JPH09206651A

JPH09206651A - 連続塗布装置及び連続塗布方法

Info

Publication number: JPH09206651A
Application number: JP1672196A
Authority: JP
Inventors: Akira Ohira; 晃大平; Junji Ujihara; 淳二氏原
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1996-02-01
Filing date: 1996-02-01
Publication date: 1997-08-12
Anticipated expiration: 2016-02-01
Also published as: JP3661256B2

Abstract

(57)【要約】【課題】連続塗布された円筒状基材に塗布欠陥がな
く、画像ムラ、画像欠陥のない良好な画像を得る塗布手
段及び塗布方法を提供する。【解決手段】円筒状基材１の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら円筒状基材１の外
周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段４０を有す
る連続塗布装置において、塗布手段４０に最近接する円
筒状基材１の水平方向の最大振幅が４０μｍ以内であ
り、且つ垂直方向の最大振幅４０μｍ以内である連続塗
布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エンドレスに形成
された連続面を有する円筒状基材の筒軸を合わせて積み
重ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材
の外周面上に塗布液を均一に連続的に塗布する連続塗布
装置及び連続塗布方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してス
プレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗
布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感
光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性
の優れた塗布手段を開発すべく検討されている。しかし
ながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材への塗布手段及び塗布方法においては、均一
な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の短所があ
った。

【０００３】スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発
するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、そ
れにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到
達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或
いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するため
に、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、
該連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００
％でなく塗布液のロスがあったり、部分的にも不均一で
あるため、膜厚コントロールが非常に困難である。更
に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため、使
用する溶媒及び樹脂に制限がある。

【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
１回転させたのち、ブレード若しくはロールを後退させ
るものである。しかしながらブレード若しくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。

【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００６】しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性例え
ば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配さ
れ、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速
度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上
の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶
け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布手段（この中にはスライド
ホッパー型塗布手段が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布手段はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更に
この塗布手段は環状の塗布液溜まり室と、この塗布液溜
まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給
口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液分配
スリットとを有し、このスリットから流出した塗布液を
斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下させ、塗
布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状基材と
の僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動
に伴ってその外周面に塗布するものである。このスライ
ドホッパー型塗布手段を用いることにより、少ない液量
で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚
制御の容易な塗布が可能となった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布手段を用いても、なお、塗布液に
よっては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）
や膜厚の変動等の塗布欠陥があり、満足のいくものでは
ない。

【０００９】上記の塗布欠陥を発生させる要因に、円
筒状基材に直接接触する供給手段や把持搬送手段や分離
排出手段等の駆動系からの振動伝達による塗布ムラ、塗
布段ムラ発生、円筒状基材に均一に塗布液を塗布する
塗布手段の振動による膜厚変動等がある。

【００１０】非画像部に塗布するときにのみ駆動系から
の振動が伝達されても良いように、円筒状基材に直接接
触する供給手段や把持搬送手段や分離排出手段等の作動
が非画像部通過に同期して起きるようにする方法がある
が、これでは不十分で、画像部に必ず振動が伝播してし
まう。このため、円筒状基材の水平方向と垂直方向の振
動幅を同時に所定値以内に抑えるのが重要である。特
に、コーター部に最近接する円筒状基材の水平方向の最
大振幅、垂直方向の最大振幅を所定値以内に抑えるのが
重要である。この最大振幅値の範囲を越えると、塗布ム
ラ、膜厚変動が発生し、ひどい場合は未塗布部分ができ
たり、あるいはコーター部、エアーベアリング部と円筒
状基材とが接触する。

【００１１】本発明はこのような問題点を解消して、連
続塗布された円筒状基材に塗布欠陥がなく、画像ムラ、
画像欠陥のない良好な画像を得る塗布手段及び塗布方法
を提供することを課題目的とするものである。

【００１２】即ち、本発明の目的は、（１）画像ムラが
なく良好な画像が得られる、（２）長時間安定した塗布
ができる、円筒状基材の連続塗布手段及び塗布方法を提
供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的は、円筒状基材
の筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げ
ながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗
布する塗布手段を有する連続塗布装置において、前記塗
布手段に最近接する前記円筒状基材の水平方向の最大振
幅が４０μｍ以内であり、且つ垂直方向の最大振幅４０
μｍ以内であることを特徴とする連続塗布装置及び方法
によって達成される（請求項１、２）。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の第一
の実施の形態を説明する。図１は本発明による連続塗布
装置の全体構成を示す斜視図である。図において、１０
は円筒状基材１を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給
して上方に押し上げる供給手段、２０は供給された円筒
状基材１の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね下
から上へ垂直に押し上げて搬送する搬送手段、３０は前
記円筒状基材１を連続塗布装置の環状塗布部の中心に位
置合わせする位置決め手段、４０は前記円筒状基材１の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、５０は
円筒状基材１上に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手
段、６０は乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の
複数の円筒状基材から分離させて１個ずつ取り出し排出
させる分離排出手段である。

