JPH08323262A - 円筒状基材の位置決め方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 円筒状基材の表面上に処理液を塗布する際
に、膜圧変動を最小にして均一且つ効率よく塗布するた
め、円筒状基材を高精度に、円筒状基材を傷つけること
なく塗布欠陥を発生しない位置決め方法及び装置を得
る。 【構成】 複数の円筒状基材１の筒軸を合わせて積み重
ね、下方から上方に垂直に押し上げながら、垂直塗布装
置１０により円筒状基材１の外周面上に塗布液を連続的
に塗布する工程において、塗布前または塗布後の位置
で、円筒状基材１の外周面上に流体を吹き付ける吐出口
２１と流体を排気する排気口２２とを有するリング状吹
き付け手段を、円筒状基材１の同軸に配設し、前記吹き
付け手段の吐出口２１と排気口２２とが内筒面２３で縦
パターン群に組み込まれていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、複数の円筒状基材外周
面上に処理液を連続的に塗布する際に、該円筒状基材を
位置決めする方法及び装置に関し、特に、円筒状基材に
感光液を塗布することにより、電子写真感光体を製造す
る際に、円筒状基材を正確に位置決めする方法及び装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真装置で使用される感光体である
有機光導電体感光ドラムの製造においては、円筒形状の
ドラムに感光性の感光液（処理液）を塗布する。その塗
布に当たっては、円筒ドラムの周面にスライドホッパー
を所定位置に位置せしめ、両者間の間隙を周方向に関し
て一定に保持する調整作業が必要となる。この場合、所
要の塗布層厚は極めて薄いため、円筒状ドラムが周方向
に関し０．１ｍｍずれても、円筒面全体としてみれば塗
膜層の膜厚の大きな偏差要因となる。

【０００３】かかる塗膜層の膜厚偏差があると、円筒状
ドラムの周方向で帯電量の変化、感度の不均一、残留電
位の変化等の各種不具合が生じることは周知の事実であ
る。従って、円筒状ドラムの正確な位置決めが極めて重
要となる。

【０００４】従来、この種の円筒状ドラムの位置決め装
置としては、例えば特開昭６０−５０５３７号公報に記
載のように、支持部材に回転自在に設けた位置規制コロ
を円筒状ドラムの外周に接触させて設けたものがある。
また、特開平３−２８００６３号公報及び特開平４−７
３６５５号公報には、エアベアリングを使用した感光ド
ラムの位置決め装置が開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
コロ接触式の従来の位置決め装置は、位置規制コロを直
接円筒状ドラムに対して接触させながら位置決めするも
のであるので、円筒状ドラムに傷がついてしまうという
難点があった。円筒状ドラムに傷がつくと、電子写真特
性が悪化することは周知である。

【０００６】上記エアベアリング式の位置決め装置は、
空気等の流体を吹付ノズルから吹き付けて位置決めを行
うようにしたもので、円筒状ドラムの傷付きが防止で
き、極めて有効である。

【０００７】しかし、図１６に示すように、複数の円筒
状ドラム１Ａ，１Ｂの端部を接して積み重ねて繋ぎ合わ
せた状態で移動させる場合、先の円筒状ドラム１Ａが位
置決め用吹付ノズル３から逃げて、次の円筒状ドラム１
Ｂに移行するとき、先の円筒状ドラム１Ａが外的要因に
より、水平方向に移動させる外力が作用したときには、
図１６のように、たとえ次の円筒状ドラム１Ｂの位置決
めを行うことができたとしても、先の円筒状ドラム１Ａ
が水平方向に急にずれてしまうことがある。この移動現
象が生じると、感光液の横段や液切れ塗布等となって現
れる。

【０００８】本発明の主課題は円筒状ドラムに傷を付け
ることなく、円筒状ドラムの位置決めを行うとともに、
円筒状ドラム相互間の繋ぎ部分における円筒状ドラムの
位置ずれを防止して、高精度の位置決めによって塗膜層
の膜厚変動が小であって、塗布性が良好に行われるよう
な円筒状基材の位置決め方法及び装置を提供することを
目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、下記の第１〜４発明の位置決め方法及び位置決め
装置より成る。

【００１０】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段の
吐出口と排気口とが縦パターン群に組み込まれているこ
とを特徴とする円筒状基材の位置決め方法（第１発明の
位置決め方法）。

【００１１】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出口
と排気口とが縦パターン群に組み込まれていることを特
徴とする円筒状基材の位置決め装置（第１発明の位置決
め装置）。

【００１２】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段の
吐出口と排気口は螺旋パターン形に一体に組み込まれて
いることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法（第２
発明の位置決め方法）。

【００１３】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出口
と排気口は螺旋パターン形に一体の組み込まれているこ
とを特徴とする円筒状基材の位置決め装置（第２発明の
位置決め装置）。

【００１４】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段の
吐出口と排気口は横パターン形群に一体に組み込まれて
いることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法（第３
発明の位置決め方法）。

【００１５】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出口
と排気口は横パターン形群に一体に組み込まれているこ
とを特徴とする円筒状基材の位置決め装置（第３発明の
位置決め装置）。

