JPH09136723A - ウェーハ取出し装置 - Google Patents

ウェーハ取出し装置

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JPH09136723A
JPH09136723A JP29453795A JP29453795A JPH09136723A JP H09136723 A JPH09136723 A JP H09136723A JP 29453795 A JP29453795 A JP 29453795A JP 29453795 A JP29453795 A JP 29453795A JP H09136723 A JPH09136723 A JP H09136723A
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wafer
wafers
cassette
unit
suction pad
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JP29453795A
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Kenichi Nakaura
健一 中浦
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のウェーハをカセット内に重ねて格納
し、カセットを洗浄水槽に配した状態でウェーハを1枚
ずつ取り出す際に、ウェーハの取り出しが容易で、かつ
ウェーハに傷を付けるおそれがないウェーハ取出し装置
を提供する。 【解決手段】 昇降部20を移動してカセット内に格納
されたウェーハを上方向に移動する。そして、最上段の
ウェーハWaが上限位置に到達したとき、ウェーハ搬送
部40の吸着パッド55で最上段のウェーハWaを吸着
保持し、最上段のウェーハWaの上限位置の周囲に設け
たエア噴射部60から圧縮空気を噴射して、最上段のウ
ェーハWaと2段目以降のウェーハWを分離する。次
に、水平搬送体45を移動してウェーハWaを搬送す
る。そして、水平搬送体45や搬送コンベア70でウェ
ーハを搬送中に重複検出部80でウェーハ重複取出しを
検出してウェーハが重複取り出された場合に搬送を停止
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子の素材と
なるシリコン等のウェーハをカセット内に多数枚重ねて
格納し、そのカセットを洗浄水槽内に配した状態でウェ
ーハを1枚ずつ取り出す場合のウェーハ取出し装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
で切り出された後、スライスベースの剥離、外周の面取
り等が行われていく。そして、これらの製造装置(ここ
では、ウェーハを加工したり処理する機械・装置をまと
めてこう呼ぶ)の間のウェーハの搬送は、一般的にウェ
ーハカセットにウェーハを1枚ずつ分離格納した状態で
行い(以下、このようなカセットを「枚葉カセット」と
いう)、枚葉カセットが装置に搬入されると、各製造装
置内のウェーハ取出し装置によって枚葉カセットからウ
ェーハが1枚ずつ取り出される。
【0003】しかし、枚葉カセットに格納できるウェー
ハの枚数は少なく(1つの枚葉カセットに25枚程
度)、製造装置の処理速度が向上している今日、製造装
置の処理速度に対応するにはウェーハが格納された枚葉
カセットを頻繁に交換する必要がある。そのため、作業
者を配置して枚葉カセットを交換したり、専用の交換装
置を設けたりしている。また、多くの枚葉カセットを製
造装置の近傍に置くことも必要である。したがって、ウ
ェーハの製造コストが高くなるとともに製造装置のスペ
ースが大きくなるという問題がある。
【0004】そこで、枚葉カセットの代わりに、ウェー
ハを多数枚重ねて格納する方式のウェーハカセット(本
明細書ではこのようなカセットを単に「カセット」とい
う)を用いる例が増えてきている。
【0005】また、スライシングマシン等で切り出され
た後、スライスベースが剥離されたウェーハは、外周が
面取り加工された後等に、簡易洗浄される場合がある。
このように、ウェーハを簡易洗浄する場合、ウェーハを
カセットに多数枚重ねて格納した状態で行うことがで
き、処理時間が大幅に短くなる。
【0006】しかし、上述したように、乾燥したウェー
ハをカセットに多数枚重ねて格納すると、ウェーハ同士
