JPH10114426A

JPH10114426A - ウェーハ取出装置

Info

Publication number: JPH10114426A
Application number: JP26984296A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Nakaura; 健一中浦
Original assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Current assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date: 1996-10-11
Filing date: 1996-10-11
Publication date: 1998-05-06

Abstract

(57)【要約】【課題】水中に浸漬されたカセット内に多数枚積み重ね
られて格納されたウェーハを１枚ずつ確実に取り出すこ
とができるウェーハ取出装置の提供。【解決手段】まず、カセット１０内に格納されたウェー
ハＷ、Ｗ、…をカセットから独立させて、水面上の所定
位置まで上昇させる。そして、最上段に位置するウェー
ハＷａを、その上方に待機していた吸着パッド５５で吸
着保持する。次に、前記吸着パッド５５で吸着保持した
ウェーハＷａを下降させ、洗浄水槽１１内に浸漬させ
る。そして、洗浄液中で液体噴射ノズル６２から前記吸
着パッド５５で吸着保持したウェーハＷａに向けて洗浄
液を噴射する。ここで、前記吸着パッド５５で吸着保持
したウェーハＷａの下面に２段目以降のウェーハが吸着
している場合は、前記噴射ノズル６２から噴射された洗
浄液の液流で、振るい落とされるので、振るい落とした
のち、上昇させてウェーハＷａを取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ取出装置
に係り、特に水槽内に配置されたカセット内に多数枚積
み重ねられて格納されたウェーハを１枚ずつ取り出すウ
ェーハ取出装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
で切り出された後、スライスベースの剥離、面取り、研
磨等の各製造工程を経て製品として完成する。そして、
この各ウェーハ製造装置間をウェーハはカセットに格納
された状態で搬送され、連続的に処理される。

【０００３】ところで、前記ウェーハを格納して搬送す
るカセットには、ウェーハを１枚ずつ分離して格納する
タイプのもの（枚葉方式）と、ウェーハを積み重ねて格
納するタイプのもの（コインスタック方式）があるが、
製造装置の処理速度が向上している今日では、一度に大
量のウェーハを格納することができるコインスタック方
式のカセットを用いる装置が増えている。

【０００４】しかしながら、コインスタック方式のカセ
ットは、ウェーハを重ねて格納するため、ウェーハ同士
が密着しやすくなり、ウェーハを１枚ずつ取り出すこと
が困難になるという欠点がある。この欠点は、ウェーハ
の洗浄装置において特に顕著に現れ、水滴が付着したウ
ェーハは密着度が高まり、１枚ずつ取り出すことは更に
困難になる。

【０００５】このようなウェーハの洗浄装置における上
記欠点を解消するウェーハ取出装置として、本願出願人
が特願平７−２９４５３７号で次のような装置を開示し
ている。この装置は、剥離水槽内に浸漬されたカセット
内のウェーハを、まず、昇降装置で所定の高さの位置ま
で上昇させ、ウェーハを液面から突出させる。突出させ
た先には、吸着パッドが位置しており、この吸着パッド
で最上段に位置するウェーハを吸着保持する。そして、
その吸着パッドで吸着保持したウェーハの下面に２段目
以降のウェーハが吸着している場合は、エアノズルから
吸着パッドで吸着保持したウェーハに向けて圧縮エアを
噴射し、そのエア圧で２段目以降のウェーハを振るい落
とす。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特願平
７−２９４５３７号による装置では、エア噴射位置の調
整が困難であり、エア噴射位置が少しでもズレると、吸
着パッドに吸着保持されたウェーハと、そのウェーハの
下面に吸着したウェーハとの間にエアが当たらず、分離
が不完全になるという欠点がある。

【０００７】また、噴射するエア圧の調整も困難であ
り、エア圧の設定が低いと分離が不完全となる一方、あ
まりに高く設定するとウェーハにダメージを与えるとい
う欠点がある。さらに、噴射したエアで水分が飛ばされ
るため、周囲を汚すという欠点があるとともに、そのエ
アの噴射音が大きいため、騒音となるという欠点もあ
る。

