JPH1099771A

JPH1099771A - 円筒状基材の塗布装置及び塗布方法

Info

Publication number: JPH1099771A
Application number: JP26175396A
Authority: JP
Inventors: Akira Ohira; 晃大平; Junji Ujihara; 淳二氏原; Masanari Asano; 真生浅野
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1996-10-02
Filing date: 1996-10-02
Publication date: 1998-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】円筒状基材の外周面上に塗布された塗布液層
に塗布ムラや膜厚変動がなく、周囲への汚染が無く、効
率の良い優れた円筒状基材の塗布装置及び塗布方法を提
供する。【解決手段】円筒状基材１の筒軸を合わせて積み重
ね、下方から上方へ垂直に押し上げながら、円筒状基材
１の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の
塗布装置において、塗布装置が円筒状基材１の外周面か
ら所定距離ｄ離間し、環状をなすスプレー塗布ヘッドを
有する環状スプレー塗布装置である円筒状基材の塗布装
置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はエンドレスに形成さ
れた連続面を有する円筒状基材の外周面上に、塗布液を
均一に塗布する塗布装置及び塗布方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー
塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等
の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ド
ラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れ
た塗布装置を開発すべく検討されている。しかしなが
ら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する基材
への塗布方法においては、未だ尚均一な塗膜が得られな
かったり生産性が悪い等の短所がある。

【０００３】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレードもしくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレードもしくはロールを後退させるもので
ある。しかしながらブレードもしくはロールを後退させ
る際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分
より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点があ
る。

【０００４】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００５】しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液
量が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け
出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００６】これに対しスプレー塗布法では塗布方法が
簡便であり、重層しやすくまた塗布液も少量かつ浸漬塗
布の如くには汚染されない利点がある。しかしながら特
開昭５７−１３２１５２号公報、同６２−７５４５６号
公報、同６３−４１８５９号公報等を見ても判るように
ドラムを回転させねばならず、スプレー開始と最後にお
いての塗布ムラの発生は避けられないし、またスプレー
塗布の性質上塗布面積が広がるので周囲への汚染あるい
は塗布の効率が落ちる欠点を有する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記実情に鑑
みて提案されたものであり、その目的とするところのも
のは、円筒状基材の外周面上に塗布された塗布液層に塗
布ムラや膜厚変動がなく、周囲への汚染が無く、効率の
良い優れた円筒状基材の塗布装置及び塗布方法を提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

（１）上記目的は、円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
ね、下方から上方へ垂直に押し上げながら、前記円筒状
基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材
の塗布装置において、前記塗布装置が前記円筒状基材の
外周面から所定距離離間し、環状をなすスプレー塗布ヘ
ッドを有する環状スプレー塗布装置であることを特徴と
する円筒状基材の塗布装置（請求項１）、及び円筒状基
材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方へ垂直に押
し上げながら垂直型環状スプレー塗布装置により、前記
円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的または断続的に
塗布する円筒状基材の塗布方法（請求項３）により達成
される。

【０００９】（２）また上記目的は、円筒状基材の筒軸
を合わせて積み重ね、下方から上方へ垂直に押し上げな
がら、前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗
布する円筒状基材の塗布装置において、前記塗布装置が
前記円筒状基材の外周面から所定近距離に離間し、環状
をなす噴射塗布ヘッドを有する環状噴射塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周面と噴射塗布ヘッドの処理液
吐出用スリット部の先端との距離が１０ｍｍ以下である
ことを特徴とする円筒状基材の塗布装置（請求項４）、
及び円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上
方へ垂直に押し上げながら、環状噴射垂直塗布装置の噴
射塗布ヘッドにより、前記円筒状基材の外周面上に塗布
液を連続的に塗布する円筒状基材の塗布方法において、
前記円筒状基材の外周面と噴射塗布ヘッドの処理液吐出
用スリット部の先端との距離が１０ｍｍ以下であること
を特徴とする円筒状基材の塗布方法（請求項６）により
達成される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。

