JP2006043702A - 円筒状基材の位置決め方法及びその位置決め装置 - Google Patents

円筒状基材の位置決め方法及びその位置決め装置 Download PDF

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Nobuaki Kobayashi
信昭 小林
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淳二 氏原
Masanari Asano
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Abstract

【課題】 円筒状基材の塗布膜の膜厚変動がなく、ビード切れのない優れた塗布方法及びその塗布装置を提供。
【解決手段】 塗布液を分配する環状のスリットを形成する塗布液分配スリットの入口開口部より塗布液を供給し、前記入口開口部の内方に設けた塗布液分配スリットの出口開口部より塗布液を流出させ、前記出口開口部より内方で下側に傾斜し円筒状基材の外周面に近接した環状端部まで延びるホッパー面に塗布液を流出させ、前記ホッパー面に対し前記円筒状基材を上方向に垂直移動させながら、前記円筒状基材の外周面と前記ホッパー面の環状端部との間に連続的に塗布液を供給して前記円筒状基材の外周面上に塗布し塗布膜を形成する塗布方法において、前記ホッパー面の環状端部の真円度をHRD(μm)としたとき、1.0<HRD<10なる条件を満足する前記ホッパー面の環状端部に塗布液を流すことを特徴とする塗布方法である。
【選択図】 図1

Description

本発明は円筒状基材(感光体ドラムともいう)の位置決め方法、円筒状基材の位置決め装置に関する。さらに詳しくは、複数の円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する際に、前記円筒状基材を位置決めする方法及びその装置に関し、このような位置決め方法及び装置は、特に円筒状基材に塗布液を塗布することにより、電子写真感光体を製造する際に、円筒状基材を正確に位置決めに好適に用いられる。
電子写真装置で使用される感光体である有機光導電体感光体ドラム(円筒状基材)の製造においては、円筒形状のドラムに感光性の塗布液を塗布する。その塗布に当たっては、円筒状基材の周面にスライドホッパーを所定位置に位置せしめ、両者間の隙間を周方向に関して一定に保持する調整作業が必要となる。この場合、所要の塗布膜厚は極めて薄いため、円筒状基材が0.1mmずれても周方向に関し、円筒面全体として塗膜層の膜厚の大きな偏差要因となる。かかる塗膜層の膜厚偏差があると、円筒状基材の周方向で帯電量の変化、感度の不均一、残留電位の変化等の各種不具合が生じる。従って、円筒状基材の正確な位置決めが極めて重要となる。
従来、この種の円筒状基材の位置決め装置としては、例えば特許文献1に記載のように、支持部材に回転自在に設けた位置規制コロを円筒状基材の外周に接触させて設けたものがある。また、特許文献2及び特許文献3には、エアベアリングを使用した感光体ドラム(円筒状基材)の位置決め装置が開示されている。
特開昭60−50537号公報 特開平3−280063号公報 特開平4−73655号公報
上記のコロ接触式の従来の位置決め装置は、位置規制コロを直接、円筒状基材に対して接触させながら位置決めするものであるので、円筒状基材に傷がついてしまうという難点があった。また円筒状基材に傷がつくと、感光体ドラム(円筒状基材)として利用する場合、電子写真の特性が悪化する。上記エアベアリング式の位置決め装置は、空気等を吹付ノズルから吹き付けて位置決めを行うのであるが、今だ導入部でこすれたりすることがあった。
本発明の目的は、円筒状基材に傷を付けることなく、円筒状基材の位置決めを行うとともに、円筒状基材の相互間の繋ぎ部分における円筒状基材の位置ずれを防止する円筒状基材の位置決め方法及び装置を提供することにある。
上記の目的は下記の何れかによって達成される。即ち、
(1)、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する工程において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け部を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め方法において、
前記円筒状基材が、前記位置決め手段の少なくともフッ素樹脂材で形成される導入部より導入されることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
(2)、前記位置決め手段の前記導入部にテーパーを設け円筒状基材を導入し位置決めすることを特徴とする(1)に記載の円筒状基材の位置決め方法。
(3)、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する工程において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め方法において、
前記円筒状基材の表面とこれに対向する吹き付け手段の吐出口との隙間が、20μm〜3mm、吐出する流体の毎分当たりの流体量が0.1〜50m3/minであり、且つ前記位置決め手段はフッ素樹脂材で形成されるテーパー状の導入部を備え、前記円筒状基材が前記導入部より導入されることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
(4)、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の位置決め装置において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め装置において、
前記位置決め手段がフッ素樹脂材で形成される導入部を備えたことを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
(5)、前記位置決め手段の前記導入部にテーパーを有することを特徴とする(4)に記載の円筒状基材の位置決め装置。
(6)、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の位置決め装置において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め装置において、
