JP4945291B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

Description

本発明は塗布方法及び塗布装置に係り、特に、走行する支持体に塗布液を高精度に塗布することが要求される塗布機の近傍に配置されたバックアップローラの昇降フレームに係る改良技術に関する。

搬送されるウエブの表面に塗布液を塗布する塗布装置には、塗布ヘッドに対向させるか、又は塗布ヘッドの上流側及び下流側にウエブの搬送を支持するバックアップローラを配置して塗布する塗布装置がある。また、塗布機としては、バー塗布装置（ロッド塗布装置ともいう）、リバースロール塗布装置、グラビアロール塗布装置、スロットダイ塗布装置（例えばエクストルージョン塗布装置等）等がある。これらの塗布装置は、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム等）や磁気記録媒体等の製造において使用されており、薄膜で且つ塗布ムラがない面質の良好な高精度の精密塗布が要求されている。

これらバックアップローラを有する塗布装置では、ウエブを塗布ヘッドとバックアップローラとの間を通す場合、あるいは、塗布開始や終了時において、バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる脱着操作を行う。

ところで、塗布操作において塗布ヘッドの振動がウエブの塗布面に伝わると塗布ムラとなって現れ、塗布品質を低下させることから、塗布ヘッドの振動を除振したり制振したりして、塗布ヘッドが振動しないようにすることも提案されている。

塗布ヘッドではないが、例えば特許文献１の露光装置やデバイス装置では、駆動方向が鉛直方向で対向するように配置した一対のエアダンパと、該エアダンパの内圧を制御する手段を設けてエアダンパの固有振動数を調整する除振装置が開示されている。また、特許文献２には、感光ドラムの剛性を変えることで固有振動数を調整することが開示されている。
特開平１１−３１５８８３号公報 特開平１０−２２２０１１号公報

ところで、光学フィルムや磁気記録媒体等の製造における塗布のように薄膜塗布で且つ塗布ムラを極力小さくした高精度の塗布が要求される場合に、塗布中のバックアップローラの振動により横段状ムラが発生することがあるという問題がある。塗布脱着は通常塗布部バックアップローラを昇降させることで行う。塗布着時にはバックアップローラを支持するフレームを位置決めストッパーに当てる方式が一般的である。そのため、位置決めストッパーにローラのフレームが着いたときにその衝撃がバックアップローラに伝わり塗布層の横段状ムラ発生の原因となる。

また、塗布速度が速くなるに従い、同伴エアーによる塗布スジが発生しやすくなり、その対策として着速度アップが有効なことから生産性向上のためには着速度アップ対策が不可欠となっている。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラ（特に横段状ムラ）や塗布スジのない良好な面状の塗布膜を得ることができる塗布方法及び塗布装置を提供することを目的とする。

請求項１の発明は、前記目的を達成するために昇降フレームに支持されたバックアップローラを位置決めストッパーで決められた位置まで降ろした押圧により、連続走行する支持体の表面を塗布機に接しさせることで塗布液を塗布する塗布方法において、塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けるとともに、前記位置決めストッパーの先端とその受け部とは、凹と凸との関係で重なることを特徴とする。

本発明の請求項１によれば、塗布時に昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けるとともに、位置決めストッパーの先端とその受け部とは、凹と凸との関係で重なることで、バックアップローラの振動を抑えて塗布することができるので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。また、着地部にショックアブソーバを設けることで着速度をアップすることができるので、同伴エアーによる塗布スジも抑制することができる。

即ち、ショックアブソーバを設けることで昇降フレームが位置決めストッパーへの着時によるバックアップローラの振動を抑えることができる。そして、ショックアブソーバで抑えられなかった振動については、位置決めストッパーの先端とその受け部との凹と凸との関係で重なることで、昇降フレームを位置規制することができるのでその振動も抑制することができる。また、このような構成であることで、昇降フレーム（バックアップローラ）の着速度を早くすることができるので、同伴エアーによる塗布スジを抑制することができる。

従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。

請求項２は請求項１において、前記塗布時に前記昇降フレームを固定することを特徴とする。

請求項２によれば、塗布時に昇降フレームを固定することで、さらにバックアップローラの振動を抑えることができるので、塗布ムラを防止できる。

請求項３は請求項１又は２において、前記塗布機がバー塗布機であることを特徴とする。

請求項３によれば、塗布機がバー塗布機である場合に特に有効である。

請求項４は、前記目的を達成するために、昇降フレームに支持されたバックアップローラを位置決めストッパーで決められた位置まで降ろした押圧により、連続走行する支持体の表面を塗布機に接しさせることで塗布液を塗布する塗布装置において、塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部に設けられたショックアブソーバと、凹と凸との関係で重なる前記位置決めストッパーの先端とその受け部と、を有していることを特徴とする。

