WO2008003502A1 - Vorrichtung und verfahren zum vereinzeln und transportieren von substraten - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum vereinzeln und transportieren von substraten Download PDF

Info

Publication number
WO2008003502A1
WO2008003502A1 PCT/EP2007/005968 EP2007005968W WO2008003502A1 WO 2008003502 A1 WO2008003502 A1 WO 2008003502A1 EP 2007005968 W EP2007005968 W EP 2007005968W WO 2008003502 A1 WO2008003502 A1 WO 2008003502A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
substrates
gripper
separated
stack
Prior art date
Application number
PCT/EP2007/005968
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Richard Herter
Konrad Kaltenbach
Original Assignee
Rena Sondermaschinen Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP06026054A external-priority patent/EP1935599B1/de
Application filed by Rena Sondermaschinen Gmbh filed Critical Rena Sondermaschinen Gmbh
Priority to US12/064,451 priority Critical patent/US20080213079A1/en
Priority to CN2007800011343A priority patent/CN101356047B/zh
Priority to JP2008532810A priority patent/JP5006880B2/ja
Publication of WO2008003502A1 publication Critical patent/WO2008003502A1/de
Priority to NO20080795A priority patent/NO20080795L/no

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • B28D5/0088Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work the supporting or holding device being angularly adjustable
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers

