JP2011099092A - エチレン系重合体 - Google Patents
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Abstract
【課題】特性緩和時間が長いエチレン系重合体を提供すること。
【解決手段】以下の要件を充足するエチレン系重合体。
(a)非架橋エチレン系重合体である。
(b)炭素原子1000個当りの長鎖分岐(LCB)の数が、0.1以上、1.5以下である。
(c)極限粘度[η]が、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。
(d)動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数(単位:rad/sec)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)が、0.8以上、4.0以下である。
【選択図】なし
【解決手段】以下の要件を充足するエチレン系重合体。
(a)非架橋エチレン系重合体である。
(b)炭素原子1000個当りの長鎖分岐(LCB)の数が、0.1以上、1.5以下である。
(c)極限粘度[η]が、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。
(d)動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数(単位:rad/sec)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)が、0.8以上、4.0以下である。
【選択図】なし
Description
本発明は、エチレン系重合体に関するものである。
エチレン系重合体などのオレフィン重合体は、ブロー成形、発泡成形、フィルム成形など、種々の成形法により、ボトル、発泡体、シート、フィルム、延伸フィルム等に成形され、食品包装材などの種々の用途に用いられている。
延伸フィルムはシュリンク包装フィルムなどの用途に用いられることがあり、用いるエチレン系重合体には、フィルム成形の延伸により高分子鎖が配向しやすい特性、すなわち特性緩和時間が長い特性が求められる。
延伸フィルムはシュリンク包装フィルムなどの用途に用いられることがあり、用いるエチレン系重合体には、フィルム成形の延伸により高分子鎖が配向しやすい特性、すなわち特性緩和時間が長い特性が求められる。
このようなエチレン系重合体として、流動の活性化エネルギーが50kJ/mol以上であり、メルトフローレートと190℃の剪断速度100rad/secにおける溶融粘度とが特定の関係を満たすエチレン−α−オレフィン共重合体が提案されている(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1で提案されている方法では、必ずしも特性緩和時間が長くないことがあった。
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、特性緩和時間が長いエチレン系重合体を提供することにある。
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、特性緩和時間が長いエチレン系重合体を提供することにある。
本発明は、以下の要件を充足するエチレン系重合体に係るものである。
(a)非架橋エチレン系重合体である。
(b)炭素原子1000個当りの長鎖分岐(LCB)の数が、0.1以上、1.5以下である。
(c)極限粘度[η]が、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。
(d)動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数ω(単位:rad/sec)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)が、0.8以上、4.0以下である。
(a)非架橋エチレン系重合体である。
(b)炭素原子1000個当りの長鎖分岐(LCB)の数が、0.1以上、1.5以下である。
(c)極限粘度[η]が、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。
(d)動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数ω(単位:rad/sec)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)が、0.8以上、4.0以下である。
本発明により、特性緩和時間が長いエチレン系重合体を提供することができる。
また、本発明のエチレン系重合体は、溶融時の貯蔵弾性率(G’)が高いため、ブロー成形などにおいて、得られる成形体の概観、表面光沢に優れ、発泡成形などの成形加工性においては、得られる発泡体のセルの均一性に優れる。
さらに、本発明のエチレン系重合体は、公知の樹脂とブレンドしたときの歪硬化性改質性能に優れる。たとえば、直鎖状ポリエチレンとブレンドしたときに、直鎖状ポリエチレンの歪硬化性を高めることができる。また、本発明のエチレン系重合体は、非架橋エチレン系重合体でありゲルを有しないため、公知の樹脂とブレンドしたときの混ざり性にも優れる。
本発明において「重合」という語は、単独重合のみならず、共重合を包含したものである。また、本発明において「置換基」という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。
<重合体>
本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体としては、エチレン単独重合体、エチレン−1−ヘキセン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−オクテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン−1−オクテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−スチレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−ノルボルネン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン−スチレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン−ノルボルネン共重合体などが挙げられる。
本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体としては、エチレン単独重合体、エチレン−1−ヘキセン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−オクテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン−1−オクテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−スチレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−ノルボルネン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン−スチレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン−ノルボルネン共重合体などが挙げられる。
本発明のエチレン系重合体として好ましくは、エチレン単独重合体、エチレン−1−ヘキセン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−プロピレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−オクテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−スチレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−ノルボルネン共重合体であり、より好ましくは、エチレン単独重合体、エチレン−1−ヘキセン共重合体、エチレン−1−ヘキセン−1−ブテン共重合体である。
本発明のエチレン系重合体の炭素原子1000個当りの長鎖分岐(炭素原子数7以上の分岐。以下、「LCB」と記載することがある。)の数は、成形加工時の押し出し負荷を低減させる観点から、0.1以上であり、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.5以上である。また、得られる成形体の機械的強度を高める観点から、LCBの数は、1.5以下である。該LCBの数は、カーボン核磁気共鳴(13C−NMR)法によって求めることができる。
LCBの数は、例えば、水素濃度やエチレン圧などの重合条件や、遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)とのモル比(遷移金属錯体(1)/遷移金属錯体(5))を変更すること、重合においてオレフィン重合用触媒の濃度を変更することなどにより、LCBの数を変更することができる。例えば、モル比(遷移金属錯体(1)/遷移金属錯体(5))を高くすることにより、LCBの数を多くすることができる。また遷移金属錯体の濃度を高くすることにより、LCBの数を多くすることができる。
LCBの数は、例えば、水素濃度やエチレン圧などの重合条件や、遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)とのモル比(遷移金属錯体(1)/遷移金属錯体(5))を変更すること、重合においてオレフィン重合用触媒の濃度を変更することなどにより、LCBの数を変更することができる。例えば、モル比(遷移金属錯体(1)/遷移金属錯体(5))を高くすることにより、LCBの数を多くすることができる。また遷移金属錯体の濃度を高くすることにより、LCBの数を多くすることができる。
本発明のエチレン系重合体の極限粘度[η]は、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。エチレン系重合体の機械的強度を高めるために、好ましくは1.1dl/g以上であり、より好ましくは1.2dl/g以上であり、更に好ましくは1.5dl/g以上である。また、成形加工時の押し出し負荷を低減させる観点から、好ましくは2.8dl/g以下であり、より好ましくは2.5dl/g以下である。極限粘度[η]は、ウベローデ型粘度計を用いて測定される。なお、極限粘度[η]は、例えば、水素濃度やエチレン圧などの重合条件を変化させることなどにより、[η]を変化させることができる。例えば、重合時の水素濃度を高くすることにより、[η]の値を低くすることができ、重合時の水素濃度を低くすることにより、[η]の値を高くすることができる。
本発明のエチレン系重合体のEaは、通常50kJ/mol以上、200kJ/mol以下である。成形加工時の押出負荷をより低減する観点から、好ましくは60kJ/mol以上であり、より好ましくは80kJ/mol以上であり、特に好ましくは100kJ/mol以上である。また、ブロー成形体の光沢を高めるために、Eaは、好ましくは180kJ/mol以下であり、より好ましくは160kJ/mol以下であり、更に好ましくは140kJ/mol以下である。なお、Eaは、粘弾性測定装置を用いて、複数の温度での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を測定し、該溶融複素粘度−角周波数曲線から温度−時間重ね合わせ原理を使って求めることができる。なお、遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)とのモル比を変更すること、重合においてオレフィン重合用触媒の濃度を変更することなどにより、Eaを調節することができる。
本発明のエチレン系重合体の、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数(以下、「ω」と記載することがある。また単位はrad/secである。)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(以下、「G’」と記載することがある。単位はPaである。)と損失弾性率(以下、「G’’」と記載することがある。単位はPaである。)の比(G’/G’’)は、通常0.8以上、4.0以下である。
特性緩和時間を長くする観点から、好ましくは1.0以上であり、より好ましくは1.1以上である。また、成形加工時の押し出し負荷を低減させる観点から、通常3.0以下であり、好ましくは2.0以下である。なお、(G’/G’’)の値は、例えば、水素濃度やエチレン圧などの重合条件などの重合条件を変化させることなどにより変化させることができる。重合時の水素濃度を低くすることにより、(G’/G’’)の値を高くすることができ、重合時の水素濃度を高くすることにより、(G’/G’’)の値を低くすることができる。
特性緩和時間を長くする観点から、好ましくは1.0以上であり、より好ましくは1.1以上である。また、成形加工時の押し出し負荷を低減させる観点から、通常3.0以下であり、好ましくは2.0以下である。なお、(G’/G’’)の値は、例えば、水素濃度やエチレン圧などの重合条件などの重合条件を変化させることなどにより変化させることができる。重合時の水素濃度を低くすることにより、(G’/G’’)の値を高くすることができ、重合時の水素濃度を高くすることにより、(G’/G’’)の値を低くすることができる。
本発明のエチレン系重合体の、動的粘弾性測定において得られる、190℃での、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係は、好ましくは、角周波数(以下、「ω」と記載することがある。また単位はrad/secである。)が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’である。
そのため、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)が交わる角周波数(以下、「ωx」と記載することがある。)は、0.1以下であることが好ましい。
そのため、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)が交わる角周波数(以下、「ωx」と記載することがある。)は、0.1以下であることが好ましい。
本発明のエチレン系重合体の、動的粘弾性測定において得られる、190℃での、角周波数(以下、「ω」と記載することがある。また単位はrad/secである。)が0.1rad/秒における、貯蔵弾性率(G’)の値(単位:Pa)は、通常5000以上、100000以下であり、ブロー成形体の表面光沢を高める観点から、好ましくは7000以上であり、より好ましくは8000以上であり、さらに好ましくは10000以上であり、成形加工時の押し出し負荷を低減させる観点から、好ましくは70000以下であり、より好ましくは50000以下であり、さらに好ましくは30000以下である。
本発明のエチレン系重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、重合体の加工性(ブロー成形性)を高めるために、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。また、重合体の機械的強度を高めるために、Mw/Mnは、好ましくは30以下であり、より好ましくは15以下である。該分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ測定によってポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)とを求め、MwをMnで除した値(Mw/Mn)である。なお、重合中に重合場の水素濃度を変更することなどにより、Mw/Mnを大きくすることができる。
本発明のエチレン系重合体のz平均分子量(Mz)と重量平均分子量(Mw)の比で表わされる分子量分布(Mz/Mw)は、通常2.5以上、10以下である。重合体の加工性を高めるために、好ましくは3以上である。また、重合体の機械的強度を高めるために、好ましくは8以下である。該分子量分布(Mz/Mw)は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ測定によってポリスチレン換算のz平均分子量(Mz)と重量平均分子量(Mw)とを求め、MzをMwで除した値(Mz/Mw)である。
本発明のエチレン系重合体の炭素原子1000個当りの短鎖分岐(炭素原子数6以下の分岐。以下、「SCB」と記載することがある)の数は、通常0.5以上、30以下である。重合体の機械的強度を高めるために、好ましくは1以上であり、より好ましくは3以上である。また、重合体の剛性を高めるために、該短鎖分岐の数は、好ましくは25以下であり、より好ましくは20以下であり、特に好ましくは15以下である。該短鎖分岐のの数は、カーボン核磁気共鳴(13C−NMR)法によって求めることができる。なお、共重合させるα―オレフィン量を変化させることなどにより、短鎖分岐の数を調節することができる。
短鎖分岐種としては、ブチル分岐、およびヘキシル分岐が好ましい。
短鎖分岐種としては、ブチル分岐、およびヘキシル分岐が好ましい。
本発明のエチレン系重合体は、公知の成形加工方法、例えば、インフレーションフィルム成形加工法やTダイフィルム成形加工法などの押出成形法;ブロー成形法;射出成形法;圧縮成形法;架橋発泡成形法などにより、各種成形体(フィルム、シート、容器(ボトル、トレーなど)など)に成形され、使用される。
本発明のエチレン系重合体は、公知の樹脂とブレンドした組成物として成形されてもよい。また、成形体は、エチレン系重合体を含有する単層の成形体でもよく、エチレン系重合体を含有する層を有する多層の成形体であってもよい。
本発明のエチレン系重合体と公知の樹脂をブレンドした組成物としては、例えば、本発明のエチレン系重合体と直鎖状ポリエチレンをブレンドした組成物などが挙げられる。
直鎖状ポリエチレンとしては、チーグラー系触媒、メタロセン系触媒(好ましくは非架橋型メタロセン錯体を用いた触媒である。)等、公知のオレフィン重合用触媒を用いて、液相重合法、スラリー重合法、気相重合法、高圧イオン重合法等の公知の重合方法によって、エチレンとα−オレフィンとを共重合することにより製造される、エチレン−α−オレフィン共重合体が挙げられる。これらの重合法は、回分重合法、連続重合法のいずれでもよく、2段階以上の多段重合法でもよい。また、市販の該当品を用いてもよい。
本発明のエチレン系重合体と直鎖状ポリエチレンをブレンドした、組成物中の本発明のエチレン系重合体の割合は、通常0.1重量%以上、20重量%以下である。組成物の歪硬化性能を高める観点から、好ましくは1重量%以上であり、より好ましくは2重量%以上である。また使用するエチレン系重合体の量を少なくする観点から、好ましくは15重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下である。
(
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直鎖状ポリエチレンの密度は、通常、890〜960kg/m3である。組成物の剛性を高める観点から、好ましくは900kg/m3以上であり、より好ましくは910kg/m3以上である。また組成物の機械的強度を高める観点から、好ましくは950kg/m3以下であり、より好ましくは、940kg/m3以下である。
