WO2011040555A1 - 遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１－ヘキセンの製造方法、エチレン系重合体の製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法 - Google Patents

遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１－ヘキセンの製造方法、エチレン系重合体の製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法 Download PDF

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康豊 川島
高広 日野
千田　太一
匡哉 谷本
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Definitions

  • the present invention relates to a transition metal complex, a process for producing the transition metal complex, a catalyst for trimerization, a process for producing 1-hexene, a process for producing an ethylene polymer, a substituted cyclopentadiene compound, and a process for producing the substituted cyclopentadiene compound It is about the method.
  • ⁇ -Olefin is an industrially important raw material monomer produced by ethylene oligomerization with a metal catalyst.
  • oligomerization of ethylene usually gives a mixture of ⁇ -olefins according to the Shultz-Flory distribution, the development of a catalyst system capable of producing selective ⁇ -olefins is very important industrially.
  • Patent Document 1 discloses that a half metallocene titanium complex represented by the formula (Cp-B (R) n Ar) TiR 1 3 is a selective ethylene trimerization catalyst component in the presence of an activation promoter component. Has been reported to work as.
  • an ethylene trimerization catalyst system using a half metallocene titanium complex in which a cyclopentadiene and a substituted aryl group are bonded with a similar carbon atom has a catalytic activity for producing 1-hexene at a high temperature condition of 80 ° C. It has been reported that the production selectivity of hexene is greatly reduced compared to the case of 30 ° C. (see Non-Patent Document 2).
  • An ethylene copolymer having a main chain having an ethylene unit and an alkyl side chain for example, ethyl branch, butyl branch, etc.
  • a linear low density polyethylene for example, a linear low density polyethylene
  • a catalyst for olefin polymerization It has been produced by copolymerizing ethylene and an ⁇ -olefin (eg, 1-butene, 1-hexene, etc.).
  • ethylene polymers with alkyl side chains are produced by tandem polymerization using ethylene oligomerization catalyst and olefin copolymerization catalyst in one reactor using only ethylene as a raw material monomer. How to do is being studied.
  • dimethylsilylene (tert-butylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) titanium dichloride as an olefin copolymerization catalyst
  • [1- (1-methyl-1-phenylethyl) -cyclopentadienyl] as an ethylene trimerization catalyst
  • a method for producing an ethylene-based polymer having a butyl branch by polymerizing ethylene has been proposed (non- (See Patent Documents 3 and 4).
  • Non-Patent Document 4 describes rac-dimethylsilylenebis (2-methylbenz [e] indenyl) zirconium dichloride as an olefin copolymerization catalyst and [1- (1-methyl-1-phenylethyl) -cyclohexane as an ethylene trimerization catalyst. It is described that an ethylene polymer having a low melting point can be obtained by polymerizing ethylene in the presence of an olefin polymerization catalyst obtained by contacting pentadienyl] titanium trichloride and MMAO as an activation promoter component. However, no examples of polymerization at temperatures exceeding 25 ° C. have been reported.
  • the problem to be solved by the present invention is that a transition metal complex serving as a catalyst component capable of efficiently and selectively producing 1-hexene by a trimerization reaction of ethylene even under high temperature conditions Is to provide.
  • a transition metal complex serving as an ethylene trimerization catalyst, ethylene is polymerized in the presence of an olefin polymerization catalyst obtained by contacting an olefin copolymerization catalyst and an activation co-catalyst component to form a butyl branch.
  • An object of the present invention is to provide a method for economically producing an ethylene-based polymer having a high temperature condition.
  • the first of the present invention relates to the transition metal complex represented by the general formula (1).
  • M 1 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent
  • —Si (R 12 ) 3 three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocar
  • At least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a halogen atom, the alkyl group, the alkoxy group, the aryl group, the aryloxy group, the aralkyl group, the aralkyloxy group, or the substituted silyl group.
  • R 5 and R 9 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group,
  • R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 two groups bonded to two adjacent carbon atoms are bonded to each other, and the two groups are bonded to each other.
  • Two carbon atoms may be combined to form a ring, and R 10 and R 11 may be combined to form a ring together with the silicon atom to which they are bonded.
  • the second aspect of the present invention relates to a trimerization catalyst obtained by bringing the transition metal complex into contact with an activation promoter component.
  • a third aspect of the present invention relates to a method for producing 1-hexene using a trimerization catalyst.
  • the fourth aspect of the present invention is a catalyst component for olefin polymerization, A trimerization catalyst component comprising a transition metal complex represented by the following general formula (1);
  • the present invention relates to a method for producing an ethylene polymer in which ethylene is polymerized in the presence of an olefin polymerization catalyst obtained by contacting an activation promoter component.
  • M 1 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent
  • —Si (R 12 ) 3 three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocar
  • R 5 and R 9 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group,
  • R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 two groups bonded to two adjacent carbon atoms are bonded to each other, and the two groups are bonded to each other.
  • Two carbon atoms may be combined to form a ring, and R 10 and R 11 may be combined to form a ring together with the silicon atom to which they are bonded.
  • a fifth aspect of the present invention is a transition metal complex represented by the general formula (1), a transition metal complex represented by the following general formula (1-2), and a general formula (1-3)
  • the present invention relates to a method for producing a transition metal complex.
  • R 22 , R 23 and R 24 are each independently a halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms optionally having a halogen atom as a substituent, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms optionally having a halogen atom as a substituent, And at least one of R 22 , R 23 , and R 24 is the alkyl group, the aryl group, or the aralkyl group. ]
  • R 25 , R 26 and R 27 are each independently a halogen atom, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; Or an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, wherein at least one of R 25 , R 26 and R 27 is the alkoxy group or the aryloxy group And the aralkyloxy group. ]
  • the sixth of the present invention is a substituted cyclopentadiene compound represented by the general formula (6-1),
  • R 28 , R 29 , R 30 and R 31 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the
  • R 32 and R 36 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the three R 12 is 1 to 20; A substituted silyl group represented by: Or —N (R 13 ) 2 (two R 13 each independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the two R 13 is 2 to 20) Represents a di
  • R 39 , R 40 , R 41 and R 42 each independently represents: Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and
  • R 43 and R 47 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the three R 12 is 1 to 20; A substituted silyl group represented by: Or —N (R 13 ) 2 (two R 13 each independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the two R 13 is 2 to 20) Represents a di
  • R 50 , R 51 , R 52 and R 53 each independently represent: Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and
  • R 61 , R 62 , R 63 and R 64 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom,
  • R 65 , R 66 , R 67 , R 68 and R 69 have the partial structural formula (14) Are methylphenyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, tetramethylphenyl, pentamethylphenyl, tert-butylphenyl, di-tert-butylphenyl, tert-butylmethylphenyl, di (tert-butyl) methylphenyl, anthracene, chlorophenyl, Dichlorophenyl, fluorophenyl, bis (trifluoromethyl) phenyl, R 70 and R 71 are each a methyl group Is Represents. ]
  • R 72 , R 73 , R 74 and R 75 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a
  • R 76 and R 80 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the three R 12 is 1 to 20; A substituted silyl group represented by: Or —N (R 13 ) 2 (two R 13 each independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the two R 13 is 2 to 20) Represents a
  • R 83 , R 84 , R 85 and R 86 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12
  • R 83 , R 84 , R 85 and R 86 are not all methyl groups at the same time.
  • R 87 , R 88 , R 89 , R 90 and R 91 are hydrogen atoms;
  • R 92 and R 93 represent a methyl group Is Represents. ]
  • the seventh aspect of the present invention relates to a method for producing substituted cyclopentadiene compounds represented by the above general formulas (6-1) to (6-6).
  • a transition metal complex suitable for a catalyst component capable of efficiently producing 1-hexene with high selectivity by a trimerization reaction of ethylene even under high temperature conditions Furthermore, ethylene is polymerized in the presence of an olefin polymerization catalyst obtained by contacting the olefin copolymerization catalyst and the activation cocatalyst using the transition metal complex as an ethylene trimerization catalyst to have a butyl branch.
  • a method for economically producing an ethylene-based polymer even under high temperature conditions can be provided.
  • FIG. 1 is a graph showing the time course of ethylene absorption in one example of the present invention.
  • FIG. 2 is a graph showing the time course of ethylene absorption in one example of the present invention.
  • FIG. 3 is a graph showing the time course of ethylene absorption in one example of the present invention.
  • FIG. 4 is a graph showing the time course of ethylene absorption in one example of the present invention.
  • FIG. 5 is a graph showing the time course of ethylene absorption in one example of the present invention.
  • the term “polymerization” includes not only homopolymerization but also copolymerization.
  • the term “substituent” includes a halogen atom constituting a compound or group.
  • the substituted cyclopentadiene compounds represented by the general formulas (6), (6-1) to (6-6) are isomers having different double bond positions on each cyclopentadienyl ring.
  • the substituted cyclopentadienyl compound represents any one of them or a mixture thereof.
  • Transition metal complex (1) (catalyst component for trimerization)>
  • the transition metal complex represented by the general formula (1) will be described in detail.
  • M 1 represents a Group 4 element in the periodic table of elements, and examples thereof include a titanium atom, a zirconium atom, and a hafnium atom. Among these, a titanium atom is preferable.
  • the halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a chlorine atom.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, Isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, amyl, n-hexyl, heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl Group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group and n-eicosyl group.
  • preferable alkyl groups are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, and an amyl group.
  • an alkyl group optionally having a halogen atom as a substituent means “may have a halogen atom as a substituent” means that some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom, and specific examples of the halogen atom are as described above.
  • the halogen atom is preferably in the range of 1 to 20 carbon atoms, and more preferably in the range of 1 to 10 carbon atoms.
  • Suitable alkyl groups having a halogen atom as a substituent include fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, tribromomethyl group , Fluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.
  • aryl groups are aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, and more preferred are phenyl groups.
  • “optionally having a halogen atom as a substituent” in “an aryl group optionally having a halogen atom as a substituent” means that a part or all of the hydrogen atoms in the aryl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom, and specific examples of the halogen atom are as described above.
  • the number of carbon atoms is preferably in the range of 6 to 20, and more preferably in the range of 6 to 10.
  • a particularly preferred aryl group having a halogen atom as a substituent is fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group. Etc. can be mentioned.
  • an aralkyl group optionally having a halogen atom as a substituent means that a part or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom, and specific examples of the halogen atom are as described above.
  • the number of carbon atoms is preferably in the range of 7 to 20, and more preferably in the range of 7 to 10.
  • alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, Isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, neopentyloxy group, n-hexyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group Group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, tridecyloxy group, tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, hexadecyloxy group, heptadecyloxy group, octadecyloxy group, nonadecyloxy
  • preferable alkoxy groups are those having 1 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include a methoxy group, an ethoxy group, and a tert-butoxy group.
  • “optionally having a halogen atom as a substituent” in “an alkoxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom, and specific examples of the halogen atom are as described above. In the case of having a halogen atom as a substituent, the range is preferably from 1 to 20 carbon atoms, and more preferably from 1 to 10.
  • alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms of the alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent include an ethoxy group, an n-propoxy group, and an isopropoxy group.
  • preferable alkoxy groups are those having 2 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include ethoxy groups and tert-butoxy groups.
  • “optionally having a halogen atom as a substituent” in “an alkoxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom, and specific examples of the halogen atom are as described above. In the case of having a halogen atom as a substituent, the range is preferably from 2 to 20 carbon atoms, more preferably from 2 to 10.
  • preferable aryloxy groups are aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, and 4-methylphenoxy group. it can.
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” in the “aryloxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group are partially or entirely. , May be replaced by a halogen atom, and specific examples of the halogen atom are as described above.
  • the number of carbon atoms is preferably in the range of 6 to 20, and more preferably in the range of 6 to 10.
  • aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent include a benzyloxy group, (2-methylphenyl) ) Methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethyl) Phenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group , (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethyl) Ph
  • a preferred aralkyloxy group is an aralkyloxy group having 7 to 10 carbon atoms, and more preferred is a benzyloxy group.
  • the “aralkyloxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are partially or entirely. , May be replaced by a halogen atom, and specific examples of the halogen atom are as described above.
  • the number of carbon atoms is preferably in the range of 7 to 20, and more preferably in the range of 7 to 10.
  • R 12 Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the three R 12 is 1 to 20; in certain substituted silyl group represented by), R 12 are each independently a hydrogen atom;.
  • an alkyl group (methyl group having 1 to 10 carbon atoms, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc.), aryl group Hydrocarbyl groups such as (phenyl groups); halogenated hydrocarbyl groups in which some or all of the hydrogen atoms in the hydrocarbyl group are replaced by halogen atoms Yes, the total number of three R 12 carbon atoms is in the range of 1-20.
  • the total number of carbon atoms of the three R 12 is preferably in the range of 3-18.
  • the substituted silyl group include a methyl silyl group, an ethyl silyl group, a phenyl silyl group, a hydrocarbyl group such as a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms, or A monosubstituted silyl group having one halogenated hydrocarbyl group; a dimethylsilyl group, a diethylsilyl group, a diphenylsilyl group, or a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms.
  • Disubstituted silyl groups having two hydrocarbyl groups and / or halogenated hydrocarbyl groups such as: trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-n-propylsilyl group, triisopropylsilyl group, tri-n-butylsilyl group , Tri-sec-butylsilyl group, tri-tert-butylsilane Group, tri-isobutylsilyl group, tert-butyl-dimethylsilyl group, tri-n-pentylsilyl group, tri-n-hexylsilyl group, tricyclohexylsilyl group, triphenylsilyl group, hydrocarbyl in these groups Examples thereof include a hydrocarbyl group such as a group in which part or all of the hydrogen atoms in the group are replaced with a halogen atom and / or a trisubstituted silyl group having three halogenated
  • a trisubstituted silyl group is preferable, and a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms are more preferable.
  • each R 13 independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in the two R 13 is 2 to 20).
  • each R 13 independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms of the two R 13 ranges from 2 to 20, A range of 10 is more preferred.
  • Such hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group are the same as those described as the hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group of the substituted silyl group.
  • these two R 13 may be bonded to each other and form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded.
  • disubstituted amino groups include dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-tert-butyl.
  • Amino group di-isobutylamino group, tert-butylisopropylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-octylamino group, di-n-decylamino group, diphenylamino group, bistrimethylsilylamino group, bis- tert-Butyldimethylsilylamino group, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, carbazolyl group, dihydroindolyl group, dihydroisoindolyl group, groups in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced by halogen atoms, etc. Is mentioned.
  • a dimethylamino group a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced with halogen atoms.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 groups bonded to two adjacent carbon atoms are bonded to each other, and may form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded.
  • R 10 and R 11 may be bonded together to form a ring together with the silicon atom to which they are bonded, and among R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 , Groups bonded to two adjacent carbon atoms may be bonded together to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded.
  • ring as used herein means a saturated or unsaturated hydrocarbyl ring substituted with a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms, a saturated or substituted hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsaturated silahydrocarbyl ring.
  • cyclopropane ring examples thereof include cyclopropane ring, cyclopropene ring, cyclobutane ring, cyclobutene ring, cyclopentane ring, cyclopentene ring, cyclohexane ring, cyclohexene ring, cycloheptane ring, cycloheptene ring, cyclooctane ring, cyclooctene ring, benzene ring.
  • Naphthalene ring, anthracene ring silacyclopropane ring, silacyclobutane ring, silacyclopentane ring, and silacyclohexane ring.
  • At least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a substituent other than hydrogen, preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include the partial structural formula (15)
  • At least one is a cyclopentadienyl partial structure having a substituent other than hydrogen, and examples thereof include the following partial structures.
  • a preferred cyclopentadienyl partial structure is tetramethylcyclopentadienyl and the like.
  • transition metal complex (1) among R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 , preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms. And an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms.
  • R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 represent the same meaning as described above.
  • R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 represent the same meaning as described above.
  • Phenyl methylphenyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, tetramethylphenyl, pentamethylphenyl, tert-butylphenyl, di-tert-butylphenyl, tert-butylmethylphenyl, di (tert-butyl) methylphenyl, naphthyl, anthracenyl, Chlorophenyl, dichlorophenyl, fluorophenyl, pentafluorophenyl, bis (trifluoromethyl) phenyl, methoxyphenyl
  • partial structures exemplified here preferred partial structures are phenyl, methylphenyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, and the like.
  • R 10 and R 11 in the transition metal complex (1) preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms.
  • Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, phenyl group, 4-methylphenyl group, 3-methyl group.
  • Examples thereof include a phenyl group, 2-methylphenyl group, naphthyl group, and benzyl group.
  • R 10 and R 11 are the partial structural formula (17)
  • R 10 is a methyl group
  • R 11 is an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms that may have a halogen atom as a substituent, or 6 carbon atoms that may have a halogen atom as a substituent.
  • aryl groups A partial structural formula, or R 10 and R 11 are the same, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent;
  • the structural formula is Specific examples include dimethylsilylene, diethylsilylene, ethylmethylsilylene, n-butylmethylsilylene, cyclohexylmethylsilylene, cyclotetramethylenesilylene, diphenylsilylene, methylphenylsilylene, and the like.
  • R 6 and R 8 preferably have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having 6 to 20 carbon atoms, R 10 and R 11 are A transition metal complex which is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent can be given.
  • transition metal complex (1) examples include the following complexes.
  • chlorinated titanium complexes such as chlorinated zirconium complexes in which “titanium” is replaced with “zirconium”, or chlorinated hafnium complexes in which “hafnium” is replaced, “chloride” is “fluoride” Fluorinated titanium complexes replaced with “bromide”, brominated titanium complexes replaced with “iodide”, titanium iodide complexes replaced with “iodide”, titanium hydride complexes replaced with “hydride”, “methyl” Alkylated titanium complexes such as methylated titanium complexes replaced with “phenyl”, arylated titanium complexes such as phenylated titanium complexes replaced with “phenyl”, aralkylated titanium complexes such as benzylated titanium complexes replaced with “benzyl”, “methoxides” ”Substituted titanium methoxyl
  • transition metal complex of the formula (1) [1-dimethylphenylsilyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl] titanium trichloride, [1-diethylphenylsilyl-2,3, 4,5-tetramethylcyclopentadienyl] titanium trichloride, [1-cyclotetramethylene (phenyl) silyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl] titanium trichloride, [1-ethylmethyl Phenylsilyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl] titanium trichloride, [1-n-butylmethylphenylsilyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl] titanium trichloride [1-methyldiphenylsilyl-2,3,4,5-tetramethylcyclo Ntadienyl] titanium trichloride, [1-cyclohexylmethyl
  • transition metal complex (1) is represented by, for example, the formula (6)
  • X 12 is independently a hydrogen atom, a halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or
  • transition metal compound (7) It can manufacture by the manufacturing method which has the process of making the transition metal compound (henceforth "transition metal compound (7)") shown by these react.
  • first reaction step the step of reacting the substituted cyclopentadiene compound (6) with a base in the presence of an amine compound
  • second reaction step the step of reacting the reaction product of the substituted cyclopentadiene compound (6) and the base is used as a transition metal compound.
  • second reaction step the step of reacting (7) may be referred to as “second reaction step”.
  • isomers different in the position of the double bond of the cyclopentadiene ring are the following structural isomers.
  • the substituent X 12 has the same definition as described above, and specific examples thereof include the same groups as those described for X 1 , X 2 and X 3 .
  • transition metal compound (7) examples include titanium halides such as titanium tetrachloride, titanium trichloride, titanium tetrabromide, titanium tetraiodide; tetrakis (dimethylamino) titanium, dichlorobis (dimethylamino) titanium, trichloro.
  • Amido titanium such as (dimethylamino) titanium and tetrakis (diethylamino) titanium; alkoxytitanium such as tetraisopropoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, dichlorodiisopropoxytitanium and trichloroisopropoxytitanium.
  • the compound etc. which replaced "titanium” of each of these compounds with "zirconium” or "hafnium” are mentioned.
  • the preferred transition metal compound (7) is titanium tetrachloride.
  • Examples of the base to be reacted with the substituted cyclopentadiene compound (6) in the first reaction step include, for example, methyl lithium, ethyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, lithium trimethylsilyl acetylide, lithium acetylide And organic alkali metal compounds represented by organic lithium compounds such as trimethylsilylmethyl lithium, vinyl lithium, phenyl lithium and allyl lithium.
  • the amount of the base used may be in the range of 0.5 to 5 mol per 1 mol of the substituted cyclopentadienyl compound (6).
  • an amine compound is used together with the organic alkali metal compound.
  • amine compounds include primary amine compounds such as methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, tert-butylamine, n-octylamine, n-decylamine, aniline, and ethylenediamine; Amine, diethylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, di-tert-butylamine, di-n-octylamine, di-n-decylamine, pyrrolidine, hexamethyldisilazane, diphenylamine, etc.
  • the amount of the amine compound used is preferably 10 mol or less, more preferably in the range of 0.5 to 10 mol, further preferably in the range of 1 to 5 mol, per mol of the organic alkali metal compound. .
  • the substituted cyclopentadiene compound (6) when the substituted cyclopentadiene compound (6) is reacted with a base, it is preferably reacted in the presence of a solvent.
  • a solvent when a solvent is used, after reacting the substituted cyclopentadiene compound (6) and the base in the solvent, the transition metal compound (7) is added to the reaction mixture, whereby the substituted cyclopentadiene compound (6) and The transition metal compound (7) can be further reacted with the base reactant.
  • a solid in the reaction mixture obtained by reacting the substituted cyclopentadiene compound (6) and the base, a solid may precipitate. In this case, a solvent is added until the precipitated solid is dissolved, or the precipitated solid is removed.
  • a transition metal compound (7) may be added after adding a solvent to the separated solid to dissolve or suspend it.
  • a 1st reaction process and a 2nd reaction process can also be implemented substantially simultaneously by adding a substituted cyclopentadiene compound (6), a base, and a transition metal compound (7) to this solvent simultaneously.
  • an inert solvent that does not significantly disturb the progress of the reaction related to these steps.
  • solvents include aromatic hydrocarbyl solvents such as benzene and toluene; aliphatic hydrocarbyl solvents such as hexane and heptane; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; hexa Amide solvents such as methylphosphoric amide and dimethylformamide; polar solvents such as acetonitrile, propionitrile, acetone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; non-protons such as halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene Examples of the solvent are exemplified. These solvents can be used alone or in admixane; aliphatic hydrocarbyl solvents such as hexane and
  • the amount of the transition metal compound (7) used is preferably in the range of 0.5 to 3 mol, more preferably in the range of 0.7 to 1.5 mol, per mol of the substituted cyclopentadiene compound (6).
  • the reaction temperature in the first reaction step and the second reaction step may be not less than ⁇ 100 ° C. and not more than the boiling point of the solvent, and is preferably in the range of ⁇ 80 to 100 ° C.
  • the produced transition metal complex (1) can be taken out from the reaction mixture obtained through the first reaction step and the second reaction step by various known purification methods. For example, after the first reaction step and the second reaction step, the produced precipitate is filtered off, the filtrate is concentrated to precipitate a transition metal complex, and the target transition metal complex ( 1) can be obtained.
  • the transition metal complex (1-2) is, for example, represented by the general formula (1-1) General formula (1-1)
  • M 6 represents an alkali metal
  • R 20 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent
  • M 7 represents an alkaline earth metal
  • R 21 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent
  • X 16 represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent
  • r is 1 or 2
  • the sum of r and s is 2.
  • transition metal complex (1-2) examples include alkylated titanium complexes, arylated titanium complexes, and aralkylated titanium complexes.
  • the substituents R 22 , R 23 and R 24 are defined as described above, and specific examples thereof include those similar to those exemplified for R 1. be able to.
  • halogenated transition metal complex (1-1) examples include chlorinated titanium complexes, fluorinated titanium complexes, brominated titanium complexes, and iodinated titanium complexes.
  • the substituents X 13 , X 14 and X 15 are defined as described above, and specific examples thereof are the same as those described for X 1 , X 2 and X 3 . Things can be mentioned.
  • M 6 represents an alkali metal in the periodic table of elements, and examples thereof include a lithium atom, a sodium atom, and a potassium atom. Among these, a lithium atom and a sodium atom are preferable, and a lithium atom is particularly preferable.
  • the substituent R 20 has the same definition as described above, and specific examples thereof include those similar to those described for R 1 . .
  • M 7 represents an alkaline earth metal in the periodic table of elements, and examples thereof include a magnesium atom, a calcium atom, and a strontium atom. Among these, a magnesium atom is preferable.
  • the substituent R 21 has the same definition as described above, and specific examples thereof include those similar to those described for R 1 .
  • the substituent X 16 has the same definition as described above, and specific examples thereof include those similar to those described for X 1 , X 2 and X 3. . .
  • r is 1 or 2
  • the sum of r and s is 2.
  • alkali metal compound (8) examples include methyl lithium, ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, n-pentyl lithium, neopentyl lithium, Alkyllithium such as amyllithium, n-hexyllithium, n-octyllithium, n-decyllithium, n-dodecyllithium, n-pentadecyllithium, n-eicosyllithium
  • the amount of the alkali metal compound (8) used is usually in the range of 2 to 10 mol times, preferably 1 to 3 mol times with respect to the halogenated transition metal complex (1-1).
  • alkaline earth metal compound (9) examples include dimethyl magnesium, diethyl magnesium, di-n-propyl magnesium, diisopropyl magnesium, di-n-butyl magnesium, di-sec-butyl magnesium, and di-tert-butyl magnesium.
  • Asymmetric organomagnesium compounds such as alkylaralkylmagnesium, alkylarylmagnesium and aralkylarylmagnesium
  • Benzylmagnesium chloride (2-methylphenyl) methylmagnesium chloride, (3-methylphenyl) methylmagnesium chloride, (4-methylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,3-dimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,4 -Dimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,5-dimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,6-dimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (3,4-dimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,3,4) -Trimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,3,5-trimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,3,6-trimethylphenyl) methylmagnesium chloride (3,4,5-trimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,4,6-trimethylphenyl) methylmagnesium chloride, (2,3,4,5-tetramethylphen
  • the amount of the alkaline earth metal compound (9) used is usually in the range of 1 to 10 mol times, preferably 1 to 3 mol times based on the halogenated transition metal complex (1-1).
  • the reaction method is not particularly limited. Usually, an organic alkali metal compound or an organic alkaline earth metal compound is added to the halogenated transition metal complex (1-1) in the presence of a solvent in an inert atmosphere such as nitrogen or argon. Is preferably implemented.
  • Examples of the solvent during the reaction include aliphatic hydrocarbyl such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbyl such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and ethylbenzene, chloroform, methylene dichloride, and monochlorobenzene.
  • halogenated hydrocarbyl such as dichlorobenzene, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, methyl-t-butyl ether, tetrahydrofuran and the like.
  • These solvents are each used alone or in admixture of two or more, and the amount used is usually in the range of 1 to 200 times by weight, preferably 3 to 30 times by weight with respect to the halogenated transition metal complex (1-1). It is.
  • the temperature during the reaction is usually from ⁇ 100 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably from ⁇ 80 ° C. to 30 ° C.
  • the reaction time is not particularly limited.
  • the target transition metal complex (1-2) can be obtained by filtering insoluble matters and then collecting the crystals obtained by concentration.
  • the transition metal complex (1-3) is represented by, for example, the general formula (1-1) General formula (1-1)
  • transition metal complex (1-3) examples include alkoxylated titanium complexes, aryloxylated titanium complexes, and aralkyloxylated titanium complexes.
  • the substituents R 25 , R 26 and R 27 are defined as described above, and specific examples thereof include those similar to those exemplified for R 1. Can do.
  • halogenated transition metal complex (1-1) examples include chlorinated titanium complexes, fluorinated titanium complexes, brominated titanium complexes, and iodinated titanium complexes.
  • the substituents X 13 , X 14 and X 15 are defined as described above, and specific examples thereof are the same as those described for X 1 , X 2 and X 3 . Things can be mentioned.
  • M 6 represents an alkali metal in the periodic table of elements, and examples thereof include a lithium atom, a sodium atom, and a potassium atom. Among these, a lithium atom and a sodium atom are preferable, and a lithium atom is particularly preferable.
  • the substituent R 20 has the same definition as described above, and specific examples thereof include those similar to those described for R 1 .
  • M 7 represents an alkaline earth metal in the periodic table of elements, and examples thereof include a magnesium atom, a calcium atom, and a strontium atom. Among these, a magnesium atom is preferable.
  • the substituent R 21 has the same definition as described above, and specific examples thereof include those similar to those described for R 1 .
  • the substituent X 16 has the same definition as described above, and specific examples thereof are the same as those described for X 1 , X 2 and X 3. .
  • r is 1 or 2
  • the sum of r and s is 2.
  • the transition metal complex (1-3) is obtained by reacting a transition metal complex (1-1) with an alkali metal compound (10) (hereinafter referred to as method A-1) or an alkaline earth metal compound (11). It can be produced by a method of acting (hereinafter referred to as A-2 method).
  • the transition metal complex (1-3) can also be produced by a method in which an alcohol compound is allowed to act on the transition metal complex (1-1) in the presence of a base (hereinafter referred to as “Method B”).
  • alkali metal compound represented by the general formula (10) examples include sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium n-propoxide, sodium isopropoxide, sodium n-butoxide, sodium sec-butoxide, sodium tert-butoxide, sodium. n-pentoxide, sodium neopentoxide, sodium methoxyethoxide, sodium ethoxyethoxide, sodium benzyloxide, sodium 1-phenylethoxide, and alkali metals derived from monols in which sodium is changed to lithium and potassium Alkoxides,
  • the halogen atom is arbitrarily changed to methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, etc.
  • Alkali metal alkoxyaryl oxide, alkali metal cyanoaryl oxide, and alkali metal nitroaryl oxide are preferable, and lithium phenoxide, lithium 4-methylphenoxide, lithium 2,4,6-trimethylphenoxide, sodium phenoxide, sodium 4- Examples include methylphenoxide and sodium 2,4,6-trimethylphenoxide.
  • alkali metal compounds used for producing the alkali metal compound (10) in such a system include methyl lithium, ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert. -Alkyl such as butyl lithium, n-pentyl lithium, neopentyl lithium, amyl lithium, n-hexyl lithium, n-octyl lithium, n-decyl lithium, n-dodecyl lithium, n-pentadecyl lithium, n-eicosyl lithium lithium
  • Examples of the alcohols used include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, neopentyl alcohol, and ethylene glycol.
  • Monools such as monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, phenol, benzyl alcohol, 1-phenylethanol
  • Examples of the alkaline earth metal compound represented by the general formula (11) include magnesium dimethoxide, magnesium diethoxide, magnesium di n-propoxide, magnesium diisopropoxide, magnesium di n-butoxide, magnesium di sec- Butoxide, magnesium di-tert-butoxide, magnesium di-n-pentoxide, magnesium dineopentoxide, magnesium dimethoxy ethoxide, magnesium diethoxy ethoxide, magnesium dibenzyl oxide, magnesium di 1-phenyl ethoxide, and magnesium to calcium, Alkaline earth metal alkoxides derived from monols, magnesium ethylene dioxide, magnesium methyl ethyl, changed to strontium and barium Dioxide, magnesium 1,2-dimethylethylene dioxide, magnesium tetramethylethylene dioxide, magnesium phenylethylene dioxide, magnesium 1,2-diphenylethylene dioxide, magnesium tetraphenylethylene dioxide, magnesium cyclopentane-1,2- Dioxide, magnesium cyclohexane-1,2-di
  • alkaline earth metal compounds used for the production of alkaline earth alkoxides in such a system include methylmagnesium chloride, phenylmagnesium chloride, benzylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide, phenylmagnesium bromide, benzylmagnesium bromide and the like. And, preferably, methylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide and the like.
  • the alcohols used include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, neopentyl alcohol, and ethylene glycol.
  • Monools such as monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, phenol, benzyl alcohol, 1-phenylethanol, ethylene glycol, propylene glycol, 2,3-butanediol, tetramethylethylene glycol Phenylethylene glycol, hydrobenzoin, tetraphenylethylene glycol, cyclopentane-1,2-diol, cyclohexane-1,2-diol, 1,3-propanediol, 2,4-pentanediol, 1, 3-Diff -1,3-propanediol, tartaric, include diols such as are included all of the stereoisomers and optical isomers.
  • Examples of the alcohol compound used in the method B include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, neopentyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol Examples include monools such as monoethyl ether, phenol, benzyl alcohol, and 1-phenylethanol.
  • Examples of the base include inorganic bases such as alkali metal hydroxides and alkali metal carbonates, and organic bases such as amine compounds, and preferably amine compounds.
  • Examples of the amine compound include, but are not limited to, primary amines such as aniline, chloroaniline, bromoaniline, fluoroaniline, toluidine, anisidine, naphthylamine, benzylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, and N-methylaniline.
  • Secondary amines such as N-ethylaniline, diphenylamine, N-methylchloroaniline, N-methylbromoaniline, N-methylfluoroaniline, pyrrolidine, morpholine, piperidine, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, N, N-dimethylaniline N, N-dimethylchloroaniline, N, N-dimethylbromoaniline, N, N-dimethylfluoroaniline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, N-methylpipe Gin, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7- And tertiary amines such as ene, and pyridines such as pyridine, N, N-dimethylaminopyridine, picoline, and
  • the method of the reaction is not particularly limited.
  • the transition metal complex (1-1) and the alkali metal compound (10) are reacted in an inert atmosphere such as nitrogen or argon in the presence of a solvent.
  • the transition metal complex (1-1) is reacted with the alkaline earth metal compound (11), and in Method B, the transition metal complex (1- It can be preferably carried out by reacting 1) with an alcohol compound.
  • the amount of the alkali metal compound (10) used with respect to the transition metal complex (1-1) in the method A-1 is usually about 0.5 to 15 mol times, preferably about 0.8 to 3 mol times. .
  • the amount of the alkaline earth metal compound (11) used with respect to the transition metal complex (1-1) in the method A-2 is usually about 0.3 to 10 mol times, preferably about 0.5 to 2 mol times. It is.
  • the amount of the alcohol compound to be used with respect to the transition metal complex (1-1) in Method B is usually about 0.5 to 10 mol times, preferably about 0.8 to 3 times, and the transition metal complex (1-1)
  • the amount of base used is generally about 0.5 to 5 mole times, preferably about 0.8 to 3 mole times.
  • aliphatic hydrocarbyl such as pentane, hexane, heptane, octane, decane
  • aromatic hydrocarbyl such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, dichloromethane
  • Aliphatic halogenated hydrocarbyls such as chloroform and dichloroethane
  • aromatic halogenated hydrocarbyls such as monochlorobenzene and dichlorobenzene
  • ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, methyl t-butyl ether and tetrahydrofuran, alkali metal compounds (10 ) And the mixtures thereof are exemplified.
  • the amount used is usually 1 to 200 times by weight, preferably about 3 to 30 times by weight of the transition metal complex (1-1) in each of the methods A-1, A-2 and B.
  • the reaction temperature is usually from ⁇ 100 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably about ⁇ 80 to 30 ° C.
  • the transition metal complex (1-3) can be obtained by removing the insoluble solid and distilling off the solvent. If necessary, it can be purified by ordinary methods such as recrystallization and sublimation.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-1) include the following compounds.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-2) include the following compounds.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-3) include the following compounds.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-4) include the following compounds.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-5) include the following compounds.
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (6-6) include the following compounds.
  • Substituted cyclopentadiene compounds represented by the general formulas (6-1) to (6-6) include, for example, substituted cyclopentadiene compounds represented by the general formulas (12-1) to (12-6) and a base as an amine compound. Reacting in the presence of Produced by a step of reacting a reaction product of the substituted cyclopentadiene compounds (12-1) to (12-6) with a base with a silicon halide compound represented by general formula (13-1) to (13-6). can do.