Definitions

  • the invention relates to a device for separating and transporting substrates.
  • the substrates are disc-shaped and susceptible to breakage.
  • For separating a carrier device is provided which the individual
  • a picking facility carries out the process of unifying and transporting.
  • the invention relates to a method for separating and transporting substrates provided in a substrate stack.
  • the "substrates” are disc-shaped and generally rectangular, are obtained from a substrate block after a sawing process and have circumferential edges that are substantially straight, with the corners being rectangular, rounded or chamfered can.
  • a plurality of substrates stacked on top of one another or side by side or behind each other result in a "substrate stack.” If the substrate surfaces run horizontally, then according to the invention, a "lying" stack of superimposed substrates is used; If the substrate surfaces extend vertically, this corresponds to a "standing" stack of substrates standing next to one another.
  • the individual substrates are already detached from a holding device necessary for the sawing process and stacked freely and independently of one another However, the individual substrates often adhere unintentionally in a planar manner due to the preceding sawing process Normally, it is necessary for the further processing process to supply these stacked substrates seperate. This means that the substrate provided at the end of an upright substrate stack is to be removed from the substrate stack by means of a device and transferred to the further processing process.
  • the "stacking direction" of the substrates in a substrate stack is predetermined by the position of the substrate to be singulated.
  • the individual substrates are aligned in such a way that their surfaces are substantially adjacent to each other.
  • the stacking direction corresponds exactly to the direction in the special case of exactly and completely adjoining substrate surfaces the surface normal of the substrate (s), wherein the positive direction points to the end of the stack from which the respective substrate to be separated is to be removed, provided this substrate is arranged on the right side of the "stationary" substrate stack arranged in a carrier device, shows the stacking direction accordingly in the direction of the arrow on the right.
  • the "feed direction" of a stack essentially corresponds to the stacking direction.
  • the “stack start” designates that end of the substrate stack where the next substrate to be singled is located, which is the end which points in the feed direction, but if it is generally referred to as “stack end", it is not specified whether it is is the beginning of the stack or the opposite end of the stack.
  • the substantially vertically or uprightly positioned substrate stacks are provided in a "carrier device.”
  • a carrier device In this case, an edge of the respective substrate rests on the carrier device Substrate stack, for example, after sawing and / or removing the adhesive often used for attaching the initially unsaid substrates on a support plate and transports this to a removal device in which the separation is to take place.
  • the carrier device is preferably designed such that it receives the substrate stack as a whole, ie, the individual substrates are substantially flat against each other or behind each other.
  • the support means can enable or force a certain tilting of the substrates which contact one another in a planar manner against the original stacking direction, resulting in a structurally predetermined "angle of inclination" of the substrates relative to the original stacking direction, which is designated ⁇ in the context of the present invention enclosed between the surface normal of a substrate and the feed direction, wherein the surface normal of that substrate side is to be selected, which points in the advancing direction, so that angles of inclination between -90 ° and + 90 ° can result
  • Positive angles indicate tilting of the substrates backwards (FIG. negative angles tilting the substrates forward (in the advancing direction)
  • Preferred inclination angles are in the range of + 5 ° to + 35 °, more preferably inclination angles of + 15 ° to + 20 °.
  • adhesion is understood to mean forces acting between two surfaces, which are formed by approaching these two surfaces Since the adhesion forces described in accordance with the invention are to occur in a fluid, it is necessary to reduce the volume of fluid between the two surfaces, which is basically the case be realized by displacement and / or suction can. In order to meet the object of the invention as gentle as possible handling of the substrates, the reduction of the volume takes place only to the extent that a fluid or liquid film remains between the surfaces.
  • the “extraction device” is used for separating and
  • the arranged at the one end of the substrate stack to be separated substrate is picked up by the removal device, for example via suction devices, detached from the substrate stack and thus isolated, and fed to a further processing or transport process.
  • the removal device serves to remove the substrate to be separated from the substrate stack.
  • the removal can take place in the stacking direction, ie, the substrate to be separated is picked up by the removal device and pulled away parallel to the planar formation of the following substrate in the stacking direction, so that between the substrate to be separated and
  • the substrate is removed by displacement relative to the following substrate, so that only shearing forces arise between the two substrates, in which case the substrate to be separated is moved in the direction of the substrate planar extension of the respective substrate, preferably approximately perpendicular to the plane of the carrier device, moved up or removed.
  • a fluid which in this case essentially liquid media are to be understood.
  • flow means which flow the substrate stack from the side and / or from below or above with fluid in such a way that a flow is achieved which aims at the substrate stack and causes the individual substrates to be " fanned out "and kept at a distance. This means that between the individual substrates creates a gap which is filled with fluid.
  • This fanning may, according to a preferred embodiment, still be effected by further suitable means, e.g. be supported with positioned in particular in the fan area ultrasonic emitters. This is particularly advantageous if the adhesion forces between the substrates touching each other are so high that penetration of the fluid otherwise takes place only very slowly.
  • a “position determination device” is used to determine the position and / or the position of the substrate to be separated and / or of the substrate stack, provided that a correspondingly arranged electronics with a sensor receives a corresponding signal, which is equivalent to the fact that the substrate to be removed If the substrate to be separated is not in positional and positional position on the position-determining device, another signal is output which must then be correspondingly interpreted also serve to move the substrate to be separated by means of suitable, eg geometric, constraints in the desired position, which is necessary to release the signal for the removal device, and / or to keep the substrate there.
  • substrate blocks in the present case silicon blocks or silicon columns
  • substrates in the present case silicon blocks or silicon columns
  • the substrates produced in this way typically have thicknesses of a few tens to 300 ⁇ m and are generally square or rectangular. You then preferred a respective edge length up to 210 mm.
  • the substrate blocks are usually glued to a holding device for sawing.
  • This holding device typically consists of a metal carrier, on which in turn a glass plate is applied as an intermediate carrier, wherein the substrate block to be processed is glued to the glass plate.
  • a glass plate is applied as an intermediate carrier, wherein the substrate block to be processed is glued to the glass plate.
  • other materials for the formation of the holding device may be provided according to the prior art.
  • a medium which essentially comprises glycol and optionally further chemical additives, as well as a release agent, such as e.g. Silicon carbide grains comprises.
  • a release agent such as e.g. Silicon carbide grains comprises.
  • WO 01/28745 A1 describes methods and devices for detaching disk-shaped substrates, the separation taking place in a dry state, ie outside a liquid bath. Only through nozzles moistening of the substrates can take place.
  • a robot-like device engages the substrate to be detached via suction devices (active generation of a negative gas pressure via, for example, a vacuum pump), whereby the substrate is released from the holding device by an oscillating movement of the device. In this case, oscillating movements are provided in different directions.
  • the gripping of the substrate to be separated is carried out by means of a arranged over the surface of the substrate and attached to the device suction device. To release the substrate, a certain gas overpressure is generated within the suction device, so that the detached substrate is removable from the device again.
  • DE 697 22 071 T2 discloses a device for inserting wafers obtained by sawing a substrate block into a storage element. There are proposed handling devices that allow to take round or oval substrates in cross-section and to convert them into a stand-like structure. In this case, a plurality of substrates are recorded simultaneously and transferred to a footprint, which receives the isolated substrates.
  • DE 199 04 834 A1 discloses a device for detaching individual thin, fracture-sensitive and disk-like substrates.
  • the substrate block with the already sawn substrates is in a container filled with a fluid.
  • the holding device is vertically aligned together with the still fixed to the holding device substrates, so that the substrate to be separated parallel to Fluid surface is arranged.
  • a wedge device ensures that a separation between the glass plate and the substrate to be separated takes place.
  • An arranged in close proximity to the substrate conveyor belt ensures that the detached and floating substrates are removed.
  • a sliding device provides that the holding device is repeatedly brought into the same position and moved horizontally against the wedge device for detachment of the respective substrate.
  • a device On the other side of the conveyor belt, a device is provided with which the separated substrates are automatically inserted into a stand.
  • the aim of the detachment is that the separated, disc-like substrates are stacked after their removal from the holding device and inserted into predetermined facilities or placed directly on schedule.
  • EP 0 762 483 A1 also shows a device with which, inter alia, the singulation of flat substrates can take place.
  • the substrates are already isolated in a carrying device ready, where they initially touch evenly.
  • the substrates are transported away from the stack by means of a slide and possibly with the aid of rollers and / or liquid jets, wherein the substrates must necessarily be in a horizontal, ie lying position.
  • the substrates are thus arranged in the form of a "lying" stack of superimposed substrates
  • the publication shows a separation by using a suction gripper, which is to be supplied with gas vacuum during the entire gripping and transport process and the Substrate directly touched, so without a protective fluid film between gripper and substrate surface.
  • the adhesion according to the invention is achieved by maintaining a fluid film between the surfaces by a negative pressure which is much weaker than a vacuum is, for example, between 0.3 and 0.5 bar, preferably about 0.4 bar.
  • a negative pressure which is much weaker than a vacuum is, for example, between 0.3 and 0.5 bar, preferably about 0.4 bar.
  • a hand carried out singling involves the risk that the very thin and fragile and disk-shaped substrates break, especially due to the increased adhesive forces.
  • the object of the invention is therefore to provide devices and methods with which a virtually damage-free removal of thin, fracture-sensitive and stacked substrates is made possible.
  • the core idea of the invention consists of proposing a carrier device on which a substrate stack with substrates arranged sequentially in the feed direction and a removal device with the property that the substrate arranged at the beginning of the stack of the substrate stack is at its end facing away from the substrate stack Surface taken over the removal device, is slightly removed from the subsequent substrate and then led away parallel to its surface orientation of the substrate stack and thus away from the carrier device. It is essential that the substrate stack arranged in a fluid flows through a flow generated by nozzles, as a result of which, in particular, the substrates arranged at the free end of the substrate stack are kept at a distance from one another. As a result, adherence of the respective substrates is avoided.
  • a gripper arm of the removal device detects the substrate to be separated with a gripper such that the fluid located between the gripper and the substrate is largely sucked by means of holes or perforations located in the gripper and / or pushed out by approaching, so that under formation of a sufficiently small gap adhesion forces arise, which persist without further suction and / or expelling, so that the gripper surface causes an adhesion to the substrate.
  • the solution of the task is to propose a device according to claim 1 and / or a method according to the features of claim 16.
  • One of the significant advantages of the invention is that the substrates can be shatter-proofed in a fast cycle completely and automatically singulated.
  • the core idea of the solution is that the substantially perpendicular to the feed direction, but slightly inclined at an angle substrates within of the substrate stack are fanned out by a flow device.
  • the first five to ten substrates flow around flows generated by flow nozzles, so that the individual substrates are kept at a distance from each other and so-called fluid damping pads between the individual substrates arise.
  • the Stapelg. Feed direction acts a force on the substrates, the individual substrates are not further compressed in the process of the invention; Rather, an opposing force is generated completely over the entire surface, which, however, allows, within certain limits, a residual mobility, in particular of the substrate at the beginning of the stack.
  • This counterforce is utilized together with the residual mobility, so that the gripper of the removal device can press against the substrate to be separated. Without indirect damping by means of the fluid damping pads between the fanned-out substrates, the substrate would likely break.
  • the gripper is preferably introduced from above, ie parallel to the longitudinal extent of the respective substrates and thus approximately transversely to the stacking direction and then guided against the substrate to be separated.
  • the holes or perforations preferably provided in the gripper serve to suck the fluid out of the gap between the gripper and the substrate to be separated.
  • an active negative pressure is necessary, which can be generated both by means of dynamic methods (eg pump), static method (vacuum tank) or other methods inside or outside the device.
  • the gripper and substrate are in direct contact so that only a very thin fluid film (a few nanometers up to 50 Micrometer) between the gripper and the substrate, adhesive forces build up in the narrow gap which, from now on, make it possible to automatically hold or adhere the substrate to the gripper. A maintenance of the active negative pressure is no longer necessary.
  • the desired adhesion can also be brought about by squeezing out the liquid between the surfaces by approaching the same, and according to the invention a combination of these embodiments is also contemplated.
  • adhesion forces are in particular greater than those for the following substrate, so that the removal of the substrate to be separated with the gripper can take place parallel to the surface direction of the following substrate. At most only slight shearing forces act on the substrate to be separated, as a result of which the breakage rate is considerably reduced. Tensile and compressive forces are avoided. Also, the adhesion forces are greater than the forces generated by the temporary negative pressure with correspondingly large surface contact. Fast removal from the substrate stack is possible in a timely manner. The adhesion forces are furthermore so great that, depending on the geometrical design of the gripper and substrate weight, they still allow adhesion of substrate to the gripper even without active underpressure generation, when the substrate is outside the fluid surrounding the substrate stack.
  • the gripper itself is preferably designed such that it consists exclusively of a beam.
  • Alternative embodiments can provide that bar-shaped, finger-shaped, O-shaped, U-shaped, triangular and in the gripper movement direction tapered (V-shaped), or are also designed surface gripper provided.
  • the gripper can be designed to be substantially rigid as well as substantially flexible. Particularly preferred embodiments are those which have a low flow resistance in the direction of gripper movement and / or generate the least possible turbulence when the substrate is being removed from the substrate stack and the subsequent singulation movement.
  • the grippers of all embodiments furthermore have the advantage that only one gripper has to be used for different formats of substrates, and that the principle of gripping the substrate to be separated can be carried out functionally even for those substrates which are already broken and therefore no longer have the usual dimensions.
  • Another advantage is that different formats of substrates can be accommodated with a gripper design. This is due to the fact that not a suction, but an adhesion force is achieved, which extends in area over the contact surface between gripper and substrate.
  • the gripper can also be designed as a flexible band made of a suitable material such as plastic, which is particularly preferably designed so that its surface is passable to the fluid, whereby the fluid is both sucked and dispensable and displaceable ,
  • a suitable material such as plastic
  • both openings in the form of holes and in the form of a porous base material can be provided.
  • the to suck required negative pressure can be provided by an arranged at the end of the substrate stack, substantially stationary means which applies at the beginning of the gripping operation to the free back of the tape and sucks the fluid through the openings until the front of the tape and to be taken Substrate have approached sufficiently.
  • the band can carry away the now adhering substrate, the thin fluid film being retained at all times.
  • the negative pressure is generated at the beginning of the extraction phase. Even if this negative pressure only has to be maintained until the above-mentioned fluid film is obtained between the substrate and the contact surface of the gripper, the negative pressure can also be maintained until the substrate has been deposited on the transport device.
  • the carrier device itself is constructed so that it can accommodate at least one of a plurality of substrates or wafers existing substrate stack. Furthermore, the carrier device has means by which it is ensured that the individual substrates have a certain inclination, the inclination being such that the angle of inclination ⁇ , formed between the feed direction of the stack and the surface directional normal of a substrate pointing in the feed direction, is greater 0 degrees, so positive.
  • a standing stack this means that the edge of the substrate lying on the carrier device is arranged in the feed direction in front of the upper edge. This has the advantage that the gripper can dip into the fluid parallel to this orientation and thus remove the substrate again in this direction. This also avoids that the standing stack at a Further transport of the carrier device within the fluid tilts forward and thus loses its positional orientation.
  • the carrier device is displaceable at least in one direction.
  • it is displaceable in the feed direction, namely initially so far, until the first to be separated substrate of the substrate stack reaches the orientation device. Subsequently, it is e.g. slidable in steps whose step size preferably corresponds to the respective, in the normal case over the stack towards constant substrate thickness, and indeed so far until finally the last substrate of the stack is brought to the removal device.
  • the carrier device may be stationary. In this case, suitable means would be provided with which the substrate stack can be moved on the carrier device in the feed direction.
  • the gripping device and the position-determining device can have correspondingly greater degrees of freedom, so that they can be moved counter to the direction of advance in the direction of the beginning of the stack.
  • the position determining device is a device with which the position and position of the substrate to be separated is detected.
  • the position-determining device comprises pressure pins, which are aligned in the direction of the substrate stack.