【００１５】本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を
連続して垂直中心線Ｚ−Ｚ上に配置した垂直塗布構成で
あり、人手を要しない完全自動化生産が高精度で達成さ
れる。垂直塗布手段とは、スライドホッパー型コー
タ、押し出し型コータ、リングコータ、スプレー
コータ等で、円筒状基材を積み重ねて上方又は下方に相
対的に移動する事により塗布するもので、方式は問わな
いがが塗布性信頼性等の点で優れている。

【００１６】即ち、前記供給手段１０は前記円筒状基材
１を載置するための複数の載置案内部材１１を備えた回
転テーブル１２、該回転テーブル１２を回転させて前記
搬送手段２０へつながる垂直ラインへ送り込む駆動手段
１３、前記搬送手段２０により既に上方に把持搬送され
ている円筒状基材１を積み重なるように上方に押し上げ
る昇降部材１４、該昇降部材１４の上端に設けられた円
筒状基材供給用の押し上げ部材１５及び前記駆動手段１
３による回転や昇降部材１４による押し上げのタイミン
グを制御する図示しない制御手段等から構成されてい
る。なお、前記回転テーブル１２上への円筒状基材１の
供給は、ロボットハンドルにより行われる。

【００１７】前記供給手段１０の上方に設けられた搬送
手段２０は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且
つ垂直上下方向に移動可能な２組の把持手段２１，２２
を有し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送
する機能を有する。３０はエアベアリング式位置決め手
段、４０はスライドホッパー型コーター等の垂直型環状
の塗布手段、５０は乾燥調整器５１，リング式吸引乾燥
器５３，リング式加熱乾燥器５２から成る乾燥手段、６
０は塗布乾燥されて垂直上方に搬送されてきた積み重ね
状の複数の円筒状基材１の最上部から、内径部を把持し
て分離させて１個ずつ取り出して装置本体外に排出させ
る分離排出手段である。以下、上記各装置１０，２０，
３０，４０，５０，６０の詳細は後述する。

【００１８】図２は本発明による第一の実施の形態の連
続塗布装置を示す正面図である。前記エアベアリング式
位置決め手段３０、環状の塗布手段４０、リング状の乾
燥手段５０は連続塗布装置本体７０の所定位置に固定さ
れ、通過する円筒状基材１の外周面に近接し非接触であ
る。供給手段１０、搬送手段２０、分離排出手段６０は
何れも各駆動源に接続し、円筒状基材１の外周面または
内周面に接触して移動可能である。

【００１９】以下、連続塗布装置を構成する供給手段１
０、搬送手段２０、位置決め手段３０、塗布手段４０、
乾燥手段５０、分離排出手段６０の詳細を説明する。

【００２０】図３は前記供給手段１０の斜視図である。
塗布処理工程前の複数個の円筒状基材１は予め供給台１
６１に収容されている。自動運搬装置１６２の移動可能
な運搬部材１６３は、供給台１６１上の円筒状基材１か
ら１個の円筒状基材１を把持して移動し、前記回転テー
ブル１２上の載置案内部材１１内に載置する。該載置案
内部材１１は、円筒状基材１が遊嵌して収容可能な円形
溝１１Ａを有し、回転テーブル１２の回転円周方向に複
数個（図示の６箇所）設けられている。該回転テーブル
１２は駆動手段１３のモータＭ１、ギア列１３１，１３
２により間欠回転駆動される。１個の円筒状基材１が前
記垂直中心線Ｚ−Ｚの下方に運搬されて停止すると、モ
ータＭ２の始動によりピニオンギア１４１及びラックギ
ア１４２を介して昇降部材１４を上昇させる。該昇降部
材１４の上部には緩衝手段であるコイルバネ１４３を介
して押し上げ部材１５が設けられていて、該押し上げ部
材１５の上昇により載置案内部材１１の底部が押し上げ
られる。

