JP5063028B2 - 塗布方法及び装置並びに塗布ライン用ローラ - Google Patents

Description

本発明は塗布方法及び装置並びに塗布ライン用ローラに係り、特に、走行するウエブに塗布液を高精度に塗布することが要求される塗布装置において塗布機の近傍に配置されたローラの改良技術に関する。

搬送されるウエブの表面に塗布液を塗布する塗布装置には、塗布機の上流側及び下流側にウエブの搬送を支持するパスローラや、ウエブに搬送力を付与するフィードローラ等のローラが配置される。また、塗布機としては、バー塗布機（ロッド塗布機ともいう）、リバースロール塗布機、グラビアロール塗布機、スロットダイ塗布機（例えばエクストルージョン塗布機等）等がある。これらの塗布機は、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム等）や磁気記録媒体等の製造において使用されており、薄膜で且つ塗布ムラがない面質の良好な高精度の塗布が要求されている。

ところで、塗布操作において塗布機の振動がウエブの塗布面に伝わると塗布ムラとなって現れ、塗布品質を低下させることから、塗布機の振動を除振したり制振したりして、塗布機が振動しないようにすることも提案されている。

塗布機ではないが、例えば特許文献１の露光装置やデバイス装置では、駆動方向が鉛直方向で対向するように配置した一対のエアダンパと、該エアダンパの内圧を制御する手段を設けてエアダンパの固有振動数を調整する除振装置が開示されている。また、特許文献２には、感光ドラムの剛性を変えることで固有振動数を調整することが開示されている。
特開平１１−３１５８８３号公報 特開平１０−２２２０１１号公報

しかしながら、光学フィルムや磁気記録媒体等の製造における塗布のように薄膜塗布で且つ塗布ムラを極力小さくした高精度の塗布が要求される場合には、単に塗布機の除振や制振を行うだけでは、満足できる品質の光学フィルムや磁気記録媒体を製造できないという問題がある。例えば、バー塗布機でウエブに塗布液を塗布したときに、塗工用バーの回転による固有振動数と、塗布機近傍のパスローラの回転による固有振動数とが共振して塗布ムラが発現することがある。また、塗工用バーの径や回転数を変えたり、塗布機の種類を変えたりすることによっても、塗布機とパスローラとが共振して塗布ムラが発現することがある。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる塗布方法及び装置並びに塗布ライン用ローラを提供することを目的とする。

請求項１の発明は、前記目的を達成するために、複数のローラに接触しながら搬送されるウエブに対して塗布機により塗布液を塗布する塗布方法において、前記複数のローラのうち、少なくとも前記塗布機に最も近いローラの固有振動数を調整することにより、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避した状態で塗布することを特徴とする塗布方法を提供する。

本発明の請求項１によれば、ウエブの搬送ラインに設けられた複数のローラのうち、少なくとも塗布機に最も近いローラの固有振動数を調整することにより、塗布機の振動とローラの振動とによる共振を回避した状態で塗布するようにしたので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。

請求項２は請求項１において、前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする。

請求項２は塗布に使用されるローラを具体的に示したものであり、このようなパスローラやフィードローラの固有振動数を変えることで、塗布ムラを防止できる。

請求項３は請求項１又は２において、前記ローラの固有振動数は、ローラシャフトを回転自在に支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを変えることにより調整されることを特徴とする。

請求項２によれば、ローラシャフトを回転自在に支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを変えることによりローラの固有振動数を調整するようにしたので、ローラの剛性を変えたり、重さを変えたりして固有振動数を調整する場合に比べて効果的に固有振動数を調整できる。

請求項４は請求項３において、前記軸受スパンの調整範囲は、軸受スパン最大値をＣ１とし、軸受スパン最小値をＣ２としたときに、０．５≦Ｃ２／Ｃ１≦１．０を満足する範囲で調整することを特徴とする。

