Example 14.
  • the composition of the thermoelectric conversion material is as shown in Table 10. In all cases, the relative density of the sintered body was 99% or more. In all cases, the metal impurity content was in the range of 500 to 1000 wtppm.
  • FIG. 7 is a frequency graph showing the relationship between the intensity ratio of the characteristic X-ray intensity of Ti and the frequency for the thermoelectric conversion material of Example 11. Next, ZT values were measured for the thermoelectric conversion materials according to Examples 11 to 14 in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 12.
  • thermoelectric conversion materials according to the examples had high average values of ZT values and small variations. Even if there is only one peak in the frequency graph, it is found that if the frequency graph shows a broad frequency graph of “maximum value ⁇ minimum value ⁇ 10”, the characteristics are improved.
  • a frequency P is 16.5 indicating the peak
  • the minimum value V 1 is 13.5
  • the maximum value V 2 was 29.5.
  • thermoelectric conversion module using the thermoelectric conversion material according to the example has stable characteristics. In particular, it is effective for a large-scale thermoelectric conversion module with 50 pairs or more of P-type and N-type pairs.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)

Abstract

下記組成式(1)で表わされ、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体からなる熱電変換材料において、前記多結晶体内にTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を具備することを特徴とする。  (AaTie 組成式(1) (上記組成式(1)中、d=1としたとき、0.2≦a≦0.7、0.3≦b≦0.8、a+b=1、0.93≦c≦1.08、0.93≦e≦1.08である。AはZr、Hfの少なくとも1種以上の元素、DはNi、CoおよびFeよりなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、XはSnおよびSbの少なくとも一種以上の元素である。)。

