JPH10114426A - ウェーハ取出装置 - Google Patents

ウェーハ取出装置

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JPH10114426A
JPH10114426A JP26984296A JP26984296A JPH10114426A JP H10114426 A JPH10114426 A JP H10114426A JP 26984296 A JP26984296 A JP 26984296A JP 26984296 A JP26984296 A JP 26984296A JP H10114426 A JPH10114426 A JP H10114426A
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wafer
cassette
wafers
held
suction pad
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JP26984296A
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Inventor
Kenichi Nakaura
健一 中浦
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】水中に浸漬されたカセット内に多数枚積み重ね
られて格納されたウェーハを1枚ずつ確実に取り出すこ
とができるウェーハ取出装置の提供。 【解決手段】まず、カセット10内に格納されたウェー
ハW、W、…をカセットから独立させて、水面上の所定
位置まで上昇させる。そして、最上段に位置するウェー
ハWaを、その上方に待機していた吸着パッド55で吸
着保持する。次に、前記吸着パッド55で吸着保持した
ウェーハWaを下降させ、洗浄水槽11内に浸漬させ
る。そして、洗浄液中で液体噴射ノズル62から前記吸
着パッド55で吸着保持したウェーハWaに向けて洗浄
液を噴射する。ここで、前記吸着パッド55で吸着保持
したウェーハWaの下面に2段目以降のウェーハが吸着
している場合は、前記噴射ノズル62から噴射された洗
浄液の液流で、振るい落とされるので、振るい落とした
のち、上昇させてウェーハWaを取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ取出装置
に係り、特に水槽内に配置されたカセット内に多数枚積
み重ねられて格納されたウェーハを1枚ずつ取り出すウ
ェーハ取出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
で切り出された後、スライスベースの剥離、面取り、研
磨等の各製造工程を経て製品として完成する。そして、
この各ウェーハ製造装置間をウェーハはカセットに格納
された状態で搬送され、連続的に処理される。
【0003】ところで、前記ウェーハを格納して搬送す
るカセットには、ウェーハを1枚ずつ分離して格納する
タイプのもの(枚葉方式)と、ウェーハを積み重ねて格
納するタイプのもの(コインスタック方式)があるが、
製造装置の処理速度が向上している今日では、一度に大
量のウェーハを格納することができるコインスタック方
式のカセットを用いる装置が増えている。
【0004】しかしながら、コインスタック方式のカセ
ットは、ウェーハを重ねて格納するため、ウェーハ同士
が密着しやすくなり、ウェーハを1枚ずつ取り出すこと
が困難になるという欠点がある。この欠点は、ウェーハ
の洗浄装置において特に顕著に現れ、水滴が付着したウ
ェーハは密着度が高まり、1枚ずつ取り出すことは更に
困難になる。
【0005】このようなウェーハの洗浄装置における上
記欠点を解消するウェーハ取出装置として、本願出願人
が特願平7−294537号で次のような装置を開示し
ている。この装置は、剥離水槽内に浸漬されたカセット
内のウェーハを、まず、昇降装置で所定の高さの位置ま
で上昇させ、ウェーハを液面から突出させる。突出させ
た先には、吸着パッドが位置しており、この吸着パッド
で最上段に位置するウェーハを吸着保持する。そして、
その吸着パッドで吸着保持したウェーハの下面に2段目
以降のウェーハが吸着している場合は、エアノズルから
吸着パッドで吸着保持したウェーハに向けて圧縮エアを
噴射し、そのエア圧で2段目以降のウェーハを振るい落
とす。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特願平
