WO2012073476A1 - セラミックヒータ素子、セラミックヒータ、およびグロープラグ - Google Patents

セラミックヒータ素子、セラミックヒータ、およびグロープラグ Download PDF

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WO2012073476A1
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ceramic heater
heater element
heating resistor
ratio
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関口　豊
良仁 猪飼
光岡　健
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日本特殊陶業株式会社
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  • the present invention relates to a ceramic heater element, a ceramic heater, and a glow plug.
  • heater elements are used for glow plugs for promoting start-up of diesel engines, ignition heaters for burners, heaters for gas sensors, and the like.
  • the heater element include a metal sheath heater element in which a heat-resistant insulating powder is filled in a metal sheath and a coil-shaped heating element is embedded in the heat-resistant insulating powder, or a conductive ceramic in a base made of an insulating ceramic.
  • a ceramic heater element in which a heating resistor is embedded is known, and is appropriately selected and used.
  • the grain boundary phase for improving the sinterability, the thermal expansion coefficient is brought close to the thermal expansion coefficient of the heating resistor, and cracks are caused by thermal stress.
  • production of this is known.
  • the grain boundary phase for example, those containing rare earth elements are known, and as the thermal expansion coefficient adjusting material, for example, chromium silicide is known.
  • the heating resistor in the ceramic heater element for example, at least one selected from silicides, nitrides, and carbides of Mo and silicides, nitrides, and carbides of W is used as a main phase, and silicon nitride And what has a grain boundary phase for improving sinterability is known.
  • the grain boundary phase for example, those containing rare earth elements are known as in the case of the grain boundary phase of the substrate (for example, see Patent Document 1).
  • Such a ceramic heater element is required to consume less power and to be excellent in rapid temperature rise.
  • a method of suppressing power consumption and improving rapid temperature rising property a method of combining resistors having different resistances (for example, see Patent Document 2), a method of reducing a heat generating material cross-sectional area at a position where heat is generated (for example, Patent Document) 3)), etc. are being studied from the structural aspect.
  • the method of combining resistors having different resistances increases the number of man-hours required for manufacturing and tends to increase the manufacturing cost.
  • the method of reducing the heat generating material cross-sectional area requires that the temperature of the resistor be excessively high, and there is a risk that the energization durability may be reduced.
  • improvement from the structural aspect has problems such as productivity and durability, it is required to suppress power consumption and improve rapid temperature rise by other methods.
  • ceramic heater elements are required to have good sinterability, heat resistance, oxidation resistance at high temperatures, etc. in addition to the power consumption and rapid temperature rise described above.
  • a hot press firing method is used. Need to apply. When the hot press firing method is applied, the number of man-hours required for production increases and the production cost tends to increase.
  • the present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a ceramic heater element that has low power consumption, excellent rapid temperature rise characteristics, and excellent productivity, high temperature characteristics, and the like. It is said. Another object of the present invention is to provide a ceramic heater and a glow plug using such a ceramic heater element.
  • the ceramic heater element of the present invention has an insulating base and a heating resistor embedded in the insulating base.
  • the insulating substrate has ⁇ -sialon or ⁇ -sialon and ⁇ -sialon mixed phase sialon as a main phase, a grain boundary phase containing a rare earth element, and at least selected from Cr, W, Mo, V, and Fe It is characterized by having one kind of silicide.
  • the heating resistor is composed of a conductive compound composed of at least one selected from Mo silicides, nitrides and carbides, and W silicides, nitrides and carbides as a main phase, and ⁇ -sialon. Alternatively, it is characterized by having a mixed phase sialon of ⁇ -sialon and ⁇ -sialon and a grain boundary phase containing a rare earth element.
  • the ceramic heater of the present invention is a ceramic heater having a ceramic heater element and a metal outer cylinder that holds the ceramic heater element inside so that a tip portion protrudes, the ceramic heater element of the present invention described above. It is a ceramic heater element.
  • the glow plug of the present invention is a glow plug including a ceramic heater and a cylindrical metal shell that holds the rear end portion of the ceramic heater therein, and the ceramic heater is the ceramic heater of the present invention described above. It is characterized by that.
  • the ceramic heater element of the present invention by setting the composition of the insulating base and the heating resistor to a specific composition, the power consumption is low, the rapid temperature rising property is excellent, and the productivity, high temperature characteristics, etc. are also good. can do.
  • having the ceramic heater element of the present invention has low power consumption, excellent rapid temperature rise characteristics, and good productivity, high temperature characteristics, and the like. be able to.
  • Sectional drawing which shows an example of the glow plug which has a ceramic heater element of this invention.
  • FIG. 1 shows an example of a glow plug having a ceramic heater element of the present invention (hereinafter simply referred to as a heater element).
  • FIG. 1A is a longitudinal sectional view of the entire glow plug
  • FIG. 1B is a sectional view of the ceramic heater element portion.
  • the glow plug 1 has a ceramic heater 2 and a cylindrical metal shell 3 that holds the rear end of the ceramic heater 2 inside.
  • a screw portion 31 is formed as an attachment portion for fixing the glow plug 1 to an engine block (not shown).
  • a metal shaft 4 for supplying electric power to the ceramic heater 2 from the rear end side is disposed in the metal shell 3 in an insulated state from the metal shell 3.
  • an insulating bush 5 made of an insulating material is disposed between the rear end side outer peripheral surface of the metal shaft 4 and the inner peripheral surface of the metal shell 3.
  • an insulating material such as rubber is used in contact with the inner hole of the metal shell 3, the metal shaft 4 and the insulating bush 5 in order to improve the airtightness inside the metal shell 3.
  • An O-ring 6 is arranged.
  • the rear end portion of the metal shaft 4 extends to the rear of the metal shell 3, and a terminal metal fitting 8 is fitted into the extended portion via an insulating bush 5.
  • the terminal fitting 8 is fixed to the outer peripheral surface of the metal shaft 4 in a conductive state by a caulking portion 8a in the circumferential direction.
  • the ceramic heater 2 has the heater element 10 of the present invention and a metal outer cylinder 11 that holds the heater element 10 inside so that the tip portion protrudes.
  • the metal shell 3 and the metal outer cylinder 11 are, for example, a small-diameter portion 11 s at the rear end of the metal outer cylinder 11 is press-fitted into the tip of the inner hole of the metal shell 3 and the large-diameter portion 11 b at the center and the tip of the metal shell 3 The part is fixed by laser welding all around.
  • the heater element 10 of the present invention has a rod-like form in which a heating resistor 102 is embedded in an insulating substrate 101.
  • the heating resistor 102 has a U-shaped heating portion 103 disposed on the front end side of the heater element 10 and a pair of linear shapes connected to both ends and extending along the direction of the axis CL1 of the heater element 10.
  • Lead part 104 One lead portion 104 is electrically connected to the metal shell 3 via the metal outer cylinder 11 by a grounding energizing terminal portion 12 protruding in the radial direction.
  • the other lead portion 104 has a power supply side energizing terminal portion 13 projecting in the same manner and is electrically connected to a metal ring 14 fitted to the rear end portion of the heater element 10. This ring 14 is fixed to and electrically connected to the tip end of the metal shaft 4 by welding or the like, and thereby, power is supplied to the heater element 10.
  • the insulating substrate 101 has ⁇ -sialon or a mixed phase sialon of ⁇ -sialon and ⁇ -sialon as a main phase, and further includes a grain boundary phase containing a rare earth element, Cr, W, Mo, It is characterized by having at least one silicide selected from V and Fe.
  • the heating resistor 102 is mainly composed of a conductive compound of at least one selected from Mo silicides, nitrides and carbides, and W silicides, nitrides and carbides, and ⁇ - It is characterized by having sialon or ⁇ -sialon and ⁇ -sialon mixed phase sialon and a grain boundary phase containing rare earth elements.
  • the main phase of the insulating base 101 and the insulating component of the heating resistor 102 are made of sialon, it is possible to suppress power consumption and improve rapid temperature rise. That is, since sialon has a smaller thermal conductivity than silicon nitride, it is possible to suppress the heat generated by the heater element 10 from escaping to another member for fixing the heater element 10. As a result, heating can be performed efficiently, power consumption can be suppressed, and rapid temperature rise can be improved.
  • silicon nitride has a high thermal conductivity, so that it cannot be heated efficiently, consumes a large amount of power, and deteriorates rapid temperature rise. End up.
  • silicon nitride has a high thermal conductivity, so that it cannot be heated efficiently, consumes a large amount of power, and deteriorates rapid temperature rise. End up.
  • a sintering aid for improving the sinterability, particularly the denseness, It is easy to deteriorate.
  • the amount of the sintering aid is reduced with emphasis on oxidation resistance, the sinterability decreases and the strength decreases.
  • the thermal conductivity at room temperature is 30 to 100 W / mK for silicon nitride and 10 to 20 W / mK for sialon.
  • sialon As the main phase of the insulating substrate 101, productivity can be improved while achieving both oxidation resistance and sinterability. Further, by using both the main phase of the insulating substrate 101 and the insulating component of the heating resistor 102 as sialon, the sintering behavior and heat shrinkage of both the insulating substrate 101 and the heating resistor 102 can be matched. Therefore, at the time of manufacturing, particularly at the time of sintering, it is possible to suppress the occurrence and the like of cutting and breakage of the heating resistor 102 and peeling at the interface between the insulating substrate 101 and the heating resistor 102. In use, durability against repeated temperature increases can be improved. In particular, since the insulating base 101 has at least one silicide selected from Cr, W, Mo, V, and Fe, the thermal expansion coefficient of the insulating base 101 becomes the thermal expansion coefficient of the heating resistor 102. The durability against repeated heating increases.
  • the insulating base 101 and the heating resistor 102 will be specifically described.
  • the insulating substrate 101 has ⁇ -sialon or a mixed phase sialon of ⁇ -sialon and ⁇ -sialon as a main phase.
  • the main phase means the phase with the largest mass among the constituent phases.
