WO2005107959A1

WO2005107959A1 - 塗布装置及び塗布方法

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Publication number: WO2005107959A1
Application number: PCT/JP2005/007914
Authority: WO
Inventors: Ichiro Shibata
Original assignee: Fuji Photo Film Co., Ltd.
Priority date: 2004-05-07
Filing date: 2005-04-26
Publication date: 2005-11-17
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Description

明細書

塗布装置及び塗布方法

技術分野

[0001] 本発明は塗布装置及び塗布方法に係り、特に、連続走行するウェブ (帯状可撓性支持体）に各種液状組成物を塗布して長尺で広幅な塗布膜面を形成するのに好適な塗布装置及び塗布方法に関する。

背景技術

[0002] 従来より、写真感光材料や磁気記録媒体等の分野において、連続走行する帯状の可撓性支持体 (以下、「ウェブ」、う）上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程が採用されている。近年、これらの分野において、塗布膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることのできる塗布技術が求められている。

[0003] 同様に、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有する光学フィルムの製造に適用される塗布工程においても、上記のような塗布技術が求められている。

[0004] 従来より、塗布液をウェブ面に塗布する塗布装置としては、たとえば、ロールコータ型、グラビアコート型、ロールコートプラスドクター型、リバースロールコータ型、ェクストルージョン型、スライドコート型等があり、用途に応じて使い分けられているのが現状である。

[0005] これらのいずれの塗布装置においても、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るために、塗布時の振動除去が重要である。このため、ベースレベル (通常は建屋の 1階）に独立した大規模な基礎を設け、この上に塗布装置を設置するのが一般的であった。これにより、基礎自身の振動を抑制し、塗布膜へ悪影響が及ばな、ようにして、た。

[0006] ところが、このような方法は、塗布装置のベースレベルへの設置が原則であり、非常に設置費用が力かるうえに、設計上及びレイアウト上も制約を受けるといった不具合かあつた。 [0007] このような問題点を解消する提案として、リバースロール塗布装置にウェブの振動を抑えるための制振部を設ける提案がなされている (特許文献 1参照。 ) oまた、円筒状の基材に塗布する際に、 1以上の駆動系を防振台上に設置する提案もなされている (特許文献 2参照。）。

特許文献 1：特開 2002— 239432号公報

特許文献 2：特開平 9 - 206660号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] し力しながら、上記従来より公知の各種手段を採用しても、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るには、設備面においても、条件設定等の面においても最適な範囲を得るのは容易ではなぐ改善が求められていた。

[0009] また、従来においては、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るのに、塗布装置のどのパラメータを最適範囲に制御すべきかが不詳であり、主に経験とカンによる管理のみなされており、最適化の糸口がつかめない状態であった。

[0010] 更に、塗布液には引火性の溶媒が使用されることが多ぐ安全面での懸念も解消されていなかった。

[0011] 本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、この塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する技術分野にぉヽて、設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少なぐ膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのな、塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0012] 前記目的を達成するために、本発明は、塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、前記塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する塗布手段と、からなり、前記塗布手段が能動除振装置上に固定されている塗布装置を提供する。

[0013] 本発明によれば、塗布手段が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、容易に、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。また、設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少ない。すなわち、塗布装置のベースレベルへの設置は必ずしも必要ではなぐたとえば、 4階への設置も可能である。

[0014] なお、能動除振装置とは、アクティブ除振装置とも称呼されており、積層ゴム、空気ばね等を使用した通常の除振装置 (いわゆる、パッシブ除振装置)と異なり、空気圧ァクチユエ一タ等を使用してフィードバック制御により能動的に除振を行う装置である

。市販のものとしては、たとえば、特許機器株式会社製の装置、商品名：アクティブ微振動制御装置が使用できる。

[0015] また、被塗布物体である帯状支持体は、通常は、帯状の可撓性支持体 (ウェブ)である場合が多いが、帯状の板状体、たとえば、ガラス基板、シリコンウェハ等であっても本発明が適用でき、同様の効果が得られる。