【００１１】図１は本発明による連続塗布装置の全体構
成を示す斜視図である。図において、２は円筒状基材１
を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し
上げる供給手段、３は供給された円筒状基材１の外周面
を把持して筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押
し上げて搬送する搬送手段、４は前記円筒状基材１を塗
布装置の環状塗布部の中心に位置合わせする位置決め手
段、５は前記円筒状基材１の外周面上に塗布液を連続的
に塗布する塗布手段、６は円筒状基材１上に塗布された
塗布液を乾燥させる乾燥手段、７は乾燥されて垂直搬送
されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材から分離させ
て円筒状基材を１個ずつ取り出し排出させる分離排出手
段である。

【００１２】本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を
連続して垂直中心線Ｚ−Ｚ上に配置した構成であり、人
手を要しない完全自動化生産が高精度で達成される。即
ち、前記供給手段２は前記円筒状基材１を載置するため
の複数の取り付け手段２Ａを備えた可動テーブル２Ｂ、
該可動テーブル２Ｂを回転させて前記搬送手段３へつな
がる垂直ラインへ送り込む駆動手段２Ｃ、前記搬送手段
３により既に上方に把持搬送されている円筒状基材１を
積み重なるように上方に押し上げる昇降手段２Ｄ、該昇
降手段２Ｄの上端に設けられた円筒状基材供給用のハン
ド手段２Ｅ及び前記駆動手段２Ｃによる回転や昇降手段
２Ｄによる押し上げのタイミングを制御する図示しない
制御手段等から構成されている。

【００１３】前記供給手段２の上方に設けられた搬送手
段３は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且つ垂
直上下方向に移動可能な２組の把持手段３Ａ，３Ｂを有
し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送する
機能を有する。

【００１４】前記塗布手段５は、塗布ヘッド５Ａ、送液
管５Ｂ、圧送ポンプ５Ｃ、貯留タンク５Ｄから構成され
ている。

【００１５】図２は本発明による他の実施の形態である
逐次連続塗布装置を示す斜視図である。この実施の形態
では、前記搬送手段３の上方の垂直中心線Ｚ−Ｚ上に
は、位置決め手段４１、塗布手段５１、乾燥手段６１と
から成るユニット、位置決め手段４２、塗布手段５
２、乾燥手段６２とから成るユニット、位置決め手段
４３、塗布手段５３、乾燥手段６３とから成るユニット
、を複数組垂直縦列配置したものである。最上段には
前記分離排出手段７が配置されている。各塗布手段５
１，５２，５３からそれぞれ吐出された塗布液は、円筒
状基材１上に多層の塗布層を逐次形成し、各乾燥手段６
１，６２，６３により乾燥されたのち、分離排出手段７
により把持されてた上段の円筒状基材１は、下方の円筒
状基材１から分離されて、機外のパレット上に載置され
る。

【００１６】図３〜図５は、本発明の請求項１〜３に係
わる円筒状基材の塗布装置の第１の実施の形態を示し、
図３は塗布装置の部分断面斜視図、図４は該塗布装置に
よる処理液塗布状態を示す断面図、図５は前記塗布装置
の部分拡大断面図である。

【００１７】これらの図に示されるように、垂直中心線
Ｚ−Ｚに沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材
１を連続的に矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り
囲み、円筒状基材１の外周面に対し環状スプレー塗布装
置１０により塗布液Ｌが塗布される。なお、円筒状基材
１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラ
スチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良
い。

【００１８】本発明に係わる塗布装置は、垂直型環状ス
プレー塗布装置であって、環状スプレー塗布装置（以
下、塗布ヘッドと称す）１０と、環状塗布液タンク２０
と、送液ポンプ（加圧手段）２１と、塗布液補給タンク
２２と、供給管２３と、キャリアガス加圧手段３１と、
角度調整用ガス加圧手段３２とから構成されている。前
記送液ポンプ（加圧手段）２１、キャリアガス加圧手段
３１、角度調整用ガス加圧手段３２は、制御手段３３に
より円筒状基材１への処理液塗布時の各加圧力やタイミ
ング等の条件が制御される。