【００２１】図４は供給手段１０による円筒状基材１の
上昇過程を示す断面図である。図４（ａ）は、円筒状基
材１の上昇開始状態を示す。モータＭ２の駆動回転によ
り、前記押し上げ部材１５が上昇して、載置案内部材１
１の底部が矢印方向に押し上げられ、円筒状基材１がＺ
−Ｚ方向に上昇される。図４（ｂ）は、載置案内部材１
１の上昇終了状態を示す。前記昇降部材１４の上昇開始
時の速度は、塗布速度の１．５〜５倍の速度で上昇し、
該円筒状基材１の先端部が先行して上昇中の円筒状基材
１の後端部に、後続する突き当たる直前に、前記塗布速
度の１．０〜１．５倍に減速されるように前記モータＭ
２により制御される。また、先に上昇している円筒状基
材１の後端部に後続する円筒状基材１の先端部が突き当
たるとき、前記昇降部材１４が若干上昇動作を続けて
も、コイルバネ１４３に吸収され、図１に示すように塗
布速度で上昇する複数個の円筒状基材１に対して衝撃を
与えることがなく、塗布ムラが発生することはない。こ
の載置案内部材１１の上死点近傍において、円筒状基材
１の上端の非画像部が後述の搬送手段２０の把持手段２
２により把持される。円筒状基材１が把持手段２２によ
り把持されたのち、昇降部材１４は下降し、図４（ｃ）
に示す下死点で待機する。

【００２２】図５は搬送手段２０の把持手段２１，２２
の斜視図である。先ず上部位置に設けた把持手段２１の
搬送ハンド２１１の把持部２１４と、搬送ハンド２１２
の把持部２１５は軸２１３により回転自在に支持され、
先に押し上げられて上方に搬送された円筒状基材１と、
同様に先に押し上げられた円筒状基材１間を、前記把持
部２１４と把持部２１５とで段差調整して把持しながら
塗布速度と同速度で矢示方向に上昇させる。更に下部位
置に設けた把持手段２２の搬送ハンド２２１の把持部２
２４と、搬送ハンド２２２の把持部２２５も軸２２３に
より回転自在に支持され、円筒状基材１間と、新たに押
し上げられた円筒状基材１間を前記把持部２２４と、把
持部２２５とで段差調整して把持するようにする。そし
て把持完了後、前記把持手段２１と同速度となる塗布速
度と同速度で矢示方向に上昇させる。２１６，２２６は
前記把持部先端に取り付けられ、滑り止めと円筒状基材
１周面を保護するための押圧緩衝部材である。

【００２３】次に、図２で把持手段２１，２２を有する
搬送手段２０について説明する。搬送手段２０は、把持
手段２１，２２に各々設けられ、搬送手段２０に対して
垂直方向に回転可能に設けられたボールネジ２４に嵌合
した上下移動部材２３を設けた。該上下移動部材２３は
前記把持手段２１，２２に連結する。前記ボールネジ２
４をモータＭ３，Ｍ４と減速ギア列とから成る回転駆動
装置を用いて一定速度で回転することにより、上下移動
部材２３は一定速度、即ち複数の円筒状基材１に塗布液
を塗布する塗布速度で把持手段２１，２２が上昇移動す
るように構成されている。

【００２４】図６は位置決め手段３０と塗布手段４０と
を示す断面図、図７は塗布手段４０の斜視図である。

【００２５】図６に示されるように垂直中心線Ｚ−Ｚに
沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１
Ｂ（以下、円筒状基材１と称す）を連続的に矢示方向に
上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状基材１の外
周面に対しスライドホッパー型塗布手段４０の塗布に直
接係わる部分（ホッパー塗布面）４１により塗布液（感
光液）Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中
空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラ
ムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。前記ホッ
パー塗布面４１には、円筒状基材１側に開口する塗布液
流出口４２を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリッ
トと略称する）４３が水平方向に形成されている。この
スリット４３は環状の塗布液分配室（塗布液溜り室）４
４に連通し、この環状の塗布液分配室４４には、貯留タ
ンク２内の塗布液Ｌを圧送ポンプ３により供給管４を介
して、供給口４８から導入して供給するようになってい
る。他方、スリット４３の塗布液流出口４２の下側に
は、連続して下方に傾斜し、円筒状基材１の外径寸法よ
りやや大なる寸法で終端をなすように形成された塗布液
スライド面（以下、スライド面と称す）４５が形成され
ている。更に、このスライド面４５終端より下方に延び
る唇状部４６が形成されている。かかる塗布手段（スラ
イドホッパー型塗布手段）４０による塗布においては、
円筒状基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリット
４３から押し出し、スライド面４５に沿って流下させる
と、スライド面４５の終端に至った塗布液は、そのスラ
イド面４５の終端と円筒状基材１の外周面との間にビー
ドを形成した後、円筒状基材１の表面に塗布される。ス
ライド面４５の終端と円筒状基材１は、ある間隙を持っ
て配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、
また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、
既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。