Description

熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法
 実施形態は、熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法に関する。
 近年、地球環境問題に対する意識の高揚から、フロンレス冷却機器であるペルチェ効果を利用した熱電冷却素子に関する関心が高まっている。また、二酸化炭素排出量を削減するために、未利用廃熱エネルギーを使った発電システムを提供する、ゼーベック効果を利用した熱電発電素子に関する関心が高まっている。
 熱電変換材料の性能指数Zは、下記式(1)で表される。 Z=α/(ρκ)…(1)ここで、αは熱電変換材料のゼーベック係数、ρは熱電変換材料の電気抵抗率、κは熱電変換材料の熱伝導率である。Zは温度の逆数の次元を有し、この性能指数Zに絶対温度Tを乗ずると無次元の値となる。このZT値は無次元性能指数と呼ばれ、高いZT値を持つ熱電変換材料ほど熱電変換効率が大きくなる。上記式(1)からわかるように、熱電変換材料には、より高いゼーベック係数、より低い電気抵抗率、より低い熱伝導率が求められる。
 従来の熱電材変換料はPbTe合金が使われていたがPb(鉛)は人体に有害であった。一方、高温まで使用可能であり、有害物質を全く含まないか極力低減した熱電変換材料の一つとして、MgAgAs型結晶相を有するハーフホイスラー化合物が注目されている。ハーフホイスラー化合物は、特開2007−173799号公報(特許文献1)では所定の組成を具備させることによりZT値の一定の向上はみられるものの、さらに高いZT値が求められていた。
 特開2010−129636号公報(特許文献2)には、Tiモル濃度の異なる結晶を具備させることにより、ZT値を向上させたハーフホイスラー合金が開発されている。
特開2007−173799号公報 特開2010−129636号公報
 特許文献2のように、Tiモル濃度の異なる2相以上のMgAgAs型結晶を具備した熱電変換材料は、一定のZT値の向上が見られる。一方で、熱電変換材料は多結晶体からなるため、Tiモル濃度の異なる2相以上のMgAgAs型結晶粒子を均一に存在させることが難しかった。Tiモル濃度の異なる2相以上のMgAgAs型結晶粒子の存在割合がばらつきがあると、個々の熱電変換材料の特性にばらつきが生じてしまう。そのため、熱電変換材料を複数個並べて熱電変換モジュールを形成したときに、モジュールとしての特性にばらつきが生じるといった問題があった。
 実施形態は、このような問題に対応するためのものであり、ZT値を向上させ、その上で特性のばらつきを低減した熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法を提供することを目的とするものである。
 実施形態の熱電変換材料は、下記組成式(1)で表わされ、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体からなる熱電変換材料において、前記多結晶体内にTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を具備することを特徴とするものである。
 (ATi   組成式(1)
(上記組成式(1)中、d=1としたとき、0.2≦a≦0.7、0.3≦b≦0.8、a+b=1、0.93≦c≦1.08、0.93≦e≦1.08である。AはZr、Hfの少なくとも1種以上の元素、DはNi、CoおよびFeよりなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、XはSnおよびSbの少なくとも一種以上の元素である。)。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備することが好ましい。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備し、最も大きなピークとなる頻度K1と最も小さなピークとなる頻度K2の比(K1/K2)が1.2以上であることが好ましい。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面にて測定面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子が、結晶粒子の個数割合で30%以上100%以下であることが好ましい。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面にて測定面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)分析したとき、単位面積あたりの結晶粒子の全数を1とした場合、(001)面、(101)面、(111)面のいずれの結晶方位を示す結晶粒子の個数割合が0.5未満であることが好ましい。
 また、平均結晶粒径が2~40μmであることが好ましい。また、多結晶体が焼結体であることが好ましい。また、測定面積240μm×80μmあたり、MgAgAs型結晶粒子は面積比で92%以上であることが好ましい。
 また、実施形態の熱電変換モジュールは、実施形態の熱電変換材料を用いたことを特徴とするものである。
 また、実施形態の第一の熱電変換材料の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を冷却速度100℃/s以下で冷却して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備することを特徴とするものである。また、原料粉末を調製する工程が、冷却工程にて作製したインゴットを粉砕処理する工程を具備することが好ましい。
 また、実施形態の第二の熱電変換材料の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末に熱処理する工程と、熱処理後の原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備することを特徴とするものである。
 また、実施形態の第三の熱電変換材料の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、得られた焼結体に熱処理を施す熱処理工程を具備することを特徴とするものである。
 また、100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程がアトマイズ法であることが好ましい。
 実施形態の熱電変換材料は、ZT値が高く、特性のばらつきが低減している。そのため、熱電変換モジュールの特性も向上する。また、実施形態の熱電変換材料の製造方法であれば、実施形態の熱電変換材料を歩留まり良く製造することができる。
実施形態の熱電変換モジュールの一例を示す図。 実施形態の熱電変換材料の結晶組織の一例を示す図。 Tiの特性X線の測定方法の一例を示す図。 実施例7の強度比−頻度グラフの一例。 実施例1のEBSDによる結晶方位マップの一例を示すカラー写真。 比較例3のEBSDによる結晶方位マップの一例を示すカラー写真。 実施例11の強度比−頻度グラフ。
 実施形態の熱電変換材料は、下記組成式(1)で表わされ、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体からなる熱電変換材料において、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体内にTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を具備することを特徴とするものである。
 (ATi   …組成式(1)
(上記組成式(1)中、d=1としたとき、0.2≦a≦0.7、0.3≦b≦0.8、a+b=1、0.93≦c≦1.08、0.93≦e≦1.08である。AはZr、Hfの少なくとも1種以上の元素、DはNi、CoおよびFeよりなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、XはSnおよびSbの少なくとも一種以上の元素である。)。
 組成式(1)中、A元素はZr(ジルコニウム)、Hf(ハフニウム)の少なくとも1種以上である。A元素は後述するTi、X元素と共にMgAgAs型結晶構造を有する相を主相とするために必要な元素である。また、熱電変換特性を向上させるためにはZrとHf両方含有していることが好ましい。ZrとHfの両方を含有させる場合はZrとHfの原子比をZr/Hf原子比=0.3~0.7の範囲が好ましい。また、コスト低減のためにはHf/Zr原子比を0.1以下(Zr/Hf原子比が0.9以上)にすることが好ましい。
 また、Ti(チタン)はZrやHfと比べて価格的に安価であることからA元素の一部をTiで置き換えると熱変換材料のコストダウンを図ることができる。また、Tiの含有により熱伝導率低減の効果が得られる。
 X元素は、Sn(錫)またはSb(アンチモン)の少なくとも一種以上の元素である。また、熱電変換特性を向上させるためにはSnとSb両方含有していることが好ましい。
 D元素は、Ni(ニッケル)、Co(コバルト)、Fe(鉄)から選ばれる少なくとも1種以上の元素である。D元素はMgAgAs型結晶構造の相安定化のために有効な元素である。これらの元素の中ではNiやCoが好ましく、さらに耐食性も向上する。
 各元素の原子比は、d=1としたとき、0.2≦a≦0.7、0.3≦b≦0.8、a+b=1、0.92≦c≦1.08、0.92≦e≦1.08である。この範囲を外れるとMgAgAs型結晶構造の相安定化が図れず、十分な熱電特性が得られない。なお、組成式(1)は熱電変換材料の試料片0.1g以上の組成を調べた時の平均値である。
 また、N型熱電変換材料とする場合はD元素をNiリッチかつX元素としてSnリッチ組成とし、P型熱電変換材料とする場合はD元素をCoリッチかつX元素をSbリッチとすることが好ましい。
 また、実施形態の熱電変換材料は、MgAgAs型結晶粒子を面積比で92%以上具備していればよい。つまりは、その他の相が8%以下存在していてもよい。また、その他の相は、4a族−Sn相(例えばTiSn)が8%以下、Sn相が2%以下、4a族酸化物が1%以下、などが挙げられる。また、原料の溶融工程中に、ルツボから混入する成分との反応相が1.5%以下含まれてもよい。ルツボから混入する成分との反応相としては、Al系ルツボ(アルミナ製)を使った場合のAlNi相、AlCo相などD元素との反応物が挙げられる。
 また、上記組成式(1)に示した以外の金属不純物は3000wtppm以下,さらには2500wtppm以下であることが好ましい。D元素にNi及びCoよりなる群から選択される少なくとも1種類を用いる場合、金属不純物は主に鉄(Fe)またはクロム(Cr)が挙げられる。また、金属不純物の一部または全部はMgAgAs型結晶格子の中に含まれていてもよい。
 実施形態の熱電変換材料は、組成式(1)で表わされ、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体からなる熱電変換材料において、MgAgAs型結晶粒子内にTi濃度の異なる領域を有する結晶粒子を具備することを特徴とするものである。これは一つのMgAgAs型結晶粒子においてTi濃度の異なる領域が存在している結晶粒子が存在することを意味するものである。実施形態では、結晶粒子内にTi濃度の異なる領域を具備させることにより、ZT値の向上および特性のばらつきを低減させることができるのである。
 結晶粒子内にTi濃度の異なる領域の有無はEBSD分析で確認可能である。EBSDは後方散乱電子線回折(Electron Backscatter Diffraction)のことである。EBSDは、SEM試料室内に傾斜してセットした試料に電子線を照射し、蛍光スクリーンに投影された後方散乱電子線回折パターンをCCDカメラで画像を取り込み、得られた結晶情報を指数付けを行い、結晶方位を測定する方法である。結晶情報としては、空間群、格子定数、原子座標(結晶方位)などが挙げられる。また、結晶情報を画像化する際にカラーマッピング機能を使うと、一つの結晶粒子内に色の異なる領域が存在することが分析できる。一つの結晶粒子内に「色の異なる領域」が存在するということは、組成の異なる相構造が存在することを意味するものである。実施形態の熱電変換材料は、組成式(1)におけるTi量を示すb値が0.3≦b≦0.8であることから、組成が異なる相構造はTi濃度が異なる2相以上の相構造であると言える。また、Tiの特性X線を調べたとき、一つの結晶粒子内にTiの特性X線のピーク強度比が異なる領域が存在するため、この点からも分析可能である。