直鎖状ポリエチレンのメルトフローレート(MFR)は、通常、0.1〜10g/10分である。加工時の押し出し不可を低減する観点から、好ましくは0.5g/10分以上である。また組成物の機械的強度を高める観点から、好ましくは5g/10分以下である。
直鎖状ポリエチレンの流動の活性化エネルギー(Ea)は、50kJ/mol未満である。好ましくは35kJ/mol未満であり、より好ましくは30kJ/mol未満である。
本発明のエチレン系重合体は非架橋体である。ここでいう「架橋体」とは、電子線、過酸化物、熱などにより、積極的に分子鎖間に物理結合を導入することで、ネットワーク状構造を持つ構造体を示し、エチレン系重合体の架橋体は、例えばエチレン系重合体が可溶な、加熱されたキシレンなどの有機溶媒に重合体を溶解したときに、不溶部として存在するゲル構造を有しているものである。本発明のエチレン系重合体は非架橋体であり、実質的にゲル構造を有していないため、架橋エチレン系重合体と比較して、他の樹脂とブレンドする際の混ざり性に優れる。
成形体としては、食品包装用フィルム、食品包装用容器、医薬品包装材、表面保護フィルム、半導体製品などの包装に用いる電子部品包装材、架橋発泡成形体、押出発泡成形体、ブロー成形体、ブローボトルやスクイーズボトルなどが挙げられる。
本発明のエチレン系重合体の製造方法としては、遷移金属錯体(1)と、遷移金属錯体(5)と、活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒を用いる方法を挙げることができる。
<遷移金属錯体(1)>
遷移金属錯体(1)としては、下記一般式(1)で表される遷移金属錯体をあげることができる。
[式中、M1は元素周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該2置換アミノ基であり、
R5及びR9はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R10及びR11はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
X1、X2及びX3はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10及びR11は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。]
遷移金属錯体(1)としては、下記一般式(1)で表される遷移金属錯体をあげることができる。
[式中、M1は元素周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも一つは、ハロゲン原子、該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アラルキル基、該アラルキルオキシ基、該置換シリル基または該2置換アミノ基であり、
R5及びR9はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R10及びR11はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
X1、X2及びX3はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10及びR11は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよい。]
以下、一般式(1)で表される遷移金属錯体について詳述する。
遷移金属錯体(1)において、M1は元素周期律表の第4族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
遷移金属錯体(1)において、M1は元素周期律表の第4族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
前記遷移金属錯体(1)において、置換基R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、X1、X2及びX3は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基の「炭素原子数1〜20のアルキル基」の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びn−エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数1〜10のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数1〜20の範囲であると好ましく、炭素原子数1〜10の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基の「炭素原子数6〜20のアリール基」の具体例としては、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数6〜10のアリール基であり、さらに好ましくはフェニル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は6〜20の範囲であると好ましく、6〜10の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基の「炭素原子数7〜20のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数7〜10のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は7〜20の範囲であると好ましく、7〜10の範囲がさらに好ましい。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基の「炭素原子数1〜20のアルコキシ基」の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、n−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数1〜10のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びtert−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数1〜20の範囲であると好ましく、1〜10の範囲がさらに好ましい。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2〜20のアルコキシ基の「炭素原子数2〜20のアルコキシ基」の具体例としては、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、n−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数2〜10のアルコキシ基であり、さらに好ましくはエトキシ基及びtert−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数2〜20の範囲であると好ましく、2〜10の範囲がさらに好ましい。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基の「炭素原子数6〜20のアリールオキシ基」の具体例としては、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数6〜10のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は6〜20の範囲であると好ましく、6〜10の範囲がさらに好ましい。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基の「炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基」の具体例としては、ベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数7〜10のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は7〜20の範囲であると好ましく、7〜10の範囲がさらに好ましい。
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基において、R12はそれぞれ独立に、水素原子;炭素原子数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基など)、アリール基(フェニル基など)などのハイドロカルビル基;ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、3つのR12の炭素原子数の合計が1〜20の範囲である。この3つのR12の炭素原子数の合計は3〜18の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を1つ有する1置換シリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を2つ有する2置換シリル基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、トリ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−n−ペンチルシリル基、トリ−n−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を3つ有する3置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは3置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基において、R13はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13の炭素原子数の合計が2〜20の範囲であり、2〜10の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この2つのR13は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる2置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−n−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−tert−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
R1、R2、R3及びR4のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R10及びR11は結合してそれらが結合しているケイ素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R5、R6、R7、R8及びR9のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環、炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のシラハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環である。
前記遷移金属錯体(1)においてR1、R2、R3及びR4のうち、少なくとも一つは水素以外の置換基であり、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアラルキル基である。
R1、R2、R3及びR4の組み合わせ具体例としては、それらを含む部分構造式(15)
(式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を表す。)
において、少なくとも一つは水素以外の置換基を有するシクロペンタジエニル部分構造を与える様な組み合わせであり、例えば、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
(式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を表す。)
において、少なくとも一つは水素以外の置換基を有するシクロペンタジエニル部分構造を与える様な組み合わせであり、例えば、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、n−プロピルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、n−ブチルシクロペンタジエニル、sec−ブチルシクロペンタジエニル、tert−ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、フェニルシクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、メチルテトラヒドロインデニル、ジメチルテトラヒドロインデニル、オクタヒドロフルオレニル
ここに例示したシクロペンタジエニル部分構造のうち、好ましいシクロペンタジエニル部分構造はテトラメチルシクロペンタジエニルなどである。
前記遷移金属錯体(1)においてR5、R6、R7、R8及びR9のうち、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアラルキル基である。
R5、R6、R7、R8及びR9の好ましい組み合わせとしては、それらを含む部分構造式(16)
(式中、R5、R6、R7、R8及びR9は前記と同じ意味を表す。)
において、例えば、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
(式中、R5、R6、R7、R8及びR9は前記と同じ意味を表す。)
において、例えば、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、テトラメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、tert−ブチルフェニル、ジ−tert−ブチルフェニル、tert−ブチルメチルフェニル、ジ(tert−ブチル)メチルフェニル、ナフチル、アントラセニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ビス(トリフルオロメチル)フェニル、メトキシフェニル
ここに例示した部分構造のうち、好ましい部分構造はフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、などである。
前記遷移金属錯体(1)においてR10及びR11のうち、好ましくは水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアラルキル基であり、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が挙げられる。
R10及びR11のうち好ましい組み合わせとしては、それらを含む部分構造式(17)
(式中、R10及びR11は前記と同じ意味を表す。)
において、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
(式中、R10及びR11は前記と同じ意味を表す。)
において、次のような部分構造を与える様な組み合わせを挙げることができる。
ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、ジ(n−プロピル)シリレン、メチル(n−プロピル)シリレン、ジ(n−ブチル)シリレン、n−ブチルメチルシリレン、n−ヘキシルメチルシリレン、メチル(n−オクチル)シリレン、n−デシルメチルシリレン、メチル(n−オクタデシル)シリレン、シクロヘキシルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン
その部分構造式(17)において、
R10がメチル基であり、R11が
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
である部分構造式、または、
R10及びR11が同一であり、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
である構造式を好ましく挙げることができ、
具体的には、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、n−ブチルメチルシリレン、シクロヘキシルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、などである。
R10がメチル基であり、R11が
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数2〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
である部分構造式、または、
R10及びR11が同一であり、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
である構造式を好ましく挙げることができ、
具体的には、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、エチルメチルシリレン、n−ブチルメチルシリレン、シクロヘキシルメチルシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、などである。
式(1)の遷移金属錯体として、好ましくは、R6及びR8が
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基であり、
R10及びR11が、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基である、遷移金属錯体を挙げることができる。
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、または
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基であり、
R10及びR11が、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基である、遷移金属錯体を挙げることができる。
遷移金属錯体(1)を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。
[1−ジメチルフェニルシリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−ジメチルフェニルシリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチルフェニルシリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−ジメチルフェニルシリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−ジエチルフェニルシリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−ジエチルフェニルシリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−ジエチルフェニルシリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−エチルメチルフェニルシリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−エチルメチルフェニルシリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−エチルメチルフェニルシリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