が密着しやすくなり、1枚ずつ取り出すことは容易でな
い。まして、洗浄水槽に入れた後は水滴が付着するので
密着度はさらに高まり、1枚ずつ取り出すことはさらに
困難になる。そして、このような状態からウェーハを1
枚ずつ取り出す装置は、これまで開示されていない。
【0007】ところで、乾燥したウェーハを多数枚重ね
て格納した状態から1枚ずつ取り出すウェーハ格納・取
出し装置は、本件出願人が実願平5−068361号で
開示している。この装置は、ウェーハの格納が容易にな
るように、専用のウェーハ格納装置にウェーハを多数枚
重ねて格納する。そして、多数枚重ねて格納されたウェ
ーハ格納装置内のウェーハを上方に送り、最上段のウェ
ーハが所定の吸着位置に達したことがセンサーで検出さ
れると、最上段のウェーハを吸着パッドで保持して水平
方向に取り出す。
【0008】この場合、最上段のウェーハと2段目以降
のウェーハの分離は、最上段のウェーハが吸着パッドで
保持された後、2段目以降のウェーハを下降させるとと
もに、最上段のウェーハと2段目のウェーハの間にエア
噴射部から圧縮空気を噴射することによって行う。ま
た、エア噴射部から圧縮空気を噴射しても2段目以降の
ウェーハが最上段のウェーハに密着したままウェーハ格
納装置内から取り出された場合は、2段目以降のウェー
ハはウェーハセパレータに当接してウェーハ格納装置内
に留まるようになっている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実願平
5−068361号による方法は、乾燥状態のウェーハ
を対象にしており、カセットに多数枚重ねて格納され洗
浄水槽内に浸漬された状態からウェーハを1枚ずつ取り
出す場合にそのまま適用できない。
【0010】また、前述したように、洗浄水槽から取り
出されたばかりのウェーハには水滴が付着していて、最
上段のウェーハと2段目以降のウェーハの分離条件は乾
燥状態に比べて厳しくなる。このため、2段目以降のウ
ェーハが最上段のウェーハに密着したままウェーハ格納
装置から搬出される可能性が高くなる。その場合、実願
平5−068361号公報による方法では、2段目以降
のウェーハはウェーハセパレータに当接してウェーハ格
納装置内に留まるが、ウェーハセパレータに当接して最
上段のウェーハと2段目以降のウェーハとが分離される
ときに、ウェーハ同士が擦れてウェーハに傷が付くおそ
れがある。このおそれは、乾燥状態のウェーハの場合よ
り高い。
【0011】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ウェーハを多数枚積み重ねてカセット内に格納
し、そのカセットを洗浄水槽内に浸漬した状態からウェ
ーハを1枚ずつ取り出す場合において、ウェーハの取り
出しが容易で、ウェーハに傷を付けるおそれが少ないウ
ェーハ取出し装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、複数のウェーハをカセット内に重ねて格
納し、そのカセットを洗浄水槽内に配した状態から前記
ウェーハを1枚ずつ取り出すウェーハ取出し装置に於い
て、前記洗浄水槽内に浸漬された前記カセット内に格納
された複数のウェーハを、前記カセットから独立させて
昇降する昇降部と、前記洗浄水槽の上方に水平搬送体が
水平方向に移動自在に設けられ、前記水平搬送体に設け
られたセンサーで前記昇降部により上限位置まで上昇さ
れた前記ウェーハを検出すると共に、前記水平搬送体に
設けられた吸着パッドで前記センサーの検知信号に基づ
いて前記上限位置まで上昇された前記ウェーハの最上段
のウェーハを吸着保持して前記カセット内から前記最上
段のウェーハを取り出すウェーハ搬送部と、前記吸着パ
ッドに吸着保持された前記最上段のウェーハと2段目の
ウェーハとを引き離す圧縮空気を噴射するエア噴射部
と、前記吸着パッドに吸着されて前記カセット内から取
り出された前記最上段のウェーハの厚みを検出して前記
ウェーハの重複取出しを検出する重複検出部と、から構
成されたことを特徴としている。
【0013】この場合、エア噴射部は、ウェーハの大き
さ、圧縮空気圧力、ノズル形状、装置の機構等によっ
て、最適な位置及び数を設定する。
【0014】また、重複検出部は、次工程にウェーハを
搬送する搬送コンベア部70上に設けられる場合と、そ
れ以外の箇所に設ける場合がある。
【0015】搬送コンベア部70上に設けられた重複検
出部は、搬送コンベア部70の上方に検出ローラ84を
上下方向に移動自在に設け、カセット内から取り出され