  • An additional sensor element for example in the form of a touch sensor, outputs a corresponding signal, whereby the gripper is now preferably Immerse between the pressure pins and singulate the substrate to be separated and transported away.
  • the substrate stack comprises substrates whose thickness exceeds the average thickness set for adjusting the pressure elements and thus the resulting step size, this state is detected by the position determining device, so that the substrate stack is moved correspondingly in the feed direction until the next substrate to be separated contacts the pressure elements ,
  • the position-determining device can be supplemented by a protractor. In this way, the position of the substrate to be separated can be determined exactly and, if desired, used as a parameter for checking the quality of the substrate to be separated.
  • the advantage of the device is thus that an apparatus, in particular for separating and transporting substrates, has been created by the interaction of carrier device, removal device, flow device and position determination device, by means of which the method steps are automated and with an extremely low breakage rate compared with the prior art can be executed. This advantage is aided by the fluid damping pad provided by the flow means.
  • the design of the removal device itself as well as the hereby predetermined removal of the substrate transversely to the stacking direction causes no or only slight tensile or compressive forces act on the substrate to be separated.
  • this removal device is designed such that the removal takes place parallel to the surface extension of the respective substrate, so as little as possible tensile, Pressure or bending forces act on the corresponding substrate.
  • the gripper can be designed both as a single gripper and as a band.
  • the further transport preferably takes place within the fluid.
  • a conveyor such as e.g. To store a conveyor belt such that fluid is ejected via the holes provided in the gripper in the direction of the substrate, so that the flat substrate of the gripper can be solved easily and without effect by externally attacking tensile and / or compressive forces.
  • the cycle can be repeated as often as desired.
  • the intended gripper can have a certain tolerance in its approach to the substrate. It is not necessary that the gripper stops exactly in front of the substrate to be separated and is positioned there. Rather, the damping, which arises due to the arrangement of the substrates within the fluid and by the flow device can be advantageously exploited by the gripper moves against the feed direction against the substrate stack with little force and so produces a surface contact with the substrate to be separated, which is resiliently supported due to the underlying fluid damping cushion.
  • a further advantage of the invention relates to the provision of a device with which the adhesion forces existing between gripper and substrate are automatically and thus automatically utilized, so that each individual substrate is relatively regardless of its size and outer contour taken in a simple manner without breakage, partially even prepurified by the transport within the fluid and can be transferred to a specific device such as a transport device.
  • a further alternative embodiment of the removal device shows a device which has a defined degree of flexibility, so that tolerances in the positioning region are compensated with regard to the planar arrangement of the receptacle to the substrate to be separated.
  • the gripper, the handling device and / or the connection between the two components is designed to be flexible and correspondingly deformable.
  • a further means for taking over the isolated substrate from the removal device is provided.
  • the removal device can already pick up a further substrate from the substrate stack.
  • two substantially identical removal devices may be provided, which are connected in phase shift.
  • FIG. 1 [AF] is a schematic representation of the inventive core of the device according to the invention, in particular the sequence of a separating and transporting process of a substrate to be separated;
  • FIG. 2 shows a schematic representation of an embodiment of the device according to the invention according to FIG. 1 in side view;
  • FIG. 3 shows a schematic illustration of the embodiment shown in FIG. 2 in a perspective view
  • FIG. 4 [A] is a schematic representation of a first method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in side view;
  • FIG. 4 [B] a schematic representation of a first method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in a perspective view;
  • FIG. 5 [A] is a schematic representation of a second method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in side view;
  • FIG. 5 [B] is a schematic representation of a second method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in a perspective view;
  • Fig. 6 [A] is a schematic representation of a third method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in a perspective view;
  • Fig. 6 [A] is a schematic representation of a third method step of the device according to the invention according to FIG. 2 in a perspective view;
  • Fig. 6 [A] is a schematic representation of a third
  • Fig. 6 [B] is a schematic representation of a third
  • Fig. 7 [A] is a schematic representation of a fourth
  • Fig. 7 [B] is a schematic representation of a fourth process step of the invention
  • Fig. 8 [A] is a schematic representation of a fifth process step of the invention
  • Fig. 8 [B] is a schematic representation of a fifth
  • Fig. 9 [A] is a schematic representation of a sixth
  • Fig. 9 [B] is a schematic representation of a sixth
  • FIG 1 representations A-F, the core idea of the inventive device 101 and the inventive method is shown schematically.
  • This device 101 is suitable for separating and transporting disk-shaped substrates 102.
  • the substrates 102 are arranged in a substrate stack 103, wherein the substrate stack 103 is mounted in a carrier device 104.
  • the individual substrates 102 are already released from a holding device.
  • the surface normals of the surfaces of the individual substrates 102 pointing in the direction of advance are arranged at an angle ⁇ (inclination angle) (shown in FIG. 2) to the feed direction.
  • inclination angle
  • this oblique position prevents the individual substrates 102 from floating or unintentionally leaving the carrier device 104.
  • the individual substrates 102 can be taken up more easily by the removal device 107, which will be described later.
  • the individual flat-shaped substrates 102 are lined up in such a way that touch their surfaces. Adhesive forces acting thereon from the very small gap between the substrates on the one hand and possibly impurities, for example, act between them. resulting from a previous sawing step. As a result of this arrangement, the substrates 102 predefine a defined feed direction 105.
  • the substrates are shown schematically.
  • the block diagram shown schematically means that the substrates in this area are very close to each other.
  • the substrates are fanned out and have a gap.
  • the adhesion forces between the fanned-out substrates are preferably zero.
  • a removal device 107 is provided according to the invention, which is designed like a claw. It is shown schematically in the embodiment shown here and essentially shows a gripper 108. On the gripper 108, a handling device (in Figure 1 [A] shown), which allows the gripper 108 to move in different directions and / or to pivot. Preferably, the gripper 108 is pivotable in the direction of arrow 110 and about an axis in the direction of arrow 112.
  • This transport device 113 consists of a conveyor belt 114, which is driven via an axis 115 in the direction of arrow 116.
  • the device 101 namely the carrier device 104, the substrate stack 103, as well as parts of the removal device 107 are arranged within a fluid. This ensures that the substrates do not fall dry over the duration of the entire process, at least until they are deposited on the transport device.
  • the remaining parts of the removal device 107 and the transport device 113 may also be arranged within the fluid, wherein the transport device may alternatively also have their own means for moistening the substrates.
  • Substrates 102 arranged at least one flow device 117 with flow nozzles 118, is introduced through the fluid into interstices 119, wherein this gap 119th each located between the substrate 102 to be separated and the subsequent substrate 102.
  • the respective intermediate space 119 preferably remains as long as fluid flows out of the flow nozzles 118 into the intermediate spaces 119.
  • 102 spaces 119 between each two substrates are arranged.
  • a pressure element 122 is provided which substantially comprises pressure pins 123 in the exemplary embodiment shown in the figures.
  • the substrate to be separated presses against the pressure pins 123, whereby a counter force to the force is generated, which is generated by the inflow of the fluid into the spaces 119.
  • fluid cushions are formed, by means of which it can be ensured that the individual substrates 102 resting against the respective fluid cushion are kept at a distance from one another. Furthermore, these fluid pads have the property that due to the exertion of the counterforce on the one hand by the pressure element 122, but also by the start of the gripper 108 to the substrate 102 to be separated a damping effect arises.
  • the gripper 108 of the device 107 is already arranged parallel to the surface of the substrate 102.
  • the gripper 108 moves parallel in the direction of the arrow 110 and in a further subsequent step to the surface of the substrate 102, and indeed until it, as shown in Figure 1 [C] has contacted the substrate 102 to be separated. Due to the Starting pressure generated by the gripper 108 when it contacts the substrate 102, the respective gap between two substrates 102 is reduced. Due to the arrangement of the fluid within the interstices 119 between substrates 102 to be separated in each case, a damping effect is created. In this illustration [C], the holes not shown in the drawing are activated within the gripper 108 by a negative pressure is generated in accordance with the above illustration.
  • the negative pressure causes the gripper 108 to suck the substrate 102 to be separated so far that the gap between the substrate 102 and the gripper 108 is greatly reduced and an adhesion force is formed between the contact surfaces.
  • the fanning is assisted by the outflow of fluid from the flow nozzles 118.
  • the gripper 108 moves with the adhering substrate 102 as shown [D] until it can deposit the substrate 102 on the transport device 113.
  • the unit of substrate and gripper must be moved a piece counter to the feed direction 105, so that there is no contacting of the pressure pins 123 with the substrate surface in the subsequent removal movement.
  • the position-determining device can be moved a little bit in the feed direction.
  • Substrate 102 arise, are dimensioned such that this sufficient to transport the picked up by the gripper 108 substrate 102 within the fluid.
  • FIGS. 2 and 3 schematically show a device 201 which, in comparison with FIG. 1, represents a refinement of the basic idea.
  • the device 201 is particularly suitable for separating and transporting disk-shaped substrates 202.
  • the substrates 202 are arranged in a substrate stack 203, wherein the substrate stack 203 is mounted in a carrier device 204 and the individual substrates 202 are already detached from a holding device.
  • the individual substrates 202 are preferably arranged at an angle of inclination ⁇ (FIG. 2) between the feed direction 205 and the surface normal of the substrate which points more in the feed direction. As a result of this inclination, when the device is arranged within a fluid and a stationary position of the substrate stack 203 is prevented, the individual substrates 202 float up and unintentionally leave the carrier device 204.
  • the substrates 202 are arranged such that their surfaces touch. The individual substrates 202 thereby form a juxtaposition, which results in a defined feed direction 205.
  • a removal device 207 is provided according to the invention, which is designed like a claw. It is shown schematically in the embodiment shown here and essentially shows a gripper 208. On the gripper 208 a handling device 209 is arranged, which allows to move the gripper 208 in different directions (arrow directions 210, 211, 212) and to pivot. The gripper 208 and the handling device 209 together form a gripping arm.
  • Transport device 213 consists of a conveyor belt 214 which is driven via an axis 15 in the direction of arrow 216.
  • the entire device 201 namely the carrier device 204, the substrate stack 203, and parts of the removal device 207, are arranged within a fluid. This ensures that the substrates do not fall dry over the duration of the entire process, at least until they are deposited on the transport device.
  • the remaining parts of the removal device 207 and the transport device 213 may be arranged in the fluid, wherein the transport device may alternatively also have their own means for moistening the substrates.
  • At least one flow device 217 with flow nozzles 218 is arranged, through which fluid is introduced into a gap 219, wherein the gap 219 in each case between the substrate 202 to be separated and the subsequent substrate 202 arises.
  • the flow nozzles 218 are arranged in particular in the region of the substrate stack 203, which is intended directly for the fanning. Typically, this will affect at least the first four to nine substrates 202 following the substrate 202 being singulated. This results in a plurality of gaps 219, each gap 219 is bounded to the left and right of a substrate 202. Within the Gap 219 forms a fluid pad, which has damping properties.
  • FIGS. 2 and 3 a position determining device 220 is shown in FIGS. 2 and 3.
  • This position determining device 220 consists essentially of a further handling device 221 and a pressure element 222 arranged at a free end of the handling device 221.
  • the pressure element 222 further comprises pressure pins 223, which contact the surface of the respective substrates 202 according to FIGS. 2 and 3 in a defined position or bring it by touch in a defined position and hold there.
  • the further handling device 221 is displaceably mounted in and opposite to the direction of arrow 230.
  • the position-determining device 220 is assigned a sensor element 224.
  • This sensor element 224 has the task of detecting whether there is a planar contact of the substrate 202 to be separated on the pressure element 222 and / or on the pressure pins 223.
  • this sensor element 224 is in the
  • This sensor element 224 mechanically scans the presence of the substrate 202 to be singulated. For this purpose, different positions are provided, which are detected by a proximity switch 229.
  • the sensor element 224 has a knee-lever-like design, wherein this is mounted on a hinge 225 pivotally in and against the arrow 226 direction.
  • the one free end 227 serves to rest on the surface of the substrate 202 to be detected.
  • the other end 228 is provided for arrangement in the region of the proximity switch 229.
  • the basic position of the sensor element 224 is assumed when no substrate 202 is detected at the free end 227.
  • the free end 227 is above an imaginary line between the free ends of the Pressure pins 223, and the other free end 228 is designed such that the distance of the free end 228 to the proximity switch is almost zero. As soon as the free end 227 experiences pressure, the sensor element 224 pivots, and the distance between the free end 228 and the proximity switch increases. If the latter has assumed a previously calibrated position, it can be determined automatically whether a substrate 202 rests against the free ends of the pressure pins 223. Without pressure at the free end 227, the sensor element 224 returns to its normal position.
  • the pressure element 222 is preferably arranged at an angle to the handling device 221, which corresponds to the inclination angle ⁇ .
  • the individual pressure pins 223 preferably have the same length.
  • the pressure element 222 is arranged perpendicular to the handling device 221, and the pressure pins 223 have different lengths, so that always touch the free ends of the pressure pins 223, the surface of the substrate 202 in the position shown.
  • the mode of operation of the position-determining device 220 is such that the substrate stack 203 is moved in the feed direction 205 until the surface of the substrate 202 to be separated contacts the free ends of the pressure pins 223 of the pressure device 222.
  • the sensor element 224 is moved in one of the arrow directions 226, and the proximity switch 229 detects the correct position.
  • the removal device 207 can dip into the intermediate space formed by the pressure pins 223 and receive the substrate 202 to be singulated.
  • Fig. 4 A and B the so-called loading situation of the device 201 according to the invention is shown.
  • the carrier device 204 is ready for receiving a substrate stack not shown in detail.
  • the desired inclination angle ⁇ of the substrate stack is already predetermined.
  • the removal device 207 and the position determination device 220 are in their initial situation and can be moved in the direction of the arrow 210 or the direction of the arrow 230.
  • the sensor element 224 which is arranged on the pressure element 222, is likewise in its starting position and does not detect any substrate which bears against the pressure pins 223.
  • the gripper 208 of the removal device 207 is also in an initial situation, so that it can dive between the pressure pins 223 of the pressure element 222.
  • the transport device 213 is ready to receive substrates.
  • the flow nozzles 218 of the flow device 217 are still switched off.
  • 5 A and B show that the carrier device 204 is now loaded by the substrate stack 203.
  • This carrier device 204 or the substrate stack 203 is moved in the advancing direction 205, namely until the position determining device 220 positioned by movement in the direction of the arrow 230 has assumed a defined position. In this position, the pressure element 222 or its pressure pins 223 touch the surface of the substrate 202 to be separated.
  • the flow nozzles 218 of the flow device 217 guide fluid onto the substrate stack 203, so that at least part of the substrate stack 203 fancles and gap-like intermediate spaces 219 arise. Due to the pressing of the pressure element 222 prevents the individual substrates 202 fanned on. It is thereby also achieved that the substrates 202 remain on the carrier device 204. If the corresponding position of the substrate 202 to be separated 202 is reached by fanning, the exact position is detected by the sensor unit 224.
  • either the position-determining device 220 proceeds further in the direction of arrow 230, and / or it is further effected that the substrate stack 203 is further fanned out. If both measures fail to achieve that the sensor unit 224 outputs a corresponding signal for releasing the removal device 207, a fault message is signaled.
  • the flow nozzles 218 continue to flow fluid into the gap 219 to, in particular, achieve a so-called fluid cushion in the spaces 219.
  • This fluid cushion serves to achieve a corresponding damping effect between the individual substrates.
  • the removal device 207 now moves in the direction of arrow 210 in such a way that the gripper 208 dips between the pressure pins 223 of the pressure element 222 of the position-determining device 220 and reaches the region of contact of the surface of the substrate 202 to be separated.
  • an abutment of the gripper 208 is effected on the surface of the substrate 202.
  • Substrate stack 203 moves against the feed direction 205
  • the sensor element 224 pivots back into its initial position and the proximity switch detects that the substrate 202 to be separated no longer abuts against the pressure pins 223.
  • the carrier device 204 moves or moves the substrate stack 203 in turn in the advancing direction 205 against the position-determining device 220, until again a contact of the substrate 202 to be separated on the pressure element 222 and at its An horriten 223.
  • the storage of the substrate 202 by the removal device 207 is shown in FIGS. 9A and B.
  • the substrate 202 is deposited on the conveyor belt 214 of the transport device 213 and transported away by a drive on the axis 215 in the direction of arrow 216.
  • fluid is again conducted through the flow device 217 or its flow nozzles 218 into the interspaces 219 of the substrate stack 203, so that a corresponding fanning takes place, namely, until the substrate 202 to be separated again in contact with the pressure pins 223 of the pressure element 222 of the orientation device 220 passes.
  • the sensor unit 224 generates the signal for releasing the picking of the substrate 202 to be separated by the removal device 207. In this way, the corresponding process is repeated as often as is necessary.
  • the absence of substrates 202 is detected by the pressure element 222 or the sensor element 224, and a corresponding error message is output.
  • the adhesion forces that are created when aspirating the substrate 202 to be separated are dimensioned such that they are just sufficient to transport the substrate 202 accommodated by the gripper 208 within the fluid.
  • the present invention has been presented with regard to the treatment of silicon wafers.
  • disc-shaped substrates of other materials such as plastic can be processed according to the invention.