本発明は、ローラの固有振動数を調整することで塗布機との共振を回避するようにしたものであるが、軸受スパンを長くしすぎるとローラの振れ回りが発生し、共振は抑制できても振れ回りに起因する塗布ムラが発現する。従って、請求項４では振れ回りを塗布ムラに影響がでないように効果的に抑制しながら固有振動数を調整できる軸受スパンの好適な範囲を規定したものである。

請求項４によれば、軸受スパンの調整範囲を０．５≦Ｃ１／Ｃ２≦１．０としたので、ローラの振れ回りを効果的に抑制しながら固有振動数を調整することが可能となる。

請求項５は請求項１〜４の何れか１において、前記塗布機に最も近いローラが前記塗布機から１０００ｍｍ以内に配置されていることを特徴とする。

塗布機から１０００ｍｍ以内に配置されているローラは塗布機との共振が発現しやすいため、このローラの固有振動数を調整することが塗布ムラ防止に特に有効である。

請求項６は請求項１〜５の何れか１において、前記塗布機は、バー支持部材の支持溝に支持されて回転する塗工用バーに前記ウエブをラップさせながら搬送することにより、前記塗工用バーを介して塗布液を前記ウエブに塗布するバー塗布機であることを特徴とする。

バー塗布機は、ウエブに薄膜を高速塗布するのに優れているが、塗工用バーの回転と、塗布機近傍のローラとが共振しやすく、本発明が特に有効だからである。

請求項７の発明は、前記目的を達成するために、塗布ラインを搬送されるウエブに接触する複数のローラを備え、前記搬送されるウエブに対して塗布機により塗布液を塗布する塗布装置において、前記複数のローラのうち、少なくとも前記塗布機に最も近いローラについては、その固有振動数を可変可能な固有振動数可変手段を備えると共に、前記固有振動数を可変することによって、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避することを特徴とする塗布装置を提供する。

請求項７は本発明を装置として構成したものであり、これにより光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。

請求項８は請求項７において、前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする。

請求項８は塗布に使用されるローラを具体的に示したものであり、このようなパスローラやフィードローラの固有振動数を変えることで、塗布ムラを防止できる。

請求項９の発明は、前記目的を達成するために、塗布ラインを搬送されるウエブに対して塗布機で塗布液を塗布する塗布装置に設けられ、前記ウエブに接触するローラであって、該ローラは、その固有振動数を可変可能な固有振動数可変手段を備えると共に、前記固有振動数を可変することによって、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避することを特徴とする塗布ライン用ローラを提供する。

請求項９は本発明を塗布ライン用ローラとして構成したものであり、ウエブに接触して搬送を支持又は搬送動力を付与する塗布ライン用ローラに固有振動数可変手段を備えるようにしたので、塗布装置において、塗布ライン用ローラと塗布機とによる共振に起因する塗布ムラを効果的に抑制できる。

請求項１０は請求項９において、前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする。

請求項１０は塗布に使用されるローラを具体的に示したものであり、このようなパスローラやフィードローラの固有振動数を変えることで、塗布ムラを防止できる。

請求項１１は請求項９又は１０において、前記固有振動数可変手段は、前記ローラのローラシャフトを支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを可変する手段であることを特徴とする。

請求項１１は好ましい固有振動数可変手段として、一対の軸受同士の距離である軸受スパンを可変する手段を使用したものである。ローラの固有振動数はローラの剛性を変えたり、重さを変えたりして調整することも可能であるが、軸受スパンを変えることで精度良く固有振動数を調整できるからである。

請求項１２は請求項１１において、軸受スパンを可変する手段は、ローラシャフト表面の軸芯方向に形成された凸条又は凹条のスプラインに沿ってスライド自在であると共に、前記ローラシャフトにラジアル荷重とトルクとを同時に負荷できる軸受を有することを特徴とする。

軸受スパンを可変する手段として、ローラシャフト表面の軸芯方向に形成された凸条又は凹条のスプラインに沿ってスライド自在であると共に、前記ローラシャフトにラジアル荷重とトルクとを同時に負荷できる軸受を有する、通称ボールスプライン軸受を使用することで、容易に軸受スパンを可変することができる。