前記円筒状基材の表面とこれに対向する吹き付け手段の吐出口との隙間が、20μm〜3mm、吐出する流体の毎分当たりの流体量が0.1〜50m3/minであり、前記位置決め手段はフッ素樹脂材で形成されるテーパー状の導入部を備えたことを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
(7)、前記垂直塗布装置がスライドホッパー型塗布装置であることを特徴とする(4)、(5)又は(6)に記載の円筒状基材の位置決め装置。
(8)、前記円筒状基材の外周面上に吹き付ける流体が、温度20〜24℃、湿度10〜65%RHの空気であることを特徴とする(4)、(5)、(6)又は(7)に記載の円筒状基材の位置決め装置。
請求項1から3に記載の円筒状基材の位置決め方法によれば、円筒状基材上に塗布された感光膜厚の変動が極めて微小となる。また円筒状基材への塗布液の塗布性が良好になる。また円筒状基材の表面の傷発生が解消された。また塗布装置の塗布液吐出部(コータ)を損傷させることがない。さらに円筒状基材の位置決め精度が向上できる。
請求項4から8に記載の円筒状基材の位置決め装置によれば、前記位置決め方法と同様な効果を奏する。
図1は連続塗布装置の全体構成を示す正面図で、図2は図1の塗布手段の断面図で、図3は図1の塗布手段の斜視図をそれぞれ示す。
図1で、供給手段140は円筒状基材1を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し上げる。積載案内部材141は円筒状基材1を積載する案内部材で、テーブル142は円筒状基材1を回転する。また、駆動手段143は防振台181の上に設けられテーブル142を駆動している。さらに昇降部材144は防振台182の上に設けられ円筒状基材1を上下方向に昇降する。
搬送手段120は供給された円筒状基材1の外周面を把持して円筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押し上げて搬送する。防振台183の上に設けられたモータM3によりボールネジ124が回転して、上下移動手段123を上下動させ、把持手段121を移動させる。同様にしてモータM4によりボールネジ124が回転して、上下移動手段123を上下動させ、把持手段122を移動させる。
位置決め手段20はエアーベアリング式で、空気等の吹付けノズルから吹き付け、円筒状基材1を塗布手段の環状塗布部の中心に位置合わせする。
塗布手段30は、円筒状基材1に塗布液を塗布する。詳しくは図2で説明する。
乾燥装置150は環状に形成した乾燥装置となっており、装置本体170に固定されている。円筒状基材1は塗布された塗布膜が乾燥される。
分離排出手段160は乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材1からを分離させて1個ずつ取り出し排出する。垂直移動ロボットステージ161の軸体162には上チャック163と下チャック164があり、円筒状基材1をチャックしてエヤーシリンダ165で上下駆動する。
次に、図2で、塗布手段30について説明すると、塗布液供給手段である送液ポンプ6は塗布液タンク5の塗布液11を塗布液供給口6aに供給する。塗布液分配室7は円筒状基材1a、1b・・の周囲を環状にとり囲み設けられ、送液ポンプ6により供給される塗布液11を液溜めする。塗布液分配スリット8は塗布液供給手段より供給された塗布液を環状の入口開口部より入れ、前記入口開口部より内方の塗布液分配スリット8の環状の出口開口部9より流出させ塗布液11を分配する。搬送手段120はホッパー面4に対し前記円筒状基材1a、1b・・を把持して上方に垂直移動させる。ホッパー面の環状端部4bの真円度HRD(μm)は1.0<HRD<10の範囲にある。また、ホッパー面の環状端部4bの十点平均表面あらさRZ(μm)は0.1<RZ<5.0の範囲にある。また塗布部での円筒状基材最大振動巾VRはVR=40μm以下の範囲にある。ホッパー面4は前記環状の出口開口部9より内方で下側に傾斜し円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接した環状端部4bまで延びて円錐状となっている。
円筒状基材とホッパー面の環状端部との隙間GP(μm)は50<GP<500の範囲にある。この範囲に収めないと、垂直方向に積み重ね誤差変動が加わるので、コータや位置決め部にこすれたりして多数本の連続塗布ができなくなる。また、塗布液の粘度V(ミリパスカル・秒)は1.0<V<300の範囲にある。円筒状基材1の真円度CRD(μm)はCRD<30の範囲にある。なお、円筒状基材1a、1b・・としては中空ドラム、例えば、アルミニウムドラム、プラスチックドラムの他、シームレスベルト型の円筒状基材でも良い。薄膜塗布とはウエット(Wet)膜厚が20μm以下のものをいう。
ここで、円筒状基材の塗布方法を説明する。供給工程では前記所定の諸元値に入った円筒状基材1はテーブル142上に置かれる。円筒状基材1はテーブル142の回転によりYY軸上に達する。この時、昇降部材144が下方より上方へ円筒状基材1を押し上げる。昇降部材144による押し上げが完了する時緩衝機構が作用し、円筒状基材1との接合時のショックを無くするのが良い。円筒状基材1が搬送工程のところまで運び込まれる。
搬送工程では、円筒状基材1の外周面に圧接離間可能で且つ垂直上下方向に移動可能な2組の把持部121、122を有し、円筒状基材1を位置決めして把持し上方に搬送する。
位置決め工程では、円筒状基材1はエヤーシリンダ方式により正確に位置決めされ、位置決めされた円筒状基材1は塗布工程へと移行される。
塗布工程では塗布液タンク5にある所定の諸元値に入った塗布液11を送液ポンプ6で塗布液供給口6aに供給する。塗布液11は塗布液分配室7で液溜めした後に、塗布液分配スリット8の入口開口部より出口開口部9に流す。そして、塗布液11は出口開口部9より内方で下側に傾斜し円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接した環状端部まで延びるホッパー面4に流す。
ホッパー面4に対し円筒状基材1a、1b・・を上方向に垂直移動させながら、円筒状基材1a、1b・・の外周面とホッパー面4の環状端部との間に連続的に塗布液11を供給して前記円筒状基材1a、1b・・の外周面上に塗布し塗布膜2を形成する。