【００１６】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段の
吐出口と排気口は斜線パターン群に一体に組み込まれて
いることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法（第４
発明の位置決め方法）。

【００１７】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下
から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により前
記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布前
又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き付
ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング状
吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記基
材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出口
と排気口は斜線パターン群に一体に組み込まれているこ
とを特徴とする円筒状基材の位置決め装置（第４発明の
位置決め装置）。

【００１８】

【作用】本発明では、円筒状基材の外周面に対して流体
を吹き付けて、その流体量により円筒状基材の位置決め
を行う。すなわち、円筒状基材の周囲から流体、例えば
エアを吹き付けると、その吹き付け流体量により、円筒
状基材の位置が中立化し、これによって円筒状基材が所
定位置に位置決めされる。しかも、円筒状基材に機械的
接触することがないから、円筒状基材に傷を付けること
が防止される。

【００１９】本発明の位置決め装置によって位置決めさ
れた円筒状基材は、筒軸を合わせた形で積み重なり、下
から上へと垂直に押し上げられる。位置決め装置の上側
には、垂直塗布装置があって直接円筒状基材に接触する
ことなく外周全面に渡って塗布液の塗布が行われる。本
発明（第１〜４発明）において好ましく用いられる垂直
塗布装置はスライドホッパー型塗布装置である。

【００２０】本発明（第１〜４発明）の位置決め装置で
は、基材外周面上に流体を吹き付ける吐出口と流体を排
気する排気口は一体に組み込まれていることが好ましい
実施態様であり、また本発明（第１，２，４発明）の位
置決め装置では排気口の基材外周面に対向して設けられ
た溝は、下方に開放され、上方に閉じていることが好ま
しい実施態様である。また本発明（第１〜４発明）の位
置決め装置は、垂直な軸方向に沿って離間して複数個配
置されていて基材外周面上に多層の塗布層の塗布が逐次
なされることが好ましい実施態様である。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。

【００２２】図１は、本発明の位置決め装置を含む垂直
塗布装置の全体を示す断面図である。該垂直塗布装置
は、中心線Ｏに沿って垂直状に重ね合わせた円筒状基材
（円筒状ドラム）１Ａ，１Ｂに処理液（感光液）２を塗
布する環状塗布装置１０と、該環状塗布装置１０の下方
に固設された円筒状基材位置決め装置２０と、前記環状
塗布装置１０の上方に設置された乾燥フード３０と、前
記位置決め装置２０の下部に固定された支持装置４０と
から構成されている。

【００２３】垂直塗布装置には、スライドホッパー型や
押出し型の塗布装置の他にリングコーターやスプレー塗
布等の塗布手段等があるが、本発明においては、スライ
ドホッパー型の環状塗布装置１０が好ましく用いられ
る。

【００２４】環状塗布装置１０の内部には、円筒状基材
１Ａの外周を取り囲むように処理液２を塗布する塗布ヘ
ッド１１、該塗布ヘッド１１に隣接するテーパ状の処理
液流出口（処理液スライド面）１２、水平方向の幅狭の
処理液通路を形成する処理液分配用スリット１３、処理
液分配室１４が形成されている。前記処理液分配室１４
には処理液供給パイプ１６が接続され、図示しない圧送
ポンプにより処理液が供給される。

【００２５】上記環状塗布装置１０による塗布方法は、
環状塗布装置１０を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心
線Ｏに沿って矢示方向に上昇移動させながら円筒状基材
１Ａの上端部より塗布ヘッド１１により塗布を行う。

【００２６】前記環状塗布装置１０には、圧送ポンプに
より一定量の処理液が安定して送り込まれ、処理液供給
パイプ１６、処理液分配室１４、処理液分配用スリット
１３、処理液流出口１２を経て、塗布ヘッド１１に供給
され、円筒状基材１Ａの表面に処理液が塗布され感光層
が形成される。

【００２７】なお図示した環状塗布装置１０によって
は、円筒状基材１Ａの表面には単層の感光層が形成され
る。円筒状基材１Ａ表面に複層の感光層を形成しようと
するときは、環状塗布装置１０に複数の処理液分配ス
リット及び処理液流出口を設け、異なる処理液を処理液
分配スリット及び処理液流出口から同一の塗布ヘッドに
供給し、複数の塗布層を同時に円筒状基材１Ａ上に形成
される同時重層塗布方法や、図示した環状塗布装置１
０を円筒状基材の筒軸に合わせた形で複数段積み重ね、
それぞれの環状塗布装置１０に異なる処理液を供給し、
それぞれの処理液流出口１２から異なる処理液が流出し
て、複数の塗布層を円筒状基材１Ａ上に逐次形成させる
逐次重層塗布方法が用いられる。なおこの逐次重層塗布
方法による塗布装置にあっては、２つの環状塗布装置１
０の間に説明する乾燥フード３０が設けられていてもよ
い。本発明にあっては逐次重層塗布方法が好ましく用
いられる。

【００２８】前記環状塗布装置１０の上部には、環状に
形成した乾燥フード３０が固定されている。該乾燥フー
ド３０には多数の開口部３１が形成されている。前記環
状塗布装置１０により形成された円筒状基材上の感光層
は、前記乾燥フード３０内を通過しながら塗布された感
光液２を徐々に乾燥させる。乾燥は前記開口部３１より
感光液に含まれる溶媒を外部に放出させることにより行
なわれる。