本発明によれば、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。

以下、添付図面により本発明の塗布方法及び装置並びに塗布ライン用ローラの好ましい実施の形態について詳説する。

図１は、本発明の塗布装置の一例であり、塗布機としてバー塗布機を用いた例で以下に説明すると共に、塗布ライン用ローラとしてパスローラの例で説明する。尚、塗布機はバー塗布機に限らず、塗布機近傍のローラ（例えばパスローラ）と共振を発生する恐れのある塗布機であれば何れの塗布機にも適用できる。また、塗布ライン用ローラはパスローラに限らず、ウエブに搬送力を付与するフィードローラ（ウエブを一対のローラでニップして搬送するニップローラ、ウエブをローラ周面に吸引保持して搬送するサクションローラ等）でもよく、更には他のローラでもよい。

図１のバー塗布装置１０は、塗布・計量別体型の一例である。

塗布・計量別体型のバー塗布装置１０は、主として、ウエブＷに塗布液１４を所望の塗布液量よりも過剰に塗布するエクストルージョン型のプレコート装置１６と、ウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分を掻き取る掻取り用バー装置１８と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のパスローラ２０、２０、２０とで構成される。

エクストルージョン型のプレコート装置１６は、ポケット２２（又は、「マニホールド」とも称呼される）内に圧送された塗布液１４を、ポケット２２に連通するスリット２４（又は、「スロット」とも称呼される）の出口２４Ａから、パスローラ２０に装架されて矢印方向に一定の速度で走行するウエブＷにヘッド先端面２６を押し付けながら連続的に吐出する。

これにより、掻取り用バー装置１８の直前においてウエブＷの下面に過剰な塗布液が塗布される。尚、プレコート装置１６としては、エクストルージョン型に限定されるものではなく、ウエブＷに塗布液を塗布する任意の塗布装置を使用することができる。

掻取り用バー装置１８は、ウエブＷの幅方向と平行に配設された円柱状のバー２８をバー支持台３０の支持溝３０Ａに支持して構成され、パスローラ２０により、走行するウエブＷが塗工用バー２８に対して所定のラップ角（巻き掛け角）をもって接触されるように構成されている。

また、バー２８は、図示しない回転駆動系により、ウエブＷと同方向又は逆方向に回転駆動される。これにより、プレコート装置１６によりウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分が、バー２８により掻き落とされて、所望の塗布液量に計量される。また、バー２８を回転させることにより、ウエブＷとバー２８との間に異物がトラップされることを防止し、異物による塗布故障の発生を防止する。

バー２８としては、バー表面がフラットなフラット型のバー、バーにワイヤーを密に巻回したワイヤーバー、バーの表面に溝をつけた溝付バー等を使用することができる。バー２８を支持する支持溝３０Ａの形状としては、図２に示されるＶ字溝、又は図示しないＵ字溝が一般的に使用される。この支持溝３０Ａを形成する壁面３０Ｂの長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度は、バー２８の長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度と同等か、それ以上になるように加工される。

図３のバー塗布装置１０’は塗布・計量一体型の一例である。尚、図１及び２で説明した塗布・計量別体型と同じ部材には同符号を付して説明する。

図３に示されるように、塗布・計量一体型のバー塗布装置１０’は、主として、所望量の塗布液を塗布する塗工用バー装置５０と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のパスローラ２０、２０、２０とで構成される。

塗工用バー装置５０は、主として、バー２８と、バー２８を回転自在に支持するバー支持台３０と、コーターブロック５２、５４と、両側の（図では前後の）サイドブロック（図示略）から構成される。バー支持台３０と各コーターブロック５２、５４との間には、ポケット５６、５８及びスリット６０、６２が形成され、各ポケット５６、５８に塗布液が供給される。

各ポケット５６、５８に供給された塗布液は、ウエブＷの幅方向に平行でウエブ搬送方向に狭隘なスリット６０、６２を介してウエブＷの幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２８に対してウエブＷの搬送方向の上流側（以下、「１次側」という）には１次側塗布ビード６４が形成され、下流側（以下、「２次側」という）に２次側塗布ビード６６が形成される。したがって、バー２８はこれらの塗布ビード６４、６６を介して走行するウエブＷに所定量の塗布液を転移塗布する。