乾燥工程では塗布された円筒状基材1を乾燥装置内を通り乾燥する。さらに、分離排出工程では円筒状基材1を分離して排出される。
次に、図4は、同時重層塗布装置の構成断面図で、塗布装置を同時に重層塗布する装置である。図1と機構的、機能的に同じ部材は同一符号を付すとともに説明を省略する。
図4で、塗布液供給手段は送液ポンプ61で前記諸元値に入った塗布液111を塗布液分配スリット81に供給する。塗布液分配スリット81は塗布液111を円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み設けられた出口開口部9に流出し分配する。
同時重層の塗布方法について説明すると、前記諸元値に入った塗布液11を供給して前記諸元値に入った円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み出口開口部9に流出する。そして出口開口部9より円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接する前記諸元値に入ったホッパー面4に流す。
さらに、塗布液111を供給して塗布液111を分配し円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み出口開口部91に流出する。出口開口部91より円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接するホッパー面4に流す。
円筒状基材1a、1b・・をホッパー面4に対し上方で垂直方向に移動させる。ホッパー面4を流れた塗布液111を上方に移動する円筒状基材1a、1b・・の外周面に塗布液11を塗布し塗布膜2、2Aを同時に形成する。
以上の如く塗布するので、膜厚変動のない、ビード切れのない、優れた塗布膜を形成する。
次に、図5は、逐次重層塗布装置の構成断面図で、塗布装置を上下に配置した逐次重層塗布する塗布装置である。図1と機構的、機能的に同じ部材は同一符号を付すとともに説明を省略する。
図5で、塗布液供給手段は送液ポンプ62で前記諸元値に入った塗布液112を塗布液分配スリット82に供給する。塗布液分配スリット82は塗布液112を前記諸元値に入った円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み出口開口部92に流出するように分配する。前記諸元値に入ったホッパー面42は前記出口開口部92より円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接する環状端部42bまで延びている。
ここで、逐次重層の塗布方法について説明すると、前記諸元値に入った塗布液11を供給して塗布液11を分配し前記諸元値に入った円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み出口開口部9に流出する。流出する塗布液11を前記出口開口部9より円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接するホッパー面4に流す。円筒状基材1a、1b・・を前記諸元値に入ったホッパー面4に対し上方で垂直方向に移動させる。ホッパー面4を流れた塗布液11を上方に移動する円筒状基材1a、1b・・の外周面に塗布液11を塗布し塗布膜2を形成する。
塗布液112を供給して前記諸元値に入った塗布液112を分配し前記諸元値に入った円筒状基材1a、1b・・の外周面を取り囲み出口開口部92に流出する。流出する塗布液112を出口開口部92より円筒状基材1a、1b・・の外周面に近接する前記諸元値に入ったホッパー面42に流す。
円筒状基材1a、1b・・をホッパー面42に対し上方で垂直方向に移動させる。ホッパー面4を流れた塗布液112を上方に移動する円筒状基材1a、1b・・の外周面に塗布液112を塗布し塗布膜2Aを形成する。
なお、上記逐次重層の塗布装置は2つの塗布ヘッド32を設けたものであるが、更に塗布ヘッド32の上部に別の塗布ヘッドを設け塗布ヘッドが3つの逐次重層の塗布装置としてもよい。
図6は、本発明による位置決め装置と垂直塗布装置の縦断面図である。前記垂直塗布装置は、中心線Oに沿って垂直状に重ね合わせた円筒状基材1a、1bに塗布液2Aを塗布する垂直塗布装置10Aと、前記垂直塗布装置10Aの下方に固設された円筒状基材の位置決め装置20と、前記垂直塗布装置10Aの上方に設置された乾燥フード30Aと、前記位置決め装置20の下部に固定された支持装置40Aとから構成されている。
垂直塗布装置10Aの内部には、円筒状基材1aの外周を取り囲み塗布液を塗布する塗布ヘッド30、前記塗布ヘッド30に隣接するテーパー状の塗布液流出口(塗布液スライド面)12A、水平方向の幅狭の塗布液通路を形成する塗布液分配用スリット13A、塗布液分配室14Aが形成されている。前記塗布液分配室14Aには塗布液供給パイプ16Aが接続され、図示しない圧送ポンプにより塗布液が供給される。
上記垂直塗布装置10Aによる塗布方法は、垂直塗布装置10Aを固定し、前記円筒状基材1aを中心線Oに沿って矢示方向に上昇移動させながら円筒状基材1aの上端部より塗布ヘッド30により塗布を行う。
前記垂直塗布装置10Aには、圧送ポンプにより一定量の塗布液が安定して送り込まれ、塗布液供給パイプ16A、塗布液分配室14A、塗布液分配用スリット13A、塗布液流出口12Aを経て、塗布ヘッド30に供給され、円筒状基材1aの表面に塗布液が塗布され感光層が形成される。
前記垂直塗布装置10Aの上部には、環状に形成した乾燥装置150が固定されている。垂直塗布装置10Aにより形成された円筒状基材上の感光層は、前記乾燥装置150内を通過しながら塗布された塗布液2Aを徐々に乾燥させる。乾燥は塗布液に含まれる溶媒を外部に放出させることにより行なわれる。
前記垂直塗布装置10Aの下部には、円筒状基材の位置決め装置20が固定されている。図7(a)は図6における円筒状基材の位置決め装置のP−P断面図(給気部)、図7(b)はQ−Q断面図(排気部)である。
円筒状基材の位置決め装置20は、外筒部材21Aと、前記外筒部材21Aの内部に固定された内筒部材22Aとから構成されている。外筒部材21Aと内筒部材22Aには、両部材を貫通する複数の給気口23Aと、複数の排気口26Aが穿設されている。前記複数の給気口23Aは、給気ポンプ29Aに接続され、空気等の流体が圧送される。