[0016] 本発明において、前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分をフィードバック制御して空気圧ァクチユエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることが好ましい。このような構成の能動除振装置であれば、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。

[0017] また、本発明において、前記能動除振装置が防爆構造となっていることが好ましい

。このような除振装置が防爆仕様であれば、安全面においても優れている。

[0018] また、本発明にお、て、前記塗布手段の振動加速度が 0. 2Gal以下となって、ることが好ましい。本願出願人による各種の実験により、このような振動加速度の塗布手段であれば、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得られることが確認された。この詳細については後述する。

[0019] また、本発明において、前記塗布手段の一次固有振動数が 80Hz以上となっていることが好ましい。本願出願人による各種の実験により、このような一次固有振動数の塗布手段であれば、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得られることが確認された。この詳細につ、ても後述する。

[0020] また、本発明は、上記の塗布装置を使用した塗布方法であって、前記塗布装置が設置される床面の一次固有振動数を 10Hz以上とすることを特徴とする塗布方法を提供する。本願出願人による各種の実験により、このような一次固有振動数の床面上に塗布装置を設置することにより、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのな、塗布膜を得られることが確認された。この詳細にっ、ても後述する。

発明の効果

[0021] 以上説明したように、本発明によれば、塗布手段が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、容易に、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。

図面の簡単な説明

[0022] [図 1]図 1は、本発明に係る塗布方法及び塗布装置が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図である。

[図 2]図 2は、塗布装置の実施の態様を示す要部拡大概念図である。

[図 3]図 3は、塗布ヘッドの一部を切り欠いた斜視図である。

[図 4]図 4は、塗布装置の設置された状態を示す斜視図である。

[図 5]図 5は、能動除振装置のシステム構成を説明する概念図である。

符号の説明

[0023] 10 塗布装置

14 塗布液タンク

15 ポンプ

16 ウェブ (帯状可撓性支持体）

18 塗布ヘッド

20 ノックアップローラ

28 塗布膜

30 塗布ヘッド架台

32 能動除振装置 34 減圧チャンバ

66 送り出し機

68 ガイドローラ

76 乾燥ゾーン

78 カロ熱ゾーン

80 紫外線ランプ

82 卷取り機

発明を実施するための最良の形態

[0024] 以下、添付図面に従って、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の好まヽ実施の形態について詳説する。図 1は、本発明に係る塗布装置及び塗布方法が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図である。図 2は、この製造ラインのうち、塗布装置 10の実施の態様を示す要部拡大概念図であり、図 3は、塗布装置 10のうち塗布ヘッド 18の一部を切り欠いた斜視図である。図 4は、塗布装置 10の設置された状態を示す斜視図である。

[0025] 光学補償シートの製造ラインは、図 1に示されるように、送り出し機 66から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウェブ 16が送り出されるようになっている。ウェブ 16はガイドローラ 68によってガイドされてラビング処理装置 70 に送り込まれようになっている。ラビングローラ 72は、ポリマー層にラビング処理を施すべく設けられている。ラビング処理装置 70の下流には除塵機 74が設けられており、ウェブ 16の表面に付着した塵を取り除くことができるようになつている。

[0026] 除塵機 74の下流には塗布装置 10が設けられており、ディスコネマティック液晶を含む塗布液がウェブ 16に塗布できるようになつている。この下流には、乾燥ゾーン 76、加熱ゾーン 78が順次設けられており、ウェブ 16上に液晶層が形成できるようになつている。更に、この下流には紫外線ランプ 80が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成できるようになつている。そして、この下流に設けられた卷取り機 82により、ポリマーが形成されたウェブ 16が巻き取られるようになっている。

[0027] 図 2に示されるように、塗布装置 10は、塗布液タンク 14と、この塗布液タンク 14より塗布液を送液するポンプ 15と、ポンプ 15から送液された塗布液をウェブ 16に塗布する塗布ヘッド 18と、これらを繋ぐ配管と、塗布ヘッド 18に対向して設けられ、塗布時のウェブ 16を支持するバックアップローラ 20と、より構成される。