そして、請求項５は請求項４において、前記塗布時に前記昇降フレームを固定する固定機構を設けることを特徴とする。

また、請求項６は請求項４又は５において、前記塗布機がバー塗布機であることを特徴とする。

請求項４〜６は本発明の請求項１〜３を装置として構成したものであり、これにより光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。

本発明によれば、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。

以下、添付図面により本発明の塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。尚、ここでは、塗布機がバー塗布機の場合について説明するが、塗布機はバー塗布機に限らず、塗布機近傍のバックアップローラの振動による塗布ムラの恐れのある塗布機であれば何れの塗布機にも適用できる。

図１は、本発明に係る塗布装置の一例であり、バー塗布装置１０は、塗布・計量一体型の一例である。

図１に示されるように、塗布・計量一体型のバー塗布装置１０は、主として、所望量の塗布液を塗布する塗工用バー装置５０と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のバックアップローラ２０、２０とで構成される。

塗工用バー装置５０は、主として、バー２８と、バー２８を回転自在に支持するバー支持台３０と、コーターブロック５２、５４と、両側の（図では前後の）サイドブロック（図示略）から構成される。バー支持台３０と各コーターブロック５２、５４との間には、ポケット５６、５８及びスリット６０、６２が形成され、各ポケット５６、５８に塗布液が供給される。

各ポケット５６、５８に供給された塗布液は、ウエブＷの幅方向に平行でウエブ搬送方向に狭隘なスリット６０、６２を介してウエブＷの幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２８に対してウエブＷの搬送方向の上流側には１次側塗布ビード６４が形成され、下流側に２次側塗布ビード６６が形成される。したがって、バー２８はこれらの塗布ビード６４、６６を介して走行するウエブＷに所定量の塗布液を転移塗布する。

ポケット５６、５８から過剰に供給された塗布液は、各コーターブロック５２、５４とウエブＷとの間からオーバーフローし、側溝６５、６７（一部図示）を介して回収される。尚、ポケット５６、５８への塗布液の供給はポケット５６、５８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。

バー２８としては、バー表面がフラットなフラット型のバー、バーにワイヤーを密に巻回したワイヤーバー、バーの表面に溝をつけた溝付バー等を使用することができる。

図２及び図３は、本発明に係るバックアップローラ２０の昇降部２５の一例であり、図２は昇降部２５を示した側面図であり、図３は昇降部２５を示した正面図である。ここで、図２において、図２（Ａ）はバックアップローラを塗布位置まで移動させた塗布着時を示しており、図２（Ｂ）はバックアップローラを退避位置に移動させた塗布脱時を示している。尚、図２においては、塗布部近傍の上流側のバックアップローラ２０のみが昇降しているが、本発明はそれに限定されるものではない。

塗布部近傍の上流側のバックアップローラ２０は、図２及び図３に示すように、昇降フレーム２１ａに軸受２１Ａ、２１Ａを介して支持されている。尚、軸受２１Ａ、２１Ａにはそれぞれベアリング（不図示）が組み込まれており、それによりバックアップローラ２０はウエブＷと搬送とともに回転する。そして、昇降フレーム２１ａ上面にはシリンダー２３ａが取り付けられており、昇降するようになっている。

塗布部近傍の下流側のバックアップローラ２０も上流側のバックアップローラ２０と同様に、昇降フレーム２１ｂに軸受を介して支持されている。そして、昇降フレーム２１ｂ上面にもシリンダー２３ｂが取り付けられており、昇降するようになっている。

また、塗布部であるバー塗布装置１０が支持台２１Ｂに固定されており、その支持台２１Ｂには昇降フレーム２１ａの下部にショックアブソーバ２７と位置決めストッパー２９Ａとが固定されている。昇降フレーム２１ａ下面には、位置決めストッパー２９Ａを受けるストッパー受け部２９Ｂが取り付けられており、その位置決めストッパー２９Ａの先端とストッパー受け部２９Ｂとは、凹と凸の形状によって重なりあう構造となっている。ストッパー受け部２９Ｂの凹形状と位置決めストッパー２９Ａの凸形状は略同一である。

凹凸形状は、図４（Ａ）に示すように多角錐（三角錐、四角錐等）型であっても良いし、図４（Ｂ）に示すように球面型であっても良いし、または円錐型であっても良い。更に、図４（Ｃ）に示すように、位置決めストッパー２９Ａとストッパー受け部２９Ｂとの関係が、球面型とＶ溝型との関係であっても良い。そして、凹と凸との関係は、ストッパー受け部２９Ｂが凹形状、位置決めストッパー２９Ａが凸形状であることに限られず、ストッパー受け部２９Ｂが凸形状、位置決めストッパー２９Ａが凹形状であっても良い。また、凸凹形状に対しては、さそい構造があることが好ましい。