【００２９】前記環状塗布装置１０の下部には、円筒状
基材位置決め装置２０が固定されている。円筒状基材位
置決め装置２０には、円筒状基材１Ａ，１Ｂに間隔Ｇを
もって対向する内筒面２３があって、内筒面２３には流
体を円筒状基材１Ａ（１Ｂ）向けて射出する吐出口２１
と、流体を装置外に排出する排気口２２が、パターンに
従って複数個配列されている。

【００３０】図２（ａ）は図１における円筒状基材位置
決め装置２０のＸ−Ｘ断面図（給気部）、図２（ｂ）は
Ｙ−Ｙ断面図（排気部）である。

【００３１】前記円筒状基材の位置決め装置２０は、外
筒部材２５と、該外筒部材２５の内部に固定された内筒
部材２４とから構成されている。外筒部材２５と内筒部
材２４には、両部材を貫通する複数の給気口２１ａと、
複数の排気口２２ａが穿設されている。該複数の給気口
２１ａは、給気ポンプ２９に接続され、空気等の流体が
圧送される。給気ポンプから圧送される流体は、空気、
不活性ガス例えば窒素ガスが好ましく、該流体はＪＩＳ
規格でクラス１００以上の洗浄な気体が良い。円筒状基
材１Ａ（１Ｂ）と内筒面２３との間隙Ｇは２０μｍより
小だと僅かの振れによって傷が付きやすく、３ｍｍより
大だと位置決めの効果が著しく悪くなり、間隙Ｇは３０
μｍ〜２ｍｍの間にあることが好ましい。また吐出口２
１の直径は０．０１〜１．０ｍｍ、好ましくは０．０５
〜０．５ｍｍであり、排気口２２の直径は１．０〜１０
ｍｍ、好ましくは２．０〜８．０ｍｍの間が良い。この
ような条件を満たすことで円筒状基材１Ａ（１Ｂ）は内
筒面２３に対して非接触で等間隔の規定位置に位置決め
がなされて、上方に移動する。

【００３２】以下、図面を用いて、各発明について説明
を行うが、本発明は上記の記載及び下記の図面に限定さ
れるものではない。

【００３３】〔実施例１（第１発明）〕本発明の円筒状
基材の位置決め装置２０は、流体を吹き付ける吹き付け
手段の吐出口２１と排気を行う排気口２２とが縦パター
ン群に組み込まれていることを特徴とする。

【００３４】図３はその第１の実施例の位置決め装置２
０Ａを示したもので、図３（ａ）はその位置決め装置２
０Ａの内筒面２３Ａを示す一部破断斜視図で、図３
（ｂ）は図３（ａ）におけるＡ−Ａ断面を示す位置決め
装置２０Ａの模式断面図である。この実施例では円筒状
基材１Ａ（１Ｂ）とＧの間隙をもった位置決め装置２０
Ａの内筒面２３Ａには、垂直方向に多数の吐出口２１Ａ
と排気口２２Ａとが交互に格子状に配設されていて、内
筒面２３Ａ取り巻く複数の同形の縦パターンには吐出口
２１Ａと排気口２２Ａとが交互に位置している。給気ポ
ンプ２９Ａから圧送された流体は、複数の給気パイプ２
８を経て縦パターン２４Ａを介して複数の吐出口２１Ａ
から吐き出され、円筒状基材１Ａ（１Ｂ）の外周面との
間に均一な流体膜層を形成する。吐出後の流体は排気口
２２Ａを通って装置外に排出される。

【００３５】図４は第２の実施例の位置決め装置２０Ｂ
を示したもので、図４（ａ）はその位置決め装置２０Ｂ
の内筒面２３Ｂを示す一部破断斜視図で、図４（ｂ）は
図４（ｂ）におけるＢ−Ｂ断面とＣ−Ｃ断面とを示す位
置決め装置２０Ｂの模式断面図である。この実施例では
内筒面２３Ｂには垂直方向に多数の吐出口１２Ｂと排気
口２２Ｂとが交互に千鳥状に配置されていて、複数の吐
出口２１Ｂを設けた縦パターンと、複数の排気口２２Ｂ
を設けた縦パターンとが内筒面２３Ｂを取り巻くように
交互に配設されていて、第１の実施例と同じような条件
を満たすことによって、円筒状基材１Ａ（１Ｂ）は内筒
面２３Ｂに対して非接触で等間隔の規定位置に位置決め
がなされながら上方に移動する。

【００３６】図５は第３の実施例を示すもので、内筒面
２３Ｃに設けた吐出口２１Ｃと排気口２２Ｃとの配列パ
ターンは図４におけると同じである。但し、排気口２２
Ｃは内筒面２３Ｃに穿設した深さｇの溝２６Ｃの底面に
設けられていて、溝部２６Ｃは下方に開放され、上方に
は閉じた状態となっている。更に溝部２６Ｃは下方から
上方に向けて次第に深さが深くなる溝形状となってい
る。溝部２６Ｃの深さｇは、０．５〜１０ｍｍであって
特に１〜５ｍｍの間にあることが好ましい。排気口２２
Ｃを溝部２６Ｃに設けることにより、吐出口２１Ｃから
排気口２２Ｃへの流体の流れが安定し、円筒状気体１Ａ
（１Ｂ）の位置決め精度は更に向上する。

