TWI450767B - 塗布裝置及塗布膜的製造方法 - Google Patents

Description

塗布裝置及塗布膜的製造方法

本發明係有關於塗布裝置，尤其係有關於一種塗布裝置，其將塗布液塗布於連續地行走之薄片(web；帶狀支持體)上，並形成厚度均勻的塗布膜面。

在相片感光材料或磁性記錄媒體等之領域，採用一種塗布步驟，其將既定的塗布液塗布於連續地行走之帶狀的撓性支持體(以下稱為「薄片」)上而形成塗布膜。近年來，在這些領域，要求可得到塗布膜之厚度精度高，而且表面平滑並無塗布不均的塗布膜之塗布技術。

同樣地，在應用於製造光學補償薄膜、防止反射薄膜、防眩性薄膜等之具有各種功能的光學薄膜的塗布步驟，亦要求如上述所示之塗布技術。

作為將塗布液塗布於薄片面的塗布裝置，在現況例如有輥塗型、凹板塗布型、塑膠括刀輥塗型、逆輥塗型、滑動塗布型等，因應於用途區分而使用。

在這些任一種的塗布裝置，都為了得到膜之厚度精度高，而且表面平滑並無塗布不均的塗布膜，故除去在塗布時之振動係很重要。

作為除去塗布時之振動的方法，在專利文獻1，揭示將主動型除振裝置應用於塗布部。又，在專利文獻2，揭示一種藉由對塗布頭賦與振動，而將薄片和塗布頭之距離保持定值的塗布裝置。

[專利文獻1]特開2005—319385號公報

[專利文獻2]特開2004—89896號公報

可是，在塗布部，除了來自放置塗布裝置之基礎的振動以外，由於導輥之偏心或抖動、軸承的振動、驅動系統之振動、乾燥風等，而沿著薄片之搬運方向的張力變動及在和搬運方向垂直之方向的張力變動，可能引起對和塗布器輥成為一體之塗布裝置整體的擾亂振動之情況。在塗布裝置發生擾亂振動時，因該振動而在塗布液的流動發生變動，結果成為發生塗布不均等之故障的原因。

在這種狀況下，可說專利文獻1及專利文獻2對擾亂振動的除去不充分，而可能發生塗布不均。為了解決該問題，即使固定用以支持塗布頭和薄片的支承輥，而將塗布頭和支承輥的距離變成定值，亦難防止擾亂振動之影響所引起的塗布不均。

本發明係鑑於上述之情況而開發者，其目的在於可實現一種塗布裝置，其在一面自塗布液供給手段供給塗布液，一面在和該塗布液供給手段隔著既定之間隔的位置對所連續地搬運之薄片形成既定膜厚的塗布膜之技術領域中，藉由在依然保持控制系統的安定性之狀態下，消除塗布裝置的振動，而可得到膜之厚度精度高，而且表面平滑，無塗布不均的塗布膜。

本發明為了達成該目的，本發明之塗布裝置，其具備有：支承輥，係以外周面支持朝長度方向行走之長條狀的薄片；及塗布液供給部，係與該支承輥隔一定間隔而作對向配置，且向薄片供給塗布液；該裝置之特徵為具備有：架台，係支持該塗布液供給部和該支承輥；及主動型除振裝置，而該主動型除振裝置具備有：致動器，係用以支持並驅動該架台；第1感測器，係檢測該架台之振動；回授控制手段，係根據該第1感測器的輸出信號而產生用以消除架台之振動的控制輸入；第2感測器，係檢測設置該架台之基礎的振動；前饋控制手段，係根據該第2感測器的輸出信號而產生用以消除基礎之振動的控制輸入；第3感測器，係安裝於該架台以外之部位，用以檢測傳至該架台之彈簧上的擾亂振動；以及前饋控制手段，係根據該第3感測器的輸出信號而產生用以消除擾亂振動的控制輸入。

藉由具備有主動型除振裝置之塗布裝置係具備第3感測器，而可根據來自第3感測器的振動資訊而檢測傳至架台之彈簧上的擾亂振動。藉由根據該擾亂振動的信號產生控制輸入，而可抑制擾亂振動。