【００１９】前記塗布ヘッド１０には、円筒状基材１側
に開口する幅狭のスリット状をなす塗布液吐出用スリッ
ト部（以下、スリットと略称する）１１が水平方向に環
状に形成されている。このスリット１１は、供給室部１
２、送液管２４を介して、環状塗布液タンク２０に連通
している。この環状塗布液タンク２０には、塗布液補給
タンク２２内の感光液Ｌが送液ポンプ２１により供給管
２３を介して供給されるようになっている。

【００２０】前記スリット１１の周囲には、キャリアガ
ス噴出口部１３が、前記スリット１１とほぼ平行して近
接配置されている。該キャリアガス噴出口部１３は、供
給室部１４を介して、前記キャリアガス加圧手段３１に
連通している。該キャリアガス加圧手段３１により圧送
される高圧ガスは、前記供給室部１４を介して、キャリ
アガス噴出口部１３から噴出する。前記キャリアガス噴
出口部１３からのキャリアガス噴出により、近接する前
記スリット１１内から吐出された処理液は霧状に噴射さ
れて、円筒状基材１の外周面上に塗布され、均一な塗布
層が形成される。

【００２１】さらに、前記キャリアガス噴出口部１３の
近傍には、噴出ガス角度調整用吐出口部（以下、ガス吐
出口部と称す）１５が開口している。該ガス吐出口部１
５は、前記角度調整用ガス加圧手段３２に接続し、高圧
ガスを前記スリット部１１に対向する円筒状基材１の外
周面の方向にほぼ向けて噴射する。該ガス吐出口部１５
から噴射された高圧ガスは、前記キャリアガス噴出口部
１３から噴出された高圧のキャリアガスに衝突して、キ
ャリアガスの拡散方向を偏向することにより、前記スリ
ット１１から吐出される処理液の流路を最適条件にす
る。

【００２２】図３における前記塗布ヘッド１０のスリッ
ト１１の間隙ｔ１は、０．３〜１．５ｍｍが良く、０．
３ｍｍより小では塗布ムラができやすく、１．５ｍｍよ
り大だと液だれが生じやすい。好ましくは０．２〜１．
２ｍｍが良い。

【００２３】円筒状基材１とスリット１１の先端部間の
距離ｄ１は５〜２００ｍｍが良い。５ｍｍより小さい
と、噴射力が強すぎ処理液の跳ね返りが生じるおそれが
あり、２００ｍｍを越えると塗布ムラができやすい。

【００２４】キャリアガス圧は０．１〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ、塗布液の流出速度は０．０１〜１０ｃｃ／ｓｅｃが
良い。

【００２５】本塗布方法では、ドラム回転部が不要であ
り、回転部によるゴミ飛散汚染はない。また、送液量の
ほぼすべてが円筒状基材１上に塗布され、円筒状基材１
表面が粗面であっても、また円筒状基材１とスリット１
１との距離ｄ１が多少ズレていても良好に塗布できる利
点がある。

【００２６】更に、本発明の塗布装置は４０ｍｍ／ｓｅ
ｃ以上の高速塗布にも対応できる。

【００２７】図６（ａ）は、本発明の請求項１〜３に係
わる円筒状基材の塗布装置の第２の実施の形態を示す部
分断面斜視図、図６（ｂ）は、塗布液吐出用ノズル部周
辺の拡大図である。

【００２８】前記環状スプレー塗布装置（塗布ヘッド）
１０は、複数の塗布ヘッドユニット１００に分割され、
該塗布ヘッドユニット１００が放射状に配置された集合
体をなす。各塗布ヘッドユニット１００には、塗布液吐
出用ノズル１１０、該塗布液吐出用ノズル１１０を中心
にして環状に配置されたキャリアガス噴出口部１３０、
該キャリアガス噴出口部１３０のさらに外方に環状に配
置された噴出ガス角度調整用吐出口部（ガス吐出口部）
１５０が設けてある。前記各塗布液吐出用ノズル１１０
は送液管２４を介して環状塗布液タンク２０に連通して
いる。また、各キャリアガス噴出口部１３０は、前記キ
ャリアガス加圧手段３１に連通している。各噴出ガス角
度調整用吐出口部１５０は、前記角度調整用ガス加圧手
段３２に接続している。