7−294537号による装置では、エア噴射位置の調
整が困難であり、エア噴射位置が少しでもズレると、吸
着パッドに吸着保持されたウェーハと、そのウェーハの
下面に吸着したウェーハとの間にエアが当たらず、分離
が不完全になるという欠点がある。
【0007】また、噴射するエア圧の調整も困難であ
り、エア圧の設定が低いと分離が不完全となる一方、あ
まりに高く設定するとウェーハにダメージを与えるとい
う欠点がある。さらに、噴射したエアで水分が飛ばされ
るため、周囲を汚すという欠点があるとともに、そのエ
アの噴射音が大きいため、騒音となるという欠点もあ
る。
【0008】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、水中に浸漬されたカセット内に多数枚積み重ね
られて格納されたウェーハを1枚ずつ確実に取り出すこ
とができるウェーハ取出装置を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、水槽内に浸漬されたカセット内に多数積
み重ねられて格納されたウェーハを1枚ずつ取り出すウ
ェーハ取出装置において、前記カセット内に格納された
多数枚のウェーハを、該カセットから独立させて昇降さ
せる昇降手段と、前記カセット内に格納されたウェーハ
に対して進退移動自在に設けられ、前記昇降手段で液面
から上昇させたウェーハの端面を吸着保持する吸着パッ
ドと、前記吸着パッドで吸着保持された状態で前記水槽
中に浸漬させたウェーハに向けて液体を噴射し、その噴
射した液体の液流で前記吸着パッドで吸着保持したウェ
ーハに吸着したウェーハを分離する噴射ノズルと、前記
吸着パッドを備え、該吸着パッドで吸着保持したウェー
ハを所定の受渡位置に搬送する搬送手段と、からなるこ
とを特徴とする。
【0010】本発明によれば、水槽内に浸漬されたカセ
ット内に多数積み重ねられて格納されたウェーハは、次
のようにしてカセット内から1枚ずつ取り出される。ま
ず、昇降手段でカセット内に格納されたウェーハを、カ
セットから独立させて所定位置まで上昇させる。そし
て、その所定位置まで上昇したウェーハのうち最上段に
位置するウェーハを、前記カセットの上方に位置する吸
着パッドで吸着保持する。次に、ウェーハを吸着保持し
た状態で、前記吸着パッドを前記昇降手段と共に所定位
置まで下降させ、その吸着保持したウェーハを水槽内に
浸漬させる。そして、その位置で噴射ノズルから前記吸
着パッドで吸着保持したウェーハに向けて液体を噴射す
る。ここで、前記吸着パッドで吸着保持したウェーハの
下面に2段目以降のウェーハが吸着している場合は、前
記噴射ノズルから噴射された液体の液流で、振るい落と
される。2段目以降のウェーハが振るい落とされたら、
前記進退移動手段を所定位置まで上昇させて、前記搬送
手段で受渡位置まで搬送する。これにより、水槽内に浸
漬されたウェーハであっても、確実に1枚ずつ取り出す
ことができる。
【0011】
【実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係るウェ
ーハ取出装置の実施の形態ついて詳説する。図1は、本
発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェーハ洗浄装置
の平面図であり、図2は、図1のJ1 −J2 −J3 −J
4 −J5 −J6 断面図である。また、図3は、図1のK
−K断面図であり、図4は、図1のM−M断面図であ
る。
【0012】まず、ウェーハ洗浄装置1の構成について
説明する。図1及び図2示すように、前記ウェーハ洗浄
装置1は、剥離水槽11を備えている。剥離水槽11に
は水12が貯留されており、貯留された水12は、過不
足を調整されながら、常にその水位を一定に保持されて
いる。前記剥離水槽11のほぼ中央部には、ブラケット
を介して4本の支柱13、13、13、13が垂直に立
設されており、この4本の支柱13上に洗浄するウェー
ハW、W、…が多数格納されたカセット10が位置決め
されて、セットされる。
【0013】ここで、前記ウェーハWを格納するカセッ
ト10の構成について説明する。図1及び図3に示すよ
うに、前記カセット10は中央部に抜き穴14bが形成
された矩形状の底板14を有している。底板14の上面
四隅には、4本の支柱15、15、15、15が垂直に
立設されており、該支柱15の上端には、一対の上板1
6、16が固着されている。また、前記底板14の上面
の所定位置には、格納するウェーハWの円周縁部をガイ
ドする一対のウェーハガイド17、17と、ウェーハW