Abstract

Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf ein Vereinzeln und Transportieren eines scheibenförmigen Substrats (102; 202) wie beispielsweise eines Solarwafers. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass Vereinzelungen innerhalb eines Fluids stattfinden, und dass zwischen einem Greifer (108; 208) und dem zu vereinzelnden Substrat (102; 202) aufgrund eines dünnen Fluidfilms Adhäsionskräfte entstehen, die ein Anhaften an dem Greifer (108; 208) ermöglichen. Durch die Entnahme quer zur Vorschubrichtung (105; 205) oder insbesondere parallel zur flächigen Ausbildung der Substrate (102; 202) ist eine sehr schonende und effiziente Vereinzelung von scheibenförmig gestalteten Substraten (102; 202) mit einer hohen Takt zeit möglich.

Description

Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von
Substraten
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten. Die Substrate sind scheibenförmig ausgebildet und bruchempfindlich. Zum Vereinzeln ist eine Trägereinrichtung vorgesehen, die die einzelnen
Substrate in der Ausbildung eines Substratstapels aufnimmt und für das Vereinzeln bereithält. Eine Entnahmeeinrichtung führt den Prozess des Vereinzeins und Transportierens durch.
Ferner bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von in einem Substratstapel bereitgestellten Substraten.
Die „Substrate" sind Scheiben- bzw. flächenförmig ausgebildet und in der Regel rechteckig. Sie werden nach einem Sägeprozess aus einem Substratblock gewonnen. Sie weisen umlaufende Kanten auf, die im Wesentlichen gerade ausgebildet sind, wobei die Ecken rechtwinklig, abgerundet oder abgeschrägt ausgestaltet sein können.
Mehrere aufeinander gestapelte oder nebeneinander bzw. hintereinander gestellte Substrate ergeben einen „Substratstapel" . Verlaufen die Substratflächen horizontal, so wird erfindungsgemäß von einem „liegenden" Stapel übereinander liegender Substrate gesprochen; verlaufen die Substratflächen vertikal, so entspricht dies einem „stehenden" Stapel nebeneinander stehender Substrate. Die einzelnen Substrate sind bereits von einer für den Sägeprozess notwendigen Halteeinrichtung abgelöst und frei und unabhängig voneinander gestapelt. Häufig haften die einzelnen Substrate aufgrund des vorangegangenen Sägeprozesses jedoch noch ungewollt flächenartig zusammen. Für den Weiterbearbeitungsprozess ist es im Normalfall notwendig, diese so gestapelten Substrate zu vereinzeln. Dies bedeutet, dass das jeweils am Ende eines aufrecht positionierten Substratstapels bereitgestellte Substrat mittels einer Einrichtung von dem Substratstapel entnommen und in den weiteren Bearbeitungsprozess übergeben werden soll.
Die „Stapelrichtung" der Substrate in einem Substratstapel wird durch die Position des zu vereinzelnden Substrats vorgegeben. Die einzelnen Substrate sind derart ausgerichtet, dass sie mit ihren Flächen im Wesentlichen aneinanderliegend stehen. Die Stapelrichtung entspricht im Spezialfall exakt und vollständig einander anliegender Substratflächen genau der Richtung der Flächennormalen des Substrats bzw. der Substrate, wobei die positive Richtung auf dasjenige Ende des Stapels weist, von welchem das jeweils zu vereinzelnde Substrat abgenommen werden soll . Sofern dieses Substrat auf der rechten Seite des in einer Trägereinrichtung angeordneten „stehenden" Substratstapels angeordnet ist, zeigt die Stapelrichtung demnach in Pfeilrichtung rechts.
Die „Vorschubrichtung" eines Stapels entspricht im Wesentlichen der Stapelrichtung.
Der „Stapelanfang" bezeichnet dasjenige Ende des Substrat- stapeis, an welchem sich das nächste zu vereinzelnde Substrat befindet. Das ist dasjenige Ende, welches in Vorschubrichtung zeigt. Wird jedoch allgemein von „Stapelende" gesprochen, so ist nicht näher bezeichnet, ob es sich um den Stapelanfang oder das entgegengesetzte Ende des Stapels handelt.
Die im Wesentlichen senkrecht bzw. aufrecht positionierten Substratstapel werden in einer „Trägereinrichtung" bereitgestellt. Dabei liegt eine Kante des jeweiligen Substrats auf der Trägereinrichtung auf. Die Trägereinrichtung nimmt den Substratstapel beispielsweise nach dem Sägen und/oder dem Entfernen des häufig zum Befestigen der zunächst ungesagten Substrate auf eine Halteplatte benutzten Klebers auf und transportiert diesen zu einer Entnahmeeinrichtung, in welcher die Vereinzelung erfolgen soll. Die Trägereinrichtung ist bevorzugt derart ausgebildet, dass sie den Substratstapel als Ganzes aufnimmt, d. h. die einzelnen Substrate stehen im Wesentlichen flächig aneinander- bzw. hintereinanderliegend.
Die Trägereinrichtung kann gewünschtenfalls ein gewisses Verkippen der flächig einander berührenden Substrate gegen die ursprüngliche Stapelrichtung ermöglichen oder erzwingen, so dass sich ein konstruktiv vorherbestimmter „Neigungswinkel" der Substrate gegenüber der ursprünglichen Stapelrichtung ergibt, der im Rahmen der vorliegenden Erfindung mit α bezeichnet wird. Dieser wird zwischen der Flächennormalen eines Substrats und der Vorschubrichtung eingeschlossen, wobei die Flächennormale derjenigen Substratseite zu wählen ist, welche eher in Vorschubrichtung weist, so dass sich Neigungswinkel zwischen -90° und +90° ergeben können. Positive Winkel deuten ein Kippen der Substrate nach hinten (entgegen der Vorschubrichtung) an, negative Winkel ein Kippen der Substrate nach vorn (in Vorschubrichtung) . Bevorzugte Neigungswinkel liegen im Bereich von +5° bis +35°; besonders bevorzugt sind Neigungswinkel von +15° bis +20°.
Unter „Adhäsion" werden erfindungsgemäß zwischen zwei Flächen wirkende Kräfte verstanden, die durch Annäherung dieser beiden Flächen ausgebildet werden. Da die erfindungsgemäß beschriebenen Adhäsionskräfte in einem Fluid entstehen sollen, ist es erforderlich, dass das zwischen den beiden Flächen befindliche Flüssigkeitsvolumen reduziert wird, was grundsätzlich durch Verdrängung und/oder Absaugen realisiert werden kann. Um der erfindungsgemäß gestellten Aufgabe einer möglichst schonenden Handhabung der Substrate zu entsprechen, erfolgt die Reduzierung des Volumens nur soweit, dass zwischen den Flächen ein Fluid- bzw. Flüssigkeitsfilm verbleibt.
Die „Entnahmeeinrichtung" dient zum Vereinzeln und
Abtransportieren eines Substrats vom Substratstapel. Dabei wird das an dem einen Ende des zu vereinzelnden Substratstapels angeordnete Substrat von der Entnahmeeinrichtung aufgegriffen, beispielsweise über Saugeinrichtungen, von dem Substratstapel abgelöst und damit vereinzelt, und einem weiteren Bearbeitungsoder Transportprozess zugeführt. Die Entnahmeeinrichtung dient dazu, das zu vereinzelnde Substrat aus dem Substratstapel zu entfernen. Dabei kann die „Entnahme" in mehrere Richtungen erfolgen. Zum einen kann die Entnahme in Stapelrichtung erfolgen, d. h. durch die Entnahmeeinrichtung wird das zu vereinzelnde Substrat aufgegriffen und parallel zur flächigen Ausbildung des nachfolgenden Substrats in Stapelrichtung weggezogen, so dass zwischen dem zu vereinzelnden Substrat und dem nachfolgenden Substrat Zug- bzw. Druckkräfte aufgrund bestehender Adhäsion entstehen. Zum anderen kann vorgesehen werden, dass das Substrat durch Verschieben gegenüber dem nachfolgenden Substrat entfernt wird, so dass zwischen den beiden Substraten lediglich Scherkräfte entstehen. Dabei wird das zu vereinzelnde Substrat in Richtung der flächigen Erstreckung des jeweiligen Substrats, vorzugsweise ungefähr senkrecht zur Ebene der Trägereinrichtung, nach oben verschoben bzw. entfernt.
Je nach Entnahmerichtung wirken daher unterschiedliche Kräfte unterschiedlicher Stärke auf das zu vereinzelnde Substrat und die noch im Stapel befindlichen Substrate ein, wobei diesen Kräften vor allem das dem gerade zu entnehmenden Substrat folgende Substrat ausgesetzt ist.
Zum Vereinzeln des Substratstapels ist vorgesehen, diesen zusammen mit der Trägereinrichtung in einem Fluid anzuordnen, worunter hierbei im Wesentlichen flüssige Medien zu verstehen sind. Innerhalb des Fluids sind „Strömungseinrichtungen" vorgesehen, die den Substratstapel von der bzw. den Seiten und/oder von unten bzw. oben mit Fluid derart beströmen, dass eine Strömung erzielt wird, die auf den Substratstapel zielt und bewirkt, dass die einzelnen Substrate „auffächern" und im Abstand zueinander gehalten werden. Dies bedeutet, dass zwischen den einzelnen Substraten ein Zwischenraum entsteht, der mit Fluid gefüllt ist.
Dieses Auffächern kann nach einer bevorzugten Ausführungsform noch mit weiteren geeigneten Mitteln wie z.B. mit insbesondere im Auffächerungsbereich positionierten Ultraschallstrahlern unterstützt werden. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die Adhäsionskräfte zwischen den einander berührenden Substraten derart hoch sind, dass ein Eindringen des Fluids ansonsten nur sehr langsam erfolgt .
Eine „Lagebestimmungseinrichtung" dient dazu, die Lage und/oder die Position des zu vereinzelnden Substrats und/oder des Substratstapels festzustellen. Sofern eine entsprechend angeordnete Elektronik mit einem Sensor ein entsprechendes Signal erhält, was gleichbedeutend damit ist, dass das zu entnehmende Substrat läge- und positionsgerecht angeordnet ist, wird der Betrieb der Entnahmeeinrichtung zum Vereinzeln freigegeben. Liegt das zu vereinzelnde Substrat nicht läge- und positionsgerecht an der Lagebestimmungseinrichtung an, so wird ein anderes Signal ausgegeben, dass dann entsprechend zu interpretieren ist. Die Lagebestimmungseinrichtung kann außerdem dazu dienen, das zu vereinzelnde Substrat mittels geeigneter, z.B. geometrischer, Zwangsbedingungen in die gewünschte Lage zu bewegen, die zur Freigabe des Signals für die Entnahmeeinrichtung notwendig ist, und/oder das Substrat dort zu halten.
Bei einem der bekannten Herstellungsverfahren für Substrate, wie sie beispielsweise zur Herstellung von Solar- oder Halbleiterwafern angewendet werden, werden Siliziumblöcke oder Siliziumsäulen (vorliegend Substratblöcke genannt) verwendet, die in dünne, bruchempfindliche Scheiben (vorliegend Substrate genannt) zersägt werden. Die auf diese Weise hergestellten Substrate weisen typischerweise Dicken von einigen 10 bis zu 300 μm auf und sind in der Regel quadratisch oder rechteckig ausgebildet. Sie haben dann bevorzugt eine jeweilige Kantenlänge bis 210 mm.
Die Substratblöcke werden zum Sägen gewöhnlich auf eine Halteeinrichtung aufgeklebt. Diese Halteeinrichtung besteht typischerweise aus einem Metallträger, auf dem wiederum eine Glasplatte als Zwischenträger aufgebracht ist, wobei der zu bearbeitende Substratblock auf der Glasplatte aufgeklebt ist. Alternativ hierzu können nach dem Stand der Technik auch andere Materialien für die Ausbildung der Halteeinrichtung vorgesehen sein.
Zur Herstellung der zuvor genannten Substrate ist es notwendig, den Substratblock scheibenartig vollständig durchzusägen, so dass der Sägeschnitt selbst über den Substratblock hinaus bis in die Glasplatte hineinreicht. Nach dem Sägen haftet das auf diese Weise hergestellte Substrat mit seiner einen Kante über eine Klebeverbindung weiterhin an der Glasplatte. Nachdem der Substratblock vollständig in einzelne Substrate zerteilt worden ist, entsteht ein kammartiges Gebilde. Bevor die einzelnen Substrate, die nun eine scheibenförmige Ausbildung aufweisen, von der Halteeinrichtung abgelöst werden, findet in der Regel eine Vorreinigung statt.
Zur Durchführung des Sägeprozesses wird ein Medium benötigt, das im Wesentlichen Glykol und ggfs. weitere chemische Zusätze sowie ein Trennmittel wie z.B. Siliziumcarbidkörnchen umfasst. Dieses Medium wird als „Slurry" bezeichnet und dient der Durchführung des Sägeprozesses. Im Normalfall verbleibt immer ein gewisser Rest an Slurry im Raum zwischen den einzelnen, gesägten Substraten. Im ungünstigsten Fall wird die Slurry während des Bearbeitungsprozesses bzw. im Anschluss daran zu einem pastösen Gebilde, da es sich mit den aus dem Substratblock entstandenen Siliziumpartikeln sowie mit dem Abrieb des für den Sägeprozess angewandten Sägedrahts und dem Trennmittel vermischt bzw. gewisse Bestandteile des Gemenges miteinander reagieren. Aufgrund ihrer Konsistenz haftet die Slurry an der Oberfläche des Wafers. Trotz einer sich an das Sägen der Substratblöcke im Normalfall anschließenden Vorreinigung finden sich sehr häufig noch Reste des Gemenges zwischen den Substraten.
In der WO 01/28745 Al werden Verfahren und Einrichtungen zum Ablösen von scheibenförmigen Substraten beschrieben, wobei die Vereinzelung im Trockenen, also außerhalb eines Flüssigkeits- bades erfolgt. Lediglich durch Düsen kann eine Befeuchtung der Substrate stattfinden. Eine roboterartige Einrichtung greift das abzulösende Substrat über Saugeinrichtungen (aktive Erzeugung eines Gas-Unterdruckes über z.B. eine Vakuumpumpe), wodurch das Substrat durch eine oszillierende Bewegung der Einrichtung von der Halteeinrichtung gelöst wird. Dabei sind oszillierende Bewegungen in unterschiedliche Richtungen vorgesehen. Das Greifen des zu vereinzelnden Substrats erfolgt mit Hilfe einer über der Fläche des Substrats angeordneten und an der Einrichtung befestigten Saugeinrichtung. Zur Freigabe des Substrats wird innerhalb der Saugeinrichtung ein gewisser Gas-Überdruck erzeugt, so dass das abgelöste Substrat wieder von der Einrichtung entfernbar ist.
Aus der DE 199 00 671 Al sind Verfahren und Vorrichtungen zum
Ablösen von scheibenförmigen Substraten wie insbesondere von Wafern bekannt. Es wird vorgeschlagen, die unmittelbar nach dem Sägevorgang aneinander haftenden Substrate, die mit ihrer einen Seite (Kante) noch an der Halteeinrichtung befestigt sind, durch einen gezielten Fluidstrahl voneinander im Abstand zu halten. Eine Keileinrichtung sorgt dafür, dass eine Trennung des abzulösenden Substrats von der Halteeinrichtung erfolgt. Gleichzeitig wird das vereinzelte Substrat mittels einer Saugeinrichtungen aufweisenden greifarmähnlichen Einrichtung aus der Halteeinrichtung entnommen.
Aus der DE 697 22 071 T2 ist eine Vorrichtung für das Einlegen von durch Zersägen eines Substratblocks erhaltenen Wafern in ein Aufbewahrungselement bekannt. Es werden Handhabungsvorrichtungen vorgeschlagen, die es erlauben, im Querschnitt runde oder ovale Substrate zu ergreifen und diese in ein ständerartiges Gebilde zu überführen. Dabei werden mehrere Substrate gleichzeitig aufgenommen und auf eine Stellfläche überführt, welche die vereinzelten Substrate aufnimmt.