【００２６】一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部よ
り最も遠い位置で、前記塗布液分配室４４の一部には、
塗布液分配室４４内の泡抜き用の空気抜き手段４７が設
けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配
室４４に供給されて塗布液分配スリット４３から塗布液
流出口４２に供給されるとき、開閉弁を開いて空気抜き
手段４７より塗布液分配室４４内の空気を排出する。

【００２７】前記塗布手段４０の下部には、円筒状基材
１の円周方向を位置決めする位置決め手段３０が固定さ
れている。前記円筒状基材１の位置決め手段３０の本体
３１には、複数の給気口３２と、複数の排気口３３が穿
設されている。該複数の給気口３２は、図示しない給気
ポンプに接続され、空気等の流体が圧送される。該給気
口３２の一端部で円筒状基材１の外周面に対向する側に
は、吐出口３４が貫通している。該吐出口３４は前記円
筒状基材１の外周面と所定の間隙を保って対向してい
る。該間隙は、３０μｍ〜２ｍｍである。前記吐出口３
４は直径０．０５〜０．５ｍｍの小口径のノズルであ
る。

【００２８】前記給気ポンプから圧送された流体は、複
数の給気口３２から本体３１の内部に導入されて、複数
の吐出口３４から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１
Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流
体は複数の排気口３３から装置外に排出される。

【００２９】なお、位置決め手段３０に接続される垂直
型塗布手段４０としては、スライドホッパー型、押し出
し型、リングコーター等の各種装置が用いられる。

【００３０】前記塗布手段４０の上方には、乾燥フード
５１と乾燥器５３とから成る乾燥手段５０が設けられて
いる。

【００３１】図８は前記塗布手段４０と該塗布手段４０
の上部に設けた乾燥フード５１の断面図である。該乾燥
フード５１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の開口
５１Ａが穿設されている。前記円筒状基材１を矢示方向
に上昇させ、前記塗布手段４０のホッパー塗布面（塗布
ヘッド）４１で塗布液Ｌを塗布し、感光層５を形成す
る。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾燥フ
ード５１内を通過しながら徐々に乾燥される。この乾燥
は前記多数の開口５１Ａより塗布液Ｌに含まれている溶
媒を壁面外に放出することにより行われる。前記のよう
に、塗布手段４０により円筒状基材１上に塗布液Ｌを塗
布することにより、形成された感光層５は、塗布直後に
おいて乾燥フード５１により包囲されており、開口５１
Ａからのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における感
光層５の乾燥速度は、前記開口５１Ａの開口面積にほぼ
比例する。

【００３２】図９に本発明の乾燥器５３の断面図を示
す。乾燥器５３は、吸引スリット５３１と吸引チャンバ
ー５３２と吸引ノズル５３３とを有する吸引スリット部
材５３４、下部の筒状部材５３５、上部の筒状部材５３
６がそれぞれ同心に結合されている。そして、複数設け
られた吸引ノズル５３３から吸引を行ない、周方向均一
な吸引チャンバー５３２、周方向均一な吸引スリット５
３１により周方向の均一化がなされた吸引エアーが流
れ、更に、吸引スリット部材５３４、その上下の筒状部
材５３６，５３５の各内径面と塗布済みの円筒状基材１
の外周面との間の空気流の乱れをバッファー空間５３７
で極く僅かにおさえて、５３８に示す乾燥の為の均一吸
引エアーの空気流を作り出している。この乾燥ゾーンに
矢印で示すＺ方向に塗布済の円筒状基材１を搬送するこ
とにより、塗布膜の乾燥を行うものである。

【００３３】以上のようにして塗布及び塗布膜乾燥が行
われた円筒状基材（基体ドラム）１を分離する工程を、
図１０の分離過程の各プロセスの状態図を用いて説明す
る。分離排出手段６０は、垂直移動ロボットステージ６
１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、下チャッ
ク（下把持子）６４、エアーシリンダー６５により構成
されている。