【００３７】図６は第４の実施例を示すもので、例えば
図３に示した実施例の配列パターンで内筒部材２４Ｄの
内筒面２３Ｄの下部の長さＨ₂部分を円錐面状に拡がっ
たテーパー面２７Ｄを設けた実施例である。このテーパ
ー面２７Ｄを設けることによって、円筒状基材１Ａ（１
Ｂ）が内筒部材２４Ｄに進入するとき、円筒状基材１Ａ
（１Ｂ）の先端が内筒面２３Ｄに接触するのを防止して
いる。

【００３８】実施例１−１ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００３９】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）を調整し、図
１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置１
０を用いて塗布した。この際上記塗布装置の直前に図３
に示す位置決め装置（長さＨ＝２７０ｍｍ、吐出口径
０．３ｍｍ、排気口径２．０ｍｍ）を設置し、塗布ドラ
ムを得た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ、コ
ーターとドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝５０μｍ
で行った。

【００４０】・ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００４１】実施例１−２ 導電性支持体としては実施例１−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００４２】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−２（３．０Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を分散調整し、
図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用い
て塗布した。この際上記塗布装置の直前に図３と図４に
示す位置決め装置（各々の長さＨ＝２２０ｍｍ、吐出口
径０．２ｍｍ、排気口径５．０ｍｍ）を２連（図３のの
位置決め装置が上）に設置し、塗布ドラムを得た。なお
基材の移動速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ、コーターとドラム
間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝１００μｍで行った。

【００４３】・ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）

【００４４】

【化１】

【００４５】ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積
水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００４６】ドラムに対する振動が少なく、安定して搬
送でき、従ってドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚
変動が少なくまた塗布欠陥もない塗布ドラムが得られ
た。

【００４７】実施例１−３ 導電性支持体としては実施例１−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００４８】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１（３５Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を調整し、図１に
記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて塗布
した。この際上記塗布装置の直前に図５に示す位置決め
装置（長さＨ＝２５０ｍｍ、吐出口径０．３ｍｍ、排気
口径１０ｍｍ）を設置し、塗布ドラムを得た。なお基材
の移動速度は５ｍｍ／ｓｅｃ、コーターとドラム間ギャ
ップは２５０μｍ、Ｇ＝１５０μｍ、ｇ＝４ｍｍで行っ
た。

【００４９】・ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１

【００５０】

【化２】

【００５１】ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯
化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００５２】本発明の感光体をＵＣＬ／ＣＧＬ／ＣＴＬ
と３層に逐次重層したＯＰＣ感光体を作製し実写したと
ころ、濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポ
チ、スジ、キズ）がなく良好であった。

【００５３】〔実施例２（第２発明）〕本発明の円筒状
基材位置決め装置２０は、流体を吹き付ける吹き付け手
段の吹出口２１と排気を行う排気口２２とがそれぞれに
同形の螺旋パターン形を形成して、一体に組み込まれて
いることを特徴とする。

【００５４】図７はその第１の実施例の位置決め装置２
０Ｅを示したもので、図７（ａ）はその位置決め装置２
０Ｅの内筒面２３Ｅを示す一部破断斜視図で、図７
（ｂ）は図７（ａ）におけるＦ−Ｆ断面及びＧ−Ｇ断面
を示す模式断面図である。この実施例では内筒面２３Ｅ
に角度Ｒのリード角（水平面となす傾き角度）をもって
多数の配列された吐出口２１Ｅと排気口２２Ｅとが螺旋
パターン形に一体に形成されている。図示した実施例で
は排出口２１Ｅの螺旋パターンと排気口２２Ｅの螺旋パ
ターンとは１本宛が対をなしているが、吐出口２１Ｅの
螺旋パターン２本に対して排気口２２Ｅの螺旋パターン
が１本というような対をもって一体にパターン形成され
ていてもよい。このようなパターンを形成することによ
って、円筒状基材１Ａ（１Ｂ）は内筒面２３Ｅに対して
非接触で等間隔の位置を保ちながら上方に移動する。

【００５５】図８はその第２の実施例を示したもので、
位置決め装置２０Ｆの内筒面２３Ｆを示す一部破断斜視
図（図８（ａ））と、Ｈ−Ｈ断面及びＩ−Ｉ断面を示す
模式断面図（図８（ｂ））である。この実施例では吐出
口２１Ｆと排気口２２Ｆとの配列パターンは図７とほぼ
同じであるが、排気口２２Ｆは内筒面２３Ｆに深さｇの
螺旋状の溝部２６Ｆの底部に設けたもので、螺旋状の溝
部２６Ｆの下方は開放され、上方は閉じた形状をしてい
る。溝部２６Ｆの深さｇは０．５〜１０ｍｍであって特
に１〜５ｍｍの間にあることが好ましい。排気口２２Ｆ
を溝部２６Ｆに設けることにより、吐出口２１Ｆから排
気口２２Ｆへの流体の流れは安定し、円筒状基材１Ａ
（１Ｂ）の位置決め精度は更に向上する。