たウェーハに検出ローラ84を当接する。そして、当接
時の検出ローラ84の位置をセンサー89で検出するこ
とによりウェーハの厚みを検出する。
【0016】搬送コンベア部70上に設けられた他の重
複検出部は、搬送コンベア部70の上方に反射形の光電
センサー93又は超音波センサー91を設け、反射形の
光電センサー93又は超音波センサー91でカセットか
ら取り出されたウェーハの厚みを非接触に検出する。
【0017】また、搬送コンベア部70以外の箇所に設
けられた重複検出部は、ウェーハの水平搬送経路中のウ
ェーハの上下方にそれぞれ反射形の光電センサー93又
は超音波センサー91を設け、反射形の光電センサー9
3又は超音波センサー91でカセット内から取り出され
たウェーハの厚みを非接触に検出する。
【0018】さらに、搬送コンベア部70以外の箇所に
設けられた他の重複検出部は、吸着パッドに吸着されて
カセット内から取り出されたウェーハの周囲に光スクリ
ーン透過形の光電センサー95を設け、光スクリーン透
過形の光電センサー95でカセット内から取り出された
ウェーハの厚みを非接触に検出する。
【0019】本発明に係るウェーハ取出し装置によれ
ば、洗浄時に、カセット内に格納されたウェーハを洗浄
水槽の液面下に配し、ウェーハの取出し時に、最上段の
ウェーハがセンサーに検出される上限位置に到達するま
でウェーハを昇降部で上方向に移動する。この上限位置
は少なくとも最上段のウェーハが液面から出た位置であ
る。
【0020】次に、ウェーハ搬送部の吸着パッドによっ
て最上段のウェーハを保持する。次いで、エア噴射部か
ら圧縮空気を噴射し、同時に昇降部を僅かに下降して最
上段のウェーハと2段目以降のウェーハを分離する。一
方、最上段のウェーハに2段目以降のウェーハの一部が
密着したまま取り出された場合、ウェーハの取出し・搬
送経路中に設けられた重複検出部で重複状態のウェーハ
を検出してウェーハの搬送を停止すると共に作業者に知
らせる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るウェーハ取出し装置の一実施の形態について詳説す
る。本発明に係るウェーハ取出し装置の実施の形態の全
体平面図を図1に、図1のJ1-J2-J3-J4-J5-J6 断
面図を図2に、図1のK−K断面(上部詳細)図を図3
に、図1のL−L断面(上下駆動手段30の詳細)図を
図4に、図1のM−M断面(上部詳細)図を図5に、図
1のN−N断面(上部詳細)図を図6に示す。
【0022】この実施の形態のウェーハ取出し装置は、
ウェーハ格納部10、昇降部20(図2参照)、ウェー
ハ搬送部40、エア噴射部60、搬送コンベア部70、
重複検出部80(図5参照)から構成されている。な
お、図2は昇降部20がウェーハ収納部10のウェーハ
W、W…を押し上げる前の状態を示し、図4及び図5は
ウェーハ収納部10内のウェーハを上昇して最上段のウ
ェーハWaを吸着パッド55に保持した状態を示す。
【0023】図1〜図3に示すように、ウェーハ格納部
10には洗浄水槽11があり、洗浄水槽11には洗浄液
が液面12まで充填されている。洗浄水槽11の中間部
分には4本の受台13が設けられ、そのうちの2本の上
部には位置決めピン13a(図3に1個のみ図示)が形
成されている。また、カセット10aはカセット底板1
4、カセット底板14に立設された4本のカセット支柱
15、カセット支柱15の上端に固着された2個のカセ
ット上板16から構成されるとともに、カセット底板1
4にウェーハガイド17及び18が各々2個立設されて
いる。ウェーハガイド17はウェーハの円周縁部を案内
すると共に、ウェーハガイド18はウェーハのスライス
ベース部分を案内する。この実施の形態ではウェーハガ
イド18がウェーハ搬出側(水平方向に搬送されていく
側、すなわち図1上で右側)になっている。カセット底
板14の中央には抜き穴14b(図2、図3参照)が形
成されている。
【0024】ウェーハ格納部10はこのように構成され
ており、ウェーハW、W…は前工程でカセット10aに
ウェーハガイド17及び18に案内され重ねて格納され
た後、カセット10aは作業者あるいはロボットによっ
て洗浄水槽11に搬入される。このとき、カセット底板
14の2箇所に形成された位置決め穴14a(図3に1
個のみ図示)が、受台13の上部の位置決めピン13a
に挿入されて水平方向の位置が決められる。なお、カセ
ット10aは後述するウェーハ搬送部40の水平搬送体