 なお、EBSDの分析は、熱電変換材料の任意の焼結面を表面粗さRa5μm以下の平坦面に研磨してから行うものとする。また、EBSDの分析は、加速電圧20kV、倍率1000倍以上で観察するものとする。また、熱電変換材料の任意の焼結面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて分析する際に、Tiの特性X線のピーク強度比を15以上の領域と15未満の領域をカラーマッピングすれば、一つのMgAgAs型結晶粒子内にTi濃度の異なる領域があることが分かる。図2に実施形態の熱電変換材料の結晶組織の一例を示した。図中、7はMgAgAs型結晶粒子、8はTi濃度の異なる領域である。例えば、Tiの特性X線のピーク強度比を15以上の領域と15未満の領域をカラーマッピングを行えば、Ti濃度の高い領域(特性X線が15以上の領域)とTi濃度の低い領域(特性X線が15未満の領域)を区別することができる。また、カラーマッピングの結果、一つの結晶粒子内に2か所以上のTi濃度の異なる領域8を具備してもよい。
 また、熱電変換材料の任意の断面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度比毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備することが好ましい。
 図3にTiの特性X線の測定方法の一例を示した。図中、7はMgAgAs型結晶粒子、9はTiの特性X線の測定箇所、である。一つのMgAgAs型結晶において、0.2μm間隔でTiの特性X線を測定する。それぞれ測定したTiの特性X線の強度比を求める。強度比毎に出現頻度をプロットして頻度グラフを作成する。一つのMgAgAs型結晶粒子を0.2μm間隔で直線的に測定箇所を変えながら測定することにより、結晶粒子内にTi濃度の異なる領域が存在することが分かる。
 また、頻度グラフを作成したとき、ピークが2つ以上存在することが好ましい。図4に実施例7の強度比−頻度グラフの一例を示した。図4は横軸に強度比、縦軸にその強度比の頻度を示したものである。後述する実施例7では、強度比22.5、強度比28、強度比32、強度比37に4つのピークがある。強度比22.5のピークをP、強度比28のピークをP、強度比32のピークをP、強度比37のピークをPとして図4に示す。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備し、最も大きなピークとなる頻度K1と最も小さなピークとなる頻度K2の比(K1/K2)が1.2以上であることが好ましい。例えば、図4では、最も高いピークPの強度比は22.5であり頻度K1=1070、最も低い強度比は37であり、頻度K2=283となり、K1/K2=1070/283=3.78となる。
 (K1/K2)比が1.2以上であるということは、一つの結晶粒子内のTi濃度差が大きくなっていることを意味するものである。ピークが2つ以上存在し、そのピーク比が1.2以上であるということは、一つの結晶粒子内にTiリッチ領域とTiプアー領域が存在することを意味する。また、ピークとなることにより、Tiリッチ領域の組成はそれぞれTi量の同じ組成であり、Tiプアー領域の組成もTi量が同じ組成になる。このようなTi分布とすることにより、一つの結晶粒子内にTi濃度が異なる領域を具備させつつ、Tiリッチ領域のばらつきを低減させ、Tiプアー領域の組成のばらつきを低減させることができるので特性の安定化に効果がある。
 また、K1/K2が1.2以上であるということは、一つのMgAgAs型結晶内にTi濃度の濃い領域が多いことを示す。Ti濃度の濃い領域が多いと、熱伝導率が3.0W/m・K以下、さらには2.0W/m・K以下と低熱伝導化できるので好ましい。
 また、ピークが2以上ある頻度グラフにおいて、頻度の最大値と最小値の差が10以上、さらには15以上であることが好ましい。「最大値−最小値≧10」であるということは、頻度グラフが幅の広いブロードなグラフであることを意味する。ブロードなグラフであるということは、MgAgAs型結晶粒子内のTi濃度の差が大きいことを示す。結晶粒子内でのTi濃度差が大きければ、特性向上の効果をより得易くなる。
 また、熱電変換材料の任意の焼結面にて、測定面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)で、一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子が、結晶粒子の個数割合で30%以上100%以下であることが好ましい。
 前述のようなTi濃度の異なる領域を持つMgAgAs型結晶粒子は、単位面積あたり30%以上100%以下存在することにより、単位面積当たりの組織ばらつきを低減し、特性の向上を得ることができる。単位面積あたりの個数割合が30%未満と少ないとTi濃度の異なる領域を持つMgAgAs型結晶粒子の存在割合が少ないので特性のばらつきを発生する恐れがある。特に、多結晶体であるために結晶組織として、所定の割合でTi濃度の異なる領域を持つMgAgAs型結晶粒子が存在することが好ましい。そのため、Ti濃度の異なる領域を持つMgAgAs型結晶粒子は、単位面積あたり30%以上100%以下、さらには50%以上100%以下が好ましい。
 また、単位面積当たりのTi濃度の異なる領域を持つMgAgAs型結晶粒子の個数の測定方法は、面積240μm×80μm中に存在する結晶粒子の全体個数と、Ti濃度の異なる結晶粒子の個数をカウントする。個数割合=(Ti濃度の異なる結晶粒子の個数/全体個数)×100%にて求めるものとする。この作業を測定面積(240μm×80μm)3か所について行い、個数割合とする。個数割合の測定には、Ti濃度を特性X線の強度比15以上の領域と15未満の領域と分けるカラーマッピングを行えばよい。なお、カラーマッピングを行う際は、Tiの特性X線の強度比を20以上と20未満など任意の強度比で行えばよい。
 前述のように、Ti濃度の頻度グラフにおいてピークが2以上あるものが好ましい。同様の特性を得る方法として、熱電変換材料の任意の断面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが1つであり、ピークを示す頻度に対し、頻度グラブの下限値はピークを示す頻度から−5以下かつ頻度グラフの上限値は、ピークを示す頻度から+5以上であることが挙げられる。また、頻度グラフの上限値から下限値を引いた値が15以上、さらには20以上であることが好ましい。
 頻度グラフのピークが1つであったとしても、ピークを示す頻度に対し下限値が−5以下、上限値が+5以上、つまりは「上限値−下限値≧10」であれば、MgAgAs型結晶粒子内のTi濃度差が大きくなるため頻度グラフにピークが2以上あるものと同様の効果が得られる。また、MgAgAs型結晶粒子内のTi濃度差を大きくするために、頻度グラフの上限値から下限値を引いた値が15以上、さらには20以上であることが好ましい。
 また、前述の頻度グラフにピークが2以上あるもの、ピークが1つであるが「上限値−下限値≧10」のいずれもMgAgAs型結晶粒子内のTi濃度差を大きくしたものである。Ti濃度差をつけた場合、A元素であるZrおよびHfはTi濃度に応じて濃度が低下する。また、D元素であるNiまたはCoは大きな濃度変化は生じない。また、X元素であるSnまたはSbはTi濃度に応じて濃度が高くなる。つまり、Tiリッチな領域はSnリッチな領域、Tiプアな領域はSnプアな領域となる。この理由は、TiCoSb、TiCoSn,ZrCoSb、ZrCoSn,の格子定数をAsTMカードで比較すると、前3者は立方晶構造(ハーフホイスラー相)であり、それぞれa=5.884Å、6.009Å、6.070Åであり、一方ZrCoSnは六方晶(a=7.142Å、c=3.583Å)である。従って、立方晶構造の安定領域範囲の格子定数の場合、TiCoSn相とZrCoSb相の格子定数が比較的近く、金属組織内での歪低減の点から、この2相すなわちTiリッチ相ではSnリッチ、Tiプア相ではSnプアとなることが考えられる。MgAgAs型結晶粒子内のTi濃度差を付けることにより、組成式(1)に示した構成元素に関して、それぞれ濃度差が発生する。このような濃度差が発生することもMgAgAs型結晶粒子の熱伝導率を下げることができる。
 また、熱電変換材料の任意の断面にて単位面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)分析したとき、単位面積あたりの結晶粒子の全数を1とした場合、(001)面、(101)面、(111)面のいずれの結晶方位を示す結晶粒子の個数割合が0.5未満であることが好ましい。単位面積あたりの結晶粒子の全数を1とした場合、(001)面、(101)面、(111)面のいずれの結晶方位を示す結晶粒子の個数割合が0.5未満であるとうことは、特定の結晶方位に配向した結晶組織ではなく、ランダム配向した結晶組織であることを示す。ランダム配向である方が組織の均一化がはかれ特性が安定化する。
 また、平均結晶粒径が2~40μmであることが好ましい。平均結晶粒径が2μm未満では結晶粒子が小さすぎて一つの結晶粒子内にTi濃度の異なる領域を有する結晶粒子を形成し難くなる。また、平均結晶粒径が40μmを超えて大きいと、結晶組織のばらつきが大きくなる恐れがある。そのため、平均結晶粒径は2~40μm、さらには5~20μmが好ましい。なお、平均結晶粒径の測定方法は、面積240μm×80μmをEBSD分析したときの組織写真を用い、個々の結晶粒子の最も長い対角線を粒径とする。この作業を50粒行い、その平均値を平均結晶粒径とする。また、評価する面積240μm×80μmで50粒に到達しないときは、50粒に到達するまで追加分析を行うものとする。
 また、多結晶体が焼結体であることが好ましい。後述するように焼結体であれば、歩留まり良く製造することができる。
 次に熱電変換モジュールについて説明する。図1に熱電変換モジュールの一例を示した。図1中、1はP型熱電変換材料、2はN型熱電変換材料、3aおよび3bは電極、4aおよび4bは絶縁基板、5はホール、6は電子、である。P型熱電変換材料1およびN型熱電変換材料2の下面は、下側の絶縁基板4bに支持された電極3によって接続されている。P型熱電変換材料1およびN型熱電変換材料2のそれぞれの上面には、電極3b、3bが配置され、その外側に上側の絶縁基板4aが設けられている。P型熱電変換材料1とN型熱電変換材料2はペアで配置され、P型とN型の熱電変換材料が交互に複数個配置された構造となっている。
 熱電モジュールの熱電変換材料のうちN型もしくはP型のいずれか一方または両方に実施形態の熱電変換材料を用いるものとする。N型またはP型のいずれか一方のみに実施形態の熱電変換材料を用いる場合、他方には、Bi−Te系、Pb−Te系などの材料を用いてもよい。なお、熱電モジュールの特性やPbの有害性を考慮するとP型、N型の両方に実施形態の熱電変換材料を用いることが好ましい。
 また、絶縁基板(4a、4b)には、セラミックス基板、例えば3点曲げ強度700MPa以上の窒化珪素基板が好ましい。窒化珪素基板を用いることにより熱電モジュールの耐熱性を向上させることができる。また、電極(3a,3b,3)は、銅板、アルミニウム板など導電性の良いものが好ましい。また、電極と熱電変換材料との接合には高温ろう材を用いることが好ましい。高温ろう材は、融点が600~900℃の範囲であることが好ましい。また、必要に応じ、接合面に金属メッキ処理を施してもよい。
 実施形態の熱電変換材料は高温側が300~500℃の高温領域であっても使用可能である。例えば、500℃の高温環境下で使う場合、ろう材の融点が600℃以上でないとろう材が溶けてしまいモジュールが破損する。
 次に、熱電変換モジュールの原理を説明する。下側の絶縁基板4bを低温に、上側の絶縁基板4aを高温にするように温度差を与える。この場合、P型熱電変換材料1の内部では正の電荷を持ったホール5が高温側(上側)に移動する。一方、N型熱電変換材料2の内部では負の電荷を持った電子6が高温側(上側)に移動する。その結果、P型熱電変換材料1上部の電極3aとN型熱電変換材料2上部の電極3bとの間に電位差が生じる。この現象を利用して、熱を電気に変換したり、電気を熱に変換したりすることができる。
 また、前述のろう材や窒化珪素基板を使うことにより、耐熱特性が上がり、500℃近い高温環境や、低温側と高温側の温度差が100℃以上あるような負荷の高い環境でも優れた特性を示すことができる。
 また、図1では、p型とn型の一対のモジュール構造を例示したが、p型とn型の一対の組合せを複数個並べて大型してもよい。実施形態の熱電変換材料は特性の向上と、特性ばらつきを低減してあるので、熱電変換モジュールの特性安定化に有効である。
 次に、実施形態の熱電変換材料の製造方法について説明する。実施形態の熱電変換材料の製造方法は特に限定されるものではないが、効率よく得る方法として次の製造方法が挙げられる。
 また、実施形態の第一の熱電変換材料の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を冷却速度100℃/s以下で冷却して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備することを特徴とするものである。