このように、塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けるとともに、位置決めストッパーの先端とその受け部とは、凹と凸との関係で重なることで、バックアップローラの振動を抑えて塗布することができる。即ち、ショックアブソーバを設けることで昇降フレームが位置決めストッパーへの着時によるバックアップローラの振動を抑えることができる。そして、ショックアブソーバで抑えられなかった振動については、位置決めストッパーの先端とその受け部との凹と凸との関係で重なることで、昇降フレームを位置規制することができるのでその振動も抑制することができる。また、このような構成であることで、昇降フレーム（バックアップローラ）の着速度を早くすることができるので、着時の支持体への塗りつけ面状の乱れも少ない。

従って、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができ、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。

そして、図５に示すように、昇降フレーム２１ａを固定するために、支持台２１Ｂ側面にはシリンダー３１Ａが固定されており、固定部材３１Ｂがシリンダー可動部の先端部分に取り付けられていることが好ましい。この固定部材３１Ｂで塗布時に昇降フレーム２１ａを固定することで、さらにバックアップローラの振動を抑えることができるので、塗布ムラを防止することができる。

図６のバー塗布装置１０’は塗布・計量別体型の一例である。尚、図１で説明した塗布・計量一体型と同じ部材には同符号を付して説明する。

主として、ウエブＷに塗布液１４を所望の塗布液量よりも過剰に塗布するエクストルージョン型のプレコート装置１６と、ウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分を掻き取る掻取り用バー装置１８と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のバックアップローラ２０、２０とで構成される。

エクストルージョン型のプレコート装置１６は、ポケット２２（又は、「マニホールド」とも称呼される）内に圧送された塗布液１４を、ポケット２２に連通するスリット２４（又は、「スロット」とも称呼される）の出口２４Ａから、バックアップローラ２０に装架されて矢印方向に一定の速度で走行するウエブＷにヘッド先端面２６を押し付けながら連続的に吐出する。

また、バー２８は、図示しない回転駆動系により、ウエブＷと同方向又は逆方向に回転駆動される。これにより、プレコート装置１６によりウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分が、バー２８により掻き落とされて、所望の塗布液量に計量される。また、バー２８を回転させることにより、ウエブＷとバー２８との間に異物がトラップされることを防止し、異物による塗布故障の発生を防止する。

これにより、掻取り用バー装置１８の直前においてウエブＷの下面に過剰な塗布液が塗布される。尚、プレコート装置１６としては、エクストルージョン型に限定されるものではなく、ウエブＷに塗布液を塗布する任意の塗布装置を使用することができる。

掻取り用バー装置１８は、ウエブＷの幅方向と平行に配設された円柱状のバー２８をバー支持台３０の支持溝３０Ａに支持して構成され、バックアップローラ２０により、走行するウエブＷが塗工用バー２８に対して所定のラップ角（巻き掛け角）をもって接触されるように構成されている。

バー２８を支持する支持溝３０Ａの形状としては、図７に示されるＶ字溝、又は図示しないＵ字溝が一般的に使用される。この支持溝３０Ａを形成する壁面３０Ｂの長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度は、バー２８の長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度と同等か、それ以上になるように加工される。

掻取り用バー装置１８においても、図２及び図３に示したバックアップローラ２０、２０の昇降部２５を用いることで、図１に示したバー塗布装置１０と同様に、塗布中のローラの振動を抑えることができる。即ち、支持台２１Ｂに掻取り用バー装置１８とショックアブソーバ２７と位置決めストッパー２９Ａとを固定し、昇降フレーム２１ａ下面に位置決めストッパー２９Ａを受けるストッパー受け部２９Ｂを取り付け、その位置決めストッパー２９Ａの先端とストッパー受け部２９Ｂとを、凹と凸の形状とすることで、塗布中のローラの振動を抑えることができる。

このように、掻取り用バー装置１８においても、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布することができるで、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。

尚、位置決めストッパー２９Ａとショックアブソーバ２７との取り付け距離Ｘ（図５参照）は塗布部から５００ｍｍ以内が好ましく、昇降フレーム２１ａの位置決めストッパー２９Ａへの着時の振動レベルは０〜２００ＨｚのＯＡ値で８５０ｍｍ／ｓ² 以下が好ましい。そして、位置決めストッパー２９Ａの径は１０〜８０ｍｍの範囲が好ましく、凹凸形状のはめ合いしろは０．０１〜０．５０ｍｍの範囲が好ましい。また、図３において、ショックアブソーバ２７が左右に２本の場合を示しているが、左右どちらかに１本の場合においても同様の効果が得られる。