【０００８】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、水中に浸漬されたカセット内に多数枚積み重ね
られて格納されたウェーハを１枚ずつ確実に取り出すこ
とができるウェーハ取出装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、水槽内に浸漬されたカセット内に多数積
み重ねられて格納されたウェーハを１枚ずつ取り出すウ
ェーハ取出装置において、前記カセット内に格納された
多数枚のウェーハを、該カセットから独立させて昇降さ
せる昇降手段と、前記カセット内に格納されたウェーハ
に対して進退移動自在に設けられ、前記昇降手段で液面
から上昇させたウェーハの端面を吸着保持する吸着パッ
ドと、前記吸着パッドで吸着保持された状態で前記水槽
中に浸漬させたウェーハに向けて液体を噴射し、その噴
射した液体の液流で前記吸着パッドで吸着保持したウェ
ーハに吸着したウェーハを分離する噴射ノズルと、前記
吸着パッドを備え、該吸着パッドで吸着保持したウェー
ハを所定の受渡位置に搬送する搬送手段と、からなるこ
とを特徴とする。

【００１０】本発明によれば、水槽内に浸漬されたカセ
ット内に多数積み重ねられて格納されたウェーハは、次
のようにしてカセット内から１枚ずつ取り出される。ま
ず、昇降手段でカセット内に格納されたウェーハを、カ
セットから独立させて所定位置まで上昇させる。そし
て、その所定位置まで上昇したウェーハのうち最上段に
位置するウェーハを、前記カセットの上方に位置する吸
着パッドで吸着保持する。次に、ウェーハを吸着保持し
た状態で、前記吸着パッドを前記昇降手段と共に所定位
置まで下降させ、その吸着保持したウェーハを水槽内に
浸漬させる。そして、その位置で噴射ノズルから前記吸
着パッドで吸着保持したウェーハに向けて液体を噴射す
る。ここで、前記吸着パッドで吸着保持したウェーハの
下面に２段目以降のウェーハが吸着している場合は、前
記噴射ノズルから噴射された液体の液流で、振るい落と
される。２段目以降のウェーハが振るい落とされたら、
前記進退移動手段を所定位置まで上昇させて、前記搬送
手段で受渡位置まで搬送する。これにより、水槽内に浸
漬されたウェーハであっても、確実に１枚ずつ取り出す
ことができる。

【００１１】

【実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係るウェ
ーハ取出装置の実施の形態ついて詳説する。図１は、本
発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェーハ洗浄装置
の平面図であり、図２は、図１のＪ₁−Ｊ₂−Ｊ₃−Ｊ
₄−Ｊ₅−Ｊ₆断面図である。また、図３は、図１のＫ
−Ｋ断面図であり、図４は、図１のＭ−Ｍ断面図であ
る。

【００１２】まず、ウェーハ洗浄装置１の構成について
説明する。図１及び図２示すように、前記ウェーハ洗浄
装置１は、剥離水槽１１を備えている。剥離水槽１１に
は水１２が貯留されており、貯留された水１２は、過不
足を調整されながら、常にその水位を一定に保持されて
いる。前記剥離水槽１１のほぼ中央部には、ブラケット
を介して４本の支柱１３、１３、１３、１３が垂直に立
設されており、この４本の支柱１３上に洗浄するウェー
ハＷ、Ｗ、…が多数格納されたカセット１０が位置決め
されて、セットされる。

【００１３】ここで、前記ウェーハＷを格納するカセッ
ト１０の構成について説明する。図１及び図３に示すよ
うに、前記カセット１０は中央部に抜き穴１４ｂが形成
された矩形状の底板１４を有している。底板１４の上面
四隅には、４本の支柱１５、１５、１５、１５が垂直に
立設されており、該支柱１５の上端には、一対の上板１
６、１６が固着されている。また、前記底板１４の上面
の所定位置には、格納するウェーハＷの円周縁部をガイ
ドする一対のウェーハガイド１７、１７と、ウェーハＷ
のスライスベース部分をガイドする一対のスライスベー
スガイド１８、１８がそれぞれ垂直に立設されている。