【００２９】前記塗布液吐出用ノズル１１０の出口部直
径は、０．３〜１．５ｍｍが良い。０．３ｍｍより小さ
いと塗布ムラが発生し易く、１．５ｍｍより大であると
液ダラが発生し易い。したがって、出口部直径は、０．
３〜１．５ｍｍ、好ましくは、０．２〜１．２ｍｍが良
い。

【００３０】図７は、本発明の請求項４〜６に係わる円
筒状基材の塗布装置の第３の実施の形態を示す断面図で
ある。なお、この図面に使用されている符号について、
図４と同じ機能を有する部分には、同符号を付してい
る。

【００３１】この実施の形態は、前記環状塗布液タンク
２０を前記環状スプレー塗布装置（塗布ヘッド）１０内
に設けたものである。即ち、前記スリット１１に連通し
て環状をなす環状塗布液トラップ室１６がスリット１１
の周囲を取り囲んでいる。該環状塗布液トラップ室１６
内には、前記処理液補給タンク２２内の処理液が前記圧
送ポンプ２１により供給管２３を介して送り込まれる。

【００３２】なお、前記円筒状基材１とスリット１１の
先端部間の距離ｄ１が、前記の２００ｍｍより大きく、
スリット１１から噴出される処理液の圧力が充分大きい
場合には、前記キャリアガス噴出口部１３及び噴出ガス
角度調整用吐出口部１５の何れかまたは両方を省略する
こともできる。

【００３３】この実施の形態は、塗布液補給タンク２２
から送液ポンプ２１により供給管２３を経て、塗布ヘッ
ド１０に送られてｄ２なる間隙を介して、塗布液吐出用
スリット部１１より塗布液を噴出させて、塗布層を形成
するものである。なお、環状塗布液タンク（トラップ
室）２０は、前記塗布ヘッド１０内に設けてある。

【００３４】従来の押し出しコーターは、円筒状基材１
と塗布ヘッドとの間にビードを形成して、塗布液を塗布
するものであるが、本発明のスプレー塗布は、ビードを
形成せず、噴射によって塗布するものである。

【００３５】この実施の形態は、円筒状基材１と前記ス
リット１１の先端部間の距離ｄ２を、前実施の形態１に
おける距離ｄ１より小さく設定したものである。

【００３６】前記塗布ヘッド１０のスリット１１の間隙
ｔ２は０．１ｍｍ〜１．５ｍｍが良く、０．１ｍｍより
小では塗布ムラが大きくなり、１．５ｍｍより大だと液
だれが生じやすい。好ましくは０．２〜１．２ｍｍが良
い。

【００３７】円筒状基材１とスリット１１先端部間の距
離ｄ２は１〜１０ｍｍが良い。１ｍｍより小であると、
塗布開始時に、スリット１１の中心軸が正確に設置され
ていないと、円筒状基材１の外周面に接触するおそれが
あり、１０ｍｍを越えると塗布ムラができやすい。

【００３８】本塗布方法では円筒状基材１とスリット１
１先端部間距離ｄ２が前記ｄ１より近接している為、送
液量すべてが円筒状基材１上に塗布され、円筒状基材１
表面が粗面であっても、また円筒状基材１とスリット先
端部間距離ｄ２が多少ズレていても良好に塗布できる利
点がある。また、スプレーとして加圧エアーを使用しな
いため、塗布液噴射が弱く、重層塗布時に、下層を変形
することないから、重層塗布時に好適である。

【００３９】更に、本発明の塗布装置は４０ｍｍ／ｓｅ
ｃ以上の高速塗布にも対応できるし、また先行する円筒
状基材１と後続する円筒状基材１間のいわゆる非画像部
を塗布しないよう塗布部のオン−オフ対応にも追従でき
る。即ち、円筒状基材間の端面に塗布された処理液を剥
離する工程が不要となる。