Aus der DE 199 04 834 Al ist eine Vorrichtung zum Ablösen von einzelnen dünnen, bruchempfindlichen und scheibenartigen Substraten bekannt. Der Substratblock mit den bereits gesägten Substraten befindet sich in einem mit einem Fluid gefüllten Behälter. Im Gegensatz zum bisher bekannten Stand der Technik ist die Halteeinrichtung zusammen mit den noch an der Halteeinrichtung fixierten Substraten senkrecht ausgerichtet, so dass das zu vereinzelnde Substrat parallel zur Fluidoberflache angeordnet ist. Eine Keileinrichtung sorgt dafür, dass eine Trennung zwischen der Glasplatte und dem zu vereinzelnden Substrat stattfindet. Ein in unmittelbarer Nähe zum Substrat angeordnetes Transportband sorgt dafür, dass die abgelösten und aufschwimmenden Substrate abtransportiert werden. Eine Schiebeeinrichtung sieht vor, dass die Halteeinrichtung immer wieder in die gleiche Position gebracht und horizontal gegen die Keileinrichtung zur Ablösung des jeweiligen Substrats gefahren wird. Auf der anderen Seite des Förderbandes ist eine Einrichtung vorgesehen, mit der die vereinzelten Substrate automatisch in einen Ständer eingefügt werden. Ziel der Ablösung ist es, dass die abgetrennten, scheibenartig ausgebildeten Substrate nach ihrer Entfernung von der Halteeinrichtung gestapelt und in vorbestimmte Einrichtungen eingefügt oder unmittelbar planmäßig aufeinander gelegt werden.
Auch die EP 0 762 483 Al zeigt eine Vorrichtung, mit welcher unter anderem die Vereinzelung von flächigen Substraten erfolgen kann. Die Substrate liegen bereits vereinzelt in einer Trageeinrichtung bereit, wo sie sich zunächst noch flächig berühren. Zur Vereinzelung und Überführung in einen Behälter werden die Substrate mittels eines Schiebers und ggf. unter Zuhilfenahme von Walzen und/oder Flüssigkeitsstrahlen vom Stapel wegtransportiert, wobei sich die Substrate zwingend in einer horizontalen, also liegenden Position befinden müssen. Entsprechend der zuvor erfolgten Klarstellung sind die Substrate also in Form eines „liegenden" Stapels übereinander liegender Substrate angeordnet. Alternativ zeigt die Druckschrift eine Vereinzelung durch Verwendung eines Sauggreifers, welcher während des gesamten Greif- und Transportvorgangs mit Gas-Vakuum zu versorgen ist und das Substrat direkt berührt, also ohne einen schützenden Fluidfilm zwischen Greifer und Substratfläche.
Die möglichst schonende Vereinzelung der jeweiligen Substrate gestaltet sich nach den bekannten Verfahren jedoch schwierig und leidet an einer Reihe von Nachteilen.
Für das Vereinzeln sind Bewegungen notwendig, die komplexe Einrichtungen erfordern, sofern man auf eine manuelle Bedienung verzichten möchte. Da es sich jedoch bei den Substraten um sehr bruchempfindliche und dünne, plattenartig ausgestaltete Substrate handelt, können diese nicht ohne weiteres über herkömmliche greifarmähnliche Systeme aufgenommen werden. Hierzu ist es notwendig, sehr präzise und feinfühlige Einrichtungen vorzusehen.
Aus dem Stand der Technik sind somit im Wesentlichen solche Einrichtungen bekannt, die das jeweilige Substrat mittels einer Saugeinrichtung ergreifen. Unmittelbar nach dem Anfahren der Saugeinrichtung an die flächige Ausgestaltung des zu vereinzelnden Substrats wird zwischen Saugeinrichtung und zu vereinzelndem Substrat über eine Vakuumpumpe ein Gas-Vakuum erzeugt, so dass ein Anhaften des Substrats an einer Handhabungseinrichtung möglich ist. Es ist jedoch Vorsicht geboten, da das zu vereinzelnde Substrat durch zu hohen Unterdruck zu Bruch gehen kann.
Im Gegensatz zu diesen Verfahren, bei denen zwischen zwei Flächen Vakuum bzw. ein Unterdruck von mindestens 1 mbar einzustellen ist, wird die erfindungsgemäße Adhäsion unter Beibehaltung eines Fluid- bzw. Flüssigkeitsfilms zwischen den Flächen durch einen Unterdruck herbeigeführt, der sehr viel schwächer als ein Vakuum ist und beispielsweise zwischen 0,3 und 0,5 bar wie vorzugsweise etwa 0,4 bar beträgt. Ein weiterer kritischer Punkt hierbei besteht darin, dass das jeweilige Substrat von der Handhabungseinrichtung angefahren, d.h. berührt werden muss. Da das Substrat von der Einrichtung in keinem Fall weggedrückt werden darf, ist eine exakte Positionierung notwendig. Dies gestaltet sich .jedoch schwierig, da zum einen eine Relativbewegung der Halteeinrichtung zur Positionierung des zu vereinzelnden Substrats im Bereich der Halteeinrichtung vorgesehen ist, und die Halteeinrichtung selbst damit entsprechende Freiheitsgrade aufweist. Daher sind Toleranzen möglich, die zur möglichen Beschädigung des zu vereinzelnden Substrats führen. Zum anderen finden solche Bewegungen in der Regel in einem Fluid statt, so dass Gefahr besteht, dass durch die einzelnen Bewegungen der Einrichtungen ein Strömungsdruck, insbesondere in Richtung der Substrate, entsteht, der zu Positionsverschiebungen der Substrate oder sogar zu Bruch führen kann.
Eine von Hand durchgeführte Vereinzelung birgt die Gefahr, dass die sehr dünnen und bruchempfindlichen sowie scheibenförmig ausgebildeten Substrate insbesondere aufgrund der erhöhten Adhäsionskräfte zerbrechen.
Die Aufgabe der Erfindung besteht daher in der Bereitstellung von Vorrichtungen und Verfahren, mit denen ein nahezu beschädigungsfreies Entnehmen von dünnen, bruchempfindlichen und gestapelten Substraten ermöglicht wird.
Der Kerngedanke der Erfindung besteht darin, eine Trägereinrichtung, auf der sich ein Substratstapel mit, in Vorschub- richtung, sequenziell hintereinander angeordneten Substraten befindet, und eine Entnahmeeinrichtung mit der Eigenschaft vorzuschlagen, dass jeweils das am Stapelanfang des Substratstapels angeordnete Substrat an seiner vom Substratstapel fortweisenden Fläche über die Entnahmeeinrichtung aufgegriffen, geringfügig vom nachfolgenden Substrat entfernt und alsdann parallel zu seiner Flächenausrichtung vom Substratstapel und somit von der Trägereinrichtung weggeführt wird. Wesentlich dabei ist, dass der in einem Fluid angeordnete Substratstapel von einer durch Düsen erzeugten Strömung durchströmt wird, wodurch insbesondere die am freien Ende des Substratstapels angeordneten Substrate zueinander auf Abstand gehalten werden. Dadurch wird ein Aneinanderhaften der jeweiligen Substrate vermieden. Gleichzeitig bewirkt diese Strömung zwischen den einzelnen Substraten die Ausbildung eines fluiden Dämpfungskissens, so dass auf das zu vereinzelnde Substrat beim Heranfahren der Entnahmeeinrichtung eine Dämpfungswirkung entsteht und damit ein Bruch der einzelnen Substrate vermieden werden kann. Ein Greifarm der Entnahmeeinrichtung erfasst das zu vereinzelnde Substrat mit einem Greifer derart, dass das zwischen dem Greifer und dem Substrat befindliche Fluid weitgehend mittels im Greifer befindlicher Bohrungen oder Perforationen abgesaugt und/oder durch Annähern herausgedrückt wird, so dass unter Ausbildung eines genügend kleinen Spaltes Adhäsionskräfte entstehen, die ohne weiteres Absaugen und/oder Herausdrücken bestehen bleiben, so dass der Greifer flächig eine Adhäsionskraft auf das Substrat bewirkt.
Somit besteht die Lösung der Aufgabe darin, eine Vorrichtung gemäß Anspruch 1 und/oder ein Verfahren gemäß den Merkmalen des Anspruchs 16 vorzuschlagen.
Einer der wesentlichen Vorteile der Erfindung besteht darin, dass die Substrate bruchsicher in einem schnellen Zyklus vollständig und automatisiert vereinzelt werden können.
Der Kerngedanke der Lösung besteht darin, dass die im Wesentlichen senkrecht zur Vorschubrichtung, jedoch leicht unter einem Winkel geneigt ausgerichteten Substrate innerhalb des Substratstapels durch eine Strömungseinrichtung aufgefächert werden. Vorzugsweise werden die ersten fünf bis zehn Substrate von durch Strömungsdüsen erzeugten Strömungen umströmt, so dass die einzelnen Substrate im Abstand zueinander gehalten werden und sogenannte fluide Dämpfungskissen zwischen den einzelnen Substraten entstehen. Sofern gegen die Stapelbzw. Vorschubrichtung eine Kraft auf die Substrate wirkt, werden die einzelnen Substrate im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht weiter zusammengedrückt; vielmehr wird vollständig über die gesamte Fläche eine Gegenkraft erzeugt, die jedoch in gewissen Grenzen eine Restbeweglichkeit insbesondere des am Stapelanfang befindlichen Substrats ermöglicht. Diese Gegenkraft wird zusammen mit der Restbeweglichkeit ausgenutzt, damit der Greifer der Entnahmeeinrichtung gegen das zu vereinzelnde Substrat drücken kann. Ohne indirekte Dämpfung mittels der zwischen den aufgefächerten Substraten befindlichen fluiden Dämpfungskissen würde das Substrat mit hoher Wahrscheinlichkeit brechen.
Handelt es sich um einen stehenden Stapel, so wird der Greifer bevorzugt von oben, d. h. parallel zur Längserstreckung der jeweiligen Substrate und damit ungefähr quer zur Stapelrichtung eingeführt und dann gegen das zu vereinzelnde Substrat geführt. Nach einer bevorzugten Ausführungsform dienen die in dem Greifer bevorzugt vorgesehenen Bohrungen oder Perforationen dazu, das Fluid aus dem Zwischenraum zwischen dem Greifer und dem zu vereinzelnden Substrat abzusaugen. Hierzu ist ein aktiver Unterdruck notwendig, der sowohl mittels dynamischer Verfahren (z.B. Pumpe), statischer Verfahren (Unterdrucktank) oder sonstiger Verfahren innerhalb oder außerhalb der Vorrichtung erzeugt werden kann. Befinden sich schließlich Greifer und Substrat in unmittelbarem Kontakt, so dass sich nur noch ein sehr dünner Fluidfilm (wenige Nanometer bis zu 50 Mikrometer) zwischen Greifer und Substrat befindet, so bauen sich in dem engen Spalt Adhäsionskräfte auf, die von nun an ein selbsttätiges Festhalten bzw. Anhaften des Substrats an dem Greifer ermöglichen. Eine Aufrechterhaltung des aktiven Unterdruckes ist nun nicht mehr nötig.
Nach einer alternativen Ausführungsform kann die gewünschte Adhäsion auch durch ein Herausdrücken der Flüssigkeit zwischen den Flächen durch Annäherung derselben herbeigeführt werden, wobei erfindungsgemäß auch eine Kombination dieser Ausführungsformen in Betracht kommt.
Diese Adhäsionskräfte sind insbesondere größer als diejenigen zum nachfolgenden Substrat, so dass die Entnahme des zu vereinzelnden Substrats mit dem Greifer parallel zur Flächenrichtung des nachfolgenden Substrats erfolgen kann. Dabei wirken allenfalls nur geringe Scherkräfte auf das zu vereinzelnde Substrat, wodurch die Bruchrate erheblich verringert wird. Zug- und Druckkräfte werden vermieden. Auch sind die Adhäsionskräfte bei entsprechend großer Flächenberührung größer als die durch den temporären Unterdruck erzeugten Kräfte. Ein im Zeittakt schnelles Entnehmen aus dem Substratstapel ist möglich. Die Adhäsionskräfte sind ferner so groß, dass sie, je nach geometrischer Ausgestaltung des Greifers und Substratgewicht, insbesondere dann noch ein Anhaften von Substrat am Greifer auch ohne aktive Unterdruckerzeugung ermöglichen, wenn sich das Substrat außerhalb des den Substratstapel umgebenden Fluids befindet. Hierbei ist zu beachten, dass der funktionelle Zusammenhang von Bohrungsdurchmesser und -anzahl in der Greiferfläche, die Größe der Greiferfläche, sowie die Größe des zum Absaugen des Fluids und zum Ansaugen des Substrats notwendigen Unterdrucks berücksichtigt werden. Der Greifer selbst ist vorzugsweise derart ausgestaltet, dass er ausschließlich aus einem Balken besteht. Alternative Ausführungen können vorsehen, dass balkenförmige, fingerförmige, O-förmige, U-förmige, dreieckige und in Greiferbewegungsrichtung spitz zulaufende (V-förmig) , oder aber auch flächenmäßig ausgestaltete Greifer vorgesehen sind. Der Greifer kann dabei sowohl im Wesentlichen starr als auch im Wesentlichen flexibel ausgestaltet sein. Besonders bevorzugt sind solche Ausführungen, die einen geringen Strömungswider- stand in Greiferbewegungsrichtung aufweisen und/oder möglichst geringe Turbulenzen beim Entfernen des Substrats vom Substratstapel und der nachfolgenden Vereinzelungsbewegung erzeugen. Die Greifer aller Ausführungen weisen weiterhin den Vorteil auf, dass nur ein Greifer für unterschiedliche Formate von Substraten verwendet werden muss, und dass das Prinzip des Greifens des zu vereinzelnden Substrats auch bei solchen Substraten funktionsgerecht ausgeführt werden kann, die bereits gebrochen sind und daher nicht mehr die üblichen Abmaße aufweisen. Ein weiterer Vorzug liegt darin, dass mit einer Greiferausführung unterschiedliche Formate von Substraten aufgenommen werden können. Dies liegt darin begründet, dass nicht eine Saugwirkung, sondern eine Adhäsionskraft erzielt wird, die sich flächenmäßig über die Kontaktfläche zwischen Greifer und Substrat erstreckt.
Nach einer weiteren Ausführungsform kann der Greifer auch als ein flexibles Band aus einem geeigneten Material wie z.B. aus Kunststoff ausgestaltet sein, welches besonders bevorzugt so ausgestaltet ist, dass dessen Oberfläche für das Fluid passierbar ist, wodurch das Fluid sowohl ansaugbar und ausgebbar als auch verdrängbar ist. Hierzu können sowohl Öffnungen in Form von Bohrungen als auch in Form eines porösen Grundmaterials bereitgestellt werden. Der zum Ansaugen benötigte Unterdruck kann dabei durch eine am Ende des Substratstapels angeordnete, im Wesentlichen ortsfeste Einrichtung bereitgestellt werden, die sich zu Beginn des Greifvorgangs an die freie Rückseite des Bandes anlegt und das Fluid durch die Öffnungen absaugt, bis sich die Vorderseite des Bandes und das zu ergreifende Substrat ausreichend angenähert haben. Nach dargelegter Ausbildung einer Adhäsion kann das Band das nun anhaftende Substrat abtransportieren, wobei der dünne Fluidfilm jederzeit erhalten bleibt.
Erfindungsgemäß wird der Unterdruck zu Beginn der Entnahmephase erzeugt. Auch wenn dieser Unterdruck nur bis zum Erhalt des oben genannten Fluidfilms zwischen Substrat und Kontaktfläche des Greifers aufrechterhalten bleiben muss, kann der Unterdruck auch bis zum Ablegen des Substrates auf die Transportvorrichtung aufrechterhalten bleiben.
Die Trägereinrichtung selbst ist derart aufgebaut, dass sie mindestens einen aus einer Vielzahl von Substraten bzw. Wafern bestehenden Substratstapel aufnehmen kann. Ferner weist die Trägereinrichtung Mittel auf, durch welche sichergestellt wird, dass die einzelnen Substrate eine gewisse Neigung aufweisen, wobei die Neigung derart ausgebildet ist, dass der Neigungswinkel α, gebildet zwischen der Vorschubrichtung des Stapels und der eher in Vorschubrichtung weisenden Flächennormalen eines Substrats, größer 0 Grad, also positiv ist. Im Falle eines stehenden Stapels bedeutet dies, dass die auf der Trägereinrichtung liegende Kante des Substrats in Vorschubrichtung vor der oberen Kante angeordnet ist. Dies bringt den Vorteil mit sich, dass der Greifer parallel zu dieser Ausrichtung in das Fluid eintauchen und das Substrat so in dieser Richtung auch wieder entnehmen kann. Dadurch wird auch vermieden, dass der stehende Stapel bei einem Weitertransport der Trägereinrichtung innerhalb des Fluids nach vorne kippt und damit seine Lageorientierung verliert.
Somit ist die Trägereinrichtung zumindest in eine Richtung verschiebbar. Vorzugsweise ist sie in Vorschubrichtung verschiebbar, und zwar zunächst soweit, bis das erste zu vereinzelnde Substrat des Substratstapels an die Lagebestimmungseinrichtung gelangt. Anschließend ist sie z.B. in Schritten verschiebbar, deren Schrittweite vorzugsweise der jeweiligen, im Normalfall über den Stapel hin konstanten Substratdicke entspricht, und zwar soweit, bis schließlich das letzte Substrat des Stapels an die Entnahmeeinrichtung herangeführt ist. Alternativ kann die Trägereinrichtung stationär ausgebildet sein. In diesem Falle würden geeignete Mittel bereitgestellt werden, mit denen der Substratstapel auf der Trägereinrichtung in Vorschubrichtung bewegt werden kann. Alternativ oder zusätzlich können die Greifeinrichtung sowie die Lagebestimmungseinrichtung über entsprechend größere Freiheitsgrade verfügen, damit sie entgegen der Vorschub- richtung in Richtung des Stapelanfangs bewegbar sind.