【００１４】前記カセット１０は、上記のごとく構成さ
れ、洗浄するウェーハＷ、Ｗ…は、このカセット１０内
に順次積み重ねられて格納される。そして、ウェーハＷ
が格納されたカセットは、作業者あるいはロボットによ
って剥離水槽１１に搬入され、前記支柱１３上の所定の
位置に位置決めされて、セットされる。なお、このカセ
ット１０の位置決めは、前記底板１４の２箇所に形成さ
れた位置決め穴１４ａに、前記支柱１３の上端部に形成
された位置決めピン１３ａを挿入して行なう。

【００１５】次に、前記ウェーハ洗浄装置１で洗浄され
たウェーハＷを該ウェーハ洗浄装置１から１枚ずつ取り
出すウェーハ取出装置２の構成について説明する。前記
ウェーハ取出装置２は、昇降部２０、ウェーハ取出搬送
部４０及び搬送コンベア部７０から構成されている。以
下、各構成部ごとに分けて説明する。前記昇降部２０
は、エレベーター２０ａと、そのエレベーター２０ａを
駆動する駆動部３０とから構成され、前記剥離水槽１１
内にセットされたカセット１０から、ウェーハＷ、Ｗ、
…のみを独立させて上下動させる。

【００１６】まず、エレベーター２０ａの構成に付いて
説明する。図２に示すように、前記剥離水槽１１の内側
には、ガイドブロック２１が固着されており、該ガイド
ブロック２１には、一対のガイドバー２２、２２が上下
方向にスライド自在に支持されている。この一対のガイ
ドバー２２の上端には駆動板２３が取り付けられてお
り、下端には連結板２４が取り付けられている。下端に
取り付けられた連結板２４には、送りバー２５が立設さ
れており、該送りバー２５の上端には、載台２６が固着
されている。

【００１７】以上のように構成されたエレベーター２０
ａは、前記一対のガイドバー２２を上下動させることに
より、これに連動して載台２６が上下動する。載台２６
は、前記剥離水槽１１内にセットされたカセット１０の
抜き穴１４ｂ内を上下動し、これにより、カセット１０
内のウェーハＷ、Ｗ、…が、カセット１０から独立して
上下動する。

【００１８】次に、前記エレベーター２０ａを駆動する
駆動部３０の構成について説明する。図４に示すよう
に、剥離水槽１１の近傍に設置されたベース３１上に
は、一対の支柱３２ａ、３２ａが立設されている。この
支柱３２ａの上端部には、横板３２ｂが固着されてお
り、該横板３２ｂには一対のリニアブッシュ３３、３３
が取り付けられている。

【００１９】前記リニアブッシュ３３には、一対のガイ
ドバー３４、３４が上下方向にスライド移動自在に支持
されており、該一対のガイドバー３４の上端には上連結
板３５が取り付けられている。また、前記一対のガイド
バー３４の下端には、下連結板３６が取り付けられてお
り、該下連結板３６には送りナット３６ａが取り付けら
れている。この送りナット３６ａには、送りネジ３７が
螺合されており、該送りネジ３７は、その上端部を前記
横板３２ｂの下面に回動自在に支持されている。

【００２０】前記送りネジ３７の下端には歯車３７ａが
固着されており、該歯車３７ａはモーター３８の回転軸
に固着された歯車３８ａに噛合されている。以上のよう
に構成された駆動部３０は、前記モーター３８を駆動す
ることにより、前記送りネジ３７が回動し、これによ
り、下連結板３６に設けられたナット３６ａが上下動
し、上連結板３５が上下動する。