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[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル)−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(2,4,6−トリメチルフェニル)シリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド、
[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−メチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2,3−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2,4−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−エチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−n−プロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−sec−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−tert−ブチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−フェニルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−3−ベンジルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−インデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−メチルインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−フルオレニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−テトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−2−メチルテトラヒドロインデニル]チタニウムトリクロライド、[9−n−ブチルメチル(ペンタメチルフェニル)シリル−オクタヒドロフルオレニル]チタニウムトリクロライド
などの塩素化チタン錯体が挙げられる。また、ここに例示する錯体において、「チタニウム」を「ジルコニウム」に置き換えた塩素化ジルコニウム錯体、又は「ハフニウム」に置き換えた塩素化ハフニウム錯体などの塩素化遷移金属錯体、「クロライド」を「フルオリド」に置き換えたフッ素化チタン錯体、「ブロマイド」に置き換えた臭素化チタン錯体、「アイオダイド」に置き換えたヨウ素化チタン錯体などのハロゲン化チタン錯体、「ハイドライド」に置き換えた水素化チタン錯体、「メチル」に置き換えたメチル化チタン錯体などのアルキル化チタン錯体、「フェニル」に置き換えたフェニル化チタン錯体などのアリール化チタン錯体、「ベンジル」に置き換えたベンジル化チタン錯体などのアラルキル化チタン錯体、「メトキシド」に置き換えたメトキシ化チタン錯体、「n−ブトキシド」に置き換えたn−ブトキシ化チタン錯体、「イソプロポキシド」に置き換えたイソプロポキシ化チタン錯体などのアルコキシ化チタン錯体、「フェノキシド」に置き換えたフェノキシ化チタン錯体などのアリールオキシ化チタン錯体、「ベンジロキシド」に置き換えたベンジロキシ化チタン錯体などのアラルキルオキシ化チタン錯体、「ジメチルアミド」に置き換えたジメチルアミド化チタン錯体、「ジエチルアミド」に置き換えたジエチルアミド化チタン錯体などのアミド化チタン錯体も同様に例示される。
式(1)の遷移金属錯体として、好ましくは、[1−ジメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジエチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロテトラメチレン(フェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−エチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−メチルジフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−シクロヘキシルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−メチル(n−オクタデシル)フェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリ(4−n−ブチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−ジメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−n−ブチルメチル(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−メチルジ(4−メチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライドなどが挙げられ、さらに好ましくは[1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−メチルジフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、[1−トリス(3,5−ジメチルフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド、
[1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド
などが挙げられる。
[1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド
などが挙げられる。
<遷移金属錯体(5)>
遷移金属錯体(5)としては、下記の一般式(5)からなる遷移金属錯体を挙げることができる。
(式中、M5は元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、
A2は元素の周期律表の第16族の原子を表し、
J4は元素の周期律表の第14族の原子を表す。
Cp5はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
X10、X11、R14、R15、R16、及びR17は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R18及びR19は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R14、R15、R16及びR17のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、X10及びX11は結合してM5と一緒になって環を形成していてもよく、R18及びR19は結合してJ4と一緒になって環を形成していてもよい。)
遷移金属錯体(5)としては、下記の一般式(5)からなる遷移金属錯体を挙げることができる。
(式中、M5は元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、
A2は元素の周期律表の第16族の原子を表し、
J4は元素の周期律表の第14族の原子を表す。
Cp5はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
X10、X11、R14、R15、R16、及びR17は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R18及びR19は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基、
−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基、
または−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基を表し、
R14、R15、R16及びR17のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、X10及びX11は結合してM5と一緒になって環を形成していてもよく、R18及びR19は結合してJ4と一緒になって環を形成していてもよい。)
一般式(5)で示される錯体について詳細に説明する。M5における元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改定版1989)の第4族の遷移金属原子としては、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくは、チタン原子である。
A2における元素の周期律表の第16族の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原子などが挙げられ、好ましくは、酸素原子である。
J4として示される元素の周期律表の第14族の原子としては、例えば炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが挙げられる。好ましくは、炭素原子、ケイ素原子であり、より好ましくは炭素原子である。
置換基Cp5として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη5−シクロぺンタジエニル基、η5−メチルシクロペンタジエニル基、η5−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5−エチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−プロピルシクロペンタジエニル基、η5−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η5−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−sec−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−tert−ブチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η5−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η5−n−オクチルシクロぺンタジエニル基、η5−フェニルシクロぺンタジエニル基、η5−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η5−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−インデニル基、η5−メチルインデニル基、η5−ジメチルインデニル基、η5−エチルインデニル基、η5−n−プロピルインデニル基、η5−イソプロピルインデニル基、η5−n−ブチルインデニル基、η5−sec−ブチルインデニル基、η5−tert−ブチルインデニル基、η5−n−ペンチルインデニル基、η5−ネオペンチルインデニル基、η5−n−ヘキシルインデニル基、η5−n−オクチルインデニル基、η5−n−デシルインデニル基、η5−フェニルインデニル基、η5−メチルフェニルインデニル基、η5−ナフチルインデニル基、η5−トリメチルシリルインデニル基、η5−トリエチルシリルインデニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルインデニル基、η5−テトラヒドロインデニル基、η5−フルオレニル基、η5−メチルフルオレニル基、η5−ジメチルフルオレニル基、η5−エチルフルオレニル基、η5−ジエチルフルオレニル基、η5−n−プロピルフルオレニル基、η5−ジ−n−プロピルフルオレニル基、η5−イソプロピルフルオレニル基、η5−ジイソプロピルフルオレニル基、η5−n−ブチルフルオレニル基、η5−sec−ブチルフルオレニル基、η5−tert−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−n−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−sec−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−tert−ブチルフルオレニル基、η5−n−ペンチルフルオレニル基、η5−ネオペンチルフルオレニル基、η5−n−ヘキシルフルオレニル基、η5−n−オクチルフルオレニル基、η5−n−デシルフルオレニル基、η5−n−ドデシルフルオレニル基、η5−フェニルフルオレニル基、η5−ジ−フェニルフルオレニル基、η5−メチルフェニルフルオレニル基、η5−ナフチルフルオレニル基、η5−トリメチルシリルフルオレニル基、η5−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η5−トリエチルシリルフルオレニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などが挙げられ、好ましくはη5−シクロペンタジエニル基、η5−メチルシクロペンタジエニル基、η5−tert−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5−インデニル基、η5−フルオレニル基などである。
X10、X11、R14、R15、R16およびR17におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基などが挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、上記アラルキル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、上記アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数6〜20のアリールオキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、上記アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味する。該ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、上記アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基が挙げられる。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基において、R12はそれぞれ独立に、水素原子;炭素原子数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基など)、アリール基(フェニル基など)などのハイドロカルビル基;ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、3つのR12の炭素原子数の合計が1〜20の範囲である。この3つのR12の炭素原子数の合計は3〜18の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を1つ有する1置換シリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基及び、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を2つ有する2置換シリル基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、トリ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−n−ペンチルシリル基、トリ−n−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び/又はハロゲン化ハイドロカルビル基を3つ有する3置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは3置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
X10、X11、R14、R15、R16、R17、R18およびR19における−N(R13)2(2つのR13はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13にある炭素原子数の合計が2〜20である。)で示される2置換アミノ基において、R13はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、2つのR13の炭素原子数の合計が2〜20の範囲であり、2〜10の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この2つのR13は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる2置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−n−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−tert−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
R14、R15、R16及びR17のうち、隣接した2つの炭素原子に結合する2つの基は結合して、該2つの基が結合している2つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、R18及びR19は結合してそれらが結合しているJ4と一緒になって環を形成していてもよい。該環としては、例えば、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環などが挙げられ、具体的には、例えば、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環などを挙げることができる。これらの環は、炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基などで置換されていてもよい。
置換基X10、X11として好ましくは、ハロゲン原子、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子である。
R14として好ましくは、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、さらに好ましくは、tert−ブチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