のスライスベース部分をガイドする一対のスライスベー
スガイド18、18がそれぞれ垂直に立設されている。
【0014】前記カセット10は、上記のごとく構成さ
れ、洗浄するウェーハW、W…は、このカセット10内
に順次積み重ねられて格納される。そして、ウェーハW
が格納されたカセットは、作業者あるいはロボットによ
って剥離水槽11に搬入され、前記支柱13上の所定の
位置に位置決めされて、セットされる。なお、このカセ
ット10の位置決めは、前記底板14の2箇所に形成さ
れた位置決め穴14aに、前記支柱13の上端部に形成
された位置決めピン13aを挿入して行なう。
【0015】次に、前記ウェーハ洗浄装置1で洗浄され
たウェーハWを該ウェーハ洗浄装置1から1枚ずつ取り
出すウェーハ取出装置2の構成について説明する。前記
ウェーハ取出装置2は、昇降部20、ウェーハ取出搬送
部40及び搬送コンベア部70から構成されている。以
下、各構成部ごとに分けて説明する。前記昇降部20
は、エレベーター20aと、そのエレベーター20aを
駆動する駆動部30とから構成され、前記剥離水槽11
内にセットされたカセット10から、ウェーハW、W、
…のみを独立させて上下動させる。
【0016】まず、エレベーター20aの構成に付いて
説明する。図2に示すように、前記剥離水槽11の内側
には、ガイドブロック21が固着されており、該ガイド
ブロック21には、一対のガイドバー22、22が上下
方向にスライド自在に支持されている。この一対のガイ
ドバー22の上端には駆動板23が取り付けられてお
り、下端には連結板24が取り付けられている。下端に
取り付けられた連結板24には、送りバー25が立設さ
れており、該送りバー25の上端には、載台26が固着
されている。
【0017】以上のように構成されたエレベーター20
aは、前記一対のガイドバー22を上下動させることに
より、これに連動して載台26が上下動する。載台26
は、前記剥離水槽11内にセットされたカセット10の
抜き穴14b内を上下動し、これにより、カセット10
内のウェーハW、W、…が、カセット10から独立して
上下動する。
【0018】次に、前記エレベーター20aを駆動する
駆動部30の構成について説明する。図4に示すよう
に、剥離水槽11の近傍に設置されたベース31上に
は、一対の支柱32a、32aが立設されている。この
支柱32aの上端部には、横板32bが固着されてお
り、該横板32bには一対のリニアブッシュ33、33
が取り付けられている。
【0019】前記リニアブッシュ33には、一対のガイ
ドバー34、34が上下方向にスライド移動自在に支持
されており、該一対のガイドバー34の上端には上連結
板35が取り付けられている。また、前記一対のガイド
バー34の下端には、下連結板36が取り付けられてお
り、該下連結板36には送りナット36aが取り付けら
れている。この送りナット36aには、送りネジ37が
螺合されており、該送りネジ37は、その上端部を前記
横板32bの下面に回動自在に支持されている。
【0020】前記送りネジ37の下端には歯車37aが
固着されており、該歯車37aはモーター38の回転軸
に固着された歯車38aに噛合されている。以上のよう
に構成された駆動部30は、前記モーター38を駆動す
ることにより、前記送りネジ37が回動し、これによ
り、下連結板36に設けられたナット36aが上下動
し、上連結板35が上下動する。
【0021】ここで、前記エレベーター20aに設けら
れた駆動板23は、前記上下動する連結板35の上端部
にジョイント35aを介して連結されており、これによ
り、前記エレベーター20aが上下駆動される。なお、
図4中、駆動部30の全体を覆う番号39は、カバーで
あり、洗浄部からの飛散した水が駆動部30にかかるの
を防止している。
【0022】次に、ウェーハ取出搬送部40の構成につ
いて説明する。ウェーハ取出搬送部40は、水平移動部
40a、進退移動部50、ウェーハ吸着部50a及び噴
射部60とから構成され、前記昇降部20で液面から上
昇したウェーハW、W、…のうち最上段のウェーハWa
を取り出し、搬送する。まず、水平移動部40aの構成
について説明する。図1〜図3に示すように、前記剥離
水槽11の両側には、一対の支柱41、42が垂直に立
設されている。この一対の支柱41、42の上部には、
一対のリニアガイド43、43が水平方向に配設されて
いる。一対のリニアガイド43、43には、それぞれス
ライダー44、44が移動自在に設けられており、該ス
ライダー44、44は、水平方向に配設された水平搬送