  • the heating resistor 102 is also configured with the same sialon.
  • Sialon is a solution in which an auxiliary component is dissolved in a lattice of Si 3 N 4 , and ⁇ -sialon represented by a composition formula Si 6-z Al z O z N 8-z (0 ⁇ Z ⁇ 4.2). And the composition formula Mx (Si, Al) 12 (O, N) 16 (0 ⁇ X ⁇ 2, M is Li, Mg, Ca, Y, R (R is a rare earth element excluding La and Ce)). ⁇ -sialon exists.
  • ⁇ -sialon is a structure in which needle-like particles are intertwined in a complex manner like silicon nitride, high strength and toughness can be obtained.
  • ⁇ -sialon has an equiaxed particle shape and thus has low toughness, but can have higher hardness than ⁇ -sialon.
  • Yb and the like Li, Mg, Ca, Y, R (R is a rare earth element other than La and Ce)
  • the grain boundary phase is reduced and oxidation resistance is improved.However, when only ⁇ -sialon is used, the grain boundary phase component is added to sialon during sintering. Therefore, it is impossible to obtain a dense sintered body because it is taken in and is almost lost, so that ⁇ -sialon particles and ⁇ -sialon particles are simultaneously generated to provide excellent sinterability and oxidation resistance. A product excellent in properties and strength can be obtained.
  • the ratio of ⁇ -sialon ( ⁇ ratio) in the sialon ( ⁇ -sialon and ⁇ -sialon) of the insulating substrate 101 is not necessarily limited, but if the ⁇ ratio is low, the ratio of the grain boundary phase increases. 2% or more is preferable because oxidation resistance tends to decrease. On the other hand, when the ⁇ ratio is high, the grain boundary phase component is taken into the sialon during the sintering and almost disappears, so that a dense sintered body cannot be obtained. As a result, the strength and durability against repeated temperature increases are likely to decrease, so 60% or less is preferable. From the viewpoint of making the strength and durability against repeated heating higher, the ⁇ ratio is preferably 50% or less, and more preferably 30% or less.
  • the ⁇ rate in the insulating substrate 101 is preferably higher than the ⁇ rate in the heating resistor 102. Specifically, it is in the range of 2 to 50%, more preferably in the range of 2 to 30% as described above. It is preferable that the ⁇ rate in the heating resistor 102 is higher.
  • the ⁇ rate is ⁇ 1 for the (101) plane peak intensity of ⁇ -sialon, ⁇ 2 for the (210) plane peak intensity of the ⁇ -sialon, and ⁇ 1 for the (102) plane peak intensity of the ⁇ -sialon in the X-ray diffraction pattern.
  • the peak intensity is ⁇ 2
  • ( ⁇ 1 + ⁇ 2) / ( ⁇ 1 + ⁇ 2 + ⁇ 1 + ⁇ 2) is calculated.
  • the Z value representing the solid solution amount of alumina in ⁇ -sialon in the insulating substrate 101 is not necessarily limited, but is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more from the viewpoint of obtaining sufficient sinterability. .
  • the value is preferably 1.3 or less, more preferably 1.0 or less, and particularly preferably 0.8 or less.
  • the Z value is calculated from the difference between the a-axis lattice constant of ⁇ -sialon in the sialon phase measured by X-ray diffraction measurement and the a-axis lattice constant of ⁇ -silicon nitride (7.604442 ⁇ ⁇ ). There is a calculation method (for example, refer to WO 02/44104, page 28).
  • the grain boundary phase in the insulating substrate 101 is solidified during cooling after the sintering aid added to promote the sintering becomes a liquid phase and contributes to the generation, rearrangement, and grain growth of sialon (particles). It was produced as a glass or crystalline phase.
  • This grain boundary phase contains rare earth elements, specifically, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and It contains at least one selected from Lu. Among these, at least selected from Sc, Y, Dy, Er, Yb, and Lu since crystallization of the grain boundary phase can be promoted, the high temperature strength can be improved, and the ⁇ ratio can be easily adjusted. It is preferable to contain 1 type, and it is particularly preferable to contain at least one selected from Y, Er, and Yb.
  • the proportion of the grain boundary phase in the insulating substrate 101 is not necessarily limited, but a composition having a small amount of sintering aid and a small proportion of the grain boundary phase is insufficient in the amount of liquid phase during sintering. For this reason, the sinterability is lowered, and there is a tendency that the strength is lowered because minute voids are formed in the grain boundary phase portion.
  • the proportion of the grain boundary phase is large, the melting point of the grain boundary phase is lower than that of sialon, so that the heat resistance tends to decrease.
  • the content of rare earth elements is 1 to 15% by mass in terms of oxide in the entire raw material when the insulating substrate 101 is produced so that the grain boundary phase is constituted in the insulating substrate 101 at an appropriate ratio. It is preferable to do.
  • the silicide in the insulating substrate 101 is contained in order to adjust the coefficient of thermal expansion of the insulating substrate 101. Specifically, it is contained in order to make the thermal expansion coefficient of the insulating substrate 101 close to the thermal expansion coefficient of the heating resistor 102 and to improve durability against repeated temperature rise.
  • This silicide is made of at least one silicide selected from Cr, W, Mo, V, and Fe, and is usually contained in the insulating substrate 101 in a granular form. In addition, this silicide is added as an oxide of Cr, W, Mo, V, or Fe, for example, and is generated by being silicided during sintering.
  • the content of silicide is preferably 0.1 to 8% by volume in the entire insulating substrate 101.
  • the content of silicide is preferably 0.1 to 8% by volume in the entire insulating substrate 101.
  • the volume fraction of silicide is obtained by mirror-polishing the cross section of the insulating substrate 101, taking a cross-sectional image with a scanning electron microscope (SEM), calculating the area ratio of the particles by image analysis, and calculating the theoretical volume from the area ratio.
  • SEM scanning electron microscope
  • the rate can be calculated and calculated in a pseudo manner.
  • the heating resistor 102 is mainly composed of a conductive compound composed of at least one selected from Mo silicides, nitrides and carbides, and W silicides, nitrides and carbides. is there.
  • a conductive compound composed of at least one selected from Mo silicides, nitrides and carbides, and W silicides, nitrides and carbides.
  • heat resistance sufficient for use under a high temperature condition of 1200 ° C. or higher can be obtained.
  • the conductive compound WC, WSi 2 , and MoSi 2 are particularly preferable.
  • the content of the conductive compound is not necessarily limited, but is preferably 15 to 35% by volume in the entire heating resistor 102.
  • the content of the conductive compound is more preferably 20 to 30% by volume in the entire heating resistor 102.
  • the heating resistor 102 has ⁇ -sialon or a mixed phase sialon of ⁇ -sialon and ⁇ -sialon as an insulating component.
  • the insulating component of the heating resistor 102 is also ⁇ -sialon or a mixed phase sialon of ⁇ -sialon and ⁇ -sialon, so that the sintering behavior and heat shrinkage of both are combined. It is possible to suppress the generation and breakage of the heating resistor 102 at the time of sintering, the separation at the interface between the insulating substrate 101 and the resistor 102, and the durability against repeated temperature rise can be improved. .
  • the ratio ( ⁇ ratio) of ⁇ -sialon in the sialon ( ⁇ -sialon and ⁇ -sialon) of the heating resistor 102 is not necessarily limited. However, if the ⁇ ratio is high, the sinterability decreases and the density decreases. 60% or less is preferable because strength and durability against repeated temperature increases are likely to decrease. From the viewpoint of making the strength and durability against repeated heating higher, the ⁇ ratio is preferably 50% or less, more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less.
  • the heating resistor 102 is embedded in the insulating base 101 and does not require oxidation resistance like the insulating base 101, so the ⁇ ratio may be low and is 0%. May be.
  • the ⁇ rate in is preferably lower than the ⁇ rate in the insulating substrate 101. Specifically, it is in the range of 60% or less, more preferably in the range of 50% or less, and further preferably in the range of 10% or less as described above. Among them, it is preferable that the ⁇ rate in the insulating substrate 101 is lower.
  • the Z value in ⁇ -sialon in the heating resistor 102 is not necessarily limited, but is preferably 0.1 or more from the viewpoint of obtaining sufficient sinterability.
  • the amount of solid solution of alumina increases, so that it approaches the properties of alumina and becomes stable, and the sinterability is also good, but the strength of ⁇ -sialon itself decreases, and repeatedly Since the durability with respect to the temperature rise decreases, 1.3 or less is preferable, 1.0 or less is more preferable, and 0.7 or less is particularly preferable.
  • the sintering aid added to promote the sintering becomes a liquid phase, and sialon (particle) generation, rearrangement, After contributing to grain growth, it solidifies upon cooling and is produced as a glass or crystalline phase.
  • This grain boundary phase also contains at least a rare earth element. Specifically, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb And one or more selected from Lu.
  • the proportion of the grain boundary phase in the heating resistor 102 is not necessarily limited, but the content of the rare earth element is the same as that of the raw material for producing the heating resistor 102 as in the viewpoint of the insulating substrate 101. Among them, the content is preferably 1 to 15% by mass in terms of oxide.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view showing the element molded body 10a that becomes the heater element 10 by firing.
  • the element molded body 10a has a resistor molded portion 102a that becomes a heat generating resistor 102 by firing, and an insulating substrate molded portion 101a that becomes an insulating substrate 101 by firing.
  • the resistor molding portion 102a is manufactured by using, as the conductive compound powder, a powder composed of at least one selected from Mo silicides, nitrides and carbides, and W silicides, nitrides and carbides, and sialon.
  • a powder containing silicon elements (sialon constituent powder) silicon nitride powder, alumina powder, aluminum nitride powder, etc., as sintering aids, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb , Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu selected from one or more rare earth element oxide powders and wet-mixed.
  • Suitable examples of the conductive compound powder include WC, WSi 2 and MoSi 2 .