ポケット５６、５８から過剰に供給された塗布液は、各コーターブロック５２、５４とウエブＷとの間からオーバーフローし、側溝６５、６７（一部図示）を介して回収される。尚、ポケット５６、５８への塗布液の供給はポケット５６、５８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。

塗布・計量別体型及び塗布・計量一体型の何れのバー塗布装置１０、１０’の場合にも、バー２８の直径Φは３〜１５ｍｍの範囲が好ましく、バー２８がワイヤーバーの場合のワイヤー直径Φは０．０５〜０．２０ｍｍの範囲が好ましい。また、ウエブＷの塗布テンション（搬送方向のテンション）は５０〜１５００Ｎ／ｍの範囲が好ましく、塗布速度は５〜１５０ｍ／分の範囲が好ましい。また、バー２８の異周速比（バー周速度／ウエブ速度）は０．１〜１．５の範囲が好ましい。また、パスローラ２０の１回転周期の速度ムラは１．５％以内が好ましく、１．０％以内がより好ましい。

また、バー塗布装置１０、１０’の何れの場合にも、パスローラ２０、２０…のうち、少なくとも掻取り用バー装置１８又は塗工用バー装置５０（以下、まとめてバー装置１８、５０という）に最も近いパスローラ２０には、その固有振動数を調整する固有振動数調整手段が設けられている。図４に示すように、特にバー装置１８、５０から最も近いパスローラ２０が、バー２８の中心〜パスローラ２０の中心までの距離Ｆにおいて１０００ｍｍ以内に位置する場合には、該パスローラ２０に固有振動数調整手段を設けることが必要である。

次に、パスローラ２０の固有振動数調整手段について説明する。

パスローラ２０の固有振動数の調整は、ローラの剛性を変えたり、重さを変えたりすることによっても可能であるが、本実施の形態では、ローラシャフトを回転自在に支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを変えることによりパスローラ２０の固有振動数を調整する方法を説明する。

図５に示すように、パスローラ２０は、主として、ローラ本体部１１（ローラシェル部ともいう）と、該ローラ本体部１１の回転軸であるローラシャフト１３と、ローラシャフト１３、１３を支持する一対の軸受１５、１５と、ローラシャフト１３の片端と回転駆動源（図示せず）に連結された駆動軸１７とを連結する連結部材１９と、固有振動数調整手段２１とで構成される。この場合、ローラ本体部１１とローラシャフト１３とは一体構造とすることもできるが、別体構造として、ローラ本体部１１とローラシャフト１３とをパワーロックにより固定することが好ましい。

固有振動数調整手段２１は、ローラシャフト１３として、軸芯方向に凸条又は凹条のスプラインが形成されたスプライン軸を使用し、軸受１５として、スプライン軸のスプラインに沿って直動可能で且つラジアル荷重とトルクとを同時に負荷できる軸受を使用することで構成される。このようなスプライン軸と軸受とを通称「ボールスプライン軸受」という）。

そして、この軸受１５をローラシャフト１３のスプラインに沿ってスライドさせて軸受１５、１５同士の間の距離である軸受スパンＣ（図５参照）を調整し、これによりパスローラ２０の固有振動数を調整する。このパスローラ２０の固有振動数の調整により、パスローラ２０の回転振動とバー装置１８、５０のバー２８の回転振動との共振を回避し、これにより塗布ムラを防止する。また、パスローラ２０に固有振動数調整手段２１を設けることにより、共振に起因した塗布ムラが発生しても、固有振動数の異なるパスローラにロール交換する必要がなくなり、塗布ムラの迅速な解消が可能となる。

「ボールスプライン軸受」については、特に説明しないが、市販のものを使用することができ、例えばＴＨＫ株式会社のボールスプラインＬＢＳ（商品名）やＬＴ（商品名）等を使用できる。