【００３４】塗布済の円筒状基材１は下方より上方へ向
けて積み上げられ、上方向へ移動し図１０（ａ）に示す
ように分離位置に達する。この時垂直ロボットが起動し
被分離円筒状基材１と同軸、等速度で同架された分離装
置全体を移動する。まず、図１０（ｂ）に示す位置で下
把持子６４が被分離円筒状基材１Ａに隣接する円筒状基
材１Ｂを保持する。次いで図１０（ｃ）に示す位置で上
把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持する。エアー
シリンダー６５に接続する軸体６２により上把持子６３
は被分離円筒状基材１Ａを保持したまま上方向へ移動し
て図１０（ｄ）に示す位置になる。この時、被分離円筒
状基材１Ａと隣接する円筒状基材１Ｂにまたがる塗布膜
が切り裂かれ図１０（ｄ）に示すように円筒状基材１
Ａ、１Ｂの分離が行われる。分離済みの円筒状基材１Ａ
を排出するために図１０（ｅ）に示すように下把持子６
４は解放状態となり、次いで図１０（ｆ）に示すように
上把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持した状態で
垂直移動ロボットステージ６１が急上昇を行い、隣接す
る円筒状基材１Ｂの位置よりはるか上方に配置された分
離装置に分離済の円筒状基材１Ａを置き、上把持子６３
が解放となり工程を終了する。そして次なる円筒状基材
１Ｂの分離の為、垂直移動ロボットステージ６１が下降
しまた軸体６２が下降し、初期状態の位置の図１０
（ａ）に戻る。

【００３５】次に、連続塗布装置における振動防止につ
いて説明する。

【００３６】円筒状基材１の非画像部に塗布するときに
のみ駆動系からの振動が伝達されても良いように、円筒
状基材１に直接接触する供給手段１０や把持搬送手段２
０や分離排出手段６０等の作動が非画像部通過に同期し
て起きるようにする方法があるが、これでは不十分で、
画像部に必ず振動が伝播してしまう。このため、円筒状
基材１の水平方向と垂直方向の振動幅を同時に下記の所
定値以内に抑えるのが重要である。即ち、塗布手段４０
のコーター部に最近接する円筒状基材１の水平方向の最
大振幅を４０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下に、垂
直方向の最大振幅を４０μｍ以下、好ましくは３０μｍ
以下にすることが重要である。この最大振幅値の範囲
（４０μｍ）を越えると、塗布ムラ、膜厚変動が発生
し、ひどい場合は未塗布部分ができたり、あるいはコー
ター部、エアーベアリング部と円筒状基材とが接触す
る。振動の最大振幅を抑える方法しては，各発生源から
の影響を公知の防振方法、材料あるは能動除振方法ある
いは上記組み合わせ等により抑えたり、振動の少ない動
力源を用いたり、あるいは動力源、供給源、把持部等を
精度の良い部品、加工法に替えたり、緩衝機構を用いた
りしたものにより得られる。例えば水平方向は把持部の
緩衝機構の精度向上、垂直方向は供給駆動系のボールネ
ジの精度を上げたり、性能の良いサーボモーターを用い
る。

【００３７】Ｘ−Ｙ方向の振幅測定については、例え
ば、レーザー変位計や渦電流式変位センサー等により非
接触に検出することができる。また、Ｚ方向の振幅測定
については、例えば、加速度計を用いて振幅を読み取る
ことにより得られる。

【００３８】再び、図２において、前記回転テーブル１
２、ギア列１３１，１３２、モータＭ１から成る駆動手
段１３は、装置本体７０の底部に設けた防振台８１上に
設置されている。また、前記押し上げ部材１５を昇降さ
せる昇降部材１４も、装置本体７０の底部に設けた防振
台８２上に設置されている。なお、上記駆動手段１３と
昇降部材１４とを一つの防振台上に設置してもよい。ま
た、装置本体７０の中間部には、前記把持手段２１，２
２、上下移動部材２３、ボールネジ２４から成る搬送手
段２０が、防振台８３上に設置されている。さらに、装
置本体７０の上部には、垂直移動ロボットステージ６
１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、下チャッ
ク（下把持子）６４、エアーシリンダー６５により構成
されている分離排出手段６０が、防振台８４上に設置さ
れている。このように、少なくとも前記円筒状基材１に
直接に接触する供給手段１０、搬送手段２０、分離排出
手段６０の各駆動系を防振台上に設置することにより、
駆動系から発生する振動を極めて小さくできる。また、
円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０と搬送手段
２０とを同一の防振台に設置して、また円筒状基材１に
直接に接触する分離排出手段６０を別の防振台上に設置
する事により振動を効率良く抑えることが出来た。さら
に、少なくとも前記円筒状基材１に直接に接触しないが
連続塗布装置本体に固定された位置決め手段３０、塗布
手段４０、乾燥手段５０を防振台上に設置することによ
り、装置本体から伝達される振動を遮断するようにして
もよい。