在本發明之塗布裝置，安裝該第3感測器之部位係導輥，其配置於塗布液供給部的上游側，並支持薄片之行走較佳，此外，第3感測器設置於導輥之兩端更佳。因為可量測和薄片搬運方向垂直之方向的張力差，並可檢測在擾亂振動之中朝架台之繞Z軸的轉向的助力。

在本發明之塗布裝置，安裝第3感測器之部位與該支 承輥的距離係10 m以下之範圍較佳。

因為若支承輥和安裝第3感測器之部位過度分開，具有在部位和支承輥之間發生以第3感測器所檢測之振動以外的振動之可能性。因為若發生所檢測之振動以外的振動，就無法將正確的制振力供給塗布裝置。

在本發明之塗布裝置，該第3感測器係檢測薄片之張力、加速度、速度、位移的變動或導輥支持部之加速度、速度、位移變動、轉動加速度、轉動速度以及轉動圈數之至少一種資訊，作為薄片的振動資訊較佳。

因為若掌握包含有導輥的轉動圈數之薄片的一些狀態，具有可從那裡預測薄片所引起的擾亂振動之可能性。

在本發明之塗布裝置，產生用以消除彈簧上的擾亂振動之控制輸入的控制手段最好係薄片振動控制手段，其控制因薄片的狀態變動所產生之架台的振動。

因為在從上面直接傳至架台的擾亂之中，由薄片所引起的最大。

在本發明之塗布裝置，薄片振動控制手段係根據薄片的狀態變動驅動致動器，以消除在架台所產生之擾亂振動較佳。

在本發明之塗布裝置，該架台之一次固有振動頻率係80 Hz以上較佳。

在本發明之塗布裝置，設置該塗布裝置之地板面的一次固有振動頻率係10 Hz以上較佳。

可實現一種塗布裝置，其藉由具備有根據第3感測器之振動資訊的控制手段，而可消除薄片所引起之塗布裝置的振動，並可得到膜厚精度高、表面平滑且無塗布不均的塗布膜。

以下，根據附加圖面說明本發明之塗布裝置的較佳實施形態。

[光學補償片的生產線]

第1圖係說明應用本發明之塗布裝置及塗布方法之光學補償片的生產線之說明圖。

光學補償片的生產線如第1圖所示，係以從送出機66送出係已預先形成定向膜形成用之聚合物層的透明支持體的薄片(web)16之方式構成。薄片16由導輥68引導並被送入研磨處理裝置70。研磨輥72係為了對聚合物層施加研磨處理而設置。除塵機74設置於研磨處理裝置70的下游。利用除塵機74可除去附著於薄片16之表面的灰塵。

在除塵機74之下游配置設置於主動型除振裝置32的塗布裝置10。可將包含有碟型向列液晶之塗布液塗布於薄片16。在該下游，依序設置乾燥區76、加熱區78，並可將液晶層形成於薄片16上。此外，將紫外線燈80設置於該下游，利用紫外線照射，將液晶進行橋接，而可形成所要之聚合物。然後，利用設置於該下游的捲繞機82，捲繞已形成聚合物的薄片16。

[塗布裝置]

如第2圖所示，塗布裝置10由以下之構件構成，塗布頭18，係將從塗布液槽利用泵等所輸送的塗布液塗布於薄片16；圓筒形之支承輥20，係設置成和塗布頭18相對向，並以外周面支持塗布時的薄片16；支柱15，係保持支承輥20之轉軸；以及導輥14，係為了將行走中之薄片16引導至支承輥20，而從塗布頭18及支承輥20隔著既定間隔配置。保持塗布裝置10之塗布頭18和支承輥20的轉軸之支柱15固定於以後述之主動型除振裝置32的致動器33所支持之架台30。此外，塗布頭18經由塗布頭架台31固定於架台30。

為了可最佳地調整塗布於薄片16之塗布液的種類及塗布液之膜厚，支承輥20和塗布頭18成為可調整兩者的間隔之可移動的構造。因此，固定於架台30，這意指以在對薄片16之塗布中支承輥20和塗布頭18保持既定間隔的方式設置於架台30。

其次，說明塗布裝置10之塗布方法。薄片16係從送出機被送出，再經由導輥14被引導至支承輥20。所引導的薄片16捲繞於支承輥20之外周面的一部分。薄片16朝所圖示之箭號方向以定速連續地行走。此時支承輥20一面轉動，一面支持薄片16的非塗膜面。