  • the substituted cyclopentadiene compounds represented by the general formulas (12-1) to (12-6) are as follows.
  • R 28 , R 29 , R 30 and R 31 are as defined above. Is Represents. ]
  • R 39 , R 40 , R 41 and R 42 are as defined above. Is Represents. ]
  • R 61 , R 62 , R 63 and R 64 are as defined above. Is Represents. ]
  • R 72 , R 73 , R 74 and R 75 are as defined above. Is Represents. ]
  • R 83 , R 84 , R 85 and R 86 are as defined above. Is Represents. ]
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compounds (12-1), (12-2), (12-4) and (12-5) include the following compounds.
  • Methylcyclopentadiene 1,2-dimethylcyclopentadiene, 1,3-dimethylcyclopentadiene, 1,2,3-trimethylcyclopentadiene, 1,3,4-trimethylcyclopentadiene, 1,2,3,4-tetramethyl Cyclopentadiene, ethylcyclopentadiene, 1,2-diethylcyclopentadiene, 1,3-diethylcyclopentadiene, 1,2,3-triethylcyclopentadiene, 1,3,4-triethylcyclopentadiene, 1,2,3,4 -Tetraethylcyclopentadiene, n-propylcyclopentadiene, isopropylcyclopentadiene, n-butylcyclopentadiene, sec-butylcyclopentadiene, tert-butylcyclopentadiene, n-pentylcyclopentadiene, neopen Le cycl
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (12-3) include the following compounds.
  • Tetrahydroindene 2-methyltetrahydroindene, 3-methyltetrahydroindene, 2,3-dimethyltetrahydroindene, 2-ethyltetrahydroindene, 2-n-propyltetrahydroindene, 2-isopropyltetrahydroindene, 2-n-butyltetrahydroindene 2-sec-butyltetrahydroindene, 2-tert-butyltetrahydroindene, 2-n-pentyltetrahydroindene, 2-neopentyltetrahydroindene, 2-amyltetrahydroindene, 2-n-hexyltetrahydroindene, 2-cyclohexyltetrahydro Indene, 2-n-octyltetrahydroindene, 2-n-decyltetrahydroindene, 2-phenyltetrahydroinden
  • Examples of the substituted cyclopentadiene compound (12-6) include the following compounds.
  • Methylcyclopentadiene 1,2-dimethylcyclopentadiene, 1,3-dimethylcyclopentadiene, 1,2,3-trimethylcyclopentadiene, 1,3,4-trimethylcyclopentadiene, ethylcyclopentadiene, 1,2-diethylcyclo Pentadiene, 1,3-diethylcyclopentadiene, 1,2,3-triethylcyclopentadiene, 1,3,4-triethylcyclopentadiene, 1,2,3,4-tetraethylcyclopentadiene, n-propylcyclopentadiene, isopropylcyclo Pentadiene, n-butylcyclopentadiene, sec-butylcyclopentadiene, tert-butylcyclopentadiene, n-pentylcyclopentadiene, neopentylcyclopentadiene, n-hexylcyclopen
  • R 87 , R 88 , R 89 , R 90 , R 91 , R 92 and R 93 are as defined above, and X 22 is a halogen atom.
  • Examples of the silicon halide compound (13-1) include the following compounds.
  • Examples of the silicon halide compound (13-2) include the following compounds.
  • Chlorotriphenylsilane chloro (2-methylphenyl) diphenylsilane, chloro (3-methylphenyl) diphenylsilane, chloro (4-methylphenyl) diphenylsilane, chloro (2,3-dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2 , 4-Dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2,5-dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2,6-dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (3,4-dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (3,5 -Dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (3,6-dimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2,3,4-trimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2,3,5-trimethylphenyl) diphenylsilane, chloro (2
  • Examples of the silicon halide compound (13-3) include the following compounds.
  • Examples of the silicon halide compound (13-4) include the following compounds.
  • Examples of the silicon halide compound (13-5) include the following compounds.
  • Examples of the silicon halide compound (13-6) include the following compounds.
  • Bases to be reacted with the substituted cyclopentadiene compounds (12-1) to (12-6) include alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride, and alkaline earth metal hydrogens such as calcium hydride.
  • organolithium compounds such as chloride, methyl lithium, ethyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, lithium trimethylsilyl acetylide, lithium acetylide, trimethylsilylmethyl lithium, vinyl lithium, phenyl lithium and allyl lithium
  • the amount of the organic alkali metal compound used is usually 0.5 to 3 mole times, preferably 0.9 to 2 mole times the substituted cyclopentadiene compound.
  • sodium hydride and potassium hydride commercially available mineral oil-containing products can be used as they are, but of course, the mineral oil may be used after washing and removing with a hydrocarbyl solvent such as hexane.
  • amine compounds examples include aniline, chloroaniline, bromoaniline, fluoroaniline, dichloroaniline, dibromoaniline, difluoroaniline, trichloroaniline, tribromoaniline, trifluoroaniline, tetrachloroaniline, tetrabromoaniline, tetrafluoroaniline.
  • the amount used is usually 0.001 to 2 mol times, preferably 0.01 to 0.5 mol times the metal hydride.
  • the reaction is usually performed in a solvent inert to the reaction.
  • solvents include aromatic hydrocarbyl solvents such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbyl solvents such as pentane, hexane, heptane, octane and cyclohexane, diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran,
  • aprotic solvents such as ether solvents such as 1,4-dioxane, amide solvents such as hexamethylphosphoric amide, dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, and halogen solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene. .
  • solvents are used alone or in admixture of two or more, and the
  • the substituted cyclopentadiene compounds (12-1) to (12-6), the base, and the amine compound may be mixed at the same time in a solvent, or the mixed cyclopentadiene compound is mixed with the base and the amine compound in advance. (12-1) to (12-6) may be added.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but a temperature range that does not require low-temperature equipment is industrially good, for example, in the range of 0 to 70 ° C., preferably 10 to 60 ° C.
  • metal salts of the substituted cyclopentadiene compounds (12-1) to (12-6) are efficiently formed.
  • the metal salts of the substituted cyclopentadiene compounds (12-1) to (12-6) thus obtained may be used as they are in the reaction mixture or may be used after being removed from the reaction mixture. It is.
  • the reaction for obtaining the substituted cyclopentadiene compounds (6-1) to (6-6) is usually performed in a solvent inert to the reaction.
  • solvents include aromatic hydrocarbyl solvents such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbyl solvents such as pentane, hexane, heptane, octane and cyclohexane, diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran,
  • aprotic solvents such as ether solvents such as 1,4-dioxane, amide solvents such as hexamethylphosphoric amide, dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, and halogen solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene.
  • reaction temperature is not particularly limited, but a temperature range that does not require low-temperature equipment is industrially advantageous, for example, in the range of 0 to 70 ° C., preferably 10 to 60 ° C.
  • the amount of the substituted cyclopentadiene (12-1) to (12-6) to be used is usually 0.5 to 5 mol times, preferably 0.8, times the silicon halide compounds (13-1) to (13-6). The range is 8 to 3 mole times.
  • activation promoter component examples include the following compounds (A) and compounds (B).
  • Compound (A) and compound (B) may be used in combination.
  • A1) an organic compound represented by the general formula (E 1 ) a Al (G) 3-a
  • A3 General formula E 3 ⁇ —Al (E 3 ) —O— ⁇ c
  • Plurality of E 2 may be different from one another the same. Plurality of E 3 may be different be the same as each other.
  • B represents a trivalent boron atom
  • Q 1 , Q 2 , Q 3 and Q 4 are the same or different and each is a halogen atom or a carbon atom which may be substituted with a halogen atom
  • examples of the hydrocarbyl group having 1 to 8 carbon atoms in E 1 , E 2 and E 3 include alkyl having 1 to 8 carbon atoms, Examples of the alkyl group having 1 to 8 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, a normal pentyl group, and a neopentyl group.
  • Examples of the organoaluminum compound (A1) represented by the general formula (E 1 ) a Al (G) 3-a include trialkylaluminum, dialkylaluminum chloride, alkylaluminum dichloride, and dialkylaluminum hydride.
  • Examples of the alkylaluminum include trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, triisobutylaluminum, and trihexylaluminum.
  • Examples of the dialkylaluminum chloride include dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, dipropylaluminum chloride, Examples include diisobutylaluminum chloride and dihexylaluminum chloride.
  • Examples of the nium dichloride include methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, propylaluminum dichloride, isobutylaluminum dichloride, and hexylaluminum dichloride.
  • Examples of the dialkylaluminum hydride include dimethylaluminum hydride, diethylaluminum hydride, and dipropylaluminum. Examples thereof include hydride, diisobutylaluminum hydride, and dihexylaluminum hydride.
  • b is an integer of 2 or more
  • c is an integer of 1 or more.
  • E 2 and E 3 are each independently a methyl group or an isobutyl group
  • b is 2 to 40
  • c is 1 to 40.
  • aluminoxane can be made by various methods. There is no restriction
  • a trialkylaluminum for example, trimethylaluminum
  • an appropriate organic solvent benzene, aliphatic hydrocarbyl, etc.
  • Q 1 , Q 2 , Q 3 and Q 4 are preferably halogen atoms or hydrocarbyl groups having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms.
  • examples of the inorganic cation for T + include a ferrocenium cation, an alkyl-substituted ferrocenium cation, and a silver cation.
  • examples of the organic cation include a triphenylmethyl cation.
  • Examples of (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) — include tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetrakis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) borate, tetrakis (2,3,4,5- Tetrafluorophenyl) borate, tetrakis (3,4,5-trifluorophenyl) borate, tetrakis (2,3,4-trifluorophenyl) borate, phenyltris (pentafluorophenyl) borate, tetrakis (3,5 -Bistrifluoromethylphenyl) borate and the like.
  • Examples of (LH) + which is a Bronsted acid include trialkyl-substituted ammonium, N, N-dialkylanilinium, dialkylammonium, triarylphosphonium and the like.
  • Examples of the boron compound (B1) represented by the general formula BQ 1 Q 2 Q 3 include tris (pentafluorophenyl) borane, tris (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) borane, tris (2, 3,4,5-tetrafluorophenyl) borane, tris (3,4,5-trifluorophenyl) borane, tris (2,3,4-trifluorophenyl) borane, phenylbis (pentafluorophenyl) borane, etc. Can be mentioned.
  • borate compound (B2) represented by the general formula T + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) — include ferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and 1,1′-bis-trimethylsilylferrocete.
  • examples thereof include nium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylmethyltetrakis (pentafluorophenyl) borate, and triphenylmethyltetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate.
  • borate compound (B3) represented by the general formula (LH) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) — include triethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tripropylammonium tetrakis (pentafluoro).
  • Phenyl) borate tri (normal butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (normal butyl) ammonium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, N, N-bis-trimethylsilylanilinium tetrakis (pentafluoro) Phenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-2,4,6-pentamethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, , N-bis-trimethylsilylanilinium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, diisopropylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dicyclohexylammonium tetrakis
  • the trimerization catalyst of the present invention is a trimerization catalyst comprising the above transition metal complex (1), and is a catalyst capable of producing 1-hexene by trimerizing ethylene.
  • the trimerization catalyst component can be obtained by bringing the transition metal complex (1) into contact with the activation promoter component.
  • activation promoter component examples include the above-mentioned compound (A) and compound (B). Moreover, you may use a compound (A) and a compound (B) together.
  • the amount of each catalyst component used is the molar ratio of the compound (A) (in terms of aluminum atoms) and the transition metal complex (1) used as the catalyst component (compound (A) (in terms of aluminum atoms) / transition metal complex (1). ) Is usually from 0.01 to 10,000, preferably from 5 to 5,000. The molar ratio of the compound (B) and the transition metal complex (1) used as the catalyst component (compound (B) / transition metal complex (1)) is usually 0.01-100, preferably 0.5-10. It is.
  • the concentration of the transition metal complex (1) used as the catalyst component is usually 0.0001 to 5 mmol / liter, preferably 0.001 to 1 mmol / liter. is there.
  • the concentration of the compound (A) is usually 0.01 to 500 mmol / liter, preferably 0.1 to 100 mmol / liter in terms of aluminum atoms.
  • the concentration of the compound (B) is usually from 0.0001 to 5 mmol / liter, preferably from 0.001 to 1 mmol / liter.
  • the method for contacting each catalyst component is not particularly limited.
  • the transition metal complex (1) and the activation promoter component may be contacted in advance to prepare a trimerization catalyst, and the trimerization catalyst may be supplied to the reactor. Further, the catalyst components may be supplied to the reactor in an arbitrary order, and contact treatment may be performed in the reactor.
  • the 1-hexene production method of the present invention is a method for producing 1-hexene from ethylene, and is a method for producing 1-hexene by a trimerization reaction of ethylene.
  • the trimerization reaction is not particularly limited.
  • aliphatic hydrocarbyl such as butane, pentane, hexane, heptane and octane
  • aromatic hydrocarbyl such as benzene and toluene, or methylene dichloride and chlorobenzene.
  • a trimerization reaction using a halogenated hydrocarbyl as a solvent, a trimerization reaction in a slurry state, a trimerization reaction in gaseous ethylene, or the like is possible.
  • the trimerization reaction can be carried out in any of batch, semi-continuous and continuous methods.
  • the pressure of ethylene is usually from normal pressure to 10 MPa, preferably from normal pressure to 5 MPa.
  • the temperature of the trimerization reaction can usually range from -50 ° C to 220 ° C.
  • the range is preferably from 0 ° C to 170 ° C, more preferably from 50 ° C to 120 ° C.
  • the time for the trimerization reaction is generally appropriately determined depending on the intended reaction apparatus, but can be in the range of 1 minute to 20 hours.
  • ⁇ Olefin polymerization catalyst component examples include a solid catalyst component containing titanium, magnesium and halogen as essential components, and a catalyst component composed of a metallocene transition metal complex.
  • a catalyst component for olefin polymerization a complex having a phenoxyimine ligand reported in EP 0874405 can be exemplified.
  • solid catalyst component containing titanium, magnesium, and halogen as essential components include, for example, JP-A-63-142008, JP-A-4-227604, JP-A-5-339319, and JP-A-6-179720.
  • Examples of the olefin polymerization catalyst component comprising a metallocene-based transition metal complex include transition metal complexes represented by the following general formula (2).
  • M 2 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table of elements
  • Cp 1 represents a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton
  • J 1 represents Group 14 of the periodic table of elements.
  • Q represents 0 or 1.
  • D 1 represents a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton, or J A group connecting 1 and M 2 , wherein the group is bonded to M 2 with an atom of Group 15 of the periodic table of elements or an atom of Group 16 of the periodic table of elements, and q is 0
  • D 1 represents a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton.
  • X 4 and X 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon
  • a transition metal complex represented by the following general formula (3) As a catalyst component for olefin polymerization, preferably, a transition metal complex represented by the following general formula (3), a transition metal complex represented by the following general formula (4), and a transition metal represented by the following general formula (5) A transition metal complex represented by a complex can be given.
  • M 3 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table of elements
  • Cp 2 and Cp 3 represent groups having a cyclopentadiene-type anion skeleton.
  • J 2 represents the periodic table of elements.
  • a group connecting Cp 2 and Cp 3 with one or two atoms of Group 14 is represented.
  • X 6 and X 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon
  • M 4 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table of elements
  • Cp 4 represents a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton.
  • J 3 represents Group 14 of the periodic table of elements. Represents a group that links Cp 4 and A 1 with one or two atoms of A.
  • a 1 is a group that links J 3 and M 4, and is a group 15 atom in the periodic table of elements or The group bonded to M 4 by an atom of Group 16 of the periodic table of elements is represented.
  • X 8 and X 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon
  • M 5 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table of the elements
  • a 2 represents an atom of group 16 of the periodic table of elements
  • J 4 represents an atom of Group 14 of the periodic table of elements.
  • Cp 5 represents a group having a cyclopentadiene type anion skeleton.
  • X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 are each independently Hydrogen atom, halogen atom, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a hal
  • the transition metal complex represented by the general formula (2) will be described in detail.
  • Examples of the group 4 transition metal atom in the periodic table of elements in M 2 include a titanium atom, a zirconium atom, and a hafnium atom.
  • J 1 is a group that links Cp 1 and D 1 with one or two atoms of Group 14 of the periodic table of elements.
  • the J 1, -SiR 2 -, - CR 2 -, - SiR 2 SiR 2 -, - CR 2 CR 2 -, - CR CR -, - CR 2 SiR 2 -, or -GeR 2 - a.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a hydrocarbyl-substituted silyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent. is there.
  • the plurality of Rs may be the same or different.
  • R examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec- Butyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, amyl, n-hexyl, n-octyl, n-decyl, n-dodecyl, n-pentadecyl, n-eicosyl, etc.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a hydrocarbyl-substituted silyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent. is there.
  • R examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, and n-hexyl group.
  • Alkyl groups such as n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group , (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) ) Methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, ( , 3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6
  • the group connecting J 1 and M 2 represented as D 1 and bonded to M 2 by an atom of Group 15 of the periodic table of elements or an atom of Group 16 of the periodic table of elements
  • Examples of the group include groups represented by the following general formulas (2-1), (2-2), (2-3), and (2-4).
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a hydrocarbyl-substituted silyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent. is there.
  • R examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, and n-hexyl group.
  • Alkyl groups such as n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group , (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) ) Methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (4,6-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2 3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-tri
  • R is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a norbornyl group, a benzyl group, a phenyl group, or the like.
  • the hydrogen atom on the benzene ring in the general formulas (2-1), (2-2), (2-3), and (2-4) is Halogen atoms, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent; —Si (R 12 ) 3 (three R 12 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogen
  • halogen atom in the substituent on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3), (2-4) include a fluorine atom, chlorine An atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in the substituents on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3) and (2-4) include For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n- Examples include an octyl group, an n-decyl group, an n-dodecyl group, an n-pentadecyl group, and an n-eicosyl group.
  • an alkyl group optionally having a halogen atom as a substituent means “may have a halogen atom as a substituent” means that some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent examples include, for example, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromo Methyl group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloro Ethyl group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group,
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include a fluorophenyl group, a difluorophenyl group, a trifluorophenyl group, a tetrafluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a chlorophenyl group, and a bromophenyl group. And an iodophenyl group.
  • aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms in the substituents on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3), (2-4) For example, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethyl) Phenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, ( 2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group , (2 4,6-trimethyl
  • any of these aralkyl groups may be substituted with a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which some or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group have been replaced with halogen atoms.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms in the substituent on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3), and (2-4) include For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-octoxy group , N-dodesoxy group, n-pentadesoxy group, n-icosoxy group and the like.
  • an alkoxy group optionally having a halogen atom as a substituent means that part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are replaced with halogen atoms.
  • aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in the substituents on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3), and (2-4) For example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3-dimethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2, 6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4-trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group Group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 3,4,5-trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenol Xy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group,
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” in the “aryloxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group have been replaced with halogen atoms.
  • benzyloxy group (2-methylphenyl) methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2, 4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy Group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4, -Trimethylphenyl) methoxy group,
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are replaced with halogen atoms.
  • R 12 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in three R 12 is 1 to 20.
  • R 12 each independently represents a hydrogen atom; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group) Group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc.), hydrocarbyl groups such
  • the total number of carbon atoms of the three R 12 is preferably in the range of 3-18.
  • the substituted silyl group include a methyl silyl group, an ethyl silyl group, a phenyl silyl group, a hydrocarbyl group such as a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms, or A monosubstituted silyl group having one halogenated hydrocarbyl group; a dimethylsilyl group, a diethylsilyl group, a diphenylsilyl group, or a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms.
  • Disubstituted silyl groups having two hydrocarbyl groups and / or halogenated hydrocarbyl groups such as: trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-n-propylsilyl group, triisopropylsilyl group, tri-n-butylsilyl group , Tri-sec-butylsilyl group, tri-tert-butylsilane Group, tri-isobutylsilyl group, tert-butyl-dimethylsilyl group, tri-n-pentylsilyl group, tri-n-hexylsilyl group, tricyclohexylsilyl group, triphenylsilyl group, hydrocarbyl in these groups Examples thereof include a hydrocarbyl group such as a group in which part or all of the hydrogen atoms in the group are replaced with a halogen atom and / or a trisubstituted silyl group having three halogenated
  • a trisubstituted silyl group is preferable, and a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms are more preferable.
  • R 13 N (R 13 ) 2 in the substituents on the benzene ring of X 4 , X 5 and general formulas (2-1), (2-2), (2-3), (2-4) (two R 13 each independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms in two R 13 is 2 to 20.)
  • R 13 In the disubstituted amino group represented by R 13 , Each independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and the total number of carbon atoms of two R 13 is in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 10.
  • Such hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group are the same as those described as the hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group of the substituted silyl group. Further, these two R 13 may be bonded to each other and form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded. Examples of such disubstituted amino groups include dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-tert-butyl.
  • Amino group di-isobutylamino group, tert-butylisopropylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-octylamino group, di-n-decylamino group, diphenylamino group, bistrimethylsilylamino group, bis- tert-Butyldimethylsilylamino group, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, carbazolyl group, dihydroindolyl group, dihydroisoindolyl group, groups in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced by halogen atoms, etc. Is mentioned.
  • a dimethylamino group a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced with halogen atoms.
  • transition metal complex represented by the general formula (2) preferably q is 1, more preferably q is 1, and D 1 is a group bonded to M 2 by a nitrogen atom or a general group A complex of a group represented by the formula (2-1), most preferably q is 1, and D 1 is a complex of a group represented by the general formula (2-1).
  • transition metal complex represented by the general formulas (3) and (4) will be described in detail.
  • Examples of the group 4 transition metal atom in the periodic table of elements in M 3 include a titanium atom, a zirconium atom, a hafnium atom, and preferably a zirconium atom, Hafnium atom.
  • Examples of the group 4 transition metal atom in the periodic table of elements in M 4 include a titanium atom, a zirconium atom, a hafnium atom, and preferably a titanium atom, Zirconium atom.
  • a 1 is a group that connects J 3 and M 4 with an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a phosphorus atom.
  • a 1 is, for example, —O—, —S—, —NR— or —PR—, preferably —NR—.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a hydrocarbyl-substituted silyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent. is there.
  • R examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, and n-hexyl group.
  • Alkyl groups such as n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group , (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) ) Methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, ( , 3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6
  • J 2 is a group connecting Cp 2 and Cp 3 with one or two atoms of group 14 of the periodic table of elements
  • J 3 is atom 14 of group 14 of the periodic table of elements. It is a group that connects Cp 4 and A 1 by one or two.
  • J 2 and J 3 each independently represent —SiR 2 —, —CR 2 —, —SiR 2 SiR 2 —, —CR 2 CR 2 —, —CR ⁇ CR—, —CR 2 SiR 2 — or -GeR 2- .
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or an aralkyl having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent.
  • An aryl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a hydrocarbyl-substituted silyl group having up to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent. is there.
  • the plurality of Rs may be the same or different.
  • R examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec- Butyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, amyl, n-hexyl, n-octyl, n-decyl, n-dodecyl, n-pentadecyl, n-eicosyl, etc.
  • Examples of the halogen atom in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, Examples include tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group and the like.
  • an alkyl group optionally having a halogen atom as a substituent means “may have a halogen atom as a substituent” means that some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent examples include, for example, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromo Methyl group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloro Ethyl group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group,
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include a phenyl group, a 2-tolyl group, a 3-tolyl group, a 4-tolyl group, and a 2,3-xylyl group.
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include a fluorophenyl group, a difluorophenyl group, a trifluorophenyl group, a tetrafluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a chlorophenyl group, and a bromophenyl group. And an iodophenyl group.
  • Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include a benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4- Methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2 , 3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-teto (
  • any of these aralkyl groups may be substituted with a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which some or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group have been replaced with halogen atoms.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group and a sec-butoxy group.
  • a methoxy group an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group and a sec-butoxy group.
  • an alkoxy group optionally having a halogen atom as a substituent means that part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are replaced with halogen atoms.
  • Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2, 3 -Dimethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4 -Trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 3,4,5 -Trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy group, 2,3,5 6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, n-
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” in the “aryloxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group have been replaced with halogen atoms.
  • Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms in X 6 , X 7 , X 8 and X 9 include a benzyloxy group, a (2-methylphenyl) methoxy group, a (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) Methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group , (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphen
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are replaced with halogen atoms.
  • each R 12 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and three R 12 In which the total number of carbon atoms in the substituted silyl group is 1 to 20), each R 12 independently represents a hydrogen atom; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, n -Propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, n-pentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n- Nonyl groups, n-decyl groups, etc.), aryl groups (phenyl groups, etc.) and other hydrocarbyl groups; some or all of the hydrogen atom
  • the total number of carbon atoms of the three R 12 is preferably in the range of 3-18.
  • the substituted silyl group include a methyl silyl group, an ethyl silyl group, a phenyl silyl group, a hydrocarbyl group such as a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms, or A monosubstituted silyl group having one halogenated hydrocarbyl group; a dimethylsilyl group, a diethylsilyl group, a diphenylsilyl group, or a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms.
  • Disubstituted silyl groups having two hydrocarbyl groups and / or halogenated hydrocarbyl groups such as: trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-n-propylsilyl group, triisopropylsilyl group, tri-n-butylsilyl group , Tri-sec-butylsilyl group, tri-tert-butylsilane Group, tri-isobutylsilyl group, tert-butyl-dimethylsilyl group, tri-n-pentylsilyl group, tri-n-hexylsilyl group, tricyclohexylsilyl group, triphenylsilyl group, hydrocarbyl in these groups Examples thereof include a hydrocarbyl group such as a group in which part or all of the hydrogen atoms in the group are replaced with a halogen atom and / or a trisubstituted silyl group having three halogenated
  • a trisubstituted silyl group is preferable, and a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms are more preferable.
  • each R 13 independently represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and represents the number of carbon atoms of two R 13.
  • the total is in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 10.
  • Such hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group are the same as those described as the hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group of the substituted silyl group.
  • these two R 13 may be bonded to each other and form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded.
  • disubstituted amino groups include dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-tert-butyl.
  • Amino group di-isobutylamino group, tert-butylisopropylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-octylamino group, di-n-decylamino group, diphenylamino group, bistrimethylsilylamino group, bis- tert-Butyldimethylsilylamino group, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, carbazolyl group, dihydroindolyl group, dihydroisoindolyl group, groups in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced by halogen atoms, etc. Is mentioned.
  • a dimethylamino group a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced with halogen atoms.
  • the transition metal complex represented by the general formula (3) can be produced, for example, by the method described in Japanese Patent No. 3290218.
  • Examples of the complex represented by the general formula (3) include methylene bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, isopropylidene bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, 2-ethylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, dimethylsilylene bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, diphenylsilylene bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, 1,2-tetramethyldisilylene-bis (cyclo Pentadienyl) zirconium dichloride,
  • Methylenebis (fluorenyl) zirconium dichloride isopropylidenebis (fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylenebis (fluorenyl) zirconium dichloride, 1,2-ethylene-bis (fluorenyl) zirconium dichloride, dimethylsilylenebis (fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylsilylenebischloride (Fluorenyl) zirconium dichloride, 1,2-tetramethyldisilene-bis (fluorenyl) zirconium dichloride,
  • Methylenebis (indenyl) hafnium dichloride isopropylidenebis (indenyl) hafnium dichloride, diphenylmethylenebis (indenyl) hafnium dichloride, 1,2-ethylene-bis (indenyl) hafnium dichloride, dimethylsilylenebis (indenyl) hafnium dichloride, diphenylsilylenebis (Indenyl) hafnium dichloride, 1,2-tetramethyldisilene-bis (indenyl) hafnium dichloride,
  • Methylenebis (fluorenyl) hafnium dichloride isopropylidenebis (fluorenyl) hafnium dichloride, diphenylmethylenebis (fluorenyl) hafnium dichloride, 1,2-ethylene-bis (fluorenyl) hafnium dichloride, dimethylsilylenebis (fluorenyl) hafnium dichloride, diphenylsilylenebis (Fluorenyl) hafnium dichloride, 1,2-tetramethyldisilene-bis (fluorenyl) hafnium dichloride,
  • Methylenebis (azurenyl) hafnium dichloride isopropylidenebis (azurenyl) hafnium dichloride, diphenylmethylenebis (azurenyl) hafnium dichloride, 1,2-ethylene-bis (azurenyl) hafnium dichloride, dimethylsilylenebis (azurenyl) hafnium dichloride, diphenylsilylenebis (Azurenyl) hafnium dichloride, 1,2-tetramethyldisilylene-bis (azurenyl) hafnium dichloride,
  • the transition metal complex represented by the general formula (4) can be produced by, for example, the method described in Japanese Patent No. 2535249.
  • Examples of the complex represented by the general formula (4) include methylene (tert-butylamide) (cyclopentadienyl) titanium dichloride, methylene (cyclohexylamide) (cyclopentadienyl) titanium dichloride, methylene (phenylamide) (cyclohexane).
  • Pentadienyl) titanium dichloride methylene (benzylamide) (cyclopentadienyl) titanium dichloride, methylene (tert-butyl phosphide) (cyclopentadienyl) titanium dichloride, methylene (cyclohexyl phosphide) (cyclopentadienyl) Titanium dichloride, methylene (phenyl phosphide) (cyclopentadienyl) titanium dichloride, methylene (benzyl phosphide) (cyclopentadi) Yl) titanium dichloride,
  • Enyl is methylcyclopentadienyl, n-butylcyclopentadienyl, t-butylcyclopentadienyl, tetramethylcyclopentadienyl, indenyl, fluorenyl, t-butylamide is oxygen atom, sulfur atom, and chloride is bromide , Iodide, hydride, methyl, phenyl, benzyl, methoxide, n-butoxide, isopropoxide, phenoxide, benzyloxide, dimethylamide, diethylamide, and the like.
  • Examples of the group 16 atom in the periodic table of the element in A 2 include an oxygen atom, a sulfur atom, and a selenium atom, and an oxygen atom is preferable.
  • the Group 14 atoms of the Periodic Table of the Elements indicated as J 4 for example, carbon atom, a silicon atom, such as a germanium atom and the like. Preferably they are a carbon atom and a silicon atom, More preferably, it is a carbon atom.
  • Examples of the halogen atom in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • X 10 the alkyl group of X 11, R 14, R 15 , R 16, R 17, R 18 and having 1 to 20 carbon atoms in R 19, for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, isopropyl Group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n- Examples thereof include a pentadecyl group and an n-eicosyl group.
  • an alkyl group optionally having a halogen atom as a substituent means “may have a halogen atom as a substituent” means that some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent examples include, for example, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromo Methyl group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloro Ethyl group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group,
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include a phenyl group, a 2-tolyl group, and a 3-tolyl group.
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include a fluorophenyl group, a difluorophenyl group, a trifluorophenyl group, a tetrafluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a chlorophenyl group, and a bromophenyl group. And an iodophenyl group.
  • Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include a benzyl group, a (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group , (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2, 3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethyl) Ruphenyl
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which some or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group have been replaced with halogen atoms.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso Propoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-octoxy group, n-dodesoxy group, n-pentadesoxy group, n-icosoxy group Etc.
  • an alkoxy group optionally having a halogen atom as a substituent means that part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are halogenated. It means that it may be replaced by an atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group are replaced with halogen atoms.
  • Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3- Methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3-dimethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4-trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2, 4,6-trimethylphenoxy group, 3,4,5-trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2, , 4,6-tetramethylphenoxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propyl
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” in the “aryloxy group optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aryloxy group have been replaced with halogen atoms.
  • Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms in X 10 , X 11 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include a benzyloxy group and (2-methylphenyl) Methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) ) Methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphenyl) Nyl
  • the “optionally having a halogen atom as a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are partially or entirely. , Which may be replaced by a halogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include groups in which part or all of the hydrogen atoms in the aralkyloxy group are replaced with halogen atoms.
  • R 12 is independently a hydrogen atom, hydrocarbyl group or halogen
  • the total number of carbon atoms in three R 12 is 1 to 20, and each R 12 is independently a hydrogen atom; 10 alkyl groups (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, hydrocarbyl groups such as n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc.) and aryl groups (such as phenyl
  • the total number of carbon atoms of the three R 12 is preferably in the range of 3-18.
  • the substituted silyl group include a methyl silyl group, an ethyl silyl group, a phenyl silyl group, a hydrocarbyl group such as a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms, or A monosubstituted silyl group having one halogenated hydrocarbyl group; a dimethylsilyl group, a diethylsilyl group, a diphenylsilyl group, or a group in which some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are replaced with halogen atoms.
  • Disubstituted silyl groups having two hydrocarbyl groups and / or halogenated hydrocarbyl groups such as: trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-n-propylsilyl group, triisopropylsilyl group, tri-n-butylsilyl group , Tri-sec-butylsilyl group, tri-tert-butylsilane Group, tri-isobutylsilyl group, tert-butyl-dimethylsilyl group, tri-n-pentylsilyl group, tri-n-hexylsilyl group, tricyclohexylsilyl group, triphenylsilyl group, hydrocarbyl in these groups Examples thereof include a hydrocarbyl group such as a group in which part or all of the hydrogen atoms in the group are replaced with a halogen atom and / or a trisubstituted silyl group having three halogenated
  • a trisubstituted silyl group is preferable, and a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms are more preferable.
  • R 13 is independently a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group. And the total number of carbon atoms of two R 13 is in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 10.
  • Such hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group are the same as those described as the hydrocarbyl group and halogenated hydrocarbyl group of the substituted silyl group.
  • these two R 13 may be bonded to each other and form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded.
  • disubstituted amino groups include dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-tert-butyl.
  • Amino group di-isobutylamino group, tert-butylisopropylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-octylamino group, di-n-decylamino group, diphenylamino group, bistrimethylsilylamino group, bis- tert-Butyldimethylsilylamino group, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, carbazolyl group, dihydroindolyl group, dihydroisoindolyl group, groups in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced by halogen atoms, etc. Is mentioned.
  • a dimethylamino group a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms in these groups are replaced with halogen atoms.
  • R 14 , R 15 , R 16 and R 17 two groups bonded to two adjacent carbon atoms are bonded to form a ring together with the two carbon atoms to which the two groups are bonded.
  • R 18 and R 19 may be bonded together to form a ring together with J 4 to which they are bonded.
  • the ring include a saturated or unsaturated hydrocarbyl ring. Specific examples include a cyclopropane ring, a cyclopropene ring, a cyclobutane ring, a cyclobutene ring, a cyclopentane ring, a cyclopentene ring, and a cyclohexane.
  • a ring, a cyclohexene ring, a cycloheptane ring, a cycloheptene ring, a cyclooctane ring, a cyclooctene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring may be substituted with a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may contain a silicon atom.
  • the ring containing a silicon atom include a silacyclopropane ring, a silacyclobutane ring, a silacyclopentane ring, and a silacyclohexane ring.
  • the substituents X 10 and X 11 are preferably a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, or a carbon atom which may have a halogen atom as a substituent An aralkyl group of 7 to 20 and more preferably a halogen atom.
  • R 14 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a halogen atom as a substituent, —Si (R 7 ) 3 (the three R 7 are each independently a hydrogen atom, hydrocarbyl group or halogenated hydro A carbyl group, and the total number of carbon atoms in three R 7 is 1 to 20.), specifically, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert- Butyl group, amyl group, phenyl group, benzyl group, trimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group and the like, more preferably ter Examples thereof include a t-but
  • the transition metal complex represented by the general formula (5) can be produced, for example, by the method described in JP-A-9-87313.