R14として好ましくは、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、−Si(R12)3(3つのR12はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、3つのR12にある炭素原子数の合計が1〜20である。)で示される置換シリル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、さらに好ましくは、tert−ブチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
一般式(5)で示される遷移金属錯体は、例えば、特開平9−87313号公報に記載の方法などで製造することができる。
一般式(5)で示される錯体としては、例えばメチレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
メチレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、n−ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物、(シクロペンタジエニル)を(ジメチルシクロペンタジエニル)、(トリメチルシクロペンタジエニル)、(n−ブチルシクロペンタジエニル)、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)、(インデニル)に変更した化合物、3,5−ジメチル−2−フェノキシを2−フェノキシ、3−メチル−2−フェノキシ、3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ、3−フェニル−5−メチル−2−フェノキシ、3−tert−ブチルジメチルシリル−2−フェノキシ、3−トリメチルシリル−2−フェノキシに変更した化合物、メチレンをジエチルメチレンに変更した化合物などといった一般式(5)におけるJ4が炭素原子である遷移金属錯体ならびに
ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(インデニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
ジメチルシリレン(フルオレニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライドなどや、これらの化合物の(シクロペンタジエニル)を(ジメチルシクロペンタジエニル)、(トリメチルシクロペンタジエニル)、(エチルシクロペンタジエニル)、(n−プロピルシクロペンタジエニル)、(イソプロピルシクロペンタジエニル)、(sec−ブチルシクロペンタジエニル)、(イソブチルシクロペンタジエニル)、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)、(フェニルシクロペンタジエニル)、(メチルインデニル)、(フェニルインデニル)に変更した化合物、2−フェノキシを3−フェニル2−フェノキシ、3−トリメチルシリル−2−フェノキシ、3−tert−ブチルジメチルシリル−2−フェノキシに変更した化合物、ジメチルシリレンをジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、ジメトキシシリレンに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロマイド、アイオダイド、ハイドライド、メチル、フェニル、ベンジル、メトキシド、n−ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ベンジロキシド、ジメチルアミド、ジエチルアミドに変更した化合物といった一般式(5)におけるJ4が炭素原子以外の元素の周期律表の第14族の原子である遷移金属錯体が挙げられる。
式(1)の遷移金属錯体として、好ましくは、メチルフェニルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドなどが挙げられる。
<活性化助触媒成分>
活性化助触媒成分としては、次の化合物(A)及び化合物(B)を挙げることができ、る。化合物(A)と化合物(B)を併用してもよい。
化合物(A):下記化合物(A1)〜(A3)からなる化合物群から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物
(A1):一般式 (E1)aAl(G)3−aで表される有機アルミニウム化合物
(A2):一般式 {−Al(E2)−O−}bで表される構造を有する環状のアルミノキサン
(A3):一般式 E3{−Al(E3)−O−}cAl(E3)2で表される構造を有する線状のアルミノキサン
(式中、E1、E2およびE3は、炭素原子数1〜8のハイドロカルビル基を表し、Gは、水素原子またはハロゲン原子を表し、aは1〜3の整数を表し、bは2以上の整数を表し、cは1以上の整数を表す。E1が複数ある場合、複数のE1は互いに同じであっても異なっていてもよい。Gが複数ある場合、複数のGは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE2は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE3は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
化合物(B):下記化合物(B1)〜(B3)からなる化合物群から選ばれる1種以上のホウ素化合物
(B1):一般式 BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物
(B2):一般式T+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物
(B3):一般式(L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物
(式中、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q1、Q2、Q3およびQ4は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基、炭素原子数1〜20のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基または炭素原子数2〜20のジハイドロカルビルアミノ基を表し、T+は無機または有機のカチオンを表し、(L−H)+はブレンステッド酸を表す。)
活性化助触媒成分としては、次の化合物(A)及び化合物(B)を挙げることができ、る。化合物(A)と化合物(B)を併用してもよい。
化合物(A):下記化合物(A1)〜(A3)からなる化合物群から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物
(A1):一般式 (E1)aAl(G)3−aで表される有機アルミニウム化合物
(A2):一般式 {−Al(E2)−O−}bで表される構造を有する環状のアルミノキサン
(A3):一般式 E3{−Al(E3)−O−}cAl(E3)2で表される構造を有する線状のアルミノキサン
(式中、E1、E2およびE3は、炭素原子数1〜8のハイドロカルビル基を表し、Gは、水素原子またはハロゲン原子を表し、aは1〜3の整数を表し、bは2以上の整数を表し、cは1以上の整数を表す。E1が複数ある場合、複数のE1は互いに同じであっても異なっていてもよい。Gが複数ある場合、複数のGは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE2は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のE3は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
化合物(B):下記化合物(B1)〜(B3)からなる化合物群から選ばれる1種以上のホウ素化合物
(B1):一般式 BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物
(B2):一般式T+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物
(B3):一般式(L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物
(式中、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q1、Q2、Q3およびQ4は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基、炭素原子数1〜20のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基または炭素原子数2〜20のジハイドロカルビルアミノ基を表し、T+は無機または有機のカチオンを表し、(L−H)+はブレンステッド酸を表す。)
化合物(A1)〜(A3)において、E1、E2およびE3における炭素原子数1〜8のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数1〜8のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
一般式 (E1)aAl(G)3−aで表される有機アルミニウム化合物(A1)としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド
、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、
エチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、
エチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
(A2):式{−Al(E2)−O−}bで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は(A3)式E3{−Al(E3)−O−}cAlE3 2で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるE2及びE3としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基が挙げられる。bは2以上の整数であり、cは1以上の整数である。好ましくは、E2及びE3はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、bは2〜40であり、cは1〜40である。
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム(例えば、トリメチルアルミニウムなど)を適当な有機溶剤(ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど)に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム(例えば、トリメチルアルミニウムなど)を結晶水を含んでいる金属塩(例えば、硫酸銅水和物など)に接触させて作る方法が例示できる。
化合物(B1)〜(B3)において、Q1、Q2、Q3およびQ4は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基である。T+における無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。(BQ1Q2Q3Q4)−としては、例えば、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,4−トリフルオロフェニル)ボレート、フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸である(L−H)+としては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、N,N−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。
一般式 BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物(B1)としては、例えば、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4−トリフルオロフェニル)ボラン、フェニルビス(ペンタフルオロフェニル)ボランなどが挙げられる。
一般式T+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物(B2)としては、例えば、フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、1,1’−ビス−トリメチルシリルフェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、銀テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレートなどを挙げられる。
一般式(L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるボレート化合物(B3)としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ノルマルブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ノルマルブチル)アンモニウムテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、N,N−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ビス−トリメチルシリルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。
<オレフィン重合用触媒>
本発明のエチレン系重合体の製造に使用されるオレフィン重合用触媒は、一般式(1)で表される遷移金属錯体(1)と、一般式(5)で表される遷移金属錯体(5)と、上述した活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒である。
本発明のエチレン系重合体の製造に使用されるオレフィン重合用触媒は、一般式(1)で表される遷移金属錯体(1)と、一般式(5)で表される遷移金属錯体(5)と、上述した活性化助触媒成分とを接触させて得られる触媒である。
各触媒成分の使用量として、遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)のモル比(遷移金属錯体(1)/遷移金属錯体(5))は、通常0.0001〜100であり、好ましくは0.001〜1であり、より好ましくは、0.005〜0.5であり、さらに好ましくは、0.01〜0.15である。
各触媒成分の使用量としては、化合物(A)(アルミニウム原子換算)と触媒成分として使用する遷移金属錯体(遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)の合計)のモル比(化合物(A)(アルミニウム原子換算)/遷移金属錯体)は、通常0.01〜10000であり、好ましくは5〜5000である。また、化合物(B)と触媒成分として使用する遷移金属錯体(遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)の合計)のモル比(化合物(B)/遷移金属錯体)は、通常0.01〜100、好ましくは0.5〜10である。
また、化合物(A)中のアルミニウム原子のモルと固体触媒成分中のチタン原子のモルとの比(化合物(A)中のアルミニウム原子のモル/固体触媒成分中のチタン原子のモル)は、通常1〜10000であり、好ましくは1〜2000であり、より好ましくは2〜600である。
各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体の濃度は、通常0.0001〜5ミリモル/リットルであり、好ましくは、0.001〜2ミリモル/リットルであり、より好ましくは0.01〜1ミリモル/リットルである。化合物(A)の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常0.01〜500ミリモル/リットルであり、好ましくは、5〜200ミリモル/リットルである。化合物(B)の濃度は、通常0.0001〜5ミリモル/リットルであり、好ましくは、0.001〜2ミリモル/リットルであり、より好ましくは0.01〜1ミリモル/リットルである。
各触媒成分は担体に担持して使用してもよい。担体としては、多孔質物質が好適に用いられ、無機物質または有機ポリマーがより好適に用いられ、無機物質がさらに好適に用いられる。担体については後述する。
各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)と活性化助触媒成分とを予め接触させて重合用触媒を調製し、該重合用触媒を重合反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で重合反応器に供給し、重合反応器内で接触処理を行ってもよい。重合反応器には、遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)とを予め接触させたもの(遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)とを同時に製造したものも含む)を供給してもよく、遷移金属錯体(1)と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよく、遷移金属錯体(5)と活性化助触媒成分とを予め接触させたものを供給してもよい。
(担体)
担体に用いられる無機物質の例としては、無機酸化物、マグネシウム化合物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわない。
担体に用いられる無機物質の例としては、無機酸化物、マグネシウム化合物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわない。
担体に用いられる無機酸化物の具体例としては、SiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2等、およびこれらの混合物、例えば、SiO2−MgO、SiO2−Al2O3、SiO2−TiO2、SiO2−V2O5、SiO2−Cr2O3、SiO2−TiO2−MgOなどを例示することができる。これらの無機酸化物の中では、SiO2、Al2O3が好ましく、SiO2がより好ましい。なお、上記無機酸化物には少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2、Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわない。
また、無機酸化物には通常、表面に水酸基が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸化物を使用してもよく、該置換基としては、置換基はシリル基が好ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチルクロロシランやtert−ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処理した無機酸化物が挙げられる。