導輥14配置於支承輥20的上游側。導輥14之轉軸係利用支柱17支持。支柱17設置於和由致動器33所支持之架台30相異的地板面F或其他的架台上。

保持導輥14係為了支持薄片之行走而設置。在薄片16 之行走中，導輥14以一面轉動一面支持薄片16，並將薄片16引導至支承輥20之方式發揮功能。

塗布頭18係塗布頭前端和連續行走的薄片16在接近之非接觸的狀態相對向配置。如上述所示，以可調整塗布頭18和薄片16之間隔的方式構成。從塗布液槽利用泵向塗布頭18輸送塗布液。雖未圖示，作為泵，為了使塗布液之供給流量變得安定，使用定量泵較佳。作為定量泵，雖然例如可使用齒輪泵、滾子泵等各種泵，但是在本發明之塗布，尤其適合使用齒輪泵。

在塗布頭18內，如第3圖所示，和薄片16之寬度方向平行地形成筒狀的袋部18B。該塗布用之袋部18B和供給線18A連接。又，在塗布頭18內，在塗布頭前端形成具有排出口的塗布用開縫18C。塗布用開縫18C和塗布用袋部18B連通。

塗布用開縫18C係用以連接袋部18B和塗布頭前端之狹隘的流路，並朝薄片16之寬度方向延伸。而且，從供給線18A向塗布頭18之塗布用袋部18B供給要塗布於薄片16之所要的塗布量之塗布液，並將塗布膜形成於薄片16。

已塗布塗布液之薄片16被送至設置於下游的乾燥區、加熱區，並將液晶層形成於薄片16上。又，雖省略圖示，將控制薄片16之張力的張力輥、或控制薄片16之搬運的驅動輥設置於光學補償片的生產線。

[主動型除振裝置]

其次，根據第2圖說明設置上述之塗布裝置10的主動 型除振裝置32之構造。在此構造，塗布頭18及支柱15固定於架台30之上。如上述所示，塗布頭18經由塗布頭架台31固定於架台30。架台30、塗布頭架台31以及支柱15亦可如圖所示係不同之構件，亦可將這些構件一體形成。

主動型除振裝置32至少由致動器33、第1感測器34、第2感測器35、第3感測器36、電腦38以及驅動裝置39構成。

致動器33、33、…配置於架台30之下面的四角落。架台30經由致動器33、33、…設置於地板面(設置基礎面)F上。

又，用以檢測架台30之振動的第1感測器34設置於架台30，用以檢測設置架台30之基礎的振動之第2感測器35設置於地板面F上。此外，在本發明，用以檢測薄片之振動的第3感測器36設置於導輥14。第3感測器36檢測薄片之張力、加速度、速度、位移的變動或導輥支持部之加速度、速度、位移的變動等之資訊，以作為薄片的振動資訊。

設置於架台之第1感測器34係由設置於架台30之加速度感測器和位置檢測感測器構成。第1感測器34為了檢測架台之X軸、Y軸、Z軸以及轉向而設置於各致動器33、33、…。設置於地板面F上之第2感測器35由加速度感測器構成。設置於導輥之第3感測器由位移感測器構成。

其中，感測器之種類及數量係因應於檢測之對象而適當地設置，未限定為實施形態所示者。

其次，說明設置第3感測器36的理由。

關於以往之主動型除振裝置，一般已知關於設置除振裝置之基礎的振動之除振及設置於架台上之機器的運轉所引起的振動之制振的控制技術。

可是，無關於在如本發明的塗布裝置10般因所連續搬運之薄片16的狀態變動而擾亂振動輸入架台之特異的環境之除振裝置的控制方法之例子，並未檢討適當地消除從薄片16傳給架台30的振動。

更具體而言，在以往之主動型除振裝置上的例如電子顯微鏡或半導體曝光裝置等之精密機器，將架台的振動資訊進行回授(以下稱為FB)控制，並控制架台的振動。此外，除了FB控制以外，在這些精密機器，將設置精密機器之基礎的振動資訊進行前饋(以下稱為FF)控制，並亦同時控制架台的振動。都不是加工之對象物、在顯微鏡的試件、或在半導體曝光裝置之晶圓本身對架台賦與振動者。