図6及び図7(a)に示す如く、外筒部材21Aには、給気口23Aが水平方向に4個の放射状に配置され、さらに垂直方向に複数段(図示5段)配列されている。前記外筒部材21Aの内周面には水平溝24Aが穿設されていて、前記内筒部材22Aの外周面との間に水平流路を形成し、前記水平方向に放射状に配置された4個の給気口23Aに連通している。前記内筒部材22Aには、水平方向に12個の吐出口25Aを有する穴が貫通している。前記吐出口25Aは前記円筒状基材1の外周面と隙間Gを保って対向している。前記隙間Gは、20μm〜3mm、好ましくは30μm〜2mmである。この隙間Gが20μmより小さいと、円筒状基材1の僅かな振れで内筒部材22Aに接触して円筒状基材1を傷つけやすい。また、隙間Gが3mmより大であると、円筒状基材1の位置決め精度が低下する。前記吐出口25Aは直径0.01〜1.0mmの小口径のノズルであり、好ましくは0.05〜0.5mmが良い。
図6及び図7(b)に示す如く、前記外筒部材21A及び内筒部材22Aを貫通して、排気口26Aが水平方向に4個の放射状に配置され、さらに垂直方向に複数段(図示5段)配列されている。前記排気口26Aは垂直方向に前記給気口23Aと交互に配列されている。内筒部材22Aの内周面には、垂直溝27Aが穿設されていて、前記複数段の排気口26Aを連通している。
前記内筒部材22Aの下部の内周面は、フッ素樹脂材であるテフロン(登録商標)が内張りされており、入り口側が広がったテーパー面28Aになっている。このテーパー面28Aは、例えば軸方向の長さが50mmで、片側傾斜角が0.5mmの円錐面である。このテーパー面28Aのテーパー比は、0.005〜0.2、好ましくは0.01〜0.1である。このテーパー面28Aを設けた場合、円筒状基材1が水平移動または傾斜して位置決め装置20に進入する際に位置規制されるから有効である。このテーパー面28Aを設けることにより、円筒状基材1が内筒部材22Aに進入するとき、円筒状基材1の先端部が内筒部材22Aの内周面に接触することを防止している。また、別の例では円筒部材22A自体がフッ素樹脂材であるテフロン(登録商標)となっている。最も接触し易いのは導入部であるが、たとえ接触しても導入部材質がフッ素樹脂(比較的軟らかく、滑り性良い)なので傷が付きにくい。
前記給気ポンプ29Aから圧送された流体は、複数の給気口23Aから外筒部材21A内に導入されて、水平溝24Aを介して複数の吐出口25Aから吐出され、円筒状基材1a(1b)の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流体は垂直溝27Aを経て複数の排気口26Aから装置外に排出される。
前記給気口23Aに供給される流体は、空気、不活性ガス例えば窒素ガスが良い。そして前記流体は、JIS規格でクラス100以上の清浄な気体が良い。
また、前記給気口23Aに供給される毎分当たりの流体量は、0.1〜50m3/minが好ましい。流体量が0.1m3/minより小であると、円筒状基材1の位置決め精度が極端に悪化し、50m3/minより大になると、風量の影響が強く出て、積み重ねられた円筒状基材1が振動し、液膜が不均一となる。このため特に、毎分当たりの流体量は、0.2〜20m3/minが好ましい。ここで、規制供給する流体量は、流体圧規制でなく流体量制御にしないと、塗布直後の液膜への影響(膜厚むら等)が発生する。なお、毎分当たりの流体量は、位置決め装置20の給気口23Aの入り口で測定した。また、前記複数の給気口23Aに供給される毎分当たりの流体量は、軸方向の給気口23Aの流量が同じか、下方より上方の流量が多い方が良い。上記位置決め装置20は、後述の図10(b)、(c)、(d)に示す如く、2つ以上を連結して用いてもよい。
なお、本発明の位置決め装置に接続される垂直塗布装置としては、スライドホッパー型、押し出し型、リングコータ、スプレー塗布等の各種装置が用いられる。
図12は乾燥装置の全体配置図で全体配置を説明すると、コータ30は塗布を行うためのコータであり、円筒状基材1は電子写真感光体基体のアルミニウム製の中空のドラムである。円筒状基材1は下方に上下方向に積み重ねられ、矢印の方向(上方)に搬送される。コータ30を通過することにより塗布された円筒状基材1はそのまま搬送されて、乾燥装置150を通り、塗布膜2の溶媒を除去するものである。
図13はコータの一部切断斜視図で、図14は円筒状基材とコータの塗布時の状態を表す断面図である。図13、図14でコータ30は円筒状基材に塗布液を塗布する。塗布液分配室7から塗布液分配スリット8を通りホッパー面4を流下して流延する塗布液は円筒状基材1のドラム表面に塗布膜2を形成して行く。
図15は乾燥装置の断面図である。図15で乾燥装置150は吸引スリット16B、吸引チャンバー12B、吸引ノズル15Bを有する吸引スリット部材(吸引部材)18Bの下部に筒状部材9B、上部に筒状部材10Bがそれぞれ同心に結合されている。
筒状部材の全長をL0、前記筒状部材の円筒状基材の挿入開口部より前記吸引部材までの距離をL1としたとき、0.5<L1/L0<1.0である。より好ましくは0.6<L1/L0<0.9である。
そして、複数設けられた吸引ノズル15Bから吸引を行ない、周方向均一な吸引チャンバー12B、周方向均一な吸引スリット16Bにより周方向の均一化がなされた吸引エアーが流れ、更に、吸引スリット部材18B、その上下の筒状部材10B、9Bの各内径面と塗布済みの円筒状基材1の外周面との間の空気流の乱れをバッファー空間13Bで極僅かにおさえて、14Bに示す乾燥のための均一吸引エアーの空気流を作り出している。この乾燥ゾーンに矢印で示す方向に塗布済の円筒状基材1を搬送することにより、塗布膜の乾燥を行うものである。
この乾燥装置は二重円筒の間を流れる風により乾燥が促進されるものであるが、塗布膜より蒸発する溶媒のガス濃度が高くなりすぎると乾燥効率が低下してしまうため、円筒内空気の溶媒のガス濃度が飽和状態にならない様に風量(風速)と円筒長さ及び円筒部長での吸引部を中心部からさける必要がある。
塗布膜の溶剤の蒸発速度は、溶剤の蒸気圧、気温、雰囲気の蒸気密度等によって左右される。この中で蒸気圧は、溶剤固有の物性であり、気温は塗布室の温度で決まるため、乾燥を促進させるには蒸気密度を下げればよい。塗膜に空気流を当てることによって、蒸気密度を低下させ、風乾の促進をはかることが可能になる。