 まず、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程を行う。原料溶湯を調製する工程では、A元素、Ti、D元素、X元素を目的とする組成式(1)になるように混合し、溶解して原料溶湯を調製する。原料粉末の溶湯を作製する場合は、アーク溶解や高周波溶解などの溶解法が好ましい。また、溶融するルツボはアルミナ、マグネシア、カルシアであることが好ましい。ルツボで原料を溶融していると、不純物としてルツボを構成する成分が混入する場合がある。前述のように不純物Alが混入したとしても、NiやCoなどのD元素と反応するため不純物混入の影響を低下させることができる。
 原料溶湯を冷却速度100℃/s以下で冷却して原料粉末を調製する工程を行う。原料溶湯は、通常1500℃以上の高温になる。ルツボから金型に流し込むと、通常、500℃/s以上の急冷状態となる。第一の製造方法では、この冷却工程を100℃/s以下と比較的ゆっくり冷やすことが必要である。冷却速度を100℃/s以下とすると金型中での原料溶湯の冷え方に差がでるため、Ti濃度の異なる領域のあるMgAgAs型結晶粒子が形成され易い。また、冷却速度を100℃/s以下にする方法としては、金型を予熱しておく方法などが挙げられる。
 また、原料粉末を調製する工程が、冷却工程にて作製したインゴットを粉砕処理する工程を具備することが好ましい。前述のように金型に投入された原料溶湯は冷却されてインゴットとなる。粉砕工程は、ジェットミル、ハンマーミル、ピンミルなどが挙げられる。例えば、平均粒径10μm以下に粉砕する場合はジェットミルで、10μmを超える場合はハンマーミル、あるいはピンミルなどを用いればよい。また、これらの粉砕方法を組み合わせてもよい。また、粉砕工程は、不活性雰囲気中で行う事が望ましい。また、原料粉末の平均粒径を1μm以上60μm以下とすることが好ましい。原料粉末の調製を行うことにより、成形性、焼結性が良くなる。
 次に、得られた原料粉末を成形する工程を行う。成形工程は、金型成形やシート成形などが挙げられる。また、成型工程では必要に応じPVAなど有機バインダを用いるものとする。
 また、成形体のサイズは、実際の熱電変換材料よりも大型化してもよいし、実際の熱電変換材料に近いニアネットシェイプ成形体であってもよい。
 次に、得られた成形体を焼結する工程を行う。焼結方法は、常圧焼結、雰囲気加圧焼結法、ホットプレス法、SPS(放電プラズマ焼結)法、HIP(熱間静水圧プレス)法などが挙げられる。ホットプレス法では成形と焼結を同じ金型で行う方法あってもよい。また、焼結工程は焼結体の酸化防止という観点から、例えばArなどの不活性雰囲気中で行うことが好ましい。
 また、焼結温度は950℃以上1600℃以下、焼結時間が0.5h以上50h以下、焼結圧力は常圧以上200MPa以下であることが好ましい。
 また、得られた焼結体の密度は相対密度98%以上となるように焼結することが好ましい。なお、焼結体密度は(アルキメデス法による実測値/理論密度)×100%により求めることができる。
 なお、焼結体から熱電変換材料(熱電素子)を切断加工で切り出す場合は、きりしろが多くなり、材料の利用効率が低下する。このため、ニアネットシェイププロセスを適用し、ほぼ素子形状に近い寸法に成形し、焼結することが好ましい。また、常圧焼結で若干焼結密度が不足の場合、HIP処理により高密度化することもできる。
 また、焼結体形状は、円柱形状、直方体形状など様々な形状が適用できる。また、焼結体は必要に応じ、表面研磨加工を施してもよい。また、焼結体を切断加工して複数の熱電変換材料を切り出す多数個取りを行ってもよい。
 また、熱電モジュールに搭載する際の熱電変換材料の寸法としては、例えば、外径0.5~10mm、厚み1~30mmの円柱状や、0.5~10mm角で厚み1~30mmの直方体状などが挙げられる。
 また、この後加工品の寸法精度を上げるために、機械研磨などの方法により公差を小さくすることができる。さらに、加工後の試料に対して、4面に高耐熱の絶縁コーティング、2面にメッキあるいは蒸着により、Ni、Ni/AuあるいはTi/Ni/Auなどの表面処理を行う事ができる。その厚さは、トータルで1~20μmあればよい。これは、ろう接合時の濡れ性向上による接合部の高信頼性、さらには材料の拡散を防ぐバリア層としての効果がある。
 次に、第二の製造方法について説明する。第二の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末に熱処理する工程と、熱処理後の原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備することを特徴とするものである。
 原料溶湯を調製する工程は第一の製造方法と同じため省略する。第二の製造方法では、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程を行う。そして、得られた原料粉末に熱処理する工程を行うものである。
 100℃/sを超える冷却速度で急冷する工程としては単ロール法、双ロール法、回転ディスク法、ガスアトマイズ法などが挙げられる。溶湯の投入量、ロールやディスクの回転速度、ガスの噴射量を調整することにより、得られる原料粉末の粒径を制御できるので好ましい。また、ガスアトマイズ法は粉砕時の不純物混入を防ぐことができる。
 100℃/sを超える冷却速度で急冷する工程で原料粉末を調製した場合、第一の製造方法とは異なり、粉末段階ではTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子が形成され難い。そのため、原料粉末に熱処理を施すことが好ましい。熱処理条件は、800~1500℃で1~1000時間、不活性雰囲気中で熱処理することが好ましい。100℃/sを超える冷却速度で調整された原料粉末であったとしても、熱処理を施すことによりTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を形成することができる。
 以後の、成型工程、焼結工程は第一の製造方法と同じである。
 次に第三の製造方法について説明する。実施形態の第三の熱電変換材料の製造方法は、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、得られた焼結体に熱処理を施す熱処理工程を具備することを特徴とするものである。
 原料溶融を調製する工程は第一の製造方法と同じである。また、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程は第二の製造方法と同じである。また、成型工程および焼結工程は第一の製造方法と同じである。
 第三の製造方法では、焼結体を得た後、熱処理を施すことを特徴とするものである。この熱処理は、800~1600℃で1~1000時間、不活性雰囲気中で熱処理することが好ましい。焼結体に熱処理を施しても、Ti濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を形成することができる。また、この熱処理は、大型の焼結体から最終の形状となる熱電変換材料を切り出してから熱処理を施してもよい。最終形状の熱電変換材料(熱電素子)にしてから熱処理を施した方が、焼結体へ均一に熱が通り、Ti濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を形成することができる。この点からすると、ニアネットシェイプを行い、焼結体を予め最終形状の熱電変換材料(熱電素子)に近い形状とする方法も有効である。
 上記第一、第二、第三の製造方法は、Ti濃度の頻度グラフが2つ以上のピークを有する熱電変換材料を製造するのに好適なものである。
 以上のような第一の製造方法、第二の製造方法、第三の製造方法であれば、歩留まり良く実施形態の熱電変換材料を製造することができる。また、第一の製造方法、第二の製造方法、第三の製造方法共に、組成式(1)を満たす2種以上の原料粉末を混合して用いる方法も有効である。特に、Ti量の異なる2種以上の原料粉末を用いることにより、Ti濃度の差を付与し易い。
 また、第四の製造方法は、Ti濃度の頻度グラフが1つのピークを有し、ピークを示す頻度に対し、下限値が−5以下、上限値が+5以上となる熱電変換材料を製造するのに好適な製法である。
 第四の製造方法は、まず、組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程を行う。原料溶湯を調製する工程では、A元素、Ti、D元素、X元素を目的とする組成式(1)になるように混合し、溶解して原料溶湯を調製する。原料粉末の溶湯を作製する場合は、アーク溶解や高周波溶解などの溶解法が好ましい。また、溶融するルツボはアルミナ、マグネシア、カルシアであることが好ましい。ルツボで原料を溶融していると、不純物としてルツボを構成する成分が混入する場合がある。前述のように不純物Alが混入したとしても、NiやCoなどのD元素と反応するため不純物混入の影響を低下させることができる。
 次に、原料溶湯を冷却して原料粉末を調製する。このときの冷却速度は100℃/sを超えてよい。具体的は、通常の炉冷(500℃/s)が挙げられる。また、冷却工程は、原料溶湯を金型に入れて行い原料インゴットを調製する。得られた原料インゴットを粉砕して原料粉末を得るものとする。粉砕工程は、ジェットミル、ハンマーミル、ピンミルなどが挙げられる。例えば、平均粒径10μm以下に粉砕する場合はジェットミルで、10μmを超える場合はハンマーミル、あるいはピンミルなどを用いればよい。また、これらの粉砕方法を組み合わせてもよい。また、粉砕工程は、不活性雰囲気中で行う事が望ましい。また、原料粉末の平均粒径を1μm以上60μm以下とすることが好ましい。原料粉末の調製を行うことにより、成形性、焼結性が良くなる。
 次に、得られた原料粉末を成形する工程を行う。成形工程は、金型成形やシート成形などが挙げられる。また、成型工程では必要に応じPVAなど有機バインダを用いるものとする。
 また、成形体のサイズは、実際の熱電変換材料よりも大型化してもよいし、実際の熱電変換材料に近いニアネットシェイプ成形体であってもよい。
 次に、得られた成形体を焼結する工程を行う。焼結方法は、常圧焼結、雰囲気加圧焼結法、ホットプレス法、SPS(放電プラズマ焼結)法、HIP(熱間静水圧プレス)法などが挙げられる。ホットプレス法では成形と焼結を同じ金型で行う方法あってもよい。また、焼結工程は焼結体の酸化防止という観点から、例えばArなどの不活性雰囲気中で行うことが好ましい。
 また、焼結温度は950℃以上1600℃以下、焼結時間が0.5h以上50h以下、焼結圧力は常圧以上200MPa以下であることが好ましい。また、焼結工程後の冷却速度を100℃/s以下にすることが好ましい。焼結工程後の冷却速度を100℃/s以下とゆっくり冷却することにより、MgAgAs型結晶粒子内のTi濃度が均一であったものが焼結工程の熱で濃度分布が変化し、変化した状態で安定となる。この工程を行うことにより、Tiの頻度グラフはピーク1つであるが幅の広いブロードなものとすることができる。また、冷却工程は焼結工程毎に行うものとする。例えば、常圧焼結とHIP焼結を組合せる場合、常圧焼結後の冷却速度を100℃/s以下およびHIP焼結後の冷却速度を100℃/s以下にするものとする。
 また、いずれの製造方法であったとしても、得られた焼結体の密度は相対密度98%以上となるように焼結することが好ましい。なお、焼結体密度は(アルキメデス法による実測値/理論密度)×100%により求めることができる。
 なお、焼結体から熱電変換材料(熱電素子)を切断加工で切り出す場合は、きりしろが多くなり、材料の利用効率が低下する。このため、ニアネットシェイププロセスを適用し、ほぼ素子形状に近い寸法に成形し、焼結することが好ましい。また、常圧焼結で若干焼結密度が不足の場合、HIP処理により高密度化することもできる。
(実施例1~2)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製した。次に、予め加熱した金型に投入し、冷却速度100℃/s以下で冷却してインゴットを調製した。実施例1および実施例2は冷却速度20℃/sとした。得られたインゴットをハンマーミル法にて粉砕し、平均粒径20μmの原料粉末を得た。その後、HIP焼結(1230℃×4時間×100MPa)を行って大型焼結体を作製した。次に、大型焼結体から、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個切り出した。熱電変換材料の組成は表1に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は500~1000wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
(実施例3~4)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製後、ガスアトマイズ法を用いて、100℃/sを超える冷却速度にて原料粉末を作製した。実施例3および実施例4の冷却速度は1000℃/sとした。得られた原料粉末は平均粒径30μmであった。この原料粉末に対し、Ar雰囲気中で1200℃×30時間の熱処理を施した。