另一方面，在加工的對象物連續地行走之如薄片的情況，薄片之行走所引起的振動作為擾亂振動，傳給進行塗布之導輥或塗布液供給部。

在塗布裝置，作為薄片之行走所引起的擾亂振動，由於導輥之偏心或抖動、軸承的振動、驅動系統之振動、乾燥風等，而發生沿著薄片之搬運方向的張力變動及在和搬運方向垂直之方向的張力變動。

因而，除去對導輥或塗布液供給部所施加之擾亂振動對塗布裝置變得重要。

在設置於以往之主動型除振裝置的塗布裝置之情況，為了除去該薄片所引起的振動或偏心，即所謂的擾亂振動，藉由提高主動型除振裝置內之FB控制迴路的增益，亦可強迫地消除振動。可是，控制系統之裕度變少，在最差的情況，可能引起主動型除振裝置振動等之高增益問題。

另一方面，若為了消除振動而降低FB控制迴路的增益，可能不僅失去充分的制振性能，而且亦無法保持本來之地板振動的除振性能。

因此，本發明具備有薄片振動控制迴路，其藉由在塗布裝置上游的導輥具備有薄片之張力感測器、或位移感測器、或速度感測器、或加速度感測器，而檢測薄片的搬運方向或和搬運垂直之方向的張力或位移或速度或加速度等之變動，並根據該檢測信號控制由薄片所引起的振動。

此薄片振動控制迴路，係例如使用安裝於導輥兩端之位移感測器的輸出信號，在將薄片當作和導輥及塗布裝置連接之彈性體的情況，以計算求得以擾亂施加於塗布裝置之力，並產生將該擾亂力之符號反轉的控制輸入信號，驅動致動器，以消除擾亂力。

因而，不會引起高增益問題，並可在依然保持控制系統的安定性下，提高主動型除振裝置之除振性能。

接著，從第1感測器34、第2感測器35以及第3感測器36所檢測之振動資訊輸入電腦38。在電腦38，實現根據所檢測之振動資訊，1)產生用以消除架台之振動的控制輸入之FB控制手段，2)產生用以消除基礎之振動的控制輸 入之FF控制手段，3)產生用以消除薄片所引起的振動之FF控制輸入的控制手段。控制手段係以軟體處理、或者硬體處理都可實現。

在電腦38所處理之控制輸入，輸入驅動裝置39。驅動裝置39根據控制輸入驅動用以支持架台30的致動器33，並將消除振動之制振力供給塗布裝置。藉此實現塗布裝置10之除振。

第4圖係說明主動型除振裝置32之控制模型的示意圖。在主動型除振裝置32之基礎40上經由致動器42支持負載承部44。可檢測架台之振動的加速度感測器46及可檢測架台之位移的位移感測器48固定於該負載承部44上。在基礎40上亦固定可檢測基礎之振動的加速度感測器50。此外，可檢測薄片之振動的位移感測器52固定於導輥。將來自感測器46、感測器48、感測器50以及設置於導輥之兩端的2個感測器52之振動資訊供給控制部54。控制部54係根據該資料控制致動器42。

在此，負載承部44之m意指質量，質量m包含有在第2圖之架台30、塗布頭架台31、塗布頭18、支承輥20等的質量。又，K意指彈簧常數，表示對位置之阻力的係數。又，C意指衰減，表示對速度之阻力的係數。此外，可將薄片當作和導輥及塗布裝置連接之彈性體。即，Kw意指對薄片所引起的振動之彈簧常數，表示對位置之阻力的係數。

接著，根據第5圖說明將第4圖作為模型之本發明的 控制系統。

負載承部44係被控制部，係表示架台的部分，利用主動型除振裝置32控制。而，以四角落之虛線所包圍的部分14、40係表示彈簧上之擾亂振動和基礎振動的部分。

說明負載承部44之內部信號的流程。從外部對負載承部44施加某種力時，在負載承部44產生加速度。負載承部44之加速度信號被積分元件132進行積分，而變成速度信號，並傳給產生對速度之阻力的衰減部(衰減係數C)。接著，速度信號又被被積分元件134進行積分，而變成位移信號(位置信號)。此位移信號傳給產生對位置之阻力的係數之彈簧部(彈簧常數K)。

以加速度感測器46檢測負載承部44的加速度資訊。所檢測之加速度信號經由帶通濾波器(以下稱為BPF)98，傳給減法器122。在減法器，檢測來自目標值賦與部102之目標值和加速度信號的差，並將偏差信號傳給加速度FB控制器112。