塗布直後の溶媒の蒸発速度の速い時は塗布膜は風による影響を受けやすい。ある程度乾燥が進むと風による影響が小さくなる一方、同時に蒸発の潜熱により円筒状基材の温度低下が発生する。室温の空気をより多く流すことにより円筒状基材の温度低下を補正すると共に、円筒内の溶媒のガス濃度を下げる意味からも風量を上げることが望ましい。
円筒状基材の塗装膜の均一乾燥を行うためには周方向の吸引速度が均一であることが要求される。風速が周方向で相違を生じた場合、乾燥スピードが周方向で違うために、塗布膜にまだらな模様が発生する等の問題が起こるが、周方向の風速(風量)をコントロールするために、周方向に均一の圧力損失を持たせることにより、その目的を達成している。
図16の吸引スリットを設けた吸引部材の一部破断斜視図に示すリング状に形成される容量を持つ吸引チャンバー12Bと周方向均一の吸引スリット16Bを用い、圧力損失の少ない前記チャンバー部分を負圧とし、前記周方向均一の吸引スリット16Bを圧力損失部材とした。
また、周方向均一吸引の手段としては周方向均一スリットの代わりとして、図17のパンチ板を設けた吸引部材の一部破断斜視図に示すようなパンチ板19Bや、図18のメッシュを設けた吸引部材の一部破断斜視図に示すようなメッシュ20Bを用いることによってもその目的を達成し得る。なお、円筒内の風量、風速を変えることは、図15に示した整流用円筒としての筒状部材9B、10Bの内径、長さを変えることで容易に対応し得る。
次に実施例により本発明を説明するが、これに限定されるものではない。
(実施例1)
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径80mm、高さ355mmのアルミニウムドラム支持体(円筒状基材)1を用いた。
円筒状基材1上に下記の如く各塗布液組成物UCL−1、UCL−2、UCL−3(各々3.0W/V%ポリマー濃度)を調製し、図6に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置10Aを用いて塗布した。図8は塗布装置と位置決め装置の模式断面図で、図9は位置決め装置の一部破断斜視図である。この実施例では、上記塗布装置10Aの直前に設けた図8に示す位置決め装置20(長さH=200mm、吐出口径0.3mm、テフロン(登録商標)樹脂を内張りしたもの)を設置した。なお、円筒状基材1の移動速度は23mm/sec、塗布ヘッド(コータ)30と円筒状基材1との間の隙間は100μmで行った。円筒状基材と吐出口の間隔Gが30μm、風量0.2m3/minで行った。
UCL−1塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂(CM−8000 東レ社製)
メタノール/n−ブタノール=10/1(Vol比)
UCL−2塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体(エスレックMF−10積水化学社製)
アセトン/シクロヘキサノン=10/1(Vol比)
UCL−3塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体(エルバックス4260 三井デュポンケミカル社製)
トルエン/n−ブタノール=5/1(Vol比)
その結果、導入部にこすれが発生したが、円筒状基材に損傷を与えず、膜厚変動が少なくまた塗布欠陥も生じなかった。
(実施例2)
円筒状基材(導電性支持体)1としては(実施例1)と同じアルミニウムドラム支持体を用いた。
前記支持体上に下記の如く各塗布液CGL−1、CGL−2、CGL−3(各々3.0W/V%固形分濃度)を分散調製し、図8に示すスライドホッパー型塗布装置10Aを用いて塗布した。この際、上記塗布装置10Aの直前に図8に示す位置決め装置20(長さH=150mm、吐出口径=0.1mm、テフロン(登録商標)を内張りしたもの)を設置した。なお、円筒状基材1の移動速度は37mm/sec、コータ(塗布ヘッド)30と円筒状基材との間の隙間は100μmで行った。
円筒状基材と吐出口の間隔Gが40μm、風量0.5m3/minで行った。
CGL−1塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料(CGM−1)
ブチラール樹脂(エスレックBX−L 積水化学社製)
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CGM−1:BX−L=3:1に固定)をサンドミルを用いて20時間分散したもの。
CGL−2塗布液組成物
ペリレン顔料(CGM−2)
ブチラール樹脂(エスレックBX−L 積水化学社製)
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CGM−2:BX−L=2:1に固定)をサンドミルを用いて20時間分散したもの。
CGL−3塗布液組成物
Y型チタニルフタロシアニン(CGM−3)
シリコーン樹脂(KR−5240 信越化学社製)
t−酢酸ブチル
上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CGM−3:KR−5240=2:1に固定)をサンドミルを用いて17時間分散したもの。CGM−1、CGM−2、CGM−3の化学式を化1に示す。
その結果、導入はじめに円筒状基材導入部材と円筒状基材とでこすれがあったが円筒状基材やコータに損傷を与えず、膜厚変動が少なくまた色ムラや塗布欠陥も生じなかった。
(実施例3)
円筒状基材(導電性支持体)1としては(実施例1)と同じアルミニウムドラム支持体を用いた。前記円筒状基材1上に下記の如く各塗布液組成物CTL−1、CTL−2(各々35W/V%固形分濃度)を調製し、図8に示すスライドホッパー型塗布装置10Aを用いて塗布した。この際、上記塗布装置10Aの直前に図8に示す位置決め装置20(長さH=250mm、吐出口径0.3mm、テフロン(登録商標)樹脂を内張りしたもの)で、表1に記載の如く円筒状基材と吐出口との隙間G及び流体量で設置し、塗布ドラムNo.1c〜No.2cを得た。なお、円筒状基材1の移動速度は8mm/sec、コータ30と円筒状基材1との間の隙間は250μmで行った。図8に示す如く、位置決め装置20は、複数の給気口23Aと排気口26Aとが軸方向に交互に配置され、位置決め装置20から吐出される全流体量は前記実施例と同じであるが、吐出口25−1から吐出口25−6にかけて、吐出口25−1を基準として2%ずつ風量を順次少なくなる如くした。