【００５６】図９は第３の実施例の模式断面図を示すも
ので、例えば図８の実施例のパターンで、内筒部材２４
Ｇの内筒面２３Ｇの下部の長さＨ₂部分を円錐面状に広
がったテーパー面２７Ｇを設けた実施例である。このテ
ーパー面２７Ｇを設けることによって、円筒状基材１Ａ
（１Ｂ）が内筒部材２４Ｇに進入するとき、円筒状基材
１Ａ（１Ｂ）の先端が内筒面２３Ｇに接触するのを防止
している。

【００５７】実施例２−１ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００５８】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）を調整し、図
１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて
塗布した。この際上記塗布装置の直前に図７に示す位置
決め装置（長さＨ＝２７０ｍｍ、吐出口径０．３ｍｍ、
排気口径２．０ｍｍ、リード角度Ｒ＝５度）を設置し、
塗布ドラムを得た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓ
ｅｃ、コーターとドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝
５０μｍで行った。

【００５９】・ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００６０】実施例２−２ 導電性支持体としては実施例２−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００６１】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−２（３．０Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を分散調整し、
図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用い
て塗布した。この際上記塗布装置の直前に図７（実施例
２−１と同じ）と図８に示す位置決め装置（長さＨ＝２
２０ｍｍ、吐出口径０．２ｍｍ、排気口径５．０ｍｍ、
リード角度Ｒ＝８度）を２連（図７の位置決め装置が
上）に設置し、塗布ドラムを得た。なお基材の移動速度
は３０ｍｍ／ｓｅｃ、コーターとドラム間ギャップは１
００μｍ、Ｇ＝１００μｍ、ｇ＝５ｍｍで行った。

【００６２】・ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）

【００６３】

【化３】

【００６４】ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積
水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００６５】ドラムに対する振動が少なく、安定して搬
送でき、従ってドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚
変動が少なくまた塗布欠陥もない塗布ドラムが得られ
た。

【００６６】実施例２−３ 導電性支持体としては実施例２−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００６７】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１（３５Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を調整し、図１に
記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて塗布
した。この際上記塗布装置の直前に図９に示す位置決め
装置（長さＨ＝２５０ｍｍ、吐出口径０．３ｍｍ、排気
口径１０ｍｍ、リード角度Ｒ＝７度）を設置し、塗布ド
ラムを得た。なお基材の移動速度は５ｍｍ／ｓｅｃ、コ
ーターとドラム間ギャップは２５０μｍ、Ｇ＝１５０μ
ｍ、ｇ＝４ｍｍで行った。

【００６８】・ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１

【００６９】

【化４】

【００７０】ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯
化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００７１】本発明の感光体をＵＣＬ／ＣＧＬ／ＣＴＬ
と３層に逐次重層したＯＰＣ感光体を作製し実写したと
ころ、濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポ
チ、スジ、キズ）がなく良好であった。

【００７２】〔実施例３（第３発明）〕本発明の円筒状
基材位置決め装置２０は、流体を吹き付ける吹き付け手
段の吐出口２１と排気を行う排気口２２とがそれぞれに
横パターン形群を形成して一体に組み込まれていること
を特徴とする。

【００７３】図１０はその第１の実施例の位置決め装置
２０Ｈを示したもので、図１０（ａ）は内筒面２３Ｈを
示す一部破断斜視図で、図１０（ｂ）は図１０（ａ）に
おけるＪ−Ｊ断面を示す模式断面図である。この実施例
では円筒面２３Ｈにはそれぞれ多数の吐出口２１Ｈと排
気口２２Ｈとが横方向にリング状のパターンを形成して
いる。このような配列パターンを形成することによっ
て、円筒状基材１Ａ（１Ｂ）は内筒面２３Ｈに対して非
接触で等間隔に位置決めされながら上方に移動する。な
おこの実施例では例えば図２の断面図に示すように給気
及び排気の必要とする流体経路が簡素化できる特徴を有
している。

【００７４】図１１はその第２の実施例を示したもの
で、位置決め装置２０Ｉの内筒面２３Ｉを示す一部破断
斜視図（図１１（ａ））と、Ｋ−Ｋ断面を示す模式断面
図（図１１（ｂ））である。この実施例では吐出口２１
Ｉと排気口２２Ｉとの配列パターンは図１０と近似して
いるが、排気口２２Ｉは深さｇのリング状の溝部２６Ｉ
の底部に設けたもので、溝部２６Ｉの深さｇは０．５〜
１０ｍｍであって特に１〜５ｍｍの間にあることが好ま
しい。排気口２２Ｉを設けることにより、吐出口２１Ｉ
から排気口２２Ｉへの流体の流れは安定し、円筒状基材
１Ａ（１Ｂ）の位置決め精度は更に向上する。