塗布・計量一体型及び塗布・計量別体型の何れのバー塗布装置１０、１０’の場合にも、バー２８の直径Φは３〜１５ｍｍの範囲が好ましく、バー２８がワイヤーバーの場合のワイヤー直径Φは０．０５〜０．２０ｍｍの範囲が好ましい。また、ウエブＷの塗布テンション（搬送方向のテンション）は５０〜１５００Ｎ／ｍの範囲が好ましく、塗布速度は５〜１５０ｍ／分の範囲が好ましい。また、バー２８の異周速比（バー周速度／ウエブ速度）は０．１〜１．５の範囲が好ましい。また、バックアップローラ２０の１回転周期の速度ムラは１．５％以内が好ましく、１．０％以内がより好ましい。

本発明で使用するウエブＷとしては、一般に、その幅が３００〜２０００ｍｍ、長さが４５〜１００００ｍ、厚さが２〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙等からなる可撓性帯状物あるいは該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が含まれる。

ウエブＷへの塗布液の塗布量としては、２〜１５ｍＬ／ｍ² の範囲が好ましく採用できる。また、ウエブＷへの塗布液の塗布幅としては、５００〜２０００ｍｍの範囲が好ましく採用できる。

また、塗布液としては、光学フィルムや磁気テープの塗布液のような非ニュートン流体にかぎらず、写真感光層の比較的低粘度のゼラチン溶液をバインダとしてなるようなニュートン流体であってもよい。塗布液の粘度としては、０．８〜１０ｃｐ（０．８〜１０×１０^-3Ｐａ・ｓ）の範囲が好ましく採用できる。

次に、図１に示した塗布・計量一体型のバー塗布装置１０を用いて、光学補償フィルム用の塗布液を塗布した実施例を説明する。

バックアップローラ２０の振動レベル（０〜２００Ｈｚのオーバーオール値）がどうなるかを試験した。試験の評価は、バー塗布装置１０のバー２８に最も近い上流側のバックアップローラ２０について行った。

試験は、ローラの長さ（面長）が１６００ｍｍ、ローラ軸間距離（軸長）が１８００ｍｍのバックアップローラ２０を用いた。

（光学補償フィルム用塗布液の調製）
下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−８のＲ（１）とＲ（２）の重量比で４：１の混合物に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ♯３６０、大阪有機科学（株）製）を１０重量％、セルロースアセテートプチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を０．６重量％、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を３重量％、増感剤（カヤキュアーＤＥＴ−Ｘ、日本化薬（株）製）を１重量％添加し、最終的にその混合物の３２重量％メチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面括性剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）を０．３重量％添加し、塗布液とした。

（塗布条件）
・掻取り用バー装置…直径８ｍｍの円柱状の芯材に０．０７ｍｍのワイヤーを密に巻回したワイヤーバー
・塗布速度…２０ｍ／分
・塗布テンション…２００Ｎ／ｍ
（バックアップローラ条件）
・ローラ本体部の直径…９５ｍｍ
・ローラシャフトの直径…３２ｍｍ
・パスローラの真円度…０．０１ｍｍ
・パスローラの円筒度…０．０１ｍｍ
・バー塗布装置のバーからパスローラまでの距離…１００ｍｍ
（昇降方式）
・バックアップローラを油圧シリンダーにより垂直に動作させた。
・位置決めストッパーへの着速度…８０ｍｍ／秒
・ストローク…２００ｍｍ
比較例及び実施例１〜６において以下の条件で塗布を行った。

〔比較例〕
昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けなかった。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに凹凸形状を設けなかった。

〔実施例１〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に１本のショックアブソーバ（不二ラテックス製ソフトアブソーバー ＦＭＬ３３２５Ｍ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに円錐型の凹凸形状を設けた。尚、円錘型の形状は、直径がΦ３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍ（先端９０°）ｍｍであった。

〔実施例２〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に１本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに三角錐の凹凸形状を設けた。尚、三角錐の形状は、一辺が３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍであった。

〔実施例３〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に１本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに四角錘の凹凸形状を設けた。尚、四角錐の形状は、一辺が３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍであった。

〔実施例４〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に２本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに円錐型の凹凸形状を設けた。尚、円錘型の形状は、直径がΦ３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍ（先端９０°）ｍｍであった。

〔実施例５〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に２本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに三角錐の凹凸形状を設けた。尚、三角錐の形状は、一辺が３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍであった。