【００３９】前記防振台８１，８２，８３，８４を支え
る防振材料としては金属バネ、コイルバネ、防振ゴム、
空気バネ等があり、防振系の固有振動によっても異なる
が防振ゴム、空気バネ等が良い。上記防振材料に関して
は、「振動工学ハンドブック（養賢堂発行）」、「精密
防振ハンドブック」、等に記載されている。

【００４０】従来は、非画像部に振動が起きても良いよ
うに、各装置１０〜６０の作動が非画像部に同期して起
きる方法であったが、これでは不十分であると判明し
た。これら元の振動の振幅は累積され、大きい時には１
００μｍにも達し、段ムラ塗布等の故障となり、ひどい
時には塗布手段４０のコーター部や位置決め手段３０の
内面と接触する等の問題が発生した。従って、各振動発
生源からの影響を小さくする必要がある。特に、後述す
る３層逐次連続塗布の場合、１層塗布の時と比して振動
源は約３倍増え、従って塗布に与える振動はより深刻と
なる。

【００４１】本発明の防振台設置により、（１）駆動系
の振動による塗布ムラ、段ムラが発生しない、（２）長
時間安定した塗布性能が得られる、（３）画像ムラがな
く良好な画像が得られる等の優れた効果が得られた。

【００４２】前記防振台８１〜８４に代えて、能動除振
台を、円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０、搬
送手段２０、分離排出手段６０の各駆動系に設置するこ
とにより、駆動系をから発生する振動を極めて小さくで
きる。

【００４３】前記能動除振台の一例として、次の能動制
御除振機構は、圧力容器を具備した空気バネで制振台
を支持する、制振台本体にレベルセンサと振動センサ
とを設置する、レベルセンサにより検出したレベル変
位信号と、振動センサにより検出した床面や機器等の振
動源から受けた制振台本体の振動検出信号を１８０°反
転させた反転信号とをレベル変動分加算器に入力して加
減算を行う、レベル変動分加算器からの加減変動信号
に合わせ、駆動回路から駆動信号を出力して制御弁の開
閉度合を制御する、この制御弁により空気バネの圧力
容器内の空気圧を調節することにより精密なレベルコン
トロールと制振動を行うことができる（特開平１−２１
０６３４号公報、能動制御精密制振台）。

【００４４】この他、次の方法で行っても良い。

【００４５】１．連続塗布装置が設置された除振台。

【００４６】２．除振台を弾性的に支持する弾性支持手
段。

【００４７】３．除振台上に設けたセンサ。このセンサ
はレベルセンサと振動センサとを兼ねても良いし、別々
に設けても良い。

【００４８】４．除振台を駆動するアクチュエータ。

【００４９】５．センサから出力を補償してアクチュエ
ータにフィードバックする位置制御補償及び／又は振動
補償手段より構成した。なお、弾性支持手段例えば空気
バネをアクチュエータとしても良い。

【００５０】また、円筒状基材１と直接に接触する搬送
手段２０と供給手段１０が同一の能動除振台にあり、ま
た、円筒状基材１に直接接触する分離排出手段６０を別
の能動除振台上に設置する事により振動を効率良く抑え
ることが出来る。

【００５１】図１１は本発明による第二の実施の形態で
ある逐次連続塗布装置を示す斜視図、図１２は正面図で
ある。この実施例では、前記搬送手段２０の上方の垂直
中心線Ｚ−Ｚ上には、位置決め手段３０Ａ、塗布手段４
０Ａ、乾燥手段５０Ａとから成るユニットＡ、位置決め
手段３０Ｂ、塗布手段４０Ｂ、乾燥手段５０Ｂとから成
るユニットＢ、位置決め手段３０Ｃ、塗布手段４０Ｃ、
乾燥手段５０Ｃとから成るユニットＣ、を複数組垂直縦
列配置したものである。最上段には前記分離排出手段６
０が配置されている。各塗布手段４０Ａ，４０Ｂ，４０
Ｃからそれぞれ吐出された塗布液は、円筒状基材１上に
多層の塗布層を逐次形成し、各乾燥手段５０Ａ，５０
Ｂ，５０Ｃにより乾燥される。乾燥済みの最上段の円筒
状基材１Ａは、分離排出手段６０により把持されて下方
の円筒状基材１Ｂから分離されて、機外のパレット上に
載置される。

【００５２】３層逐次連続塗布の場合の如く、塗布手段
４０が３つ有る時、各々の塗布手段４０のコーター部に
最近接する円筒状基材１の水平方向の最大振幅を４０μ
ｍ以下、好ましくは３０μｍ以下に、垂直方向の最大振
幅を４０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下にすること
が重要である。