45が搬送コンベア部側に移動した状態(図1の想像
線)のときに、洗浄水槽11に搬入される。
【0025】図2に示すように、昇降部20はエレベー
タ20a及び駆動部30から成り、エレベータ20a
は、洗浄水槽11の内側に設けられたガイドブロック2
1に、上下方向移動自在に2本のガイドバー22が支持
されている。6本のガイドバー22の上端には駆動板2
3が取り付けられ、下端には連結板24が取り付けられ
ている。また、連結板24には送りバー25が立設さ
れ、送りバー25の上端に載台26が固着されている。
【0026】駆動部30は、図2上で洗浄水槽11の左
側に配設されている。図4に示すように、駆動部30は
ベース31に2本の支柱32aが立設され、2本の支柱
32aの上端に横板32bが固着されている。横板32
bにはリニアブッシュ33が取り付けられ、リニアブッ
シュ33に上下方向移動自在に2本のガイドバー34が
支持されている。2本のガイドバー34の上端には上連
結板35が取り付けられ、下端には下連結板36が取り
付けられている。
【0027】また、横板32bには下方向に送りネジ3
7が回転自在に支持され、送りネジ37は下連結板36
に設けられた送りナット36aに、ねじ係合している。
送りネジ37の下端には歯車37aが固着され、歯車3
7aはベース31に取り付けられたモーター38の回転
軸に固着された歯車38aに噛合されている。さらに、
上連結板35の上端にはジョイント部35aが形成され
て、ジョイント部35aには昇降部20の駆動板23に
連結している。上連結板35の上端にはカバー39が取
り付けられている。
【0028】昇降部20はこのように構成されており、
駆動部30のモーター38によって送りネジ37を回転
すると、送りナット36aを介して上連結板35が上下
方向に移動される。上連結板35はエレベータ20aの
駆動板23に連結されており、駆動板23が上下方向に
移動されると、載台26が上下方向に移動される。これ
によって、カセット10aに格納されたウェーハW、W
…が上下方向に移動される。
【0029】図1〜図3及び図5に示すように、ウェー
ハ搬送部40の支柱41、42は洗浄水槽11の両側に
立設され、支柱41及び42の上端には水平方向にリニ
アガイド43、43が固着されている。リニアガイド4
3にはスライダー44が移動自在に設けられ、2個のス
ライダー44には水平搬送体45が取り付けられてい
る。また、支柱41のリニアガイド43の上側には、ロ
ッドレスシリンダー46がリニアガイドと同方向に設け
られ、そのスライダー46aが水平搬送体45に固着さ
れている。
【0030】また、水平搬送体45の2箇所に設けられ
たリニアブッシュ51(図3参照)に上下方向移動自在
に2個のガイドバー53が支持され、ガイドバー53に
はホルダー52が取り付けられている。ホルダー52に
は、2本のガイドバー53の中間に受け駒52aが固着
されている。水平搬送体45には上下方向に伸長するよ
うに直動シリンダー54が取り付けられ、直動シリンダ
ー54のピストン軸の先端にピストンヘッド54aが固
着されて、ピストンヘッド54aが受け駒52aに連結
されている。
【0031】さらに、ホルダー52の下面には吸着パッ
ド55が取り付けられるとともに、検出方向を下向きに
してセンサー56が設けられている。吸着パッド55は
ウェーハWを真空吸着して保持する。
【0032】ウェーハ搬送部40はこのように構成され
ており、ウェーハWを取り出すときは直動シリンダー5
4によってホルダー52が下降し、吸着パッド55とセ
ンサー56を所定の高さまで下降させる。その位置でセ
ンサー56が、カセット10aに格納されたウェーハ
W、W…の最上段のウェーハWaを検出すると、吸着パ
ッド55がウェーハWaを真空吸着で保持した状態で上
昇する。その後、水平搬送体45がロッドレスシリンダ
ー46によって水平方向(図1で右方向)に移動され
る。
【0033】図5に示すように、エア噴射部60は洗浄
水槽11の左側上端に設けられ、エア噴射部60には、
最上段のウェーハWaの上昇位置のウェーハ搬出側で、
ウェーハ搬送部40の支柱41と42とにホルダー61
が固着され(図1参照)、ホルダー61にエアノズル6
2が取り付けられている。エアノズル62にはノズル穴
62aが複数形成され、ノズル穴62aから圧縮空気が
噴射される。ノズル穴62aの高さは、上昇位置にある
ときの最上段のウェーハWaの下面に圧縮空気が強く当
たるように設定されている。