CTL−1塗布液組成物
CTM−1
ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製)
1,2−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比CTM−1:Z−200=0.89:1に固定
CTL−2塗布液組成物
CTM−2
ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製)
1,2−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比CTM−2:Z−200=0.89:1に固定
CTM−1、CTM−2の化学式を化2に示す。
実施例の結果を表1に示す。
表1に示す如く、たとえ導入初期において、円筒状基材と導入部材がこすれてもテフロン(登録商標)部材は滑り性が良いので損傷や、塗布欠陥が生じず、位置決め精度が高く、塗布ムラも無く塗布性が良好であった。
(実施例4)
前記(実施例1)の位置決め装置の代わりに図10(a)の位置決め装置20(長さH=200mm、テーパー比C=0.01〜0.1、隙間G=100μm、テフロン(登録商標)樹脂を使用)を用い、(実施例1)のUCL−2を用いた以外同様に塗布し、表2の塗布ドラムNo.1d〜No.4dを得た。図10(a)は位置決め装置20の一実施例を示す模式断面図である。位置決め装置20の複数の吐出口25Aを有する吐出口面は円筒状基材1の進行方向に狭まるテーパー角を有し、前記吐出口面の最小隙間が隙間Gである。上記テーパー比Cは、円錐の軸線に直角な2つの断面の直径差(D−d)と、前記両断面のテーパー部の長さ(L)との比(C=(D−d)/L)をいう。図11は位置決め装置の吐出テーパー面を説明する断面図で、上記のテーパー比Cは図に示す如くC=(D−d)/Lをいう。実施例の結果を表2に示す。
表2に示す如く位置決め精度が高く、塗布ムラや塗布欠陥も無く塗布性が良好であった。
(実施例5)
フッ素樹脂材質の導入部を使用し、UCL、CGL、CTLの逐次重層で100万本塗布を行なったが、コーターや円筒状基材による損傷はなかった。
連続塗布装置の全体構成を示す正面図である。 図1の塗布手段の断面図である。 図1の塗布手段の斜視図である。 同時重層塗布装置の構成断面図である。 逐次重層塗布装置の構成断面図である。 本発明による位置決め装置と垂直塗布装置の縦断面図である。 上記塗布装置のP−P断面図及びQ−Q断面図である。 塗布装置と位置決め装置の模式断面図である。 位置決め装置の一部破断斜視図である。 位置決め装置の他の各種実施例を示す模式断面図である。 位置決め装置の吐出テーパー面を説明する断面図である。 塗布乾燥装置の全体配置図である。 コータの一部切断斜視図である。 円筒状基材とコータの塗布時の状態を表す断面図である。 乾燥装置の断面図である。 吸引スリットを設けた吸引部材の一部破断斜視図である。 パンチ板を設けた吸引部材の一部破断斜視図である。 メッシュを設けた吸引部材の一部破断斜視図である。
符号の説明
1,1a,1b 円筒状基材(感光体ドラム)
11 塗布液
12A 塗布液流出口
13A 塗布液分配用スリット
14A 塗布液分配室
12B 吸引チャンバー
13B バッファー空間
14B 空気流
15B 吸引ノズル
16B 吸引スリット
18B 吸引スリット部材(吸引部材)
2,2A 塗布膜
20 位置決め装置(位置決め手段)
21A 外筒部材
22A 内筒部材(フッ素樹脂)
23A 給気口
25A 吐出口
26A 排気口
28A テーパー面
30,32 塗布ヘッド(コータ,塗布手段)
4 ホッパー面
4b,42b 環状端部
6a,6b,6c 塗布液供給口
7 塗布液分配室
8 塗布液分配スリット
9 出口開口部
9B,10B 筒状部材
150 乾燥装置
GP 隙間
G 隙間

Claims (8)

  1. 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する工程において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け部を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め方法において、
    前記円筒状基材が、前記位置決め手段の少なくともフッ素樹脂材で形成される導入部より導入されることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
  2. 前記位置決め手段の前記導入部にテーパーを設け円筒状基材を導入し位置決めすることを特徴とする請求項1に記載の円筒状基材の位置決め方法。
  3. 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する工程において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め方法において、
    前記円筒状基材の表面とこれに対向する吹き付け手段の吐出口との隙間が、20μm〜3mm、吐出する流体の毎分当たりの流体量が0.1〜50m3/minであり、且つ前記位置決め手段はフッ素樹脂材で形成されるテーパー状の導入部を備え、前記円筒状基材が前記導入部より導入されることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
  4. 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の位置決め装置において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め装置において、
    前記位置決め手段がフッ素樹脂材で形成される導入部を備えたことを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
  5. 前記位置決め手段の前記導入部にテーパーを有することを特徴とする請求項4に記載の円筒状基材の位置決め装置。
  6. 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する円筒状基材の位置決め装置において、塗布前または塗布後の位置で、前記円筒状基材の外周面上に流体を吹き付ける吐出口を有するリング状吹き付け手段を、前記円筒状基材の同軸に配設して成る位置決め手段により前記円筒状基材の位置決めを行う円筒状基材の位置決め装置において、