担体に用いられるマグネシウム化合物としては、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化マグネシウムなどのハロゲン化マグネシウム;メトキシ塩化マグネシウム、エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネシウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マグネシウムなどのアルコキシマグネシウムハライド; フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マグネシウムなどのアリロキシマグネシウムハライド;エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、ブトキシマグネシウム、n−オクトキシマグネシウム、2−エチルヘキソキシマグネシウムなどのアルコキシマグネシウム;フェノキシマグネシウム、ジメチルフェノキシマグネシウムなどのアリロキシマグネシウム;ラウリン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムなどのマグネシウムのカルボン酸塩などを例示することができる。これらの中で好ましくは、ハロゲン化マグネシウムまたはアルコキシマグネシウムであり、さらに好ましくは塩化マグネシウムまたはブトキシマグネシウムである。
担体に用いられる粘土または粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。これらの中で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ラポナイトまたはサポナイトであり、さらに好ましくはモンモリロナイトまたはヘクトライトである。
担体に用いられる無機物質としては、無機酸化物が好ましい。
担体に用いられるこれらの無機物質としては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常100〜1500℃であり、好ましくは100〜1000℃であり、さらに好ましくは200〜800℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは10分間〜50時間、より好ましくは1時間〜30時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
無機物質からなる担体の平均粒子径は、好ましくは5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μmであり、さらに好ましくは10〜100μmである。無機物質からなる担体の細孔容量は、好ましくは0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3〜10ml/gである。無機物質からなる担体の比表面積は、好ましくは10〜1000m2/gであり、より好ましくは100〜500m2/gである。
担体に用いられる有機ポリマーとしては、特に制限はなく、また2種以上の有機ポリマーを混合物として用いても構わないが、活性水素を有する基および/または非プロトン供与性のルイス塩基性基を有する重合体が好ましい。
活性水素を有する基としては、活性水素を有しておれば特に制限はなく、具体例としては1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基である。特に好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
非プロトン供与性のルイス塩基性基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、N−置換イミノ基、N,N−置換アミノ基、N,N−置換アミノオキシ基、N,N,N−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、N,N−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに好ましくは、酸素原子および/または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基であり、特に好ましくは、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基またはN−置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。
重合体中のかかる活性水素を有する基および非プロトン供与性のルイス塩基性基の量としては、重合体単位グラム当りの該基のモル量は、好ましくは0.01〜50mmol/gであり、より好ましくは0.1〜20mmol/gである。
かかる基を有する重合体は、例えば、活性水素を有する基および/または非プロトン供与性のルイス塩基性基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合することにより、またはこれと重合性不飽和基を1個以上有する他のモノマーとを共重合することにより得ることができる。また、該他のモノマーの少なくとも1種に、重合性不飽和基を2個以上有する架橋重合性モノマーを用いることが好ましい。
かかる活性水素を有する基および/または非プロトン供与性のルイス塩基性基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーとしては、上記の活性水素を有する基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマー、上記の活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーなどを挙げることができる。かかる重合性不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基;エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。
活性水素を有する基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの例としては、ビニル基含有1級アミン、ビニル基含有2級アミン、ビニル基含有アミド化合物、ビニル基含有ヒドロキシ化合物等を挙げることができる。具体例としては、N−(1−エテニル)アミン、N−(2−プロペニル)アミン、N−(1−エテニル)−N−メチルアミン、N−(2−プロペニル)−N−メチルアミン、1−エテニルアミド、2−プロペニルアミド、N−メチル−(1−エテニル)アミド、N−メチル−(2−プロペニル)アミド、ビニルアルコール、2−プロペン−1−オール、3−ブテン−1−オール等が挙げられる。
非プロトン供与性のルイス塩基性基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーの具体例としては、ビニルピリジン、ビニル(N−置換)イミダゾール、ビニル(N−置換)インダゾール等を挙げることができる。
重合性不飽和基を1個以上有する他のモノマーとしては、オレフィン、芳香族ビニル化合物等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは2種以上を用いてもよい。また、重合性不飽和基を2個以上有する架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
有機ポリマーからなる担体の平均粒子径は、好ましくは5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μmである。有機ポリマーからなる担体の細孔容量は、好ましくは0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3〜10ml/gである。有機ポリマーからなる担体の比表面積は、好ましくは10〜1000m2/gであり、より好ましくは50〜500m2/gである。
担体に用いられるこれらの有機ポリマーとしては、加熱処理により乾燥させたものが好ましく用いられる。該加熱処理の温度は、通常30〜400℃であり、好ましくは50〜200℃であり、さらに好ましくは70〜150℃である。該加熱処理の時間は特に限定されるものではないが、好ましくは10分間〜50時間、より好ましくは1時間〜30時間である。該加熱処理の方法としては、加熱した上で、例えば、乾燥された不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で数時間以上流通させる方法、あるいは、数時間減圧する方法等が挙げられるが、その方法は限定されることはない。
担体の粒径の体積基準の幾何標準偏差は、好ましくは2.5以下であり、より好ましくは2.0以下であり、さらに好ましくは1.7以下である。
<重合>
本発明は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法である。重合では、原料モノマーとしてエチレンのみを供給して重合を行ってもよく、エチレンと共重合可能なモノマーとエチレンとを供給して重合を行ってもよい。
本発明は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法である。重合では、原料モノマーとしてエチレンのみを供給して重合を行ってもよく、エチレンと共重合可能なモノマーとエチレンとを供給して重合を行ってもよい。
エチレンと共重合可能なモノマーとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセンなどの炭素原子数3〜20のオレフィン;ノルボルネンなどの環状オレフィン;スチレンなどのアルケニル芳香族ハイドロカルビル;アクリル酸、メタクリル酸などの不飽和カルボン酸;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの不飽和カルボン酸エステル;酢酸ビニルなどのビニルエステル化合物などが挙げられる。これらは単独で用いられていてもよく、2種以上を用いられてもよい。
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能である。また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
溶液重合とスラリー重合の場合、重合液中でのオレフィン重合用触媒の濃度は、触媒成分として使用する遷移金属錯体(遷移金属錯体(1)と遷移金属錯体(5)の合計)のモル換算として、通常0.0001〜5ミリモル/リットルである。オレフィン重合用触媒の濃度は、経済性を高めるために、好ましくは2ミリモル/リットル以下であり、より好ましくは1ミリモル/リットル以下である。また、オレフィン重合用触媒の濃度は、長鎖分岐の数をより高めるために、好ましくは0.001ミリモル/リットル以上であり、より好ましくは0.01ミリモル/リットル以上であり、さらに好ましくは0.1ミリモル/リットル以上であり、特に好ましくは0.5ミリモル/リットル以上である。
重合圧力は、常圧〜5MPaが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、1分間〜20時間の範囲を取ることができる。また、エチレン系重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
本発明のエチレン系重合体を製造する際の重合温度は、通常0〜220℃である。重合温度は、高い重合活性を得るために好ましくは、20℃以上であり、より好ましくは40℃以上であり、特に好ましくは、70℃以上である。また、重合温度は、触媒の安定性を高めるために、好ましくは130℃以下であり、より好ましくは100℃以下である。
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
<遷移金属錯体の製造>
物性測定は次の方法で行った。
(1)プロトン核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)
装置:日本電子社製 EX270
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:10mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMOD NON、OBNUC 1H、積算回数64回
繰り返し時間:ACQTM 6秒、PD 1秒
内部標準:CDCl3(7.26ppm)
物性測定は次の方法で行った。
(1)プロトン核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)
装置:日本電子社製 EX270
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:10mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMOD NON、OBNUC 1H、積算回数64回
繰り返し時間:ACQTM 6秒、PD 1秒
内部標準:CDCl3(7.26ppm)
(2)カーボン核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)
装置:日本電子社製 EX270
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:30mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMOD BCM、OBNUC 13C、積算回数2560回
繰り返し時間:ACQTM 1.79秒、PD 1.21秒
内部標準:CDCl3(77ppm)
装置:日本電子社製 EX270
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:30mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、EXMOD BCM、OBNUC 13C、積算回数2560回
繰り返し時間:ACQTM 1.79秒、PD 1.21秒
内部標準:CDCl3(77ppm)
(3)質量スペクトル
[電子イオン化質量分析(EI−MS)]
装置:日本電子社製 JMS−T100GC
イオン化電圧:70eV
イオン源温度:230℃
加速電圧:7kV
MASS RANGE:m/z 35−800
[電子イオン化質量分析(EI−MS)]
装置:日本電子社製 JMS−T100GC
イオン化電圧:70eV
イオン源温度:230℃
加速電圧:7kV
MASS RANGE:m/z 35−800
[参考例1]
「[1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体1」という。)の合成」
「[1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体1」という。)の合成」
「1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.80g、33.47mmol)、テトラヒドロフラン(38mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.21g、2.23mmol)を加え、50℃で1時間攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(3.00g、24.55mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間攪拌した。これを0℃に冷却し、この溶液にクロロ(n−ブチル)メチルフェニルシラン(4.75g、22.32mmol)をトルエン(10mL)に溶解させた溶液を滴下し、35℃で2時間攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸水素ナトリウム(24mL)と10%炭酸ナトリウム(24mL)の混合溶液に滴下した。トルエン(24mL)を加えて分液し、油相を水(40mL)で洗浄し、さらに飽和食塩水(20mL)で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(5.16g、収率77.4%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.13(s、3H)、0.66−0.90(m、2H)、0.84(t、J=7.0Hz、3H)、1.15−1.35(m、4H)、1.67(s、3H)、1.71(s、3H)、1.73(s、3H)、1.80(s、3H)、3.10(s、1H)、7.29−7.36(m、3H)、7.41−7.47(m、2H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):298(M+)
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.80g、33.47mmol)、テトラヒドロフラン(38mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.21g、2.23mmol)を加え、50℃で1時間攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(3.00g、24.55mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間攪拌した。これを0℃に冷却し、この溶液にクロロ(n−ブチル)メチルフェニルシラン(4.75g、22.32mmol)をトルエン(10mL)に溶解させた溶液を滴下し、35℃で2時間攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸水素ナトリウム(24mL)と10%炭酸ナトリウム(24mL)の混合溶液に滴下した。トルエン(24mL)を加えて分液し、油相を水(40mL)で洗浄し、さらに飽和食塩水(20mL)で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(5.16g、収率77.4%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.13(s、3H)、0.66−0.90(m、2H)、0.84(t、J=7.0Hz、3H)、1.15−1.35(m、4H)、1.67(s、3H)、1.71(s、3H)、1.73(s、3H)、1.80(s、3H)、3.10(s、1H)、7.29−7.36(m、3H)、7.41−7.47(m、2H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):298(M+)
「錯体1の合成」
窒素雰囲気下、1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(2.30g、7.70mmol)、トリエチルアミン(1.95g、19.25mmol)のトルエン溶液(23mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.55Mヘキサン溶液(6.21mL、9.63mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、35℃で2.5時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(2.19g、11.55mmol)をトルエン(12mL)に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を60℃にした後、同温度で2時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、沈殿した白色固体を濾過で除去した濾液を−20℃に冷却した。得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体1(0.25g、収率7.2%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.76(s、3H)、0.87(t、J=7.0Hz、3H)、1.23−1.42(m、6H)、2.27(s、3H)、2.28(s、3H)、2.36(s、3H)、2.46(s、3H)、7.30−7.42(m、3H)、7.43−7.52(m、2H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):−2.61、13.69、14.13、14.32、14.90、17.71、17.81、25.86、26.51、128.01、129.53、134.45、136.25、139.44、141.96、142.47、144.63、144.92