【００７５】図１２は第３の実施例の模式断面図を示す
もので、例えば図１０の実施例のパターンで、内筒部材
２４Ｊの内筒面２３Ｊの下部に長さＨ₂部分を円錐面状
に広がったテーパー面２７Ｊを設けた実施例である。こ
のテーパー面２７Ｊを設けることによって、円筒状基材
１Ａ（１Ｂ）が内筒部材２４Ｊに進入するとき、円筒状
基材１Ａ（１Ｂ）の先端が内筒面２３Ｊに接触するのを
防止している。

【００７６】実施例３−１ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００７７】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）を調整し、図
１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて
塗布した。この際上記塗布装置の直前に図１０に示す位
置決め装置（長さＨ＝２７０ｍｍ、吐出口径０．１５ｍ
ｍ、排気口径３．０ｍｍ）を設置し、塗布ドラムを得
た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ、コーター
とドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝５０μｍで行っ
た。

【００７８】・ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００７９】実施例３−２ 導電性支持体としては実施例３−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００８０】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を分散調整し、
図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用い
て塗布した。この際上記塗布装置の直前に図１０（実施
例３−１と同じ）と図１１に示す位置決め装置（長さＨ
＝２２０ｍｍ、吐出口径０．２ｍｍ、排気口径４．０ｍ
ｍ）を２連（図１０の位置決め装置が上）に設置し、塗
布ドラムを得た。なお基材の移動速度は３０ｍｍ／ｓｅ
ｃ、コーターとドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝１
００μｍ、ｇ＝３ｍｍで行った。

【００８１】・ＣＧＬ−１塗布液組成物 フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）

【００８２】

【化５】

【００８３】ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積
水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定） をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。

【００８４】ドラムに対する振動が少なく、安定して搬
送でき、従ってドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚
変動が少なくまた塗布欠陥もない塗布ドラムが得られ
た。

【００８５】実施例３−３ 導電性支持体としては実施例３−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００８６】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１（３５Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を調整し、図１に
記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて塗布
した。この際上記塗布装置の直前に図１２に示す位置決
め装置（長さＨ₁＝２００ｍｍ、Ｈ₂＝１００ｍｍ、吐出
口径０．３ｍｍ、排気口径５ｍｍ、テーパー比Ｃ＝０．
０５）を設置し、塗布ドラムを得た。なお基材の移動速
度は５ｍｍ／ｓｅｃ、コーターとドラム間ギャップは２
５０μｍ、Ｇ＝１５０μｍ、ｇ＝４ｍｍで行った。

【００８７】・ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１

【００８８】

【化６】

【００８９】ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯
化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００９０】本発明の感光体をＵＣＬ／ＣＧＬ／ＣＴＬ
と３層に逐次重層したＯＰＣ感光体を作製し実写したと
ころ、濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポ
チ、スジ、キズ）がなく良好であった。

【００９１】〔実施例４（第４発明）〕本発明の円筒状
基材位置決め装置２０は、流体を吹き付ける吹き付け手
段の吐出口２１と排気を行う排気口２２は斜線パターン
群を形成して一体に組み込まれていることを特徴とす
る。

【００９２】図１３はその第１の実施例の位置決め装置
２０Ｋを示したもので、図１３（ａ）は円筒面２３Ｋを
示す一部破断斜視図で、図１３（ｂ）は図１３（ａ）に
おけるＬ−Ｌ断面を示す模式断面図である。この実施例
では内筒面２３Ｋには吐出口２１Ｋと排気口２２Ｋとに
よって傾斜角度Ｓをもった斜線パターン群を形成してい
る。このような配列パターンを形成することによって、
円筒状基材１Ａ（１Ｂ）は内筒面２３Ｋに接触すること
なく、等間隔の規定位置を保ちながら上方に移動する。

【００９３】図１４はその第２の実施例を示したもの
で、位置決め装置２０Ｌの内筒面２３Ｌを示す一部破断
斜視図（図１４（ａ））とＭ−Ｍ断面を示す模式断面図
（図１４（ｂ））である。この実施例では吐出口２１Ｌ
と排気口２２Ｌとがそれぞれに斜線パターンを形成して
いて、排気口２２Ｌは内筒面２３Ｌに穿設した深さｇの
溝部２６Ｌの底面に設けられていて、溝部２６Ｌは下方
に開放され、上方に閉じた形状となっている。溝部２６
Ｌの深さｇは０．５〜１０ｍｍであって特に１〜５ｍｍ
の間にあることが好ましい。排気口２２Ｌを溝部２６Ｌ
に設けることにより、吐出口２１Ｌから排気口２２Ｌへ
の流体の流れは安定して、円筒状基材１Ａ（１Ｂ）の位
置決め精度は更に向上する。

【００９４】図１５はその第３の実施例を示すもので、
例えば図１４に示した実施例の配列パターンで、内筒部
材２４Ｍの内筒面２３Ｍの下部に長さＨ₂部分を円錐面
状に広がったテーパー面２７Ｍを設けた実施例である。
このテーパー面２７Ｍを設けることによって、円筒状基
材１Ａ（１Ｂ）が内筒部材２４Ｍに進入するとき、円筒
状基材１Ａ（１Ｂ）の先端が内筒面２３Ｍに接触するの
を防止している。