    前記円筒状基材の表面とこれに対向する吹き付け手段の吐出口との隙間が、20μm〜3mm、吐出する流体の毎分当たりの流体量が0.1〜50m3/minであり、前記位置決め手段はフッ素樹脂材で形成されるテーパー状の導入部を備えたことを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
  7. 前記垂直塗布装置がスライドホッパー型塗布装置であることを特徴とする請求項4、5又は6に記載の円筒状基材の位置決め装置。
  8. 前記円筒状基材の外周面上に吹き付ける流体が、温度20〜24℃、湿度10〜65%RHの空気であることを特徴とする請求項4、5、6又は7に記載の円筒状基材の位置決め装置。
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Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008188482A (ja) * 2007-01-31 2008-08-21 Ricoh Co Ltd 塗膜形成装置
CN105013659A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 棒材连续涂刷干燥的机械
CN105013669A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 提高阳极棒涂刷效率和干燥效率的机械
CN105013670A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 提高涂刷效率和进行自动干燥的机械
CN105013668A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 一种用于棒材涂刷和干燥的设备
CN105032684A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 提高阳极棒涂刷效率的设备
CN105032640A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 提高涂刷效率的机械
CN105032688A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 一种阳极棒连续涂刷的机械
CN105032685A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 棒材连续涂刷的设备
CN105032683A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 一种用于棒材涂刷的机械
CN105032686A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 棒材连续涂刷的机械
CN105032724A (zh) * 2015-07-09 2015-11-11 程叶红 一种涂刷设备
CN105057174A (zh) * 2015-08-23 2015-11-18 王寿南 一种用于阳极棒涂刷干燥的设备
CN105080777A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 一种阳极棒连续涂刷设备
CN105080775A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 用于棒材快速涂刷的机械
CN105080776A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 一种用于阳极棒涂刷的机械
CN105080802A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 提高阳极棒涂刷效率的机械
CN105080778A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 用于阳极棒快速涂刷的设备
CN105107672A (zh) * 2015-08-17 2015-12-02 程叶红 一种用于棒材涂刷的设备
CN105127045A (zh) * 2015-07-09 2015-12-09 程叶红 对棒材进行涂刷的机械设备
CN105127044A (zh) * 2015-07-09 2015-12-09 程叶红 一种对阳极棒进行快速涂刷的设备
CN105127059A (zh) * 2015-08-23 2015-12-09 王寿南 一种用于阳极棒涂刷干燥的机械
CN105149157A (zh) * 2015-07-09 2015-12-16 程叶红 对棒材进行快速涂刷的设备
CN105149156A (zh) * 2015-07-09 2015-12-16 程叶红 一种用于实现对阳极棒快速涂刷的机械设备
CN105170395A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 提高涂刷效率的设备
CN105170396A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 用于棒材快速涂刷的设备
CN105170394A (zh) * 2015-07-09 2015-12-23 程叶红 一种用于实现棒材快速涂刷的机械设备
CN105170397A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 用于阳极棒快速涂刷的机械
CN105214902A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 提高阳极棒涂刷效率和干燥效率的设备
CN105214901A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于阳极棒快速涂刷和干燥的设备
CN105214905A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于棒材快速涂刷干燥的设备