質量スペクトル(EI−MS、m/z):393(M+−Bu)
窒素雰囲気下、1−n−ブチルメチルフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(2.30g、7.70mmol)、トリエチルアミン(1.95g、19.25mmol)のトルエン溶液(23mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.55Mヘキサン溶液(6.21mL、9.63mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、35℃で2.5時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(2.19g、11.55mmol)をトルエン(12mL)に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を60℃にした後、同温度で2時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、沈殿した白色固体を濾過で除去した濾液を−20℃に冷却した。得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体1(0.25g、収率7.2%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.76(s、3H)、0.87(t、J=7.0Hz、3H)、1.23−1.42(m、6H)、2.27(s、3H)、2.28(s、3H)、2.36(s、3H)、2.46(s、3H)、7.30−7.42(m、3H)、7.43−7.52(m、2H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):−2.61、13.69、14.13、14.32、14.90、17.71、17.81、25.86、26.51、128.01、129.53、134.45、136.25、139.44、141.96、142.47、144.63、144.92
質量スペクトル(EI−MS、m/z):393(M+−Bu)
[参考例2]
「触媒成分1の合成」
窒素下で、2−アリロキシ−1−ブロモ−3−tert−ブチル−5−メチルベンゼン(25.00g、88.28mmol)をトルエン289mLに溶解させた。−78℃に冷却した後、n−ブチルリチウムの1.58Mヘキサン溶液(72.63mL、114.76mmol)を滴下し、−15℃まで徐々に昇温させた。−15℃で1.5時間攪拌した後、−78℃に冷却した。ジクロロメチルフェニルシラン(50.62g、264.83mmol)を一気に加えて、室温まで徐々に昇温させた。50℃で1時間攪拌した後、溶媒を減圧濃縮した。ヘキサンを加えて、不溶物をセライト濾過で除去し、溶媒を減圧濃縮した。さらに70℃で減圧濃縮を3時間続け、残渣A(29.29g)を得た。
窒素下で水素化ナトリウム(60wt%、0.89g、22.32mmol)に、THF43mLを加えた。この水素化ナトリウムのTHFスラリーを50℃に昇温した。アニリン(0.14g、1.49mmol)を加え、50℃でさらに1時間攪拌した。1,2,3,4−テトラメチル−1,3−シクロペンタジエン(2.00g、16.37mmol)をTHF11mLに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、水素ガスの発生が収まるまで50℃でさらに2時間攪拌した。20℃まで冷却した後、残渣A(6.91g)をトルエン11mLに溶解させた溶液を滴下し、室温で3時間攪拌を続けた。10%の炭酸水素ナトリウム水溶液27mLと10%の炭酸ナトリウム水溶液27mLを0℃に冷却した混合溶液へ得られた反応溶液を滴下して反応を停止させ、トルエン27mLを加えて分液した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧濃縮することにより、残渣B(9.80g)を得た。
窒素下、残渣B(9.79g)、トリエチルアミン(6.78g、66.99mmol)のトルエン溶液(104mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.60Mヘキサン溶液(20.93mL、33.49mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で3時間攪拌した。得られた混合物に、四塩化チタン(4.24g、22.33mmol)をトルエン(22mL)に溶解したものを滴下し、室温まで徐々に昇温させた。90℃まで昇温させた後、90℃で2時間攪拌した。溶媒を減圧下で濃縮した後、熱ヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加えて沈殿した固体を濾過することにより触媒成分(以下、「触媒成分1」という。)(1.29g)を得た。この触媒成分は、ほぼメチルフェニルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドであり、これに対して2mol%の錯体1が含まれていた(0.76ppmの積分値より計算)。
「触媒成分1の合成」
窒素下で、2−アリロキシ−1−ブロモ−3−tert−ブチル−5−メチルベンゼン(25.00g、88.28mmol)をトルエン289mLに溶解させた。−78℃に冷却した後、n−ブチルリチウムの1.58Mヘキサン溶液(72.63mL、114.76mmol)を滴下し、−15℃まで徐々に昇温させた。−15℃で1.5時間攪拌した後、−78℃に冷却した。ジクロロメチルフェニルシラン(50.62g、264.83mmol)を一気に加えて、室温まで徐々に昇温させた。50℃で1時間攪拌した後、溶媒を減圧濃縮した。ヘキサンを加えて、不溶物をセライト濾過で除去し、溶媒を減圧濃縮した。さらに70℃で減圧濃縮を3時間続け、残渣A(29.29g)を得た。
窒素下で水素化ナトリウム(60wt%、0.89g、22.32mmol)に、THF43mLを加えた。この水素化ナトリウムのTHFスラリーを50℃に昇温した。アニリン(0.14g、1.49mmol)を加え、50℃でさらに1時間攪拌した。1,2,3,4−テトラメチル−1,3−シクロペンタジエン(2.00g、16.37mmol)をTHF11mLに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、水素ガスの発生が収まるまで50℃でさらに2時間攪拌した。20℃まで冷却した後、残渣A(6.91g)をトルエン11mLに溶解させた溶液を滴下し、室温で3時間攪拌を続けた。10%の炭酸水素ナトリウム水溶液27mLと10%の炭酸ナトリウム水溶液27mLを0℃に冷却した混合溶液へ得られた反応溶液を滴下して反応を停止させ、トルエン27mLを加えて分液した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧濃縮することにより、残渣B(9.80g)を得た。
窒素下、残渣B(9.79g)、トリエチルアミン(6.78g、66.99mmol)のトルエン溶液(104mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.60Mヘキサン溶液(20.93mL、33.49mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で3時間攪拌した。得られた混合物に、四塩化チタン(4.24g、22.33mmol)をトルエン(22mL)に溶解したものを滴下し、室温まで徐々に昇温させた。90℃まで昇温させた後、90℃で2時間攪拌した。溶媒を減圧下で濃縮した後、熱ヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加えて沈殿した固体を濾過することにより触媒成分(以下、「触媒成分1」という。)(1.29g)を得た。この触媒成分は、ほぼメチルフェニルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドであり、これに対して2mol%の錯体1が含まれていた(0.76ppmの積分値より計算)。
[参考例3]
「ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド(以下、錯体2という。)の合成」
特開平9−87313号公報の実施例53に記載の方法に準じて、錯体2を製造した。
「ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド(以下、錯体2という。)の合成」
特開平9−87313号公報の実施例53に記載の方法に準じて、錯体2を製造した。
[参考例4]
「[1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体3」という。)の合成」
「[1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体3」という。)の合成」
「1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.96g、40.00mmol)、テトラヒドロフラン(43mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.25g、2.67mmol)を加え、50℃で2時間半攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(3.42g、28.00mmol)をテトラヒドロフラン(11mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間半攪拌した。これを0℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル(4−メトキシフェニル)シラン(5.35g、26.67mmol)をトルエン(11mL)に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸ナトリウム水溶液(56ml)に滴下した。トルエン(80mL)を加えて分液し、油相を水(80mL)で2回洗浄し、さらに飽和食塩水(50mL)で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(7.30g、収率95.5%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.18(s、6H)、1.75(s、6H)、1.77(s、6H)、3.06(s、1H)、3.83(s、3H)、6.90(d、J=8.6Hz、2H)、7.39(d、J=8.7Hz、2H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):286(M+)
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.96g、40.00mmol)、テトラヒドロフラン(43mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.25g、2.67mmol)を加え、50℃で2時間半攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(3.42g、28.00mmol)をテトラヒドロフラン(11mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間半攪拌した。これを0℃に冷却し、この溶液にクロロジメチル(4−メトキシフェニル)シラン(5.35g、26.67mmol)をトルエン(11mL)に溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸ナトリウム水溶液(56ml)に滴下した。トルエン(80mL)を加えて分液し、油相を水(80mL)で2回洗浄し、さらに飽和食塩水(50mL)で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(7.30g、収率95.5%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.18(s、6H)、1.75(s、6H)、1.77(s、6H)、3.06(s、1H)、3.83(s、3H)、6.90(d、J=8.6Hz、2H)、7.39(d、J=8.7Hz、2H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):286(M+)
「錯体3の合成」
窒素雰囲気下、1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(2.01g、7.00mmol)、トリエチルアミン(3.54g、35.00mmol)のトルエン溶液(48mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.65Mヘキサン溶液(5.09mL、8.40mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で2時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(1.46g、7.70mmol)をトルエン(8mL)に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体3(0.48g、収率15.6%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.73(s、6H)、2.32(s、6H)、2.39(s、6H)、3.81(s、3H)、6.90(d、J=8.7Hz、2H)、7.39(d、J=8.7Hz、2H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):0.50、14.35、17.81、55.20、114.00、128.16、135.71、139.59、142.33、145.04、160.98
質量スペクトル(EI−MS、m/z):438(M+)
窒素雰囲気下、1−ジメチル(4−メトキシフェニル)シリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(2.01g、7.00mmol)、トリエチルアミン(3.54g、35.00mmol)のトルエン溶液(48mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.65Mヘキサン溶液(5.09mL、8.40mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で2時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(1.46g、7.70mmol)をトルエン(8mL)に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体3(0.48g、収率15.6%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):0.73(s、6H)、2.32(s、6H)、2.39(s、6H)、3.81(s、3H)、6.90(d、J=8.7Hz、2H)、7.39(d、J=8.7Hz、2H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):0.50、14.35、17.81、55.20、114.00、128.16、135.71、139.59、142.33、145.04、160.98
質量スペクトル(EI−MS、m/z):438(M+)
[参考例5]
「[1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体4」という。)の合成」
「[1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド(以下、「錯体4」という。)の合成」
「1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.54g、22.32mmol)、テトラヒドロフラン(35mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.14g、1.49mmol)を加え、50℃で1時間攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(2.00g、16.37mmol)をテトラヒドロフラン(9mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間攪拌した。これを20℃に冷却し、この溶液にクロロトリフェニルシラン(4.39g、14.88mmol)をトルエン(9mL)に溶解させた溶液を滴下し、35℃で終夜攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸水素ナトリウム(22mL)と10%炭酸ナトリウム(22mL)の混合溶液に滴下した。トルエン(22mL)を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(3.76g、収率66.3%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.55(s、6H)、1.57(s、6H)、3.77(s、1H)、7.27−7.42(m、9H)、7.54−7.63(m、6H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):380(M+)
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化ナトリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した後(水素化ナトリウムとして0.54g、22.32mmol)、テトラヒドロフラン(35mL)を加えた。この混合物を50℃に昇温し、アニリン(0.14g、1.49mmol)を加え、50℃で1時間攪拌した。ここに1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ−1,3−ジエン(2.00g、16.37mmol)をテトラヒドロフラン(9mL)に溶解させた溶液を滴下し、50℃で2時間攪拌した。これを20℃に冷却し、この溶液にクロロトリフェニルシラン(4.39g、14.88mmol)をトルエン(9mL)に溶解させた溶液を滴下し、35℃で終夜攪拌した。得られた混合物を0℃で10%炭酸水素ナトリウム(22mL)と10%炭酸ナトリウム(22mL)の混合溶液に滴下した。トルエン(22mL)を加えて分液した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮することにより、1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエンを得た(3.76g、収率66.3%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.55(s、6H)、1.57(s、6H)、3.77(s、1H)、7.27−7.42(m、9H)、7.54−7.63(m、6H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):380(M+)