  • Examples of the complex represented by the general formula (5) include methylene (cyclopentadienyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2- Phenoxy) titanium dichloride, methylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene (cyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene (Cyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene (cyclopentadienyl) (3-trimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene Cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, methylene (cyclopent
  • Non-crosslinked bismetallocene complexes can also be used as the olefin polymerization catalyst component.
  • examples thereof include bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, and bis (n-butyl). Cyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (t-butylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (indenyl) zirconium dichloride, bis (fluorenyl) zirconium dichloride,
  • Zirconium is titanium, hafnium, cyclopentadienyl is methylcyclopentadienyl, n-butylcyclopentadienyl, t-butylcyclopentadienyl, tetramethylcyclopenta , Indenyl, fluorenyl, bromide chloride, iodide, hydride, methyl, phenyl, benzyl, methoxide, n- butoxide, isopropoxide, phenoxide, Benjirokishido, dimethylamide, include compounds that have changed diethylamide.
  • a transition metal complex of Group 4 of the periodic table of elements having an amide-pyridyl-aryl ligand can be used, for example, 2- (N-phenylamido-phenyl) Methyl) -6- (2- ⁇ -phenyl) -pyridylhafnium dimethyl, 2- (N-phenylamido-phenylmethyl) -6- (2- ⁇ -1-naphthyl) -pyridylhafnium dimethyl, 2- [N- (2,6-diisopropylphenylamido) -phenylmethyl] -6- (2- ⁇ -phenyl) -pyridylhafnium dimethyl, 2-[(N-phenylamido) -o-isopropylphenylmethyl] -6- (2- ⁇ -phenyl) -pyridylhafnium dimethyl, 2- [N- (2,6-di
  • the catalyst for olefin polymerization used in the present invention is for trimerization comprising an olefin polymerization catalyst component comprising a transition metal complex represented by the general formula (2) and a transition metal complex represented by the general formula (1). This catalyst is obtained by bringing the catalyst component into contact with the above-described activation promoter component.
  • the molar ratio of the trimerization catalyst component to the olefin polymerization catalyst component is usually 0.0001 to 100, preferably 0.00. 001 to 1, more preferably 0.01 to 0.5, and still more preferably 0.05 to 0.15.
  • the amount of each catalyst component used is the molar ratio of the compound (A) (in terms of aluminum atoms) and the transition metal complex used as the catalyst component (total of the trimerization catalyst component and the olefin polymerization catalyst component) (compound (A)).
  • (Aluminum atom conversion) / transition metal complex) is usually 0.01 to 10,000, preferably 5 to 2,000.
  • the molar ratio (compound (B) / transition metal complex) of the compound (B) and the transition metal complex used as the catalyst component (total of the trimerization catalyst component and the olefin polymerization catalyst component) is usually 0.01 to 100, preferably 0.5-10.
  • the ratio of the moles of aluminum atoms in the compound (A) to the moles of titanium atoms in the solid catalyst component is usually 1 to 10000, preferably 1 to 2000, and more preferably 2 to 600.
  • the concentration of the transition metal complex used as the catalyst component is usually 0.0001 to 5 mmol / liter, preferably 0.001 to 1 mmol / liter.
  • the concentration of the compound (A) is usually 0.01 to 500 mmol / liter, preferably 0.1 to 100 mmol / liter in terms of aluminum atoms.
  • the concentration of the compound (B) is usually from 0.0001 to 5 mmol / liter, preferably from 0.001 to 1 mmol / liter.
  • the catalyst component for olefin polymerization composed of the transition metal complex represented by the general formula (2) and the activation promoter component may be supported on a carrier and used.
  • a carrier a porous material is preferably used, an inorganic material or an organic polymer is more preferably used, and an inorganic material is more preferably used.
  • the carrier will be described later.
  • the method for contacting each catalyst component is not particularly limited.
  • An olefin polymerization catalyst component, a trimerization catalyst component, and an activation promoter component may be contacted in advance to prepare a polymerization catalyst, and the polymerization catalyst may be supplied to the polymerization reactor. Further, the catalyst components may be supplied to the polymerization reactor in an arbitrary order, and contact treatment may be performed in the polymerization reactor.
  • the polymerization reactor may be supplied with an olefin polymerization catalyst component and a trimerization catalyst component that have been contacted in advance (including those produced simultaneously with an olefin polymerization catalyst component and a trimerization catalyst component).
  • the olefin polymerization catalyst component and the activation promoter component may be supplied in advance, or the trimerization catalyst component and the activation promoter component may be supplied in advance. Good.
  • inorganic substances used for the carrier include inorganic oxides and magnesium compounds, and clays and clay minerals can also be used. These may be mixed and used.
  • the inorganic oxide used for the support include SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO, ThO 2 and the like, and mixtures thereof, for example SiO 2 —MgO, SiO 2 —Al 2 O 3 , SiO 2 —TiO 2 , SiO 2 —V 2 O 5 , SiO 2 —Cr 2 O 3 , SiO 2 —TiO 2 —MgO, and the like can be exemplified. .
  • SiO 2 and Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is more preferable.
  • the inorganic oxide includes a small amount of Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , CaCO 3 , MgCO 3 , Na 2 SO 4 , Al 2 (SO 4 ) 3 , BaSO 4 , KNO 3 , Mg (NO 3 ). 2 , carbonates such as Al (NO 3 ) 3 , Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O, sulfates, nitrates, and oxide components may be contained.
  • a hydroxyl group is usually generated on the surface of an inorganic oxide, but a modified inorganic oxide in which active hydrogen of the surface hydroxyl group is substituted with various substituents may be used as the inorganic oxide.
  • the substituent is preferably a silyl group.
  • modified inorganic oxide examples include trialkylchlorosilanes such as trimethylchlorosilane and tert-butyldimethylchlorosilane, triarylchlorosilanes such as triphenylchlorosilane, dialkyldichlorosilanes such as dimethyldichlorosilane, and diaryldisilanes such as diphenyldichlorosilane.
  • Dialkyldialkoxy such as chlorosilane, alkyltrichlorosilane such as methyltrichlorosilane, aryltrichlorosilane such as phenyltrichlorosilane, trialkylalkoxysilane such as trimethylmethoxysilane, triarylalkoxysilane such as triphenylmethoxysilane, and dimethyldimethoxysilane
  • Diaryl dialkoxysilanes such as silane, diphenyldimethoxysilane, and alkyltria such as methyltrimethoxysilane
  • aryltrialkoxysilane such as coxisilane, phenyltrimethoxysilane, tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane, alkyldisilazane such as 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, tetrachlorosilane, etc
  • Magnesium compounds used as carriers include magnesium halides such as magnesium chloride, magnesium bromide, magnesium iodide, magnesium fluoride; methoxy magnesium chloride, ethoxy magnesium chloride, isopropoxy magnesium chloride, butoxy magnesium chloride, octoxy magnesium chloride, etc.
  • Alkoxymagnesium halides such as phenoxymagnesium chloride and methylphenoxymagnesium chloride; alkoxymagnesiums such as ethoxymagnesium, isopropoxymagnesium, butoxymagnesium, n-octoxymagnesium, 2-ethylhexoxymagnesium; Allyloxymagnesium such as dimethylphenoxymagnesium Magnesium laurate, and the like can be exemplified carboxylates of magnesium such as magnesium stearate.
  • magnesium halide or alkoxymagnesium is preferable, and magnesium chloride or butoxymagnesium is more preferable.
  • Examples of the clay or clay mineral used for the carrier include kaolin, bentonite, kibushi clay, gyrome clay, allophane, hysingelite, bayophilite, talc, ummo group, montmorillonite group, vermiculite, ryokdeite group, palygorskite, kaolinite, Examples include naclite, dickite and halloysite. Among these, smectite, montmorillonite, hectorite, laponite or saponite is preferable, and montmorillonite or hectorite is more preferable.
  • an inorganic oxide is preferable.
  • the temperature of the heat treatment is usually 100 to 1500 ° C., preferably 100 to 1000 ° C., more preferably 200 to 800 ° C.
  • the time for the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, more preferably 1 hour to 30 hours.
  • Examples of the heat treatment method include a method in which a heated inert gas (for example, nitrogen or argon) is circulated for several hours or more at a constant flow rate, or a pressure is reduced for several hours after heating. Although the method is mentioned, the method is not limited.
  • the average particle size of the carrier made of an inorganic substance is preferably 5 to 1000 ⁇ m, more preferably 10 to 500 ⁇ m, and further preferably 10 to 100 ⁇ m.
  • the pore volume of the carrier made of an inorganic substance is preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.3 to 10 ml / g.
  • the specific surface area of the support made of an inorganic substance is preferably 10 to 1000 m 2 / g, more preferably 100 to 500 m 2 / g.
  • the organic polymer used for the carrier is not particularly limited, and two or more organic polymers may be used as a mixture.
  • the organic polymer has a group having active hydrogen and / or a non-proton-donating Lewis basic group. Polymers are preferred.
  • the group having active hydrogen is not particularly limited as long as it has active hydrogen.
  • Specific examples include primary amino group, secondary amino group, imino group, amide group, hydrazide group, amidino group, hydroxy group,
  • Examples include hydroperoxy group, carboxyl group, formyl group, carbamoyl group, sulfonic acid group, sulfinic acid group, sulfenic acid group, thiol group, thioformyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, piperidyl group, indazolyl group, carbazolyl group and the like.
  • the non-proton-donating Lewis basic group is not particularly limited as long as it has a Lewis base part having no active hydrogen atom. Specific examples thereof include a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted indazolyl group.
  • Nitrile group azido group, N-substituted imino group, N, N-substituted amino group, N, N-substituted aminooxy group, N, N, N-substituted hydrazino group, nitroso group, nitro group, nitrooxy group, furyl Group, carbonyl group, thiocarbonyl group, alkoxy group, alkyloxycarbonyl group, N, N-substituted carbamoyl group, thioalkoxy group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, substituted sulfonic acid group and the like.
  • heterocyclic group more preferred is an aromatic heterocyclic group having an oxygen atom and / or a nitrogen atom in the ring, and particularly preferred is a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group or an N-substituted indazolyl.
  • Group most preferably a pyridyl group. These groups may be substituted with a halogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the molar amount of the group per gram of polymer unit is preferably 0.01 to 50 mmol / g, More preferably, it is 0.1 to 20 mmol / g.
  • a polymer having such a group is obtained by, for example, homopolymerizing a monomer having an active hydrogen group and / or a non-proton-donating Lewis basic group and one or more polymerizable unsaturated groups, or the like. And other monomers having one or more polymerizable unsaturated groups. Moreover, it is preferable to use a crosslinkable polymerizable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups as at least one of the other monomers.
  • Examples of the monomer having a group having active hydrogen and / or a non-proton-donating Lewis basic group and one or more polymerizable unsaturated groups include the group having active hydrogen and one or more polymerizable groups. Examples thereof include a monomer having a saturated group, and a monomer having a Lewis base part having no active hydrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups. Examples of such polymerizable unsaturated groups include alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups; alkynyl groups such as ethyne groups.
  • Examples of monomers having a group having active hydrogen and one or more polymerizable unsaturated groups include vinyl group-containing primary amines, vinyl group-containing secondary amines, vinyl group-containing amide compounds, vinyl group-containing hydroxy compounds, etc. Can be mentioned. Specific examples include N- (1-ethenyl) amine, N- (2-propenyl) amine, N- (1-ethenyl) -N-methylamine, N- (2-propenyl) -N-methylamine, 1 -Ethenylamide, 2-propenylamide, N-methyl- (1-ethenyl) amide, N-methyl- (2-propenyl) amide, vinyl alcohol, 2-propen-1-ol, 3-buten-1-ol, etc. Can be mentioned.
  • the monomer having a non-proton donating Lewis basic group and one or more polymerizable unsaturated groups include vinylpyridine, vinyl (N-substituted) imidazole, vinyl (N-substituted) indazole and the like. be able to.
  • Examples of other monomers having one or more polymerizable unsaturated groups include olefins and aromatic vinyl compounds. Specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1- Examples include pentene and styrene. Preferred is ethylene or styrene. Two or more of these monomers may be used. Specific examples of the crosslinkable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups include divinylbenzene.
  • the average particle size of the carrier made of an organic polymer is preferably 5 to 1000 ⁇ m, more preferably 10 to 500 ⁇ m.
  • the pore volume of the support made of an organic polymer is preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.3 to 10 ml / g.
  • the specific surface area of the support made of an organic polymer is preferably 10 to 1000 m 2 / g, more preferably 50 to 500 m 2 / g.
  • the temperature of the heat treatment is usually 30 to 400 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 70 to 150 ° C.
  • the time for the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, more preferably 1 hour to 30 hours.
  • Examples of the heat treatment method include a method in which a heated inert gas (for example, nitrogen or argon) is circulated for several hours or more at a constant flow rate, or a pressure is reduced for several hours after heating. Although the method is mentioned, the method is not limited.
  • the volume standard geometric standard deviation of the particle size of the carrier is preferably 2.5 or less, more preferably 2.0 or less, and even more preferably 1.7 or less.
  • the present invention is a method for producing an ethylene polymer that polymerizes ethylene in the presence of the above-mentioned catalyst for olefin polymerization.
  • polymerization may be performed by supplying only ethylene as a raw material monomer, or polymerization may be performed by supplying a monomer copolymerizable with ethylene and ethylene.
  • Monomers copolymerizable with ethylene include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 4-methyl-1- Olefin having 3 to 20 carbon atoms such as pentene and 4-methyl-1-hexene; cyclic olefin such as norbornene; alkenyl aromatic hydrocarbyl such as styrene; unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid and methacrylic acid; acrylic acid Examples thereof include unsaturated carboxylic acid esters such as methyl, ethyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, and ethyl methacrylate; vinyl ester compounds such as vinyl acetate. These may be used independently and 2 or more types may be used.
  • the polymerization method is not particularly limited.
  • aliphatic hydrocarbyl such as butane, pentane, hexane, heptane, and octane
  • aromatic hydrocarbyl such as benzene and toluene
  • halogenation such as methylene dichloride.
  • Solvent polymerization using hydrocarbyl as a solvent, slurry polymerization, gas phase polymerization in a gaseous monomer, or the like is possible. Further, either continuous polymerization or batch polymerization is possible.
  • the present invention is capable of obtaining a polymer having a butyl branch even if the supply of hexene as a raw material monomer is a small amount of polymerization or the polymerization is performed by supplying only ethylene as a raw material monomer. . Therefore, as a polymerization condition in which the effect of the present invention becomes more conspicuous, when the polymerization mode is slurry polymerization, the mole fraction of ethylene in the polymerization system (the total amount of ethylene and 1-hexene in the polymerization system is 100 mol%) Is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and still more preferably 100 mol%.
  • the molar fraction of ethylene in the polymerization system (the total amount of ethylene and 1-hexene in the polymerization system is 100 mol%) is preferably 97 mol% or more. More preferably, it is 98 mol% or more, More preferably, it is substantially 100 mol%.
  • the concentration of the olefin polymerization catalyst in the polymerization solution is usually calculated as the molar conversion of the transition metal complex used as the catalyst component (total of the trimerization catalyst component and the olefin polymerization catalyst component). 0.0001 to 5 mmol / liter.
  • the concentration of the olefin polymerization catalyst is preferably 2 mmol / liter or less, and more preferably 1 mmol / liter or less, in order to improve economy.
  • the concentration of the olefin polymerization catalyst is preferably 0.001 mmol / liter or more, more preferably 0.01 mmol / liter or more, and still more preferably 0.8 in order to further increase the number of butyl branches. 1 mmol / liter or more, particularly preferably 0.5 mmol / liter or more.
  • the polymerization pressure is preferably from normal pressure to 5 MPa.
  • the polymerization time is appropriately determined depending on the kind of the target polymer and the reaction apparatus, but can be in the range of 1 minute to 20 hours.
  • a chain transfer agent such as hydrogen can also be added to adjust the molecular weight of the ethylene polymer.
  • the polymerization temperature can range from 0 ° C to 220 ° C.
  • the polymerization temperature is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, still more preferably 50 ° C. or higher, and most preferably 70 ° C. or higher in order to improve economy.
  • the polymerization temperature is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, in order to further increase the number of butyl branches.
  • Examples of the ethylene polymer obtained by the production method of the present invention include an ethylene-1-hexene copolymer, an ethylene-1-hexene-propylene copolymer, an ethylene-1-hexene-1-butene copolymer, an ethylene- 1-hexene-1-octene copolymer, ethylene-1-hexene-4-methyl-1-pentene copolymer, ethylene-1-hexene-1-butene-1-octene copolymer, ethylene-1-hexene -1-butene-4-methyl-1-pentene copolymer, ethylene-1-hexene-styrene copolymer, ethylene-1-hexene-norbornene copolymer, ethylene-1-hexene-propylene-styrene copolymer And ethylene-1-hexene-propylene-norbornene copolymer.
  • the ethylene polymer is preferably an ethylene-1-hexene copolymer, an ethylene-1-hexene-propylene copolymer, an ethylene-1-hexene-1-butene copolymer, or an ethylene-1-hexene-1-octene.
  • -1-hexene copolymer and ethylene-1-hexene-1-butene copolymer are preferably ethylene-1-hexene copolymer and ethylene-1-hexene-1-butene copolymer.
  • the number of butyl branches per 1000 carbon atoms of the ethylene polymer is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, and even more preferably 5 or more, from the viewpoint of increasing the mechanical strength of the ethylene polymer. And particularly preferably 10 or more.
  • the number of butyl branches is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and further preferably 25 or less, from the viewpoint of increasing the rigidity of the ethylene-based polymer.
  • the number of butyl branches can be determined by carbon nuclear magnetic resonance ( 13 C-NMR) method, IR method, or the like.
  • the melting point of the ethylene polymer is preferably less than 130 ° C. from the viewpoint of increasing the mechanical strength of the ethylene polymer.
  • the melting point can be determined using a differential scanning calorimeter.
  • trimerization catalyst component By increasing the molar ratio of the trimerization catalyst component and the olefin polymerization catalyst component used in the preparation of the polymerization catalyst (trimerization catalyst component / olefin polymerization catalyst component), and by lowering the polymerization temperature The number of butyl branches per 1000 carbon atoms in the ethylene polymer can be increased.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the ethylene polymer is preferably 1.5 or more in order to improve the processability of the polymer. In order to increase the mechanical strength of the polymer, Mw / Mn is preferably 20 or less.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) was determined by gel permeation chromatography and calculating polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn), and Mw divided by Mn (Mw / Mn).
  • the ethylene polymer is produced by a known molding method, for example, an extrusion molding method such as an inflation film molding method or a T-die film molding method; a hollow molding method; an injection molding method; a compression molding method; These are molded into various shaped bodies (films, sheets, containers (bottles, trays, etc.)) and used.
  • a known molding method for example, an extrusion molding method such as an inflation film molding method or a T-die film molding method; a hollow molding method; an injection molding method; a compression molding method; These are molded into various shaped bodies (films, sheets, containers (bottles, trays, etc.)) and used.
  • the ethylene polymer may be molded by blending with a known resin.
  • the molded body may be a single-layer molded body containing an ethylene polymer, or a multilayer molded body having a layer containing an ethylene polymer.
  • Molded products include food packaging films, food packaging containers, pharmaceutical packaging materials, surface protection films, electronic component packaging materials used for packaging semiconductor products, cross-linked foam molded products, extruded foam molded products, hollow molded products, blow molded products Examples include bottles and squeeze bottles.
  • Sample cell 5 mm ⁇ tube
  • Measurement solvent CDCl 3 or CD 2 Cl 2
  • Sample concentration 10 mg / 0.5 mL (CDCl 3 or CD 2 Cl 2 )
  • Measurement temperature room temperature (about 25 ° C)
  • Measurement parameters 5 mm ⁇ probe, EXMOD NON, OBNUC 1 H, integration number 16 times or more Repeat time: ACQTM 6 seconds, PD 1 second Internal standard: CDCl 3 (7.26 ppm) or CD 2 Cl 2 (5.32 ppm)
  • Pentane was added and the mixture was cooled to ⁇ 20 ° C., and the resulting solid was filtered, washed with a small amount of pentane, and then dried under reduced pressure to give Complex 11 (0.03 g, yield 2.7%) as an orange solid. Got as.
  • the white solid obtained by adding diethyl ether was filtered, washed with a small amount of pentane, and then dried under reduced pressure to give 1-dimethylphenylsilyl-methylcyclopentadienyl lithium (2.31 g, yield 86.1). %) As a white solid.
  • the white solid obtained by adding diethyl ether was filtered, washed with a small amount of pentane, and then dried under reduced pressure to give 1-dimethylphenylsilyl-tert-butylcyclopentadienyl lithium (0.28 g, yield 14). .3%) was obtained as a white solid.
  • Example 33 “Synthesis of Complex 29” Similar to Example 29, except that a 1.12 M diethyl ether solution (1.83 mL, 2.05 mmol) in methyl lithium was used instead of a 0.93 M diethyl ether solution (1.91 mL, 1.78 mmol) in methyl magnesium iodide. To give complex 29.
  • Example 37 “Synthesis of Complex 31” Instead of using a toluene solution of lithium phenoxide (0.34g, 3.37mmol), generated from a 3.00M tetrahydrofuran solution of methylmagnesium chloride (0.94mL, 2.82mmol) and phenol (0.27g, 2.82mmol) The complex 31 is obtained by performing the reaction in the same manner as in Example 28 except that the phenoxy magnesium chloride (0.43 g, 2.82 mmol) is used.
  • a solution (10 mL) of trichloride (0.50 g, 0.94 mmol) in tetrahydrofuran was added dropwise, and the temperature was gradually raised to 0 ° C. with stirring to produce [1-triphenylsilyl-2,3,4,5-tetra Methylcyclopentadienyl] dichlorotitanium phenoxide is obtained.
  • a solution (10 mL) of trichloride (0.50 g, 0.94 mmol) in tetrahydrofuran was added dropwise, and the temperature was gradually raised to 0 ° C. with stirring to produce [1-triphenylsilyl-2,3,4,5-tetra Methylcyclopentadienyl] chlorotitanium diphenoxide is obtained.
  • complex 34 [1- (1-Methyl-1- (3,5-dimethylphenyl) ethyl) -3-trimethylsilylcyclopentadienyl] titanium trichloride (hereinafter referred to as “complex 34”) is a known method (Organometrics 2002, 21, 5122-5135.).
  • Example 41 After drying under reduced pressure, the inside of a 0.4 liter autoclave equipped with a stirrer substituted with argon was evacuated, charged with 90 ml of toluene, the temperature in the system was raised to 40 ° C., and methylaluminoxane (PMAO-manufactured by Tosoh Finechem) 0.41 mL of a hexane solution of methylaluminoxane having a concentration of s) of 2.45 mmol / mL was added. Next, ethylene was introduced so that the partial pressure became 0.5 MPa, and the inside of the system was stabilized.
  • methylaluminoxane PMAO-manufactured by Tosoh Finechem
  • Example 42 After drying under reduced pressure, the inside of a 0.4 liter autoclave equipped with a stirrer substituted with argon was evacuated, 90 ml of toluene was charged, the temperature in the system was raised to 80 ° C., and methylaluminoxane (PMAO-manufactured by Tosoh Finechem) 0.41 mL of a hexane solution of methylaluminoxane having a concentration of s) of 2.45 mmol / mL was added. Next, ethylene was introduced so that the partial pressure became 0.5 MPa, and the inside of the system was stabilized.
  • methylaluminoxane PMAO-manufactured by Tosoh Finechem
  • Example 43 After drying under reduced pressure, the inside of a 0.4 liter autoclave with a stirrer substituted with argon was evacuated, 90 ml of toluene was charged, the temperature in the system was raised to 80 ° C., and the Al concentration was 9.2 wt% (3. 4 mmol / g) of 0.73 g of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO-s manufactured by Tosoh Finechem) was added. Next, ethylene was introduced so that the partial pressure became 0.5 MPa, and the inside of the system was stabilized. To this, 1.0 ml of a toluene solution of Complex 1 (1 ⁇ mol / ml) was added.
  • TMAO-s methylaluminoxane
  • the reaction was carried out at 80 ° C. for 30 minutes while continuously supplying ethylene gas so as to keep the total pressure constant. Thereafter, ethylene was purged, and the contents in the autoclave were deashed with ethanol-hydrochloric acid and filtered. 1-hexene was obtained with an activity of 1.96 ⁇ 10 6 g / mol complex / h, and a polymer was obtained with an activity of 0.06 ⁇ 10 6 g / mol complex / h.
  • Example 44 As a result of performing the same operation as in Example 43, except that Complex 2 was used instead of Complex C0484, 1-hexene was obtained with an activity of 2.10 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.1 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 45 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 9 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.28 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.02 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 46 As a result of performing the same operation as in Example 43, except that Complex 5 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.09 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.02 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 47 As a result of performing the same operation as in Example 43, except that Complex 3 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.21 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.06 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 48 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 6 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.09 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.12 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 49 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 7 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.43 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.07 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 50 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 4 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.15 ⁇ 10 6 g / mol complex / h, Was obtained with an activity of 0.03 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 51 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 11 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 3.71 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.01 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 52 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 21 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 0.91 ⁇ 10 6 g / mol complex / h, Was obtained with an activity of 0.04 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 53 After drying under reduced pressure, the inside of a 0.4 liter autoclave equipped with a stirrer substituted with argon was evacuated, 90 ml of toluene was charged, the temperature in the system was raised to 80 ° C., and then the concentration was 1.0 mmol / mL. 0.4 mL of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) was charged into the autoclave. Next, ethylene was introduced so that the partial pressure became 0.5 MPa, and the inside of the system was stabilized.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 54 The same operation as in Example 53 was performed, except that N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (AB) was used instead of triphenylmethyltetrakis (pentafluorophenyl) borate (TB).
  • AB N, N-dimethylanilinium tetrakis
  • TB triphenylmethyltetrakis
  • Example 55 As a result of performing the same operation as in Example 53 except that Complex 11 was used instead of Complex 9, 1-hexene was obtained with an activity of 3.43 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.10 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 56 As a result of performing the same operation as in Example 54, except that Complex 11 was used instead of Complex 9, 1-hexene was obtained with an activity of 4.75 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.12 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 57 As a result of performing the same operation as in Example 43 except that Complex 23 was used instead of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 0.77 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.03 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 58 As a result of performing the same operation as in Example 43, except that Complex 24 was used in place of Complex 1, 1-hexene was obtained with an activity of 1.61 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. Was obtained with an activity of 0.05 ⁇ 10 6 g / mol complex / h. The results are shown in Table 1.
  • Example 59 After drying under reduced pressure, the inside of a 0.4 liter autoclave with a stirrer substituted with argon was evacuated, 90 ml of toluene was charged, the temperature in the system was raised to 80 ° C., and the Al concentration was 9.2 wt% (3. 4 mmol / g) of 0.73 g of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO-s manufactured by Tosoh Finechem) was added. Next, ethylene was introduced so that the partial pressure became 2.0 MPa, and the inside of the system was stabilized. To this, 1.0 ml of a toluene solution of complex 11 (1 ⁇ mol / ml) was added.
  • TMAO-s methylaluminoxane
  • the reaction was carried out at 80 ° C. for 30 minutes while continuously supplying ethylene gas so as to keep the total pressure constant. Thereafter, ethylene was purged, and the contents in the autoclave were deashed with ethanol-hydrochloric acid and filtered. 1-hexene was obtained with an activity of 11.46 ⁇ 10 6 g / mol complex / h, and a polymer was obtained with an activity of 0.40 ⁇ 10 6 g / mol complex / h.
  • Liquid feeding device (LC pump) Model 305 (pump head 25.SC) manufactured by Gilson Column: Polymer Laboratories (PL), PLgel Mixed-B 10 ⁇ m 7.5mm ⁇ ⁇ 300mm Mobile phase: o-dichlorobenzene Dissolving solvent: 1,2,4-trichlorobenzene Flow rate: 2 ml / min Column temperature: 160 ° C
  • Calibration curve PL standard product polystyrene (PS) 8 samples (standard PS molecular weight) 5,000, 10,050, 28,500, 65,500 185,400, 483,000, 1,013,000, 3,390,000
  • Complex 35 Known Transition Metal Complex Dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride (hereinafter referred to as “complex 35”) is known. It was synthesized according to the method (Japanese Patent Laid-Open No. 9-87313).
  • Dimethylsilylene (tert-butylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) titanium dichloride (hereinafter referred to as “complex 36”) was synthesized according to a known method (No. 2535249).
  • complex 37 Isopropylidenebis (indenyl) hafnium dichloride (hereinafter referred to as “complex 37”) was synthesized according to a known method (Organometallics (1997), 16 (4), 713).
  • complex 38 rac-dimethylsilylenebis [2-ethyl-4- (2-fluoro-4-biphenylyl) -4H-azurenyl] hafnium dichloride
  • Diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride (hereinafter referred to as “complex 39”) was synthesized according to a known technique (Japanese Patent No. 3154999).
  • complex 40 1,2-ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide
  • complex 42 1,2-ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride
  • complex 43 Isopropylidene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride (hereinafter referred to as “complex 43”) was synthesized according to a known method (Japanese Patent Laid-Open No. 9-87313). did.
  • Dimethylsilylene (indenyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride (hereinafter referred to as “complex 44”) was synthesized according to a known method (Japanese Patent Laid-Open No. 9-87313).
  • complex 45 Isopropylidene (3-tert-butyl-5-methylcyclopentadienyl) (3,6-di-tert-butylfluorenyl) zirconium dichloride (hereinafter referred to as “complex 45”) is a known method (WO2001 / No. 027124).
  • Dimethylsilylene (fluorenyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride (hereinafter referred to as “complex 46”) was synthesized according to a known method (Macromolecules 2010, 43, 2299-2306).
  • Example 60 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 61 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 62 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 63 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 64 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 65 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 66 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 67 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 68 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 69 Under nitrogen, 3.7 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Polymerization was started by adding 900 ⁇ L of a toluene solution with 09 ⁇ mol, and polymerization was performed at 70 ° C. for 6 minutes. During the polymerization, ethylene gas was supplied so as to keep the total pressure in the autoclave constant. After completion of the polymerization, the ethylene in the autoclave was purged, and the volatile component was distilled off under reduced pressure to obtain a polymer. The activity was 34.4 ⁇ 10 6 g / mol complex / h.
  • Example 70 Under nitrogen, an autoclave was charged with 0.02 ml of 1-hexene and 3.7 ml of toluene, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 400 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 71 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 72 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 73 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 74 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 75 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 76 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 77 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 78 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 79 Under nitrogen, 3.64 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 80 The autoclave was charged with 0.02 ml of 1-hexene and 3.62 ml of toluene under nitrogen, the temperature in the system was raised to 70 ° C., and ethylene was pressurized to 0.60 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum (TIBA) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TIBA triisobutylaluminum
  • Example 81 Under nitrogen, 3.68 ml of toluene was charged in an autoclave, the temperature in the system was raised to 80 ° C., and ethylene was pressurized to 0.50 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of triisobutylaluminum having a concentration of 0.10 mmol / mL was put into the autoclave. Next, in the autoclave, [1-tris (3,5-dimethylphenyl) silyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl] trimethyltitanium (complex 30) having a concentration of 0.001 mmol / mL.
  • Example 82 The same operation as in Example 81 was performed, except that the ethylene pressure was changed from 0.50 MPa to 0.80 MPa and the reaction time was 12 minutes. The results are shown in Table 4 and the time course of ethylene absorption is shown in FIG.
  • Example 83 The same operation as in Example 81 was performed except that the complex 11 was used in place of the complex 30 and the reaction time was 60 minutes. The results are shown in Table 4, and the time course of ethylene absorption is shown in FIG.
  • Example 84 Under nitrogen, 3.8 ml of toluene was charged into the autoclave, the temperature inside the system was raised to 80 ° C., and ethylene was pressurized to 0.50 MPa and stabilized. Next, 160 ⁇ L of a toluene solution of methylaluminoxane (TMAO manufactured by Tosoh Finechem) having a concentration of 0.25 mmol / mL was put into the autoclave.
  • TMAO methylaluminoxane
  • Example 85 The same operation as in Example 84 was performed except that the complex 9 was used instead of the complex 29. The results are shown in Table 5, and the time course of ethylene absorption is shown in FIG.
  • the present invention provides a transition metal complex serving as a catalyst component capable of producing 1-hexene efficiently and with high selectivity by a trimerization reaction of ethylene even under high temperature conditions. Since a method for economically producing an ethylene-based polymer having a butyl branch even under high temperature conditions is provided, it has high industrial applicability.