また、固有振動数調整手段２１における軸受１５，１５同士の軸受スパンＣの調整範囲は、軸受スパン最大値をＣ１とし、軸受スパン最小値をＣ２としたときに、０．５≦Ｃ２／Ｃ１≦１．０を満足する範囲内で調整することが好ましい。これは、パスローラ２０の固有振動数を調整することで、バー装置１８、５０との共振を回避できても、軸受スパンＣを長くしすぎるとパスローラ２０の振れ回りが発生し、共振は抑制できても振れ回りに起因する塗布ムラが発現するからである。従って、振れ回りを塗布ムラに影響がでないように効果的に抑制しながら固有振動数を調整できる軸受スパンＣの好適な範囲は、０．５≦Ｃ２／Ｃ１≦１．０の範囲であることが好ましい。

以後の説明において、図５のパスローラ２０におけるローラ本体部１１の軸芯方向の長さを面長Ａとし、ローラシャフト１３の全長（一端から他端までの長さ）を軸長Ｂとし、一対の軸受１５、１５同士の間の距離を軸受スパンＣとし、ローラ本体部１１の端から軸受１５までのローラシャフト１３の長さを片持ち長さＤという。

本発明で使用するウエブＷとしては、一般に、その幅が３００〜２０００ｍｍ、長さが４５〜１００００ｍ、厚さが２〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙等からなる可撓性帯状物あるいは該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が含まれる。

ウエブＷへの塗布液の塗布量としては、２〜１５ｍＬ／ｍ² の範囲が好ましく採用できる。また、ウエブＷへの塗布液の塗布幅としては、５００〜２０００ｍｍの範囲が好ましく採用できる。

また、塗布液としては、光学フィルムや磁気テープの塗布液のような非ニュートン流体にかぎらず、写真感光層の比較的低粘度のゼラチン溶液をバインダとしてなるようなニュートン流体であってもよい。塗布液の粘度としては、０．８〜１０ｃｐ（０．８〜１０×１０-3Ｐａ・ｓ）の範囲が好ましく採用できる。

［実施例１］
次に、図１に示した塗布・計量別体型のバー塗布装置１０を用いて、光学補償フィルム用の塗布液を塗布した実施例を説明する。

この塗布において、図６の表に示すように、軸受スパン（Ｃ）の最大値（Ｃ１）に対する最小値（Ｃ２）の比率（Ｃ２／Ｃ１）を変えることにより、パスローラの固有振動数、パスローラ２０の１回転成分の速度ムラ、及びウエブ Ｗに塗布された塗布層表面の塗布ムラがどうなるかを試験した。試験の評価は、掻取り用バー装置１８のバー２８に最も近い上流側のパスローラ２０について行った。

試験は、図６の表の試験１〜５に示すように、ローラ本体部１１の長さ（面長Ａ）が１６００ｍｍ、軸長Ｂが２５８０ｍｍのパスローラ２０を用いた。図６の軸受スパン最大値（Ｃ１）とは、軸長Ｂの長さから可能な最大の軸受スパン（Ｃ）を意味する。また、試験１の軸受スパン最小値（Ｃ２）が２５００ｍｍとは、軸受スパン最大値（Ｃ１）と軸受スパン最小値（Ｃ２）が同じであり比率（Ｃ２／Ｃ１）が１．００であることを意味する。

（光学補償フィルム用塗布液の調製）
下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−８のＲ（１）とＲ（２）の重量比で４：１の混合物に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ♯３６０、大阪有機科学（株）製）を１０重量％、セルロースアセテートプチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を０．６重量％、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を３重量％、増感剤（カヤキュアーＤＥＴ−Ｘ、日本化薬（株）製）を１重量％添加し、最終的にその混合物の３２重量％メチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面括性剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）を０．３重量％添加し、塗布液とした。