[0028] ポンプ 15としては、塗布液の供給流量が安定化することより、定量ポンプを使用することが好ましい。定量ポンプとしては、たとえば、ギアポンプ、ローラポンプ等、各種のポンプが使用できる力本発明の塗布には、特にギアポンプが好適に使用できる。

[0029] 塗布ヘッド 18は、塗布ヘッド先端が連続走行するウェブ 16と近接された状態で対向配置される。図 3に示されるように、塗布ヘッド 18内には、筒状のポケット部 18Bがウェブ 16の幅方向に平行に形成されるとともに、塗布用ポケット部 18Bは供給ライン 18Aに接続される。また、塗布ヘッド 18内には、塗布ヘッド先端に吐出口を有する塗布用スリット 18Cが形成されるとともに、塗布用スリット 18Cが塗布用ポケット部 18Bに連通される。

[0030] 塗布用スリット 18Cは、ポケット部 18Bと塗布ヘッド先端とを繋ぐ狭隘な流路であり、ウェブ 16の幅方向に延長される。そして、供給ライン 18A力もウェブ 16に塗布する所望の塗布量の塗布液が塗布ヘッド 18の塗布用ポケット部 18Bに供給される。

[0031] なお、図 3では、塗布用ポケット部 18Bに塗布液を送液する方法として、塗布用ボケット部 18Bの一方側力も供給するようにした力この他にも塗布用ポケット部 18Bの一方側から供給して他方側から引き抜くタイプ、又は塗布用ポケット部 18Bの中央部から供給して両側に分流させるタイプがあり、 V、ずれを適用してもょ、。

[0032] 図 2に示されるように、塗布装置 10は、ノックアップローラ 20の時計回りで 9時の位置に塗布ヘッド 18の先端が対向するように構成されている。そして、塗布ヘッド 18の先端とウェブ 16の表面との距離 tが設定される。図示のように、塗布ヘッド 18により塗布液が塗布されたウェブ 16には、塗布膜 28が形成され、このウェブ 16はバックアツプローラ 20に支持されて時計回りに搬送される。

[0033] なお、塗布ヘッド 18の先端の位置は、バックアップローラ 20の時計回りで 9時の位置に限定されるものではない。均一な塗布が行なえるのであれば、塗布ヘッド 18の先端の位置に制限はない。

[0034] ノックアップローラ 20の外径サイズに特に制限はなぐ均一な塗布が行なえるのであればよい。また、図示のようなバックアップローラ 20に代えて、複数の小径のバックアップローラを円周状に配する構成も採用できる。

[0035] なお、塗布ヘッド 18としては、エタストルージョン型に限定されるものではなぐスリツトより塗布液を供給してウェブ 16に塗布液を塗布する構成のものであれば、任意の形式の塗布ヘッドを使用することができる。また、塗布ヘッド 18を使用しない方式の塗布手段、たとえば、ロールコータ方式の塗布手段、リバースロールコータ方式の塗布手段等、各種の方式の塗布手段を採用することができる。

[0036] また、図示は省略したが、ウェブ 16のテンションをコントロールするテンションローラや、ウェブ 16の搬送を制御する駆動ローラを設けることも任意である。

[0037] 次に、本発明の特徴部分である防爆仕様の能動除振装置に関する構成について、図 4により説明する。この構成において、塗布ヘッド 18は、塗布ヘッド架台 30の上に固定されており、この塗布ヘッド架台 30の下面の 4隅には能動除振装置 32、 32· · · が配され、この能動除振装置 32、 32· · ·を介して床面 Fに支持されている。

[0038] なお、バックアップローラ 20の下方には減圧チャンノ 34が設けられており、この減圧チャンバ 34内を減圧状態にして、ウェブ 16と塗布ヘッド 18との間に形成される塗布液のビードを安定ィ匕させることができるようになって!/、る。