【0034】図1、図5及び図6に示すように、搬送コ
ンベア部70は受台71にコンベア部ベース72が取り
付けられ、コンベア部ベース72の両側にローラ73、
74、75及び76が回転自在に支持されている。コン
ベア部ベース72の両側のローラ73、74、75及び
76には、それぞれ搬送ベルト77、77が張設されて
いる(図1、図6参照)。ローラ76には図示しない
が、駆動用のモーターあるいは駆動機構が連結されてい
る。また、受台71の両側部71a、71bにそれぞれ
幅ガイド78が取り付けられている。これによって、2
本の搬送ベルト77上に載置されたウェーハWは、幅ガ
イド78によって円周縁が案内されながら、図1上で左
側から右側に搬送される。
【0035】図5及び図6に示すように、重複検出部8
0は、搬送コンベア部70の受台71の側部71aにブ
ラケット81が取り付けられ、ブラケット81の端部に
ガイド82が固着されている。ガイド82にはローラホ
ルダー83が上下自在に支持され、ローラホルダー83
の下端には検出ローラ84が回転自在に支持されてい
る。ローラホルダー83には回り止めピン86(図5参
照)が上向きに固着され、ガイド82に形成された凹部
82aに回り止めピン86が係合して、検出ローラ84
が水平面内で回転しないようになっている。検出ローラ
84の検出位置は搬送コンベア部70のローラ75の一
方の真上にあり(図6参照)、検出ローラ84の回転方
向はローラ75の回転方向と一致している。
【0036】また、ローラホルダー83は圧縮バネ85
によって下方向に付勢されているが、ローラホルダー8
3の上端にはストッパー87が固着され、検出ローラ8
4の下端位置が規制される。さらに、ガイド82の上方
に配されたホルダー88がブラケット81の上端に固着
され、ホルダー88にセンサー89が検出方向を下向き
にして取り付けられている。
【0037】これによって、搬送コンベア部70上に取
り出されたウェーハの厚みが、ローラ75上の搬送ベル
ト77の上面から検出ローラ84の外周縁最下点までの
距離R(図6参照)として検出されるが、距離Rがウェ
ーハWの1枚分の厚みを超えるときにセンサー89から
信号が出力されるように設定されている。また、距離R
がウェーハの1枚分の厚みの1.5倍程度のときは、ガ
イド82の上端とストッパー87と隙間Qを0(密着)
になるように設定すると、ウェーハWが1枚だけ(つま
り、正常な取出し)のとき、ウェーハWを検出ローラ8
4に接触しないようにすることができる。
【0038】次に、このように構成されたウェーハ取出
し装置で、ウェーハ格納部10のカセット10aからウ
ェーハW、W…を1枚ずつ取り出す方法について説明す
る。図7及び図8にウェーハの取出し動作を模式的に示
す。図7(A)が取出し前の状態である。
【0039】まず、ウェーハ搬送部40の水平搬送体4
5が図1の位置で、吸着パッド55が所定の高さまでH
aだけ下降する(図7(B)参照)。なお、図7及び図
8では図示しないが、このとき吸着パッド55と一緒に
センサー56も所定の高さまで下降する。
【0040】次に、駆動部30で駆動されるエレベータ
20aによって、カセット10aに格納されたウェーハ
W、W…の全体が上方向に移動され、最上段のウェーハ
Waがセンサー56によって検出されるまでHbだけ上
昇する(図7(C)参照)。そして、この状態になる
と、エアノズル62から圧縮空気が噴射される。
【0041】エアノズル62から圧縮空気が噴射された
状態で、吸着パッド55がウェーハを真空吸着して保持
する(図8(A)参照)。この真空吸着によって最上段
のウェーハWaは上方に僅かに持ち上げられるので、圧
縮空気が最上段のウェーハWaと2段目以降のウェーハ
Wとの隙間に入り、ウェーハWaを2段目以降のウェー
ハWから分離しやすくなると共にウェーハWaの水滴の
除去が行われる。
【0042】さらに、エアノズル62から圧縮空気が噴
射された状態で、エレベータ20aがHc(数mm程
度)だけ下降する(図8(B)参照)。これによって吸
着パッド55に保持されたウェーハWaとカセット10
a内に残ったウェーハWとの隙間がさらに広がって、ウ
ェーハWaとウェーハWとの分離及びウェーハWaの水
滴の除去がさらに進む。なお、圧縮空気の噴射は間欠し
て行うとウェーハWaとウェーハWとの分離が容易に行
われる。
【0043】この後、吸着パッド55が取出し前と同じ
高さまでHaだけ上昇し(図8(C)参照)、水平搬送