【００２１】ここで、前記エレベーター２０ａに設けら
れた駆動板２３は、前記上下動する連結板３５の上端部
にジョイント３５ａを介して連結されており、これによ
り、前記エレベーター２０ａが上下駆動される。なお、
図４中、駆動部３０の全体を覆う番号３９は、カバーで
あり、洗浄部からの飛散した水が駆動部３０にかかるの
を防止している。

【００２２】次に、ウェーハ取出搬送部４０の構成につ
いて説明する。ウェーハ取出搬送部４０は、水平移動部
４０ａ、進退移動部５０、ウェーハ吸着部５０ａ及び噴
射部６０とから構成され、前記昇降部２０で液面から上
昇したウェーハＷ、Ｗ、…のうち最上段のウェーハＷａ
を取り出し、搬送する。まず、水平移動部４０ａの構成
について説明する。図１〜図３に示すように、前記剥離
水槽１１の両側には、一対の支柱４１、４２が垂直に立
設されている。この一対の支柱４１、４２の上部には、
一対のリニアガイド４３、４３が水平方向に配設されて
いる。一対のリニアガイド４３、４３には、それぞれス
ライダー４４、４４が移動自在に設けられており、該ス
ライダー４４、４４は、水平方向に配設された水平搬送
体４５で互いに連結されている。

【００２３】また、一方の支柱４１の上端部には、ロッ
ドレスシリンダー４６がリニアガイド４３と同方向に配
設されており、そのスライダー４６ａが水平搬送体４５
に固着されている。以上のように構成された水平移動部
４０ａは、前記ロッドレスシリンダー４６を駆動するこ
とにより、そのスライダー４６ａが水平方向に往復移動
し、これに連動して前記水平搬送体４５が水平方向にス
ライド移動する。

【００２４】なお、後述するように、前記水平搬送体４
５は、図４に示す実線で示すウェーハの取出位置と二点
破線で示す受渡位置との間を往復走行する。次に、進退
移動部５０の構成について説明する。図３に示すよう
に、前記水平搬送体４５の中央近傍には、一対のリニア
ブッシュ５１、５１が配設されている。この一対のリニ
アブッシュ５１、５１には、一対のガイドバー５３、５
３が上下方向にスライド自在に支持されており、該ガイ
ドバー５３、５３の先端部には、十字状に形成されたホ
ルダー５２（図１参照）が取り付けられている。

【００２５】また、前記水平搬送体４５の中央部には、
上下方向に伸長する直動シリンダー５４が取り付けられ
ており、該直動シリンダー５４のロッド５４ａ先端部前
記ホルダー５２の上面中央部に連結されている。以上の
ように構成された、進退移動部５０は、前記直動シリン
ダー５４を駆動することにより、そのロッド５４ａが垂
直下向きに進退移動し、これにより、ホルダー５２が上
下動する。

【００２６】次に、ウェーハ吸着部５０ａの構成につい
て説明する。図３に示すように、前記ホルダー５２の下
面には、４つの吸着パッド５５、５５、５５、５５が配
設されている。この吸着パッド５５は、それぞれ図示し
ないスプリングにより軸線方向進退移動自在に取り付け
られている。また、前記ホルダー５２の下面中央には、
前記エレベーター２０ａで上昇させたウェーハＷの接触
を検出する接触検出センサー５６が設けられている。

【００２７】以上のように構成されたウェーハ吸着部５
０ａは、前記エレベーター２０ａで上昇させたウェーハ
Ｗ、Ｗ、…のうち最上段に位置するウェーハＷａを前記
４つの吸着パッド５５で真空吸着して保持する。次に、
液体噴出部６０の構成について説明する。図４に示すよ
うに、前記十字状に形成されたホルダー５２の長辺５２
ａ、５２ａの先端下部には、ブラケット６１、６１を介
して噴射ノズル６２、６２が設けられている。