[0039] この塗布ヘッド架台 30は、ウェブ 16の幅等によっては大型サイズのものとなり、たとえば、平面サイズで 2. 4 X 1. 5mであり、総重量で 6. 5トンにもなるものである。このような塗布ヘッド架台 30上に固定された塗布ヘッド 18に対して、能動除振装置 32、 32· · ·が配されることにより、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。

[0040] 図 5は、能動除振装置 32のシステム構成を説明する概念図である。能動除振装置 32のベース 40上にエアァクチユエータ 42を介して荷重受け部 44が支持されている。この荷重受け部 44上には加速度が検出可能な加速度センサ 46が固定されており、また、ベース 40と荷重受け部 44との間には、荷重受け部 44の変位が測定可能な変位センサ 48が設けられており、更に、ベース 40上にも、加速度が検出可能な加速度センサ 50が固定されている。

[0041] 荷重受け部 44の制御は、エア源 52より供給される圧縮空気の流量をサーボバルブ 54で調整してエアァクチユエータ 42に供給することにより行う。このサーボバルブ 5 4には、加速度センサ 46からの信号が振動コントローラ 56を介してフィードバックされ、また、変位センサ 48からの信号が位置コントローラ 58を介してフィードバックされる。なお、既述の加速度センサ 50はフィードフォワード制御に使用される。

[0042] このような系に外乱 Fが加わった場合、質量 M、減衰 Z、ばね Kで代表される制御対象がエアァクチユエータ 42で制御され、床力の振動除去と同時に、荷重受け部 44 に加えられる外乱 Fに対しても制振効果を有するアクティブ除振系が構成される。

[0043] その結果、図 4の塗布装置 10によれば、容易に、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。また、塗布装置 10の設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少ない。すなわち、塗布装置 1 0のベースレベル（1階)への設置は必ずしも必要ではなぐたとえば、 4階への設置も可能である。更に、能動除振装置 32が防爆仕様であることより、安全面においても優れている。

[0044] 次に、塗布装置 10の一次固有振動数が 80Hz以上となっていることが好ましい理由について説明する。塗布時に振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくくするには、塗布装置 10における振動加速度を極力抑制することが好ましい。その際、塗布装置 10の一次固有振動数が 80Hz未満であっても、振動加速度を小さくすることはできる。

[0045] ただし、塗布装置 10の一次固有振動数を 80Hz以上とした場合、加振があった際に塗布装置 10が強く振動するのがこの一次固有振動数の周波数域となる。そして、塗布時に生じる段ムラ等のピッチは、この周波数に対応する。ところが、光学フィルム (光学補償フィルム、反射防止フィルム、等）の塗布膜は、この周波数であれば段ムラを生じにくぐ塗布膜へ悪影響が及びにくい。

[0046] その意味では、塗布装置 10の一次固有振動数が 100Hz以上となっていることがより好ましぐ 120Hz以上となっていることが更に好ましい。

[0047] 次に、塗布装置 10が設置される床面の一次固有振動数を 10Hz以上とすることが好ましい理由について説明する。上述の能動除振装置 32を使用した場合、床面の一次固有振動数が 10Hz未満であれば、殆ど除振効果が得られない。たとえば、振動周波数が 100Hzの振動であれば、約 1Z100に減衰させることができる力振動周波数が 10Hz未満の振動になると、わずかに減衰させることができる効果しか得られない。

[0048] その意味では、塗布装置 10が設置される床面の一次固有振動数が 20Hz以上となつて、ることがより好ましく、 30Hz以上となって、ることが更に好まし!/、。

[0049] 次に、塗布装置 10を使用した塗布膜の形成について説明する。塗布液としては、たとえば、粘度が lOmPa ' s以下であり、有機溶剤が含まれるものが使用できる。但し、これ以外の粘度のもの、有機溶剤が含まれないものも使用できる。