体45で互いに連結されている。
【0023】また、一方の支柱41の上端部には、ロッ
ドレスシリンダー46がリニアガイド43と同方向に配
設されており、そのスライダー46aが水平搬送体45
に固着されている。以上のように構成された水平移動部
40aは、前記ロッドレスシリンダー46を駆動するこ
とにより、そのスライダー46aが水平方向に往復移動
し、これに連動して前記水平搬送体45が水平方向にス
ライド移動する。
【0024】なお、後述するように、前記水平搬送体4
5は、図4に示す実線で示すウェーハの取出位置と二点
破線で示す受渡位置との間を往復走行する。次に、進退
移動部50の構成について説明する。図3に示すよう
に、前記水平搬送体45の中央近傍には、一対のリニア
ブッシュ51、51が配設されている。この一対のリニ
アブッシュ51、51には、一対のガイドバー53、5
3が上下方向にスライド自在に支持されており、該ガイ
ドバー53、53の先端部には、十字状に形成されたホ
ルダー52(図1参照)が取り付けられている。
【0025】また、前記水平搬送体45の中央部には、
上下方向に伸長する直動シリンダー54が取り付けられ
ており、該直動シリンダー54のロッド54a先端部前
記ホルダー52の上面中央部に連結されている。以上の
ように構成された、進退移動部50は、前記直動シリン
ダー54を駆動することにより、そのロッド54aが垂
直下向きに進退移動し、これにより、ホルダー52が上
下動する。
【0026】次に、ウェーハ吸着部50aの構成につい
て説明する。図3に示すように、前記ホルダー52の下
面には、4つの吸着パッド55、55、55、55が配
設されている。この吸着パッド55は、それぞれ図示し
ないスプリングにより軸線方向進退移動自在に取り付け
られている。また、前記ホルダー52の下面中央には、
前記エレベーター20aで上昇させたウェーハWの接触
を検出する接触検出センサー56が設けられている。
【0027】以上のように構成されたウェーハ吸着部5
0aは、前記エレベーター20aで上昇させたウェーハ
W、W、…のうち最上段に位置するウェーハWaを前記
4つの吸着パッド55で真空吸着して保持する。次に、
液体噴出部60の構成について説明する。図4に示すよ
うに、前記十字状に形成されたホルダー52の長辺52
a、52aの先端下部には、ブラケット61、61を介
して噴射ノズル62、62が設けられている。
【0028】この噴射ノズル62、62からは、前記吸
着パッド55で吸着保持されたウェーハWaの下面に向
けて水が噴射される。以上のように前記ウェーハ取出搬
送部40は構成される。次に、前記搬送コンベア部70
の構成について説明する。図1及び図4に示すように、
前記剥離水槽11の上端近傍には、水平方向に受台71
が配設されている。受台71上には、コンベア部ベース
72が取り付けられており、該コンベア部ベース72の
両側部には、長手方向に沿って回動自在なローラ73、
74、75、76が等間隔に配設されている。これらロ
ーラ73〜76には、それぞれ搬送ベルト77、77が
張設されており、ウェーハWは、この搬送ベルト77上
に載置されて、図中矢印方向に搬送される。
【0029】また、前記受台71の両側部71a、71
bには、搬送中のウェーハWをガイドする幅ガイド78
が取り付けられており、前記搬送ベルト77上に載置さ
れたウェーハWは、該幅ガイド78によって円周縁をガ
イドされながら、搬送される。なお、前記搬送ベルト7
7の駆動は、前記ローラ76に連結した図示しない駆動
用モーターあるいは駆動機構で行なわれる。
【0030】本発明に係るウェーハ取出装置2を備えた
ウェーハ洗浄装置1は前記のごとく構成され、その駆動
制御は図示しない制御装置によって行なわれる。次に、
前記ウェーハ洗浄装置1におけるウェーハW、W…の取
り出し方法について説明する。図6(a)〜(f)は、
本実施の形態のウェーハ取出装置2を用いたウェーハW
の取り出し動作を模式的に表した図である。
【0031】図6(a)には、ウェーハ取出装置2の初
期状態が示されている。この状態において、ウェーハ取
出搬送部40に設けられた水平搬送体45は、ウェーハ
取出位置(図4に実線で示す位置)に位置している。ま
た、この水平搬送体45に設けられたホルダー52は、
ストロークの上死点に位置しており、かつ、その中心
は、カセット10に格納されたウェーハW、W、…の中
心と一致した状態にある(図1参照)。
【0032】この初期状態から、まず、ホルダー52
が、直動シリンダー54に駆動されて、所定のウェーハ