  • the oxide powder of 1 type, or 2 or more types of rare earth elements chosen from Sc, Y, Dy, Er, Yb, and Lu is mentioned as a suitable thing.
  • the mixing ratio of each raw material powder in the whole raw material powder is not necessarily limited.
  • the conductive compound powder is 55 to 70% by mass
  • the sialon constituting powder is 25 to 40% by mass
  • the rare earth oxide powder is 1 to 15% by mass. preferable.
  • Each raw material powder preferably has an average particle size of 5 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less, and still more preferably 1 ⁇ m or less.
  • the slurry-like mixture obtained by wet mixing is dried and granulated by spray drying.
  • the powder obtained by this drying is kneaded by adding a binder in a kneading kneader.
  • This kneaded material is formed into a three-dimensional U-shape as shown in FIG. 2 by an injection molding machine, and a resistor molding portion 102a that becomes a heating resistor 102 is produced by firing.
  • the insulating base molding portion 101a is manufactured by using at least one selected from Cr, W, Mo, V, and Fe as a silicide powder, such as a silicon nitride powder, an alumina powder, and an aluminum nitride powder as a sialon constituent powder.
  • a silicide powder such as a silicon nitride powder, an alumina powder, and an aluminum nitride powder as a sialon constituent powder.
  • One or two or more rare earth element oxide powders selected from Lu are blended, wet pulverized and mixed, a binder is added, and an insulating base powder is obtained by spray drying.
  • the insulating base powder is press-molded using a mold apparatus having a predetermined mold, thereby covering one side surface (for example, the lower side surface in the drawing) of the resistor molding portion 102a as shown in FIG.
  • the split insulating base molding part 101a is produced.
  • the half-insulated base molding portion 101a is formed with a concave portion 105a having a shape corresponding to the resistor molding portion 102a.
  • oxide powders of one or more rare earth elements selected from Sc, Y, Dy, Er, Yb, and Lu are preferable.
  • the mixing ratio of each raw material powder in the whole raw material powder is not necessarily limited.
  • sialon constituent powder 85 to 97 mass%, silicide powder 0.5 to 5 mass%, rare earth oxide powder 1 to 15 mass % Is preferred.
  • Each raw material powder preferably has an average particle size of 5 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less, and still more preferably 1 ⁇ m or less.
  • the above-described half-insulated base molding portion 101a is accommodated in the mold 21, and the resistor molding portion 102a is placed on the concave portion 105a.
  • the mold 21 containing the half-split insulating base molding portion 101a is filled with the same insulating base powder as the insulating base powder used for the molding, and press-molded with a pair of punches 22 to obtain the other.
  • the half-insulated base molding portion 101a is molded and integrated at the same time, and an element molded body 10a to be the heater element 10 is manufactured by firing.
  • the element molded body 10a is calcined at about 600 to 800 ° C. in order to remove the binder component.
  • the element molded body 10a subjected to the calcination is subjected to cold isostatic pressing (CIP) as necessary.
  • CIP cold isostatic press
  • the cold isostatic press (CIP) is performed, for example, by enclosing the element molded body 10a in a rubber tube and applying hydrostatic pressure to the tube by a liquid molding medium such as oil or water.
  • the element molded body 10a is fired.
  • a normal pressure firing method for firing, a gas pressure firing method, a HIP method, a hot press method, or the like can be applied.
  • the atmospheric pressure firing method is very useful because it can be processed in a large amount and is inexpensive.
  • firing is performed at 1500 to 1800 ° C. in a non-oxidizing atmosphere of normal pressure of 0.1 MPa, preferably at a nitrogen partial pressure of 0.05 MPa or more.
  • the gas pressure firing method is performed at 1500 to 1950 ° C. in a non-oxidizing atmosphere with a gas pressure of 0.1 to 1 MPa, preferably at a nitrogen partial pressure of 0.05 MPa or more.
  • HIP method primary firing is performed by normal pressure firing or gas pressure firing, followed by firing at 1450 to 1900 ° C. in a nitrogen atmosphere with a gas pressure of 1 to 200 MPa, preferably with a nitrogen partial pressure of 0.05 MPa or more
  • Next firing is performed.
  • firing is performed at 1450 to 1900 ° C. under a uniaxial pressure condition of a hot press pressure of 10 to 50 MPa, in a non-oxidizing atmosphere of 0.1 to 1 MPa, preferably at a nitrogen partial pressure of 0.05 MPa or more. It is.
  • the ⁇ ratio and Z value in the sialon of the insulating base 101 and the heating resistor 102 can be adjusted by appropriately adjusting the blending ratio of each raw material powder, the firing temperature, and the like within the above ranges.
  • the ⁇ ratio can be adjusted mainly by a sintering aid, for example, a rare earth oxide of at least one element selected from Sc, Y, Dy, Er, Yb, and Lu as the sintering aid.
  • powder, Al 2 O 3 powder, using an AlN powder can be suitably carried out by adjusting the addition amount.
  • the amount of N can be adjusted by the balance of the amount of all rare earth elements. Generally, if the ratio of Al 2 O 3 / AlN is increased, the ⁇ ratio can be decreased, and conversely, if the ratio of Al 2 O 3 / AlN is decreased, the ⁇ ratio can be increased.
  • the Z value can be adjusted, for example, by increasing or decreasing the ratio of the content of Al 2 O 3 and AlN in the raw material to be used or the total ratio of Al 2 O 3 and AlN to the entire raw material. Generally, when the ratio of Al 2 O 3 / AlN is increased and the total ratio of Al 2 O 3 and AlN is decreased, the Z value can be decreased, the ratio of Al 2 O 3 / AlN is decreased, and the Al 2 If the total ratio of O 3 and AlN is increased, the Z value can be increased.
  • the fired product thus obtained is further polished and finished to a predetermined outer shape, so that the heating resistor 102 is embedded in the insulating substrate 101 and the composition of the insulating substrate 101 and the heating resistor 102.
  • the heater element 10 having a predetermined composition can be obtained.
  • Examples 1 to 22, Comparative Examples 1 to 5 As the conductive compound powder, one or two kinds selected from WC, WSi 2 , MoSi 2 , and TiN, as the sialon constituting powder, Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , and AlN, as the sintering aid, Y 2 O 3, La 2 O 3 , Er 2 O 3, and one or two elements selected from Yb 2 O 3, mixed other SiO 2 as an average particle diameter of 0.5 ⁇ 1 [mu] m, respectively, in a ball mill for 24 hours Wet mixed.
  • the composition of each raw material powder is adjusted so that the volume fraction of the conductive compound is 24 to 28% by volume as shown in Table 1.
  • Si 3 N 4 , Yb 2 O 3 , Al 2 O 3 , AlN, and SiO 2 powder are used for the preparation of the heating resistor powder of Example 1. It was. Yb 2 O 3 , Al 2 O 3 , AlN, and SiO 2 function as a sintering aid, and sialon is generated by dissolving in Si 3 N 4 during firing. By adding AlN in addition to Al 2 O 3 as the Al component, sialon is easily formed.
  • Al 2 O 3 and AlN In order to increase the Z value as in Example 10, a large amount of Al 2 O 3 and AlN (a mass ratio of about 3 to 30 when Si 3 N 4 is defined as 100), Al 2 The O 3 / AlN ratio is preferably blended to about 0.5 to 10.
  • AlN In order to set the Z value to 0 as in Comparative Example 1, AlN is not included and the Al component is only Al 2 O 3 or the Al component is zero, and the amount of Al is less than that of Si 3 N 4 (by mass ratio).
  • Si 3 N 4 is 100, about 3 or less in terms of Al 2 O 3 ).
  • the Al 2 O 3 / AlN ratio may be reduced (2 or less). The ⁇ ratio can be increased as the Al 2 O 3 / AlN ratio is decreased.
  • a binder was added to the powder obtained by this drying in a kneading kneader and kneaded for 8 hours. Furthermore, the kneaded product was formed into a three-dimensional U-shape by an injection molding machine, and a resistor molding part that became a heating resistor was produced by firing.
  • Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , and AlN as insulating base powders
  • Cr 2 O 3 , CrSi 2 , WO 3 , WSi 2 , MoO 2 as thermal expansion coefficient adjusting materials (powder for silicide, etc.) 1 or 2 selected from MoSi 2 , V 2 O 5 , VSi 2 , 1 selected from Y 2 O 3 , La 2 O 3 , Er 2 O 3 , and Yb 2 O 3 as a sintering aid.
  • a binder was added and a mixed powder was obtained by spray drying.
  • the Al component is only Al 2 O 3, and the Al amount is small with respect to the entire raw material (3 wt% or less in terms of Al 2 O 3). Degree).
  • a large amount of Al 2 O 3 and AlN total amount of about 10 to 20 wt%) and an Al 2 O 3 / AlN ratio of about 0.5 to 10 are used. It is good to mix with.
  • the Al 2 O 3 / AlN ratio is increased (about 1 to 10).
  • the Al 2 O 3 / AlN ratio is decreased (2 or less). The ⁇ ratio can be increased as the Al 2 O 3 / AlN ratio is decreased.
  • the mixed powder was fitted with a pair of insulating base molding parts so as to accommodate the resistor molding part, and then accommodated in a mold and press-molded with a pair of punches to obtain an element molding. Further, the element molded body was calcined at 600 ° C. in a nitrogen atmosphere in order to remove the binder component, and further pressurized by a cold isostatic press (CIP) at a pressure of 20 to 150 MPa. .
  • CIP cold isostatic press
  • the element compact subjected to cold isostatic pressing (CIP) was fired at 1750 ° C. for 2 hours in a 0.1 MPa nitrogen atmosphere. In this way, a heater element in which a heating resistor was embedded in an insulating substrate was manufactured.
  • CIP cold isostatic pressing
  • the constituent phases were identified, and the ⁇ rate and Z value were determined.
  • the constituent phases were identified by X-ray diffraction measurement, and the ⁇ rate and Z value were determined by the methods already described.