【００２８】この噴射ノズル６２、６２からは、前記吸
着パッド５５で吸着保持されたウェーハＷａの下面に向
けて水が噴射される。以上のように前記ウェーハ取出搬
送部４０は構成される。次に、前記搬送コンベア部７０
の構成について説明する。図１及び図４に示すように、
前記剥離水槽１１の上端近傍には、水平方向に受台７１
が配設されている。受台７１上には、コンベア部ベース
７２が取り付けられており、該コンベア部ベース７２の
両側部には、長手方向に沿って回動自在なローラ７３、
７４、７５、７６が等間隔に配設されている。これらロ
ーラ７３〜７６には、それぞれ搬送ベルト７７、７７が
張設されており、ウェーハＷは、この搬送ベルト７７上
に載置されて、図中矢印方向に搬送される。

【００２９】また、前記受台７１の両側部７１ａ、７１
ｂには、搬送中のウェーハＷをガイドする幅ガイド７８
が取り付けられており、前記搬送ベルト７７上に載置さ
れたウェーハＷは、該幅ガイド７８によって円周縁をガ
イドされながら、搬送される。なお、前記搬送ベルト７
７の駆動は、前記ローラ７６に連結した図示しない駆動
用モーターあるいは駆動機構で行なわれる。

【００３０】本発明に係るウェーハ取出装置２を備えた
ウェーハ洗浄装置１は前記のごとく構成され、その駆動
制御は図示しない制御装置によって行なわれる。次に、
前記ウェーハ洗浄装置１におけるウェーハＷ、Ｗ…の取
り出し方法について説明する。図６（ａ）〜（ｆ）は、
本実施の形態のウェーハ取出装置２を用いたウェーハＷ
の取り出し動作を模式的に表した図である。

【００３１】図６（ａ）には、ウェーハ取出装置２の初
期状態が示されている。この状態において、ウェーハ取
出搬送部４０に設けられた水平搬送体４５は、ウェーハ
取出位置（図４に実線で示す位置）に位置している。ま
た、この水平搬送体４５に設けられたホルダー５２は、
ストロークの上死点に位置しており、かつ、その中心
は、カセット１０に格納されたウェーハＷ、Ｗ、…の中
心と一致した状態にある（図１参照）。

【００３２】この初期状態から、まず、ホルダー５２
が、直動シリンダー５４に駆動されて、所定のウェーハ
受取位置まで下降する。図６（ｂ）には、このホルダー
５２がウェーハ受取位置まで下降した状態が示されてい
る。前記ホルダー５２がウェーハ受取位置に位置する
と、次に、カセット１０に格納されたウェーハＷ、Ｗ、
…全体が、エレベーター２０ａに駆動されて上方向に移
動する。このエレベーター２０ａは、最上段のウェーハ
Ｗａが、前記ホルダー５２に設けられた接触検知センサ
ー５６に接触し、その接触が検知されるまで上昇を続け
る。

【００３３】図６（ｃ）には、最上段のウェーハＷａ
が、接触検知センサー５６に接触した状態が示されてい
る。この状態において、前記最上段のウェーハＷａは、
前記ホルダー５２に配設された吸着パッド５５、５５、
５５、５５に密着する。なお、前記ウェーハＷａが前記
吸着パッド５５に密着するのは、次の機構による。すな
わち、前記吸着パッド５５は、軸線方向に進退移動自在
に設けられているので、この吸着パッド５５が前記最上
段のウェーハＷａに押されて所定量退避するまで、前記
ウェーハＷａを上昇させる。このためには、前記接触検
知センサー５６の接触検知面の位置を、前記吸着パッド
５５Ｗａの吸着面の位置より所定距離退避した位置にセ
ットする。これにより、前記各吸着パッド５５は全てウ
ェーハＷａに密着する。