受取位置まで下降する。図6(b)には、このホルダー
52がウェーハ受取位置まで下降した状態が示されてい
る。前記ホルダー52がウェーハ受取位置に位置する
と、次に、カセット10に格納されたウェーハW、W、
…全体が、エレベーター20aに駆動されて上方向に移
動する。このエレベーター20aは、最上段のウェーハ
Waが、前記ホルダー52に設けられた接触検知センサ
ー56に接触し、その接触が検知されるまで上昇を続け
る。
【0033】図6(c)には、最上段のウェーハWa
が、接触検知センサー56に接触した状態が示されてい
る。この状態において、前記最上段のウェーハWaは、
前記ホルダー52に配設された吸着パッド55、55、
55、55に密着する。なお、前記ウェーハWaが前記
吸着パッド55に密着するのは、次の機構による。すな
わち、前記吸着パッド55は、軸線方向に進退移動自在
に設けられているので、この吸着パッド55が前記最上
段のウェーハWaに押されて所定量退避するまで、前記
ウェーハWaを上昇させる。このためには、前記接触検
知センサー56の接触検知面の位置を、前記吸着パッド
55Waの吸着面の位置より所定距離退避した位置にセ
ットする。これにより、前記各吸着パッド55は全てウ
ェーハWaに密着する。
【0034】前記接触検知センサー56が最上段のウェ
ーハWaの接触を検知すると、前述したように、前記エ
レベーター20aの駆動が停止するが、これと同時に、
吸着パッド55が駆動され、最上段のウェーハWaが吸
着パッド55に吸着保持される。前記最上段のウェーハ
Waが吸着パッド55に吸着保持されると、再びエレベ
ーター20aが駆動され、ウェーハW、W、…全体が初
期の位置まで下降する。このウェーハW、W、…の下降
とともに、ホルダー52が直動シリンダー54に駆動さ
れて、所定のウェーハ切離位置まで下降する。図6
(d)には、前記ホルダー52がウェーハ切離位置まで
下降した状態が示されている。
【0035】ここで、同図に示すように、前記ホルダー
52が、ウェーハ切離位置まで下降すると、前記吸着パ
ッド55に保持されたウェーハWaは、前記剥離水槽1
1に貯留された水12中に所定深さまで浸漬される。そ
して、前記ホルダー52に設けられた噴射ノズル62、
62から前記吸着パッド55で保持した最上段のウェー
ハWaの下面に向けて水が噴射される。
【0036】ここで、同図に示すように、前記吸着パッ
ド55で保持した最上段のウェーハWaに2段目のウェ
ーハWが吸着している場合は、前記噴射ノズル62、6
2から噴射された水の液流で、2段目のウェーハWは振
るい落とされる。図6(e)には、この噴射した水の液
流によって、ウェーハWaに吸着した2段目のウェーハ
Wが振るい落とされた状態が示されている。
【0037】なお、この水の噴射は、2段目のウェーハ
Wが吸着していない場合においても行なわれ、所定時間
噴射ノズル62から水が噴射される。この際、水の噴射
を間欠的に行うと、2段目のウェーハWを容易に切り離
すことができる。前記水の噴射による2段目のウェーハ
Wの切り離し作業が終了すると、ホルダー52が、直動
シリンダー54に駆動されて、初期状態の位置、すなわ
ち、ストロークの上死点の位置まで上昇する。図6
(f)には、このホルダー52がストロークの上死点の
位置まで上昇した状態が示されている。
【0038】前記ホルダー52がストロークの上死点の
位置まで上昇すると、水平搬送体45が、ロッドレスシ
リンダー46に駆動されて、ウェーハ受渡位置(図4に
おいて二点破線で示す位置)まで移動する。水平搬送体
45がウェーハ受渡位置まで移動すると、前記吸着パッ
ド55の駆動が解除され、該吸着パッド55に保持され
たウェーハWaは、搬送コンベア部70上に搬出され
る。そして、この搬送コンベア部70上に搬出されたウ
ェーハWaは、該搬送コンベア部70によって次工程に
搬送される。
【0039】一方、取り出したウェーハWaが搬送コン
ベア部70上に搬出されると、水平搬送体45は、再び
ロッドレスシリンダー46に駆動されて、ウェーハ取出
位置まで移動する。そして、以下同様の作業を繰り返し
て、2枚目以降のウェーハW、W、…の取出作業を行な
う。このように、本実施の形態のウェーハ取出装置2で
は、吸着保持したウェーハWaに2段目以降のウェーハ
Wが吸着していても、確実に2段目以降のウェーハを切
り離して取り出すことができる。
【0040】また、水12中でウェーハの切り離しを行
なうので、空気中に比べ、より確実に切り離しを行なう
ことができる。また、ウェーハ同志の接触によるキズや