Die Lagebestimmungseinrichtung ist eine Einrichtung, mit der die Lage und Position des zu vereinzelnden Substrats detektiert wird. Hierzu ist vorgesehen, dass die Lagebestimmungseinrich- tung Andruckstifte umfasst, die in Richtung des Substratstapels ausgerichtet sind. Durch Verringern des Abstandes zwischen der Lagebestimmungseinrichtung und dem Substratstapel wird der aufgefächerte Anfang des Substratstapels solange ausgerichtet, bis das zu vereinzelnde Substrat an allen vorgesehenen Andruckstiften anliegt. Ein zusätzliches Sensorelement, beispielsweise in Form eines Berührungssensors, gibt ein entsprechendes Signal aus, wodurch der Greifer nun vorzugsweise zwischen die Andruckstifte eintauchen und das zu vereinzelnde Substrat vereinzeln und wegtransportieren kann.
Sofern der Substratstapel Substrate umfasst, deren Dicke die für das Justieren der Andruckelemente eingestellte Durchschnittsdicke und damit die resultierende Schrittweite übersteigt, wird dieser Zustand von der Lagebestimmungseinrichtung detektiert, so dass der Substratstapel entsprechend in Vorschubrichtung verfahren wird, bis das nächste zu vereinzelnde Substrat die Andruckelemente kontaktiert.
Alternativ oder zusätzlich kann die Lagebestimmungseinrichtung durch einen Winkelmesser ergänzt werden. Auf diese Weise kann die Lage des zu vereinzelnden Substrats exakt bestimmt und gewünschtenfalls als Messgröße zur Überprüfung der Qualität des zu vereinzelnden Substrats herangezogen werden.
Der Vorteil der Vorrichtung liegt somit darin, dass durch das Zusammenspiel von Trägereinrichtung, Entnahmeeinrichtung, Strömungseinrichtung sowie Lagebestimmungseinrichtung eine Vorrichtung insbesondere zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten geschaffen worden ist, mittels der die Verfahrensschritte automatisiert und mit einer im Vergleich zum Stand der Technik äußerst geringen Bruchrate ausgeführt werden können. Dieser Vorteil wird durch das aufgrund der Strömungseinrichtung vorgesehene fluide Dämpfungskissen unterstützt.
Auch die Ausgestaltung der Entnahmeeinrichtung selbst sowie die hierdurch vorgegebene Entnahme des Substrats quer zur Stapelrichtung bewirkt, dass auf das zu vereinzelnde Substrat keine oder nur geringe Zug- oder Druckkräfte wirken. Vorteilhafterweise ist diese Entnahmeeinrichtung derart ausgebildet, dass die Entnahme parallel zur flächenmäßigen Erstreckung des jeweiligen Substrats erfolgt, damit möglichst wenig Zug-, Druck- oder Biegekräfte auf das entsprechende Substrat wirken. Dabei kann der Greifer sowohl als Einzelgreifer als auch als Band ausgestaltet sein.
Der Weitertransport erfolgt vorzugsweise innerhalb des Fluids . Es ist jedoch auch vorgesehen, den Greifer aus dem Fluid herauszuführen und das über Adhäsion anhaftende Substrat von dem Greifer auf ein Fördermittel wie z.B. ein Transportband derart abzulegen, dass Fluid über die im Greifer vorgesehenen Bohrungen in Richtung des Substrates ausgestoßen wird, so dass sich das flächig ausgebildete Substrat von dem Greifer einfach und ohne Wirkung durch von außen angreifender Zug- und/oder Druckkräfte lösen kann.
Der Zyklus ist beliebig oft wiederholbar.
Einer der wesentlichen Vorteile einer weiteren Ausbildung der Erfindung besteht darin, dass der vorgesehene Greifer in seiner Annäherung an das Substrat eine gewisse Toleranz aufweisen kann. Es ist nicht erforderlich, dass der Greifer exakt vor dem zu vereinzelnden Substrat anhält und dort positioniert wird. Vielmehr kann die Dämpfung, die aufgrund der Anordnung der Substrate innerhalb des Fluids sowie durch die Strömungseinrichtung entsteht, vorteilhaft ausgenutzt werden, indem der Greifer mit geringer Kraft entgegen der Vorschubrichtung gegen den Substratstapel fährt und so einen flächigen Kontakt zu dem zu vereinzelnden Substrat herstellt, welches aufgrund des dahinter liegenden fluiden Dämpfungskissens nachgiebig gelagert ist .
Ein weiterer Vorteil der Erfindung betrifft die Bereitstellung einer Vorrichtung, mit der die zwischen Greifer und Substrat vorhandenen Adhäsionskräfte maschinell und damit selbsttätig ausgenutzt werden, so dass jedes einzelne Substrat relativ unabhängig von seiner Größe und Außenkontur auf einfache Art und Weise bruchfrei entnommen, durch den Transport innerhalb des Fluids teilweise sogar vorgereinigt und in eine bestimmte Einrichtung wie beispielsweise auf eine Transportvorrichtung überführt werden kann.
Eine weitere alternative Ausführungsform der Entnahmeeinrichtung zeigt eine Einrichtung, die einen definierten Flexibilitätsgrad aufweist, so dass Toleranzen im Positionierungsbereich im Hinblick auf die flächige Anordnung der Aufnahme zu dem zu vereinzelnden Substrat ausgeglichen werden. Dabei ist der Greifer, die Handhabungseinrichtung und/oder die Verbindung zwischen beiden Bauteilen in sich biegsam ausgestaltet und entsprechend verformbar.
Um die Taktzeiten für die Vereinzelung zu erhöhen, ist nach einer besonders bevorzugten Ausführungsform ein weiteres Mittel zur Übernahme des vereinzelten Substrats von der Entnahmeeinrichtung vorgesehen. Innerhalb der Zeitspanne, in der das Substrat durch dieses weitere Mittel auf ein Förderband abgelegt wird, kann die Entnahmeeinrichtung bereits ein weiteres Substrat vom Substratstapel aufnehmen. Alternativ oder zusätzlich können zwei im Wesentlichen baugleiche Entnahmeeinrichtungen vorgesehen sein, die phasenverschoben geschaltet sind.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen gehen aus der nachfolgenden Beschreibung, den Ansprüchen sowie den Zeichnungen hervor . Zeichnungen Es zeigen : Fig . 1 [A-F] eine schematische Darstellung des erfinderischen Kerns der erfindungsgemäßen Vorrichtung, insbesondere des Ablaufs eines Vereinzelungs- und Transportprozesses eines zu vereinzelnden Substrats;
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 1 in Seitenansicht;
Fig. 3 eine schematische Darstellung der in Fig. 2 gezeigten Ausführungsform in perspektivischer Ansicht;
Fig. 4 [A] eine schematische Darstellung eines ersten Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 4 [B] eine schematische Darstellung eines ersten Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer Ansicht;
Fig. 5 [A] eine schematische Darstellung eines zweiten Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 5 [B] eine schematische Darstellung eines zweiten Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer Ansicht; Fig. 6 [A] eine schematische Darstellung eines dritten
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 6 [B] eine schematische Darstellung eines dritten
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer Ansicht;
Fig. 7 [A] eine schematische Darstellung eines vierten
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 7 [B] eine schematische Darstellung eines vierten Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen
Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer Ansicht;
Fig. 8 [A] eine schematische Darstellung eines fünften Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen
Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 8 [B] eine schematische Darstellung eines fünften
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer
Ansicht;
Fig. 9 [A] eine schematische Darstellung eines sechsten
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in Seitenansicht;
Fig. 9 [B] eine schematische Darstellung eines sechsten
Verfahrensschritts der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 2 in perspektivischer Ansicht. Beschreibung
In Figur 1, Darstellungen A-F, ist schematisch der Kerngedanke der erfinderischen Vorrichtung 101 sowie des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt. Diese Vorrichtung 101 ist geeignet zum Vereinzeln und Transportieren von scheibenförmig ausgebildeten Substraten 102.
Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Substrate 102 in einem Substratstapel 103 angeordnet, wobei der Substratstapel 103 in einer Trägereinrichtung 104 gelagert ist. Die einzelnen Substrate 102 sind bereits von einer Halteeinrichtung gelöst . Bevorzugt sind die Flächennormalen der eher in Vorschubrichtung weisenden Flächen der einzelnen Substrate 102 in einem Winkel α (Neigungswinkel) (in Figur 2 dargestellt) zur Vorschubrichtung angeordnet. Bei der Anordnung der Vorrichtung innerhalb eines Fluids wird im Falle eines stehenden Substratstapels 103 durch diese Schrägstellung verhindert, dass die einzelnen Substrate 102 aufschwimmen oder die Trägereinrichtung 104 ungewollt verlassen. Zudem lassen sich die einzelnen Substrate 102 durch die noch näher zu beschreibende Entnahmeeinrichtung 107 einfacher aufnehmen.
Die einzelnen flächig ausgebildeten Substrate 102 sind derart aneinandergereiht, dass sich deren Oberflächen berühren. Zwischen ihnen wirken Adhäsionskräfte, die von dem sehr kleinen Spalt zwischen den Substraten einerseits und ggf. von Verunreinigungen z.B. durch einen vorangegangenen Sägeschritt herrühren. Durch diese Anordnung geben die Substrate 102 eine definierte Vorschubrichtung 105 vor.
In den dargestellten Zeichnungen sind die Substrate schematisch dargestellt . Dabei bedeutet die schematisch dargestellte Blockansicht, dass die Substrate in diesem Bereich sehr eng aneinander liegen. In dem weiteren Bereich, nämlich dem Entnahmebereich, sind die Substrate aufgefächert und weisen einen Zwischenraum auf. Die Adhäsionskräfte zwischen den aufgefächerten Substraten betragen vorzugsweise null.
Ferner ist erfindungsgemäß eine Entnahmeeinrichtung 107 vorgesehen, die greiferartig ausgestaltet ist. Sie ist bei dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel schematisch dargestellt und zeigt im Wesentlichen einen Greifer 108. An dem Greifer 108 ist eine Handhabungseinrichtung (in Figur 1 [A] dargestellt) angeordnet, die es erlaubt, den Greifer 108 in verschiedene Richtungen zu bewegen und/oder zu verschwenken. Vorzugsweise ist der Greifer 108 in Pfeilrichtung 110 und um eine Achse in Pfeilrichtung 112 verschwenkbar.
Ferner ist eine Transporteinrichtung 113 vorgesehen. Diese Transportvorrichtung 113 besteht aus einem Förderband 114, das über eine Achse 115 in Pfeilrichtung 116 angetrieben wird.
Bevorzugt ist vorgesehen, dass zumindest bestimmte Teile der Vorrichtung 101, nämlich die Trägereinrichtung 104, der Substratstapel 103, sowie Teile der Entnahmeeinrichtung 107 innerhalb eines Fluids angeordnet sind. Hierdurch wird erreicht, dass die Substrate über die Dauer des gesamten Verfahrens, zumindest bis zu ihrer Ablage auf die Transporteinrichtung nicht trockenfallen. Optional können die restlichen Teile der Entnahmeeinrichtung 107 sowie die Transporteinrichtung 113 ebenfalls innerhalb des Fluids angeordnet sein, wobei die Transporteinrichtung alternativ auch eigene Mittel zur Befeuchtung der Substrate aufweisen kann.
Ferner ist zur Verbesserung der Vereinzelung der jeweiligen
Substrate 102 mindestens eine Strömungseinrichtung 117 mit Strömungsdüsen 118 angeordnet, durch die Fluid in Zwischenräume 119 eingebracht wird, wobei sich dieser Zwischenraum 119 jeweils zwischen dem zu vereinzelnden Substrat 102 und dem nachfolgenden Substrat 102 befindet. Vorzugsweise bleibt der jeweilige Zwischenraum 119 bestehen, solange von den Strömungsdüsen 118 Fluid in die Zwischenräume 119 ausströmt. Vorteilhafterweise bilden sich in einem definierten Bereich, in dem mehrere Substrate 102 angeordnet sind, zwischen jeweils zwei Substraten 102 Zwischenräume 119 aus.
Um zu verhindern, dass die einzelnen Substrate 102 durch die Strömung die Trägereinrichtung 104 verlassen, ist ein Andruckelement 122 vorgesehen, das bei dem in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiel im wesentlichen Andruckstifte 123 umfasst. Beim Verfahren des Substratstapels in Vorschubrichtung drückt das zu vereinzelnde Substrat gegen die Andruckstifte 123, wodurch eine Gegenkraft zu der Kraft ausgeübt wird, die durch das Einströmen des Fluids in die Zwischenräume 119 erzeugt wird.
In den Zwischenräumen 119 entstehen sogenannte Fluidkissen, durch die sichergestellt werden kann, dass die einzelnen an das jeweilige Fluidkissen anliegenden Substrate 102 im Abstand zueinander gehalten werden. Ferner weisen diese Fluidkissen die Eigenschaft auf, dass aufgrund des Ausübens der Gegenkraft zum einen durch das Andruckelement 122, aber auch durch das Anfahren des Greifes 108 an das zu vereinzelnde Substrat 102 eine Dämpfungswirkung entsteht.
In der Darstellung Figur 1 [B] ist der Greifer 108 der Einrichtung 107 bereits parallel zur Oberfläche des Substrats 102 angeordnet. Der Greifer 108 verfährt parallel in Pfeilrichtung 110 und in einem weiteren anschließenden Schritt auf die Fläche des Substrats 102 zu, und zwar soweit, bis dieser, wie es in Figur 1 [C] dargestellt ist, das zu vereinzelnde Substrat 102 kontaktiert hat. Aufgrund des Anfahrdruckes, der durch den Greifer 108 erzeugt wird, wenn er das Substrat 102 berührt, wird der jeweilige Zwischenraum zwischen zwei Substraten 102 verkleinert. Aufgrund der Anordnung des Fluids innerhalb der Zwischenräume 119 zwischen jeweils zu vereinzelnden Substraten 102 entsteht ein Dämpfungseffekt. In dieser Darstellung [C] werden die in der Zeichnung nicht näher dargestellten Bohrungen innerhalb des Greifers 108 aktiviert, indem gemäß obiger Darstellung ein Unterdruck erzeugt wird. Der Unterdruck führt dazu, dass der Greifer 108 das zu vereinzelnde Substrat 102 soweit ansaugt, dass sich der Spalt zwischen dem Substrat 102 und dem Greifer 108 sehr stark verkleinert und sich zwischen den Kontaktflächen eine Adhäsionskraft ausbildet. Das Auffächern wird durch das Ausströmen des Fluids aus den Strömungsdüsen 118 unterstützt.
Der Greifer 108 bewegt sich mit dem anhaftenden Substrat 102 gemäß Darstellung [D] soweit, bis er das Substrat 102 auf die Transporteinrichtung 113 ablegen kann. Bei diesem Vorgang muss die Einheit aus Substrat und Greifer ein Stück entgegen der Vorschubrichtung 105 verfahren werden, so dass es bei der anschließenden Entnahmebewegung zu keiner Kontaktierung der Andruckstifte 123 mit der Substratfläche kommt. Zur Freigabe des Wafers kann alternativ auch die Lagebestimmungseinrichtung ein Stück in Vorschubrichtung verfahren werden. Diese beiden Bewegungen können erfindungsgemäß auch kombiniert werden. Gemäß Darstellung [E] wird das Substrat 102 flächig auf das Förderband 114 positioniert. Für das Vereinzeln des nächsten Substrats 102 wird gemäß Darstellung [F] der Greifer 108 wieder in die gemäß Darstellung [B] gezeigte Position verfahren.
Die Adhäsionskräfte, die beim Ansaugen des zu vereinzelnden