 次に、PVAを1wt%混合し、金型を使ったニアネットシェイプ法により、成形体を調製した。成形体に対して、Ar雰囲気中で1550℃×20時間の条件で焼結を行った。その後、HIP焼結(1200℃×2時間×120MPa)を行って、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個作製した。熱電変換材料の組成は表2に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は200~700wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
(実施例5~6)
 マグネシアルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製後、ガスアトマイズ法を用いて、100℃/sを超える冷却速度にて原料粉末を作製した。実施例5および実施例6の冷却速度は500℃/sとした。得られた原料粉末は平均粒径35μmであった。
その後、HIP焼結(1150℃×5時間×150MPa)を行って大型焼結体を作製した。次に、大型焼結体から、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個切り出した。次に、Ar雰囲気中で1200℃×100時間の熱処理を施した。熱電変換材料の組成は表3に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は200~700wtppmの範囲であった。
(実施例7~8)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製した。次に、予め加熱した金型に投入し、冷却速度100℃/s以下で冷却して表4に示す組成のインゴットを調製した。実施例7は冷却速度100℃/s、実施例8は冷却速度80℃/sとした。得られたインゴットをハンマーミル法にて粉砕し、それぞれ平均粒径20μmの原料粉末を得た。実施例7では原料1と原料2を重量比1:1の割合でボールミルを用いて混合し、焼結体用粉末とした。また、実施例8では原料3と原料4を重量比1:1の割合でボールミルを用いて混合し、焼結体用粉末とした。
 その後、HIP焼結(1230℃×4時間×100MPa)を行って大型焼結体を作製した。次に、大型焼結体から、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個切り出した。熱電変換材料の組成は表4に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は500~1300wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
(実施例9~10)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製した。次に、予め加熱した金型に投入し、冷却速度100℃/s以下で冷却してインゴットを調製した。実施例9は冷却速度20℃/s、実施例10は冷却速度5℃/sとした。こののち、1200℃で10時間、Ar雰囲気下で熱処理を行った。得られたインゴットをハンマーミル法にて粉砕し、実施例9は平均粒径25μm、実施例10は平均粒径42μmの原料粉末を得た。その後、HIP焼結(1200℃×10時間×100MPa)を行って大型焼結体を作製した。次に、大型焼結体から、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個切り出した。熱電変換材料の組成は表5に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は700~1500wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
(比較例1~2)
 アルミナルツボを用いて原料溶湯を調製した。次に、予め加熱しない金型に投入し、冷却速度500℃以上の急冷処理してインゴットを調製した。比較例1および比較例2は冷却速度600℃/sとした。得られたインゴットをハンマーミルを用いて粉砕し、平均粒径20μmの原料粉末を得た。その後、HIP焼結(1250℃×3.5時間×100MPa)を行って大型焼結体を作製した。次に、大型焼結体から、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個切り出した。熱電変換材料の組成は表6に示した通りである。また、いずれも金属不純物の含有量は800~1700wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
(比較例3~4)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱により原料溶湯を調整後、ガスアトマイズ法を用いて表7に示した原料5~8に係る原料粉末を得た。原料5は平均粒径34μm、原料6は平均粒径37μm、原料7は平均粒径38μm、原料8は平均粒径40μmとした。なお、比較例3および比較例4の冷却速度は1000℃/sとした。
 次に、原料5と原料6の質量比を焼結体組成になるように秤量し、ボールミルを用いて混合した。混合した粉末をAr雰囲気中で1200℃×3時間×40MPaにてホットプレスした。また、ホットプレス後の冷却速度は炉冷(600℃/s)とした。この作業により比較例3に係るP型熱電変換材料を調製した。
 また、原料7と原料8の質量比を焼結体の組成になるように秤量し、ボールミルを用いて混合した。混合した粉末をAr雰囲気中で1300℃×1時間×40MPaにてホットプレスした。また、ホットプレス後の冷却速度は炉冷(600℃/s)とした。この作業により比較例4に係るN型熱電変換材料を調製した。
 なお、比較例3は特許文献2(特開2010−129636号公報)の実施例6、比較例4は実施例1に相当するものである。また、いずれも金属不純物の含有量は500~1800wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 実施例1~10および比較例1~4に係る熱電変換材料に関して、任意の断面に対してEBSD分析を行った。EBSD分析により、結晶方位、Tiの特性X線の頻度グラフを求めた。EBSD分析には、熱電界放射型走査電子顕微鏡(TFE−SEM)としてJSM−6500F(日本電子製)、エネルギー分散法X線分析計(EDS)はGenesis−S−UTW(EDAX製)を用いた。また、分析条件は加速電圧20.0kV、照射電流8.7nA、試料傾斜70degで行った。また、各試料は焼結体表面を表面粗さRa1μm以下の平坦面に加工した。
 Tiの特性X線の頻度グラフは、一つのMgAgAs型結晶粒子において0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成した。この作業を測定面積240μm×80μmに対して行い、ピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子の個数割合を求めた。同様に、面積240μm×80μmを用いて平均結晶粒径、MgAgAs型結晶粒子の面積比を求めた。
その結果を表8に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 なお、いずれの実施例および比較例も結晶方位は、(001)面、(101)面、(111)面ともに0.5未満でありランダム配向であった。また、単位面積240μm×80μmに対し、Tiの特性X線の強度比を15以上と15未満の領域でカラーマッピングした結果、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子の個数割合は表8の結果と一致した。
 また、図4に実施例7の頻度グラフを示した。図5に実施例1のEBSDによる結晶方位マップ(カラーマッピング)、図6に比較例3のEBSDによる結晶方位マップ(カラーマッピング)を示した。図5および図6はTiの特性X線の強度比を15以上と15未満の領域でカラーマッピングした結果である。図5に示すカラー写真において、赤、青、緑色はそれぞれの結晶粒子が(001)、(111)、(101)方向の配向を意味し、中間色はそれぞれの中間方向の配向を表わしている。また、1個の結晶粒子内に白色部が見られるのは、例えばTiの強度を15以上としたときに、それ以下の強度の部分が白色になる。すなわち、一つのMgAgAs型結晶粒子内に存在する白色領域がTiの強度比が異なる領域となる。図5では、ほとんどのMgAgAs型結晶粒子内に白色領域が存在している。一方、図6のカラー写真に示す通り、MgAgAs型結晶粒子1個ずつが、赤、ピンク、青色、水色、緑色等の様々な色で区分けされている。図6には、全体が白色に見える結晶粒子が存在するものの、MgAgAs型結晶粒子内には白色領域は存在していない。このため、比較例3にはMgAgAs型結晶粒子内にTi濃度の異なる領域がないことが分かる。
 また、実施例7においてSn濃度の頻度グラフを測定したところ、図4のTi濃度グラフと同様の挙動を示した。つまり、Ti濃度が濃いところはSn濃度も濃くなっていた。逆にTi濃度が薄いところは、Sn濃度も薄くなっていた。このような傾向は他の実施例でも同様であった。
 次に、各実施例および比較例の熱電変換材料に対してZT値を測定した。ZT値の測定はアルバック理工製ZEM−3により電気抵抗とゼーベック係数を、熱伝導率は、熱拡散率をAr雰囲気中レーザーフラッシュ法、比熱をDSC法、密度をアルキメデス法でそれぞれ測定し、算出した。また、それぞれ作製した100個に対して測定を行い、平均値、最大値、最小値を示した。その結果を表9に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 表から分かる通り、実施例に係る熱電変換材料はZT値の平均値が高く、そのばらつきも小さかった。つまり、特性を安定させる効果があることが分かった。そのため、実施例に係る熱電変換材料を用いた熱電変換モジュールは特性が安定する。特に、P型とN型のペアを1セットとし、50セット以上の大型の熱電変換モジュールに有効である。
(実施例11~14)
 アルミナルツボを用いて高周波加熱で原料溶湯を調製した。次に、水冷金型に投入し、冷却速度500℃/s以上の速度で冷却してインゴットを調製した。実施例11~12は冷却速度500℃/s、実施例13~14は600℃/sとした。
 なお、実施例11~12の合金は、800℃×20時間、Ar雰囲気中で熱処理した。得られたインゴットをハンマーミル法にて粉砕し、実施例11~14は平均粒径40μmの原料粉末を得た。
 次に、PVAを5wt%混合し、金型を使ったニアネットシェイプ法により、成形体を調製した。成形体に対して、Ar雰囲気中で1300℃で3時間の条件で焼結を行った。また、焼結後の冷却速度を実施例11および実施例12は冷却速度40℃/s、実施例13および実施例14は冷却速度70℃/sとした。
 その後、HIP焼結(1230℃×3時間×120MPa)を行って、縦2mm×横2mm×高さ4mmの熱電変換材料を100個作製した。また、HIP焼結後の冷却速度は実施例11および実施例12は冷却速度10℃/s、実施例13および実施例14は冷却速度5℃/sとした。
 熱電変換材料の組成は表10に示した通りである。また、いずれも焼結体の相対密度は99%以上あった。また、いずれも金属不純物の含有量は500~1000wtppmの範囲であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 実施例11~14に対し、実施例1と同様の分析を行った。その結果を表11に示す。また、図7に実施例11の熱電変換材料について、Tiの特性X線強度の強度比と頻度との関係を示す頻度グラフを示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 次に、実施例1と同様の方法で、実施例11~14に係る熱電変換材料に対してZT値を測定した。その結果を表12に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 表から分かる通り、実施例に係る熱電変換材料はZT値の平均値が高く、そのばらつきも小さかった。頻度グラフのピークが1つであっても、「最大値−最小値≧10」と幅の広いブロードな頻度グラフを示すものであれば、特性が向上することが分かった。図7に示す実施例11の頻度グラフには、ピークが1つ現れている。ピークを示す頻度をPとし、頻度グラフの下限値(最小値)をV、上限値(最大値)をVとする。実施例11では、ピークを示す頻度Pが16.5で、最小値Vが13.5、最大値Vが29.5であった。よって、実施例11の最小値Vはピークを示す頻度Pから「−3」小さく、最大値Vはピークを示す頻度Pから「13」大きく、最大値Vと最小値Vとの差が16であった。
 そのため、実施例に係る熱電変換材料を用いた熱電変換モジュールは特性が安定する。特に、P型とN型のペアを1セットとし、50セット以上の大型の熱電変換モジュールに有効である。
 1…P型熱電変換材料、2…N型熱電変換材料、3a、3b…電極、4a,4b…絶縁基板、5…ホール、6…電子、7…MgAgAs型結晶粒子、8…Tiの特性X線のピーク強度比が15以上の領域。