【００３４】前記接触検知センサー５６が最上段のウェ
ーハＷａの接触を検知すると、前述したように、前記エ
レベーター２０ａの駆動が停止するが、これと同時に、
吸着パッド５５が駆動され、最上段のウェーハＷａが吸
着パッド５５に吸着保持される。前記最上段のウェーハ
Ｗａが吸着パッド５５に吸着保持されると、再びエレベ
ーター２０ａが駆動され、ウェーハＷ、Ｗ、…全体が初
期の位置まで下降する。このウェーハＷ、Ｗ、…の下降
とともに、ホルダー５２が直動シリンダー５４に駆動さ
れて、所定のウェーハ切離位置まで下降する。図６
（ｄ）には、前記ホルダー５２がウェーハ切離位置まで
下降した状態が示されている。

【００３５】ここで、同図に示すように、前記ホルダー
５２が、ウェーハ切離位置まで下降すると、前記吸着パ
ッド５５に保持されたウェーハＷａは、前記剥離水槽１
１に貯留された水１２中に所定深さまで浸漬される。そ
して、前記ホルダー５２に設けられた噴射ノズル６２、
６２から前記吸着パッド５５で保持した最上段のウェー
ハＷａの下面に向けて水が噴射される。

【００３６】ここで、同図に示すように、前記吸着パッ
ド５５で保持した最上段のウェーハＷａに２段目のウェ
ーハＷが吸着している場合は、前記噴射ノズル６２、６
２から噴射された水の液流で、２段目のウェーハＷは振
るい落とされる。図６（ｅ）には、この噴射した水の液
流によって、ウェーハＷａに吸着した２段目のウェーハ
Ｗが振るい落とされた状態が示されている。

【００３７】なお、この水の噴射は、２段目のウェーハ
Ｗが吸着していない場合においても行なわれ、所定時間
噴射ノズル６２から水が噴射される。この際、水の噴射
を間欠的に行うと、２段目のウェーハＷを容易に切り離
すことができる。前記水の噴射による２段目のウェーハ
Ｗの切り離し作業が終了すると、ホルダー５２が、直動
シリンダー５４に駆動されて、初期状態の位置、すなわ
ち、ストロークの上死点の位置まで上昇する。図６
（ｆ）には、このホルダー５２がストロークの上死点の
位置まで上昇した状態が示されている。

【００３８】前記ホルダー５２がストロークの上死点の
位置まで上昇すると、水平搬送体４５が、ロッドレスシ
リンダー４６に駆動されて、ウェーハ受渡位置（図４に
おいて二点破線で示す位置）まで移動する。水平搬送体
４５がウェーハ受渡位置まで移動すると、前記吸着パッ
ド５５の駆動が解除され、該吸着パッド５５に保持され
たウェーハＷａは、搬送コンベア部７０上に搬出され
る。そして、この搬送コンベア部７０上に搬出されたウ
ェーハＷａは、該搬送コンベア部７０によって次工程に
搬送される。

【００３９】一方、取り出したウェーハＷａが搬送コン
ベア部７０上に搬出されると、水平搬送体４５は、再び
ロッドレスシリンダー４６に駆動されて、ウェーハ取出
位置まで移動する。そして、以下同様の作業を繰り返し
て、２枚目以降のウェーハＷ、Ｗ、…の取出作業を行な
う。このように、本実施の形態のウェーハ取出装置２で
は、吸着保持したウェーハＷａに２段目以降のウェーハ
Ｗが吸着していても、確実に２段目以降のウェーハを切
り離して取り出すことができる。

【００４０】また、水１２中でウェーハの切り離しを行
なうので、空気中に比べ、より確実に切り離しを行なう
ことができる。また、ウェーハ同志の接触によるキズや
割れの発生も防止することができる。さらに、空気中で
行なう従来の方式に比べ、水の飛散による周囲の汚染、
及び、水の噴射音等の騒音も大幅に低減することができ
る。

【００４１】なお、本実施の形態では、噴射ノズル６２
を２箇所に設けた例について説明したが、これに限ら
ず、複数、例えば、４箇所に設けてもよい。また、本実
施の形態では、ホルダー５２の昇降駆動を直動シリンダ
ー５４で行なっているが、エレベーター２０ａの駆動部
３０のようにモータで駆動する送りネジ機構を用いても
よい。