[0050] ウェブ 16としては、一般に、所定幅、所定長さで、厚さが 2〜200 μ m程度のポリエチレンテレフタレート（PET)、ポリエチレン一 2,6—ナフタレート、セルロースダイァセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ- ル、ポリ塩ィ匕ビユリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が 2〜1 0の oc—ポリオレフイン類を塗布又はラミネートした紙、金属板等力なる可撓性帯状物又は該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が使用できる。

[0051] 図 1の光学補償シートの製造ラインにおいて、送り出し機 66よりウェブ 16を繰出しながら、塗布装置 10の塗布ヘッド 18のスリット 18C中における塗布液の平均流速を 1 00〜500mmZ秒となるようにポンプ 15 (図 2参照）の流量を制御し、また、塗布直後の塗布膜 28の膜厚が 2〜40 mとなるようにウェブ 16の搬送速度を制御して塗布を行なう。

[0052] 塗布後の乾燥等において、塗布膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑な塗布膜 28が得られるように乾燥ゾーン 76、加熱ゾーン 78、紫外線ランプ 80等の設定を行なう。塗布、乾燥後のウェブ 16は卷取り機 82により卷取る。

[0053] 上記一連の工程は、良好な無塵度及び最適な温湿度の環境下で実施されることが好ましい。したがって、クリーンルーム内で行なわれるのが好ましぐ特に、塗布装置 1 0は、クラス 100以下の環境下に設置されるのが好ましい。このためには、ダウンフロ一のクリーンルーム又はクリーンベンチを併用する形態が採用できる。

[0054] 以上、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の実施形態につ!ヽて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなぐ各種の態様が採り得る。 [0055] たとえば、本実施形態では、塗布装置 10としてエタストルージョン型のコータが採用されている力これ以外のコータ、たとえば、バーコータ（「ロッドコータ」とも称され、メィヤーバーコ一タをも含む）、グラビアコータ（ダイレクトグラビアコータ、グラビアキスコータ等）、ローノレコータ（トランスファローノレコータ、リバースローノレコータ等）、ダイコータ、フアウンテンコータ、スライドホッパ等にも好適に適用できる。

[0056] また、塗布装置 10の用途としても、光学補償フィルム等の光学フィルムのみならず各種の塗布に適用できる。

実施例

[0057] 以下、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の実施例について説明する。図 1に示される光学補償シートの製造ラインの塗布装置 10を使用してウェブ 16に塗布膜を形成し、塗布面の状態を評価した。

[0058] 塗布装置 10は、 SRC梁構造を有する建屋内の 2階部分に設けられた塗布ステーシヨン上に設置された。この建屋 2階の塗布ステーション設置床面の一次固有振動数は 15Hzであった。この床面上に、図 4に示されるように、四隅に防爆型能動除振装置 32、 32· ··を組み込んだ塗布装置 10を設置した。塗布装置 10全体の一次固有振動数は 120Hzであった。

[0059] 図 3に示される塗布装置 10の、塗布用スリット 18Cの開口部幅（ウェブ 16走行方向における長さ）は 150 mであり、開口部長さは 50mmである。塗布ヘッド 18の上流側リップランド長さは lmmであり、下流側リップランド長さが 50 mである。

[0060] 図 2に示される、塗布ヘッド 18の先端とウェブ 16の表面との距離 tを 50 μ mになように設定し、図 4に示される、減圧チャンバ 34内部の負圧を 1600Paとした。

[0061] 塗布装置 10による塗布を実施している際に、建屋脇を重量物を積載した大型トラックを走行させ、塗布装置 10における振動加速度を測定した。

[0062] ウェブ 16として厚さ 100 μ mのセルロースアセテートフィルム（商品名：フジタック、フジ写真フィルム (株)製)を用い、塗布液を塗布する前に長鎖アルキル変性ポリビ- ルアルコール（商品名：ポバール MP— 203、クラレ（株）製）の 2重量⁰ /₀溶液を 25ml /m2塗布し、 60° Cで 1分間乾燥させて配向用榭脂層を形成した。