Claims (18)

  1.  下記組成式(1)で表わされ、MgAgAs型結晶構造を有する多結晶体からなる熱電変換材料において、前記多結晶体内にTi濃度の異なる領域を有するMgAgAs型結晶粒子を具備することを特徴とする熱電変換材料。
     (ATi   組成式(1)
    (上記組成式(1)中、d=1としたとき、0.2≦a≦0.7、0.3≦b≦0.8、a+b=1、0.93≦c≦1.08、0.93≦e≦1.08である。AはZr、Hfの少なくとも1種以上の元素、DはNi、CoおよびFeよりなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、XはSnおよびSbの少なくとも一種以上の元素である。)。
  2.  熱電変換材料の任意の断面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備することを特徴とする請求項1記載の熱電変換材料。
  3.  熱電変換材料の任意の断面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子を具備し、最も大きなピークとなる強度比の頻度K1と最も小さなピークとなる強度の頻度K2の比(K1/K2)が1.2以上であることを特徴とする請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  4.  熱電変換材料の任意の断面にて単位面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが2つ以上存在するMgAgAs型結晶粒子が、結晶粒子の個数割合で30%以上100%以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  5.  前記頻度グラフの上限値から下限値を引いた値が10以上であることを特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  6.  熱電変換材料の任意の断面をEBSD(後方散乱電子線回折)にて一つのMgAgAs型結晶粒子内を0.2μm間隔でTiの特性X線を測定し、横軸にTiの特性X線の強度比、縦軸にTiの特性X線強度毎の頻度をプロットした頻度グラフを作成したとき、頻度グラフはピークが1つであり、ピークを示す頻度に対し、頻度グラフの下限値はピークを示す頻度から−5以下かつ頻度グラフの上限値は、ピークを示す頻度から+5以上であることを特徴とする請求項1記載の熱電変換材料。
  7.  前記頻度グラフの頻度の上限値から下限値を引いた値が15以上であることを特徴とする請求項6記載の熱電変換材料。
  8.  熱電変換材料の任意の焼結面にて面積240μm×80μmをEBSD(後方散乱電子線回折)分析したとき、単位面積あたりの結晶粒子の全数を1とした場合、(001)面、(101)面、(111)面のいずれの結晶方位を示す結晶粒子の個数割合が0.5未満であることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  9.  平均結晶粒径が2~40μmであることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  10.  前記多結晶体が焼結体であることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  11.  面積240μm×80μmあたり、MgAgAs型結晶粒子は面積比で92%以上であることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  12.  前記Dは、Ni及びCoよりなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素であることを特徴とする請求項1ないし請求項11のいずれか1項に記載の熱電変換材料。
  13.  請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の熱電変換材料を用いたことを特徴とする熱電変換モジュール。
  14.  組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を冷却速度100℃/s以下で冷却して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備する請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の熱電変換材料の製造方法。
  15.  原料粉末を調製する工程が、冷却工程にて作製したインゴットを粉砕処理する工程を具備することを特徴とする請求項14記載の熱電変換材料の製造方法。
  16.  組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末に熱処理する工程と、熱処理後の原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、を具備する請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の熱電変換材料の製造方法。
  17.  組成式(1)を満たす原料溶湯を調製する工程と、原料溶湯を100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を成形する工程と、得られた成形体を焼結する工程、得られた焼結体に熱処理を施す熱処理工程を具備する請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の熱電変換材料の製造方法。
  18.  100℃/sを超える冷却速度で急冷して原料粉末を調製する工程がアトマイズ法であることを特徴とする請求項16ないし請求項17のいずれか1項に記載の熱電変換材料の製造方法。
PCT/JP2013/069963 2012-07-17 2013-07-17 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法 WO2014014126A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014525902A JP6058668B2 (ja) 2012-07-17 2013-07-17 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法
CN201380028168.7A CN104321890B (zh) 2012-07-17 2013-07-17 热电转换材料及使用其的热电转换模块以及其制造方法
US14/597,609 US9570667B2 (en) 2012-07-17 2015-01-15 Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion module using the same, and manufacturing method of the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012158907 2012-07-17
JP2012-158907 2012-07-17