【００４２】さらに、本実施の形態では、噴射ノズル６
２は、ホルダー５２に固定され、吸着パッド５５ととも
に上下動するように構成していたが、ホルダー５２から
別途独立させ、剥離水槽１１に設けてもよい。すなわ
ち、前述したように、取り出したウェーハＷａは、一度
水１２中の所定深さまで浸漬させ、その位置で噴射ノズ
ル６２から水を噴射するようにしているが、その水１２
中の所定深さのところに、予め前記噴射ノズル６２を設
けておく。そして、取り出したウェーハＷａをその噴射
ノズル６２の設置位置まで浸漬させ、その位置で前記剥
離水槽１１中に設けられた噴射ノズル６２から水を噴射
する。これによっても、本実施の形態と同様に、取り出
したウェーハＷａに吸着した２段目以降のウェーハＷを
容易に振るい落とすことができる。

【００４３】また、本実施の形態では、最上段のウェー
ハＷａが接触検知センサー５６に接触すると、エレベー
ター２０ａの上昇が停止するように構成しているが、ウ
ェーハＷ、Ｗ、…の枚数及び厚さが一定の場合は、次の
ようにしてもよい。すなわち、ウェーハの枚数と厚さが
一定の場合は、剥離水槽１１に浸漬された状態の最上段
のウェーハＷａから所定の受取位置に位置した吸着パッ
ド５５までの距離は、予め算出することができる。した
がって、カセット１０からウェーハを一枚取り出すごと
に、ウェーハＷ一枚分の高さだけ、エレベーター２０ａ
の上昇量をあげれば、接触検知センサー５６を用いなく
ても、確実にウェーハを吸着パッドに吸着させることが
できる。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ取出装置によれば、水槽中に浸漬されたカセット内
に、積み重ねられて格納されたウェーハを傷を付けるこ
となく、確実に１枚ずつ取り出すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェー
ハ洗浄装置の実施の形態の平面図

【図２】図１のＪ₁−Ｊ₂−Ｊ₃−Ｊ₄−Ｊ₅−Ｊ₆断
面図

【図３】図１のＫ−Ｋ断面（上部詳細）図

【図４】図１のＭ−Ｍ断面（上部詳細）図

【図５】図１のＬ−Ｌ断面（駆動部詳細）図

【図６】本実施の形態のウェーハ取出装置によるウェー
ハの取り出し動作の模式図

【符号の説明】

Ｗ…ウェーハＷａ…最上段のウェーハ１…ウェーハ洗浄装置２…ウェーハ取出装置１０…カセット１１…剥離水槽２０…昇降部２０ａ…エレベーター４０…ウェーハ取出搬送部４５…水平搬送体５２…ホルダー５５…吸着パッド６２…噴射ノズル７０…搬送コンベア部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水槽内に浸漬されたカセット内に多数積
み重ねられて格納されたウェーハを１枚ずつ取り出すウ
ェーハ取出装置において、前記カセット内に格納された多数枚のウェーハを、該カ
セットから独立させて昇降させる昇降手段と、前記カセット内に格納されたウェーハに対して進退移動
自在に設けられ、前記昇降手段で液面から上昇させたウ
ェーハの端面を吸着保持する吸着パッドと、前記吸着パッドで吸着保持された状態で前記水槽中に浸
漬させたウェーハに向けて液体を噴射し、その噴射した
液体の液流で前記吸着パッドで吸着保持したウェーハに
吸着したウェーハを分離する噴射ノズルと、前記吸着パッドを備え、該吸着パッドで吸着保持したウ
ェーハを所定の受渡位置に搬送する搬送手段と、からな
ることを特徴とするウェーハ取出装置。
【請求項２】前記昇降手段で上昇させた前記ウェーハ
のうち最上段に位置するウェーハが所定の位置まで上昇
すると作動する接触検知センサを設け、該接触検知セン
サが作動すると、前記昇降手段は上昇を停止することを
特徴とする請求項１記載のウェーハ取出装置。