  • the volume fraction of silicide in the insulating substrate and the volume fraction of conductive compound in the heating resistor were determined. Each volume fraction is mirror-polished on the cross section of the heater element, the cross-sectional image is taken in by a scanning electron microscope (SEM), and is calculated as an area ratio of particles by image analysis. From this area ratio, the theoretical volume ratio is simulated. Calculated. The measurement results are shown in Table 1 together with the manufactured samples.
  • the insulating substrate of Example 1 Yb 2 O 3 to 5.5wt%, Al 2 O 3 and 4.5 wt%, AlN and 5.5 wt%, WO 3 and 1.8 wt%, the balance being Si 3 N
  • the raw material mixed powder (insulating base powder) was 4.
  • the ⁇ ratio was 0.15 and the Z value was 0.7.
  • the insulating substrate of Example 3 Yb 2 O 3 and 5.5 wt%, Al 2 O 3 to 11 wt%, AlN and 5.5 wt%, WO 3 and 1.8 wt%, and the balance Si 3 N 4
  • the ⁇ ratio is 0, and the Z value is 1.
  • the ⁇ ratio and the Z value can be adjusted by appropriately changing the blending ratio of Al 2 O 3 and AlN.
  • the fracture toughness value of the insulating substrate was measured according to JIS®R-1607.
  • the strength of the heater element a three-point bending strength was measured according to JISJR 1601. The span at this time was 12 mm, and the crosshead speed was 0.5 mm / min.
  • the power consumption measured the power consumption at 1200 degreeC saturation.
  • the rapid temperature rising property was measured by applying a DC voltage of 11 V and measuring the time until the temperature of the tip of the heater element reached 1000 ° C.
  • the continuous energization durability was a continuous energization test in which the temperature was raised so that the maximum surface temperature was 1250 ° C or 1300 ° C. And after energizing for 1000 hours, resistance value was first measured and resistance value change before and after a test was measured. After measuring the resistance value, the heater element is cut along the axial direction, mirror-polished, and the presence or absence of migration (migration) of the sintering aid component (rare earth element, aluminum, etc.) in the vicinity of the heating resistor is detected by EPMA. Observed. In this case, when there was no resistance change and no migration, the evaluation of “ ⁇ ” was made. When the resistance change was not so much, the evaluation of “ ⁇ ” was made when there was migration, and the resistance value was 10%. When it increased more and there was migration, "x" evaluation was carried out.
  • Oxidation resistance was determined by measuring the weight before and after standing in a heating furnace in an air atmosphere at 1250 ° C. or 1300 ° C. for 50 hours, and obtaining an oxidation increase value.
  • the oxidation increase value is a value obtained by dividing the difference between the weight after standing and the weight before standing by the surface area, 0.3 mg / cm 2 or less at 1250 ° C. and 0.4 mg / cm at 1300 ° C. When it was cm 2 or less, it was evaluated as “ ⁇ ” as being excellent in oxidation resistance, and when exceeding that, it was evaluated as “surface oxidation” as the oxidation proceeded.
  • the ON / OFF durability is a process in which a voltage at a temperature rising rate reaching 1000 ° C. in 2 seconds is applied, the voltage is allowed to reach the maximum temperature of 1250 ° C., and then the voltage application is stopped and the fan is cooled for 30 seconds.
  • the number of cycles in which the resistance value changed by 10% or more relative to the resistance value before the start of the test was measured.
  • “ ⁇ ” indicates up to 100,000 cycles
  • “ ⁇ ” indicates up to 20,000 cycles
  • “ ⁇ ” indicates up to 500 cycles
  • the resistance value change is less than 10%.
  • "x" shows having disconnected by less than 500 cycles.
  • the heater element of Comparative Example 1 in which the insulating base and the heating resistor are silicon nitride as the main phase consumes a large amount of power is inferior in rapid temperature rise, and has oxidation resistance. It turns out that it is not enough.
  • the heater element of Comparative Example 2 in which the insulating base does not have a predetermined silicide has insufficient ON / OFF durability because the thermal expansion coefficients of the insulating base and the heating resistor are different.
  • the heater element of Comparative Example 4 in which the conductive compound of the heating resistor is TiN, and the heater element of Comparative Example 5 that does not contain a rare earth element It can be seen that the heating resistor is cut or not sufficiently densified during firing.
  • the heater element of the example has low power consumption and good rapid temperature rise.
  • the sinterability is also good, and it can be seen that the generation and breakage of the heating resistor during firing and peeling at the interface between the insulating substrate and the heating resistor are suppressed.
  • the ⁇ ratio of the insulating substrate and the heating resistor is preferably 0.5 or less.
  • the ⁇ ratio of the insulating substrate is preferably larger than the ⁇ rate of the heating resistor.
  • the Z value of the insulating substrate is preferably 1 or less. Recognize. Similarly, in the case where the Z value of the heating resistor exceeds 1 as in the heater element of Example 10, the strength of the heating resistor is lowered, and as a result, the ON / OFF durability tends to be lowered. It can be seen that the Z value is preferably 1 or less.