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US14/597,609 Continuation US9570667B2 (en) 2012-07-17 2015-01-15 Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion module using the same, and manufacturing method of the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014014126A1 true WO2014014126A1 (ja) 2014-01-23

Family

ID=49948945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/069963 WO2014014126A1 (ja) 2012-07-17 2013-07-17 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9570667B2 (ja)
JP (1) JP6058668B2 (ja)
CN (1) CN104321890B (ja)
WO (1) WO2014014126A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018021540A1 (ja) * 2016-07-28 2018-02-01 株式会社 東芝 熱電材料、熱電材料の製造方法、熱電変換素子、および熱電変換モジュール
JP2018190953A (ja) * 2017-05-08 2018-11-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 ジントル相熱電変換材料
JP2019102629A (ja) * 2017-12-01 2019-06-24 日立金属株式会社 p型熱電変換材料、熱電変換モジュール及びp型熱電変換材料の製造方法
WO2021060101A1 (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 住友電気工業株式会社 熱電変換材料、熱電変換素子、熱電変換モジュールおよび光センサ

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016211877A1 (de) * 2016-06-30 2018-01-04 Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg Thermoelektrischer Gegenstand und Verbundmaterial für eine thermoelektrische Umwandlungsvorrichtung sowie Verfahren zum Herstellen eines thermoelektrischen Gegenstands
CN108091755A (zh) * 2017-11-28 2018-05-29 深圳大学 TiCoSb基高熵热电材料及其制备方法与热电器件