Substrats 102 entstehen, sind derart bemessen, dass diese ausreichen, das durch den Greifer 108 aufgenommene Substrat 102 innerhalb des Fluids zu transportieren.
In den Figuren 2 und 3 ist schematisch eine Vorrichtung 201 dargestellt, die im Vergleich zu Fig. 1 eine Weiterbildung des Grundgedankens darstellt.
Die Vorrichtung 201 ist insbesondere zum Vereinzeln und Transportieren von scheibenförmig ausgebildeten Substraten 202 geeignet .
Bei dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Substrate 202 in einem Substratstapel 203 angeordnet, wobei der Substratstapel 203 in einer Trägereinrichtung 204 gelagert ist und die einzelnen Substrate 202 bereits von einer Halteeinrichtung gelöst sind.
Bevorzugt sind die einzelnen Substrate 202 in einem Neigungswinkel α (Fig. 2) zwischen der Vorschubrichtung 205 und der eher in Vorschubrichtung weisenden Flächennormalen des Substrats angeordnet. Durch diese Schrägstellung wird bei Anordnung der Vorrichtung innerhalb eines Fluids und bei einer stehenden Position des Substratstapels 203 verhindert, dass die einzelnen Substrate 202 aufschwimmen und die Trägereinrichtung 204 ungewollt verlassen. Die Substrate 202 sind derart angeordnet, dass sich deren Oberflächen berühren. Die einzelnen Substrate 202 bilden dadurch eine Aneinanderreihung, die eine definierte Vorschubrichtung 205 ergibt.
Ferner ist erfindungsgemäß eine Entnahmeeinrichtung 207 vorgesehen, die greiferartig ausgestaltet ist. Sie ist bei dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel schematisch dargestellt und zeigt im Wesentlichen einen Greifer 208. An dem Greifer 208 ist eine Handhabungseinrichtung 209 angeordnet, die es erlaubt, den Greifer 208 in verschiedene Richtungen (Pfeilrichtungen 210, 211, 212) zu verschieben und zu verschwenken. Der Greifer 208 und die Handhabungseinrichtung 209 bilden zusammen einen Greifarm.
Ferner ist eine Transporteinrichtung 213 vorgesehen. Diese
Transporteinrichtung 213 besteht aus einem Förderband 214, das über eine Achse 15 in Pfeilrichtung 216 angetrieben wird.
In der bevorzugten Ausführungsform ist vorgesehen, dass zumindest bestimmte Teile der gesamten Vorrichtung 201, nämlich die Trägereinrichtung 204, der Substratstapel 203, und Teile der Entnahmeeinrichtung 207, innerhalb eines Fluids angeordnet sind. Hierdurch wird erreicht, dass die Substrate über die Dauer des gesamten Verfahrens, zumindest bis zu ihrer Ablage auf die Transporteinrichtung nicht trockenfallen. Optional können auch die restlichen Teile der Entnahmeeinrichtung 207 sowie die Transporteinrichtung 213 in dem Fluid angeordnet sein, wobei die Transporteinrichtung alternativ auch eigene Mittel zur Befeuchtung der Substrate aufweisen kann.
Ferner ist zur Verbesserung der Vereinzelung der jeweiligen Substrate 202 in der Nähe des Stapelanfangs mindestens eine Strömungseinrichtung 217 mit Strömungsdüsen 218 angeordnet, durch die Fluid in einen Zwischenraum 219 eingebracht wird, wobei der Zwischenraum 219 jeweils zwischen dem zu vereinzelnden Substrat 202 und dem nachfolgenden Substrat 202 entsteht. Die Strömungsdüsen 218 sind insbesondere in dem Bereich des Substratstapels 203 angeordnet, der unmittelbar für die Auffächerung bestimmt ist. In der Regel betrifft dies mindestens die ersten vier bis neun Substrate 202, die dem gerade zu vereinzelnden Substrat 202 folgen. Dadurch entstehen mehrere Zwischenräume 219, wobei jeder Zwischenraum 219 links und rechts von einem Substrat 202 begrenzt ist. Innerhalb des Zwischenraums 219 bildet sich ein Fluidkissen aus, das dämpfende Eigenschaften besitzt.
Ferner ist in Fig. 2 und Fig. 3 eine Lagebestimmungseinrichtung 220 dargestellt. Diese Lagebestimmungseinrichtung 220 besteht im Wesentlichen aus einer weiteren Handhabungseinrichtung 221 sowie einem an einem freien Ende der Handhabungseinrichtung 221 angeordneten Andruckelement 222. Das Andruckelement 222 umfasst ferner Andruckstifte 223, die die Oberfläche der jeweiligen Substrate 202 gemäß Fig. 2 und 3 in einer definierten Lage berühren bzw. es mittels der Berührung in eine definierte Lage bringen und dort halten. Die weitere Handhabungseinrichtung 221 ist in und entgegen Pfeilrichtung 230 verschiebbar gelagert.
Ferner ist der Lagebestimmungseinrichtung 220 ein Sensorelement 224 zugeordnet. Dieses Sensorelement 224 hat die Aufgabe, zu detektieren, ob an dem Andruckelement 222 und/oder an den Andruckstiften 223 eine flächige Anlage des zu vereinzelnden Substrats 202 vorliegt.
Eine besondere Ausbildung dieses Sensorelements 224 ist in den
Fig. 2 und 3 dargestellt. Dieses Sensorelement 224 tastet mechanisch das Vorhandensein des zu vereinzelnden Substrats 202 ab. Hierfür sind unterschiedliche Stellungen vorgesehen, die über einen Näherungsschalter 229 detektiert werden. Das Sensorelement 224 weist eine kniehebelartige Ausbildung auf, wobei diese an einem Gelenk 225 schwenkbar in und gegen die Pfeilrichtung 226 gelagert ist. Das eine freie Ende 227 dient zur Auflage an der Oberfläche des zu detektierenden Substrats 202. Das andere Ende 228 ist zur Anordnung im Bereich des Näherungsschalters 229 vorgesehen. Die Grundstellung des Sensorelements 224 wird dann eingenommen, wenn an dem freien Ende 227 kein Substrat 202 detektiert wird. Das freie Ende 227 steht über eine gedachte Linie zwischen den freien Enden der Andruckstifte 223, und das andere freie Ende 228 ist derart gestaltet, dass der Abstand des freien Endes 228 zum Näherungsschalter nahezu Null ist. Sobald das freie Ende 227 Druck erfährt, verschwenkt das Sensorelement 224, und der Abstand des freien Endes 228 zum Näherungsschalter vergrößert sich. Hat dieser eine zuvor kalibrierte Stellung eingenommen, kann selbsttätig festgestellt werden, ob an den freien Enden der Andruckstifte 223 ein Substrat 202 anliegt. Ohne Druck an dem freien Ende 227 geht das Sensorelement 224 wieder in seine Grundstellung über. In alternativen, nicht näher erläuterten Ausführungsformen des Sensorelementes 224 kann die Detektion des Vorhandenseins des Substrates und seiner Position auch mittels anderer, geeigneter Vorrichtungen, wie mittels z.B. optischer oder akustischer Näherungsschalter, erfolgen, wobei ggf- auf die mechanische Weiterleitung der Berührungsinformation mittels Kniehebel und Gelenk 225 verzichtet werden kann .
Das Andruckelement 222 ist vorzugsweise in einem Winkel zur Handhabungseinrichtung 221 angeordnet, der dem Neigungswinkel α entspricht. So weisen die einzelnen Andruckstifte 223 vorzugsweise dieselbe Länge auf.
Alternativ hierzu kann vorgesehen sein, dass das Andruckelement 222 senkrecht zur Handhabungseinrichtung 221 angeordnet ist, und die Andruckstifte 223 unterschiedliche Längen aufweisen, so dass in der dargestellten Position immer die freien Enden der Andruckstifte 223 die Oberfläche des Substrats 202 berühren.
Die Funktionsweise der Lagebestimmungseinrichtung 220 ist derart, dass der Substratstapel 203 in Vorschubrichtung 205 gefahren wird, und zwar soweit, bis die Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats 202 die freien Enden der Andruckstifte 223 der Andruckeinrichtung 222 kontaktiert. Bei läge- und positionsgerechter Ausrichtung des zu vereinzelnden Substrats 202 wird das Sensorelement 224 in eine der Pfeilrichtungen 226 bewegt, und der Näherungsschalter 229 detektiert die korrekte Lage.
Ist die Lage des zu vereinzelnden Substrats 202 positionsgerecht, so kann die Entnahmeeinrichtung 207 in den von den Andruckstiften 223 gebildeten Zwischenraum eintauchen und das zu vereinzelnde Substrat 202 aufnehmen.
Im nachfolgenden werden die einzelnen Verfahrensschritte anhand der Fig. 4 bis 9 näher erläutert.
In Fig. 4 A und B ist die sogenannte Beladesituation der erfindungsgemäßen Vorrichtung 201 dargestellt. Die Trägereinrichtung 204 ist zur Aufnahme eines noch nicht näher dargestellten Substratstapels bereit.
Durch entsprechende Mittel ist bereits der gewünschte Neigungswinkel α des Substratstapels vorgegeben. Die Entnahmeeinrichtung 207 und die Lagebestimmungseinrichtung 220 befinden sich in ihrer Ausgangssituation und können in Pfeilrichtung 210 bzw. Pfeilrichtung 230 verfahren werden. Das Sensorelement 224, das an dem Andruckelement 222 angeordnet ist, ist ebenfalls in seiner Ausgangsstellung und detektiert kein an den Andruckstiften 223 anliegendes Substrat.
Der Greifer 208 der Entnahmeeinrichtung 207 befindet sich ebenfalls in einer Ausgangssituation, so dass er zwischen die Andruckstifte 223 des Andruckelements 222 eintauchen kann.
Die Transporteinrichtung 213 ist für die Aufnahme von Substraten bereit. Die Strömungsdüsen 218 der Strömungseinrichtung 217 sind noch ausgeschaltet. Fig. 5 A und B zeigen, dass die Trägereinrichtung 204 nun durch den Substratstapel 203 beladen ist. Diese Trägereinrichtung 204 bzw. der Substratstapel 203 wird in Vorschubrichtung 205 verfahren und zwar soweit, bis die durch Bewegung in Pfeilrichtung 230 positionierte Lagebestimmungseinrichtung 220 eine definierte Position eingenommen hat. In dieser Position berühren das Andruckelement 222 bzw. dessen Andruckstifte 223 die Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats 202.
Um eine bestimmte läge- und formgerechte Ausrichtung der Substrate 202 zu bewirken, führen die Strömungsdüsen 218 der Strömungseinrichtung 217 Fluid auf den Substratstapel 203, so dass zumindest ein Teil des Substratstapels 203 auffächert und spaltartige Zwischenräume 219 entstehen. Aufgrund des Andrückens des Andruckelements 222 wird verhindert, dass die einzelnen Substrate 202 weiter auffächern. Es wird dadurch auch erreicht, dass die Substrate 202 auf der Trägereinrichtung 204 verbleiben. Sofern durch das Auffächern die entsprechende Position des zu vereinzelnden Substrats 202 erreicht ist, wird durch die Sensoreinheit 224 die exakte Lage detektiert. Ist diese nicht erreicht, so verfährt entweder die Lagebestimmungseinrichtung 220 weiter in Pfeilrichtung 230, und/oder es wird weiter bewirkt, dass der Substratstapel 203 weiter aufgefächert wird. Erreichen beide Maßnahmen nicht, dass die Sensoreinheit 224 ein entsprechendes Signal zur Freigabe der Entnahmeeinrichtung 207 ausgibt, so wird eine Störungsmeldung signalisiert .
In Fig. 6 A und B strömen die Strömungsdüsen 218 weiter Fluid in den Zwischenraum 219, um insbesondere zu erreichen, dass in den Zwischenräumen 219 ein sogenanntes Fluidkissen entsteht. Dieses Fluidkissen dient dazu, eine entsprechende Dämpfungswirkung zwischen den einzelnen Substraten zu erreichen. Nun erfolgt die Freigabe aufgrund der lagegerechten Position der Substrate 202, da das Sensorelement 224 derart verschwenkt ist, dass der Näherungsschalter 229 betätigt worden ist.
Die Entnahmeeinrichtung 207 bewegt sich nun in Pfeilrichtung 210 derart, dass der Greifer 208 zwischen den Andruckstiften 223 des Andruckelements 222 der Lagebestimmungseinrichtung 220 hindurchtaucht und in den Bereich der Anlage der Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats 202 gelangt. Durch Verschwenken der Entnahmeeinrichtung 207 in Pfeilrichtung 211 wird eine Anlage des Greifers 208 an die Oberfläche des Substrats 202 bewirkt. Durch auftretende Adhäsionskräfte, die insbesondere dadurch verstärkt werden, dass zwischen dem Greifer 208 und der Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats 202 ein Unterdruck ausgebildet wird, kann das Substrat entgegen der Pfeilrichtung 210 wie in Fig. 7 A und B dargestellt entnommen werden. Alternativ oder zusätzlich ist vorgesehen, den Greifer in Pfeilrichtung 212 (Fig. 7 A) zu verschwenken, bis eine flächige Anlage an der Oberfläche des Substrats 202 erfolgt. Dadurch ist das zu vereinzelnde Substrat freigegeben und kann, wie in Fig. 7 A und B dargestellt, in Pfeilrichtung 210 entnommen werden, um es anschließend auf der Transporteinrichtung 213 abzulegen.
Um jedoch zu verhindern, dass die Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats 202 beschädigt wird, wird, wie in Fig.
7 A und B dargestellt, entweder das Andruckelement 222 ein
Stück zurückgefahren, oder die Trägereinrichtung 204 bzw. der
Substratstapel 203 fährt gegen die Vorschubrichtung 205 ein
Stück zurück. Das Sensorelement 224 verschwenkt wieder in seine Ausgangslage und der Näherungsschalter detektiert, dass das zu vereinzelnde Substrat 202 nicht mehr an den Andruckstiften 223 anliegt . In der Zeitspanne (Fig. 8 A und B), in der die Entnahmeeinrichtung 207 bzw. ihr Greifer 208 in Pfeilrichtung 212 verschwenkt, um das zu vereinzelnde Substrat 202 auf der Transportvorrichtung 213 bzw. auf ihr Transportband 214 abzulegen, verfährt die Trägereinrichtung 204 bzw. der Substratstapel 203 wiederum in Vorschubrichtung 205 gegen die Lagebestimmungseinrichtung 220, bis wieder eine Anlage des zu vereinzelnden Substrats 202 an dem Andruckelement 222 bzw. an seinen Andruckstiften 223 erfolgt.
Die Ablage des Substrats 202 durch die Entnahmeeinrichtung 207 ist in den Fig. 9 A und B dargestellt. Das Substrat 202 wird auf dem Transportband 214 der Transportvorrichtung 213 abgelegt und durch einen Antrieb an der Achse 215 in Pfeilrichtung 216 wegtransportiert.
Entweder während dieses Prozesses oder darauffolgend wird durch die Strömungseinrichtung 217 bzw. ihren Strömungsdüsen 218 wiederum Fluid in die Zwischenräume 219 des Substratstapels 203 geführt, so dass eine entsprechende Auffächerung stattfindet, und zwar soweit, bis das zu vereinzelnde Substrat 202 wiederum zur Anlage an die Andruckstifte 223 des Andruckelements 222 der Lagebestimmungseinrichtung 220 gelangt. Dabei erzeugt die Sensoreinheit 224 das Signal zur Freigabe der Abholung des zu vereinzelnden Substrats 202 durch die Entnahmeeinrichtung 207. Auf diese Weise wird der entsprechende Prozess wiederholt, so oft es nötig ist.
Sobald kein Substrat 202 mehr im Substratstapel 203 vorhanden ist, wird das Fehlen von Substraten 202 durch das Andruckelement 222 bzw. das Sensorelement 224 detektiert, und eine entsprechende Fehlermeldung wird ausgegeben. Die Adhäsionskräfte, die beim Ansaugen des zu vereinzelnden Substrats 202 entstehen, sind derart bemessen, dass diese gerade ausreichen, das durch den Greifer 208 aufgenommene Substrat 202 innerhalb des Fluids zu transportieren.
Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf die Behandlung von Siliziumwafern dargelegt. Selbstverständlich können auch scheibenförmige Substrate aus anderen Materialien wie z.B. Kunststoff erfindungsgemäß bearbeitet werden.
Bezugs zeichenliste
101 201 Vorrichtung
102 202 Substrat
103 203 SubstratStapel
104 204 Trägereinrichtung
105 205 Vorschubrichtung
206 Bohrungen
107 207 Entnahmeeinrichtung
108 208 Greifer
209 Handhabungseinrichtung
110 210 Pfeilrichtung
211 Pfeilrichtung
112 212 Pfeilrichtung
113 213 Transporteinrichtung
114 214 Förderband
115 215 Achse
116 216 Pfeilrichtung
117 217 Strömungseinrichtung
118 218 Strömungsdüsen
119 219 Zwischenraum
220 Lagebestimmungseinrichtung
221 weitere Handhabungseinrichtung
122 222 Andruckelement
123 223 Andruckstifte
224 Sensorelement
225 Gelenk
226 Pfeil
227 freies Ende
228 anderes freies Ende
229 Näherungsschalter
230 Pfeilrichtung
α α Neigungswinkel