  • the silicide may be a silicide other than W, and may contain two or more silicides.
  • Example 23 to 29 Heater elements having different ⁇ ratios of the insulating bases as shown in Table 3 were manufactured by a manufacturing method basically similar to the manufacturing method in the above-described embodiment. The ⁇ ratio was adjusted by adjusting the composition of the raw material powder and the firing conditions.
  • Example 26 is the same as Example 1
  • Example 28 is the same as Example 6
  • Example 29 is the same as Example 7.
  • the obtained heater element was evaluated for the fracture toughness value of the insulating substrate, the strength of the heater element, continuous conduction durability (oxidation resistance), and ONOFF durability.
  • the continuous energization durability (oxidation resistance) was evaluated by changing the temperature to 1350 ° C.
  • the ONOFF durability was evaluated by changing the maximum temperature to 1300 ° C. That is, a process of applying a voltage at a temperature rising rate reaching 1000 ° C. in 2 seconds, reaching the maximum temperature 1300 ° C. with the voltage as it is, and then stopping the voltage application and cooling the fan for 30 seconds is defined as one cycle. .
  • the results are shown in Table 4.
  • the ⁇ ratio of the insulating substrate is 2% or more, the ratio of the grain boundary phase in the insulating substrate is reduced, so that the oxidation resistance can be ensured.
  • the ⁇ ratio of the insulating substrate is 30% or less, a dense sintered body can be obtained, and the strength and durability against repeated temperature rise can be ensured.

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Abstract

　セラミックヒータ素子１０は、絶縁基体１０１と、該絶縁基体１０１に埋設される発熱抵抗体１０２とを有する。絶縁基体１０１は、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを主相とし、希土類元素を含有する粒界相と、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物とを有する。発熱抵抗体１０２は、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる導電性化合物を主相とし、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンと、希土類元素を含有する粒界相とを有する。

Description

セラミックヒータ素子、セラミックヒータ、およびグロープラグ
　本発明は、セラミックヒータ素子、セラミックヒータ、およびグロープラグに関する。
　従来、ディーゼル機関の始動促進用のグロープラグ、バーナーの着火用ヒータ、あるいはガスセンサの加熱用ヒータ等にヒータ素子が使用されている。ヒータ素子としては、例えば金属製シース内に耐熱絶縁粉末を充填するとともに、この耐熱絶縁粉末中にコイル状発熱体を埋設した金属製シースヒータ素子、また絶縁性セラミックからなる基体中に導電性セラミックからなる発熱抵抗体を埋設したセラミックヒータ素子が知られており、適宜選択して使用されている。
　セラミックヒータ素子における基体としては、例えば窒化珪素を主相とし、その他に焼結性を向上させるための粒界相、熱膨張係数を発熱抵抗体の熱膨張係数に近づけ、熱応力に起因する亀裂の発生を抑制するための熱膨張係数調整材を有するものが知られている。粒界相としては、例えば希土類元素を含有するものが知られており、熱膨張係数調整材としては、例えばクロムの珪化物が知られている。
　一方、セラミックヒータ素子における発熱抵抗体としては、例えばＭｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種を主相とし、窒化珪素と、焼結性を向上させるための粒界相を有するものが知られている。粒界相としては、基体の粒界相と同様、例えば希土類元素を含有するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
　このようなセラミックヒータ素子には、より消費電力が少なく、また急速昇温性に優れることが求められている。消費電力を抑制するとともに急速昇温性を向上させる方法として、抵抗の異なる抵抗体を組み合わせる方法（例えば、特許文献２参照）、発熱させる位置の発熱材断面積を小さくする方法（例えば、特許文献３参照）等、構造面からの検討が行われている。
特開２００７－３３５３９７号公報 特許第３０４４６３２号明細書 特開２００６－２４３９４号公報
　しかし、抵抗の異なる抵抗体を組み合わせる方法は、製造に要する工数が増大し、製造コストが上昇しやすい。また、発熱材断面積を小さくする方法は、抵抗体の温度をいわば過剰に高くする必要があり、通電耐久性が低下するおそれがある。このように構造面からの改良には生産性や耐久性等の課題があることから、他の方法により消費電力を抑制するとともに急速昇温性を向上させることが求められている。
　また、セラミックヒータ素子には、上記した消費電力や急速昇温性に加えて、焼結性、耐熱性、高温での耐酸化性等についても良好であることが求められている。耐熱性、高温での耐酸化性を良好とするためには、例えば焼結助剤の減量が有効と考えられるが、焼結性が低下しやすく、緻密化させるためにはホットプレス焼成法を適用する必要がある。ホットプレス焼成法を適用した場合、製造に要する工数が増大し、製造コストが上昇しやすい。一方、焼結助剤の増量によって焼結性を向上させることができ、製造に要する工数の低減が可能な常圧焼成法あるいはガス圧焼成法を適用できるようになるが、耐熱性、高温での耐酸化性が低下しやすい。
　本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、消費電力が少なく、急速昇温性に優れるとともに、生産性、高温特性等も良好なセラミックヒータ素子を提供することを目的としている。また、本発明は、このようなセラミックヒータ素子を用いたセラミックヒータおよびグロープラグを提供することを目的としている。
　本発明のセラミックヒータ素子は、絶縁基体と、該絶縁基体に埋設される発熱抵抗体とを有している。絶縁基体は、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを主相とし、希土類元素を含有する粒界相と、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物とを有することを特徴としている。また、発熱抵抗体は、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる導電性化合物を主相とし、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンと、希土類元素を含有する粒界相とを有することを特徴としている。
　本発明のセラミックヒータは、セラミックヒータ素子と、該セラミックヒータ素子を先端部が突出するように内部に保持する金属外筒とを有するセラミックヒータであって、該セラミックヒータ素子が上記した本発明のセラミックヒータ素子であることを特徴としている。
　本発明のグロープラグは、セラミックヒータと、該セラミックヒータの後端部を内部に保持する筒状の主体金具とを備えるグロープラグであって、該セラミックヒータが上記した本発明のセラミックヒータであることを特徴としている。
　本発明のセラミックヒータ素子によれば、絶縁基体および発熱抵抗体の組成を特定組成とすることで、消費電力が少なく、急速昇温性に優れるとともに、生産性、高温特性等も良好なものとすることができる。また、本発明のセラミックヒータ、グロープラグによれば、本発明のセラミックヒータ素子を有することで、消費電力が少なく、急速昇温性に優れるとともに、生産性、高温特性等も良好なものとすることができる。
本発明のセラミックヒータ素子を有するグロープラグの一例を示す断面図。 焼成によりヒータ素子となる素子成形体の分解斜視図。 図２に示す素子成形体の製造方法を示す図。
　以下、本発明の実施形態について説明する。
　図１は、本発明のセラミックヒータ素子（以下、単にヒータ素子という）を有するグロープラグの一例を示したものである。ここで、図１（ａ）は、グロープラグ全体の縦断面図であり、図１（ｂ）は、そのセラミックヒータ素子部分の断面図である。
　グロープラグ１は、セラミックヒータ２と、このセラミックヒータ２の後端部を内部に保持する筒状の主体金具３とを有している。主体金具３の外周面には、図示しないエンジンブロックにグロープラグ１を固定する取付部としてのねじ部３１が形成されている。また、主体金具３の内部には、後端側からセラミックヒータ２に電力を供給するための金属軸４が主体金具３と絶縁状態で配置されている。金属軸４の後端側外周面と主体金具３の内周面との間には、絶縁性素材からなる絶縁ブッシュ５が配置されている。さらにその先端側には主体金具３の内部の気密性の向上を実現すべく、主体金具３の内孔、金属軸４及び絶縁ブッシュ５の３部材に当接する形でゴム等の絶縁性素材からなるＯリング６が配置されている。
　金属軸４の後端部は主体金具３の後方に延出され、この延出部に絶縁ブッシュ５を介して端子金具８がはめ込まれている。端子金具８は、周方向の加締め部８ａにより、金属軸４の外周面に導通状態で固定されている。
　セラミックヒータ２は、本発明のヒータ素子１０と、このヒータ素子１０を先端部が突出するように内部に保持する金属外筒１１とを有している。主体金具３と金属外筒１１とは、例えば金属外筒１１の後端部の小径部１１ｓが主体金具３の内孔先端に圧入されるとともに中央部の大径部１１ｂと主体金具３の先端部とが全周レーザー溶接されて固定されている。
　本発明のヒータ素子１０は、絶縁基体１０１中に発熱抵抗体１０２が埋設された棒状の形態を有している。発熱抵抗体１０２は、ヒータ素子１０の先端側に配置されるＵ字状を有する発熱部１０３と、この両端部に接続され、ヒータ素子１０の軸線ＣＬ１方向に沿って延伸される一対の直線状のリード部１０４とを有している。一方のリード部１０４は径方向へ突設された接地用通電端子部１２により金属外筒１１を介して主体金具３に電気的に接続されている。他方のリード部１０４は同様に突設された電源側通電端子部１３が、ヒータ素子１０の後端部に嵌合された金属製のリング１４と電気的に接続されている。このリング１４は溶接等により、金属軸４の先端部に固定され電気的に接続されており、これにより、ヒータ素子１０へ電力が供給される構成となる。