【００９５】実施例４−１ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００９６】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）を調整し、図
１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて
塗布した。この際上記塗布装置の直前に図１３に示す位
置決め装置（長さＨ＝２７０ｍｍ、吐出口径０．２ｍ
ｍ、排気口径２．５ｍｍ）を設置し、塗布ドラムを得
た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ、コーター
とドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝７５μｍで行っ
た。

【００９７】・ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【００９８】実施例４−２ 導電性支持体としては実施例４−１と同じアルミニウム
ドラム支持体を用いた。

【００９９】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−３（３．０Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を分散調整し、
図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用い
て塗布した。この際上記塗布装置の直前に図１３（実施
例４−１と同じ）と図１４に示す位置決め装置（長さＨ
＝２２０ｍｍ、吐出口径０．２ｍｍ、排気口径５．０ｍ
ｍ）を２連（図１３の位置決め装置が上）に設置し、塗
布ドラムを得た。なお基材の移動速度は３０ｍｍ／ｓｅ
ｃ、コーターとドラム間ギャップは１００μｍ、Ｇ＝１
００μｍ、ｇ＝３ｍｍ、傾斜角度Ｓ＝１０度で行った。

【０１００】・ＣＧＬ−３塗布液組成物 Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）

【０１０１】

【化７】

【０１０２】シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化
学社製） ｔ−酢酸ブチル 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミル
を用いて１７時間分散したもの。

【０１０３】ドラムに対する振動が少なく、安定して搬
送でき、従ってドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚
変動が少なくまた塗布欠陥もない塗布ドラムが得られ
た。

【０１０４】実施例４−３ 導電性支持体としては実施例１と同じアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。

【０１０５】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１（３５Ｗ／Ｖ％固形分濃度）を調整し、図１に
記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて塗布
した。この際上記塗布装置の直前に図１５に示す位置決
め装置（長さＨ₁＝１８０ｍｍ、Ｈ₂＝１００ｍｍ、吐出
口径０．３ｍｍ、排気口径８ｍｍ、テーパー比Ｃ＝０．
０５）を設置し、塗布ドラムを得た。なお基材の移動速
度は５ｍｍ／ｓｅｃ、コーターとドラム間ギャップは２
５０μｍ、Ｇ＝１５０μｍ、ｇ＝４ｍｍで行った。

【０１０６】・ＣＴＬ−２塗布液組成物 ＣＴＭ−２

【０１０７】

【化８】

【０１０８】ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯
化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ドラムに対する振動が少なく、安定して搬送でき、従っ
てドラムやコーターに損傷を与えず、膜厚変動が少なく
また塗布欠陥もない塗布ドラムが得られた。

【０１０９】本発明の感光体をＵＣＬ／ＣＧＬ／ＣＴＬ
と３層に逐次重層したＯＰＣ感光体を作製し実写したと
ころ、濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポ
チ、スジ、キズ）がなく良好であった。

【０１１０】

【発明の効果】本発明の環状塗布装置に接続して設けた
円筒状基材の位置決め方法と装置によって、以下の優れ
た効果が得られた。

【０１１１】（１）円筒状基材の位置決め手段はコンパ
クトで操作性がよい （２）円筒状基材上に塗布される感光体の膜厚の変動が
極めて微小となる （３）円筒状基材への塗布液の塗布性が良好となる （４）円筒状基材表面の傷の発生が解消される （５）環状塗布装置の塗布液吐出部（コーター）を損傷
させることがない （６）円筒状基材の位置決め精度が向上する

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による位置決め装置と塗布装置の縦断面
図。

【図２】上記位置決め装置のＸ−Ｘ断面図及びＹ−Ｙ断
面図。

【図３】第１発明の第１実施例の破断斜視図及び模式断
面図。

【図４】第１発明の第２実施例の破断斜視図及び模式断
面図。

【図５】第１発明の第３実施例の破断斜視図及び模式断
面図。

【図６】第１発明の第４実施例の模式断面図。

【図７】第２発明の第１実施例の破断斜視図及び模式断
面図。

【図８】第２発明の第２実施例の破断斜視図及び模式断
面図。

【図９】第２発明の第３実施例の模式断面図。

【図１０】第３発明の第１実施例の破断斜視図及び模式
断面図。

【図１１】第３発明の第２実施例の破断斜視図及び模式
断面図。

【図１２】第３発明の第３実施例の模式断面図。

【図１３】第４発明の第１実施例の破断斜視図及び模式
断面図。

【図１４】第４発明の第２実施例の破断斜視図及び模式
断面図。

【図１５】第４発明の第３実施例の模式断面図。

【図１６】位置決めにおける問題点を示した説明図。

【符号の説明】

１Ａ，１Ｂ 円筒状基材（ドラム） １０ 環状塗布装置 ２０ （円筒状基材）位置決め装置 ２１ 吐出口 ２２ 排気口 ２３ 内筒面 ２４ 内筒部材 ２５ 外筒部材 ２６ 溝部（内筒面） ２７ テーパー面（内筒面） ２８ 給気パイプ ２９ 給気ポンプ ３０ 乾燥フード