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Abstract

　高温条件においてもエチレンの三量化反応により１－ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供する。また、該遷移金属錯体をエチレン三量化用触媒として用いて、オレフィン共重合触媒および活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合して、ブチル分岐を有するエチレン系重合体を、高温条件においても経済的に製造する方法を提供する。　該遷移金属錯体は、下記一般式（１）で表される。［式中、Ｍ１は第４族の遷移金属原子を表し、Ｒ１からＲ１１、及びＸ１からＸ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は特定の有機基を表す。］

Description

遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１－ヘキセンの製造方法、エチレン系重合体の製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法
　本発明は、遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１－ヘキセンの製造方法、エチレン系重合体の製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法に関するものである。
　α－オレフィンは金属触媒によるエチレンのオリゴマー化により製造される工業的に重要な原料モノマーである。しかしながら、エチレンのオリゴマー化は通常Ｓｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ分布に従いα－オレフィンの混合物を与えるため、選択的なα－オレフィンを製造しうる触媒系の開発は産業的に非常に重要である。
　例えば、特許文献１には、式（Ｃｐ－Ｂ（Ｒ）ｎＡｒ）ＴｉＲ１ ３で示されるハーフメタロセンチタン錯体が、活性化助触媒成分の存在下、選択的なエチレンの三量化用触媒成分として働くことが報告されている。
　これらの選択的エチレン三量化用触媒の中で、［１－（１－メチル－１－（３，５－ジメチルフェニル）エチル）－３－トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどの炭素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体が、活性化助触媒成分としてＭＡＯ（メチルアルミノキサン）を使用し、３０℃の条件で効率的なエチレン三量化用触媒として働くことが報告されている（例えば非特許文献１参照）。一方で、ケイ素原子でシクロペンタジエンとフェニル基が結合された［ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドは、同じ条件下においてエチレン三量化反応の触媒活性は低く、ポリエチレンを多く副生することが報告されている（非特許文献１参照）。
　また、類似の炭素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体を用いたエチレン三量化用触媒系は、８０℃の高温条件では１－ヘキセン生成の触媒活性、及び、１－ヘキセンの生成選択性が３０℃の場合と比べて、大きく低下することが報告されている（非特許文献２参照）。
　エチレン単位を有する主鎖とアルキル側鎖（例えば、エチル分岐、ブチル分岐など）とを有するエチレン系共重合体、例えば、直鎖状低密度ポリエチレンは、従来、オレフィン重合用触媒の存在下で、エチレンとα－オレフィン（例えば、１－ブテン、１－ヘキセンなど）とを共重合させることにより製造されてきた。
　しかし、従来のエチレン系共重合体の製造方法では、エチレンと高価なα－オレフィンとを原料モノマーとして使用する必要があり、経済的に十分満足のいく方法ではなかった。そこで、近年では、原料モノマーとしてエチレンのみを使用して、エチレンオリゴマー化触媒とオレフィン共重合触媒を一つの反応器の中で用いたタンデム重合法により、アルキル側鎖を有するエチレン系重合体を製造する方法が検討されている。
　例えば、オレフィン共重合触媒としてジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、エチレン三量化用触媒として［１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、活性化助触媒成分としてＭＭＡＯとを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合してブチル分岐を有するエチレン系重合体を製造する方法が提案されている（非特許文献３及び４参照）。ここでは、オレフィン共重合触媒とエチレン三量化用触媒の混合比を変えることで幅広い範囲の融点と結晶性を有するエチレン系重合体が得られることが報告されているが、２５～３０℃での場合と比べて、４５～５０℃では、エチレン系重合体中の１－ヘキセンの割合が大きく低下することが報告されている（非特許文献３参照）。特に７０℃では１－ヘキセンの取り込みは観測されず、融点が１３３．６℃と非常に高いエチレン共重合体を与えることが報告されている（非特許文献４参照）。
　非特許文献４には、オレフィン共重合触媒としてｒａｃ－ジメチルシリレンビス（２－メチルベンズ［ｅ］インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン三量化用触媒として［１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、活性化助触媒成分としてＭＭＡＯを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合させることにより、融点の低いエチレン系重合体が得られることが記載されているが、２５℃を超える温度での重合例は報告されていない。
特表２００４－５２４９５９
Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ　２００２，２１，５１２２－５１３５． Ｃｈｉｎｅｓｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　２００６，２４，１３９７－１４０１． Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｒａｐｉｄ　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ　２００４，２５，６４７－６５２． Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ　Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　２００４，４２，４３２７－４３３６．
　かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、高温条件においてもエチレンの三量化反応により１－ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供することにある。また、該遷移金属錯体をエチレン三量化用触媒として用いて、オレフィン共重合触媒および活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合して、ブチル分岐を有するエチレン系重合体を、高温条件においても経済的に製造する方法を提供することにある。
　すなわち、本発明の第１は、一般式（１）で表される遷移金属錯体にかかるものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
［式中、Ｍ１は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ５及びＲ９はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０及びＲ１１は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
　また、本発明の第２は、前記遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒にかかるものである。
　さらに、本発明の第３は、三量化用触媒を用いた１－ヘキセンの製造方法にかかるものである。
　また、本発明の第４は、オレフィン重合用触媒成分と、
下記一般式（１）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法にかかるものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
［式中、Ｍ１は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ５及びＲ９はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０及びＲ１１は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
　さらに、本発明の第５は、前記一般式（１）で表される遷移金属錯体、下記一般式（１－２）で表される遷移金属錯体、および下記一般式（１－３）で表される遷移金属錯体の製造方法にかかるものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は
それぞれ独立に、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
を表し、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４のうち少なくとも一つは、該アルキル基、該アリール基、該アラルキル基である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は
それぞれ独立に、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２５、Ｒ２６、及びＲ２７のうち少なくとも一つは、該アルコキシ基、該アリールオキシ基、該アラルキルオキシ基である。］
　また、本発明の第６は、一般式（６－１）で示される置換シクロペンタジエン化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
［式中、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ３２及びＲ３６はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ３３、Ｒ３４及びＲ３５はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ３７は、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
または－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
Ｒ３８は
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
または－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ３７及びＲ３８は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
を表す。］
　一般式（６－２）で示される置換シクロペンタジエン化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
［式中、Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ４３及びＲ４７はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ４４、Ｒ４５及びＲ４６はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ４８及びＲ４９はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基を表し、
Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６及びＲ４７のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ４８及びＲ４９は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
を表す。］
　一般式（６－３）で示される置換シクロペンタジエン化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
［式中、Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３のうち少なくとも二つは該アルキル基であり、
Ｒ５４及びＲ５８はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５５、Ｒ５６及びＲ５７はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５９及びＲ６０はそれぞれ独立に、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
または
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つのアルキル基は結合して、該２つのアルキル基が結合している２つの炭素原子と一緒になってシクロヘキセン環を形成している。
Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７及びＲ５８のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５９及びＲ６０は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
一般式（６－４）で示される置換シクロペンタジエン化合物、
［式中、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ６５、Ｒ６６、Ｒ６７、Ｒ６８及びＲ６９は、その部分構造式（１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
が、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルフェニル、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）メチルフェニル、アントラセン、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニルであり、
Ｒ７０及びＲ７１はそれぞれメチル基であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
一般式（６－５）で示される置換シクロペンタジエン化合物、または
［式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
Ｒ７６及びＲ８０はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ７７、Ｒ７８及びＲ７９はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ８１は、メチル基を表し、
Ｒ８２は、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアリール基を表し、
Ｒ７６、Ｒ７７、Ｒ７８、Ｒ７９及びＲ８０のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ８１及びＲ８２は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　一般式（６－６）で示される置換シクロペンタジエン化合物にかかるものである。
［式中、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は全て同時にメチル基ではない。
Ｒ８７、Ｒ８８、Ｒ８９、Ｒ９０及びＲ９１は水素原子であり、
Ｒ９２及びＲ９３はメチル基を表し
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
を表す。］
　また、本発明の第７は、上記一般式（６－１）～（６－６）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法にかかるものである。
　本発明により、高温条件においてもエチレンの三量化反応により１－ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分に好適な遷移金属錯体を提供することができる。さらに、該遷移金属錯体をエチレン三量化用触媒として用いて、オレフィン共重合触媒および活性化助触媒とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合して、ブチル分岐を有するエチレン系重合体を、高温条件においても経済的に製造する方法を提供することができる。
図１は、本発明の一実施例におけるエチレン吸収の経時変化を示すグラフである。 図２は、本発明の一実施例におけるエチレン吸収の経時変化を示すグラフである。 図３は、本発明の一実施例におけるエチレン吸収の経時変化を示すグラフである。 図４は、本発明の一実施例におけるエチレン吸収の経時変化を示すグラフである。 図５は、本発明の一実施例におけるエチレン吸収の経時変化を示すグラフである。
　本発明において「重合」という語は、単独重合のみならず、共重合を包含したものである。また、本発明において「置換基」という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。
　さらに、本発明において、一般式（６）、（６－１）～（６－６）で表される置換シクロペンタジエン化合物には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においては、該置換シクロペンタジエニル化合物は、それらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
＜遷移金属錯体（１）（三量化用触媒成分）＞
　以下、一般式（１）で表される遷移金属錯体について詳述する。
　遷移金属錯体（１）において、Ｍ１は元素周期律表の第４族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
　前記遷移金属錯体（１）において、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基の「炭素原子数１～２０のアルキル基」の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びｎ－エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数１～１０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１～２０の範囲であると好ましく、炭素原子数１～１０の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基の「炭素原子数６～２０のアリール基」の具体例としては、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数６～１０のアリール基であり、さらに好ましはフェニル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６～２０の範囲であると好ましく、６～１０の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基の「炭素原子数７～２０のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数７～１０のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７～２０の範囲であると好ましく、７～１０の範囲がさらに好ましい。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基の「炭素原子数１～２０のアルコキシ基」の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ－エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数１～１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ－ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１～２０の範囲であると好ましく、１～１０の範囲がさらに好ましい。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルコキシ基の「炭素原子数２～２０のアルコキシ基」の具体例としては、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ－エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数２～１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはエトキシ基及びｔｅｒｔ－ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数２～２０の範囲であると好ましく、２～１０の範囲がさらに好ましい。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基の「炭素原子数６～２０のアリールオキシ基」の具体例としては、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２，３－ジメチルフェノキシ基、２，４－ジメチルフェノキシ基、２，５－ジメチルフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、３，４－ジメチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基、２，３，４－トリメチルフェノキシ基、２，３，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，６－トリメチルフェノキシ基、２，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，４，６－トリメチルフェノキシ基、３，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５－テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６－テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６－テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ－プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ－ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ－ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、ｎ－ヘキシルフェノキシ基、ｎ－オクチルフェノキシ基、ｎ－デシルフェノキシ基、ｎ－テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６～２０の範囲であると好ましく、６～１０の範囲がさらに好ましい。
　ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基の「炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基」の具体例としては、ベンジルオキシ基、（２－メチルフェニル）メトキシ基、（３－メチルフェニル）メトキシ基、（４－メチルフェニル）メトキシ基、（２，３－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－デシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数７～１０のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７～２０の範囲であると好ましく、７～１０の範囲がさらに好ましい。
　－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１～１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ１２の炭素原子数の合計が１～２０の範囲である。この３つのＲ１２の炭素原子数の合計は３～１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ１３はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３の炭素原子数の合計が２～２０の範囲であり、２～１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ１３は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ジ－イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ヘキシルアミノ基、ジ－ｎ－オクチルアミノ基、ジ－ｎ－デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０及びＲ１１は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環、炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のシラハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環である。
　前記遷移金属錯体（１）においてＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、少なくとも一つは水素以外の置換基であり、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアラルキル基である。
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の具体例としては、その部分構造式（１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）
において、少なくとも一つは水素以外の置換基を有するシクロペンタジエニル部分構造であり、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
　メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ｎ－プロピルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル、ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル、ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、フェニルシクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、メチルテトラヒドロインデニル、ジメチルテトラヒドロインデニル、オクタヒドロフルオレニル、
　ここに例示したシクロペンタジエニル部分構造のうち、好ましいシクロペンタジエニル部分構造はテトラメチルシクロペンタジエニルなどである。
　前記遷移金属錯体（１）においてＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアラルキル基である。
　Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９の好ましい組み合わせとしては、その部分構造式（１６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は前記と同じ意味を表す。）
において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
　フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルフェニル、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）メチルフェニル、ナフチル、アントラセニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニル、メトキシフェニル
　ここに例示した部分構造のうち、好ましい部分構造はフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、などである。
　前記遷移金属錯体（１）においてＲ１０及びＲ１１のうち、好ましくは水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアラルキル基であり、その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、フェニル基、４－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、２－メチルフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が挙げられる。
　Ｒ１０及びＲ１１のうち好ましい組み合わせとしては、その部分構造式（１７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
（式中、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同じ意味を表す。）
において、次のような部分構造を挙げることができる。
　ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、ジ（ｎ－プロピル）シリレン、メチル（ｎ－プロピル）シリレン、ジ（ｎ－ブチル）シリレン、ｎ－ブチルメチルシリレン、ｎ－ヘキシルメチルシリレン、メチル（ｎ－オクチル）シリレン、ｎ－デシルメチルシリレン、メチル（ｎ－オクタデシル）シリレン、シクロヘキシルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、
その部分構造式（１７）において、
Ｒ１０がメチル基であり、Ｒ１１が
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
である部分構造構造式、または、
Ｒ１０及びＲ１１が同一であり、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
である構造式を好ましく挙げることができ、
具体的には、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、ｎ－ブチルメチルシリレン、シクロヘキシルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、などである。
　式（１）の遷移金属錯体として、好ましくは、Ｒ６及びＲ８が
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基であり、
Ｒ１０及びＲ１１が、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基である、遷移金属錯体を挙げることができる。
　遷移金属錯体（１）を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。
　［１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチルフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ジエチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジエチルフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジエチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－エチルメチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－エチルメチルフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－エチルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－メチルジフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチルジフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチルジフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリフェニルシリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
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　［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリ（３－メチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（３－メチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリ（３－メチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
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　［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ジメチル（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジエチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジイソプロピルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－トリス（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－エチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－イソプロピルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－フェニルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－３－ベンジルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－インデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－メチルインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－フルオレニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－テトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－２－メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド、［９－ｎ－ブチルメチル（ペンタメチルフェニル）シリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド
　などの塩素化チタン錯体が挙げられる。また、ここに例示する錯体において、「チタニウム」を「ジルコニウム」に置き換えた塩素化ジルコニウム錯体、又は「ハフニウム」に置き換えた塩素化ハフニウム錯体などの塩素化遷移金属錯体、「クロライド」を「フルオリド」に置き換えたフッ素化チタン錯体、「ブロマイド」に置き換えた臭素化チタン錯体、「アイオダイド」に置き換えたヨウ素化チタン錯体などのハロゲン化チタン錯体、「ハイドライド」に置き換えた水素化チタン錯体、「メチル」に置き換えたメチル化チタン錯体などのアルキル化チタン錯体、「フェニル」に置き換えたフェニル化チタン錯体などのアリール化チタン錯体、「ベンジル」に置き換えたベンジル化チタン錯体などのアラルキル化チタン錯体、「メトキシド」に置き換えたメトキシ化チタン錯体、「ｎ－ブトキシド」に置き換えたｎ－ブトキシ化チタン錯体、「イソプロポキシド」に置き換えたイソプロポキシ化チタン錯体などのアルコキシ化チタン錯体、「フェノキシド」に置き換えたフェノキシ化チタン錯体などのアリールオキシ化チタン錯体、「ベンジロキシド」に置き換えたベンジロキシ化チタン錯体などのアラルキルオキシ化チタン錯体、「ジメチルアミド」に置き換えたジメチルアミド化チタン錯体、「ジエチルアミド」に置き換えたジエチルアミド化チタン錯体などのアミド化チタン錯体も同様に例示される。これらの中でも、アルキル化チタン錯体が好ましく、トリメチルチタン錯体が特に好ましい。
　式（１）の遷移金属錯体として、好ましくは、［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロテトラメチレン（フェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－エチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－ｎ－ブチルメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジ（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどが挙げられ、さらに好ましくは［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、などが挙げられる。
＜遷移金属錯体（１）の製造方法＞
　遷移金属錯体（１）は例えば、式（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義である。］
で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下、「置換シクロペンタジエン化合物（６）」という。）と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基との反応物に、
以下の一般式（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
（式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
又は－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
で示される遷移金属化合物（以下、「遷移金属化合物（７）」という。）を反応させる工程を有する製造方法により製造することができる。以下、前記置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程を「第１反応工程」、前記置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基との反応物に、遷移金属化合物（７）を反応させる工程を「第２反応工程」ということがある。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６）において、そのシクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体は以下の構造異性体のことである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　一般式（６）で表される化合物には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においてはそれらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
　前記遷移金属化合物（７）において、置換基Ｘ１２は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記遷移金属化合物（７）としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン；テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミドチタン；テトライソプロポキシチタン、テトラ－ｎ－ブトキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリクロロイソプロポキシチタンなどのアルコキシチタンなどが挙げられる。また、これらの各化合物の「チタン」を「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えた化合物などが挙げられる。これらのうち、好ましい遷移金属化合物（７）は四塩化チタンである。
　前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（６）と反応させる塩基としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられる。
　塩基の使用量は、置換シクロペンタジエニル化合物（６）１モルあたり、０．５～５モルの範囲であればよい。
　前記第１反応工程における置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基との反応においては、前記有機アルカリ金属化合物と共にアミン化合物が用いられる。かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｔｅｒｔ－ブチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－デシルアミン、アニリン、エチレンジアミンなどの第１級アミン化合物；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ジ－ｎ－デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミンなどの第２級アミン化合物；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ－メチルピロリジン、４－ジメチルアミノピリジンなどの第３級アミン化合物；が挙げられる。かかるアミン化合物の使用量は、有機アルカリ金属化合物１モルあたりに、１０モル以下であると好ましく、０．５～１０モルの範囲であるとより好ましく、１～５モルの範囲であるとさらに好ましい。
　前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基とを反応させる際には溶媒の存在下で反応させることが好ましい。また、溶媒を用いるときには、該溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（６）及び塩基を反応させた後、この反応混合物中に遷移金属化合物（７）を加えることにより、置換シクロペンタジエン化合物（６）及び塩基の反応物に、遷移金属化合物（７）をさらに反応させることができる。なお、置換シクロペンタジエン化合物（６）及び塩基を反応させた反応混合物には固体が析出することがあるが、この場合には、析出した固体が溶解するまで溶媒を追加したり、析出した固体をろ過等により、一旦分離してもよく、分離した固体に溶媒を加えて溶解させたり、懸濁させた後で、遷移金属化合物（７）を加えてもよい。また、溶媒を用いる場合、該溶媒に置換シクロペンタジエン化合物（６）、塩基及び遷移金属化合物（７）を同時に加えることにより、第１反応工程と第２反応工程とを略同時に実施することもできる。
　第１反応工程又は、第１反応工程及び第２反応工程に用いる溶媒は、これらの工程に係る反応の進行を著しく妨げない不活性な溶媒が用いられる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒；ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどのエーテル系溶媒；ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが例示される。かかる溶媒は単独もしくは２種以上を混合して用いることができ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（６）１重量部にあたり、１～２００重量部が好ましく、３～５０重量部がさらに好ましい。
　遷移金属化合物（７）の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（６）１モルあたり、０．５～３モルの範囲が好ましく、０．７～１．５モルの範囲がさらに好ましい。
　第１反応工程及び第２反応工程における反応温度は、－１００℃以上、溶媒の沸点以下であればよく、好ましくは－８０～１００℃の範囲である。
　かくして第１反応工程及び第２反応工程を経て得られた反応混合物からは各種公知の精製方法により、生成した遷移金属錯体（１）を取り出すことができる。例えば、第１反応工程及び第２反応工程の後に、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して遷移金属錯体を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体（１）を得ることができる。
＜遷移金属錯体（１－２）の製造方法＞
　遷移金属錯体（１－２）は例えば、一般式（１－１）
　一般式（１－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化遷移金属錯体と式（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
［式中、Ｍ６はアルカリ金属を表し、Ｒ２０は
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基または
を表す。］
で示されるアルカリ金属化合物、または式（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
［式中、Ｍ７はアルカリ土類金属を表し、Ｒ２１は
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基
を表し、Ｘ１６は、ハロゲン原子を表し、ｒは１または２であり、ｒとｓとの総和が２である。］
で示されるアルカリ土類金属化合物とを反応させることにより製造することができる。
　前記遷移金属錯体（１－２）としては、例えば、アルキル化チタン錯体、アリール化チタン錯体、アラルキル化チタン錯体などが挙げられる。
　前記遷移金属錯体（１－２）において、置換基Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は上述のとおりの定義であり、その具体例としては、例えば、Ｒ１で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記ハロゲン化遷移金属錯体（１－１）としては、例えば、塩素化チタン錯体、フッ素化チタン錯体、臭素化チタン錯体、ヨウ素化チタン錯体などが挙げられる。
　前記遷移金属化合物（１－１）において、置換基Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ金属化合物（８）において、Ｍ６は元素の周期律表のアルカリ金属を示し、例えばリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子等が挙げられる。これらの中でも、リチウム原子、ナトリウム原子が好ましく、リチウム原子が特に好ましい。
　前記アルカリ金属化合物（８）において、置換基Ｒ２０は上述のとおりの定義であり、その具体例としては例えば、Ｒ１でで挙げたものと同様のものを挙げることができる。。
　前記アルカリ土類金属化合物（９）において、Ｍ７は元素の周期律表のアルカリ土類金属を示し、例えばマグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子等が挙げられる。これらの中でも、マグネシウム原子が好ましい。
　前記アルカリ土類金属化合物（９）において、置換基Ｒ２１は上述のとおりの定義であり、その具体例としては例えば、Ｒ１でで挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ土類金属化合物（９）において、置換基Ｘ１６は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。。
　前記アルカリ土類金属化合物（９）において、ｒは１または２であり、ｒとｓとの総和は２である。
　前記アルカリ金属化合物（８）としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ－プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、ｎ－ペンチルリチウム、ネオペンチルリチウム、アミルリチウム、ｎ－ヘキシルリチウム、ｎ－オクチルリチウム、ｎ－デシルリチウム、ｎ－ドデシルリチウム、ｎ－ペンタデシルリチウム、ｎ－エイコシルリチウムなどのアルキルリチウム
　ベンジルリチウム、（２－メチルフェニル）メチルリチウム、（３－メチルフェニル）メチルリチウム、（４－メチルフェニル）メチルリチウム、（２，３－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，４－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，５－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，６－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（３，４－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（ペンタメチルフェニル）メチルリチウム、（エチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－プロピルフェニル）メチルリチウム、（イソプロピルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ペンチルフェニル）メチルリチウム、（ネオペンチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－オクチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－デシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ドデシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチルリチウム、ナフチルメチルリチウム、アントラセニルメチルリチウムなどのアラルキルリチウム
　フェニルリチウム、２－トリルリチウム、３－トリルリチウム、４－トリルリチウム、２，３－キシリルリチウム、２，４－キシリルリチウム、２，５－キシリルリチウム、２，６－キシリルリチウム、３，４－キシリルリチウム、３，５－キシリルリチウム、２，３，４－トリメチルフェニルリチウム、２，３，５－トリメチルフェニルリチウム、２，３，６－トリメチルフェニルリチウム、２，４，６－トリメチルフェニルリチウム、３，４，５－トリメチルフェニルリチウム、２，３，４，５－テトラメチルフェニルリチウム、２，３，４，６－テトラメチルフェニルリチウム、２，３，５，６－テトラメチルフェニルリチウム、ペンタメチルフェニルリチウム、エチルフェニルリチウム、ｎ－プロピルフェニルリチウム、イソプロピルフェニルリチウム、ｎ－ブチルフェニルリチウム、ｓｅｃ－ブチルフェニルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルフェニルリチウム、ｎ－ペンチルフェニルリチウム、ネオペンチルフェニルリチウム、ｎ－ヘキシルフェニルリチウム、ｎ－オクチルフェニルリチウム、ｎ－デシルフェニルリチウム、ｎ－ドデシルフェニルリチウム、ｎ－テトラデシルフェニルリチウム、ナフチルリチウム、アントラセニルリチウムなどのアリールリチウムなどが挙げられ、好ましくは、メチルリチウム、ベンジルリチウム、フェニルリチウムである。
　アルカリ金属化合物（８）の使用量は、ハロゲン化遷移金属錯体（１－１）に対して、通常２～１０モル倍、好ましくは１～３モル倍の範囲である。
　前記アルカリ土類金属化合物（９）としては、例えば、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジ－ｎ－プロピルマグネシウム、ジイソプロピルマグネシウム、ジ－ｎ－ブチルマグネシウム、ジ－ｓｅｃ－ブチルマグネシウム、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルマグネシウム、ジ－ｎ－ペンチルマグネシウム、ジ－ネオペンチルマグネシウム、ジアミルマグネシウム、ジ－ｎ－ヘキシルマグネシウム、ジ－ｎ－オクチルマグネシウム、ジ－ｎ－デシルマグネシウム、ジ－ｎ－ドデシルマグネシウム、ジ－ｎ－ペンタデシルマグネシウム、ジ－ｎ－エイコシルマグネシウムなどのジアルキルマグネシウム、および非対称のジアルキルマグネシウム
　ジベンジルマグネシウム、ジ－（２－メチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（３－メチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（４－メチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３－ジメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，４－ジメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，５－ジメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，６－ジメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（３，４－ジメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，４－トリメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，５－トリメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，６－トリメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（３，４，５－トリメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，４，６－トリメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ペンタメチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（エチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－プロピルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（イソプロピルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－ブチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－ペンチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ネオペンチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－ヘキシルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－オクチルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－デシルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－ドデシルフェニル）メチルマグネシウム、ジ－（ｎ－テトラデシルフェニル）メチルマグネシウム、ジナフチルメチルマグネシウム、ジアントラセニルメチルマグネシウムなどのジアラルキルマグネシウム、および非対称のジアラルキルマグネシウム
　ジフェニルマグネシウム、ジ－２－トリルマグネシウム、ジ－３－トリルマグネシウム、ジ－４－トリルマグネシウム、ジ－２，３－キシリルマグネシウム、ジ－２，４－キシリルマグネシウム、ジ－２，５－キシリルマグネシウム、ジ－２，６－キシリルマグネシウム、ジ－３，４－キシリルマグネシウム、ジ－３，５－キシリルマグネシウム、ジ－２，３，４－トリメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，３，５－トリメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，３，６－トリメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，４，６－トリメチルフェニルマグネシウム、ジ－３，４，５－トリメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，３，４，５－テトラメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，３，４，６－テトラメチルフェニルマグネシウム、ジ－２，３，５，６－テトラメチルフェニルマグネシウム、ジ－ペンタメチルフェニルマグネシウム、ジ－エチルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－プロピルフェニルマグネシウム、ジ－イソプロピルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－ブチルフェニルマグネシウム、ジ－ｓｅｃ－ブチルフェニルマグネシウム、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－ペンチルフェニルマグネシウム、ジ－ネオペンチルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－ヘキシルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－オクチルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－デシルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－ドデシルフェニルマグネシウム、ジ－ｎ－テトラデシルフェニルマグネシウム、ジナフチルマグネシウム、ジアントラセニルマグネシウムなどのジアリールマグネシウム、および非対称のジアリールマグネシウム
　アルキルアラルキルマグネシウム、アルキルアリールマグネシウム、アラルキルアリールマグネシウムなどの非対称有機マグネシウム化合物
　メチルマグネシウムクロライド、エチルマグネシウムクロライド、ｎ－プロピルマグネシウムクロライド、イソプロピルマグネシウムクロライド、ｎ－ブチルマグネシウムクロライド、ｓｅｃ－ブチルマグネシウムクロライド、ｔｅｒｔ－ブチルマグネシウムクロライド、ｎ－ペンチルマグネシウムクロライド、ネオペンチルマグネシウムクロライド、アミルマグネシウムクロライド、ｎ－ヘキシルマグネシウムクロライド、ｎ－オクチルマグネシウムクロライド、ｎ－デシルマグネシウムクロライド、ｎ－ドデシルマグネシウムクロライド、ｎ－ペンタデシルマグネシウムクロライド、ｎ－エイコシルマグネシウムクロライドなどのアルキルマグネシウムクロライド
　ベンジルマグネシウムクロライド、（２－メチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（３－メチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（４－メチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３－ジメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，４－ジメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，５－ジメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，６－ジメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（３，４－ジメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ペンタメチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（エチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－プロピルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（イソプロピルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－ブチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－ペンチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ネオペンチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－オクチルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－デシルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－ドデシルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチルマグネシウムクロライド、ナフチルメチルマグネシウムクロライド、アントラセニルメチルマグネシウムクロライドなどのアラルキルマグネシウムクロライド
　フェニルマグネシウムクロライド、２－トリルマグネシウムクロライド、３－トリルマグネシウムクロライド、４－トリルマグネシウムクロライド、２，３－キシリルマグネシウムクロライド、２，４－キシリルマグネシウムクロライド、２，５－キシリルマグネシウムクロライド、２，６－キシリルマグネシウムクロライド、３，４－キシリルマグネシウムクロライド、３，５－キシリルマグネシウムクロライド、２，３，４－トリメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，３，５－トリメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，３，６－トリメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，４，６－トリメチルフェニルマグネシウムクロライド、３，４，５－トリメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，３，４，５－テトラメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，３，４，６－テトラメチルフェニルマグネシウムクロライド、２，３，５，６－テトラメチルフェニルマグネシウムクロライド、ペンタメチルフェニルマグネシウムクロライド、エチルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－プロピルフェニルマグネシウムクロライド、イソプロピルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－ブチルフェニルマグネシウムクロライド、ｓｅｃ－ブチルフェニルマグネシウムクロライド、ｔｅｒｔ－ブチルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－ペンチルフェニルマグネシウムクロライド、ネオペンチルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－ヘキシルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－オクチルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－デシルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－ドデシルフェニルマグネシウムクロライド、ｎ－テトラデシルフェニルマグネシウムクロライド、ナフチルマグネシウムクロライド、アントラセニルマグネシウムクロライドなどのアリールマグネシウムクロライドなどや、クロライドをブロマイド、アイオダイドに変更した化合物などが挙げられ、好ましくはジメチルマグネシウム、ジベンジルマグネシウム、ジフェニルマグネシウム、メチルマグネシウムブロマイド、ベンジルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネシウムブロマイド等が挙げられる。
　アルカリ土類金属化合物（９）の使用量は、ハロゲン化遷移金属錯体（１－１）に対して、通常１～１０モル倍、好ましくは１～３モル倍の範囲である。
　反応の方法は特に限定されないが、通常、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在下、ハロゲン化遷移金属錯体（１－１）に有機アルカリ金属化合物または有機アルカリ土類金属化合物を加えることにより好ましく実施される。
　反応時の溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等の芳香族ハイドロカルビル、クロロホルム、メチレンジクロライド、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ハイドロカルビル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類等を例示することができる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量はハロゲン化遷移金属錯体（１－１）に対して通常１～２００重量倍、好ましくは３～３０重量倍の範囲である。
　反応時の温度は通常、－１００℃～溶媒の沸点であり、好ましくは－８０℃～３０℃である。反応時間は特に制限されることはない。反応終了後、例えば、不溶物をろ過後、濃縮して得られる結晶をろ取することにより、目的とする遷移金属錯体（１－２）を得ることができる。
＜遷移金属錯体（１－３）の製造方法＞
　遷移金属錯体（１－３）は例えば、一般式（１－１）
　一般式（１－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５は前記と同じ意味を表す］
で示されるハロゲン化遷移金属錯体と一般式（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
［式中、Ｍ６、Ｒ２０は前記と同じ意味を表す］
で示されるアルカリ金属化合物、または式（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
［式中、Ｍ７、Ｒ２１、Ｘ１６、ｒ及びｓは前記と同じ意味を表す］
で示されるアルカリ土類金属化合物とを反応させることにより製造することができる。
　前記遷移金属錯体（１－３）としては、例えば、アルコキシ化チタン錯体、アリールオキシ化チタン錯体、アラルキルオキシ化チタン錯体などが挙げられる。
　前記遷移金属錯体（１－３）において、置換基Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は上述のとおりの定義であり、その具体例としては例えば、Ｒ１で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記ハロゲン化遷移金属錯体（１－１）としては、例えば塩素化チタン錯体、フッ素化チタン錯体、臭素化チタン錯体、ヨウ素化チタン錯体などが挙げられる。
　前記遷移金属化合物（１－１）において、置換基Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ金属化合物（１０）において、Ｍ６は元素の周期律表のアルカリ金属を示し、例えばリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子等が挙げられる。これらの中でも、リチウム原子、ナトリウム原子が好ましく、リチウム原子が特に好ましい。
　前記アルカリ金属化合物（１０）において、置換基Ｒ２０は上述のとおりの定義であり、その具体例としては例えば、Ｒ１で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ土類金属化合物（１１）において、Ｍ７は元素の周期律表のアルカリ土類金属を示し、例えばマグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子等が挙げられる。これらの中でも、マグネシウム原子が好ましい。
　前記アルカリ土類金属化合物（１１）において、置換基Ｒ２１は上述のとおりの定義であり、その具体例としては例えば、Ｒ１で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ土類金属化合物（１１）において、置換基Ｘ１６は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
　前記アルカリ土類金属化合物（１１）において、ｒは１または２であり、ｒとｓとの総和が２である。
　遷移金属錯体（１－３）は、遷移金属錯体（１－１）にアルカリ金属化合物（１０）を作用させる方法（以下、Ａ－１法と称する）、またはアルカリ土類金属化合物（１１）を作用させる方法（以下、Ａ－２法と称する）により製造できる。
　また、遷移金属錯体（１－３）は、遷移金属錯体（１－１）に塩基の存在下にアルコール化合物を作用させる方法（以下、Ｂ法と称する）によっても製造できる。
　一般式（１０）で示されるアルカリ金属化合物としては、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｎ－プロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムｎ－ブトキシド、ナトリウムｓｅｃ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｎ－ペントキシド、ナトリウムネオペントキシド、ナトリウムメトキシエトキシド、ナトリウムエトキシエトキシド、ナトリウムベンジルオキシド、ナトリウム１－フェニルエトキシド、および、ナトリウムをリチウム、カリウムに変更した、モノオール類から誘導されるアルカリ金属アルコキシド類、
　リチウムフェノキシド、リチウム２－メチルフェノキシド、リチウム３－メチルフェノキシド、リチウム４－メチルフェノキシド、リチウム２，３－ジメチルフェノキシド、リチウム２，４－ジメチルフェノキシド、リチウム２，５－ジメチルフェノキシド、リチウム２，６－ジメチルフェノキシド、リチウム３，４－ジメチルフェノキシド、リチウム２，３，４－トリメチルフェノキシド、リチウム２，３，５－トリメチルフェノキシド、リチウム２，３，６－トリメチルフェノキシド、リチウム３，４，５－トリメチルフェノキシド、リチウム２，４，６－トリメチルフェノキシド、リチウム２，３，４，５－テトラメチルフェノキシド、リチウム２，３，４，６－テトラメチルフェノキシド、リチウム２，３，５，６－テトラメチルフェノキシド、リチウムペンタメチルフェノキシド、リチウムエチルフェノキシド、リチウムｎ－プロピルフェノキシド、リチウムイソプロピルフェノキシド、リチウムｎ－ブチルフェノキシド、リチウムｓｅｃ－ブチルフェノキシド、リチウムｔｅｒｔ－ブチルフェノキシド、リチウムｎ－ペンチルフェノキシド、リチウムネオペンチルフェノキシド、リチウムｎ－ヘキシルフェノキシド、リチウムｎ－オクチルフェノキシド、リチウムｎ－デシルフェノキシド、リチウムｎ－ドデシルフェノキシド、リチウムｎ－テトラデシルフェノキシド、リチウムナフチルオキシド、リチウムアントラセニルオキシド、および、リチウムをナトリウム、カリウムに変更した化合物、さらに、これらがフッ素、塩素、臭素原子などのハロゲンで置換されたアルカリ金属ハロアリールオキシド類、および前記ハロアラルキル基においてハロゲン原子をメトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基などに任意に変更したアルカリ金属　アルコキシアリールオキシド、およびアルカリ金属　シアノアリールオキシド、アルカリ金属ニトロアリールオキシドが挙げられ、好ましくはリチウムフェノキシド、リチウム４－メチルフェノキシド、リチウム２，４，６－トリメチルフェノキシド、ナトリウムフェノキシド、ナトリウム４－メチルフェノキシド、ナトリウム２，４，６－トリメチルフェノキシドが挙げられる。
　これらは、市販品等を用いることができるが、アルコール化合物と、アルカリ金属化合物を反応させることにより系中で生成させて用いることもできる。
　かかる系中でのアルカリ金属化合物（１０）の生成に用いられるアルカリ金属化合物類としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ－プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、ｎ－ペンチルリチウム、ネオペンチルリチウム、アミルリチウム、ｎ－ヘキシルリチウム、ｎ－オクチルリチウム、ｎ－デシルリチウム、ｎ－ドデシルリチウム、ｎ－ペンタデシルリチウム、ｎ－エイコシルリチウムなどのアルキルリチウム
　ベンジルリチウム、（２－メチルフェニル）メチルリチウム、（３－メチルフェニル）メチルリチウム、（４－メチルフェニル）メチルリチウム、（２，３－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，４－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，５－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，６－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（３，４－ジメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチルリチウム、（ペンタメチルフェニル）メチルリチウム、（エチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－プロピルフェニル）メチルリチウム、（イソプロピルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ペンチルフェニル）メチルリチウム、（ネオペンチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－オクチルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－デシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－ドデシルフェニル）メチルリチウム、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチルリチウム、ナフチルメチルリチウム、アントラセニルメチルリチウムなどのアラルキルリチウム
　フェニルリチウム、２－トリルリチウム、３－トリルリチウム、４－トリルリチウム、２，３－キシリルリチウム、２，４－キシリルリチウム、２，５－キシリルリチウム、２，６－キシリルリチウム、３，４－キシリルリチウム、３，５－キシリルリチウム、２，３，４－トリメチルフェニルリチウム、２，３，５－トリメチルフェニルリチウム、２，３，６－トリメチルフェニルリチウム、２，４，６－トリメチルフェニルリチウム、３，４，５－トリメチルフェニルリチウム、２，３，４，５－テトラメチルフェニルリチウム、２，３，４，６－テトラメチルフェニルリチウム、２，３，５，６－テトラメチルフェニルリチウム、ペンタメチルフェニルリチウム、エチルフェニルリチウム、ｎ－プロピルフェニルリチウム、イソプロピルフェニルリチウム、ｎ－ブチルフェニルリチウム、ｓｅｃ－ブチルフェニルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルフェニルリチウム、ｎ－ペンチルフェニルリチウム、ネオペンチルフェニルリチウム、ｎ－ヘキシルフェニルリチウム、ｎ－オクチルフェニルリチウム、ｎ－デシルフェニルリチウム、ｎ－ドデシルフェニルリチウム、ｎ－テトラデシルフェニルリチウム、ナフチルリチウム、アントラセニルリチウムなどのアリールリチウムなどが挙げられ、好ましくは、メチルリチウム、ベンジルリチウム、フェニルリチウムである。
　また、用いられるアルコ－ル類としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ－プロパーノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ネオペンチルアルコ－ル、エチレングリコ－ルモノメチルエーテル、エチレングリコ－ルモノエチルエーテル、フェノール、ベンジルアルコ－ル、１－フェニルエタノールなどのモノオール類が挙げられる
　一般式（１１）で示されるアルカリ土類金属化合物としては、例えば、マグネシウムジメトキシド、マグネシウムジエトキシド、マグネシウムジｎ－プロポキシド、マグネシウムジイソプロポキシド、マグネシウムジｎ－ブトキシド、マグネシウムジｓｅｃ－ブトキシド、マグネシウムジｔｅｒｔ－ブトキシド、マグネシウムジｎ－ペントキシド、マグネシウムジネオペントキシド、マグネシウムジメトキシエトキシド、マグネシウムジエトキシエトキシド、マグネシウムジベンジルオキシド、マグネシウムジ１－フェニルエトキシド、及び、マグネシウムをカルシウム、ストロンチウム、バリウムに変更した、モノオール類から誘導されるアルカリ土類金属アルコキシド類、マグネシウムエチレンジオキシド、マグネシウムメチルエチレンジオキシド、マグネシウム１，２－ジメチルエチレンジオキシド、マグネシウムテトラメチルエチレンジオキシド、マグネシウムフェニルエチレンジオキシド、マグネシウム１，２－ジフェニルエチレンジオキシド、マグネシウムテトラフェニルエチレンジオキシド、マグネシウムシクロペンタン－１，２－ジオキシド、マグネシウムシクロヘキサン－１，２－ジオキシド、マグネシウムプロピレン－１，３－ジオキシド、マグネシウム１，３－ジメチルプロピレン－１，３－ジオキシド、マグネシウム１，３－ジフェニルプロピレン－１，３－ジオキシド、及び、マグネシウムをカルシウム、ストロンチウム、バリウムに任意に変更した、ジオール類から誘導されるアルカリ土類金属アルコキシド類、が挙げられ、これらには立体及び光学異性体の全てが含まれる。
　これらは、市販品等を用いることができるが、アルコ－ル化合物とアルカリ土類金属化合物類を反応させることにより系中で生成させて用いることもできる。
　かかる系中でのアルカリ土類アルコキシド類の生成に用いられるアルカリ土類金属化合物類としては、例えば、メチルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシウムクロライド、ベンジルマグネシウムクロライド、メチルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネシウムブロマイド、ベンジルマグネシウムブロマイド等のグリニャール試薬が挙げられ、好ましくは、メチルマグネシウムクロライド、メチルマグネシウムブロマイド等が挙げられる。また、用いられるアルコ－ル類としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ－プロパーノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ネオペンチルアルコ－ル、エチレングリコ－ルモノメチルエーテル、エチレングリコ－ルモノエチルエーテル、フェノール、ベンジルアルコ－ル、１－フェニルエタノールなどのモノオール類、エチレングリコ－ル、プロピレングリコ－ル、２，３－ブタンジオール、テトラメチルエチレングリコ－ル、フェニルエチレングリコ－ル、ヒドロベンゾイン、テトラフェニルエチレングリコ－ル、シクロペンタン－１，２－ジオール、シクロヘキサン－１，２－ジオール、１，３－プロパンジオール、２，４－ペンタンジオール、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオール、酒石酸、などのジオール類が挙げられ、これらには立体及び光学異性体の全てが含まれる。
　前記Ｂ法で用いられるアルコール化合物としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ネオペンチルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、フェノール、ベンジルアルコール、１－フェニルエタノールなどのモノオール類が挙げられる