体45によって吸着パッド55に吸着保持されたウェー
ハWaが図1上で右方向に搬送される。
【0044】なお、図5に示すように、Haは、上昇し
たときの吸着パッド55の下面と、搬出側のウェーハガ
イド18の上端又はエアノズル62の上端のいずれか高
い方との距離P(図5ではウェーハガイド18の上端の
方が高いと仮定した。)よりも大きい。また、Pは複数
枚のウェーハWの厚みより大きく設定されている。吸着
パッド55でウェーハWを真空吸着する場合に、複数の
ウェーハWが重複取り出されるときは、ほとんどが2枚
であり、Pを複数枚のウェーハWの厚みより大きく設定
しておけば、2枚のウェーハWが重複取り出されたとき
の下側のウェーハWbがウェーハガイド18やエアノズ
ル62に当接するおそれがない。
【0045】吸着パッド55に保持されて取り出された
ウェーハWaは、搬送コンベア部70上に搬出される。
搬送コンベア部70の2本のベルト77に支持されて図
1上で左側から右側に搬送され、次工程へ搬送される前
に重複検出部80を通過する。この場合、ウェーハWa
が1枚だけであればウェーハWaはそのまま通過する
が、ウェーハが2枚以上のときはセンサー89に検出さ
れ、搬送コンベア部70が停止するとともに作業者に知
らせる。この場合、下側のウェーハWbは作業者が取り
除く。
【0046】なお、以上説明した実施の形態では、エア
ノズル62をウェーハ搬出側1箇所に設けた場合につい
て説明したが、これに限らず、最上段のウェーハWaの
上昇端位置の周囲に複数のエア噴射部を設けてもよい。
図9にエア噴射部60を4箇所に設けた他の実施の形態
を示す。この実施の形態では、洗浄水槽11を囲むよう
に形成されたホルダー65がウェーハ搬送部40の支柱
41と42とに固着され、ホルダー65にエア噴射部6
6が4個取り付けられている。エア噴射部60は前記実
施の形態のエアノズル62と同様に、1又は2以上のノ
ズル穴が形成されて、ノズル穴から圧縮空気が噴射され
る。ノズル穴の高さは、カセット10aが上昇位置にあ
るときのカセット10a内の最上段のウェーハWaの下
面に圧縮空気が強く当たるように設定される。このよう
にエア噴射部を増やすと、一般的にウェーハの分離が確
実に行われやすくなる。
【0047】また、ウェーハ重複取出し検出は、前記実
施の形態以外の方法でも実施することができる。以下、
図10〜図12に基づいてウェーハ重複取出し検出方法
のその他の実施の形態を3つ説明する。
【0048】第1のその他の実施の形態は、図10に示
すように、搬送コンベア部70の上方に超音波センサー
91を設け、超音波センサー91の感度を調整して搬送
されるウェーハの厚みが1枚か2枚以上かを検出する。
この場合、ベルト77の上面と超音波センサーの検出面
との距離Sが数mm程度確保することができるので、ウ
ェーハWa、Wbが重複取り出されたときでも、ウェー
ハWa、Wbに接触せずに検出することができる。
【0049】図11に示す第2のその他の実施の形態
は、水平に搬送されるウェーハの上下両面を2つの反射
形の光電センサー93で検出し、2つの検出値の差で搬
送されるウェーハの厚みを検出する。2つの反射形の光
電センサー93は、一例として支柱41に固定されたブ
ラケット15に配設され、水平搬送体45に対して一定
の位置に配設されている。すなわち、2つの光電センサ
ー93が設けられた位置は、ウェーハが洗浄水槽11の
範囲から外れた位置で、ウェーハが吸着パッド55に保
持されて水平方向に移動するときに2つの光電センサー
93の間を通過し、このとき2つの光電センサー93で
ウェーハの厚みを検出する。
【0050】この場合でも、光電センサー93の先端と
ウェーハとの距離Tを数mm程度確保することができる
ので、複数のウェーハが重複取り出されたときでも、ウ
ェーハに接触せずに検出することができる。また、この
方法は次工程への搬送コンベア部70がない場合にも対
応可能である。
【0051】図12に示す、第3のその他の実施の形態
は、光スクリーン透過形の光電センサー(例えば、投光
部から受光部に向けて幅のある光を投光し、その間に置
かれた物体によってその光が遮断される量からその物体
の寸法を検出する方式のセンサーのことをいう。)によ
って検出する。すなわち、水平搬送体45に光スクリー
ン透過形の光電センサーの投光部95aと受光部95b
を設け、ウェーハWaが吸着パッド55によって吸着保
持され上昇した状態でウェーハの厚みを検出する。この
場合、ウェーハに接触せずに複数のウェーハの重複取出