〔実施例６〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に２本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに四角錘の凹凸形状を設けた。尚、四角錐の形状は、一辺が３０ｍｍ、高さが２１．２ｍｍであった。

〔実施例７〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に１本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに球型の凹凸形状を設けた。尚、受け部は、曲面の公差を先端Ｒの＋１０％、曲率Ｒが１５．５ｍｍ、深さは１５ｍｍとした。位置決めストッパーの先端は、曲率Ｒが１５ｍｍであった。

〔実施例８〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に２本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端とその受け部とに球型の凹凸形状を設けた。尚、受け部は、曲面の公差を先端Ｒの＋１０％、曲率Ｒが１５．５ｍｍ、深さは１５ｍｍとした。位置決めストッパーの先端は、曲率Ｒが１５ｍｍであった。

〔実施例９〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に１本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端は球面、その受け部は９０°溝を設けた。尚、受け部は、深さが３０ｍｍであった。位置決めストッパーの先端は、曲率Ｒ＝１５ｍｍであった。

〔実施例１０〕
昇降フレームを降ろした際の着地部に２本のショックアブソーバ（実施例１と同じ）を設けた。また、位置決めストッパーの先端は球面、その受け部は９０°溝を設けた。尚、受け部は、深さが３０ｍｍであった。位置決めストッパーの先端は、曲率Ｒ＝１５ｍｍであった。

（評価項目）
振動レベル（ｍｍ／ｓ² ）は、ＦＦＴ（小野測器（株）製のＣＦ５２２０）を使用して測定した。０〜２００ＨｚのＯＡ（オーバーオール値）を位置決めストッパーへの着時間から２秒間までを測定した。

面状は、目視検査（シャウカステンによる透過検査）により判断し、製造合格品位を〇、製品ＮＧレベルを×と評価した。

（試験結果）
表１から分かるように、本発明の塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けるとともに、位置決めストッパーの先端とその受け部とは、凹と凸との関係で重なる実施例１〜１０は、振動レベルが比較例より低いことから、バックアップローラの振動を抑えることができることが分かる。また、実施例１〜１０は面状が良いことから、本発明によって塗布ムラの発生を効果的に抑制することができることが分かる。

尚、バー塗布機以外の塗布機での実施例は表に示してないが、上記と同様の結果であった。

バー塗布装置であって、塗布・計量一体型の一例を示す側面断面図 本発明に係るバックアップローラの昇降部を説明する側面図 本発明に係るバックアップローラの昇降部を説明する正面図 本発明に係る位置決めストッパーの先端を説明する説明図 本発明に係るバックアップローラの昇降部を説明する側面図 バー塗布装置であって、塗布・計量別体型の一例を示す側面断面図 図６における掻取り用バー装置の側面断面図

符号の説明

１０…塗布・計量一体型のバー塗布装置、１０’…塗布・計量別体型のバー塗布装置、１３…ローラシャフト、１４…塗布液、１５…軸受、１６…プレコート装置、１８…掻取り用バー装置、２０…バックアップローラ、２１ａ、２１ｂ…昇降フレーム、２１Ａ…軸受け、２１Ｂ…支持台、２３ａ、２３ｂ…シリンダー、２５…昇降部、２７…ショックアブソーバ、２８バー、２９Ａ…位置決めストッパー、２９Ｂ…ストッパー受け部、３０…バー支持台、３１Ａ…シリンダー、３１Ｂ…固定部材、５０…塗工用バー装置

Claims (6)

1. 昇降フレームに支持されたバックアップローラを位置決めストッパーで決められた位置まで降ろした押圧により、連続走行する支持体の表面を塗布機に接しさせることで塗布液を塗布する塗布方法において、
   塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部にショックアブソーバを設けるとともに、前記位置決めストッパーの先端とその受け部とは、凹と凸との関係で重なることを特徴とする塗布方法。
2. 前記塗布時に前記昇降フレームを固定することを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
3. 前記塗布機がバー塗布機であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布方法。
4. 昇降フレームに支持されたバックアップローラを位置決めストッパーで決められた位置まで降ろした押圧により、連続走行する支持体の表面を塗布機に接しさせることで塗布液を塗布する塗布装置において、
   塗布時に前記昇降フレームを降ろした際の着地部に設けられたショックアブソーバと、
   凹と凸との関係で重なる前記位置決めストッパーの先端とその受け部と、を有していることを特徴とする塗布装置。
5. 前記塗布時に前記昇降フレームを固定する固定機構を設けることを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
6. 前記塗布機がバー塗布機であることを特徴とする請求項４又は５に記載の塗布装置。

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