　塩基としては、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などの無機塩基、アミン化合物などの有機塩基が挙げられ、好ましくは、アミン化合物が挙げられる。アミン化合物としては、特に限定されないが、例えば、アニリン、クロロアニリン、ブロモアニリン、フルオロアニリン、トルイジン、アニシジン、ナフチルアミン、ベンジルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、などの１級アミン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ－エチルアニリン、ジフェニルアミン、Ｎ－メチルクロロアニリン、Ｎ－メチルブロモアニリン、Ｎ－メチルフルオロアニリン、ピロリジン、モルホリン、ピペリジンなどの２級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルクロロアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルブロモアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルフルオロアニリン、Ｎ－メチルピロリジン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピペリジン、１，４－ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１，５－ジアザビシクロ［４，３，０］ノナ－５－エン、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ－７－エンなどの３級アミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン、ピコリン、ピペコリンなどのピリジン類などが挙げられる。
　反応の方法は特に限定されないが、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在下、Ａ－１法においては、遷移金属錯体（１－１）とアルカリ金属化合物（１０）とを反応させることにより、Ａ－２法においては、遷移金属錯体（１－１）とアルカリ土類金属化合物（１１）とを反応させることにより、Ｂ法においては、塩基の存在下に遷移金属錯体（１－１）とアルコール化合物とを反応させることによりそれぞれ好ましく実施できる。
　Ａ－１法における遷移金属錯体（１－１）に対するアルカリ金属化合物（１０）の使用量は、通常０．５～１５モル倍程度であり、好ましくは、０．８～３モル倍程度である。
　Ａ－２法における遷移金属錯体（１－１）に対するアルカリ土類金属化合物（１１）の使用量は、通常０．３～１０モル倍程度であり、好ましくは、０．５～２モル倍程度である。
　Ｂ法における遷移金属錯体（１－１）に対するアルコール化合物の使用量は、通常０．５～１０モル倍程度で、好ましくは、０．８～３倍程度であり、遷移金属錯体（１－１）に対する塩基の使用量は、通常０．５～５モル倍程度で、好ましくは、０．８～３モル倍程度である。
　反応に用いることができる溶媒としては特に限定されないが、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族ハイドロカルビル、ジクロロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化ハイドロカルビル、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化ハイドロカルビル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アルカリ金属化合物（１０）に対応するアルコールおよびこれらの混合物が例示される。その使用量は、Ａ－１、Ａ－２、Ｂ法それぞれにおいて、通常、遷移金属錯体（１－１）の１～２００重量倍であり、好ましくは３～３０重量倍程度である。
　反応温度としては、通常は－１００℃～溶媒の沸点において実施され、好ましくは－８０～３０℃程度である。
　反応後、例えば不溶固体を除去し、溶媒を留去することにより遷移金属錯体（１－３）を得ることが出来る。必要に応じ、再結晶、昇華など通常の方法により精製することが出来る。
＜置換シクロペンタジエン（６－１）～（６－６）＞
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－１）において、置換基Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７及びＲ３８は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－１）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（エチルメチルフェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（ジエチルフェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（ジエチルフェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（シクロヘキシルメチルフェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－メチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－３－メチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－エチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（ベンジルジフェニルシリル）－２－ベンジルシクロペンタジエン
　ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－２）において、置換基Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８及びＲ４９は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－２）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－トリフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－トリフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（３－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（４－メチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ビス（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－３）において、置換基Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－３）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－ジメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－ジメチルフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－エチルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－エチルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－エチルメチルフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－エチルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－ジエチルフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－ジエチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－ジエチルフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－ジエチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－メチルジフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－メチルジフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－メチルジフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－メチルジフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
１－トリフェニルシリル－テトラヒドロインデン、１－トリフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン、１－トリフェニルシリル－３－メチルテトラヒドロインデン、９－トリフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン、
　ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－４）において、置換基Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６、Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｒ７０及びＲ７１は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－４）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－５）において、置換基Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７、Ｒ７８、Ｒ７９、Ｒ８０、Ｒ８１及びＲ８２は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－５）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－メチル（４－メチルフェニル）フェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）メチルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－メチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－６）において、置換基Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６、Ｒ８７、Ｒ８８、Ｒ８９、Ｒ９０、Ｒ９１、Ｒ９２及びＲ９３は上述のとおりの定義である。
　前記置換シクロペンタジエン化合物（６－６）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－３－メチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２，３－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２，４－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２，５－ジメチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－エチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－ｎ－プロピルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－イソプロピルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－ｎ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－フェニルシクロペンタジエン、１－ジメチルフェニルシリル－２－ベンジルシクロペンタジエン
　＜置換シクロペンタジエン（６－１）～（６－６）の製造方法＞
　一般式（６－１）～（６－６）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、例えば一般式（１２－１）～（１２－６）で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）と塩基との反応物に、一般式（１３－１）～（１３－６）で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程により製造することができる。
　一般式（１２－１）～（１２－６）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、下記のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
［式中、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
［式中、Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
［式中、Ｒ４９、Ｒ５０、Ｒ５１及びＲ５２は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
を表す。］
で示される置換シクロペンタジエン化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
［式中、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
［式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
は

を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
［式中、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は前記と同義であり
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
は
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
を表す。］
　前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）、（１２－２）、（１２－４）および（１２－５）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　メチルシクロペンタジエン、１，２－ジメチルシクロペンタジエン、１，３－ジメチルシクロペンタジエン、１，２，３－トリメチルシクロペンタジエン、１，３，４－トリメチルシクロペンタジエン、１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタジエン、エチルシクロペンタジエン、１，２－ジエチルシクロペンタジエン、１，３－ジエチルシクロペンタジエン、１，２，３－トリエチルシクロペンタジエン、１，３，４－トリエチルシクロペンタジエン、１，２，３，４－テトラエチルシクロペンタジエン、ｎ－プロピルシクロペンタジエン、イソプロピルシクロペンタジエン、ｎ－ブチルシクロペンタジエン、ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、ｎ－ペンチルシクロペンタジエン、ネオペンチルシクロペンタジエン、ｎ－ヘキシルシクロペンタジエン、ｎ－オクチルシクロペンタジエン、フェニルシクロペンタジエン、ナフチルシクロペンタジエン、トリメチルシリルシクロペンタジエン、トリエチルシリルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロペンタジエン
　前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－３）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　テトラヒドロインデン、２－メチルテトラヒドロインデン、３－メチルテトラヒドロインデン、２，３－ジメチルテトラヒドロインデン、２－エチルテトラヒドロインデン、２－ｎ－プロピルテトラヒドロインデン、２－イソプロピルテトラヒドロインデン、２－ｎ－ブチルテトラヒドロインデン、２－ｓｅｃ－ブチルテトラヒドロインデン、２－ｔｅｒｔ－ブチルテトラヒドロインデン、２－ｎ－ペンチルテトラヒドロインデン、２－ネオペンチルテトラヒドロインデン、２－アミルテトラヒドロインデン、２－ｎ－ヘキシルテトラヒドロインデン、２－シクロヘキシルテトラヒドロインデン、２－ｎ－オクチルテトラヒドロインデン、２－ｎ－デシルテトラヒドロインデン、２－フェニルテトラヒドロインデン、２－ベンジルテトラヒドロインデン、２－ナフチルテトラヒドロインデン、２－メトキシテトラヒドロインデン、２－フェノキシテトラヒドロインデン、２－ベンジルオキシテトラヒドロインデン、２－ジメチルアミノテトラヒドロインデン、２－トリメチルシリルテトラヒドロインデン、オクタヒドロフルオレン
　前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－６）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　メチルシクロペンタジエン、１，２－ジメチルシクロペンタジエン、１，３－ジメチルシクロペンタジエン、１，２，３－トリメチルシクロペンタジエン、１，３，４－トリメチルシクロペンタジエン、エチルシクロペンタジエン、１，２－ジエチルシクロペンタジエン、１，３－ジエチルシクロペンタジエン、１，２，３－トリエチルシクロペンタジエン、１，３，４－トリエチルシクロペンタジエン、１，２，３，４－テトラエチルシクロペンタジエン、ｎ－プロピルシクロペンタジエン、イソプロピルシクロペンタジエン、ｎ－ブチルシクロペンタジエン、ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン、ｎ－ペンチルシクロペンタジエン、ネオペンチルシクロペンタジエン、ｎ－ヘキシルシクロペンタジエン、ｎ－オクチルシクロペンタジエン、フェニルシクロペンタジエン、ナフチルシクロペンタジエン、トリメチルシリルシクロペンタジエン、トリエチルシリルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロペンタジエン
　一般式（１３－１）～（１３－６）で示されるハロゲン化ケイ素化合物は、下記の通りである。
一般式（１３－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
［式中、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７及びＲ３８は前記と同義であり、Ｘ１７はハロゲン原子である。］
一般式（１３－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
［式中、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８及びＲ４９は前記と同義であり、Ｘ１８はハロゲン原子である。］
一般式（１３－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
［式中、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は前記と同義であり、Ｘ１９はハロゲン原子である。］
一般式（１３－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
［式中、Ｒ６５、Ｒ６６、Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｒ７０及びＲ７１は前記と同義であり、Ｘ２０はハロゲン原子である。］
一般式（１３－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
［式中、Ｒ７６、Ｒ７７、Ｒ７８、Ｒ７９、Ｒ８０、Ｒ８１及びＲ８２は前記と同義であり、Ｘ２１はハロゲン原子である。］
一般式（１３－６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
［式中、Ｒ８７、Ｒ８８、Ｒ８９、Ｒ９０、Ｒ９１、Ｒ９２及びＲ９３は前記と同義であり、Ｘ２２はハロゲン原子である。］
　ハロゲン化ケイ素化合物（１３－１）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロエチルメチルフェニルシラン、クロロジエチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－プロピル）フェニルシラン、クロロメチル（イソプロピル）フェニルシラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｓｅｃ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｔｅｒｔ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－ペンチル）フェニルシラン、クロロメチル（ネオペンチル）フェニルシラン、アミルクロロメチルフェニルシラン、クロロ（ｎ－ヘキシル）メチルフェニルシラン、クロロシクロヘキシルメチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－オクチル）フェニルシラン、クロロ（ｎ－デシル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｎ－ドデシル）メチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシラン、クロロベンジルジフェニルシラン
　クロロ（ｎ－ブチル）メチル（３－メチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－メチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（３，５－ジメチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－フェニルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－メトキシフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－フェノキシフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ジメチルアミノフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ベンジルオキシフェニル）シラン。また、ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様に例示される。
　前記ハロゲン化ケイ素化合物（１３－２）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロトリフェニルシラン、クロロ（２－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，６－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，４－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，６－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，５－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，６－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４，５－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４，６－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，５，６－ペンタメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－エチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－イソプロピルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ジメチルアミノフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－フェノキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ベンジルオキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（２，３－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロトリス（２，３－ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（ｎ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロトリ（ｎ－ブチルフェニル）シラン。また、ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様に例示される。
　前記ハロゲン化ケイ素化合物（１３－３）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロジメチルフェニルシラン、クロロエチルメチルフェニルシラン、クロロジエチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－プロピル）フェニルシラン、クロロメチル（イソプロピル）フェニルシラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｓｅｃ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｔｅｒｔ－ブチル）メチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－ペンチル）フェニルシラン、クロロメチル（ネオペンチル）フェニルシラン、アミルクロロメチルフェニルシラン、クロロ（ｎ－ヘキシル）メチルフェニルシラン、クロロシクロヘキシルメチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－オクチル）フェニルシラン、クロロ（ｎ－デシル）メチルフェニルシラン、クロロ（ｎ－ドデシル）メチルフェニルシラン、クロロメチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシラン、クロロベンジルジフェニルシラン
　クロロジメチル（３－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－フェニルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－メトキシフェニル）シラン、クロロジメチル（４－フェノキシフェニル）シラン、クロロジメチル（４－トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ジメチルアミノフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ベンジルオキシフェニル）シラン、
　クロロ（ｎ－ブチル）メチル（３－メチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－メチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（３，５－ジメチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－フェニルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－メトキシフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－フェノキシフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ジメチルアミノフェニル）シラン、クロロ（ｎ－ブチル）メチル（４－ベンジルオキシフェニル）シラン、
　クロロメチルジフェニルシラン、クロロメチル（２－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，５－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，６－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，４－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，６－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，５－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，６－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４，５－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，５，６－ペンタメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－エチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－イソプロピルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｓｅｃ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－トリメチルシリルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－メトキシフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ジメチルアミノフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－フェノキシフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ベンジルオキシフェニル）フェニルシラン、クロロメチルビス（２，３－ジメチルフェニル）シラン、クロロメチルジ（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン、
　クロロトリフェニルシラン、クロロ（２－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，６－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，４－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，５－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３，６－ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，５－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，６－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４，５－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，４，６－トリメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２，３，４，５，６－ペンタメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－エチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－イソプロピルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｎ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ジメチルアミノフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－フェノキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（４－ベンジルオキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（２，３－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロトリス（２，３－ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（ｎ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロトリ（ｎ－ブチルフェニル）シラン。また、ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様に例示される。
　前記ハロゲン化ケイ素化合物（１３－４）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロジメチル（２－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，４－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，５－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，６－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，４－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，６－ジメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，４－トリメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，５－トリメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，６－トリメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（２，３，４，５，６－ペンタメチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）シラン、クロロジメチル（３，５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル）シラン、（９－アントリル）クロロジメチルシラン、クロロ（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシラン、クロロジメチル（４－クロロフェニル）シラン、クロロジメチル（３，５－ジクロロフェニル）シラン、クロロジメチル（４－フルオロフェニル）シラン、クロロジメチル（４－ブロモフェニル）シラン。また、ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様に例示される。
　前記ハロゲン化ケイ素化合物（１３－５）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロメチル（２－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－メチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，５－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，６－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，４－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，５－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（３，６－ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，５－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，６－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４，５－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（２，３，４，５，６－ペンタメチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－エチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－イソプロピルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｎ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｓｅｃ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロメチル（４－トリメチルシリルフェニル）（４－メチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－メトキシフェニル）（４－メチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－ジメチルアミノフェニル）（４－メチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－フェノキシフェニル）（４－メチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－ベンジルオキシフェニル）（４－メチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－メチルフェニル）（２，３－ジメチルフェニル）シラン、クロロメチル（４－ｎ－ブチルフェニル）（４－メチルフェニル）シラン。また、ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様に例示される。
　前記ハロゲン化ケイ素化合物（１３－６）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
　クロロジメチルフェニルシラン、ブロモジメチルフェニルシラン、フルオロジメチルフェニルシラン、ヨードジメチルフェニルシラン
　置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）と反応させる塩基としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、水素化カルシウムなどのアルカリ土類金属水素化物、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物に対して通常０．５～３モル倍、好ましくは０．９～２モル倍の範囲である。水素化ナトリウム、水素化カリウムについては、通常市販されているミネラルオイル含有品をそのまま使用できるが、もちろんヘキサン等のハイドロカルビル系溶媒でミネラルオイルを洗浄除去後使用してもよい。
　かかるアミン化合物としては、例えば、アニリン、クロロアニリン、ブロモアニリン、フルオロアニリン、ジクロロアニリン、ジブロモアニリン、ジフルオロアニリン、トリクロロアニリン、トリブロモアニリン、トリフルオロアニリン、テトラクロロアニリン、テトラブロモアニリン、テトラフルオロアニリン、ペンタクロロアニリン、ペンタフルオロアニリン、ニトロアニリン、ジニトロアニリン、ヒドロキシアニリン、フェニレンジアミン、アニシジン、ジメトキシアニリン、トリメトキシアニリン、エトキシアニリン、ジエトキシアニリン、トリエトキシアニリン、ｎ－プロポキシアニリン、イソプロポキシアニリン、ｎ－ブトキシアンリン、ｓｅｃ－ブトキシアニリン、イソブトキシアニリン、ｔ－ブトキシアニリン、フェノキシアニリン、メチルアニリン、エチルアニリン、ｎ－プロピルアニリン、イソプロピルアニリン、ｎ－ブチルアニリン、ｓｅｃ－ブチルアニリン、イソブチルアニリン、ｔ－ブチルアニリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジ－ｎ－プロピルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ジ－ｎ－ブチルアニリン、ジ－ｓｅｃ－ブチルアニリン、ジイソブチルアニリン、ジ－ｔ－ブチルアニリン、トリメチルアニリン、トリエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、フェニルアニリン、ベンジルアニリン、アミノ安息香酸、アミノ安息香酸メチルエステル、アミノ安息香酸エチルエステル、アミノ安息香酸ｎ－プロピルエステル、アミノ安息香酸イソプロピルエステル、アミノ安息香酸ｎ－ブチルエステル、アミノ安息香酸イソブチルエステル、アミノ安息香酸ｓｅｃ－ブチルエステル、アミノ安息香酸ｔ－ブチルエステル等の１級アニリン類、さらにナフチルアミン、ナフチルメチルアミン、ベンジルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、２－アミノピリジン、３－アミノピリジン、４－アミノピリジン等も含む１級アミン、
　Ｎ－メチルアニリン、Ｎ－エチルアニリン、ジフェニルアミン、Ｎ－メチルクロロアニリン、Ｎ－メチルブロモアニリン、Ｎ－メチルフルオロアニリン、Ｎ－メチルアニシジン、Ｎ－メチルメチルアニリン、Ｎ－メチルエチルアニリン、Ｎ－メチル－ｎ－プロピルアニリン、Ｎ－メチルイソプロピルアニリン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、モルホリン、ピペリジン、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、ピロリジン、２－メチルアミノピリジン、３－メチルアミノピリジン、４－メチルアミノピリジン、等の２級アミン、
　Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルクロロアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルブロモアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルフルオロアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニシジン、Ｎ－メチルメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｎ－プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソプロピルアニリン、１、４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１、５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン、１、８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、２－ジメチルアミノピリジン、３－ジメチルアミノピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミンが挙げられ、好ましくは１級アミンまたは２級アミン、より好ましくは１級アニリン類が使用される。
　その使用量は金属水素化物に対して通常０．００１～２モル倍、好ましくは０．０１～０．５モル倍の範囲である。反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量はシクロペンタジエン類に対して通常１～２００重量倍、好ましくは３～３０重量倍の範囲である。
　反応に際しては、例えば溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）、塩基、アミン化合物を同時に混合してもよいし、予め塩基とアミン化合物を混合した後に置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）を添加してもよい。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には良く、例えば０～７０℃、好ましくは１０～６０℃の範囲である。かかる反応によって置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）の金属塩が効率よく生成する。かくして得られた置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）の金属塩は、反応混合物のまま用いてもよいし、該反応混合物から取り出して用いてもよいが、通常前者で充分である。
　置換シクロペンタジエン化合物（６－１）～（６－６）を得る反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）に対して通常１～２００重量倍、好ましくは３～３０重量倍の範囲である。本反応は、例えば溶媒中で塩基、アミン化合物および置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）を混合した後、ハロゲン化ケイ素化合物（１３－１）～（１３－６）を添加することによって行われるのが通常であるが、一度に混合する方法を採用しても目的の置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）は生成する。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には有利であり、例えば０～７０℃、好ましくは１０～６０℃の範囲である。
　置換シクロペンタジエン類（１２－１）～（１２－６）の使用量はハロゲン化ケイ素化合物（１３－１）～（１３－６）に対して通常０．５～５モル倍、好ましくは０．８～３モル倍の範囲である。
　反応終了後、得られた反応混合物に水、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、塩化アンモニウム水溶液、または塩酸などの水溶液などを加えたのち、有機層と水層とに分液し、有機層として置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）の溶液が得られる。反応において水と相溶性の溶媒を用いた場合や反応における溶媒の使用量が少ないために有機層と水層とを容易に分液できない場合には、必要により該反応混合物にトルエン、酢酸エチル、クロロベンゼンなどの水に不溶の有機溶媒を加えた後に分液すればよい。得られた有機層を濃縮すれば置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）～（１２－６）が得られるが、必要により、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などの方法によって精製してもよい。
＜活性化助触媒成分＞
　活性化助触媒成分としては、次の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができ、る。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）～（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
　（Ａ１）：一般式　（Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３－ａで表される有機アルミニウム化合物
　（Ａ２）：一般式　｛－Ａｌ（Ｅ２）－Ｏ－｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
　（Ａ３）：一般式　Ｅ３｛－Ａｌ（Ｅ３）－Ｏ－｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、炭素原子数１～８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１～３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）～（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
　（Ｂ１）：一般式　ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
　（Ｂ２）：一般式Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物
　（Ｂ３）：一般式（Ｌ－Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１～２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基または炭素原子数２～２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ－Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
　化合物（Ａ１）～（Ａ３）において、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３における炭素原子数１～８のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数１～８のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数１～８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
　一般式　（Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３－ａで表される有機アルミニウム化合物（Ａ１）としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
（Ａ２）：式｛－Ａｌ（Ｅ２）－Ｏ－｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）式Ｅ３｛－Ａｌ（Ｅ３）－Ｏ－｝ｃＡｌＥ３ ２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２～４０であり、ｃは１～４０である。
　上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。
　化合物（Ｂ１）～（Ｂ３）において、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基である。Ｔ＋における無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５－テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５－トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４－トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレ－ト、テトラキス（３，５－ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸である（Ｌ－Ｈ）＋としては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。
　一般式　ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５－テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５－トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４－トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどが挙げられる。
　一般式Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物（Ｂ２）としては、例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’－ビス－トリメチルシリルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５－ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げられる。
　一般式（Ｌ－Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物（Ｂ３）としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５－ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ－ビス－トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ－２，４，６－ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ－ビス－トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（３，５－ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ビス－トリメチルシリルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
＜三量化用触媒＞
　本発明の三量化用触媒とは、上記の遷移金属錯体（１）からなる三量化用触媒であり、エチレンを三量化させて１－ヘキセンを製造することができる触媒である。例えば、遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを接触させることにより、三量化用触媒成分を得ることができる。
　かかる活性化助触媒成分としては上記の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができる。また化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
　各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１～１００００であり、好ましくは５～５０００である。また、化合物（Ｂ）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１～１００、好ましくは０．５～１０である。
　各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体（１）の濃度は、通常０．０００１～５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１～１ミリモル／リットルである。化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１～５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１～１００ミリモル／リットルである。化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１～５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１～１ミリモル／リットルである。
　各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを予め接触させて三量化用触媒を調製し、該三量化用触媒を反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で反応器に供給し、反応器内で接触処理を行ってもよい。
＜１－ヘキセンの製造方法＞
　本発明の１－ヘキセンの製造方法とは、エチレンから１－ヘキセンを製造する方法であり、エチレンの三量化反応により１－ヘキセンを製造する方法である。
　三量化反応は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド、クロロベンゼン等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる三量化反応、又はスラリー状態での三量化反応、ガス状のエチレン中での三量化反応等が可能である。
　三量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれかの方法において行うことができる。
　エチレンの圧力は、通常、常圧～１０ＭＰａであるが、好ましくは常圧～５ＭＰａの範囲である。
　三量化反応の温度は、通常－５０℃～２２０℃の範囲を取り得る。好ましくは０℃～１７０℃の範囲であり、より好ましくは５０℃～１２０℃の範囲である。
　三量化反応の時間は、一般的に、目的とする反応装置により適宜決定されるが、１分間～２０時間の範囲を取ることができる。
＜オレフィン重合用触媒成分＞
　本発明で使用されるオレフィン重合用触媒成分としては、チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有する固体触媒成分、メタロセン系遷移金属錯体からなる触媒成分などを挙げることができる。また、オレフィン重合用触媒成分として、ＥＰ０８７４００５公報に報告されている、フェノキシイミン配位子を持つ錯体を挙げることができる。
　チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有する固体触媒成分としては、例えば、特開昭６３－１４２００８号公報、特開平４－２２７６０４号公報、特開平５－３３９３１９号公報、特開平６－１７９７２０号公報、特開平９－３１１１９号公報、特開平１１－８０２３４号公報、特開平１１－３２２８３３号公報等に記載されている固体触媒成分を挙げることができる。
　メタロセン系遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分としては、下記一般式（２）で表される遷移金属錯体を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
（式中、Ｍ２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、Ｊ１は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ１とＤ１とを連結する基を表す。ｑは０または１を表す。ｑが１の場合、Ｄ１は、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基、またはＪ１とＭ２とを連結する基であって元素の周期律表の第１５族の原子もしくは元素の周期律表の第１６族の原子でＭ２と結合する前記基を表し、ｑが０の場合、Ｄ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ４、Ｘ５はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
　オレフィン重合用触媒成分として、好ましくは、下記一般式（３）で表される遷移金属錯体、下記一般式（４）で表される遷移金属錯体、下記一般式（５）で表される遷移金属錯体で表される遷移金属錯体などを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
（式中、Ｍ３は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ２およびＣｐ３はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。Ｊ２は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ２とＣｐ３とを連結する基を表す。
Ｘ６、Ｘ７はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
（式中、Ｍ４は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ４はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。Ｊ３は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ４とＡ１とを連結する基を表す。Ａ１はＪ３とＭ４とを連結する基であって、元素の周期律表の第１５族の原子または元素の周期律表の第１６族の原子でＭ４と結合する前記基を表す。
Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
（式中、Ｍ５は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ２は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
Ｊ４は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
Ｃｐ５はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１０及びＸ１１は結合してＭ５と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１８及びＲ１９は結合してＪ４と一緒になって環を形成していてもよい。）
　一般式（２）で示される遷移金属錯体について詳細に説明する。
　Ｍ２における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられる。
　Ｃｐ１またはＤ１として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη５－シクロぺンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ジメチルシクロペンタジエニル基、η５－トリメチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－エチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル基、η５－イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－オクチルシクロぺンタジエニル基、η５－フェニルシクロぺンタジエニル基、η５－ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５－トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－メチルインデニル基、η５－ジメチルインデニル基、η５－エチルインデニル基、η５－ｎ－プロピルインデニル基、η５－イソプロピルインデニル基、η５－ｎ－ブチルインデニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルインデニル基、η５－ｎ－ペンチルインデニル基、η５－ネオペンチルインデニル基、η５－ｎ－ヘキシルインデニル基、η５－ｎ－オクチルインデニル基、η５－ｎ－デシルインデニル基、η５－フェニルインデニル基、η５－メチルフェニルインデニル基、η５－ナフチルインデニル基、η５－トリメチルシリルインデニル基、η５－トリエチルシリルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルインデニル基、η５－テトラヒドロインデニル基、η５－フルオレニル基、η５－メチルフルオレニル基、η５－ジメチルフルオレニル基、η５－エチルフルオレニル基、η５－ジエチルフルオレニル基、η５－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－イソプロピルフルオレニル基、η５－ジイソプロピルフルオレニル基、η５－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ｎ－ペンチルフルオレニル基、η５－ネオペンチルフルオレニル基、η５－ｎ－ヘキシルフルオレニル基、η５－ｎ－オクチルフルオレニル基、η５－ｎ－デシルフルオレニル基、η５－ｎ－ドデシルフルオレニル基、η５－フェニルフルオレニル基、η５－ジ－フェニルフルオレニル基、η５－メチルフェニルフルオレニル基、η５－ナフチルフルオレニル基、η５－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－ビス－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－トリエチルシリルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルフルオレニル基、η５－アズレニル基などが挙げられ、好ましくはη５－シクロペンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－フルオレニル基、η５－アズレニル基などである。
　Ｊ１は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ１とＤ１とを連結する基である。Ｊ１としては、－ＳｉＲ２－、－ＣＲ２－、－ＳｉＲ２ＳｉＲ２－、－ＣＲ２ＣＲ２－、－ＣＲ＝ＣＲ－、－ＣＲ２ＳｉＲ２－、または－ＧｅＲ２－である。ただし、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアリール基またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのハイドロカルビル置換シリル基である。Ｒが複数ある場合は、複数あるＲは同一であってもよく、異なっていてもよい
　Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などのハイドロカルビル置換シリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。Ｊ１としては、好ましくは、－ＳｉＲ２－、－ＣＲ２－、－ＣＲ２ＣＲ２－であり、Ｒとして好ましくは水素原子、メチル基である。
　Ｄ１として示されるＪ１とＭ２とを連結する基であって元素の周期律表の第１５族の原子もしくは元素の周期律表の第１６族の原子でＭ２と結合する前記基としては、例えば－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ－または－ＰＲ－であり、好ましくは、－ＮＲ－である。ただし、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアリール基またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのハイドロカルビル置換シリル基である。
　Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などのハイドロカルビル置換シリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。Ｒとしては好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノルボルニル基、ベンジル基、フェニル基などである。
　さらに、Ｄ１として示されるＪ１とＭ２とを連結する基であって元素の周期律表の第１５族の原子もしくは元素の周期律表の第１６族の原子でＭ２と結合する前記基としては、例えば、以下の一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）で示される基があげられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
好ましくは、一般式（２－１）である。ただし、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアリール基またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのハイドロカルビル置換シリル基である。Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（４，６－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などのハイドロカルビル置換シリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。Ｒとしては好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノルボルニル基、ベンジル基、フェニル基などである。
また、一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の水素原子は、
ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基で置換されていてもよい。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
　これらのアラルキル基はいずれもハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ－ヘキソキシ基、ｎ－オクトキシ基、ｎ－ドデソキシ基、ｎ－ペンタデソキシ基、ｎ－イコソキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における炭素原子数６～２０アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２，３－ジメチルフェノキシ基、２，４－ジメチルフェノキシ基、２，５－ジメチルフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、３，４－ジメチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基、２，３，４－トリメチルフェノキシ基、２，３，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，６－トリメチルフェノキシ基、２，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，４，６－トリメチルフェノキシ基、３，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５－テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６－テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６－テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ－プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ－ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ－ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、ｎ－ヘキシルフェノキシ基、ｎ－オクチルフェノキシ基、ｎ－デシルフェノキシ基、ｎ－テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６～２０のアリールオキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における、炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２－メチルフェニル）メトキシ基、（３－メチルフェニル）メトキシ基、（４－メチルフェニル）メトキシ基、（２，３－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１～１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ１２の炭素原子数の合計が１～２０の範囲である。この３つのＲ１２の炭素原子数の合計は３～１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　Ｘ４、Ｘ５および一般式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）のベンゼン環上の置換基における－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ１３はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３の炭素原子数の合計が２～２０の範囲であり、２～１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ１３は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ジ－イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ヘキシルアミノ基、ジ－ｎ－オクチルアミノ基、ジ－ｎ－デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　一般式（２）で表される遷移金属錯体において、好ましくは、ｑが１のものであり、より好ましくは、ｑが１であり、Ｄ１が、窒素原子でＭ２と結合する基または一般式（２－１）で示される基の錯体であり、もっとも好ましくは、ｑが１であり、Ｄ１が一般式（２－１）で示される基の錯体である。
　一般式（３）および（４）で示される遷移金属錯体について詳細に説明する。
　Ｍ３における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、ジルコニウム原子、ハフニウム原子である。
　Ｍ４における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、チタン原子、ジルコニウム原子である。
　Ａ１は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはリン原子でＪ３とＭ４とを連結する基である。Ａ１としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ－または－ＰＲ－であり、好ましくは、－ＮＲ－である。ただし、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアリール基またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのハイドロカルビル置換シリル基である。
　Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などのハイドロカルビル置換シリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。Ｒとしては好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノルボルニル基、ベンジル基、フェニル基などである。
　Ｊ２は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ２とＣｐ３とを連結する基であり、Ｊ３は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ４とＡ１とを連結する基である。Ｊ２およびＪ３としては、それぞれ独立して、－ＳｉＲ２－、－ＣＲ２－、－ＳｉＲ２ＳｉＲ２－、－ＣＲ２ＣＲ２－、－ＣＲ＝ＣＲ－、－ＣＲ２ＳｉＲ２－または－ＧｅＲ２－である。ただし、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのアリール基またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２０個までのハイドロカルビル置換シリル基である。Ｒが複数ある場合は、複数あるＲは同一であってもよく、異なっていてもよい
　Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などのアルキル基、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などのアラルキル基、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などのアリール基、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などのハイドロカルビル置換シリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。Ｊ２およびＪ３としては、好ましくは、－ＳｉＲ２－、－ＣＲ２－、－ＣＲ２ＣＲ２－であり、Ｒとして好ましくは水素原子、メチル基である。
　置換基Ｃｐ２、Ｃｐ３およびＣｐ４として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη５－シクロぺンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ジメチルシクロペンタジエニル基、η５－トリメチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－エチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル基、η５－イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－オクチルシクロぺンタジエニル基、η５－フェニルシクロぺンタジエニル基、η５－ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５－トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－メチルインデニル基、η５－ジメチルインデニル基、η５－エチルインデニル基、η５－ｎ－プロピルインデニル基、η５－イソプロピルインデニル基、η５－ｎ－ブチルインデニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルインデニル基、η５－ｎ－ペンチルインデニル基、η５－ネオペンチルインデニル基、η５－ｎ－ヘキシルインデニル基、η５－ｎ－オクチルインデニル基、η５－ｎ－デシルインデニル基、η５－フェニルインデニル基、η５－メチルフェニルインデニル基、η５－ナフチルインデニル基、η５－トリメチルシリルインデニル基、η５－トリエチルシリルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルインデニル基、η５－テトラヒドロインデニル基、η５－フルオレニル基、η５－メチルフルオレニル基、η５－ジメチルフルオレニル基、η５－エチルフルオレニル基、η５－ジエチルフルオレニル基、η５－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－イソプロピルフルオレニル基、η５－ジイソプロピルフルオレニル基、η５－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ｎ－ペンチルフルオレニル基、η５－ネオペンチルフルオレニル基、η５－ｎ－ヘキシルフルオレニル基、η５－ｎ－オクチルフルオレニル基、η５－ｎ－デシルフルオレニル基、η５－ｎ－ドデシルフルオレニル基、η５－フェニルフルオレニル基、η５－ジ－フェニルフルオレニル基、η５－メチルフェニルフルオレニル基、η５－ナフチルフルオレニル基、η５－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－ビス－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－トリエチルシリルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルフルオレニル基、η５－アズレニル基などが挙げられ、好ましくはη５－シクロペンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－フルオレニル基、η５－アズレニル基などである。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