しを検出することができる。また、ウェーハを搬送コン
ベア部70上等に載置しなくても検出できるので、次工
程へウェーハを搬送する搬送コンベア部70がない場合
にも対応可能である。
【0052】さらに、第1のその他の実施の形態におい
ては超音波センサー91の代わりに反射形の光電センサ
ー93を1個用いてもよいし、第2のその他の実施の形
態においては2個の反射形の光電センサー93の代わり
に2個の超音波センサー91で検出するようにしてもよ
い。
【0053】また、以上説明した実施の形態では、ウェ
ーハ搬送部40のホルダー52に設けられたセンサー5
6が接触式の例を示したが、これに限らず、前述した超
音波センサー91や反射形の光電センサー93と同等の
非接触式センサーを使用してもよい。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ取出し装置によれば、ウェーハの取出し時に、最上段
のウェーハがセンサーに検出される上限位置に到達する
までウェーハを昇降部で上方向に移動する。この上限位
置は少なくとも最上段のウェーハが液面から出た位置で
ある。
【0055】次に、ウェーハ搬送部の吸着パッドによっ
て最上段のウェーハを保持する。次いで、エア噴射部か
ら圧縮空気を噴射し、同時に昇降部を僅かに下降して最
上段のウェーハと2段目以降のウェーハを分離する。こ
れにより、ウェーハを容易に取り出すことができる。一
方、最上段のウェーハに2段目以降のウェーハの一部が
密着したまま取り出された場合、ウェーハの取出し・搬
送経路中に設けられた重複検出部で重複状態のウェーハ
を検出してウェーハの搬送を停止すると共に作業者に知
らせる。これにより、ウェーハに傷を付けないようにウ
ェーハの重複を検知することができる。
【0056】したがって、複数のウェーハをカセット内
に重ねて格納し、そのカセットを洗浄水槽内に配した状
態でウェーハを1枚ずつ取り出す場合において、ウェー
ハの取り出しが容易で、ウェーハに傷を付けるおそれが
少ないウェーハ取出し装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェーハ取出し装置の一実施の形
態の全体平面図
【図2】図1のJ1-J2-J3-J4-J5-J6 断面図
【図3】図1のK−K断面(上部詳細)図
【図4】図1のL−L断面(駆動部詳細)図
【図5】図1のM−M断面(上部詳細)図
【図6】図1のN−N断面(上部詳細)図
【図7】本発明に係るウェーハ取出し装置の実施の形態
のウェーハの搬出動作を示す図
【図8】本発明に係るウェーハ取出し装置の実施の形態
のウェーハの搬出動作を示す図
【図9】本発明に係るウェーハ取出し装置でエア噴射部
を4箇所に設けた他の実施の形態を示す図
【図10】本発明に係るウェーハ取出し装置で、超音波
センサーで重複取出しを検出する他の実施の形態を示す
【図11】本発明に係るウェーハ取出し装置で、反射形
の光電センサーで重複取出しを検出する他の実施の形態
を示す図
【図12】本発明に係るウェーハ取出し装置で、光スク
リーン透過形の光電センサーで重複取出しを検出する他
の実施の形態を示す図
【符号の説明】
W……ウェーハ Wa……最上段のウェーハ Wb……重複取り出された下側のウェーハ 10a……カセット 11……洗浄水槽 20……昇降部 40……ウェーハ搬送部 45……水平搬送体 55……吸着パッド 60……エア噴射部 70……搬送コンベア部 80……重複検出部 84……検出ローラ 89……センサー

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のウェーハをカセット内に重ねて格
    納し、そのカセットを洗浄水槽内に配した状態から前記
    ウェーハを1枚ずつ取り出すウェーハ取出し装置に於い
    て、 前記洗浄水槽内に浸漬された前記カセット内に格納され
    た複数のウェーハを、前記カセットから独立させて昇降
    する昇降部と、 前記洗浄水槽の上方に水平搬送体が水平方向に移動自在
    に設けられ、前記水平搬送体に設けられたセンサーで前
    記昇降部により上限位置まで上昇された前記ウェーハを
    検出すると共に、前記水平搬送体に設けられた吸着パッ
    ドで前記センサーの検知信号に基づいて前記上限位置ま
    で上昇された前記ウェーハの最上段のウェーハを吸着保
    持して前記カセット内から前記最上段のウェーハを取り