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006203186A (ja) * 2004-12-24 2006-08-03 Showa Denko Kk 熱電半導体合金の製造方法および熱電変換モジュールならびに熱電発電装置
JP2008311247A (ja) * 2007-06-12 2008-12-25 Toyota Central R&D Labs Inc 熱電材料及びその製造方法
JP2009084689A (ja) * 2007-09-10 2009-04-23 Toyota Motor Corp ハーフホイスラー熱電材料の製造方法
JP2010129636A (ja) * 2008-11-26 2010-06-10 Toshiba Corp 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1074512B1 (en) 1999-08-03 2017-02-15 IHI Corporation Clathrate compounds, manufacture thereof, and thermoelectric materials, thermoelectric modules, semiconductor materials and hard materials based thereon
JP4413323B2 (ja) * 1999-08-03 2010-02-10 株式会社Ihi 熱電材料およびその製造方法と熱電材料を用いた熱電モジュール
JP2004356607A (ja) 2002-11-12 2004-12-16 Toshiba Corp 熱電変換材料および熱電変換素子
JP2007173799A (ja) * 2002-11-12 2007-07-05 Toshiba Corp 熱電変換材料および熱電変換素子
JP2005019713A (ja) * 2003-06-26 2005-01-20 Rikogaku Shinkokai M1−xAx・Ni1−yBy・Snz−1Czハーフホイスラー型の高温用熱電材料及び製造方法
JP2005116746A (ja) * 2003-10-07 2005-04-28 Toshiba Corp 熱電変換材料及びこれを用いた熱電変換素子
JP4481704B2 (ja) * 2004-03-31 2010-06-16 株式会社東芝 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換素子
EP1738381A2 (en) 2004-04-21 2007-01-03 Showa Denko Kabushiki Kaisha Process for producing a heusler alloy, a half heusler alloy , a filled skutterudite based alloy and thermoelectric converion system using them
JP4374578B2 (ja) * 2004-12-03 2009-12-02 株式会社豊田中央研究所 熱電材料及びその製造方法
JP2007158191A (ja) * 2005-12-07 2007-06-21 Toshiba Corp 熱電材料およびこの材料を用いた熱電変換素子
US20070125416A1 (en) 2005-12-07 2007-06-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermoelectric material and thermoelectric conversion device using same
JP2007158192A (ja) * 2005-12-07 2007-06-21 Toshiba Corp 熱電変換材料およびこの材料を用いた熱電変換素子
US8044292B2 (en) * 2006-10-13 2011-10-25 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Homogeneous thermoelectric nanocomposite using core-shell nanoparticles
WO2009001598A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 Kyocera Corporation 熱電モジュール及びその製造方法
JP5422383B2 (ja) 2007-07-09 2014-02-19 株式会社東芝 熱電変換モジュールとそれを用いた熱交換器、熱電温度調節装置および熱電発電装置
JP2009277735A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Toyota Central R&D Labs Inc 熱電材料の製造方法
JP5333001B2 (ja) * 2008-12-15 2013-11-06 株式会社豊田中央研究所 熱電材料及びその製造方法
JP5528873B2 (ja) * 2010-03-25 2014-06-25 株式会社豊田中央研究所 複合熱電材料及びその製造方法
CN103314458A (zh) * 2010-12-20 2013-09-18 波士顿学院理事会 具有提高的品质因数的半赫斯勒合金及其制造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006203186A (ja) * 2004-12-24 2006-08-03 Showa Denko Kk 熱電半導体合金の製造方法および熱電変換モジュールならびに熱電発電装置
JP2008311247A (ja) * 2007-06-12 2008-12-25 Toyota Central R&D Labs Inc 熱電材料及びその製造方法
JP2009084689A (ja) * 2007-09-10 2009-04-23 Toyota Motor Corp ハーフホイスラー熱電材料の製造方法
JP2010129636A (ja) * 2008-11-26 2010-06-10 Toshiba Corp 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018021540A1 (ja) * 2016-07-28 2018-02-01 株式会社 東芝 熱電材料、熱電材料の製造方法、熱電変換素子、および熱電変換モジュール
JPWO2018021540A1 (ja) * 2016-07-28 2019-05-23 株式会社東芝 熱電材料、熱電材料の製造方法、熱電変換素子、および熱電変換モジュール
JP6991973B2 (ja) 2016-07-28 2022-01-13 株式会社東芝 熱電材料、熱電材料の製造方法、熱電変換素子、および熱電変換モジュール
US11957052B2 (en) 2016-07-28 2024-04-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermoelectric material, manufacturing method of thermoelectric material, thermoelectric conversion element, and thermoelectric conversion module
JP2018190953A (ja) * 2017-05-08 2018-11-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 ジントル相熱電変換材料
JP7209167B2 (ja) 2017-05-08 2023-01-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 ジントル相熱電変換材料
JP2019102629A (ja) * 2017-12-01 2019-06-24 日立金属株式会社 p型熱電変換材料、熱電変換モジュール及びp型熱電変換材料の製造方法
JP7087362B2 (ja) 2017-12-01 2022-06-21 日立金属株式会社 p型熱電変換材料、熱電変換モジュール及びp型熱電変換材料の製造方法
WO2021060101A1 (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 住友電気工業株式会社 熱電変換材料、熱電変換素子、熱電変換モジュールおよび光センサ
US11832519B2 (en) 2019-09-25 2023-11-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion element, thermoelectric conversion module, and optical sensor

Also Published As

Publication number Publication date
US9570667B2 (en) 2017-02-14
CN104321890A (zh) 2015-01-28
JPWO2014014126A1 (ja) 2016-07-07
US20150122302A1 (en) 2015-05-07
CN104321890B (zh) 2017-07-04
JP6058668B2 (ja) 2017-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6058668B2 (ja) 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法
JP2007158191A (ja) 熱電材料およびこの材料を用いた熱電変換素子
JP4976567B2 (ja) 熱電変換材料
JP2008091461A (ja) 熱電変換材料とそれを用いた熱電変換モジュール
JP5099976B2 (ja) 熱電変換材料の製造方法
JP2006310361A (ja) 熱電材料とその製造方法
JP5271054B2 (ja) 熱電変換材料の製造方法
WO2014010588A1 (ja) 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール並びに熱電変換材料の製造方法
Choi et al. Thermoelectric properties of higher manganese silicide consolidated by flash spark plasma sintering technique
JP7367928B2 (ja) 熱電変換材料およびその製造方法
US20230284532A1 (en) Alloy, sintered article, thermoelectric module and method for the production of a sintered article
JP2005286228A (ja) 熱電材料および熱電変換素子
JP2012256759A (ja) クラスレート化合物および熱電変換材料ならびに熱電変換材料の製造方法
JP6560061B2 (ja) 熱電変換材料、熱電変換素子、熱電変換モジュールおよび熱電変換材料の製造方法
JP5563024B2 (ja) 熱電変換材料とそれを用いた熱電変換モジュール
JP6632218B2 (ja) クラスレート化合物ならびに熱電変換材料およびその製造方法
JP2007158192A (ja) 熱電変換材料およびこの材料を用いた熱電変換素子
JP6082617B2 (ja) 熱電変換材料およびその製造方法
JP5448942B2 (ja) 熱電変換材料
JP5653654B2 (ja) 熱電材料の製造方法
JP5705640B2 (ja) クラスレート化合物および熱電変換材料ならびに熱電変換材料の製造方法
WO2023145339A1 (ja) 熱電変換材料、熱電変換材料用組成物、熱電変換素子、熱電変換モジュール、熱電変換システム、熱電変換材料用組成物の製造方法、及び熱電変換材料の製造方法
JP5727540B2 (ja) 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換モジュール
WO2021193481A1 (ja) 熱電変換素子の製造方法
JP6826925B2 (ja) 熱電変換材料、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及び移動体

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13820014

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014525902

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13820014

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1