　これらのアラルキル基はいずれもハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ－ヘキソキシ基、ｎ－オクトキシ基、ｎ－ドデソキシ基、ｎ－ペンタデソキシ基、ｎ－イコソキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における炭素原子数６～２０アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２，３－ジメチルフェノキシ基、２，４－ジメチルフェノキシ基、２，５－ジメチルフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、３，４－ジメチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基、２，３，４－トリメチルフェノキシ基、２，３，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，６－トリメチルフェノキシ基、２，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，４，６－トリメチルフェノキシ基、３，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５－テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６－テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６－テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ－プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ－ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ－ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、ｎ－ヘキシルフェノキシ基、ｎ－オクチルフェノキシ基、ｎ－デシルフェノキシ基、ｎ－テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６～２０のアリールオキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における、炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２－メチルフェニル）メトキシ基、（３－メチルフェニル）メトキシ基、（４－メチルフェニル）メトキシ基、（２，３－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１～１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ１２の炭素原子数の合計が１～２０の範囲である。この３つのＲ１２の炭素原子数の合計は３～１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８およびＸ９における－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ１３はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３の炭素原子数の合計が２～２０の範囲であり、２～１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ１３は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ジ－イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ヘキシルアミノ基、ジ－ｎ－オクチルアミノ基、ジ－ｎ－デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　一般式（３）で示される遷移金属錯体は、例えば、第３２９０２１８号公報に記載の方法などで製造することができる。
　一般式（３）で示される錯体としては、例えば、メチレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（アズレニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ジルコニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－エチレン－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
　メチレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（インデニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－ビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－ビス（アズレニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、イソプロピリデンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、１，２－エチレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（インデニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
　メチレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、イソプロピリデン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－エチレン－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジメチルシリレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ハフニウムジクロライド、などや、これらの化合物のジルコニウム、ハフニウムをチタニウムに、シクロペンタジエニルをメチルシクロペンタジエニル、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル、ｔ－ブチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルに、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ－ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物などが挙げられる。
　一般式（４）で示される遷移金属錯体は、例えば、第２５３５２４９号公報に記載の方法などで製造することができる。
　一般式（４）で示される錯体としては、例えば、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、メチレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　１，２－エチレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－エチレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　ジフェニルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、ジフェニルシリレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
　１，２－テトラメチルジシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（シクロヘキシルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（フェニルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（ベンジルアミド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（シクロヘキシルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（フェニルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、１，２－テトラメチルジシリレン（ベンジルフォスファイド）（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、などや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、ハフニウムに、シクロペンタジエニルをメチルシクロペンタジエニル、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル、ｔ－ブチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルに、ｔ－ブチルアミドを酸素原子、イオウ原子に、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ－ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物などが挙げられる。
　一般式（５）で示される錯体について詳細に説明する。Ｍ５における元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、チタン原子である。
　Ａ２における元素の周期律表の第１６族の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原子などが挙げられ、好ましくは、酸素原子である。
　Ｊ４として示される元素の周期律表の第１４族の原子としては、例えば炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが挙げられる。好ましくは、炭素原子、ケイ素原子であり、より好ましくは炭素原子である。
　置換基Ｃｐ５として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη５－シクロぺンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ジメチルシクロペンタジエニル基、η５－トリメチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－エチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－プロピルシクロペンタジエニル基、η５－イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５－ｎ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－－ｔｅｒｔ－ブチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５－ｎ－オクチルシクロぺンタジエニル基、η５－フェニルシクロぺンタジエニル基、η５－ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５－トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－メチルインデニル基、η５－ジメチルインデニル基、η５－エチルインデニル基、η５－ｎ－プロピルインデニル基、η５－イソプロピルインデニル基、η５－ｎ－ブチルインデニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルインデニル基、η５－ｎ－ペンチルインデニル基、η５－ネオペンチルインデニル基、η５－ｎ－ヘキシルインデニル基、η５－ｎ－オクチルインデニル基、η５－ｎ－デシルインデニル基、η５－フェニルインデニル基、η５－メチルフェニルインデニル基、η５－ナフチルインデニル基、η５－トリメチルシリルインデニル基、η５－トリエチルシリルインデニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルインデニル基、η５－テトラヒドロインデニル基、η５－フルオレニル基、η５－メチルフルオレニル基、η５－ジメチルフルオレニル基、η５－エチルフルオレニル基、η５－ジエチルフルオレニル基、η５－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－プロピルフルオレニル基、η５－イソプロピルフルオレニル基、η５－ジイソプロピルフルオレニル基、η５－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｎ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｓｅｃ－ブチルフルオレニル基、η５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル基、η５－ｎ－ペンチルフルオレニル基、η５－ネオペンチルフルオレニル基、η５－ｎ－ヘキシルフルオレニル基、η５－ｎ－オクチルフルオレニル基、η５－ｎ－デシルフルオレニル基、η５－ｎ－ドデシルフルオレニル基、η５－フェニルフルオレニル基、η５－ジ－フェニルフルオレニル基、η５－メチルフェニルフルオレニル基、η５－ナフチルフルオレニル基、η５－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－ビス－トリメチルシリルフルオレニル基、η５－トリエチルシリルフルオレニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルフルオレニル基などが挙げられ、好ましくはη５－シクロペンタジエニル基、η５－メチルシクロペンタジエニル基、η５－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル基、η５－テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５－インデニル基、η５－フルオレニル基などである。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６およびＲ１７におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－エイコシル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２－トリル基、３－トリル基、４－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、２，３，４－トリメチルフェニル基、２，３，５－トリメチルフェニル基、２，３，６－トリメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、３，４，５－トリメチルフェニル基、２，３，４，５－テトラメチルフェニル基、２，３，４，６－テトラメチルフェニル基、２，３，５，６－テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２－メチルフェニル）メチル基、（３－メチルフェニル）メチル基、（４－メチルフェニル）メチル基、（２，３－ジメチルフェニル）メチル基、（２，４－ジメチルフェニル）メチル基、（２，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、（３，４－ジメチルフェニル）メチル基、（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ－プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ－ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メチル基、（ｎ－ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ－オクチルフェニル）メチル基、（ｎ－デシルフェニル）メチル基、（ｎ－ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ－ヘキソキシ基、ｎ－オクトキシ基、ｎ－ドデソキシ基、ｎ－ペンタデソキシ基、ｎ－イコソキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２，３－ジメチルフェノキシ基、２，４－ジメチルフェノキシ基、２，５－ジメチルフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、３，４－ジメチルフェノキシ基、３，５－ジメチルフェノキシ基、２，３，４－トリメチルフェノキシ基、２，３，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，６－トリメチルフェノキシ基、２，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，４，６－トリメチルフェノキシ基、３，４，５－トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５－テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６－テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６－テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ－プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ－ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ－ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、ｎ－ヘキシルフェノキシ基、ｎ－オクチルフェノキシ基、ｎ－デシルフェノキシ基、ｎ－テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６～２０のアリールオキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における、炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２－メチルフェニル）メトキシ基、（３－メチルフェニル）メトキシ基、（４－メチルフェニル）メトキシ基、（２，３－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４－ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５－ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６－トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５－トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６－テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ－デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ－テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
　また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１～１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ１２の炭素原子数の合計が１～２０の範囲である。この３つのＲ１２の炭素原子数の合計は３～１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｎ－プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ－ｎ－ブチルシリル基、トリ－ｓｅｃ－ブチルシリル基、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基、トリ－イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチル－ジメチルシリル基、トリ－ｎ－ペンチルシリル基、トリ－ｎ－ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９における－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ１３はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３の炭素原子数の合計が２～２０の範囲であり、２～１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ１３は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ジ－イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ヘキシルアミノ基、ジ－ｎ－オクチルアミノ基、ジ－ｎ－デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
　Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１８及びＲ１９は結合してそれらが結合しているＪ４と一緒になって環を形成していてもよい。該環としては、例えば、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環などがあげられ、具体的には、例えば、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などを挙げることができる。これらの環は、炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基などで置換されていてもよく、ケイ素原子を含んでいてもよい。ケイ素原子を含む環としては、例えば、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環などを挙げることができる。
　置換基Ｘ１０、Ｘ１１として好ましくは、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子である。
　Ｒ１４として好ましくは、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、－Ｓｉ（Ｒ７）３（３つのＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ７にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、さらに好ましくは、ｔｅｒｔ－ブチル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
　一般式（５）で示される遷移金属錯体は、例えば、特開平９－８７３１３号公報に記載の方法などで製造することができる。
　一般式（５）で示される錯体としては、例えばメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
メチレン（フルオレニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（フルオレニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－トリメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ－ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物、（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（インデニル）に変更した化合物、３，５－ジメチル－２－フェノキシを２－フェノキシ、３－メチル－２－フェノキシ、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ、３－フェニル－５－メチル－２－フェノキシ、３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－２－フェノキシ、３－トリメチルシリル－２－フェノキシに変更した化合物、メチレンをジエチルメチレンに変更した化合物などといった一般式（５）におけるＪ４が炭素原子である遷移金属錯体ならびに
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（インデニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、
　ジメチルシリレン（フルオレニル）（２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５－ジメチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５－メチル－３－フェニル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５－メチル－３－トリメチルシリル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メトキシ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－クロロ－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５－ジアミル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（１－ナフトキシ－２－イル）チタンジクロライドなどや、これらの化合物の（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（エチルシクロペンタジエニル）、（ｎ－プロピルシクロペンタジエニル）、（イソプロピルシクロペンタジエニル）、（ｓｅｃ－ブチルシクロペンタジエニル）、（イソブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（フェニルシクロペンタジエニル）、（メチルインデニル）、（フェニルインデニル）に変更した化合物、２－フェノキシを３－フェニル２－フェノキシ、３－トリメチルシリル－２－フェノキシ、３－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル－２－フェノキシに変更した化合物、ジメチルシリレンをジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、ジメトキシシリレンに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ－ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物といった一般式（５）におけるＪ４が炭素原子以外の元素の周期律表の第１４族の原子である遷移金属錯体が挙げられる。
　オレフィン重合用触媒成分としては、非架橋のビスメタロセン錯体も使用でき、その例として、たとえば、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（ｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
（シクロペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ｎ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ｔ－ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、などや、これらの化合物のジルコニウムをチタニウム、ハフニウムに、シクロペンタジエニルをメチルシクロペンタジエニル、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル、ｔ－ブチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルに、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、ｎ－ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物などが挙げられる。
　オレフィン重合用触媒成分としては、アミド－ピリジル－アリール配位子を持つ元素の周期律表の第４族の遷移金属錯体も使用でき、その例として、たとえば、２－（Ｎ－フェニルアミド－フェニルメチル）－６－（２－η－フェニル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－（Ｎ－フェニルアミド－フェニルメチル）－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－フェニルメチル］－６－（２－η－フェニル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［（Ｎ－フェニルアミド）－ｏ－イソプロピルフェニルメチル］－６－（２－η－フェニル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－フェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［（Ｎ－フェニルアミド）－ｏ－イソプロピルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－イソプロピルフェニルメチル］－６－（２－η－フェニル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－イソプロピルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－シクロヘキシルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－メチルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－フェニルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル、などや、これらの化合物のハフニウムをチタニウム、ジルコニウムに、ジメチルをビストリメチルシリルメチルに変更した化合物などが挙げられ、例えば、ＵＳ２００４／０２２００５０Ａ１に記載の方法などで製造することができる。
＜オレフィン重合用触媒＞
　本発明で使用されるオレフィン重合用触媒は、一般式（２）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、一般式（１）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、上述した活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒である。
　各触媒成分の使用量として、三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分のモル比（三量化用触媒成分／オレフィン重合用触媒成分）は、通常０．０００１～１００であり、好ましくは０．００１～１であり、より好ましくは、０．０１から０．５であり、さらに好ましくは、０．０５から０．１５である。
　各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル比（化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体）は、通常０．０１～１００００であり、好ましくは５～２０００である。また、化合物（Ｂ）と触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル比（化合物（Ｂ）／遷移金属錯体）は、通常０．０１～１００、好ましくは０．５～１０である。
　また、化合物（Ａ）中のアルミニウム原子のモルと固体触媒成分中のチタン原子のモルとの比（化合物（Ａ）中のアルミニウム原子のモル／固体触媒成分中のチタン原子のモル）は、通常１～１００００であり、好ましくは１～２０００であり、より好ましくは２～６００である。
　各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体の濃度は、通常０．０００１～５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１～１ミリモル／リットルである。化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１～５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１～１００ミリモル／リットルである。化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１～５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１～１ミリモル／リットルである。
　一般式（２）で表される遷移金属錯体からなるオレフィン重合用触媒成分と、活性化助触媒成分は担体に担持して使用してもよい。担体としては、多孔質物質が好適に用いられ、無機物質または有機ポリマーがより好適に用いられ、無機物質がさらに好適に用いられる。担体については後述する。
　各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させて重合用触媒を調製し、該重合用触媒を重合反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で重合反応器に供給し、重合反応器内で接触処理を行ってもよい。重合反応器には、オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分とを予め接触させたもの（オレフィン重合用触媒成分と三量化用触媒成分とを同時に製造したものも含む）を供給してもよく、オレフィン重合用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよく、三量化用触媒成分と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよい。
（担体）
　担体に用いられる無機物質の例としては、無機酸化物、マグネシウム化合物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわない。
　担体に用いられる無機酸化物の具体例としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２等、およびこれらの混合物、例えば、ＳｉＯ２－ＭｇＯ、ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２－ＴｉＯ２、ＳｉＯ２－Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２－Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２－ＴｉＯ２－ＭｇＯなどを例示することができる。これらの無機酸化物の中では、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が好ましく、ＳｉＯ２がより好ましい。なお、上記無機酸化物には少量のＮａ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、Ｎａ２ＳＯ４、Ａｌ２（ＳＯ４）３、ＢａＳＯ４、ＫＮＯ３、Ｍｇ（ＮＯ３）２、Ａｌ（ＮＯ３）３、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわない。
　また、無機酸化物には通常、表面に水酸基が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸化物を使用してもよく、該置換基としては、置換基はシリル基が好ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチルクロロシランやｔｅｒｔ－ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処理した無機酸化物が挙げられる。
　担体に用いられるマグネシウム化合物としては、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化マグネシウムなどのハロゲン化マグネシウム；メトキシ塩化マグネシウム、エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネシウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マグネシウムなどのアルコキシマグネシウムハライド；フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マグネシウムなどのアリロキシマグネシウムハライド；エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、ブトキシマグネシウム、ｎ－オクトキシマグネシウム、２－エチルヘキソキシマグネシウムなどのアルコキシマグネシウム；フェノキシマグネシウム、ジメチルフェノキシマグネシウムなどのアリロキシマグネシウム；ラウリン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムなどのマグネシウムのカルボン酸塩などを例示することができる。これらの中で好ましくは、ハロゲン化マグネシウムまたはアルコキシマグネシウムであり、さらに好ましくは塩化マグネシウムまたはブトキシマグネシウムである。
　担体に用いられる粘土または粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。これらの中で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ラポナイトまたはサポナイトであり、さらに好ましくはモンモリロナイトまたはヘクトライトである。
　担体に用いられる無機物質としては、無機酸化物が好ましい。
　担体に用いられるこれらの無機物質としては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常１００～１５００℃であり、好ましくは１００～１０００℃であり、さらに好ましくは２００～８００℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは１０分間～５０時間、より好ましくは１時間～３０時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
　無機物質からなる担体の平均粒子径は、好ましくは５～１０００μｍであり、より好ましくは１０～５００μｍであり、さらに好ましくは１０～１００μｍである。無機物質からなる担体の細孔容量は、好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上であり、より好ましくは０．３～１０ｍｌ／ｇである。無機物質からなる担体の比表面積は、好ましくは１０～１０００ｍ２／ｇであり、より好ましくは１００～５００ｍ２／ｇである。
　担体に用いられる有機ポリマーとしては、特に制限はなく、また２種以上の有機ポリマーを混合物として用いても構わないが、活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基を有する重合体が好ましい。
　活性水素を有する基としては、活性水素を有しておれば特に制限はなく、具体例としては１級アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基である。特に好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
　非プロトン供与性のルイス塩基性基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリジル基、Ｎ－置換イミダゾリル基、Ｎ－置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、Ｎ－置換イミノ基、Ｎ，Ｎ－置換アミノ基、Ｎ，Ｎ－置換アミノオキシ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ－置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ－置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに好ましくは、酸素原子および／または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基であり、特に好ましくは、ピリジル基、Ｎ－置換イミダゾリル基またはＮ－置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
　重合体中のかかる活性水素を有する基および非プロトン供与性のルイス塩基性基の量としては、重合体単位グラム当りの該基のモル量は、好ましくは０．０１～５０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましくは０．１～２０ｍｍｏｌ／ｇである。
　かかる基を有する重合体は、例えば、活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合することにより、またはこれと重合性不飽和基を１個以上有する他のモノマーとを共重合することにより得ることができる。また、該他のモノマーの少なくとも１種に、重合性不飽和基を２個以上有する架橋重合性モノマーを用いることが好ましい。
　かかる活性水素を有する基および／または非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーとしては、上記の活性水素を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマー、上記の活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーなどを挙げることができる。かかる重合性不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基；エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。
　活性水素を有する基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの例としては、ビニル基含有１級アミン、ビニル基含有２級アミン、ビニル基含有アミド化合物、ビニル基含有ヒドロキシ化合物等を挙げることができる。具体例としては、Ｎ－（１－エテニル）アミン、Ｎ－（２－プロペニル）アミン、Ｎ－（１－エテニル）－Ｎ－メチルアミン、Ｎ－（２－プロペニル）－Ｎ－メチルアミン、１－エテニルアミド、２－プロペニルアミド、Ｎ－メチル－（１－エテニル）アミド、Ｎ－メチル－（２－プロペニル）アミド、ビニルアルコール、２－プロペン－１－オール、３－ブテン－１－オール等が挙げられる。
　非プロトン供与性のルイス塩基性基と１個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの具体例としては、ビニルピリジン、ビニル（Ｎ－置換）イミダゾール、ビニル（Ｎ－置換）インダゾール等を挙げることができる。
　重合性不飽和基を１個以上有する他のモノマーとしては、オレフィン、芳香族ビニル化合物等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ヘキセン、４－メチル－１－ペンテン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは２種以上を用いてもよい。また、重合性不飽和基を２個以上有する架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
　有機ポリマーからなる担体の平均粒子径は、好ましくは５～１０００μｍであり、より好ましくは１０～５００μｍである。有機ポリマーからなる担体の細孔容量は、好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上であり、より好ましくは０．３～１０ｍｌ／ｇである。有機ポリマーからなる担体の比表面積は、好ましくは１０～１０００ｍ２／ｇであり、より好ましくは５０～５００ｍ２／ｇである。
　担体に用いられるこれらの有機ポリマーとしては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常３０～４００℃であり、好ましくは５０～２００℃であり、さらに好ましくは７０～１５０℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは１０分間～５０時間、より好ましくは１時間～３０時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
　担体の粒径の体積基準の幾何標準偏差は、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．０以下であり、さらに好ましくは１．７以下である。
＜重合＞
　本発明は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法である。重合では、原料モノマーとしてエチレンのみを供給して重合を行ってもよく、エチレンと共重合可能なモノマーとエチレンとを供給して重合を行ってもよい。
　エチレンと共重合可能なモノマーとしては、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ドデセン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセンなどの炭素原子数３～２０のオレフィン；ノルボルネンなどの環状オレフィン；スチレンなどのアルケニル芳香族ハイドロカルビル；アクリル酸、メタクリル酸などの不飽和カルボン酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニルなどのビニルエステル化合物などがあげられる。これらは単独で用いられていてもよく、２種以上を用いられてもよい。
　重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能である。また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
　本発明は、原料モノマーとしてヘキセンの供給が少量の重合であっても、あるいは、原料モノマーとしてエチレンのみの供給での重合であっても、ブチル分岐を有する重合体を得ることができるものである。そのため、本発明の効果がより顕著となる重合条件としては、重合形式がスラリー重合の場合、重合系中のエチレンのモル分率（重合系中のエチレンと１－ヘキセンとの総量を１００モル％とする。）が、好ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは９５ｍｏｌ％以上であり、更に好ましくは実質的に１００ｍｏｌ％である。また、重合形式が気相重合の場合、重合系中のエチレンのモル分率（重合系中のエチレンと１－ヘキセンとの総量を１００モル％とする。）が、好ましくは９７ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは９８ｍｏｌ％以上であり、更に好ましくは実質的に１００ｍｏｌ％である。
　溶液重合とスラリー重合の場合、重合液中でのオレフィン重合用触媒の濃度は、触媒成分として使用する遷移金属錯体（三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分の合計）のモル換算として、通常０．０００１～５ミリモル／リットルである。オレフィン重合用触媒の濃度は、経済性を高めるために、好ましくは２ミリモル／リットル以下であり、より好ましくは１ミリモル／リットル以下である。また、オレフィン重合用触媒の濃度は、ブチル分岐の数をより高めるために、好ましくは０．００１ミリモル／リットル以上であり、より好ましくは０．０１ミリモル／リットル以上であり、さらに好ましくは０．１ミリモル／リットル以上であり、特に好ましくは０．５ミリモル／リットル以上である。
　重合圧力は、常圧～５ＭＰａが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、１分間～２０時間の範囲を取ることができる。また、エチレン系重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
　重合温度は、０℃～２２０℃の範囲を取り得る。重合温度は、経済性を高めるために、好ましくは２０℃以上であり、より好ましくは４０℃以上であり、さらに好ましくは５０℃以上であり、もっとも好ましくは７０℃以上である。また重合温度は、また、ブチル分岐の数をより高めるために、好ましくは１３０℃以下であり、より好ましくは１００℃以下である。
＜重合体＞
　本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体としては、エチレン－１－ヘキセン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－プロピレン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－ブテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－オクテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－４－メチル－１－ペンテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－ブテン－１－オクテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－ブテン－４－メチル－１－ペンテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－スチレン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－ノルボルネン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－プロピレン－スチレン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－プロピレン－ノルボルネン共重合体などがあげられる。
　エチレン系重合体として好ましくは、エチレン－１－ヘキセン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－プロピレン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－ブテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－オクテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－４－メチル－１－ペンテン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－スチレン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－ノルボルネン共重合体であり、より好ましくは、エチレン－１－ヘキセン共重合体、エチレン－１－ヘキセン－１－ブテン共重合体である。
　エチレン系重合体の炭素原子１０００個当りのブチル分岐の数は、エチレン系重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは１以上であり、より好ましくは３以上であり、更に好ましくは５以上であり、特に好ましくは１０以上である。また、ブチル分岐の数は、エチレン系重合体の剛性を高める観点から、好ましくは４０以下であり、より好ましくは３０以下であり、更に好ましくは２５以下である。該ブチル分岐の数は、カーボン核磁気共鳴（１３Ｃ－ＮＭＲ）法、ＩＲ法などによって求めることができる。
　エチレン系重合体の融点は、エチレン系重合体の機械的強度を高める観点から、好ましくは１３０℃未満である。融点は、示差走査型熱量計を用いて求めることができる。
　重合用触媒の調製において使用する三量化用触媒成分とオレフィン重合用触媒成分のモル比（三量化用触媒成分／オレフィン重合用触媒成分）を高くすることにより、また、重合温度を低くすることにより、エチレン系重合体の炭素原子１０００個当りのブチル分岐の数を多くすることができる。
　エチレン系重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、重合体の加工性を高めるために、好ましくは１．５以上である。また、重合体の機械的強度を高めるために、Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは２０以下である。該分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ測定によってポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）とを求め、ＭｗをＭｎで除した値（Ｍｗ／Ｍｎ）である。
　エチレン系重合体は、公知の成形加工方法、例えば、インフレーションフィルム成形加工法やＴダイフィルム成形加工法などの押出成形法；中空成形法；射出成形法；圧縮成形法；架橋発泡成形法などにより、各種成形体（フィルム、シート、容器（ボトル、トレーなど）など）に成形され、使用される。
　エチレン系重合体は、公知の樹脂とブレンドして成形されてもよい。また、成形体は、エチレン系重合体を含有する単層の成形体でもよく、エチレン系重合体を含有する層を有する多層の成形体であってもよい。
　成形体としては、食品包装用フィルム、食品包装用容器、医薬品包装材、表面保護フィルム、半導体製品などの包装に用いる電子部品包装材、架橋発泡成形体、押出発泡成形体、中空成形体、ブローボトルやスクイーズボトルなどがあげられる。
　以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
＜遷移金属錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ－ＮＭＲ）
装置：日本電子社製　ＥＸ２７０
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３またはＣＤ２Ｃｌ２
試料濃度：１０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ３またはＣＤ２Ｃｌ２）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＥＸＭＯＤ　ＮＯＮ、ＯＢＮＵＣ　１Ｈ、積算回数１６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ　６秒、ＰＤ　１秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ｐｐｍ）またはＣＤ２Ｃｌ２（５．３２ｐｐｍ）
（２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ－ＮＭＲ）
装置：日本電子社製　ＥＸ２７０
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３またはＣＤ２Ｃｌ２
試料濃度：３０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ３またはＣＤ２Ｃｌ２）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＥＸＭＯＤ　ＢＣＭ、ＯＢＮＵＣ　１３Ｃ、積算回数２５６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ　１．７９秒、ＰＤ　１．２１秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７７．０ｐｐｍ）またはＣＤ２Ｃｌ２（５３．８ｐｐｍ）
（３）質量スペクトル
［電子イオン化質量分析（ＥＩ－ＭＳ）］
装置：日本電子社製　ＪＭＳ－Ｔ１００ＧＣ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
加速電圧：７ｋＶ
ＭＡＳＳ　ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ　３５－８００
［実施例１］
「［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１」という。）の合成」
「１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．８０ｇ、３３．４７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３８ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．００ｇ、２４．５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロ（ｎ－ブチル）メチルフェニルシラン（４．７５ｇ、２２．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で２時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（２４ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（２４ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（２４ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（４０ｍＬ）で洗浄し、さらに飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（５．１６ｇ、収率７７．４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１３（ｓ、３Ｈ）、０．６６－０．９０（ｍ、２Ｈ）、０．８４（ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、３Ｈ）、１．１５－１．３５（ｍ、４Ｈ）、１．６７（ｓ、３Ｈ）、１．７１（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｓ、３Ｈ）、１．８０（ｓ、３Ｈ）、３．１０（ｓ、１Ｈ）、７．２９－７．３６（ｍ、３Ｈ）、７．４１－７．４７（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２９８（Ｍ＋）
「錯体１の合成」
　窒素雰囲気下、１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（２．３０ｇ、７．７０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．９５ｇ、１９．２５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２３ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．５５Ｍヘキサン溶液（６．２１ｍＬ、９．６３ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で２．５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（２．１９ｇ、１１．５５ｍｍｏｌ）をトルエン（１２ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を６０℃にした後、同温度で２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、沈殿した白色固体を濾過で除去した濾液を－２０℃に冷却した。得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１（０．２５ｇ、収率７．２％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７６（ｓ、３Ｈ）、０．８７（ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、３Ｈ）、１．２３－１．４２（ｍ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、３Ｈ）、２．２８（ｓ、３Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、２．４６（ｓ、３Ｈ）、７．３０－７．４２（ｍ、３Ｈ）、７．４３－７．５２（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－２．６１、１３．６９、１４．１３、１４．３２、１４．９０、１７．７１、１７．８１、２５．８６、２６．５１、１２８．０１、１２９．５３、１３４．４５、１３６．２５、１３９．４４、１４１．９６、１４２．４７、１４４．６３、１４４．９２
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９３（Ｍ＋－Ｂｕ）
［実施例２］
「［１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２」という。）の合成」
「１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．５４ｇ、２２．３２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２８ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１４ｇ、１．４９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．００ｇ、２４．５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを２０℃に冷却し、この溶液にクロロメチルジフェニルシラン（３．４６ｇ、１４．８８ｍｍｏｌ）をトルエン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１７ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１７ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１７ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（４．１０ｇ、収率８６．５％）。
「錯体２の合成」
　窒素雰囲気下、１－メチルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．９０ｇ、５．９７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．０２ｇ、２９．８６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３８ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．５５Ｍヘキサン溶液（４．６２ｍＬ、７．１７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．２５ｇ、６．５７ｍｍｏｌ）をトルエン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を３５℃にした後、同温度で１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２（０．９４ｇ、収率３３．２％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２．１２（ｓ、６Ｈ）、２．３４（ｓ、６Ｈ）、７．３１－７．５０（ｍ、１０Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－１．０４、１４．２７、１７．６９、１２８．１１、１２９．９１、１３５．０８、１３５．３８、１３７．４４、１４２．３３、１４５．２２
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４７０（Ｍ＋）
［実施例３］
「［１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体３」という。）の合成」
「１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして１．２１ｇ、５０．３２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５７ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．３１ｇ、３．３５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間半攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（４．５１ｇ、３６．９０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロシクロヘキシルメチルフェニルシラン（８．０１ｇ、３３．５５ｍｍｏｌ）をトルエン（１４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で３時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（７２ｍｌ）に滴下した。トルエン（１００ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（６．５７ｇ、収率６０．３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．０３（ｓ、３Ｈ）、１．０５－１．３７（ｍ、６Ｈ）、１．５８－１．８４（ｍ、１４Ｈ）、１．９４（ｓ、３Ｈ）、３．２３（ｓ、１Ｈ）、７．２３－７．３４（ｍ、３Ｈ）、７．３６－７．４２（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３２４（Ｍ＋）
「錯体３の合成」
　窒素雰囲気下、１－シクロヘキシルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（２．２７ｇ、７．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．５４ｇ、３５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４９ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（５．０９ｍＬ、８．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．４６ｇ、７．７０ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体３（１．１９ｇ、収率３５．６％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．８０（ｓ、３Ｈ）、１．０４－１．５０（ｍ、６Ｈ）、１．５６－１．８４（ｍ、５Ｈ）、２．１５（ｓ、３Ｈ）、２．２４（ｓ、３Ｈ）、２．４１（ｓ、３Ｈ）、２．６１（ｓ、３Ｈ）、７．３０－７．４３（ｍ、３Ｈ）、７．４９－７．６０（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－３．４７、１４．１５、１４．５０、１７．７３、１７．７９、２４．９０、２６．７３、２７．７３、２８．０６、２８．１３、２８．２４、１２７．８３、１２９．５４、１３４．９０、１３５．３１、１３９．６９、１４１．８９、１４２．８１、１４４．４５、１４４．７１
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９４（Ｍ＋－Ｃｙ）（Ｃｙ：シクロヘキシル）
［実施例４］
「［１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体４」という。）の合成」
「１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．８２ｇ、３４．０９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間半攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．０６ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間半攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロメチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシラン（９．３０ｇ、２２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（７０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（７０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（８．６５ｇ、収率７６．９％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１３（ｓ、３Ｈ）、０．８８（ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、３Ｈ）、１．１７－１．３２（ｍ、３４Ｈ）、１．６７（ｓ、３Ｈ）、１．７１（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｓ、３Ｈ）、１．７９（ｓ、３Ｈ）、３．１０（ｓ、１Ｈ）、７．２８－７．３８（ｍ、３Ｈ）、７．４０－７．４７（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４９４（Ｍ＋）
「錯体４の合成」
　窒素雰囲気下、１－メチル（ｎ－オクタデシル）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．９８ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０２ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４９ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．６７ｍＬ、４．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．８３ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた残渣を－７８℃に冷却し、ペンタンで洗浄した。ヘキサメチルジシロキサンを加え－２０℃に冷却し、得られた固体を濾過して少量のヘキサメチルジシロキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体４（０．３０ｇ、収率１１．７％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７６（ｓ、３Ｈ）、０．８８（ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．１５－１．３７（ｍ、３４Ｈ）、２．２７（ｓ、３Ｈ）、２．２８（ｓ、３Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、２．４６（ｓ、３Ｈ）、７．２９－７．４０（ｍ、３Ｈ）、７．４３－７．５２（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－２．５６、１４．１５、１４．３４、１５．２１、１７．７４、１７．８４、２２．７２、２３．７２、２９．２５、２９．３９、２９．５６、２９．６８、２９．７２、３１．９５、３３．５６、１２８．０３、１２９．５５、１３４．４８、１３６．３１、１３９．４６、１４１．９４、１４２．４６、１４４．６３、１４４．９２
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９３（Ｍ＋－Ｃ１８Ｈ３７）
［実施例５］
「［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体５」という。）の合成」
「１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．８０ｇ、３３．４７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．００ｇ、２４．５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチルフェニルシラン（３．８１ｇ、２２．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１９ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１９ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１９ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（４．０８ｇ、収率７１．３％）。
「錯体５の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．３６ｇ、５．３０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．６８ｇ、２６．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２７ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．８５ｍＬ、６．３６ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で２時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．１１ｇ、５．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で１．５時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体５（０．１１ｇ、収率４．９％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７７（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、２．４０（ｓ、６Ｈ）、７．３１－７．４７（ｍ、５Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．２０、１４．１９、１７．６５、１２８．０８、１２９．５７、１３３．９６、１３７．３８、１３８．６６、１４２．１７、１４４．９０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４０８（Ｍ＋）
［実施例６］
「［１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体６」という。）の合成」
「１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．９６ｇ、４０．００ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４３ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２５ｇ、２．６７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間半攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．４２ｇ、２８．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シラン（５．３０ｇ、２６．６７ｍｍｏｌ）をトルエン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５６ｍｌ）に滴下した。トルエン（８０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（８０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（６．６０ｇ、収率８７．０％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１４（ｓ、６Ｈ）、１．７２（ｓ、６Ｈ）、１．７６（ｓ、６Ｈ）、２．３１（ｓ、６Ｈ）、３．０６（ｓ、１Ｈ）、６．９８（ｓ、１Ｈ）、７．０７（ｓ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２８４（Ｍ＋）
「錯体６の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチル（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．９９ｇ、７．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．５４ｇ、３５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（５３ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（５．０９ｍＬ、８．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．４６ｇ、７．７０ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃に冷却し、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体６（０．４９ｇ、収率１６．０％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７４（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、２．４１（ｓ、６Ｈ）、７．０２（ｓ、１Ｈ）、７．０６（ｓ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．４１、１４．３８、１７．８５、２１．５３、１３１．５１、１３１．８２、１３７．１８、１３７．５４、１３９．４７、１４２．３３、１４５．１０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３６（Ｍ＋）
［実施例７］
「［１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体７」という。）の合成」
「１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．６８ｇ、２８．４５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１８ｇ、１．９０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（２．５５ｇ、２０．８７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジエチルフェニルシラン（３．７７ｇ、１８．９７ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１９ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１９ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１９ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（２．９０ｇ、収率５３．７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７４－０．９９（ｍ、１０Ｈ）、１．７１（ｓ、６Ｈ）、１．７６（ｓ、６Ｈ）、３．１７（ｓ、１Ｈ）、７．２７－７．３２（ｍ、３Ｈ）、７．４０－７．４４（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２．６６、７．５８、１１．１０、１４．４７、５２．６５、１２７．２７、１２８．６９、１３３．０５、１３４．１５、１３５．９２、１３６．４６
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２８４（Ｍ＋）
「錯体７の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジエチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．３８ｇ、４．８５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．４７ｇ、２４．４１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．６ｍＬ、６．０１ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で４時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．０３ｇ、５．４１ｍｍｏｌ）をトルエン（５．４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した。固体にトルエンを加えろ過することにより不溶分を除去し、ろ液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧濃縮することにより、錯体７（０．０３２ｇ、収率１．５％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．９９（ｔ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、６Ｈ）、１．２９－１．３９（ｍ、４Ｈ）、２．３１（ｓ、６Ｈ）、２．３５（ｓ、６Ｈ）、７．３６－７．４１（ｍ、３Ｈ）、７．５６－７．６０（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：５．１３、７．７１、１４．３１、１７．８０、１２８．００、１２９．６３、１３４．４３、１３５．１７、１３９．８１、１４２．３６、１４４．６１
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４０７（Ｍ＋－Ｅｔ）
［実施例８］
「［１－（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体８」という。）の合成」