    出すウェーハ搬送部と、 前記吸着パッドに吸着保持された前記最上段のウェーハ
    と2段目のウェーハとを引き離す圧縮空気を噴射するエ
    ア噴射部と、 前記吸着パッドに吸着されて前記カセット内から取り出
    された前記最上段のウェーハの厚みを検出して前記ウェ
    ーハの重複取出しを検出する重複検出部と、 から構成されたことを特徴とするウェーハ取出し装置。
  2. 【請求項2】 前記エア噴射部は、前記吸着パッドに吸
    着保持された前記ウェーハが搬送される方向に1個設け
    られことを特徴とする請求項1に記載のウェーハ取出し
    装置。
  3. 【請求項3】 前記エア噴射部は、前記吸着パッドに吸
    着保持された前記ウェーハの周囲に複数個設けられたこ
    とを特徴とする請求項1に記載のウェーハ取出し装置。
  4. 【請求項4】 前記重複検出部は、前記水平搬送体で所
    定位置まで搬送された前記吸着パッドから解放された前
    記ウェーハを次工程に搬送するために搬送する搬送コン
    ベアの上方に、上下方向に移動自在に検出ローラを設け
    ると共に該検出ローラの上下方向位置を検出するセンサ
    ーを備え、 前記搬送コンベア部で搬送中の前記ウェーハにその検出
    ローラを当接して、前記搬送コンベア部からの前記検出
    ローラの位置を検出して前記ウェーハの厚みを検出する
    ことを特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3に記
    載のウェーハ取出し装置。
  5. 【請求項5】 前記重複検出部は、前記水平搬送体で所
    定位置まで搬送された前記吸着パッドから解放された前
    記ウェーハを次工程に搬送するために搬送する搬送コン
    ベア部の上方に、反射形の光電センサーを備え、 該反射形の光電センサーから投光された光を前記搬送コ
    ンベア部で搬送中の前記ウェーハで反射し、該反射され
    た光を該反射形の光電センサーで受光して、前記搬送コ
    ンベア部を基準として前記ウェーハの厚みを非接触状態
    で検出することを特徴とする請求項1、請求項2又は請
    求項3に記載のウェーハ取出し装置。
  6. 【請求項6】 前記重複検出部は、前記水平搬送体で所
    定位置まで搬送された前記吸着パッドから解放された前
    記ウェーハを次工程に搬送するために搬送する搬送コン
    ベア部の上方に、超音波センサーを備え、 該超音波センサーで前記搬送コンベア部を基準として前
    記ウェーハの厚みを非接触状態で検出することを特徴と
    する請求項1、請求項2又は請求項3に記載のウェーハ
    取出し装置。
  7. 【請求項7】 前記重複検出部は、前記吸着パッドに吸
    着されて前記カセット内から取り出されたウェーハを前
    記水平搬送体で搬送する搬送経路中の前記ウェーハの上
    面側と下面側にそれぞれ反射形の光電センサーを備え、 該反射形の光電センサーから投光された光を前記搬送コ
    ンベア部で搬送中の前記ウェーハで反射し、該反射され
    た光を該反射形の光電センサーで受光して前記ウェーハ
    の厚みを非接触状態で検出することを特徴とする請求項
    1、請求項2又は請求項3に記載のウェーハ取出し装
    置。
  8. 【請求項8】 前記重複検出部は、前記吸着パッドに吸
    着されて前記カセット内から取り出されたウェーハを前
    記水平搬送体で搬送する搬送経路中の前記ウェーハの上
    面側と下面側にそれぞれ超音波センサーを備え、 該一対の超音波センサーで前記ウェーハの厚みを非接触
    状態で検出することを特徴とする請求項1、請求項2又
    は請求項3に記載のウェーハ取出し装置。
  9. 【請求項9】 前記重複検出部は、前記吸着パッドに吸
    着されて前記カセット内から取り出されたウェーハの周
    囲に、光スクリーン透過形の光電センサーの投光部と受
    光部とを対向させて配し、前記投光部から投光された光
    を前記受光部で受光することにより前記カセットから取
    り出されたれたウェーハの厚みを非接触で検出すること
    を特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3に記載の
    ウェーハ取出し装置。
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