「錯体4の合成」
窒素雰囲気下、1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(1.42g、4.45mmol)、トリエチルアミン(2.25g、22.24mmol)のトルエン溶液(28mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.55Mヘキサン溶液(3.44mL、5.34mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、35℃で3時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(0.93g、4.89mmol)をトルエン(5mL)に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を35℃にした後、同温度で1時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体4(0.07g、収率3.1%)をオレンジ色固体として得た。また上記ヘプタンを加えて除去した不溶物にトルエンを加えて濾過することによりさらにトルエン不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体4(0.34g、収率14.5%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):2.05(s、6H)、2.36(s、6H)、7.32−7.49(m、9H)、7.59−7.65(m、6H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):14.48、17.76、127.96、130.07、132.99、136.93、142.35、146.04
質量スペクトル(EI−MS、m/z):532(M+)
窒素雰囲気下、1−トリフェニルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエン(1.42g、4.45mmol)、トリエチルアミン(2.25g、22.24mmol)のトルエン溶液(28mL)に、−78℃でn−ブチルリチウムの1.55Mヘキサン溶液(3.44mL、5.34mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、35℃で3時間攪拌した。得られた混合物を−78℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン(0.93g、4.89mmol)をトルエン(5mL)に溶解させた溶液を滴下した。再び、昇温し、内温を35℃にした後、同温度で1時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体4(0.07g、収率3.1%)をオレンジ色固体として得た。また上記ヘプタンを加えて除去した不溶物にトルエンを加えて濾過することによりさらにトルエン不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンを加え、得られた固体を濾過して少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体4(0.34g、収率14.5%)をオレンジ色固体として得た。
1H−NMR(CDCl3、δppm):2.05(s、6H)、2.36(s、6H)、7.32−7.49(m、9H)、7.59−7.65(m、6H)
13C−NMR(CDCl3、δppm):14.48、17.76、127.96、130.07、132.99、136.93、142.35、146.04
質量スペクトル(EI−MS、m/z):532(M+)
<エチレン系重合体の製造>
実施例および比較例における各項目の測定値は、次の方法に従って測定した。測定試料には必要におうじて、予め酸化防止剤を適量(例えば1000ppm)を配合した。
実施例および比較例における各項目の測定値は、次の方法に従って測定した。測定試料には必要におうじて、予め酸化防止剤を適量(例えば1000ppm)を配合した。
(4)極限粘度([η]、単位:dl/g)
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール(BHT)を0.5g/Lの濃度で溶解したテトラリン溶液(以下、ブランク溶液と称する。)と、エチレン系重合体を濃度が1mg/mlとなるようにブランク溶液に溶解した溶液(以下、サンプル溶液と称する。)とを調製し、ウベローデ型粘度計により、ブランク溶液とサンプル溶液の135℃での降下時間を測定した。該降下時間から135℃での相対粘度(ηrel)を求めた後、下記式から極限粘度[η]を算出した。
[η]=23.3×log(ηrel)
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール(BHT)を0.5g/Lの濃度で溶解したテトラリン溶液(以下、ブランク溶液と称する。)と、エチレン系重合体を濃度が1mg/mlとなるようにブランク溶液に溶解した溶液(以下、サンプル溶液と称する。)とを調製し、ウベローデ型粘度計により、ブランク溶液とサンプル溶液の135℃での降下時間を測定した。該降下時間から135℃での相対粘度(ηrel)を求めた後、下記式から極限粘度[η]を算出した。
[η]=23.3×log(ηrel)
(5)流動の活性化エネルギー(Ea)(単位:kJ/mol)
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線のマスターカーブを作成し、活性化エネルギー(Ea)を求めた。
(測定条件)
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線のマスターカーブを作成し、活性化エネルギー(Ea)を求めた。
(測定条件)
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
(6)分子量分布(Mw/Mn、Mz/Mw)
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ(GPC)法を用いて、下記の条件(1)〜(8)により、重合体のz平均分子量(Mz)、重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、Mw/MnとMz/Mwを求めた。
(1)装置:Waters製Waters150C
(2)分離カラム:TOSOH TSKgelGMH6−HT 2本
(3)測定温度:140℃
(4)キャリア:オルトジクロロベンゼン
(5)流量:1.0mL/分
(6)注入量:500μL
(7)検出器:示差屈折
(8)分子量標準物質:標準ポリスチレン
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ(GPC)法を用いて、下記の条件(1)〜(8)により、重合体のz平均分子量(Mz)、重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、Mw/MnとMz/Mwを求めた。
(1)装置:Waters製Waters150C
(2)分離カラム:TOSOH TSKgelGMH6−HT 2本
(3)測定温度:140℃
(4)キャリア:オルトジクロロベンゼン
(5)流量:1.0mL/分
(6)注入量:500μL
(7)検出器:示差屈折
(8)分子量標準物質:標準ポリスチレン
(7)貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の測定
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など。)を用いて、下記測定条件で190℃での貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線、および損失弾性率(G’’)−角周波数曲線、を測定し、角周波数0.1rad/秒で測定された貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の値から、(G’/G’’)の値を求めた。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など。)を用いて、下記測定条件で190℃での貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線、および損失弾性率(G’’)−角周波数曲線、を測定し、角周波数0.1rad/秒で測定された貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の値から、(G’/G’’)の値を求めた。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
(8)貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)
上記測定条件で測定された、貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線、および損失弾性率(G’’)−角周波数曲線において、190℃における、角周波数が0.1rad/秒であるときの貯蔵弾性率(G’)および損失弾性率(G’’)の値から、(G’/G’’)の値を求めた。
上記測定条件で測定された、貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線、および損失弾性率(G’’)−角周波数曲線において、190℃における、角周波数が0.1rad/秒であるときの貯蔵弾性率(G’)および損失弾性率(G’’)の値から、(G’/G’’)の値を求めた。
(9)貯蔵弾性率(G’)の測定
上記測定条件で測定された、貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線において、190℃、角周波数0.1rad/秒における貯蔵弾性率(G’)の値を求めた。
上記測定条件で測定された、貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線において、190℃、角周波数0.1rad/秒における貯蔵弾性率(G’)の値を求めた。
(10)190℃における、角周波数が0.1〜10000の間の、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線のマスターカーブ、および貯蔵弾性率(G’’)−角周波数曲線を作成し、190℃における、角周波数が0.1〜10000の間の、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係、および貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)が交わる角周波数(以下、「ωx」と記載することがある。)を求めた。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での貯蔵弾性率(G’)−角周波数曲線のマスターカーブ、および貯蔵弾性率(G’’)−角周波数曲線を作成し、190℃における、角周波数が0.1〜10000の間の、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係、および貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)が交わる角周波数(以下、「ωx」と記載することがある。)を求めた。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
(11)特性緩和時間(τ、単位:秒)
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線のマスターカーブを作成し、活性化エネルギー(Ea)を求めた。
(測定条件)
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など)を用いて、下記測定条件で130℃、150℃、170℃、190℃、210℃、230℃、での重合体の溶融複素粘度−角周波数曲線を3点以上測定し、次に、得られた溶融複素粘度−角周波数曲線から、Rheometrics社製計算ソフトウェア Rhios V.4.4.4を用いて、190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線のマスターカーブを作成し、活性化エネルギー(Ea)を求めた。
(測定条件)
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
(12)ブレンド体の調製
直鎖状ポリエチレンであるスミカセンL、FS150(住友化学社製)4.75gとエチレン系重合体0.25gを、樹脂の合計に対して酸化防止剤(BHT)が1000ppm添加されたキシレン100ml(140℃)で溶解させた後、エタノールで再沈殿させてブレンド体を調製した。
直鎖状ポリエチレンであるスミカセンL、FS150(住友化学社製)4.75gとエチレン系重合体0.25gを、樹脂の合計に対して酸化防止剤(BHT)が1000ppm添加されたキシレン100ml(140℃)で溶解させた後、エタノールで再沈殿させてブレンド体を調製した。
(13)ブレンド体の伸張粘度非線形指数(λ)の測定
伸張粘度非線形指数(λ)は、伸張粘度測定装置(例えば、TAインスツルメント社製ARESなど。)を用いて、150℃の温度およびHencky歪における1s-1の歪速度で一軸伸張したときの溶融樹脂の粘度−時間曲線σ1(t)を、150℃の温度およびHencky歪における0.1s-1の歪速度で一軸伸張したときの溶融樹脂の粘度−時間曲線σ0.1(t)で割って得られる曲線
λ(t)=σ1(t)/σ0.1(t)
において、λ(t)が最大となるときの値をλとした。
なお、測定試験片としては、プレス成形して得られる18mm×10mm、厚さ0.7mm、のシ一トを用いた。
伸張粘度非線形指数(λ)は、伸張粘度測定装置(例えば、TAインスツルメント社製ARESなど。)を用いて、150℃の温度およびHencky歪における1s-1の歪速度で一軸伸張したときの溶融樹脂の粘度−時間曲線σ1(t)を、150℃の温度およびHencky歪における0.1s-1の歪速度で一軸伸張したときの溶融樹脂の粘度−時間曲線σ0.1(t)で割って得られる曲線
λ(t)=σ1(t)/σ0.1(t)
において、λ(t)が最大となるときの値をλとした。
なお、測定試験片としては、プレス成形して得られる18mm×10mm、厚さ0.7mm、のシ一トを用いた。
(14)溶融複素粘度(η*、単位:Pa・sec)
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など。)を用いて、下記測定条件で190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線を測定し、角周波数100rad/秒で測定された溶融複素粘度を求めた。該溶融複素粘度が低いほど、押出成形時の押出負荷に優れる。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
粘弾性測定装置(例えば、Rheometrics社製Rheometrics Mechanical Spectrometer RMS−800など。)を用いて、下記測定条件で190℃での溶融複素粘度−角周波数曲線を測定し、角周波数100rad/秒で測定された溶融複素粘度を求めた。該溶融複素粘度が低いほど、押出成形時の押出負荷に優れる。
<測定条件>
ジオメトリー:パラレルプレート
プレート直径:25mm
プレート間隔:1.5〜2mm
ストレイン :5%
角周波数 :0.1〜100rad/秒
測定雰囲気 :窒素
(15)炭素原子1000個当りの各アルキル分岐と長鎖分岐の数
カーボン核磁気共鳴(13C−NMR)法によって、次の測定条件により、重合体のカーボン核磁気共鳴(13C−NMR)スペクトルを測定し、下記算出方法より、重合体中の炭素原子数1000個当りの各アルキル分岐と長鎖分岐の数を求めた。
カーボン核磁気共鳴(13C−NMR)法によって、次の測定条件により、重合体のカーボン核磁気共鳴(13C−NMR)スペクトルを測定し、下記算出方法より、重合体中の炭素原子数1000個当りの各アルキル分岐と長鎖分岐の数を求めた。
(測定条件)
装置 :Bruker社製 AVANCE600
測定プローブ:10mmクライオプローブ
測定溶媒:1,2−ジクロロベンゼン/1,2−ジクロロベンゼン−d4
=75/25(容積比)の混合液
測定温度:130℃
測定方法:プロトンデカップリング法
パルス幅:45度
パルス繰り返し時間:4秒
測定基準:テトラメチルシラン
窓関数 :エクスポネンシャルまたはガウシャン
積算回数:2500
装置 :Bruker社製 AVANCE600
測定プローブ:10mmクライオプローブ
測定溶媒:1,2−ジクロロベンゼン/1,2−ジクロロベンゼン−d4
=75/25(容積比)の混合液
測定温度:130℃
測定方法:プロトンデカップリング法
パルス幅:45度
パルス繰り返し時間:4秒
測定基準:テトラメチルシラン
窓関数 :エクスポネンシャルまたはガウシャン
積算回数:2500
(メチル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、19〜20ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をメチル分岐の数とした。
(エチル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、39.5〜40.0ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をエチル分岐の数とした。
(プロピル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、14.3〜14.8ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をプロピル分岐の数とした。
(炭素原子数4以上の分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、38.0〜38.5ppmにピークトップを有するピークのピーク面積の総和を炭素原子数4以上の分岐の数とした。
(アミル分岐の数の算出方法)
窓関数にエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmに観測されるすべてのピークの総和を1000として、32.5〜32.7ppmに付近にピークトップを有するピークのピーク面積を求めた。
(ヘキシル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、ヘキシル分岐における3B6の炭素(下記式(X))に由来するピークのピーク面積をヘキシル分岐の数とした。本測定条件においては、エチレン―1−オクテン共重合体の測定において、ヘキシル分岐における3B6の炭素に由来するピークが32.16ppmに観測されたので、32.14〜32.19ppmにピークトップを有するピークのピーク面積を求めた。
式(X):
(炭素原子数7以上の分岐(長鎖分岐(LCB))の数の算出方法)