（塗布条件）
・プレコート装置…エクストルージョン型のスロットダイ
・掻取り用バー装置…直径８ｍｍの円柱状の芯材に０．０７ｍｍのワイヤーを密に巻回したワイヤーバー
・塗布速度…２０ｍ／分
・塗布テンション…２００Ｎ／ｍ
（パスローラ条件）
・ローラ本体部の直径…９５ｍｍ
・ローラシャフトの直径…３２ｍｍ
・パスローラの真円度…０．０１ｍｍ
・パスローラの円筒度…０．０１ｍｍ
・掻取り用バー装置のバーからパスローラまでの距離Ｆ…１００ｍｍ
（評価項目）
試験の評価項目は、図６のように、パスローラ２０の固有振動数、１回転成分の速度ムラ、及びウエブＷに塗布された塗布層表面の塗布ムラの３項目である。速度ムラは、図７に示すように、ロータリエンコーダー２３（仙台ニコン社製のＲＤ−５０００）と、ＦＦＴ２５（小野測器（株）製のＣＦ５２２０）を使用して測定した。速度ムラは１．５％以下が好ましく、より好ましくは１．０％以下である。

また、塗布結果の評価は、目視による官能検査で、横段状ムラ（搬送方向にバー２８の１回転周期で出るムラ）が製造品質を満たすもの（わずかに検出できるもの）を○と、製造合格限度レベル（検出できるが製造品質上問題がないもの）のものを△と、不合格レベルのもの（十分検出でき、製品として問題となるレベル）を×として判定した。

（試験結果）
図６の表から分かるように、軸受スパン最大値（Ｃ１）を２５００ｍｍと固定し、軸受スパン最小値（Ｃ２）を２５００ｍｍ〜１７００ｍｍまで、試験１〜試験５の５水準で変化させることにより、パスローラ２０の固有振動数は３３〜７３まで変化した。このことは、軸受スパン（Ｃ）を変えることによりパスローラ２０の固有振動数を効果的に変えることができ、掻き取り用バーの回転との共振を回避することができることを意味する。

また、図６の表の試験１〜５から分かるように、比率（Ｃ２／Ｃ１）を試験１の１．００〜試験５の０．６８まで小さくするに従って、即ちローラ本体部１１の端部から軸受１５までの片持ち長さ（Ｄ）が長くなるに従って、速度ムラで評価されるローラ本体部１１の振れ回りが大きくなる傾向にある。そして、速度ムラが１．０以下の試験１〜４では塗布結果の評価が○であったが、速度ムラが１．１の試験５では、塗布結果が△の評価であった。

［実施例２］
実施例２は、図８に示すように、軸長Ｂは実施例１と同じ２５８０ｍｍであるが、ローラ本体部の長さ（面長Ａ）を１０００ｍｍと実施例１よりも短くした場合である。その他の条件は、実施例１と同様である。これにより、比率（Ｃ２／Ｃ１）が実施例１の最小値である０．６８よりも小さな０．４８まで小さくできるようにし、比率（Ｃ２／Ｃ１）を小さくすることによるパスローラ２０の固有振動数、パスローラ２０の１回転成分の速度ムラ、及びウエブＷに塗布された塗布層表面の塗布ムラへの影響を調べた。

実施例２の図９の表から分かるように、比率（Ｃ２／Ｃ１）が０．５のときの速度ムラは１．５となると共に塗布結果の評価が△であった。更に、比率（Ｃ２／Ｃ１）が０．４８になると速度ムラは１．６となり、塗布結果の評価が×になった。ちなみに、固有振動数については実施例１の面長Ａが１６００ｍｍの場合も実施例２の面長Ａが１０００ｍｍの場合も、軸受スパン（Ｃ）を変えることにより効果的に調整することができた。

以上、実施例１及び２から、パスローラ２０の固有振動数の調整は軸受スパン（Ｃ）を変えることで面長Ａに係わらず効果的に調整でき、バー２８の回転との共振を回避することができるので、共振に起因する塗布ムラを防止できる。しかし、比率（Ｃ２／Ｃ１）が０．５を下回るとパスローラ２０の１回転成分の速度ムラが大きくなり、塗布ムラの発現に繋がる。これは、比率（Ｃ２／Ｃ１）が０．５未満になり、径の細いローラシャフト１３の片持ち長さ（Ｄ）が長くなりすぎると、剛性が落ちるためにローラ本体部１１の振れ回りが大きくなるためである。従って、軸受スパン（Ｃ）の調整範囲は、軸受スパン最大値をＣ１とし、軸受スパン最小値をＣ２としたときに、０．５≦＜Ｃ２／Ｃ１≦１．０を満足する範囲で調整することが好ましいことが分かる。