CN105214904A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于阳极棒快速涂刷和自动干燥的机械
CN105214886A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 一种阳极棒连续涂刷与烘干的机械
CN105214903A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 棒材连续涂刷和快速干燥的设备
CN105214887A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 一种阳极棒连续涂刷和干燥的设备

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008188482A (ja) * 2007-01-31 2008-08-21 Ricoh Co Ltd 塗膜形成装置
CN105149157A (zh) * 2015-07-09 2015-12-16 程叶红 对棒材进行快速涂刷的设备
CN105127045A (zh) * 2015-07-09 2015-12-09 程叶红 对棒材进行涂刷的机械设备
CN105170394A (zh) * 2015-07-09 2015-12-23 程叶红 一种用于实现棒材快速涂刷的机械设备
CN105149156A (zh) * 2015-07-09 2015-12-16 程叶红 一种用于实现对阳极棒快速涂刷的机械设备
CN105032724A (zh) * 2015-07-09 2015-11-11 程叶红 一种涂刷设备
CN105127044A (zh) * 2015-07-09 2015-12-09 程叶红 一种对阳极棒进行快速涂刷的设备
CN105032688A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 一种阳极棒连续涂刷的机械
CN105032685A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 棒材连续涂刷的设备
CN105032683A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 一种用于棒材涂刷的机械
CN105032640A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 提高涂刷效率的机械
CN105032684A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 提高阳极棒涂刷效率的设备
CN105170395A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 提高涂刷效率的设备
CN105080777A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 一种阳极棒连续涂刷设备
CN105080775A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 用于棒材快速涂刷的机械
CN105080776A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 一种用于阳极棒涂刷的机械
CN105080802A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 提高阳极棒涂刷效率的机械
CN105170396A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 用于棒材快速涂刷的设备
CN105107672A (zh) * 2015-08-17 2015-12-02 程叶红 一种用于棒材涂刷的设备
CN105170397A (zh) * 2015-08-17 2015-12-23 程叶红 用于阳极棒快速涂刷的机械
CN105032686A (zh) * 2015-08-17 2015-11-11 程叶红 棒材连续涂刷的机械
CN105080778A (zh) * 2015-08-17 2015-11-25 程叶红 用于阳极棒快速涂刷的设备
CN105127059A (zh) * 2015-08-23 2015-12-09 王寿南 一种用于阳极棒涂刷干燥的机械
CN105057174A (zh) * 2015-08-23 2015-11-18 王寿南 一种用于阳极棒涂刷干燥的设备
CN105013668A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 一种用于棒材涂刷和干燥的设备
CN105013670A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 提高涂刷效率和进行自动干燥的机械
CN105013669A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 提高阳极棒涂刷效率和干燥效率的机械
CN105013659A (zh) * 2015-08-23 2015-11-04 王寿南 棒材连续涂刷干燥的机械
CN105214902A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 提高阳极棒涂刷效率和干燥效率的设备
CN105214901A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于阳极棒快速涂刷和干燥的设备
CN105214905A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于棒材快速涂刷干燥的设备
CN105214904A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 用于阳极棒快速涂刷和自动干燥的机械
CN105214886A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 一种阳极棒连续涂刷与烘干的机械
CN105214903A (zh) * 2015-08-23 2016-01-06 王寿南 棒材连续涂刷和快速干燥的设备
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