【００４０】次に、実施例について本発明を説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。

【００４１】図８は、本発明の請求項４〜６に係わる円
筒状基材の塗布装置の第４の実施の形態を示す平面断面
図である。

【００４２】この実施の形態は、塗布ヘッド１０の内部
に環状塗布液トラップ室１６を設け、該環状塗布液トラ
ップ室１６の一方の端部に複数の塗布液噴射用ノズル１
７を環状に配置したものである。前記塗布液補給タンク
２２から前記送液ポンプ２１により供給管２３を介して
前記環状塗布液トラップ室１６内に送り込まれた高圧の
塗布液は、前記複数の塗布液噴射用ノズル１７から噴射
されて、円筒状基材１の外周面に塗布される。

【００４３】（実施例１）（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。

【００４４】前記支持体上に下記の塗布液組成物ＵＣＬ
−１、ポリマー濃度（ｗｔ％）を調製し、図１に記載の
如くの連続塗布装置を用いて、図６の塗布ヘッドを用
い、距離ｄ１を３〜３００ｍｍに変化させて塗布し、塗
布ドラムＮｏ．１−１〜５を得た。なお円筒状基材の移
動速度は５０ｍｍ／ｓｅｃで行った。乾燥膜圧は０．３
μｍであった。

【００４５】ＵＣＬ−１塗布液組成物共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００東レ社製）１ｇメタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）１０００ｇ結果を表１に示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】距離ｄ１＝５〜２００ｍｍの範囲で塗布性
は良好であり、塗布ムラや膜厚変動は見られなかった。

【００４８】（実施例２）前記実施例１で塗布したＵＣ
Ｌ−１塗布液組成物上に、下記の如く各塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−１、ＣＧＬ−２及びＣＧＬ−３を調製し、それぞ
れ図１及び図３に記載の如くの連続塗布装置を用いて塗
布し、それぞれ塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−３を得
た。なお、円筒状基材の移動速度は２５ｍｍ／ｓｅｃで
行った。

【００４９】ＣＧＬ−１塗布液組成物フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）２５ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）１０ｇメチルエチルケトン１４３０ｍｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００５０】ＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００５１】ＣＧＬ−３塗布液組成物Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）１００ｇシリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０信越化学社製）１００ｇｔ−酢酸ブチル１００００ｍｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミル
を用いて１７時間分散したもの。

【００５２】

【化１】

【００５３】塗布結果を表２に示す。

【００５４】

【表２】

【００５５】距離ｄ１＝５０ｍｍで、重層塗布性は良好
であり、塗布ムラや膜厚変動は見られなかった。

【００５６】なお、比較例として特開昭６２−７５４５
８号公報の実施例と同様にして上記塗布液を塗布したが
スプレー開始と最後の塗布ムラを拾い色ムラが発生し
た。

【００５７】（実施例３）前記実施例２の塗布ドラムＮ
ｏ．２−２上に下記の如く塗布液組成物ＣＴＬ−１を調
製し、図１及び図７に記載の如くの塗布装置を用いて、
距離ｄ２を０．５〜１５ｍｍの範囲で変化させ、膜厚２
０μｍの塗布ドラムＮｏ．３−１〜３−５を得た。なお
基材の移動速度は１５ｍｍ／ｓｅｃで行った。

【００５８】ＣＴＬ−１塗布液組成物ＣＴＭ−１５０００ｇポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）５６００ｇ１，２−ジクロロエタン２８０００ｍｌ

【００５９】

【化２】

【００６０】塗布結果を表３に示す。

【００６１】

【表３】

【００６２】塗布ムラや膜厚変動もなく、重層塗布性は
良好であった。

【００６３】（実施例４）導電性支持体としては鏡面加
工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウ
ムドラム支持体を用いた。

【００６４】前記支持体上に実施例１のＵＣＬを、この
上に実施例２のＣＧＬ−２を、更にこの上に実施例３の
ＣＴＬ塗布組成物ＣＴＬ−１を図２に記載の如くの塗布
装置を３段、離して積み重ねたいわゆる逐次塗布装置
（前記図７に示す塗布ヘッドを３段配置した装置）によ
り塗布し、感光体ドラムを得た。