【００５３】このため、逐次連続塗布装置においても、
図２に示す防振台８１，８２，８３，８３、または能動
除振台をそれぞれ供給手段１０、昇降部材１４、搬送手
段２０、分離排出手段６０に設置することにより、塗布
手段４０のコーター部に最近接する円筒状基材１の水平
方向及び垂直方向の各最大振幅を４０μｍ以下にする。

【００５４】なお、上記防振台８１，８２，８３，８
３、または能動除振台の設置は、図２の実施例に限定さ
れず、円筒状基材１に直接接触する回転テーブル１２の
駆動系と昇降部材１４の駆動系とを一つの防振台または
能動除振台上に設置しても良い。又は、昇降部材１４の
駆動系と供給手段１０の駆動系とを一つの防振台または
能動除振台上に設置しても良い。

【００５５】

【実施例】従来、垂直積み重ね方式による塗布はその塗
布の形態から位置決め手段、塗布手段（コーター）及び
乾燥手段等に接触しないよう、また塗布ムラ（長手方
向、円周方向）が発生しないよう、例えば特開平２−１
１５０７３号公報の如くの緩衝装置の導入や、特願平７
−１６２０２１号明細書の如くの非画像部に振動が発生
する操作を集中させたりして、振動の発生や振動の影響
を低減させることが行われてきた。しかしながらこのよ
うに注意深く行っても、なおかつ塗布故障が発生し、不
良ドラムが多発した。そこで振動を低減することが試み
られ、ある条件（Ｘ−Ｙ軸方向かつＺ軸方向の振幅を４
０μｍ以下に抑えたとき）の場合に不良塗布ドラムが激
減した。本発明者等はこの現象を詳細に解析した結果、
塗布中に塗布ドラムと塗布ドラム間にずれが発生する事
が原因であると解った。この理由については従来垂直積
み重ね塗布方式に於いては、塗布不良はＸ−Ｙ軸方向あ
るいはＺ軸方向のフレによりドラムとコーター間のギャ
ップが変化することによると思われていたが、実際には
Ｘ−Ｙ軸方向とＺ軸方向との振動が同期し、積み重ねら
れた塗布ドラムが一瞬上方向に浮き上がった時、Ｘ−Ｙ
軸振動によりＸ−Ｙ軸方向に容易にずれてしまい、積み
重ね面でのずれが容易に発生するということが判明し
た。これによりビード形成不良、液膜の下方への流れの
不順等が発生し端面薄膜や端面膜の膜厚異常が発生す
る。

【００５６】Ｘ−Ｙ軸方向かつＺ軸方向の振幅を４０μ
ｍ以内、好ましくは３０μｍ以内に抑えるのが良く、更
には２０μｍ以内が好ましい。これによりドラムのずれ
は発生せず、ビードの形成は良好であり、塗布ドラム端
面薄膜や塗布ドラム端面膜厚異常も発生せず、塗布ドラ
ムの円周方向や長手方向の塗布ムラもなく、塗布性の良
好な塗布ドラムが得られた。

【００５７】以下実施例に沿って説明する。

【００５８】（実施例１）円筒状基材１の導電性支持体
としては鏡面加工を施した直径４０ｍｍ、高さ２７１ｍ
ｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。また、塗布液
としては下記記載のＣＧＬ−２塗布液組成物を用い、
乾燥膜厚２．０μｍになるように塗布した。

【００５９】ＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝１：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００６０】

【化１】

【００６１】本実施例１では、図２に示すように、垂直
方向の振動を抑えるために昇降部材１４及び上下移動部
材２３の駆動系のボールネジ２４の精度を向上させ、精
度の良いサーボモータ及び精密なリニアガイドを用い、
水平方向の振動を抑えるため、把持手段２１，２２に精
密な速度減速機能をもたせた緩衝機構を取り入れ、塗布
を行った。また得られた塗布ドラムを目視観察すると共
に水平、垂直方向の円筒状基材１の最大振幅を塗布装置
のコーター部との最近接位置の円筒状基材１で測定し
た。比較例としては上記の精度を上げたものを用いず通
常品を用いた。なお、円筒状基材１を３０本積み重ね
た。表１に結果を示す。

【００６２】

【表１】

【００６３】本発明の如く水平方向と垂直方向を同時に
最大振幅４０μｍ以下に制御した連続塗布装置を用いる
と、膜厚ムラに起因する色ムラがなく、擦りキズや塗布
欠陥のない塗布性の良好な塗布ドラムＮｏ．１−１が得
られた。