窓関数をガウシャンで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、炭素原子数7以上の分岐が結合したメチン炭素に由来するピークのピーク面積から長鎖分岐の数(炭素原子数7以上の分岐の数)を求めた。本測定条件においては、38.22〜38.27ppm付近にピークトップを有するピークのピーク面積から長鎖分岐の数(炭素原子数7以上の分岐の数)を求めた。当該ピークのピーク面積は、高磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトから、低磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトまでの範囲でのシグナルの面積とした。なお、本測定条件においては、エチレン―1−オクテン共重合体の測定において、ヘキシル分岐が結合したメチン炭素に由来するピークのピークトップの位置が38.21ppmであった。
(ブチル分岐の数の算出方法)
算出した炭素原子数4以上の分岐の数から、アミル分岐とヘキシル分岐の数と炭素原子数7以上の分岐(長鎖分岐の数)の数を引いた数を、ブチル分岐の数とした。
(炭素原子数6以下の分岐(短鎖分岐(SCB))の数の算出方法)
上記で得られた炭素原子数6以下の分岐の数の合計を短鎖分岐(SCB)の数とした。
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、19〜20ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をメチル分岐の数とした。
(エチル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、39.5〜40.0ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をエチル分岐の数とした。
(プロピル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、14.3〜14.8ppmにピークトップを有するピークのピーク面積をプロピル分岐の数とした。
(炭素原子数4以上の分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、38.0〜38.5ppmにピークトップを有するピークのピーク面積の総和を炭素原子数4以上の分岐の数とした。
(アミル分岐の数の算出方法)
窓関数にエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmに観測されるすべてのピークの総和を1000として、32.5〜32.7ppmに付近にピークトップを有するピークのピーク面積を求めた。
(ヘキシル分岐の数の算出方法)
窓関数をエクスポネンシャルで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、ヘキシル分岐における3B6の炭素(下記式(X))に由来するピークのピーク面積をヘキシル分岐の数とした。本測定条件においては、エチレン―1−オクテン共重合体の測定において、ヘキシル分岐における3B6の炭素に由来するピークが32.16ppmに観測されたので、32.14〜32.19ppmにピークトップを有するピークのピーク面積を求めた。
式(X):
(炭素原子数7以上の分岐(長鎖分岐(LCB))の数の算出方法)
窓関数をガウシャンで処理したNMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークのピーク面積の総和を1000として、炭素原子数7以上の分岐が結合したメチン炭素に由来するピークのピーク面積から長鎖分岐の数(炭素原子数7以上の分岐の数)を求めた。本測定条件においては、38.22〜38.27ppm付近にピークトップを有するピークのピーク面積から長鎖分岐の数(炭素原子数7以上の分岐の数)を求めた。当該ピークのピーク面積は、高磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトから、低磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトまでの範囲でのシグナルの面積とした。なお、本測定条件においては、エチレン―1−オクテン共重合体の測定において、ヘキシル分岐が結合したメチン炭素に由来するピークのピークトップの位置が38.21ppmであった。
(ブチル分岐の数の算出方法)
算出した炭素原子数4以上の分岐の数から、アミル分岐とヘキシル分岐の数と炭素原子数7以上の分岐(長鎖分岐の数)の数を引いた数を、ブチル分岐の数とした。
(炭素原子数6以下の分岐(短鎖分岐(SCB))の数の算出方法)
上記で得られた炭素原子数6以下の分岐の数の合計を短鎖分岐(SCB)の数とした。
[実施例1]
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを82.2ml仕込み、系内の温度を80℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 PMAO−s)の濃度が2.45mmol/mLであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液4.1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、触媒成分1を7.0mgとトルエン3.7mlを投入して重合を開始し、80℃で30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。重合開始から30分後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体6.5gを得た。活性は触媒成分1が1gあたり、1,900g重合体/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを82.2ml仕込み、系内の温度を80℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 PMAO−s)の濃度が2.45mmol/mLであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液4.1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、触媒成分1を7.0mgとトルエン3.7mlを投入して重合を開始し、80℃で30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。重合開始から30分後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体6.5gを得た。活性は触媒成分1が1gあたり、1,900g重合体/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
[実施例2]
5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを1000ml仕込み、系内の温度を80℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 PMAO−s)の濃度が2.45mmol/mLであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液4.1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体2の濃度が2μmol/mlであるトルエン溶液4.5ml(9μmol,4.1mg)と錯体1の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入して重合を開始し、80℃で30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。重合開始から30分後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体6.2gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体1と錯体2の合計)が1gあたり、2,700g重合体/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを1000ml仕込み、系内の温度を80℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 PMAO−s)の濃度が2.45mmol/mLであるメチルアルミノキサンのヘキサン溶液4.1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体2の濃度が2μmol/mlであるトルエン溶液4.5ml(9μmol,4.1mg)と錯体1の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入して重合を開始し、80℃で30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。重合開始から30分後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体6.2gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体1と錯体2の合計)が1gあたり、2,700g重合体/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
[実施例3]
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体3の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液0.4ml(0.4μmol,0.18mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体4.9gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体3と錯体2の合計)が1gあたり、5,100g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体3の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液0.4ml(0.4μmol,0.18mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体4.9gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体3と錯体2の合計)が1gあたり、5,100g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
[実施例4]
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体4の濃度が0.5μmol/mlであるトルエン溶液0.2ml(0.1μmol,0.053mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が2μmol/mlであるトルエン溶液1ml(2μmol,0.92mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体7.0gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体4と錯体2の合計)が1gあたり、4,800g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体4の濃度が0.5μmol/mlであるトルエン溶液0.2ml(0.1μmol,0.053mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が2μmol/mlであるトルエン溶液1ml(2μmol,0.92mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後、オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体7.0gを得た。活性は遷移金属錯体(錯体4と錯体2の合計)が1gあたり、4,800g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
[実施例5]
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体1の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液0.13ml(0.13μmol,0.060mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体5.3gを得た。活性は錯体(錯体1と錯体2の合計)が1gあたり、6,800g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
尚、実施例1〜5において得られた重合体は、いずれも非架橋体であり、GPC測定(および粘度測定)の際に溶媒への不溶部は認められなかった。
0.4リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を減圧乾燥し、オートクレーブ内をアルゴンで置換した。次に、オートクレーブ内を真空にし、オートクレーブ内にトルエンを80ml仕込み、系内の温度を40℃まで昇温した。次に、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液1mLを、オートクレーブ内に投入した。次にエチレンを、その分圧が0.5MPaになるようにオートクレーブ内に導入し、系内を安定させた。次に、オートクレーブ内に、錯体1の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液0.13ml(0.13μmol,0.060mg)を投入して重合を開始し、40℃で30分間重合を行った。その後、系内の温度を80℃まで昇温した。昇温開始から30分経過したところで、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケム社製 TMAO)の濃度が2.5mmol/mLであるメチルアルミノキサンのトルエン溶液2mLを、錯体2の濃度が1μmol/mlであるトルエン溶液1ml(1μmol,0.46mg)を投入し、さらに30分間重合を行った。重合中はオートクレーブ内の全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給した。その後オートクレーブ内のエチレンをパージして、オートクレーブから内容物を取り出した。該内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過することにより、重合体5.3gを得た。活性は錯体(錯体1と錯体2の合計)が1gあたり、6,800g重合体/g触媒/hであった。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’>G’’であった。得られた重合体の構造と物性を測定した結果を表1に示す。
尚、実施例1〜5において得られた重合体は、いずれも非架橋体であり、GPC測定(および粘度測定)の際に溶媒への不溶部は認められなかった。
[比較例1]
市販の直鎖状低密度ポリエチレン、スミカセン−L FS150(住友化学(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)は110であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
市販の直鎖状低密度ポリエチレン、スミカセン−L FS150(住友化学(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)は110であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
[比較例2]
市販の高圧法低密度ポリエチレン、スミカセン F200(住友化学(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が25であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
市販の高圧法低密度ポリエチレン、スミカセン F200(住友化学(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が25であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
[比較例3]
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 2200J(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’<G’’であった。
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 2200J(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、角周波数が0.1〜10000の間で、常にG’<G’’であった。
[比較例4]
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 7000F(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が1.0であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 7000F(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が1.0であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
[比較例5]
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 8000F(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が0.6であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
市販の高密度ポリエチレン、ハイゼックス 8000F(プライムポリマー(株)製)を用いた。構造と物性を測定した結果を表1に示す。また、動的粘弾性測定において得られる、190℃における、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の関係を調べたところ、G’とG’’の交点(ωx)が0.6であり、ωx以上で、常にG’>G’’であった。
Claims (1)
- 以下の要件を充足するエチレン系重合体。
(a)非架橋エチレン系重合体である。
(b)炭素原子1000個当りの長鎖分岐(LCB)の数が、0.1以上、1.5以下である。
(c)極限粘度[η]が、1.0dl/g以上、3.0dl/g以下である。
(d)動的粘弾性測定において得られる、190℃における、角周波数(単位:rad/sec)が0.1であるときの、貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)の比(G’/G’’)が、0.8以上、4.0以下である。
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