「１－（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．４９ｇ、２０．４５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２３ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１３ｇ、１．３６ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（１．８３ｇ、１５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間半攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロ（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）ジメチルシラン（４．６２ｇ、１３．６４ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で４時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．５３ｇ、収率６０．９％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１９（ｓ、６Ｈ）、０．９０（ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、６Ｈ）、１．２３－１．４４（ｍ、１２Ｈ）、１．５３－１．６８（ｍ、４Ｈ）、１．７４（ｓ、６Ｈ）、１．７８（ｓ、６Ｈ）、２．５９（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、４Ｈ）、３．０８（ｓ、１Ｈ）、６．９８（ｓ、１Ｈ）、７．０８（ｓ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４２４（Ｍ＋）
「錯体８の合成」
　窒素雰囲気下、１－（３，５－ジ－ｎ－ヘキシルフェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．９１ｇ、４．５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．２８ｇ、２２．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４４ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．２７ｍＬ、５．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で６時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．９４ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮することにより、錯体８（０．７３ｇ）を赤色オイルとして得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７４（ｓ、６Ｈ）、０．８２－０．９３（ｍ、６Ｈ）、１．２１－１．３８（ｍ、１２Ｈ）、１．４８－１．６７（ｍ、４Ｈ）、２．３２（ｓ、６Ｈ）、２．３８（ｓ、６Ｈ）、２．４９－２．６１（ｍ、４Ｈ）、６．９５（ｓ、１Ｈ）、７．０６（ｓ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５７６（Ｍ－）
［実施例９］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体９」という。）の合成」
「１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．５４ｇ、２２．３２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３５ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１４ｇ、１．４９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（２．００ｇ、１６．３７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを２０℃に冷却し、この溶液にクロロトリフェニルシラン（４．３９ｇ、１４．８８ｍｍｏｌ）をトルエン（９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（２２ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（２２ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（２２ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．７６ｇ、収率６６．３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．５５（ｓ、６Ｈ）、１．５７（ｓ、６Ｈ）、３．７７（ｓ、１Ｈ）、７．２７－７．４２（ｍ、９Ｈ）、７．５４－７．６３（ｍ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３８０（Ｍ＋）
「錯体９の合成」
　窒素雰囲気下、１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．４２ｇ、４．４５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．２５ｇ、２２．２４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２８ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．５５Ｍヘキサン溶液（３．４４ｍＬ、５．３４ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．９３ｇ、４．８９ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を３５℃にした後、同温度で１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体９（０．０７ｇ、収率３．１％）をオレンジ色固体として得た。また上記ヘプタンを加えて除去した不溶物にトルエンを加えて濾過することによりさらにトルエン不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体９（０．３４ｇ、収率１４．５％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２．０５（ｓ、６Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．３２－７．４９（ｍ、９Ｈ）、７．５９－７．６５（ｍ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４８、１７．７６、１２７．９６、１３０．０７、１３２．９９、１３６．９３、１４２．３５、１４６．０４
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５３２（Ｍ＋）
［実施例１０］
「［１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１０」という。）の合成」
「１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．８３ｇ、３４．４８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（８５ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．３０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．０９ｇ、２５．２８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロトリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シラン（１０．６５ｇ、２２．９９ｍｍｏｌ）をトルエン（２１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（５３ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（５３ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（５３ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（６．４２ｇ、収率５０．９％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．９２（ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、９Ｈ）、１．１５－１．４３（ｍ、６Ｈ）、１．５０－１．６７（ｍ、６Ｈ）、１．５２（ｓ、６Ｈ）、１．５７（ｓ、６Ｈ）、２．５４－２．６５（ｍ、６Ｈ）、３．７１（ｓ、１Ｈ）、７．１２（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、７．４７（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．００、１３．９６、１４．７９、２２．４０、３３．４３、３５．６５、５１．５７、１２７．４８、１２７．６７、１３１．２６、１３５．２４、１３５．６９、１４３．８０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５４８（Ｍ＋）
「錯体１０の合成」
　窒素雰囲気下、１－トリ（４－ｎ－ブチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（２．９８ｇ、５．４３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．７５ｇ、２７．１３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（３．９０ｍＬ、６．５１ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で５．５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．１３ｇ、５．９７ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ヘキサメチルジシロキサンを加え、－２０℃に冷却した。得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１０（０．１９ｇ、収率５．０％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：　０．９２（ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、９Ｈ）、１．２９－１．４２（ｍ、６Ｈ）、１．５５－１．６６（ｍ、６Ｈ）、２．０３（ｓ、６Ｈ）、２．３５（ｓ、６Ｈ）、２．６２（ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、６Ｈ）、７．１８（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、７．５１（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１３．９６、１４．４６、１７．７２、２２．４０、３３．３２、３５．６６、１２８．０２、１２９．９６、１３６．５３、１３６．８９、１４２．２８、１４４．８１、１４６．２２
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：７００（Ｍ＋）
［実施例１１］
「［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１１」という。）の合成」
「１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．４９ｇ、２０．４５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２３ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１３ｇ、１．３６ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（１．８３ｇ、１５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間半攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロトリス（３，５－ジメチルフェニル）シラン（５．１７ｇ、１３．６４ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で３時間攪拌した後、５０℃で２２時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製後、得られた固体に５０℃のヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（１．４９ｇ、収率２３．４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．５４（ｓ、６Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、１８Ｈ）、３．７３（ｓ、１Ｈ）、６．９８（ｓ、３Ｈ）、７．１７（ｓ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４６４（Ｍ＋）
「錯体１１の合成」
　窒素雰囲気下、１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（０．９３ｇ、２．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．０１ｇ、１０．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（１．３２ｍＬ、２．２０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．４２ｇ、２．２０ｍｍｏｌ）をトルエン（２ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。さらに、得られた残渣にジエチルエーテルを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃に冷却し、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１１（０．０３ｇ、収率２．７％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２．０３（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、１８Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０６（ｓ、３Ｈ）、７．２０（ｓ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．５２、１７．８３、２１．４１、１３１．６３、１３２．９３、１３４．６０、１３７．０３、１４２．２６、１４６．３４
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：６１６（Ｍ＋）
［実施例１２］
「［１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１２」という。）の合成」
「１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．９６ｇ、４０．００ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４３ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２５ｇ、２．６７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間半攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．４２ｇ、２８．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間半攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル（４－メトキシフェニル）シラン（５．３５ｇ、２６．６７ｍｍｏｌ）をトルエン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５６ｍｌ）に滴下した。トルエン（８０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（８０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（７．３０ｇ、収率９５．５％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１８（ｓ、６Ｈ）、１．７５（ｓ、６Ｈ）、１．７７（ｓ、６Ｈ）、３．０６（ｓ、１Ｈ）、３．８３（ｓ、３Ｈ）、６．９０（ｄ、Ｊ＝８．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．３９（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２８６（Ｍ＋）
「錯体１２の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチル（４－メトキシフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（２．０１ｇ、７．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．５４ｇ、３５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４８ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（５．０９ｍＬ、８．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．４６ｇ、７．７０ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１２（０．４８ｇ、収率１５．６％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７３（ｓ、６Ｈ）、２．３２（ｓ、６Ｈ）、２．３９（ｓ、６Ｈ）、３．８１（ｓ、３Ｈ）、６．９０（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２Ｈ）、７．３９（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．５０、１４．３５、１７．８１、５５．２０、１１４．００、１２８．１６、１３５．７１、１３９．５９、１４２．３３、１４５．０４、１６０．９８
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３８（Ｍ＋）
［実施例１３］
「［１－ベンジルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１３」という。）の合成」
「１－ベンジルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．５１ｇ、２１．２０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３５ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１３ｇ、１．４１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（１．９０ｇ、１５．５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にベンジルクロロジフェニルシラン（４．３７ｇ、１４．１３ｍｍｏｌ）をトルエン（９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（２２ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（２２ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（２２ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ベンジルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（２．５９ｇ、収率４６．４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．５３（ｓ、６Ｈ）、１．７６（ｓ、６Ｈ）、２．７３（ｓ、２Ｈ）、３．５４（ｓ、１Ｈ）、６．７２－６．７９（ｍ、２Ｈ）、６．９５－７．０２（ｍ、３Ｈ）、７．１７－７．４０（ｍ、１０Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９４（Ｍ＋）
「錯体１３の合成」
　窒素雰囲気下、１－ベンジルジフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．２８ｇ、３．２４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．６４ｇ、１６．２１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２６ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（２．３３ｍＬ、３．８９ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３．５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．６８ｇ、３．５７ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１３（４７．９ｍｇ、収率２．７％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２．２０（ｓ、６Ｈ）、２．３７（ｓ、６Ｈ）、３．２８（ｓ、２Ｈ）、６．８８－６．９４（ｍ、２Ｈ）、７．０３－７．０８（ｍ、３Ｈ）、７．２４－７．４４（ｍ、１０Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４４、１７．８０、２４．３８、１２４．８５、１２７．８６、１２８．０９、１２９．５３、１３０．０５、１３２．６３、１３６．４７、１３６．６５、１３７．４９、１４２．４９、１４５．４１
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４５５（Ｍ＋－Ｂｎ）
［実施例１４］
「［９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１４」という。）の合成」
「９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレンの合成」
　窒素雰囲気下、オクタヒドロフルオレニルリチウム（１．５０ｇ、８．３２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この混合物を－３０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチルフェニルシラン（１．５６ｇ、９．１６ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（８ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（８ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（８ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレンを得た（１．７５ｇ、収率６７．９％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．２２（ｓ、６Ｈ）、１．４１－１．５８（ｍ、４Ｈ）、１．６０－１．８０（ｍ、４Ｈ）、２．０８（ｂｒ　ｓ、４Ｈ）、２．１６（ｂｒ　ｓ、４Ｈ）、３．００（ｓ、１Ｈ）、７．２８－７．３８（ｍ、３Ｈ）、７．４３－７．５１（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３０８（Ｍ＋）
「錯体１４の合成」
　窒素雰囲気下、（９－ジメチルフェニルシリル－オクタヒドロフルオレン）（１．６６ｇ、５．３８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．７２ｇ、２６．８８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３３ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（３．８６ｍＬ、６．４５ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３．５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．１２ｇ、５．９１ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１４（０．１７ｇ、収率６．７％）をオレンジ色固体として得た。また上記ヘプタンを加えて除去した不溶物にトルエンを加えて濾過することによりさらにトルエン不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１４（０．４０ｇ、収率１６．３％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７３（ｓ、６Ｈ）、１．５６－１．７７（ｍ、４Ｈ）、１．８２－２．００（ｍ、４Ｈ）、２．４９－２．６７（ｍ、４Ｈ）、３．０８－３．２２（ｍ、２Ｈ）、３．４５（ｄｔ、Ｊ＝１７．１、６．０Ｈｚ、２Ｈ）、７．３０－７．４０（ｍ、３Ｈ）、７．４０－７．４６（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．３３、２１．４７、２２．４６、２５．３５、２９．０９、１２８．０５、１２９．５６、１３４．０１、１３７．１７、１３７．８８、１４４．０１、１４７．１１
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４６０（Ｍ＋）
［実施例１５］
「［１－ジメチルフェニルシリル－インデニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１５」という。）の合成」
「１－ジメチルフェニルシリルインデンの合成」
　窒素雰囲気下、インデン（１．８５ｇ、１５．９３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３４ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（１０ｍＬ、１６．７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度でクロロジメチルフェニルシラン（２．９９ｇ、１７．５２ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１７ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１７ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１７ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジメチルフェニルシリルインデン（３．０７ｇ、収率７６．９％）を得た。
「（１－ジメチルフェニルシリルインデニル）リチウムの合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリルインデン（１．３０ｇ、５．１９ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（３．７ｍＬ、６．１８ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。反応後、濾過、ヘキサン洗浄することにより（１－ジメチルフェニルシリルインデニル）リチウム（１．１７ｇ、収率８８％）を得た。
「１，３－ビス（ジメチルフェニルシリル）インデンの合成」
　窒素雰囲気下、（１－ジメチルフェニルシリルインデニル）リチウム（０．９６ｇ、３．７５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２０ｍＬ）に、－７８℃でクロロジメチルフェニルシラン（０．７３ｇ、４．２５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で４時間攪拌した後、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１５ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１５ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（２０ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１，３－ビス（ジメチルフェニルシリル）インデン（０．６５ｇ、収率４５．１％）を得た。
「錯体１５の合成」
　窒素雰囲気下、四塩化チタン（０．３４ｇ、１．７９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（８ｍＬ）に、室温で１，３－ビス（ジメチルフェニルシリル）インデン（０．６５ｇ、１．６９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（８ｍＬ）を滴下した後、室温で１７日間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣に－２０℃でペンタンを加え固体を得た。得た固体を少量のペンタンで洗浄し、減圧乾燥することにより錯体１５（０．２５ｇ、収率３７．０％）を赤褐色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．８３（ｓ、３Ｈ）、０．８３（ｓ、３Ｈ）、７．２６－７．２８（ｍ、１Ｈ）、７．３６－７．５５（ｍ、８Ｈ）、７．７３－７．７６（ｍ、１Ｈ）、７．８１－７．８４（ｍ、１Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－１．９３、－１．４４、１２０．２０、１２６．７５、１２８．１８、１２８．６７、１２９．５４、１２９．５８、１２９．９２、１３０．１４、１３３．６５、１３４．１３、１３４．８６、１３５．２７、１３５．９７
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４０２（Ｍ＋）
［実施例１６］
「［１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１６」という。）の合成」
「１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．８２ｇ、３４．０９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．０６ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シラン（４．８４ｇ、２２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（７０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（７０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（５．９３ｇ、収率８７．３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．２０（ｓ、６Ｈ）、１．６９（ｓ、６Ｈ）、１．８１（ｓ、６Ｈ）、２．２６（ｓ、３Ｈ）、２．４１（ｓ、６Ｈ）、３．２８（ｓ、１Ｈ）、６．８１（ｓ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２９８（Ｍ＋）
「錯体１６の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチル（２，４，６－トリメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．４９ｇ、５．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．５３ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３２ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．３３ｍＬ、５．５０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で４時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．０４ｇ、５．５０ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃に冷却し、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１６（０．２１ｇ、収率９．２％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．８３（ｓ、６Ｈ）、２．２１（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｓ、３Ｈ）、２．３２（ｓ、６Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、６．７８（ｓ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：４．９０、１４．２９、１７．７５、２０．９０、２４．６３、１２９．５８、１３０．６７、１３９．４３、１４２．３５、１４３．７０、１４４．１０、１４４．６７
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４５０（Ｍ－）
［実施例１７］
「［１－ジメチルフェニルシリル－２―メチルテトラヒドロインデニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１７」という。）の合成」
「（２－メチルテトラヒドロインデニル）リチウムの合成」
　窒素雰囲気下、３，３ａ，４，５，６，７－ヘキサヒドロ－２（２Ｈ）－インデノン（３．００ｇ、ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この混合物を－７８℃に冷却し、メチルリチウムの１．０７Ｍジエチルエーテル溶液（３４．７２ｍＬ、３７．１５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で攪拌した。得られた混合物を０℃で飽和塩化アンモニウム水溶液に滴下した。トルエンを加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。得た混合物にテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この混合物を０℃に冷却し、３％塩酸水溶液（９ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。トルエン、水を加え分液し、油層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。油層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過して溶媒を減圧下濃縮した。得た混合物にヘキサン（６０ｍＬ）を加えた。この混合物を－７８℃に冷却し、ｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（１５．２ｍＬ、２５．３６ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。ろ過により溶媒を除去し、得た固体をヘキサンで洗浄することにより、（２－メチルテトラヒドロインデニル）リチウム（２．１０ｇ、収率６８％）を得た。
「１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデンの合成」
　窒素雰囲気下、（２－メチルテトラヒドロインデニル）リチウム（１．５０ｇ、１０．７０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）を加えた。この混合物を－７８℃に冷却し、この溶液にクロロジメチルフェニルシラン（２．１９ｇ、１２．８４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で２時間攪拌した。得られた混合物に０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１０ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１０ｍＬ）の混合溶液を滴下した。トルエン（１０ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン（１．９４ｇ、収率６７．５％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．２２（ｓ、３Ｈ）、０．２３（ｓ、３Ｈ）、１．４６－１．７２（ｍ、４Ｈ）、１．８１（ｓ、３Ｈ）、２．０７（ｂｒ、２Ｈ）、２．２４（ｂｒ、２Ｈ）、３．１１（ｓ、１Ｈ）、５．９７（ｓ、１Ｈ）、７．３１－７．３８（ｍ、３Ｈ）、７．４６－７．５４（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－４．０５、－４．０５、１６．９３、２３．２９、２３．７３、２４．５４、２６．６３、５３．３６、１２７．５７、１２８．９４、１２９．１６、１３３．６７、１３７．３８、１３７．４４、１３８．５６、１４１．８５
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２６８（Ｍ＋）
「錯体１７の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－２－メチルテトラヒドロインデン（１．５０ｇ、５．５９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．８３ｇ、２７．９５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（４．０２ｍＬ、６．７１ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．１７ｇ、６．１５ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１７（０．１７ｇ、収率７．０％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７３（ｓ、６Ｈ）、１．６０－１．７４（ｍ、２Ｈ）、１．７７－１．９３（ｍ、２Ｈ）、２．４９（ｓ、３Ｈ）、２．５４－２．７９（ｍ、２Ｈ）、３．１７－３．４１（ｍ、２Ｈ）、７．３３－７．４７（ｍ、５Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．３４、－０．３２、２０．２２、２１．５４、２２．３８、２６．９６、２８．５４、１２８．１０、１２８．３５、１２９．６６、１３３．９９、１３６．９７、１３７．７１、１４４．９５、１４７．０６、１４８．１４
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４０５（Ｍ＋－Ｍｅ）
［実施例１８］
「［１－ジメチル（１－ナフチル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１８」という。）の合成」
「１－ジメチル（１－ナフチル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．６６ｇ、２７．２７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３１ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１７ｇ、１．８２ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（２．４４ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間半攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル（１－ナフチル）シラン（４．０１ｇ、１８．１８ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジメチル（１－ナフチル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．２４ｇ、収率５８．２％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．３４（ｓ、６Ｈ）、１．６６（ｓ、６Ｈ）、１．８１（ｓ、６Ｈ）、３．４６（ｓ、１Ｈ）、７．４０－７．６６（ｍ、４Ｈ）、７．８２－７．９５（ｍ、２Ｈ）、８．２４（ｄ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３０６（Ｍ＋）
「錯体１８の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチル（１－ナフチル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．３８ｇ、４．５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．２８ｇ、２２．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３１ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．００ｍＬ、４．９５ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で４時間半攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．９４ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１８（０．５７ｇ、収率２７．７％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．９４（ｓ、６Ｈ）、２．３１（ｓ、６Ｈ）、２．４０（ｓ、６Ｈ）、７．３０－７．５３（ｍ、３Ｈ）、７．６２－７．７７（ｍ、２Ｈ）、７．８８（ｔ、Ｊ＝８．２Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．４３、１４．２３、１７．７２、１２５．３１、１２５．４９、１２５．８０、１２７．３４、１２９．３４、１３０．５７、１３３．４６、１３４．２１、１３５．３６、１３６．４６、１３９．９２、１４２．３１、１４４．４９
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４５８（Ｍ－）
［実施例１９］
「［１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１９」という。）の合成」
「１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．４７ｇ、１９．５０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２２ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１４ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（１．８３ｇ、１５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で４時間半攪拌した。これを室温まで冷却した後、０℃に冷却した（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシラン（４．６０ｇ、１５．００ｍｍｏｌ）をトルエン（２２ｍＬ）に溶解させた溶液に滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．２０ｇ、収率５４．３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．１５（ｓ、６Ｈ）、１．４０（ｓ、６Ｈ）、１．５７（ｓ、６Ｈ）、２．８２（ｓ、１Ｈ）、７．４９（ｓ、２Ｈ）、７．５７（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９２（Ｍ＋）
「錯体１９の合成」
　窒素雰囲気下、１－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．３７ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．７７ｇ、１７．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３５ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．３３ｍＬ、３．８５ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．７３ｇ、３．８５ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃に冷却し、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１９（０．１３ｇ、収率６．８％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．８３（ｓ、６Ｈ）、２．３５（ｓ、６Ｈ）、２．３８（ｓ、６Ｈ）、７．８８（ｓ、３Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５４４（Ｍ－）
［実施例２０］
「［３－メチル－１－ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２０」という。）の合成」
「１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、メチルシクロペンタジエニルリチウム（１．５０ｇ、１７．４３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３０ｍＬ）に、ジメチルフェニルシリルクロライド（３．２７ｇ、１９．１７ｍｍｏｌ）をトルエン（１６ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１６ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１６ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１６ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエンを位置異性体混合物として得た（３．４７ｇ、収率９２．８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）（ｍａｊｏｒ　ｉｓｏｍｅｒ）：０．１７（ｂｒ　ｓ、６Ｈ）、２．０３（ｓ、３Ｈ）、３．４６（ｓ、１Ｈ）、６．０７（ｓ、１Ｈ）、６．４２（ｓ、２Ｈ）、７．３２－７．４０（ｍ、３Ｈ）、７．５１－７．５７（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２１４（Ｍ＋）
「１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエニルリチウムの合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエン（２．５８ｇ、１２．０２ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（５２ｍＬ）に、０℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（８．６４ｍＬ、１４．４３ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、４０℃で攪拌した。ジエチルエーテルを加えて得られた白色固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエニルリチウム（２．３１ｇ、収率８６．１％）を白色固体として得た。
「３－メチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－メチルシクロペンタジエニルリチウム（１．３０ｇ、５．９０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２６ｍＬ）に、ジメチルフェニルシリルクロライド（１．１１ｇ、６．４９ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１３ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１３ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１３ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、３－メチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエンを得た（０．７２ｇ、収率３５．０％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．１０（ｓ、６Ｈ）、－０．０９（ｓ、６Ｈ）、２．０２（ｓ、３Ｈ）、６．２５（ｓ、１Ｈ）、６．４８（ｄ、Ｊ＝４．６Ｈｚ、１Ｈ）、６．５６（ｄ、Ｊ＝４．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．２５－７．３７（ｍ、６Ｈ）、７．３８－７．４５（ｍ、４Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３４８（Ｍ＋）
「錯体２０の合成」
　窒素雰囲気下、３－メチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエン（０．７２ｇ、２．０５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１５ｍＬ）に、四塩化チタン（０．３９ｇ、２．０５ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、ペンタンを加え、－２０℃で上澄みを除去する操作を４回繰り返した。得られた残渣を減圧乾燥することにより、錯体２０（０．３９ｇ、収率５１．４％）を茶色オイルとして得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．６７（ｓ、３Ｈ）、０．６７（ｓ、３Ｈ）、２．４７（ｓ、３Ｈ）、６．８７－６．９１（ｍ、１Ｈ）、７．０１－７．０５（ｍ、１Ｈ）、７．１３－７．１６（ｍ、１Ｈ）、７．３４－７．４３（ｍ、３Ｈ）、７．４８－７．５４（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－２．４６、－２．２９、１７．３５、１２７．７２、１２８．１１、１２９．４９、１２９．８３、１２９．８７、１３３．９１、１３６．０３、１４１．８４、１４３．６２
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３６６（Ｍ－）
［実施例２１］
「［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２１」という。）の合成」
「１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、（１，２，４－トリメチルシクロペンタジエニル）リチウム（２．１０ｇ、１８．４０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（９０ｍＬ）を加えた。この混合物を－７８℃に冷却し、この溶液にクロロジメチルフェニルシラン（１．８９ｇ、１１．０４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウムと１０％炭酸ナトリウム（に混合溶液を滴下した。トルエンを加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン（０．９９ｇ、収率３７％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．２０（ｓ、３Ｈ）、０．２３（ｓ、３Ｈ）、１．７２（ｓ、３Ｈ）、１．７９（ｓ、３Ｈ）、１．８１（ｓ、３Ｈ）、３．１７（ｓ、１Ｈ）、５．９７（ｓ、１Ｈ）、７．３４－７．３７（ｍ、３Ｈ）、７．４９－７．５７（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２４２（Ｍ＋）
「錯体２１の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，５－トリメチルシクロペンタジエン（０．９８ｇ、４．０４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０５ｇ、２０．２２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．９ｍＬ、４．８５ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で４時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．８４ｇ、４．４５ｍｍｏｌ）をトルエン（４．５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した。固体にトルエンを加えろ過することにより不溶分を除去し、ろ液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧濃縮することにより、錯体２１（０．０３７ｇ、収率２．３％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７４（ｓ、３Ｈ）、０．７５（ｓ、３Ｈ）、２．３３（ｓ、３Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、２．４７（ｓ、３Ｈ）、６．７５（ｓ、１Ｈ）、７．３３－７．４７（ｍ、５Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３９４（Ｍ－）
［実施例２２］
「［１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２２」という。）の合成」
「１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．８２ｇ、３４．０９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．０６ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で４時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液に（９－アントリル）クロロジメチルシラン（６．１６ｇ、２２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（７０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（８０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（４．４１ｇ、収率５４．４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．４９（ｓ、６Ｈ）、１．６８（ｓ、６Ｈ）、１．８８（ｓ、６Ｈ）、３．６８（ｓ、１Ｈ）、７．４１－７．５３（ｍ、４Ｈ）、７．９８－８．０７（ｍ、２Ｈ）、８．３４－８．４３（ｍ、２Ｈ）、８．４９（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３５６（Ｍ＋）
「錯体２２の合成」
　窒素雰囲気下、１－（９－アントリル）ジメチルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．４３ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０２ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３１ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．６７ｍＬ、４．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で８時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．８３ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２２（０．０８７ｇ、収率４．３％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．１０（ｓ、６Ｈ）、２．２９（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、７．３０－７．４８（ｍ、４Ｈ）、８．０１（ｄ、Ｊ＝８．６Ｈｚ、２Ｈ）、８．２１（ｄ、Ｊ＝９．１Ｈｚ、２Ｈ）、８．５１（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５０８（Ｍ＋）
［実施例２３］
「［１－（シクロテトラメチレン）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２３」という。）の合成」
「１－（シクロテトラメチレン）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．８２ｇ、３４．０９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２１ｇ、２．２７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．０６ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロ（シクロテトラメチレン）フェニルシラン（４．４７ｇ、２２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で５時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（７０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（７０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－（シクロテトラメチレン）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（４．３５ｇ、収率６７．８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．８７－０．９８（ｍ、４Ｈ）、１．５５－１．６８（ｍ、４Ｈ）、１．５８（ｓ、６Ｈ）、１．９１（ｓ、６Ｈ）、３．１１（ｓ、１Ｈ）、７．１６－７．３３（ｍ、５Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２８２（Ｍ＋）
「錯体２３合成」
　窒素雰囲気下、１－（シクロテトラメチレン）フェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．４１ｇ、５．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．５３ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３１ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（３．２９ｍＬ、５．５０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で６時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．０４ｇ、５．５０ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。さらに、得られた残渣にジエチルエーテルを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２３（０．１３ｇ、収率６．１％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．１８－１．３５（ｍ、２Ｈ）、１．４９－１．６８（ｍ、２Ｈ）、１．６９－１．９９（ｍ、４Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、２．５０（ｓ、６Ｈ）、７．２８－７．４０（ｍ、５Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１３．２５、１４．２６、１７．３６、２６．８５、１２８．１４、１２９．４９、１３３．９３、１３７．０８、１３８．２６、１４２．１９、１４４．７０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３４（Ｍ＋）
［実施例２４］
「［１－メチルジ（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２４」という。）の合成」
「１－メチルジ（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウム（水素化ナトリウムとして０．９８ｇ、４０．９５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５７ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．２５ｇ、２．７３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（３．６７ｇ、３０．０３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で２時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロメチルジ（４－メチルフェニル）シラン（７．１２ｇ、２７．３０ｍｍｏｌ）をトルエン（１４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、３５℃で攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（３６ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（３６ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（３６ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－メチルジ（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．７４ｇ、収率３９．５％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．３０（ｓ、３Ｈ）、１．５５（ｓ、６Ｈ）、１．７３（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、３．４０（ｓ、１Ｈ）、７．１３（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．３９（ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－６．６９、１１．１０、１４．４９、２１．４７、５３．０３、１２８．３７、１２８．６２、１３３．２３、１３４．５６、１３５．２７、１３８．７７
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３４６（Ｍ＋）
「錯体２４の合成」
　窒素雰囲気下、１－メチルジ（４－メチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（３．００ｇ、８．６６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４．３８ｇ、４３．３２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６０ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（６．２３ｍＬ、１０．４０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で５時間攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．８１ｇ、９．５３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２４（１．２４ｇ、収率２８．６％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．０６（ｓ、３Ｈ）、２．１３（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．１７（ｄ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、４Ｈ）、７．３４（ｄ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、４Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．８６、１４．２６、１７．７２、２１．５５、１２８．９２、１３１．６２、１３５．３９、１３８．３０、１３９．８４、１４２．３１、１４５．３３
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４９８（Ｍ－）
［実施例２５］
「［１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２５」という。）の合成」
「１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後（水素化ナトリウムとして０．６６ｇ、２７．２７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３１ｍＬ）を加えた。この混合物を５０℃に昇温し、アニリン（０．１７ｇ、１．８２ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。ここに１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタ－１，３－ジエン（２．４４ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間攪拌した。これを０℃に冷却し、この溶液にクロロメチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シラン（５．２５ｇ、１８．１８ｍｍｏｌ）をトルエン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温で５時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエンを得た（５．０８ｇ、収率７４．６％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．３０（ｓ、３Ｈ）、１．５４（ｓ、６Ｈ）、１．７４（ｓ、６Ｈ）、２．２９（ｓ、１２Ｈ）、３．４０（ｓ、１Ｈ）、６．９７（ｓ、２Ｈ）、７．１０（ｓ、４Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３７４（Ｍ＋）
「錯体２５の合成」
　窒素雰囲気下、１－メチルビス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．８７ｇ、５．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．５３ｇ、２５．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３９ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（３．６４ｍＬ、６．００ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、４０℃で６時間半攪拌した。得られた混合物を－７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（１．０４ｇ、５．５０ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２５（０．３４ｇ、収率１２．９％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．０６（ｓ、３Ｈ）、２．１３（ｓ、６Ｈ）、２．２８（ｓ、１２Ｈ）、２．３４（ｓ、６Ｈ）、７．０６（ｓ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．７６、１４．３２、１７．７６、２１．３９、１３１．６１、１３３．０４、１３４．８５、１３７．２９、１３８．７７、１４２．２８、１４５．２７
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５２６（Ｍ－）
［実施例２６］
「［３－ｔｅｒｔ－ブチル－１－ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２６」という。）の合成」
「１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニルリチウム（１．５０ｇ、１１．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３０ｍＬ）に、ジメチルフェニルシリルクロライド（２．２０ｇ、１２．８８ｍｍｏｌ）をトルエン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１１ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１１ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１１ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエンを位置異性体混合物として得た（２．８４ｇ、収率９４．８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）（ｍａｊｏｒ　ｉｓｏｍｅｒ）：０．１７（ｓ、６Ｈ）、１．１４（ｓ、９Ｈ）、３．４５（ｓ、１Ｈ）、６．０５（ｓ、１Ｈ）、６．４５（ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．６１（ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．３１－７．４１（ｍ、３Ｈ）、７．４８－７．５６（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：２５６（Ｍ＋）
「１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニルリチウムの合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエン（１．９２ｇ、７．５０ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３８ｍＬ）に、０℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（５．３９ｍＬ、９．００ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、４０℃で攪拌した。ジエチルエーテルを加えて得られた白色固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニルリチウム（０．２８ｇ、収率１４．３％）を白色固体として得た。
「３－ｔｅｒｔ－ブチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエンの合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－ｔｅｒｔ－ブチルシクロペンタジエニルリチウム（１．６８ｇ、６．４０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３４ｍＬ）に、ジメチルフェニルシリルクロライド（１．２０ｇ、７．０４ｍｍｏｌ）をトルエン（６ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し終夜攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（１７ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（１７ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（１７ｍＬ）を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、３－ｔｅｒｔ－ブチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエンを得た（０．６４ｇ、収率２５．７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－０．０７（ｓ、６Ｈ）、－０．０７（ｓ、６Ｈ）、１．０１（ｓ、９Ｈ）、６．１６（ｄｄ、Ｊ＝２．５、１．６Ｈｚ、１Ｈ）、６．５１（ｄｄ、Ｊ＝４．６、２．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．５６（ｄｄ、Ｊ＝４．６、１．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．１７－７．２７（ｍ、６Ｈ）、７．２７－７．３６（ｍ、４Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：３４８（Ｍ＋）
「錯体２６の合成」
　窒素雰囲気下、３－ｔｅｒｔ－ブチル－１，１－ビス（ジメチルフェニルシリル）シクロペンタジエン（０．６４ｇ、１．６５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１５ｍＬ）に、四塩化チタン（０．３１ｇ、１．６５ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を－３０℃で滴下した。室温まで昇温し３週間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮し、ことにより錯体２６（０．３０ｇ、収率４４．５％）をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．６５（ｓ、３Ｈ）、０．７０（ｓ、３Ｈ）、１．３７（ｓ、９Ｈ）、７．０５（ｄｄ、Ｊ＝３．１、２．０Ｈｚ、１Ｈ）、７．０７（ｄｄ、Ｊ＝３．１、２．３Ｈｚ、１Ｈ）、７．２１（ｄｄ、Ｊ＝２．３、２．１Ｈｚ、１Ｈ）、７．３３－７．４４（ｍ、３Ｈ）、７．４６－７．５３（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：－２．４０、－１．８０、３０．８９、３４．５６、１２３．６９、１２７．０１、１２８．１１、１２９．１８、１２９．８０、１３３．９７、１３６．２７、１４２．４５、１６０．０５
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４０８（Ｍ－）
［実施例２７］
「［１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ジルコニウムトリクロライド（以下、「錯体２７」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、１－ｎ－ブチルメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．１１ｇ、３．７３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．８９ｇ、１８．６４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２２ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（２．６８ｍＬ、４．４７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で３時間攪拌した。得られた混合物を四塩化ジルコニウム（０．９６ｇ、４．１０ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に懸濁させた溶液に－７８℃で滴下した。得られた混合物を室温まで昇温し終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃に冷却した。得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２７（０．５６ｇ、収率２７．４％）を淡黄色固体として得た。得られた錯体、１分子中にはトリエチルアミンが０．５分子存在した。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：０．７１（ｓ、３Ｈ）、０．８６（ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、３Ｈ）、１．０２（ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ、ＮＥｔ３）、１．１４－１．４２（ｍ、６Ｈ）、２．０７（ｓ、３Ｈ）、２．０９（ｓ、３Ｈ）、２．１３（ｓ、３Ｈ）、２．３０（ｓ、３Ｈ）、２．６４（ｑ、Ｊ＝７．２Ｈｚ、ＮＥｔ３）、７．２６－７．３４（ｍ、３Ｈ）、７．３７－７．４４（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：－２．３９、１０．３８、１３．２６、１３．３６、１３．９５、１５．９４、１６．６７、１６．８８、２６．５８、２７．０５、４５．６７、１２８．０５、１２９．２４、１３４．７３、１３７．９４、Ｃｐ環部位を示すピークとして１３５．１５、１３５．６７および１３９．０１付近にブロードなシグナルが観測された。
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３５（Ｍ＋－Ｂｕ）
［実施例２８］
「［１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ハフニウムトリクロライド（以下、「錯体２８」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、１－ジメチルフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（１．３６ｇ、５．３０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．６８ｇ、２６．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２７ｍＬ）に、－７８℃でｎ－ブチルリチウムの１．６７Ｍヘキサン溶液（３．８１ｍＬ、６．３６ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、３５℃で５．５時間攪拌した。得られた混合物を、四塩化ハフニウム（１．８７ｇ、５．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍＬ）に懸濁させた溶液に－７８℃で滴下した。再び、昇温し、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２８（０．４８ｇ、収率１６．８％）を淡黄色固体として得た。さらに濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２８（０．３８ｇ、収率１３．３％）を淡黄色固体として得た。また上記ヘプタンを加えて除去した不溶物にトルエンを加えて濾過することによりさらにトルエン不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体２８（０．４２ｇ、収率１４．８％）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：０．６８（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、７．２９－７．３９（ｍ、３Ｈ）、７．４２－７．４８（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：０．４７、１２．４１、１５．７２、１２４．６９、１２８．３４、１２９．７６、１３３．６９、１３４．３４、１３５．５８、１３８．４０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５４０（Ｍ＋）