尚、塗布・計量一体型での実施例は図に示してないが、上記と同様の結果であった。

本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量別体型の一例を示す側面断面図 図１における掻取り用バー装置の側面断面図 本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量一体型の一例を示す側面断面図 バーとパスローラとの距離を説明する説明図 本発明に係るローラ（パスローラの例）を説明する全体図 実施例１の条件及結果を示す表図 実施例におけるパスローラの速度ムラを測定するための概念図 実施例１と実施例２の面長の違いを説明する説明図 実施例２の条件及結果を示す表図

符号の説明

１０…塗布・計量別体型のバー塗布装置、１０’…塗布・計量一体型のバー塗布装置、１１…ローラ本体部、１３…ローラシャフト、１４…塗布液、１５…軸受、１６…プレコート装置、１７…駆動軸、１８…掻取り用バー装置、２０…パスローラ、２１…固有振動数調整手段、２２…ポケット、２４…スリット、２８…バー、３０…バー支持台、５０…塗工用バー装置

Claims (12)

1. 複数のローラに接触しながら搬送されるウエブに対して塗布機により塗布液を塗布する塗布方法において、
   前記複数のローラのうち、少なくとも前記塗布機に最も近いローラの固有振動数を調整することにより、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避した状態で塗布することを特徴とする塗布方法。
2. 前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする請求項１の塗布方法。
3. 前記ローラの固有振動数は、ローラシャフトを回転自在に支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを変えることにより調整されることを特徴とする請求項１又は２の塗布方法。
4. 前記軸受スパンの調整範囲は、軸受スパン最大値をＣ１とし、軸受スパン最小値をＣ２としたときに、０．５≦Ｃ２／Ｃ１≦１．０を満足する範囲で調整することを特徴とする請求項３の塗布方法。
5. 前記塗布機に最も近いローラが前記塗布機から１０００ｍｍ以内に配置されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の塗布方法。
6. 前記塗布機は、バー支持部材の支持溝に支持されて回転する塗工用バーに前記ウエブをラップさせながら搬送することにより、前記塗工用バーを介して塗布液を前記ウエブに塗布するバー塗布機であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１の塗布方法。
7. 塗布ラインを搬送されるウエブに接触する複数のローラを備え、前記搬送されるウエブに対して塗布機により塗布液を塗布する塗布装置において、
   前記複数のローラのうち、少なくとも前記塗布機に最も近いローラについては、その固有振動数を可変可能な固有振動数可変手段を備えると共に、前記固有振動数を可変することによって、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避することを特徴とする塗布装置。
8. 前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする請求項７の塗布装置。
9. 塗布ラインを搬送されるウエブに対して塗布機で塗布液を塗布する塗布装置に設けられ、前記ウエブに接触するローラであって、
   該ローラは、その固有振動数を可変可能な固有振動数可変手段を備えると共に、前記固有振動数を可変することによって、前記塗布機の振動と前記ローラの振動とによる共振を回避することを特徴とする塗布ライン用ローラ。
10. 前記ローラは前記ウエブの搬送を支持するパスローラ及び／又は前記ウエブに搬送力を付与するフィードローラであることを特徴とする請求項９の塗布ライン用ローラ。
11. 前記固有振動数可変手段は、前記ローラのローラシャフトを支持する一対の軸受同士の距離である軸受スパンを可変する手段であることを特徴とする請求項９又は１０の塗布ライン用ローラ。
12. 軸受スパンを可変する手段は、ローラシャフト表面の軸芯方向に形成された凸条又は凹条のスプラインに沿ってスライド自在であると共に、前記ローラシャフトにラジアル荷重とトルクとを同時に負荷できる軸受を有することを特徴とする請求項１１の塗布ライン用ローラ。

Images