　本発明のヒータ素子１０は、絶縁基体１０１が、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを主相とし、さらに希土類元素を含有する粒界相と、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物とを有することを特徴としている。また、発熱抵抗体１０２が、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる導電性化合物を主相とし、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンと、希土類元素を含有する粒界相とを有することを特徴としている。
　このようなものによれば、絶縁基体１０１の主相および発熱抵抗体１０２の絶縁成分がサイアロンからなるために、消費電力を抑制し、また急速昇温性を向上させることができる。すなわち、サイアロンは窒化珪素に比べて熱伝導率が小さいことから、ヒータ素子１０の発熱がこのヒータ素子１０を固定するための他の部材に逃げることを抑制することができる。結果として、効率的に加熱を行うことができ、消費電力を抑制し、また急速昇温性を向上させることができる。
　従来のように絶縁基体１０１の主相等を窒化珪素とした場合、窒化珪素の熱伝導率が高いことから、効率的に加熱することができず、消費電力が大きく、急速昇温性も悪くなってしまう。また、低コスト化に優位な常圧焼成法あるいはガス圧焼成法を適用するためには、焼結性、特に緻密さを向上させるための焼結助剤を多量に添加する必要があり、耐酸化性が低下しやすい。反対に耐酸化性を重視して焼結助剤を減量すると、焼結性が低下して強度が低下する。耐酸化性と焼結性とを両立させるためには、ホットプレス焼成を適用することが有効であるが、製造に要する工数が増大し、ひいては製造コストが上昇する。なお参考値であるが、室温における熱伝導率は窒化珪素が３０～１００Ｗ／ｍＫでありサイアロンは１０～２０Ｗ／ｍＫである。
　絶縁基体１０１の主相等をサイアロンとすることで、耐酸化性と焼結性とを両立させつつ、生産性も良好とすることができる。また、絶縁基体１０１の主相および発熱抵抗体１０２の絶縁成分の双方をサイアロンとすることで、絶縁基体１０１および発熱抵抗体１０２の双方の焼結挙動、熱収縮を合わせることができる。したがって、製造時、特に焼結時においては、発熱抵抗体１０２の切断、破損や、絶縁基体１０１と発熱抵抗体１０２との界面における剥離等の発生を抑制することができる。また、使用時においては、繰り返しの昇温に対する耐久性を向上させることができる。特に、絶縁基体１０１が、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物を有することで、絶縁基体１０１の熱膨張率が発熱抵抗体１０２の熱膨張率に近づき、繰り返しの昇温に対する耐久性が向上する。
　以下、絶縁基体１０１、発熱抵抗体１０２について具体的に説明する。
　絶縁基体１０１は、上記したように、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを主相とするものである。なお、主相とは、構成相中、最も質量の多い相を意味する。一方、発熱抵抗体１０２もまた、同様のサイアロンを有して構成される。
　サイアロンはＳｉ３Ｎ４の格子内に助剤成分が固溶したものであり、組成式Ｓｉ６－ｚＡｌｚＯｚＮ８－ｚ（０＜Ｚ≦４．２）で示されるβ－サイアロンと、組成式Ｍｘ（Ｓｉ，Ａｌ）１２（Ｏ，Ｎ）１６（０＜Ｘ≦２、ＭはＬｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ，Ｒ（ＲはＬａ，Ｃｅを除く希土類元素））で示されるα－サイアロンが存在する。
　これらのサイアロンの焼結では、まず焼結助剤を主成分とする液相が生成し、緻密化が促進される。その後、焼結の後期段階で粒界相成分がＳｉ３Ｎ４の格子内に取り込まれる。その結果、通常の窒化珪素と比較して、粒界相が少なく、高温での耐酸化性に優れたものとなる。
　β－サイアロンは、窒化珪素と同様に針状粒子が複雑に絡み合った組織であるために高い強度、靭性を得ることができる。一方、α－サイアロンは、等軸状の粒子形状であるため靭性は低くなるが、β－サイアロンと比較して高い硬度を得ることができる。また、α－サイアロンは生成する際に、粒界相成分のＡｌだけでなくＹｂ等（Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ，Ｒ（ＲはＬａ，Ｃｅを除く希土類元素）も同時に粒内に固溶していく。そのため、α－サイアロンを生成させることによって、粒界相がより少なくなり、耐酸化性が向上する。しかし、α－サイアロンのみであると、焼結中に粒界相成分がサイアロン内に取り込まれ、ほとんどなくなってしまうために、緻密な焼結体を得ることができない。従って、β－サイアロン粒子とα－サイアロン粒子とを同時に生成させることにより、焼結性に優れ、耐酸化性および強度に優れたものを得ることができる。
　絶縁基体１０１のサイアロン（β－サイアロンおよびα－サイアロン）におけるα－サイアロンの割合（α率）は必ずしも制限されるものではないが、α率が低いと、粒界相の割合が多くなるために耐酸化性が低下しやすいことから、２％以上が好ましい。一方、α率が高いと、焼結中に粒界相成分がサイアロン内に取り込まれ、ほとんどなくなってしまうために、緻密な焼結体を得ることができない。その結果、強度、繰り返しの昇温に対する耐久性が低下しやすいことから、６０％以下が好ましい。強度、繰り返しの昇温に対する耐久性をより良好にする観点から、α率は５０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましい。
　また、絶縁基体１０１は発熱抵抗体１０２の外側に配置され、発熱抵抗体１０２に比べて高い耐酸化性が求められることから、ヒータ素子１０の全体における強度等と耐酸化性とを両立させる観点から、絶縁基体１０１におけるα率は発熱抵抗体１０２におけるα率よりも高いことが好ましく、具体的には上記したような２～５０％の範囲内、より好ましくは２～３０％の範囲内で発熱抵抗体１０２におけるα率よりも高いことが好ましい。
　なお、α率は、Ｘ線回折図におけるβ－サイアロンの（１０１）面ピーク強度をβ１、（２１０）面ピーク強度をβ２、α－サイアロンの（１０２）面ピーク強度をα１、（２１０）面ピーク強度をα２とした時に、（α１＋α２）／（β１＋β２＋α１＋α２）で算出されるものである。
　絶縁基体１０１におけるβ－サイアロン中のアルミナの固溶量を表すＺ値についても、必ずしも制限されないが、十分な焼結性を得る観点から、０．１以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。また、Ｚ値が大きくなると、アルミナの固溶量が増加するために、アルミナの性質に近づいて安定になり、また焼結性も良好となるが、β－サイアロン自体の強度が低下し、繰り返しの昇温に対する耐久性等が低下することから、１．３以下が好ましく、１．０以下がより好ましく、特に０．８以下が好ましい。
　なお、Ｚ値は、Ｘ線回折測定により測定されるサイアロン相中のβ－サイアロンのａ軸格子定数と、β－窒化珪素のａ軸格子定数（７．６０４４２Å）の差から算出されるものである（算出方法は、例えばＷＯ　０２／４４１０４公報、第２８頁参照）。
　絶縁基体１０１における粒界相は、焼結を促進させるために添加された焼結助剤が液相化し、サイアロン（粒子）の生成、再配列、粒成長に寄与した後、冷却時に固化してガラスあるいは結晶相として生成したものである。この粒界相は、希土類元素を含有するものであり、具体的にはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種以上を含有するものである。これらの中でも、粒界相の結晶化を促進し、高温強度を向上することができ、またα率の調整も容易なことから、Ｓｃ、Ｙ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましく、特に、Ｙ、Ｅｒ、およびＹｂから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
　絶縁基体１０１中の粒界相が占める割合は必ずしも制限されるものではないが、焼結助剤が少なく粒界相の割合が少なく構成されたものは、焼結時の液相量が不足するために焼結性が低下し、また粒界相部分に微小な空孔が生じるために強度が低下する傾向がある。反対に、粒界相の割合が多い場合、粒界相の融点がサイアロンに比較して低いことから、耐熱性が低下しやすい。このため、粒界相が適切な割合で絶縁基体１０１中に構成されるよう、希土類元素の含有量は、絶縁基体１０１を作製する際の原料全体中、酸化物換算で１～１５質量％とすることが好ましい。
　絶縁基体１０１における珪化物は、絶縁基体１０１の熱膨張率を調整するために含有される。具体的には絶縁基体１０１の熱膨張率を発熱抵抗体１０２の熱膨張率に近づけ、繰り返しの昇温に対する耐久性を向上させるために含有される。この珪化物は、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物からなり、通常、絶縁基体１０１中に粒状に分散して含有されている。なお、この珪化物は、例えばＣｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、またはＦｅの酸化物等として添加され、焼結時に珪化されて生成するものである。
　珪化物の含有量は、絶縁基体１０１の全体中、０．１～８体積％が好ましい。珪化物の含有量を０．１体積％以上とすることで、絶縁基体１０１の熱膨張率を発熱抵抗体１０２の熱膨張率に効果的に近づけることができ、繰り返しの昇温に対する耐久性を向上させることができる。また、８体積％以下とすることで、珪化物の過度な含有による強度の低下も抑制することができる。珪化物の含有量は、繰り返しの昇温に対する耐久性、強度を両立させる観点から、０．５～４体積％が好ましく、０．５～３体積％がより好ましい。
　なお、珪化物の体積分率は、絶縁基体１０１の断面を鏡面研磨し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって断面画像を取り込んで画像解析によって粒子の面積率として算出し、この面積率から理論体積率を擬似的に算出して求めることができる。
　一方、発熱抵抗体１０２は、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる導電性化合物を主相とするものである。このような導電性化合物を主相とすることで、１２００℃以上の高温条件下での使用にも十分な耐熱性とすることができる。導電性化合物としては、特にＷＣ、ＷＳｉ２、ＭｏＳｉ２が好適なものとして挙げられる。
　導電性化合物の含有量は必ずしも限定されるものではないが、発熱抵抗体１０２の全体中、１５～３５体積％が好ましい。導電性化合物の含有量を１５体積％以上とすることで、導電率が低くなりすぎることによる発熱量の低下等を抑制することができる。また、導電性化合物の含有量を３５体積％以下とすることで、例えば導電率が高くなりすぎることによる発熱量の低下等を抑制することができ、また焼成により十分に緻密化させることができ、絶縁基体１０１との熱膨張差も低減できる。導電性化合物の含有量は、発熱抵抗体１０２の全体中、２０～３０体積％がより好ましい。
　発熱抵抗体１０２は、絶縁成分として、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを有する。絶縁基体１０１の主相と同様に、発熱抵抗体１０２の絶縁成分についてもβ－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンとすることで、両者の焼結挙動、熱収縮を合わせることができ、焼結時の発熱抵抗体１０２の切断、破損や、絶縁基体１０１と抵抗体１０２との界面における剥離等の発生を抑制し、また繰り返しの昇温に対する耐久性も向上させることができる。
　発熱抵抗体１０２のサイアロン（β－サイアロンおよびα－サイアロン）におけるα－サイアロンの割合（α率）は必ずしも制限されないが、α率が高いと、焼結性が低下するために密度が低下し、強度、繰り返しの昇温に対する耐久性が低下しやすいことから、６０％以下が好ましい。強度、繰り返しの昇温に対する耐久性をより良好にする観点から、α率は５０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、特に５％以下が好ましい。なお、発熱抵抗体１０２については、絶縁基体１０１の内部に埋設されるものであり、絶縁基体１０１のような耐酸化性は求められないことから、α率は低くてもよく、０％であってもよい。