Claims

Patentansprüche
1. Vorrichtung zum Vereinzeln und Transportieren von scheibenförmig ausgebildeten Substraten, wobei die Vorrichtung im Wesentlichen folgende Baugruppen umfasst:
eine innerhalb eines Fluids angeordnete Trägereinrichtung (104; 204), in der die einzelnen Substrate (102; 202) in Vorschubrichtung (105; 205) sequenziell hintereinander stehend in Form eines Substratstapels
(103; 203) angeordnet sind, eine Entnahmeeinrichtung (107; 207) zum Vereinzeln und Transportieren mindestens eines Substrats (102; 202), wobei die Entnahmeeinrichtung (107; 207) einen Greifer (108; 208) mit Mitteln umfasst, mit denen das Substrat
(102; 202) aufnehmbar und von der Trägereinrichtung (104; 204) wegfϋhrbar ist, eine Strömungseinrichtung (117; 217) zum Auffächern zumindest eines Teils des Substratstapels (103; 203), und ein Andruckelement (122; 222), das den aufgefächerten Substraten (102; 202) entgegenwirkt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Andruckelement (122; 222) mehrere Andruckstifte (123;
223) umfasst, die gegen die Oberfläche des zu vereinzelnden Substrats (102; 202) drücken.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine Lagebestimmungseinrichtung (220) zum Detektieren der Lage und/oder Position zumindest des zu vereinzelnden Substrats (202) vorgesehen ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Greifer (108; 208) derart ausgebildet ist, dass die Entnahme des zu vereinzelnden Substrats (102; 202) quer oder zumindest ungefähr senkrecht zur Vorschubrichtung (105; 205) erfolgt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Entnahme parallel zur flächigen Ausbildung des zu vereinzelnden Substrats (102; 202) erfolgt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Greifer (108; 208) Öffnungen aufweist, durch die Fluid ansaugbar oder ausgebbar ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Greifer (108; 208) in Draufsicht balkenförmig, fingerförmig, O-förmig, U-förmig, V-förmig oder flächenmäßig ausgestaltet ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinrichtung (104; 204) Mittel aufweist, durch die die zu vereinzelnden Substrate (102; 102) entlang einem Neigungswinkel α ausrichtbar sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Neigungswinkel α derart gewählt ist, dass der sich zwischen Vorschubrichtung (105; 205) und Flächennormalen der eher in Vorschubrichtung weisenden Substratfläche der einzelnen Substrate (102; 202) ergebende Winkel positiv ist, was mit einer Neigung der Substrate nach hinten gleichbedeutend ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinrichtung (104; 204) in mindestens eine Richtung verschiebbar ist .
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinrichtung (104; 204) und/oder der Substratstapel (103; 203) gegen das Andruckelement (122; 222) verschiebbar ist bzw. sind.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinrichtung (204) und/oder der Substratstapel (203) gegen die Lagebestimmungseinrichtung (220) verschiebbar ist bzw. sind.
13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie ferner eine über dem Substratstapel (103; 203) mit den zu vereinzelnden Substraten (102; 202) angeordnete Transporteinrichtung (113; 213) umfasst.
14. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagebestimmungseinrichtung (220) einen Sensor (222) zur Prüfung der Anlage eines Substrats (202) umfasst.
15. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Andruckelement (122; 222) derart angeordnet ist, dass der Greifer (108; 208) zwischen seinen Andruckstiften (123; 223) positionierbar ist.
16. Verfahren zum Auffächern, Vereinzeln und Transportieren von scheibenförmig ausgebildeten Substraten unter Verwendung einer Vorrichtung, welche im Wesentlichen folgende Baugruppen umfasst : eine innerhalb eines Fluids angeordnete Trägereinrichtung (104; 204), in der die einzelnen Substrate (102; 202) in Vorschubrichtung (105; 205) sequenziell hintereinander stehend in Form eines Substratstapels (103; 203) angeordnet sind, eine Entnahmeeinrichtung (107; 207) zum Vereinzeln und Transportieren mindestens eines Substrats (102; 202), wobei die Entnahmeeinrichtung (107; 207) einen Greifer (108; 208) mit Mitteln umfasst, mit denen das Substrat (102; 202) aufnehmbar und von der Trägereinrichtung
(104; 204) wegführbar ist, eine Strömungseinrichtung (117; 217) zum Auffächern zumindest eines Teils des Substratstapels (103; 203), und - ein Andruckelement (122; 222), das den aufgefächerten Substraten (102; 202) entgegenwirkt
, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst :
a. Verfahren der Trägereinrichtung (104; 204) zusammen mit dem Substratstapel (103; 203) bzw. des Substratstapels (103; 203) in Vorschubrichtung (105; 205) gegen das Andruckelement (123; 223) zum Erreichen einer Entnahmeposition für das zu vereinzelnde Substrat (102; 202), b. Auffächern zumindest eines Bereichs des Substratstapels (103; 203) durch eine Strömungseinrichtung (117; 217) derart, dass Zwischenräume (119; 219) entstehen; c. Vereinzeln des Substrats durch
Positionieren des Greifers (108; 208) nahezu parallel zur flächigen Ausbildung des Substrats (102; 202),
Herstellung eines Haftkontaktes zwischen Substrat (102; 202) und Greifer (108; 208), und Entnehmen des Substrats (102; 202) innerhalb des Fluids quer zur Vorschubrichtung (105; 205) bzw. parallel zur flächigen Ausbildung der Substrate (102; 202) .
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass innerhalb des Substratstapels (103; 203) durch das Auffächern mittels der Strömungseinrichtung (117; 217) Zwischenräume (119; 219) gebildet werden, und durch die Fluidströmung der Strömungseinrichtung (117; 217) in den Zwischenräumen (119; 219) Fluidkissen entstehen, die eine dämpfende Wirkung beim Anfahren des Greifers (108; 208) auf das zu vereinzelnde Substrat (102; 202) erzeugen.
PCT/EP2007/005968 2006-07-06 2007-07-05 Vorrichtung und verfahren zum vereinzeln und transportieren von substraten WO2008003502A1 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/064,451 US20080213079A1 (en) 2006-07-06 2007-07-05 Apparatus and Method for Separating and Transporting Substrates
CN2007800011343A CN101356047B (zh) 2006-07-06 2007-07-05 用于分开和输送基片的装置和方法
JP2008532810A JP5006880B2 (ja) 2006-07-06 2007-07-05 基板を分離搬送する装置及び方法
NO20080795A NO20080795L (no) 2006-07-06 2008-02-13 Anordning og fremgangsmate for separasjon og transport av et substrat

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006031629 2006-07-06
DE102006031629.0 2006-07-06
EP06026054.4 2006-12-15
EP06026054A EP1935599B1 (de) 2006-12-15 2006-12-15 Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008003502A1 true WO2008003502A1 (de) 2008-01-10

Family

ID=38476138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2007/005968 WO2008003502A1 (de) 2006-07-06 2007-07-05 Vorrichtung und verfahren zum vereinzeln und transportieren von substraten

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20080213079A1 (de)
JP (1) JP5006880B2 (de)
KR (1) KR100992108B1 (de)
CN (1) CN101356047B (de)
MY (1) MY142778A (de)
NO (1) NO20080795L (de)
RU (1) RU2380305C2 (de)
WO (1) WO2008003502A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8852391B2 (en) 2010-06-21 2014-10-07 Brewer Science Inc. Method and apparatus for removing a reversibly mounted device wafer from a carrier substrate
US9099512B2 (en) 2008-01-24 2015-08-04 Brewer Science Inc. Article including a device wafer reversibly mountable to a carrier substrate
US9263314B2 (en) 2010-08-06 2016-02-16 Brewer Science Inc. Multiple bonding layers for thin-wafer handling
US20230005774A1 (en) * 2021-07-01 2023-01-05 Hangzhou Zhongwei Photoelectric Technology Co., Ltd. Device for conveying and dispersing silicon wafers

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090101219A (ko) * 2006-12-19 2009-09-24 알이씨 스캔웨이퍼 에이에스 실리콘 웨이퍼들의 분리 방법 및 장치
GB2465592B (en) * 2008-11-21 2011-12-07 Coreflow Ltd Method and device for facilitating separation of sliced wafers
KR101066978B1 (ko) * 2009-03-16 2011-09-23 주식회사 에스에프에이 태양전지용 웨이퍼의 분리 및 이송 장치
GB2476315A (en) * 2009-12-21 2011-06-22 Rec Wafer Norway As Cleaning a stack of thin wafers
JP5585911B2 (ja) * 2010-03-04 2014-09-10 武井電機工業株式会社 ウェハの分離方法及びウェハ分離移載装置
JP5646897B2 (ja) * 2010-07-21 2014-12-24 エア・ウォーター株式会社 ウエハの枚葉化方法および装置
CN102180364B (zh) * 2010-07-22 2016-04-13 中钞信用卡产业发展有限公司 卡片送料装置及送料方法
DE102010045098A1 (de) * 2010-09-13 2012-03-15 Rena Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten
CN102956530A (zh) * 2011-08-31 2013-03-06 日本麦可罗尼克斯股份有限公司 晶片的分离方法及分离装置
JP2013149706A (ja) * 2012-01-18 2013-08-01 Nippon Steel & Sumikin Fine Technology Co Ltd ウエハ搬送装置およびウエハ搬送方法
JP5849201B2 (ja) * 2013-05-28 2016-01-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 切り残し部除去装置
CN104555414B (zh) * 2014-11-28 2017-02-01 芜湖银星汽车零部件有限公司 一种铺设用上料机
TWI780451B (zh) * 2020-07-03 2022-10-11 住華科技股份有限公司 自動化取放片設備以及光學膜的取放方法
CN113428612B (zh) * 2021-06-22 2022-08-30 安徽轰达电源有限公司 一种用于蓄电池的板栅上片装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0762483A1 (de) * 1995-09-06 1997-03-12 Nippei Toyama Corporation Plättchenbehandlungssystem
DE19900671A1 (de) * 1999-01-11 2000-07-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Vereinzeln von scheibenförmigen Substraten, insbesondere zur Waferherstellung
DE19904834A1 (de) * 1999-02-07 2000-08-10 Acr Automation In Cleanroom Vorrichtung zum Ablösen, Vereinzeln und Einlagern von dünnen, bruchempfindlichen scheibenförmigen Substraten
WO2001028745A1 (de) * 1999-10-16 2001-04-26 Acr Automation In Cleanroom Gmbh Verfahren und einrichtung zum vereinzeln von scheibenförmigen substraten
DE102005045583A1 (de) * 2005-05-20 2006-11-23 Brain, Bernhard Verfahren zur Vereinzelung von gestapelten, scheibenförmigen Elementen und Vereinzelungsvorrichtung

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4042126A (en) * 1976-02-26 1977-08-16 Simplicity Pattern Co. Inc. Methods and apparatus for retrieval of stored articles from a stack
DE4100526A1 (de) * 1991-01-10 1992-07-16 Wacker Chemitronic Vorrichtung und verfahren zum automatischen vereinzeln von gestapelten scheiben
JP3377161B2 (ja) * 1995-12-25 2003-02-17 株式会社日平トヤマ ウエハの処理システム
JPH10114426A (ja) * 1996-10-11 1998-05-06 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ取出装置
JP3209116B2 (ja) 1996-10-11 2001-09-17 株式会社東京精密 スライスベース剥離装置
JP3582762B2 (ja) * 1997-06-30 2004-10-27 大日本スクリーン製造株式会社 基板保持装置およびこれを利用した基板処理装置
JP3870496B2 (ja) * 1997-08-04 2007-01-17 株式会社東京精密 スライスベース剥離装置
JPH1174164A (ja) * 1997-08-27 1999-03-16 Canon Inc 基板処理装置、基板支持装置及び基板処理方法並びに基板の製造方法
NL1011077C2 (nl) * 1999-01-19 2000-07-20 Meco Equip Eng Werkwijze en inrichting voor het langs een snijlijn(en) van elkaar scheiden van met een gemeenschappelijke drager gevormde producten.
WO2004051735A1 (ja) * 2002-12-05 2004-06-17 Mimasu Semiconductor Industory Co., Ltd. ウェハ単離装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0762483A1 (de) * 1995-09-06 1997-03-12 Nippei Toyama Corporation Plättchenbehandlungssystem
DE19900671A1 (de) * 1999-01-11 2000-07-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Vereinzeln von scheibenförmigen Substraten, insbesondere zur Waferherstellung
DE19904834A1 (de) * 1999-02-07 2000-08-10 Acr Automation In Cleanroom Vorrichtung zum Ablösen, Vereinzeln und Einlagern von dünnen, bruchempfindlichen scheibenförmigen Substraten
WO2001028745A1 (de) * 1999-10-16 2001-04-26 Acr Automation In Cleanroom Gmbh Verfahren und einrichtung zum vereinzeln von scheibenförmigen substraten
DE102005045583A1 (de) * 2005-05-20 2006-11-23 Brain, Bernhard Verfahren zur Vereinzelung von gestapelten, scheibenförmigen Elementen und Vereinzelungsvorrichtung

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9099512B2 (en) 2008-01-24 2015-08-04 Brewer Science Inc. Article including a device wafer reversibly mountable to a carrier substrate
US9111981B2 (en) 2008-01-24 2015-08-18 Brewer Science Inc. Method for reversibly mounting a device wafer to a carrier substrate
US8852391B2 (en) 2010-06-21 2014-10-07 Brewer Science Inc. Method and apparatus for removing a reversibly mounted device wafer from a carrier substrate
US9263314B2 (en) 2010-08-06 2016-02-16 Brewer Science Inc. Multiple bonding layers for thin-wafer handling
US9472436B2 (en) 2010-08-06 2016-10-18 Brewer Science Inc. Multiple bonding layers for thin-wafer handling
US20230005774A1 (en) * 2021-07-01 2023-01-05 Hangzhou Zhongwei Photoelectric Technology Co., Ltd. Device for conveying and dispersing silicon wafers
US11728186B2 (en) * 2021-07-01 2023-08-15 Hangzhou Zhongwei Photoelectric Technology Co., Ltd. Device for conveying and dispersing silicon wafers

Also Published As

Publication number Publication date
NO20080795L (no) 2009-04-06
KR100992108B1 (ko) 2010-11-04
JP5006880B2 (ja) 2012-08-22
MY142778A (en) 2010-12-31
CN101356047A (zh) 2009-01-28
CN101356047B (zh) 2011-11-09
US20080213079A1 (en) 2008-09-04
KR20080038377A (ko) 2008-05-06
JP2009509891A (ja) 2009-03-12
RU2008115260A (ru) 2009-10-27
RU2380305C2 (ru) 2010-01-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008003502A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum vereinzeln und transportieren von substraten
EP2428987B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten
DE102005057173B4 (de) Teilungseinrichtung für ein rechteckförmiges Substrat
DE19906805B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Transportieren von zu bearbeitenden Substraten
EP1220739B1 (de) Verfahren und einrichtung zum vereinzeln von scheibenförmigen substraten
DE102005023618B3 (de) Einrichtung zum Vereinzeln von Silizium-Wafern von einem Stapel
DE19900671C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Vereinzeln von scheibenförmigen Substraten, insbesondere zur Waferherstellung
EP2422357B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum trennen eines substrats von einem trägersubstrat
DE102006059809B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten
EP1951490B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur vereinzelung von scheibenförmigen substraten unter nutzung von adhäsionskräften
DE102007021512A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Vereinzelung
WO2021170732A1 (de) Verfahren zum ausrichten von dünnschichtelementen und vorrichtung
EP1935599B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Vereinzeln und Transportieren von Substraten
EP2508276B1 (de) Blechentnahmestation
EP1990293B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Vereinzelung
EP0683126B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Bereitstellung eines Bogenstapels für eine Druckmaschine
WO2011063988A1 (de) Vereinzelungsvorrichtung
EP4017822A1 (de) Substrathandhabungssysteme mit einer bogenbearbeitungsmaschine und zumindest einer ausrichteinrichtung und verfahren zur ausrichtung und/oder lockerung zumindest eines teilstapels von bogen
DE102020105186A1 (de) Substrathandhabungssystem mit einer Bogenbearbeitungsmaschine und zumindest einer Ausrichteinrichtung und Verfahren zur Ausrichtung und/oder Lockerung zumindest eines Teilstapels von Bogen
EP1941969B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten von Werkstücken
WO2014012879A1 (de) Vorrichtung zum separieren von wafern
DE102004060040B3 (de) Vorrichtung zum Vereinzeln und Sortieren scheibenförmiger Substrate
EP1274535B1 (de) Verfahren zur vereinzelung von sägeblattgrundkörpern aus einem magazin für eine aufnahmevorrichtung
WO2023165784A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum vereinzeln von werkstücken
DD262003A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ab- und aufstapeln von glastafeln

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200780001134.3

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12008500430

Country of ref document: PH

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12064451

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1639/DELNP/2008

Country of ref document: IN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020087004916

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008532810

Country of ref document: JP

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07765088

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008115260

Country of ref document: RU

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07765088

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1