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅野 真生 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
   下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により
   前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布
   前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き
   付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング
   状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記
   基材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段
   の吐出口と排気口とが縦パターン群に組み込まれている
   ことを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
2. 【請求項２】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
   下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により
   前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布
   前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き
   付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング
   状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記
   基材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出
   口と排気口とが縦パターン群に組み込まれていることを
   特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
3. 【請求項３】 前記垂直塗布装置がスライドホッパー型
   塗布装置であることを特徴とする請求項２記載の円筒状
   基材の位置決め装置。
4. 【請求項４】 前記吐出口と排気口が一体に組み込まれ
   ていることを特徴とする請求項２又は３記載の円筒状基
   材の位置決め装置。
5. 【請求項５】 前記排気口は溝部に設けられていて、前
   記の溝は下方に開放され上方に閉じていることを特徴と
   する請求項２〜４の何れか１項記載の円筒状基材の位置
   決め装置。
6. 【請求項６】 前記位置決め装置は基材の軸方向に離間
   して複数個配置されていることを特徴とする請求項２〜
   ５の何れか１項記載の円筒状基材の位置決め装置。
7. 【請求項７】 前記排気口は下から上にかけて次第に深
   さが深くなる溝になることを特徴とする請求項５記載の
   円筒状基材の位置決め装置。
8. 【請求項８】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
   下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により
   前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布
   前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き
   付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング
   状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記
   基材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け手段
   の吐出口と排気口は螺旋パターン形に一体に組み込まれ
   ていることを特徴とする円筒状基材の位置決め方法。
9. 【請求項９】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
   下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置により
   前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、塗布
   前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を吹き
   付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリング
   状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる前記
   基材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の吐出
   口と排気口は螺旋パターン形に一体の組み込まれている
   ことを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
10. 【請求項１０】 前記垂直塗布装置がスライドホッパー
    型塗布装置であることを特徴とする請求項９記載の円筒
    状基材の位置決め装置。
11. 【請求項１１】 前記吐出口と排気口が一体に組み込ま
    れていることを特徴とする請求項９又は１０記載の円筒
    状基材の位置決め装置。
12. 【請求項１２】 前記排気口は溝部に設けられていて、
    前記の溝は下方に開放され、上方に閉じていることを特
    徴とする請求項９〜１１の何れか１項記載の円筒状基材
    の位置決め装置。
13. 【請求項１３】 前記位置決め装置は基材の軸方向に離
    間して複数個配置されていることを特徴とする請求項９
    〜１２の何れか１項記載の円筒状基材の位置決め装置。
14. 【請求項１４】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
    ね、下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置に
    より前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、
    塗布前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を
    吹き付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリ
    ング状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる
    前記基材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け
    手段の吐出口と排気口は横パターン形群に一体に組み込
    まれていることを特徴とする円筒状基材の位置決め方
    法。
15. 【請求項１５】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
    ね、下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置に
    より前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、
    塗布前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を
    吹き付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリ
    ング状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる
    前記基材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の
    吐出口と排気口は横パターン形群に一体に組み込まれて
    いることを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
16. 【請求項１６】 前記垂直塗布装置がスライドホッパー
    型塗布装置であることを特徴とする請求項１５記載の円
    筒状基材の位置決め装置。
17. 【請求項１７】 前記吐出口と排気口が一体に組み込ま
    れていることを特徴とする請求項１５又は１６記載の円
    筒状基材の位置決め装置。
18. 【請求項１８】 前記位置決め装置は基材の軸方向に離
    間して複数個配置されていることを特徴とする請求項１
    ５〜１７の何れか１項記載の円筒状基材の位置決め装
    置。
19. 【請求項１９】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
    ね、下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置に
    より前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、
    塗布前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を
    吹き付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリ
    ング状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる
    前記基材の位置決めを行う方法において、前記吹き付け
    手段の吐出口と排気口は斜線パターン群に一体に組み込
    まれていることを特徴とする円筒状基材の位置決め方
    法。
20. 【請求項２０】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
    ね、下から上へ垂直に押し上げながら、垂直塗布装置に
    より前記基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する際、
    塗布前又は塗布後の位置で、前記基材外周面上に流体を
    吹き付ける吐出口と流体を排気する排気口とを有するリ
    ング状吹き付け手段を、前記基材の同軸に配設してなる
    前記基材の位置決め装置において、前記吹き付け手段の
    吐出口と排気口は斜線パターン群に一体に組み込まれて
    いることを特徴とする円筒状基材の位置決め装置。
21. 【請求項２１】 前記垂直塗布装置がスライドホッパー
    型塗布装置であることを特徴とする請求項２０記載の円
    筒状基材の位置決め装置。
22. 【請求項２２】 前記吐出口と排気口が一体に組み込ま
    れていることを特徴とする請求項２０又は２１記載の円
    筒状基材の位置決め装置。
23. 【請求項２３】 前記排気口は溝部に設けられていて、
    前記の溝は下方に開放され、上方に閉じていることを特
    徴とする請求項２０〜２２の何れか１項記載の円筒状基
    材の位置決め装置。
24. 【請求項２４】 前記位置決め装置は基材の軸方向に離
    間して複数個配置されていることを特徴とする請求項２
    ０〜２３の何れか１項記載の円筒状基材の位置決め装
    置。