【００６５】重層塗布性は良好であり、色ムラや塗布ム
ラ等は見られなかった。この感光体ドラムを用いて実写
したところ膜厚ムラ等の画像故障は見られなかった。

【００６６】

【発明の効果】本発明（請求項１〜３の発明）の塗布装
置及び塗布方法によるときは、（１）円周方向の塗布ム
ラが無い、（２）ドラム回転装置が不要である、（３）
高速塗布に対応できる、（４）表面粗さの大きな感光体
ドラム塗布にも対応できる、（５）円筒状基材と塗布ヘ
ッド間の間隙の許容度が厳しくない、等の優れた効果が
得られる。

【００６７】本発明（請求項４〜６の発明）の塗布装置
及び塗布方法によるときは、上記（１）〜（５）の効果
のほかに、（６）円筒状基材と円筒状基材間の塗布不要
部分を塗布しなくても良いようにでき、塗布の立ち上が
りや停止特性がよい等の優れた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による連続塗布装置の全体構成を示す斜
視図。

【図２】本発明による他の実施の形態である逐次連続塗
布装置を示す斜視図。

【図３】塗布装置の部分断面斜視図。

【図４】上記塗布装置による処理液塗布状態を示す断面
図。

【図５】塗布装置の部分拡大断面図。

【図６】本発明による円筒状基材の塗布装置の第２の実
施の形態を示す部分断面斜視図及び塗布液吐出用ノズル
部周辺の拡大図。

【図７】本発明による円筒状基材の塗布装置の第３の実
施の形態を示す断面図。

【図８】本発明による円筒状基材の塗布装置の第４の実
施の形態を示す平面断面図。

【符号の説明】

１円筒状基材５，５１，５２，５３塗布手段１０環状スプレー塗布装置（塗布ヘッド）１１塗布液吐出用スリット部（スリット）１３，１３０キャリアガス噴出口部１５，１５０噴出ガス角度調整用吐出口部（ガス吐出
口部）１６環状塗布液トラップ室１７塗布液噴射用ノズル２０環状塗布液タンク２１送液ポンプ（加圧手段）２２塗布液補給タンク３１キャリアガス加圧手段３２角度調整用ガス加圧手段３３制御手段１００塗布ヘッドユニット１１０塗布液吐出用ノズルＬ塗布液

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下方から上方へ垂直に押し上げながら、前記円筒状基材
の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の塗
布装置において、前記塗布装置が前記円筒状基材の外周面から所定距離離
間し、環状をなすスプレー塗布ヘッドを有する環状スプ
レー塗布装置であることを特徴とする円筒状基材の塗布
装置。
【請求項２】前記円筒状基材の外周面とスプレー塗布
ヘッドの処理液吐出用スリット部の先端との距離が５〜
２００ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の円
筒状基材の塗布装置。
【請求項３】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下方から上方へ垂直に押し上げながら垂直型環状スプレ
ー塗布装置により、前記円筒状基材の外周面上に塗布液
を連続的または断続的に塗布する円筒状基材の塗布方
法。
【請求項４】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下方から上方へ垂直に押し上げながら、前記円筒状基材
の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の塗
布装置において、前記塗布装置が前記円筒状基材の外周面から所定近距離
に離間し、環状をなす噴射塗布ヘッドを有する環状噴射
塗布装置であって、前記円筒状基材の外周面と噴射塗布
ヘッドの処理液吐出用スリット部の先端との距離が１０
ｍｍ以下であることを特徴とする円筒状基材の塗布装
置。
【請求項５】前記円筒状基材と噴射塗布ヘッドの処理
液吐出用スリット部の先端との距離が１〜１０ｍｍであ
ることを特徴とする請求項４に記載の円筒状基材の塗布
装置。
【請求項６】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下方から上方へ垂直に押し上げながら、環状噴射垂直塗
布装置の噴射塗布ヘッドにより、前記円筒状基材の外周
面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の塗布方法
において、前記円筒状基材の外周面と噴射塗布ヘッドの処理液吐出
用スリット部の先端との距離が１０ｍｍ以下であること
を特徴とする円筒状基材の塗布方法。