利用位移感測器48檢測負載承部44的位移信號。所檢測之位移信號經由BPF96，傳給2個減法器124、126。以虛擬微分器120進行虛擬微分並作為速度信號傳給減法器124。在減法器124，檢測目標值賦與部104之目標值和速度信號的差，並將偏差信號傳給速度FB控制器114。以虛擬微分器120將位移信號進行虛擬微分，係為了避免位移信號之觀測雜訊混入速度信號，因為若只是微分，就將雜訊放大。

另一方之位移信號傳給減法器126，在減法器126，檢測來自目標值賦與部106之目標值和位移信號的差，並將偏差信號傳給位移FB定位控制器116。

依此方式，藉由在控制器112、114以及116對控制輸入進行回授控制，而因應於塗布裝置之實際的振動狀態，對塗布裝置供給用以抑制該振動的制振力。

作為控制器112、114以及116之中的具體之控制法則，可使用PID控制法則、或頑強(robust)控制法則、適應控制法則等。

在基礎40，利用加速度感測器50檢測對地板的振動，並作為加速度信號。所檢測之加速度信號經由BPF94，傳給減法器128，在減法器128，檢測來自目標值賦與部108之目標值和加速度信號的差。然後，將該偏差信號傳給基礎信號控制器118。

接著，在導輥14，利用設置於導輥14之位移感測器52作為前路徑位移所檢測的位移信號，經由BPF90傳給減法器130。在減法器130，檢測來自目標值賦與部100之目標值和位移信號的差，並作為偏差信號來傳給薄片信號控制器110。依此方式，藉由在導輥14對由薄片所引起的振動之控制輸入進行前饋控制，而因應於來自薄片之擾亂振動的狀態，對塗布裝置供給用以抑制該振動的制振力。以彈簧常數Kw之擾亂振動掌握導輥14的振動。

在本發明，其特徵為：除了負載承部44和基礎40之振動以外，還檢測在導輥14的振動信號，並產生前饋控制 之控制輸入，藉此對塗布裝置供給用以抑制由薄片之行走所引起的振動之制振力。

將薄片信號控制器110、加速度FB控制器112、速度FB控制器114、位移FB定位控制器116以及基礎信號控制器118之控制輸入全部相加，而合成為合成控制輸入。

最後，將合成控制輸入、薄片所引起的振動之力擾亂、基礎振動的力擾亂、衰減C所引起的力、以及彈簧K所引起的力全部進行合成，而變成施加於架台的力。此時因為合成控制輸入以消除除此以外之力的和之方式作用，所以施加於架台之力的總和變成零或很小的值，而可使架台30變成靜止。

因而，在和該塗布液供給手段隔著既定之間隔的位置對所連續地搬運之薄片形成既定膜厚的塗布膜之技術領域，可實現一種塗布裝置，其和以往相比，可消除塗布裝置的振動，並可得到膜厚精度高、表面平滑且無塗布不均的塗布膜。

說明在本發明的塗布裝置，安裝第3感測器之部位和支承輥的距離係10 mm以下之範圍較佳的理由。

這是由於，若過遠，具有在安裝第3感測器的部位和支承輥之間發生以第3感測器所檢測之振動以外的振動之可能性，而無法將正確的制振力供給塗布裝置。

就此意義，第3感測器和架台的距離係10 mm以下較佳，係5 mm以下更佳。

說明架台30之一次固有振動頻率變成80 Hz以上係較 佳的理由。擾亂振動之中成為問題者係低頻振動，而以除振裝置易降低高頻振動。因而，若使架台30之一次固有振動頻率位於高頻側，可避免和擾亂振動的共振。又，在高頻振動狀態，因為薄片之塗布膜的厚度不均不顯著，所以架台30之一次固有振動頻率愈高亦較佳。

就此意義，架台30之一次固有振動頻率變成100 Hz以上更佳，而變成120 Hz以上最佳。

將設置塗布裝置10之地板面的一次固有振動頻率設為10 Hz以上係較佳的理由，係因為在基礎之一次固有振動頻率為10 Hz以下的強度低之狀態，無法保持對10 Hz以下的振動之除振裝置的性能。又，架台30之一次固有振動頻率愈高愈佳亦具有相同的理由。就此意義，設置塗布裝置10之地板面的一次固有振動頻率變成20 Hz以上更佳，而變成30 Hz以上最佳。