［実施例２９］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリメチルチタニウム（以下、「錯体２９」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．３０ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１５ｍＬ）に、－７８℃でヨウ化メチルマグネシウムの０．９３Ｍジエチルエーテル溶液（１．９１ｍＬ、１．７８ｍｍｏｌ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させた。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を減圧乾燥することにより、錯体２９（０．２３ｇ、収率８６．３％）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：０．９５（ｓ、９Ｈ）、１．６２（ｓ、６Ｈ）、１．９５（ｓ、６Ｈ）、７．２７－７．４３（ｍ、９Ｈ）、７．５０－７．６０（ｍ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：１２．４７、１５．４７、６３．５９、１１６．３４、１２８．００、１２９．７６、１３０．５８、１３５．７８、１３６．３３、１３７．１３
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：４７２（Ｍ＋）
［実施例３０］
「［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリメチルチタニウム（以下、「錯体３０」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（８７．０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（５ｍＬ）に、－２０℃で塩化メチルマグネシウムの３．００Ｍテトラヒドロフラン溶液（０．２３ｍＬ、０．７０ｍｍｏｌ）を滴下し、攪拌しながら徐々に室温まで昇温させた。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を減圧乾燥することにより、錯体３０（５７．３ｍｇ、収率７３．１％）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：０．９５（ｓ、９Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．９５（ｓ、６Ｈ）、２．２６（ｓ、１８Ｈ）、７．０２（ｓ、３Ｈ）、７．１１（ｓ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：１２．４７、１５．５３、２１．４７、６３．３２、１１７．７４、１２９．０８、１３０．６２、１３１．２５、１３４．７７、１３５．６８、１３７．１５
［実施例３１］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリフェノキシド（以下、「錯体３１」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、リチウムフェノキシド（０．３４ｇ、３．３７ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１０ｍＬ）に、－３０℃で（１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド（０．５０ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１０ｍＬ）を滴下し、攪拌しながら徐々に室温まで昇温させた。室温で２０時間反応後、リチウムフェノキシド（０．１０ｇ、１．００ｍｍｏｌ）を追加し、少量のテトラヒドロフランを加えた。溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。トルエン／ペンタンから－２０℃で再結晶することにより、錯体３１（０．４７ｇ、収率７１．２％）を黄色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．８７（ｓ、６Ｈ）、２．１４（ｓ、６Ｈ）、６．５９（ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、６Ｈ）、６．８０（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、３Ｈ）、７．０８（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、６Ｈ）、７．２６（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、６Ｈ）、７．３７（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、３Ｈ）、７．６１（ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１２．０６、１５．２３、１１８．８８、１２０．０９、１２０．６８、１２７．７７、１２８．９７、１２９．３９、１３１．９２、１３４．８３、１３６．７１、１３７．３８、１６４．９０
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：７０６（Ｍ＋）
［実施例３２］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリエトキシド（以下、「錯体３２」という。）の合成」
　窒素雰囲気下、マグネシウムジエトキシド（７４．７ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）に、－３０℃で（１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド（１９３．６ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を滴下し、攪拌しながら徐々に室温まで昇温させた。室温で１８時間反応後、マグネシウムジエトキシド（３２．０ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を追加し、溶媒を減圧下で濃縮した。残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え－２０℃で不溶物を濾過により除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮することにより、錯体３２（１５２．６ｍｇ、収率７４．８％）を黄色オイルとして得た。得られた錯体３２は－２０℃で静置することで結晶化させた。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、δｐｐｍ）：１．１２（ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、９Ｈ）、１．６６（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｓ、６Ｈ）、４．２２（ｑ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、６Ｈ）、７．２８－７．４１（ｍ、９Ｈ）、７．６４－７．７０（ｍ、６Ｈ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．４３、１４．６０、２０．０２、７０．０４、１１２．５３、１２７．１３、１２７．８１、１２９．３８、１３２．０６、１３６．５１、１３７．０７
質量スペクトル（ＥＩ－ＭＳ、ｍ／ｚ）：５６２（Ｍ＋）
［実施例３３］
「錯体２９の合成」
　ヨウ化メチルマグネシウムの０．９３Ｍジエチルエーテル溶液（１．９１ｍＬ、１．７８ｍｍｏｌ）の代わりにメチルリチウムの１．１２Ｍジエチルエーテル溶液（１．８３ｍＬ、２．０５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例２９と同様に反応を行い、錯体２９が得られる。
［実施例３４］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］メチルチタニウムジクロライドの合成」
　窒素雰囲気下、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．３０ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１５ｍＬ）に、－７８℃でヨウ化メチルマグネシウムの０．９３Ｍジエチルエーテル溶液（０．６３ｍＬ、０．５９ｍｍｏｌ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させることにより［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］メチルチタニウムジクロライドが得られる。
［実施例３５］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ジメチルチタニウムクロライドの合成」
　窒素雰囲気下、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．３０ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１５ｍＬ）に、－７８℃でヨウ化メチルマグネシウムの０．９３Ｍジエチルエーテル溶液（１．２６ｍＬ、１．１８ｍｍｏｌ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させることにより［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ジメチルチタニウムクロライドが得られる。
［実施例３６］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリベンジルチタニウムの合成」
　窒素雰囲気下、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．３０ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ）に、－７８℃でベンジルマグネシウムクロライドの０．９６Ｍテトラヒドロフラン溶液（１．８５ｍＬ、１．８０ｍｍｏｌ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させることにより、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリベンジルチタニウムが得られる。
［実施例３７］
「錯体３１の合成」
　リチウムフェノキシド（０．３４ｇ、３．３７ｍｍｏｌ）のトルエン溶液を用いる代わりに、メチルマグネシウムクロライドの３．００Ｍテトラヒドロフラン溶液（０．９４ｍＬ、２．８２ｍｍｏｌ）とフェノール（０．２７ｇ、２．８２ｍｍｏｌ）から発生させたフェノキシマグネシウムクロライド（０．４３ｇ、２．８２ｍｍｏｌ）を用いること以外は実施例２８と同様に反応を行い、錯体３１が得られる。
［実施例３８］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ジクロロチタニウムフェノキシドの合成」
　窒素雰囲気下、リチウムフェノキシド（０．１１ｇ、１．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）に、－３０℃で［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．５０ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させることにより［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］ジクロロチタニウムフェノキシドが得られる。
［実施例３９］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］クロロチタニウムジフェノキシドの合成」
　窒素雰囲気下、リチウムフェノキシド（０．２２ｇ、２．２４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）に、－３０℃で［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（０．５０ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）を滴下し、攪拌しながら徐々に０℃まで昇温させることにより［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］クロロチタニウムジフェノキシドが得られる。
［実施例４０］
「［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリメトキシドの合成」
　マグネシウムジエトキシド（７４．７ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を用いる代わりに、ｎ－ブチルリチウムの１．５７Ｍヘキサン溶液（０．３６ｍＬ、１．０８ｍｍｏｌ）とメタノール（３．５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ）から発生させたリチウムメトキシド（４．１ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ）を用いること以外は実施例２９と同様に反応を行い、［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリメトキシドが得られる。
＜１－ヘキセンの製造＞
（１）１－ヘキセン活性
ガスクロマトグラフィー（島津ＧＣ－２０１０、ＤＢ－１カラム）を用いて分析した。
（２）公知な遷移金属錯体の合成
［１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体３３」という。）は公知の手法（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９９９，５９２，８４－９４．）に従って合成した。
［１－（１－メチル－１－（３，５－ジメチルフェニル）エチル）－３－トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体３４」という。）は公知の手法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ　２００２，２１，５１２２－５１３５．）に従って合成した。
［実施例４１］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を４０℃まで昇温した後、メチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＰＭＡＯ－ｓ）の濃度が２．４５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を０．４１ｍＬ投入した。次にエチレンを、その分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、４０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが４．０１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．５２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４２］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、メチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＰＭＡＯ－ｓ）の濃度が２．４５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を０．４１ｍＬ投入した。次にエチレンを、その分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが１．６５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４３］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、Ａｌ濃度が９．２ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｇ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ－ｓ）を０．７３ｇ投入した。次にエチレンを、その分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが１．９６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
［実施例４４］
　錯体Ｃ０４８４のかわりに、錯体２を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが２．１０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４５］
　錯体１のかわりに、錯体９を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．２８×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４６］
　錯体１のかわりに、錯体５を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．０９×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４７］
　錯体１のかわりに、錯体３を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．２１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４８］
　錯体１のかわりに、錯体６を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．０９×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例４９］
　錯体１のかわりに、錯体７を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．４３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５０］
　錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．１５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５１］
　錯体１のかわりに、錯体１１を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが３．７１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５２］
　錯体１のかわりに、錯体２１を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが０．９１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５３］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、次に、濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液０．４ｍＬを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体９のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）３ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが１．２０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．６２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５４］
　トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のかわりに、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）を使用した以外は、実施例５３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．６５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．３２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５５］
　錯体９のかわりに、錯体１１を使用した以外は、実施例５３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが３．４３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５６］
　錯体９のかわりに、錯体１１を使用した以外は、実施例５４と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが４．７５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５７］
　錯体１のかわりに、錯体２３を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが０．７７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５８］
　錯体１のかわりに、錯体２４を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが１．６１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［実施例５９］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、Ａｌ濃度が９．２ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｇ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ－ｓ）を０．７３ｇ投入した。次にエチレンを、その分圧が２．０ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体１１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが１１．４６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．４０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
［比較例１］
　錯体１のかわりに、錯体３４を使用した以外は、実施例４３と同様の操作を行った結果、１－ヘキセンが０．５８×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０９×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
［比較例２］
　減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、トルエンを９０ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、メチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＰＭＡＯ－ｓ）の濃度が２．４５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液を１．２２ｍＬ投入した。次にエチレンを、その分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに錯体３３のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍｌ）１．０ｍｌを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール－塩酸で脱灰し、ろ過した。１－ヘキセンが０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
結果を表１に記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000129
＊　ｔ＝１０６ｇ
＊＊　実施例５９のみエチレン圧力を２．０ＭＰａとした。
＜エチレン系重合体の製造＞
（１）分子量及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
　ＲａｐｉｄＧＰＣ（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
　　送液装置　：（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製
　　　　　　　　Ｍｏｄｅｌ３０５（ポンプヘッド２５．ＳＣ）
　　カラム　　：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（ＰＬ）社製
　　　　　　　　ＰＬｇｅｌ　Ｍｉｘｅｄ－Ｂ　１０μｍ
　　　　　　　　７．５ｍｍφ×３００ｍｍ
　　移動相　　：ｏ－ジクロロベンゼン
　　溶解溶媒　：１，２，４－トリクロロベンゼン
　　流量　　　：２ｍｌ／分
　　カラム温度：１６０℃
　　検量線　　：ＰＬ社標準品　ポリスチレン（ＰＳ）　８試料
　　　　　　　　（標準ＰＳ分子量）５，０００、１０，０５０、２８，５００、６５，５００
　　　　　　　　　１８５，４００、４８３，０００、１，０１３，０００、３，３９０，０００
（２）融点（単位：℃）
　示差走査型熱量計（セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００Ｒ）を用いて、以下の条件で重合体の融点を測定した。融点は、２回目の昇温でのサーモグラムから求めた。
　［条件］２０℃－（２０℃／分）→２００℃（１０分ホールド）－（－２０℃／分）→－１００℃（１０分ホールド）－（２０℃／分）→２００℃（１０分ホールド）
（３）ブチル分岐数
　得られたポリマー中のブチル分岐数は赤外吸収スペクトルから求めた。なお、測定および計算は、文献（赤外吸収スペクトルによるポリエチレンのキャラクタリゼーション、高山、宇佐美等著）記載の方法に準じ、ヘキセン由来の特性吸収を利用して実施した。ブチル分岐数は、１０００炭素当たりの分岐数（Ｍｅ／１０００Ｃ）として表した。
（４）公知な遷移金属錯体の合成
　ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（以下、「錯体３５」という。）は公知の手法（特開平９－８７３１３号公報）に従って合成した。
　ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（以下、「錯体３６」という。）は公知の手法（第２５３５２４９号公報）に従って合成した。
　イソプロピリデンビス（インデニル）ハフニウムジクロライド（以下、「錯体３７」という。）は公知の手法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ（１９９７），１６（４），７１３）に従って合成した。
　ｒａｃ－ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド（以下、「錯体３８」という。）は公知の手法（ＷＯ２００９／０１９９１９号公報）に従って合成した。
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド（以下、「錯体３９」という。）は公知の手法（第３１５４９９９号公報）に従って合成した。
　１，２－エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジフェノキシド（以下、「錯体４０」という。）は公知の手法（特開２００３－１２６８２号公報）に従って合成した。
２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－イソプロピルフェニルメチル］－６－（２－η１－ナフチル）－ピリジルハフニウムジメチル（以下、「錯体４１」という。）は公知の手法（特表２００６－５２５３１４号公報）に従って合成した。
１，２－エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド（以下、「錯体４２」という。）は公知の手法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ（１９９５），１４（１），５）に従って合成した。
　イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（以下、「錯体４３」という。）は公知の手法（特開平９－８７３１３号公報）に従って合成した。
ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（以下、「錯体４４」という。）は公知の手法（特開平９－８７３１３号公報）に従って合成した。
イソプロピリデン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド（以下、「錯体４５」という。）は公知の手法（ＷＯ２００１／０２７１２４号公報）に従って合成した。
ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（以下、「錯体４６」という。）は公知の手法（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　２０１０，４３，２２９９－２３０６）に従って合成した。
［実施例６０］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体３５）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で７分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、２１．９×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは４．０×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．８、融点は１１８．３℃、ブチル分岐数は６であった。
結果を表２に記す。
［実施例６１］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、２５．７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは９．４×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．７、融点は１２１．４℃、ブチル分岐数は４であった。
結果を表２に記す。
［実施例６２］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で９分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１９．３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは１．１×１０６、Ｍｗ／Ｍｎは１．７、融点は１１８．８℃、炭素原子１０００個当りのブチル分岐数は１１であった。
結果を表２に記す。
［実施例６３］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．００５μｍｏｌと、イソプロピリデン（ビスインデニル）ハフニウムジクロライド（錯体３７）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で８分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１９．７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは１．１×１０６、Ｍｗ／Ｍｎは１．８、融点は１２２．７℃、ブチル分岐数は３であった。
結果を表２に記す。
［実施例６４］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．０１μｍｏｌと、イソプロピリデン（ビスインデニル）ハフニウムジクロライド（錯体３７）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で１３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、９．８×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは１．３×１０６、Ｍｗ／Ｍｎは１．７、融点は１１８．３℃、ブチル分岐数は８であった。
結果を表２に記す。
［実施例６５］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．００５μｍｏｌと、ｒａｃ－ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド（錯体３８）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、３．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは６．１×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．３、融点は１２１．９℃、ブチル分岐数は３であった。
結果を表２に記す。
［実施例６６］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．０１μｍｏｌと、ｒａｃ－ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド（錯体３８）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で４０分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、２．５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは７．８×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．６、融点は１１９．６℃、ブチル分岐数は８であった。
結果を表２に記す。
［実施例６７］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．０１μｍｏｌと、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド（錯体３９）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で４分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、４７．０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは５．９×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．８、融点は１２５．２℃、ブチル分岐数は２であった。
結果を表２に記す。
［実施例６８］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（トリフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体９）０．０１μｍｏｌと、エチレン（ビスインデニル）ジルコニウムジフェノキシド（錯体４０）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１２１．２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは２．１×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．８、融点は１２９．７℃、ブチル分岐数は５であった。
結果を表２に記す。
［実施例６９］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（トリフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体９）０．０１μｍｏｌと、２－［Ｎ－（２，６－ジイソプロピルフェニルアミド）－ｏ－メチルフェニルメチル］－６－（２－η－１－ナフチル）ピリジルハフニウムジメチル（錯体４１）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、９５．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは３．０×１０４、Ｍｗ／Ｍｎは１．４、融点は１２６．２℃、炭素原子１０００個当りのブチル分岐数は９であった。
結果を表２に記す。
［比較例３］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体３３）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で８分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、２１．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３２．４℃であった。
結果を表２に記す。
［比較例４］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－シクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体３３）０．０１μｍｏｌと、エチレン（ビスインデニル）ジルコニウムジクロライド（錯体４２）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、３４．４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３２．８℃であった。
結果を表２に記す。
［実施例７０］
　オートクレーブに窒素下で、１－ヘキセンを０．０２ｍｌ、トルエンを３．７ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液４００μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体３５）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で８分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１５．９×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは２．７×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．３、融点は１０５．７℃、ブチル分岐数は１８であった。
結果を表２に記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000130
［実施例７１］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体３５）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、６３．５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは３．４×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．７、融点は１２８．１℃、ブチル分岐数は２であった。
結果を表３に記す。
［実施例７２］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体３５）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、４５．８×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは３．８×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．９、融点は１２２．１℃、ブチル分岐数は５であった。
結果を表３に記す。
［実施例７３］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体４３）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、６９．０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは１．２×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．５、融点は１２１．６℃、ブチル分岐数は９であった。
結果を表３に記す。
［実施例７４］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体４３）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、７２．４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは７．９×１０４、Ｍｗ／Ｍｎは１．５、融点は１２０．２℃、ブチル分岐数は２０であった。
結果を表３に記す。
［実施例７５］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（インデニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体４４）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、５４．０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは１．８×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．５、融点は１１８．７℃、ブチル分岐数は７であった。
結果を表３に記す。
［実施例７６］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．００５μｍｏｌと、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－フェノキシ）チタニウムジクロライド（錯体４６）０．０９５μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、８２．５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは２．５×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．６、融点は１２８．４℃、ブチル分岐数は２であった。
結果を表３に記す。
［実施例７７］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で８分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１７．４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは７．１×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．４、融点は１２３．９℃、ブチル分岐数は８であった。
結果を表３に記す。
［実施例７８］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．０１μｍｏｌと、ｒａｃ－ジメチルシリレンビス［２－エチル－４－（２－フルオロ－４－ビフェニリル）－４Ｈ－アズレニル］ハフニウムジクロライド（錯体３８）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６０分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、６．０×１０５ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは５．６×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．５、融点は１２８．６℃、ブチル分岐数は５であった。
結果を表３に記す。
［実施例７９］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（メチルジフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体２）０．０１μｍｏｌと、イソプロピリデン（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルシクロペンタジエニル）（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド（錯体４５）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で３分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、４２．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは３．５×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは１．８、融点は１２９．３℃、ブチル分岐数は３であった。
結果を表３に記す。
［比較例５］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、１－メチル－１－フェニルエチル（シクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド（錯体３３）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、２３．１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３４．５℃であった。
結果を表３に記す。
［比較例６］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６４ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、１－メチル－１－フェニルエチル（シクロペンタジエニル）チタニウムトリクロライド（錯体３３）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で２分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、６３．０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、融点は１３４．８℃であった。
結果を表３に記す。
［実施例８０］
　オートクレーブに窒素下で、１－ヘキセンを０．０２ｍｌ、トルエンを３．６２ｍｌ仕込み、系内の温度を７０℃まで昇温し、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、［１－（ｎ－ブチルメチルフェニルシリル）－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（錯体１）０．０１μｍｏｌと、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド（錯体３６）０．０９μｍｏｌとのトルエン溶液９００μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴＢ）のトルエン溶液３００μＬを投入して重合を開始し、７０℃で６分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。重合終了後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。活性は、１９．８×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈであった。
　得られた重合体の物性を測定したところ、Ｍｗは３．８×１０５、Ｍｗ／Ｍｎは２．２、融点は１１７．８℃、ブチル分岐数は１０であった。
結果を表３に記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000131
［実施例８１］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．６８ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温し、エチレンを０．５０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．１０ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬである［１－トリス（３，５－ジメチルフェニル）シリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリメチルチタニウム（錯体３０）のトルエン溶液４０μＬ、および濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬであるＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液１２０μＬを投入し反応を開始し、８０℃で３６分間反応を行った。反応中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物の上澄み溶液を採取しＧＣ分析を行い、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。結果を表４、エチレン吸収の経時変化を図１に示す。なお、エチレン吸収は、反応時のエチレン吸収に伴い圧力が低下した場合に、目的圧力に昇圧するのに必要であった圧力の積算値をｐｓｉ単位で表している。
［実施例８２］
　エチレン圧力を０．５０ＭＰａから０．８０ＭＰａに変更し、反応時間を１２分とした以外は、実施例８１と同様の操作を行った。
結果を表４、エチレン吸収の経時変化を図２に示す。
［実施例８３］
　錯体３０のかわりに、錯体１１を使用し、反応時間を６０分とした以外は、実施例８１と同様の操作を行った。
結果を表４、エチレン吸収の経時変化を図３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000132
［実施例８４］
　オートクレーブに窒素下で、トルエンを３．８ｍｌ仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温し、エチレンを０．５０ＭＰａまで加圧し安定させた。次に、濃度が０．２５ｍｍｏｌ／ｍＬであるメチルアルミノキサン（東ソー・ファインケム社製　ＴＭＡＯ）のトルエン溶液１６０μＬを、オートクレーブ内に投入した。次に、オートクレーブ内に、濃度が０．００１ｍｍｏｌ／ｍＬである［１－トリフェニルシリル－２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル］トリメチルチタニウム（錯体２９）のトルエン溶液４０μＬを投入し反応を開始し、８０℃で３０分間反応を行った。反応中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを供給した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物の上澄み溶液を採取しＧＣ分析を行い、揮発成分を減圧留去して除去することにより、重合体を得た。結果を表５、エチレン吸収の経時変化を図４に示す。
［実施例８５］
　錯体２９のかわりに、錯体９を使用した以外は、実施例８４と同様の操作を行った。
結果を表５、エチレン吸収の経時変化を図５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000133
　本発明は、高温条件においてもエチレンの三量化反応により１－ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供し、また、エチレンを重合して、ブチル分岐を有するエチレン系重合体を、高温条件においても経済的に製造する方法を提供するので、高い産業上の利用可能性を有する。

Claims (35)

  1. 　一般式（１）で表される遷移金属錯体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、Ｍ１は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ５及びＲ９はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０及びＲ１１は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
  2. 　一般式（１）におけるＭ１がチタン原子である請求項１に記載の遷移金属錯体。
  3. 　一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がメチル基である請求項１または２に記載の遷移金属錯体。
  4. 　一般式（１）におけるＲ１０がメチル基であり、Ｒ１１が
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルキル基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    である請求項１～３のいずれかに記載される遷移金属錯体。
  5. 　一般式（１）におけるＲ１０及びＲ１１が同一であり、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    である請求項１～３のいずれかに記載される遷移金属錯体。
  6. 　一般式（１）におけるＲ６及びＲ８が
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基であり、
    Ｒ１０及びＲ１１が、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基である、
    請求項１～３のいずれかに記載される遷移金属錯体。
  7. 　請求項１～６のいずれかに記載の遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。
  8. 　請求項１～６のいずれかに記載の遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒。
  9. 　活性化助触媒成分が次の化合物（Ａ）を含む請求項８に記載の三量化用触媒。
    化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）～（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
    　（Ａ１）：一般式　（Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３－ａで表される有機アルミニウム化合物
    　（Ａ２）：一般式　｛－Ａｌ（Ｅ２）－Ｏ－｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
    　（Ａ３）：一般式　Ｅ３｛－Ａｌ（Ｅ３）－Ｏ－｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
    （式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、炭素原子数１～８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１～３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
  10. 　活性化助触媒成分が次の化合物（Ｂ）を含む請求項８または９に記載される三量化用触媒。
    化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）～（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
    　（Ｂ１）：一般式　ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
    　（Ｂ２）：一般式Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物
    　（Ｂ３）：一般式（Ｌ－Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）－で表されるボレート化合物
    （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１～２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１～２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基または炭素原子数２～２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ－Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
  11. 　請求項８～１０のいずれかに記載される三量化用触媒を用いた１－ヘキセンの製造方法。
  12. 　オレフィン重合用触媒成分と、
    下記一般式（１）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、
    活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    ［式中、Ｍ１は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ５及びＲ９はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０及びＲ１１は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。］
  13. 　オレフィン重合用触媒成分が一般式（２）で表される遷移金属錯体からなる請求項１２に記載のエチレン系重合体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    （式中、Ｍ２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、Ｊ１は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ１とＤ１とを連結する基を表す。ｑは０または１を表す。ｑが１の場合、Ｄ１は、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基、またはＪ１とＭ２とを連結する基であって元素の周期律表の第１５族の原子もしくは元素の周期律表の第１６族の原子でＭ２と結合する前記基を表し、ｑが０の場合、Ｄ１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
    Ｘ４、Ｘ５はそれぞれ独立に
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
  14. 　オレフィン重合用触媒成分が一般式（３）で表される遷移金属錯体からなる請求項１３に記載のエチレン系重合体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    （式中、Ｍ３は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ２およびＣｐ３はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。Ｊ２は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ２とＣｐ３とを連結する基を表す。
    Ｘ６、Ｘ７はそれぞれ独立に
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
  15. 　オレフィン重合用触媒成分が一般式（４）で表される遷移金属錯体からなる請求項１３に記載のエチレン系重合体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    （式中、Ｍ４は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｃｐ４はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。Ｊ３は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ４とＡ１とを連結する基を表す。Ａ１はＪ３とＭ４とを連結する基であって、元素の周期律表の第１５族の原子または元素の周期律表の第１６族の原子でＭ４と結合する前記基を表す。
    Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ独立に
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表す。）
  16. 　オレフィン重合用触媒成分が下記一般式（５）で表される遷移金属錯体からなる請求項１５に記載のエチレン系重合体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    （式中、Ｍ５は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
    Ａ２は元素の周期律表の第１６族の原子を表し、
    Ｊ４は元素の周期律表の第１４族の原子を表す。
    Ｃｐ５はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
    Ｘ１０、Ｘ１１、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
    水素原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ１０及びＸ１１は結合してＭ５と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１８及びＲ１９は結合してＪ４と一緒になって環を形成していてもよい。）
  17. 　一般式（６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    を表す。］で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；および
    前記置換シクロペンタジエン化合物（６）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（７）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    （式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
    で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する、請求項１に記載の一般式（１）で表される遷移金属錯体の製造方法。
  18. 　一般式（１－１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    ［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
    Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化遷移金属錯体と一般式（８）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    ［式中、Ｍ６はアルカリ金属を表し、Ｒ２０は
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基を表す。］
    で示されるアルカリ金属化合物、また一般式（９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    ［式中、Ｍ７はアルカリ土類金属を表し、Ｒ２１は
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基
    を表し、Ｘ１６は、ハロゲン原子を表し、ｒは１または２であり、ｒとｓとの総和が２である。］
    で示されるアルカリ土類金属化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（１－２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    ［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
    Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は
    それぞれ独立に、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、または
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    を表し、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４のうち少なくとも一つは、該アルキル基、該アリール基、該アラルキル基である。］
    で示される遷移金属錯体の製造方法。
  19. 　アルカリ金属化合物が、リチウム化合物である請求項１８に記載の遷移金属錯体の製造方法。
  20. 　アルカリ土類金属化合物が、マグネシウム化合物である請求項１８に記載の遷移金属錯体の製造方法。
  21. 　一般式（１－１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    ［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１３、Ｘ１４及びＸ１５は前記と同じ意味を表す。］
    で示されるハロゲン化遷移金属錯体と一般式（１０）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
    ［式中、Ｍ６、Ｒ２０は前記と同じ意味を表す。］
    で示されるアルカリ金属化合物、または一般式（１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    ［式中、Ｍ７、Ｒ２１、Ｘ１６、ｒ及びｓは前記と同じ意味を表す。］
    で示されるアルカリ土類金属化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（１－３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    ［式中、Ｍ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は前記と同義であり、
    Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は
    それぞれ独立に、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基を表し、Ｒ２５、Ｒ２６、及びＲ２７のうち少なくとも一つは、該アルコキシ基、該アリールオキシ基、該アラルキルオキシ基である。］
    で示される遷移金属錯体の製造方法。
  22. 　アルカリ金属化合物が、リチウム化合物である請求項２１に記載の遷移金属錯体の製造方法。
  23. 　アルカリ土類金属化合物が、マグネシウム化合物である請求項２１に記載の遷移金属錯体の製造方法。
  24. 　一般式（６－１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ３２及びＲ３６はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ３３、Ｒ３４及びＲ３５はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ３７は、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    または－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
    Ｒ３８は
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    または－Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
    Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ３７及びＲ３８は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
    を表す。］
  25. 　一般式（１２－１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
    ［式中、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－１）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
    ［式中、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７及びＲ３８は前記と同義であり、Ｘ１７はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項２４に記載の一般式（６－１）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
  26. 　一般式（６－２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ４３及びＲ４７はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ４４、Ｒ４５及びＲ４６はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ４８及びＲ４９はそれぞれ独立に、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基を表し、
    Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６及びＲ４７のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ４８及びＲ４９は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
    を表す。］
  27. 　一般式（１２－２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
    ［式中、Ｒ３９、Ｒ４０、Ｒ４１及びＲ４２は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－２）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
    ［式中、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８及びＲ４９は前記と同義であり、Ｘ１８はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項２６に記載の一般式（６－２）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
  28. 　一般式（６－３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３のうち少なくとも二つは該アルキル基であり、
    Ｒ５４及びＲ５８はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ５５、Ｒ５６及びＲ５７はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ５９及びＲ６０はそれぞれ独立に、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    または
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基を表し、
    Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つのアルキル基は結合して、該２つのアルキル基が結合している２つの炭素原子と一緒になってシクロヘキセン環を形成している。
    Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７及びＲ５８のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５９及びＲ６０は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
    を表す。］
  29. 　一般式（１２－３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
    ［式中、Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－３）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
    ［式中、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は前記と同義であり、Ｘ１９はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項２８に記載の一般式（６－３）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
  30. 　一般式（６－４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ６５、Ｒ６６、Ｒ６７、Ｒ６８及びＲ６９は、その部分構造式（１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
    が、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルフェニル、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）メチルフェニル、アントラセン、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニルであり、
    Ｒ７０及びＲ７１はそれぞれメチル基であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
    を表す。］
  31. 　一般式（１２－４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
    ［式中、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６４は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－４）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
    ［式中、Ｒ６５、Ｒ６６、Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｒ７０及びＲ７１は前記と同義であり、Ｘ２０はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項３０に記載の一般式（６－４）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
  32. 　一般式（６－５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、
    Ｒ７６及びＲ８０はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ７７、Ｒ７８及びＲ７９はそれぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ８１は、メチル基を表し、
    Ｒ８２は、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアリール基を表し、
    Ｒ７６、Ｒ７７、Ｒ７８、Ｒ７９及びＲ８０のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ８１及びＲ８２は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
    を表す。］
  33. 　一般式（１２－５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
    ［式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－５）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
    ［式中、Ｒ７６、Ｒ７７、Ｒ７８、Ｒ７９、Ｒ８０、Ｒ８１及びＲ８２は前記と同義であり、Ｘ２１はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項３２に記載の一般式（６－５）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
  34. 　一般式（６－６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
    で示される置換シクロペンタジエン化合物。
    ［式中、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、それぞれ独立に、
    水素原子、ハロゲン原子、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１～２０のアルコキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリール基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキル基、
    ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７～２０のアラルキルオキシ基、
    －Ｓｉ（Ｒ１２）３（３つのＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ１２にある炭素原子数の合計が１～２０である。）で示される置換シリル基、
    または－Ｎ（Ｒ１３）２（２つのＲ１３はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ１３にある炭素原子数の合計が２～２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
    Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該２置換アミノ基であり、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は全て同時にメチル基ではない。
    Ｒ８７、Ｒ８８、Ｒ８９、Ｒ９０及びＲ９１は水素原子であり、
    Ｒ９２及びＲ９３はメチル基を表し
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
    を表す。］
  35. 　一般式（１２－６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
    ［式中、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は前記と同義であり
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
    は
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
    を表す。］
    で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
    前記置換シクロペンタジエン化合物（１２－６）と塩基との反応物に、
    以下の一般式（１３－６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
    ［式中、Ｒ８７、Ｒ８８、Ｒ８９、Ｒ９０、Ｒ９１、Ｒ９２及びＲ９３は前記と同義であり、Ｘ２２はハロゲン原子である。］
    で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項３４に記載の一般式（６－６）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
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