【００６４】（実施例２）実施例１の塗布装置の代わり
に図１２の逐次連続塗布装置で塗布を行い、供給手段１
０や搬送手段２０に実施例１と同じ精度、機構を設けた
のを使用し、塗布を行った。即ち、鏡面加工を施した直
径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウム
ドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物ＵＣ
Ｌ−１、ＣＧＬ−２及びＣＴＬ−１を調製し、スラ
イドホッパー型塗布手段４０Ａ（ＵＣＬ−１用）、４
０Ｂ（ＣＧＬ−２用）、４０Ｃ（ＣＴＬ−１用）に
て、それぞれ乾燥膜厚１．０μｍ、２．２μｍ及び２３
μｍになるように３層の逐次重層塗布を行い、感光体
（塗布ドラム）を作成し目視観察した。なお、円筒状基
材１は２３本積み重ね、最上部の塗布手段４０Ｃのコー
ター部と最近接位置の円筒状基材１の最大振幅を測定し
た。比較例としては上記の精度を上げたものを用いず通
常品を用いた。得られた結果を表２に示す。

【００６５】

【表２】

【００６６】ＵＣＬ−１塗布液組成物共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００東レ社製）３０ｇメタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）１０ｌＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００６７】ＣＴＬ−１塗布液組成物ＣＴＭ−１５ｋｇポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）５．６ｋｇ１，２−ジクロロエタン２８ｌ固形分については、固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２０
０＝０．８９：１に固定

【００６８】

【化２】

【００６９】本発明の如く、水平方向と垂直方向を同時
に最大振幅４０μｍ以下に制御した連続塗布装置を用い
ると、膜厚ムラに起因する色ムラがなく、擦りキズや塗
布欠陥のない塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。得
られた塗布ドラム（感光体）Ｎｏ．２−１をコニカ社製
Ｕ−ＢＩＸ３０３５複写機で実写したところ、画像ム
ラやカブリムラ等の塗布ムラに起因する画像不良はな
く、画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ等）もなく
良好であった。

【００７０】

【発明の効果】本発明による連続塗布装置の駆動系によ
る振動を、水平方向及び垂直方向で最大振幅を４０μｍ
以下に抑えることにより、（１）画像ムラがなく良好な
画像が得られる、（２）長時間安定した塗布が達成され
る等の優れた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置
の全体構成を示す斜視図。

【図２】上記連続塗布装置の正面図。

【図３】供給手段の斜視図。

【図４】供給手段による円筒状基材の上昇過程を示す断
面図。

【図５】搬送手段における把持手段の斜視図。

【図６】位置決め手段と塗布手段とを示す断面図。

【図７】塗布手段の斜視図。

【図８】塗布手段と塗布手段の上部に設けた乾燥フード
の断面図。

【図９】乾燥器の断面図。

【図１０】分離排出手段による分離過程を説明する状態
図。

【図１１】本発明による第二の実施の形態の逐次連続塗
布装置の全体構成を示す斜視図。

【図１２】上記逐次連続塗布装置の正面図。

【符号の説明】

１円筒状基材（塗布ドラム）１０供給手段１２回転テーブル１３駆動手段１４昇降部材１５押し上げ部材２０搬送手段２１，２２把持手段２３上下移動部材２４ボールネジ３０位置決め手段４０塗布手段（コーター）５０乾燥手段６０分離排出手段７０装置本体８１〜８４防振台または能動除振台Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４モータ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材外周面
上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段を有する連続塗
布装置において、前記塗布手段に最近接する前記円筒状
基材の水平方向の最大振幅が４０μｍ以内であり、且つ
垂直方向の最大振幅４０μｍ以内であることを特徴とす
る連続塗布装置。
【請求項２】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材外周面
上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段を有する連続塗
布方法において、前記塗布手段に最近接する前記円筒状
基材の水平方向の最大振幅が４０μｍ以内であり、且つ
垂直方向の最大振幅４０μｍ以内であることを特徴とす
る連続塗布方法。
【請求項３】前記塗布手段が垂直型塗布装置であるこ
とを特徴とする請求項１記載の連続塗布装置。
【請求項４】前記垂直型塗布装置がスライドホッパー
型塗布装置であることを特徴とする請求項３記載の連続
塗布装置。
【請求項５】複数の塗布手段を有する塗布装置により
前記円筒状基材外周面上に複数の塗布層を逐次形成させ
ることを特徴とする請求項１、３、４の何れか１項に記
載の連続塗布装置。