說明使用塗布裝置10之塗布膜的形成。作為塗布液，可使用包含有有機溶劑者。但，亦可使用除此以外之黏度者、未包含有有機溶劑者。

作為薄片16，一般可使用由既定寬度、既定長度、厚度約2～200 μm之聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯-2.6-萘二甲酸乙二酯、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、聚氯乙烯、聚偏二乙氯乙烯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、聚醯胺等之塑膠薄膜、紙、將聚乙烯、聚丙烯、乙烯丁烷共聚合物等之碳數為2～10的α-多烯烴類塗布或疊層的紙、金屬板等所構成之撓性帶狀物或以該帶狀物 為基材並在其表面形成加工層的帶狀物。

在第1圖之光學補償片的生產線，一面自送出機66抽出薄片16，一面控制泵之流量，使在塗布裝置10之塗布頭18的開縫18C中之塗布液的平均流速變成100～500 mm/秒，又控制薄片16的搬運速度並進行塗布，使剛塗布後之塗布膜28的膜厚變成定值。

在塗布後之乾燥等，進行乾燥區76、加熱區78以及紫外線燈80等之設定，使可得到塗布膜厚精度高，而且表面平滑的塗布膜28。利用捲繞機82捲繞塗布、乾燥後的薄片16。

該一連串的步驟係在良好之無塵度及最佳的溫濕度之環境下實施較佳。因此，在無塵室內進行較佳，尤其塗布裝置10設置於等級100以下的環境較佳。因而，可採用併用向下流之無塵室或無塵操作台的形態。

雖然以上說明本發明之塗布裝置及塗布方法的實施形態，但是本發明未限定為上述的實施形態，而可採用各種形態。

例如，在本實施形態，作為塗布裝置10，雖然採用擠製型塗布器，但是亦可適合應用於除此以外的塗布器，例如棒塗布器(亦稱為「桿塗布器」，亦包含有邁耶式棒塗布器)、凹板塗布器(直接凹板塗布器、凹板吻塗器等)、輥塗布器(轉移輥塗布器、逆輥塗布器等)、雙塗布器、噴泉塗布器、滑動料斗等。

又，作為塗布裝置10之用途，不僅光學補償薄膜等之 光學薄膜，亦可應用於各種的塗布。

最後，為了表示本發明之效果，而實施模擬。在模擬，以裝載於檢測架台和設置面之振動並以致動器控制的主動型除振裝置之塗布裝置(主動式)、及裝載於在本發明之導輥亦設置感測器的主動型除振裝置之塗布裝置(本發明)為模型，進行模擬，並算出加速度穩態偏差及位移穩態偏差。此時之條件，設為非控制部的質量m=5000 Kg、彈簧常數K=2.0×10⁶ 、彈性係數C=5.0×10² 、目標值(加速度、速度)=0、目標值(位移)=定值、彈簧上擾亂=包含有1～100 Hz的頻率成分之大小10 N的力、基礎振動擾亂=包含有1～100 Hz的頻率成分之大小1 N的力。在第1表表示其結果。

由該結果得知，本發明的塗布裝置和以往之主動式所裝載的塗布裝置相比，可大幅度地減少該振動的影響。

10‧‧‧塗布裝置

14‧‧‧導輥

15‧‧‧支柱

16‧‧‧薄片

17‧‧‧支柱

18‧‧‧塗布頭

20‧‧‧支承輥

28‧‧‧塗布膜

30‧‧‧架台

31‧‧‧塗布頭架台

32‧‧‧主動型除振裝置

33、42‧‧‧致動器

34‧‧‧第1感測器

35‧‧‧第2感測器

36‧‧‧第3感測器

38‧‧‧電腦

39‧‧‧驅動裝置

第1圖係說明應用本發明之塗布方法及塗布裝置的光學補償片之生產線的說明圖。

第2圖係表示塗布裝置之設置狀態的立體圖。

第3圖係表示切掉塗布頭之一部分的立體圖。

第4圖係說明主動型除振裝置之系統構造的示意圖。

第5圖係在第4圖之系統構造的方塊圖。

10‧‧‧塗布裝置

14‧‧‧導輥

15‧‧‧支柱

16‧‧‧薄片

17‧‧‧支柱

18‧‧‧塗布頭

20‧‧‧支承輥

30‧‧‧架台

31‧‧‧塗布頭架台

32‧‧‧主動型除振裝置

33‧‧‧致動器

34‧‧‧第1感測器

35‧‧‧第2感測器

36‧‧‧第3感測器

38‧‧‧電腦

39‧‧‧驅動裝置

F‧‧‧地板面

Claims (9)