　また、既に説明したように、発熱抵抗体１０２は絶縁基体１０１に埋設され、絶縁基体１０１のような耐酸化性は要求されず、かえって強度等を重視することが好ましいことから、発熱抵抗体１０２におけるα率は絶縁基体１０１におけるα率よりも低いことが好ましく、具体的には上記したような６０％以下の範囲内、より好ましくは５０％以下の範囲内、さらに好ましくは１０％以下の範囲内で絶縁基体１０１におけるα率よりも低いことが好ましい。
　発熱抵抗体１０２におけるβ－サイアロン中のＺ値についても、必ずしも制限されないが、十分な焼結性を得る観点から、０．１以上が好ましい。また、Ｚ値が大きくなると、アルミナの固溶量が増加するために、アルミナの性質に近づいて安定になり、また焼結性も良好となるが、β－サイアロン自体の強度が低下し、繰り返しの昇温に対する耐久性が低下することから、１．３以下が好ましく、１．０以下がより好ましく、特に０．７以下が好ましい。
　発熱抵抗体１０２における粒界相についても、絶縁基体１０１における粒界相と同様、焼結を促進させるために添加された焼結助剤が液相化し、サイアロン（粒子）の生成、再配列、粒成長に寄与した後、冷却時に固化してガラスあるいは結晶相として生成したものである。この粒界相についても、少なくとも希土類元素を含有するものであり、具体的にはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種以上を含有するものである。これらの中でも、粒界相の結晶化を促進し、高温強度を向上することができ、またα率の調整も容易なことから、Ｓｃ、Ｙ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましく、特に、Ｙ、Ｅｒ、およびＹｂから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
　発熱抵抗体１０２中の粒界相が占める割合についても必ずしも制限されるものではないが、絶縁基体１０１に関する観点と同様に、希土類元素の含有量は、発熱抵抗体１０２を作製する際の原料全体中、酸化物換算で１～１５質量％とすることが好ましい。
　上記したヒータ素子１０は、例えば以下のようにして製造することができる。
　図２は、焼成によりヒータ素子１０となる素子成形体１０ａを示す分解斜視図である。素子成形体１０ａは、焼成により発熱抵抗体１０２となる抵抗体成形部１０２ａと、焼成により絶縁基体１０１となる絶縁基体成形部１０１ａとを有する。
　抵抗体成形部１０２ａの作製は、導電性化合物粉末として、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる粉末、サイアロンの構成元素を含む粉末（サイアロン構成粉末）として、窒化珪素粉末、アルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末等、焼結助剤として、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種または２種以上の希土類元素の酸化物粉末を配合し、湿式混合する。
　導電性化合物粉末としては、例えばＷＣ、ＷＳｉ２、ＭｏＳｉ２が好適なものとして挙げられる。また、焼結助剤としては、Ｓｃ、Ｙ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種または２種以上の希土類元素の酸化物粉末が好適なものとして挙げられる。原料粉末全体における各原料粉末の配合比は必ずしも限定されるものではないが、例えば導電性化合物粉末５５～７０質量％、サイアロン構成粉末２５～４０質量％、希土類酸化物粉末１～１５質量％が好ましい。また、各原料粉末としては、好ましくは平均粒径が５μｍ以下、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下のものが好ましい。
　湿式混合により得られたスラリー状の混合物はスプレードライにより乾燥、造粒させる。この乾燥により得られた粉末を混練ニーダー中、バインダを添加し、混練する。この混練物を射出成形機により、図２に示すような立体のＵ字状に形成し、焼成により発熱抵抗体１０２となる抵抗体成形部１０２ａを作製する。
　一方、絶縁基体成形部１０１ａの作製は、サイアロン構成粉末として、窒化珪素粉末、アルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末等、珪化物用粉末として、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の元素の化合物粉末、例えば酸化物粉末、焼結助剤として、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種または２種以上の希土類元素の酸化物粉末を配合し、湿式粉砕混合した後、バインダを加え、スプレードライにより絶縁基体粉末を得る。この絶縁基体粉末を所定の金型を有する金型装置を用いてプレス成形することにより、図２に示すような抵抗体成形部１０２ａの一方の側面（例えば、図中、下方側面）を覆う半割絶縁基体成形部１０１ａを作製する。なお、この半割絶縁基体成形部１０１ａには、抵抗体成形部１０２ａに対応した形状の凹部１０５ａが形成される。
　焼結助剤としては、Ｓｃ、Ｙ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種または２種以上の希土類元素の酸化物粉末が好適なものとして挙げられる。原料粉末全体における各原料粉末の配合比は必ずしも限定されるものではないが、例えばサイアロン構成粉末８５～９７質量％、珪化物用粉末０．５～５質量％、希土類酸化物粉末１～１５質量％が好ましい。また、各原料粉末としては、好ましくは平均粒径が５μｍ以下、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下のものが好ましい。
　次いで、図３に示すように、上記した半割絶縁基体成形部１０１ａを金型２１に収容し、その凹部１０５ａ上に抵抗体成形部１０２ａを設置する。そして、この半割絶縁基体成形部１０１ａが収容された金型２１内に、その成形に用いられた絶縁基体粉末と同様の絶縁基体粉末を充填し、一対のパンチ２２によってプレス成形することにより他の半割絶縁基体成形部１０１ａを成形すると同時に一体化し、焼成によりヒータ素子１０となる素子成形体１０ａを作製する。
　この素子成形体１０ａに対して、バインダ成分を除去するために６００～８００℃程度で仮焼を行う。この仮焼が行われた素子成形体１０ａには、必要に応じて冷間静水圧プレス（ＣＩＰ）を行う。冷間静水圧プレス（ＣＩＰ）は、例えば素子成形体１０ａをゴム製のチューブ内に封入し、これに油や水等の液状成形媒体により静水圧を印加することにより行う。
　その後、素子成形体１０ａに対して焼成を行う。焼成には、常圧焼成法、ガス圧焼成法、ＨＩＰ法、ホットプレス法等を適用することができる。これらの中でも、常圧焼成法は、大量に処理可能で、安価であることから、非常に有用である。常圧焼成法は、例えば１５００～１８００℃において、０．１ＭＰａの常圧の非酸化雰囲気下、好ましくは窒素分圧０．０５ＭＰａ以上で焼成を行うものである。
　また、ガス圧焼成法は、１５００～１９５０℃において、０．１～１ＭＰａのガス圧の非酸化雰囲気下、好ましくは窒素分圧０．０５ＭＰａ以上で焼成を行うものである。ＨＩＰ法は、常圧焼成あるいはガス圧焼成で１次焼成を行った後に、１４５０～１９００℃において、１～２００ＭＰａのガス圧の窒素雰囲気下、好ましくは窒素分圧０．０５ＭＰａ以上で焼成（２次焼成）を行うものである。ホットプレス法は、１４５０～１９００℃において、ホットプレス圧力１０～５０ＭＰａの１軸加圧条件下、０．１～１ＭＰａの非酸化雰囲気下、好ましくは窒素分圧０．０５ＭＰａ以上で焼成を行うものである。
　なお、絶縁基体１０１、発熱抵抗体１０２のサイアロンにおけるα率、Ｚ値は、各原料粉末の配合割合、焼成温度等を上記範囲内で適宜調整して行うことができる。例えば、α率の調整は、主として焼結助剤により行うことができ、例えば焼結助剤として、Ｓｃ、Ｙ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる少なくとも１種の元素の希土類酸化物粉末、Ａｌ２Ｏ３粉末、ＡｌＮ粉末を用い、その添加量を調整することにより好適に行うことができる。より詳しくは、Ｓｉ３Ｎ４、Ｓｉ３Ｎ４表面のＳｉＯ２、希土類酸化物、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、その他の焼結助剤からの全Ｓｉ量、全Ａｌ量、全Ｏ量、全Ｎ量、全希土類元素量のバランスにより調整することができる。一般に、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮの比を大きくすると、α率を小さくすることができ、逆にＡｌ２Ｏ３／ＡｌＮの比を小さくすると、α率を大きくすることができる。
　また、Ｚ値の調整は、例えば用いる原料中のＡｌ２Ｏ３とＡｌＮの含有量の比や、原料全体に対するＡｌ２Ｏ３とＡｌＮの合計割合を増減することで調整できる。一般に、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮの比を大きく、またＡｌ２Ｏ３とＡｌＮの合計割合を少なくすると、Ｚ値を小さくすることができ、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮの比を小さく、またＡｌ２Ｏ３とＡｌＮの合計割合を大きくすると、Ｚ値を大きくすることができる。
　このようにして得られた焼成物は、さらに研磨等を行って所定の外形に仕上げることで、絶縁基体１０１中に発熱抵抗体１０２が埋設されるとともに、絶縁基体１０１および発熱抵抗体１０２の組成が所定組成とされたヒータ素子１０を得ることができる。
　次に、実施例を参照してより具体的に説明する。
（実施例１～２２、比較例１～５）
　導電性化合物粉末として、ＷＣ、ＷＳｉ２、ＭｏＳｉ２、およびＴｉＮから選ばれる１種または２種、サイアロン構成粉末として、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３、およびＡｌＮ、焼結助剤として、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、およびＹｂ２Ｏ３から選ばれる１種または２種、その他にＳｉＯ２をそれぞれ平均粒径０．５～１μｍとして配合し、ボールミルで２４時間湿式混合した。なお、それぞれの原料粉末の組成は、表１に示すように導電性化合物の体積分率が２４～２８体積％となるように調整している。
　一例として、実施例１の発熱抵抗体粉末の調製には、導電性化合物粉末としてのＷＣ粉末のほかに、Ｓｉ３Ｎ４、Ｙｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＳｉＯ２粉末を用いた。Ｙｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＳｉＯ２は焼結助剤として働き、焼成中にＳｉ３Ｎ４内に固溶することによりサイアロンが生成する。Ａｌ成分としてＡｌ２Ｏ３のほかにＡｌＮを加えることにより、サイアロンとなりやすくなる。
　実施例１０のようにＺ値を高めにするには、Ａｌ２Ｏ３およびＡｌＮを多め（質量比で、Ｓｉ３Ｎ４を１００としたときに、合量で１５～３０程度）、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を０．５～１０程度に配合するとよい。比較例１のようにＺ値を０とするには、ＡｌＮを含まずＡｌ成分はＡｌ２Ｏ３のみ、もしくはＡｌ成分をゼロとし、Ｓｉ３Ｎ４に対してＡｌ量を少なく（質量比で、Ｓｉ３Ｎ４を１００としたときに、Ａｌ２Ｏ３換算で３以下程度）する。実施例８のようにαサイアロンを生成させるためには、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を小さくすればよい（２以下）。Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を小さくすればするほど、α率を高めることができる。
　湿式混合により得られたスラリー状の混合物をスプレードライにより乾燥させた後、この乾燥により得られた粉末を混練ニーダー中、バインダを添加し、８時間混練した。さらに、混練物を射出成形機により、立体のＵ字状に形成し、焼成により発熱抵抗体となる抵抗体成形部を作製した。