[0063] 配向膜用榭脂層を予め形成したウェブ 16を送り出し機 66から送り出し、ラビング処理装置 70により配向膜用榭脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、塗布装置 10に搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理におけるラビングローラ 72 の回転速度を 5. OmZ秒とし、ウェブ 16に対する押し付け力を 9. 8 X 10-3Paに設し 7こ。

[0064] 塗布液として、ディスコティック化合物 TE— (1)と TE— (2)の重量比率 4： 1の混合物に光重合開始剤（商品名：ィルガキュア 907、日本チガイギー (株)製)を 1重量部を添加した 40重量％添加したメチルェチルケトン溶液である、液晶性ィ匕合物を含む溶液を用いた。更に、塗布後の表面状態を確認しやすくするために、塗布液に染料を添カ卩した。

[0065] ウェブ 16の搬送速度を 50mZ分に設定し、塗布装置 10では、塗布時の湿潤膜厚力 mとなるように調整して塗布した。

[0066] 乾燥ゾーン 76の設定温度を 100° Cとし、加熱ゾーン 78の設定温度を 130° じとした。乾燥ゾーン 76及び加熱ゾーンを通過したウェブ 16は、紫外線ランプ 80により紫外線照射された。これにより、液晶が架橋し、所望のポリマーが形成された。そして、卷取り機 82により、ポリマーが形成されたウェブ 16が巻き取られた。

[0067] [実施例 1]

以上の条件により処理されたウェブ 16を実施例 1とし、巻き取った後の、ウェブ 16 の表面に形成されている塗布膜の表面状態を目視による官能検査で評価した。

[0068] 塗布時における、積載大型トラック走行中の、塗布装置 10における最大振動加速度は、 0. 2Galであった。その振動に対応する部分のウェブ 16 (塗布サンプル）の目視検査結果では、塗布ムラ等は検出されず、良好な表面状態を呈していることが確 f*i¾ れ。

[0069] [比較例 1]

実施例 1に対し、防爆型能動除振動装置を作動させない以外は、同様の条件にして塗布を行った。このときの塗布装置 10における最大振動加速度の測定値は、 0. 4 Galであった。その振動に対応する部分のウェブ 16 (塗布サンプル)の目視検査結果では、塗布膜に細カゝな塗布ムラが検出された。

[0070] [比較例 2] 比較例 1に対し、トラックの積載量を軽くした以外は、同様の条件にして塗布を行つた。このときの塗布装置 10における最大振動加速度の測定値は、 0. 3Galであった（比較例 1の 75%)。その振動に対応する部分のウェブ 16 (塗布サンプル)の目視検查結果では、比較例 1よりは軽微であるが、塗布膜に微細ながら塗布ムラが検出された。

[0071] 以上の実施例 1、比較例 1及び比較例 2の結果より、塗布装置 10の振動加速度が 0 . 2Gal以下であれば、良好な塗布膜を得ることができることが確認できた。

産業上の利用可能性

[0072] 以上説明したように、本発明によれば、塗布手段が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、容易に、膜の厚さ精度が高ぐかつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。

Claims

請求の範囲

[1] 塗布液を供給する塗布液供給手段と、

前記塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、前記塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する塗布手段と、からなり、

前記塗布手段が能動除振装置上に固定されている塗布装置。

[2] 前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分をフィードバック制御して空気圧ァクチユエータを作動させ、能動的に除振を行う装置である請求項 1に記載の塗布装置。

[3] 前記能動除振装置が防爆構造となっている請求項 1又は 2に記載の塗布装置。

[4] 前記塗布手段の振動加速度が 0. 2Gal以下となっている請求項 1〜3のいずれか 1 項に記載の塗布装置。

[5] 前記塗布手段の一次固有振動数が 80Hz以上となっている請求項 1〜4のいずれ力 1項に記載の塗布装置。

[6] 前記請求項 1〜5の！、ずれか 1項に記載の塗布装置を使用した塗布方法であって前記塗布装置が設置される床面の一次固有振動数を 10Hz以上とすることを特徴とする塗布方法。