割れの発生も防止することができる。さらに、空気中で
行なう従来の方式に比べ、水の飛散による周囲の汚染、
及び、水の噴射音等の騒音も大幅に低減することができ
る。
【0041】なお、本実施の形態では、噴射ノズル62
を2箇所に設けた例について説明したが、これに限ら
ず、複数、例えば、4箇所に設けてもよい。また、本実
施の形態では、ホルダー52の昇降駆動を直動シリンダ
ー54で行なっているが、エレベーター20aの駆動部
30のようにモータで駆動する送りネジ機構を用いても
よい。
【0042】さらに、本実施の形態では、噴射ノズル6
2は、ホルダー52に固定され、吸着パッド55ととも
に上下動するように構成していたが、ホルダー52から
別途独立させ、剥離水槽11に設けてもよい。すなわ
ち、前述したように、取り出したウェーハWaは、一度
水12中の所定深さまで浸漬させ、その位置で噴射ノズ
ル62から水を噴射するようにしているが、その水12
中の所定深さのところに、予め前記噴射ノズル62を設
けておく。そして、取り出したウェーハWaをその噴射
ノズル62の設置位置まで浸漬させ、その位置で前記剥
離水槽11中に設けられた噴射ノズル62から水を噴射
する。これによっても、本実施の形態と同様に、取り出
したウェーハWaに吸着した2段目以降のウェーハWを
容易に振るい落とすことができる。
【0043】また、本実施の形態では、最上段のウェー
ハWaが接触検知センサー56に接触すると、エレベー
ター20aの上昇が停止するように構成しているが、ウ
ェーハW、W、…の枚数及び厚さが一定の場合は、次の
ようにしてもよい。すなわち、ウェーハの枚数と厚さが
一定の場合は、剥離水槽11に浸漬された状態の最上段
のウェーハWaから所定の受取位置に位置した吸着パッ
ド55までの距離は、予め算出することができる。した
がって、カセット10からウェーハを一枚取り出すごと
に、ウェーハW一枚分の高さだけ、エレベーター20a
の上昇量をあげれば、接触検知センサー56を用いなく
ても、確実にウェーハを吸着パッドに吸着させることが
できる。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ取出装置によれば、水槽中に浸漬されたカセット内
に、積み重ねられて格納されたウェーハを傷を付けるこ
となく、確実に1枚ずつ取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェー
ハ洗浄装置の実施の形態の平面図
【図2】図1のJ1 −J2 −J3 −J4 −J5 −J6
面図
【図3】図1のK−K断面(上部詳細)図
【図4】図1のM−M断面(上部詳細)図
【図5】図1のL−L断面(駆動部詳細)図
【図6】本実施の形態のウェーハ取出装置によるウェー
ハの取り出し動作の模式図
【符号の説明】
W…ウェーハ Wa…最上段のウェーハ 1…ウェーハ洗浄装置 2…ウェーハ取出装置 10…カセット 11…剥離水槽 20…昇降部 20a…エレベーター 40…ウェーハ取出搬送部 45…水平搬送体 52…ホルダー 55…吸着パッド 62…噴射ノズル 70…搬送コンベア部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水槽内に浸漬されたカセット内に多数積
    み重ねられて格納されたウェーハを1枚ずつ取り出すウ
    ェーハ取出装置において、 前記カセット内に格納された多数枚のウェーハを、該カ
    セットから独立させて昇降させる昇降手段と、 前記カセット内に格納されたウェーハに対して進退移動
    自在に設けられ、前記昇降手段で液面から上昇させたウ
    ェーハの端面を吸着保持する吸着パッドと、 前記吸着パッドで吸着保持された状態で前記水槽中に浸
    漬させたウェーハに向けて液体を噴射し、その噴射した
    液体の液流で前記吸着パッドで吸着保持したウェーハに
    吸着したウェーハを分離する噴射ノズルと、 前記吸着パッドを備え、該吸着パッドで吸着保持したウ
    ェーハを所定の受渡位置に搬送する搬送手段と、からな
    ることを特徴とするウェーハ取出装置。
  2. 【請求項2】 前記昇降手段で上昇させた前記ウェーハ
    のうち最上段に位置するウェーハが所定の位置まで上昇
    すると作動する接触検知センサを設け、該接触検知セン
    サが作動すると、前記昇降手段は上昇を停止することを
    特徴とする請求項1記載のウェーハ取出装置。
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