1. 一種塗布裝置，其具備有：支承輥，係以外周面支持朝長度方向行走之長條狀的薄片；及塗布液供給部，係與該支承輥隔一定間隔而作對向配置，且向薄片供給塗布液；該裝置之特徵為具備有：架台，係支持該塗布液供給部和該支承輥；及主動型除振裝置，該主動型除振裝置具備有：致動器，係用以支持並驅動該架台；第1感測器，係檢測該架台之振動；回授控制手段，係根據該第1感測器的輸出信號而產生用以消除架台之振動的控制輸入；第2感測器，係檢測設置該架台之基礎的振動；第1前請控制手段，係根據該第2感測器的輸出信號而產生用以消除基礎之振動的控制輸入；第3感測器，係安裝於該架台以外之部位，用以檢測該薄片的振動；以及第2前饋控制手段，係根據該第3感測器的輸出信號而產生用以消除該薄片的振動的控制輸入；該第3感測器係檢測薄片之張力、或導輥支持部之加速度、速度以及位移變動之至少一種資訊，作為薄片的振動資訊。
2. 如申請專利範圍第1項之塗布裝置，其中安裝該第3感測器之部位係導輥，其配置於該塗布液供給部的上游側，並支持薄片之行走。
3. 如申請專利範圍第2項之塗布裝置，其中該第3感測器設置 於導輥之兩端。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之塗布裝置，其中安裝該第3感測器之部位與該支承輥的距離係10m以下之範圍。
5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之塗布裝置，其中該第2前饋控制手段係薄片振動控制手段，其控制因薄片的狀態變動所產生之該架台的振動。
6. 如申請專利範圍第5項之塗布裝置，其中該薄片振動控制手段係根據薄片的狀態變動驅動該致動器，以消除在該架台所產生之擾亂振動。
7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之塗布裝置，其中該架台之一次固有振動頻率係80Hz以上。
8. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之塗布裝置，其中設置該塗布裝置之地板面的一次固有振動頻率係10Hz以上。
9. 一種塗布膜的製造方法，該方法係使用塗布裝置，該塗布裝置具備有：支承輥，係以外周面支持朝長度方向行走之長條狀的薄片；塗布液供給部，係與該支承輥隔一定間隔而作對向配置，且向薄片供給塗布液；架台，係支持該塗布液供給部和該支承輥；及主動型除振裝置，係具有用以支持並驅動該架台之致動器；該塗布膜的製造方法的特徵為包含：塗布步驟，係一面藉該支持輥以外周面支持該薄片，一面將該塗布液從該塗布液供給部供給至該薄片以塗布該薄片； 除振步驟，係一面進行該塗布步驟，一面進行塗布裝置的除振；及乾燥步驟，係將該塗布後的薄片加以乾燥；該塗布步驟包含：藉由設於該主動型除振裝置的第1感測器，檢測該架台的振動之步驟；藉由設於該主動型除振裝置的前饋控制手段，根據該第1感測器的輸出信號而產生用以消除該架台的振動的第1控制輸入之步驟；藉由設於該主動型除振裝置的第2感測器，檢測設置該架台之基礎的振動之步驟；藉由設於該主動型除振裝置的第1前饋控制手段，根據該第2感測器的輸出信號而產生用以消除該基礎之振動的第2控制輸入之步驟；藉由安裝於該主動型除振裝置之該架台以外的部位之第3感測器，來檢測由該薄片之張力、或導輥支持部之加速度、速度以及位移變動之至少一種資訊作為與該薄片的振動有關的資訊之步驟；藉由設於該主動型除振裝置的第2前饋控制手段，根據該第3感測器的輸出信號而產生用以消除該薄片的振動的第3控制輸入之步驟；及根據該第1控制輸入、該第2控制輸入及該第3控制輸入，驅動設於該主動型除振裝置的致動器之步驟。