　別途、絶縁基体粉末として、Ｓｉ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３、およびＡｌＮ、熱膨張係数調整材（珪化物用粉末等）として、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＳｉ２、ＷＯ３、ＷＳｉ２、ＭｏＯ２、ＭｏＳｉ２、Ｖ２Ｏ５、ＶＳｉ２から選ばれる１種または２種、焼結助剤として、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、およびＹｂ２Ｏ３から選ばれる１種または２種を配合し、ボールミルで４０時間湿式混合した後、バインダを加え、スプレードライにより混合粉末を得た。
　なお、比較例１のようにＺ値を０にするには、ＡｌＮを含まずＡｌ成分はＡｌ２Ｏ３のみとし、原料全体に対してＡｌ量を少なく（Ａｌ２Ｏ３換算で３ｗｔ％以下程度）する。一方、実施例４のようにＺ値を高めにするには、Ａｌ２Ｏ３およびＡｌＮを多め（合量で１０～２０ｗｔ％程度）、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を０．５～１０程度に配合するとよい。実施例２のようにα率を０にするには、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を大きく（１～１０程度）とする。一方、実施例７のようにα率を高めにするには、Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を小さくする（２以下）。Ａｌ２Ｏ３／ＡｌＮ比を小さくすればするほど、α率を高めることができる。
　この混合粉末を、抵抗体成形部を収容するように一対の絶縁基体成形部を嵌め合わせた後、金型に収容して一対のパンチによりプレス成形して素子成形体とした。さらに、素子成形体に対して、バインダ成分を除去するために、窒素雰囲気中、６００℃で仮焼を行い、さらに冷間静水圧プレス（ＣＩＰ）により２０～１５０ＭＰａの圧力で加圧を行った。
　さらに、冷間静水圧プレス（ＣＩＰ）が施された素子成形体に対して、０．１ＭＰａの窒素雰囲気中、１７５０℃で２時間の常圧焼成を行った。このようにして、絶縁基体中に発熱抵抗体が埋設されたヒータ素子を製造した。
　このようにして得られたヒータ素子の絶縁基体、発熱抵抗体について、構成相の同定を行うとともに、α率、Ｚ値を求めた。構成相の同定は、Ｘ線回折測定により行い、α率、Ｚ値は、既に説明した方法により求めた。また、絶縁基体における珪化物の体積分率、発熱抵抗体における導電性化合物の体積分率を求めた。各体積分率は、ヒータ素子の断面を鏡面研磨し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって断面画像を取り込んで画像解析によって粒子の面積率として算出し、この面積率から理論体積率を擬似的に算出した。製造したサンプルとともにその測定結果を表１に示す。
　なお、実施例１の絶縁基体は、Ｙｂ２Ｏ３を５．５ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３を４．５ｗｔ％、ＡｌＮを５．５ｗｔ％、ＷＯ３を１．８ｗｔ％、残部をＳｉ３Ｎ４とした原料混合粉末（絶縁基体粉末）からなるものであり、α率は０．１５、Ｚ値は０．７である。また、実施例３の絶縁基体は、Ｙｂ２Ｏ３を５．５ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３を１１ｗｔ％、ＡｌＮを５．５ｗｔ％、ＷＯ３を１．８ｗｔ％、残部をＳｉ３Ｎ４とした原料混合粉末からなるものであり、α率は０、Ｚ値は１である。このようにＡｌ２Ｏ３とＡｌＮの配合比を適宜変更することでα率とＺ値の調整が可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　また、絶縁基体の破壊靭性値、ヒータ素子の強度、消費電力、急速昇温性、連続通電耐久性（耐酸化性）、ＯＮＯＦＦ耐久性について評価を行った。結果を表２に示す。
　なお、絶縁基体の破壊靭性値は、ＪＩＳ Ｒ １６０７に従って測定した。ヒータ素子の強度は、ＪＩＳ Ｒ １６０１に準じて３点曲げ強度を測定した。この際のスパンは１２ｍｍとし、クロスヘッド速度は０．５ｍｍ／分とした。また、消費電力は、１２００℃飽和時の消費電力を測定した。急速昇温性は、１１Ｖの直流電圧を印加し、ヒータ素子の先端部の温度が１０００℃に達するまでの時間を測定した。
　連続通電耐久性は、最高表面温度が１２５０℃または１３００℃になるように昇温させる連続通電試験を行った。そして、１０００時間の通電を行った後、まず抵抗値を測定し、試験前後での抵抗値変化を計測した。また、抵抗値測定後、ヒータ素子を軸方向に沿って切断し、鏡面研磨し、ＥＰＭＡにて発熱抵抗体近傍の焼結助剤成分（希土類元素、アルミニウム等）の移動（マイグレーション）の有無を観察した。この場合において、抵抗変化もなく、マイグレーションも無かった場合には「○」の評価を、抵抗変化はさほどなかったものの、マイグレーションがあった場合には「△」の評価を、抵抗値が１０％以上増大し、かつ、マイグレーションがあった場合には「×」の評価をした。
　耐酸化性は、大気雰囲気の加熱炉内に１２５０℃または１３００℃で５０時間放置し、放置前後の重量を測定し、酸化増量値を求めた。なお、酸化増量値は、放置後の重量と放置前の重量との差を表面積で除した値であり、１２５０℃の場合は０．３ｍｇ／ｃｍ２以下、１３００℃の場合は０．４ｍｇ／ｃｍ２以下であったときに、耐酸化性に優れるとして「○」と評価し、それらを超えていた場合は酸化が進行したものとして「表面酸化」と評価した。
　ＯＮＯＦＦ耐久性は、１０００℃まで２秒で達する昇温速度の電圧を印加し、そのままの電圧にて最高温度１２５０℃まで到達させ、その後に電圧印加を止めて３０秒間ファン冷却を行う工程を１サイクルとし、抵抗値が試験開始前の抵抗値に対して１０％以上変化するサイクル数を測定した。なお、表中、「◎」は１０万サイクルまで、「○」は２万サイクルまで、「△」は５００サイクルまで、抵抗値変化が１０％未満であったことを示す。なお、「×」は５００サイクル未満で断線したことを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１、２から明らかなように、絶縁基体および発熱抵抗体が窒化珪素を主相とする比較例１のヒータ素子は、消費電力が大きく、急速昇温性にも劣り、また耐酸化性も十分でないことがわかる。また、絶縁基体が所定の珪化物を有しない比較例２のヒータ素子は、絶縁基体と発熱抵抗体との熱膨張率が異なるために、ＯＮＯＦＦ耐久性が十分でないことがわかる。さらに、絶縁基体のみがサイアロンを主相とする比較例３のヒータ素子、発熱抵抗体の導電性化合物がＴｉＮである比較例４のヒータ素子、希土類元素を含有しない比較例５のヒータ素子については、焼成時に発熱抵抗体が切断され、または十分に緻密化しないことがわかる。
　これに対し、実施例のヒータ素子については、消費電力が抑制され、急速昇温性も良好であることがわかる。また、焼結性も良好であり、焼成時の発熱抵抗体の切断、破損や、絶縁基体と発熱抵抗体との界面における剥離等の発生も抑制されることがわかる。
　特に、実施例７、８のヒータ素子のように、絶縁基体または発熱抵抗体のα率が０．５を超える組成では、焼結中に粒界相成分がサイアロン内に取り込まれ、ほとんどなくなってしまうために、緻密な焼結体を得ることができない。その結果、強度、ＯＮＯＦＦ耐久性が低下しやすいことから、絶縁基体、発熱抵抗体のα率は０．５以下が好ましいことがわかる。また、実施例２～５のヒータ素子のように、絶縁基体のα率が０の場合、粒界相が多く残存し、耐酸化性が低下しやすいことから、絶縁基体のα率は０より大きいことが好ましく、５％以上がより好ましいことがわかる。さらに、実施例全体から、絶縁基体のα率は発熱抵抗体のα率よりも大きいことが好ましいことがわかる。
　また、実施例４のヒータ素子のように、絶縁基体のＺ値が１を超える場合、強度が低下し、ＯＮＯＦＦ耐久性が低下しやすいことから、絶縁基体のＺ値は１以下が好ましいことがわかる。同様に、実施例１０のヒータ素子のように、発熱抵抗体のＺ値が１を超える場合についても、発熱抵抗体の強度が低下し、結果としてＯＮＯＦＦ耐久性が低下しやすいことから、絶縁基体のＺ値は１以下が好ましいことがわかる。
　また、実施例１４のヒータ素子のように、希土類元素としてＬａを用いたものであっても十分な効果を得られるが、ＯＮＯＦＦ耐久性の観点からＹ、Ｙｂ、Ｅｒが好ましいことがわかる。また、ＯＮＯＦＦ耐久性及び耐酸化性の観点から希土類元素としてはＹｂ、Ｅｒがより好ましいことがわかる。さらに、実施例１３のヒータ素子のように、絶縁基体における珪化物の体積分率が５体積％以上となると強度が低下しやすいことから、例えば４体積％以下が好ましいことがわかる。さらに、実施例１５～２１のヒータ素子のように、珪化物としてはＷ以外の珪化物であってもよく、また２種以上の珪化物を含有してもよいことがわかる。
（実施例２３～２９）
　上記実施例における製造方法と基本的に同様の製造方法により、表３に示すような絶縁基体のα率が異なるヒータ素子を製造した。α率の調整は、原料粉末の組成および焼成条件の調整により行った。なお、実施例２６は実施例１と同一であり、実施例２８は実施例６と同一であり、実施例２９は実施例７と同一である。
　その後、得られたヒータ素子について、絶縁基体の破壊靭性値、ヒータ素子の強度、連続通電耐久性（耐酸化性）、ＯＮＯＦＦ耐久性について評価を行った。なお、連続通電耐久性（耐酸化性）は、温度を１３５０℃に変更して評価を行った。ＯＮＯＦＦ耐久性は、最高温度を１３００℃に変更して評価を行った。すなわち、１０００℃まで２秒で達する昇温速度の電圧を印加し、そのままの電圧にて最高温度１３００℃まで到達させ、その後に電圧印加を止めて３０秒間ファン冷却を行う工程を１サイクルとした。結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　絶縁基体のα率が２％以上の場合、絶縁基体における粒界相の割合が少なくなるために耐酸化性を確保できる。一方、絶縁基体のα率が３０％以下の場合、緻密な焼結体を得ることができ、強度、繰り返しの昇温に対する耐久性を確保できる。
　１…グロープラグ
　２…セラミックヒータ
　３…主体金具
　１０…セラミックヒータ素子（１０ａ…素子成形体）
　１１…金属外筒
　１０１…絶縁基体（１０１ａ…絶縁基体成形部）
　１０２…発熱抵抗体（１０２ａ…抵抗体成形部）

Claims (7)

  1. 　絶縁基体と、前記絶縁基体に埋設される発熱抵抗体とを有するセラミックヒータ素子であって、
    　前記絶縁基体は、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンを主相とし、希土類元素を含有する粒界相と、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、およびＦｅの中から選ばれる少なくとも１種の珪化物とを有し、
    　前記発熱抵抗体は、Ｍｏの珪化物、窒化物、および炭化物、ならびにＷの珪化物、窒化物、および炭化物の中から選ばれる少なくとも１種からなる導電性化合物を主相とし、β－サイアロンまたはβ－サイアロンとα－サイアロンとの混相サイアロンと、希土類元素を含有する粒界相とを有することを特徴とするセラミックヒータ素子。
  2. 　前記絶縁基体および前記発熱抵抗体のサイアロン相におけるα率は５０％以下であることを特徴とする請求項１記載のセラミックヒータ素子。
  3. 　前記絶縁基体のサイアロン相におけるα率は２％以上３０％以下であることを特徴とする請求項１または２記載のセラミックヒータ素子。
  4. 　前記絶縁基体および前記発熱抵抗体のβ－サイアロンのＺ値は０を超え１以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載のセラミックヒータ素子。
  5. 　前記絶縁基体に含まれる希土類元素は、Ｙ、Ｅｒ、およびＹｂから選ばれる少なくとも１種を含み、前記発熱抵抗体に含まれる希土類元素は、Ｙ、Ｅｒ、およびＹｂから選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載のセラミックヒータ素子。
  6. 　セラミックヒータ素子と、前記セラミックヒータ素子を先端部が突出するように内部に保持する金属外筒とを有するセラミックヒータであって、
    　前記セラミックヒータ素子が請求項１乃至５のいずれか１項記載のセラミックヒータ素子であることを特徴とするセラミックヒータ。
  7. 　セラミックヒータと、前記セラミックヒータの後端部を内部に保持する筒状の主体金具とを備えるグロープラグであって、
    　前記セラミックヒータが請求項６記載のセラミックヒータであることを特徴とするグロープラグ。
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