JPH1071354A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 膜厚変動のない、ビード切れのない優れた塗
布装置を提供する。 【解決手段】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布する装置であって、塗布液分
配スリットが端部を持たず基材外周を取り囲むようにし
て連続であり、該塗布液分配スリットの塗布液流出口か
ら水平に連続し、かつ該エンドレスに形成された連続面
を有する基材外寸よりやや大なる寸法において終端をな
すように構成された液水平スライド面を有することを特
徴とする塗布装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はエンドレスに形成さ
れた連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を均
一に塗布する塗布装置及び塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー
塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等
の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ド
ラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れ
た塗布装置を開発すべく検討されている。しかしなが
ら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する基材
への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかった
り生産性が悪い等の短所があった。

【０００３】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有す
る基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するため
に塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにとも
ない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したと
き、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥
固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表
面の平滑性の良いものが得られない。また該連続面を有
する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロ
スがあったり部分的にも不均一であるため、膜厚コント
ロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸
引きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限
がある。

【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレードもしくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレードもしくはロールを後退させるもので
ある。しかしながら、ブレードもしくはロールを後退さ
せる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部
分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点が
ある。

【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば粘度、表面張
力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の
調製が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗布
液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要であ
る。更に重層する場合、下層成分が溶け出し塗布液槽が
汚染されやすい等の欠点がある。

【０００６】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載のごとく円形量規制型塗布装置（この中にはスライ
ドホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。この
スライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された
連続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に
移動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基
材の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更
にこの塗布装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室
内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、
前記液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットと
を有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に
傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端の
唇状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部
分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外
周面に塗布するものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお塗布液によっ
ては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）、振
動や送液変動等による膜厚の変動の問題があり未だ満足
のいくものではない。

【０００８】この発明は、上記の課題に鑑みなされたも
のであり、この発明の目的は膜厚変動のない、ビード切
れのない優れた塗布装置及び塗布方法を提供することに
ある。

【０００９】また、本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布においてもビード切れのない、膜厚変動のない
優れた塗布装置及び塗布方法を提供することにある。更
に、本発明の目的は、複数の塗布装置から塗布層を逐次
基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗布においてもビ
ード切れのない、膜厚変動のない優れた塗布装置及び塗
布方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明は、エンドレス
に形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布
する塗布装置又は塗布方法であって、塗布液分配スリッ
トが端部を持たず基材外周を取り囲むようにして連続で
あり、該塗布液分配スリットの塗布液流出口から水平に
連続し、かつ該エンドレスに形成された連続面を有する
基材外寸よりやや大なる寸法において終端をなすように
構成された液水平スライド面を有することを特徴とする
塗布装置或いはその装置による塗布方法により達成され
る。

【００１１】この発明で用いられる塗布装置では、液水
平スライド長Ｌ（図１、３、４参照）が０．５〜１０ｍ
ｍ、好ましくは１〜７ｍｍである。０．５ｍｍ未満では
適正塗布条件の幅が狭くなるし、送液変動がそのままド
ラム上の液膜に伝わり膜厚変動となる。また、ビードの
形成が不安定となり適正な膜厚変動内に制御できず膜厚
変動も大きい。１０ｍｍを越える時には、液水平スライ
ド面上の液膜が乱れ易いため膜厚変動が大きい。

【００１２】この発明のごとく前記液水平スライド面を
有するコーターが上記の利点、特に膜厚変動を少なくで
きる理由としては、はっきりとは判らないが、液スライ
ド面を水平にすることによりメニスカス最小曲率半径Ｒ
の円弧（図１、３、４参照）を大きくでき、従ってメニ
スカス中の圧力勾配が小さくなり、塗布液の液体流動が
安定になると推測される。

【００１３】この発明で用いられる塗布速度は、基材の
移動速度や塗布液膜厚等によるので一概に定められない
が、６〜５０ｍｍ／ｓｅｃの範囲にすることにより、よ
り一層の安定した塗布が出来る。この発明で用いられる
塗布方法は同時重層塗布方法や逐次重層塗布方法にも同
様に適用される。逐次重層塗布方法においては、下層が
未完の状態で、即ち乾燥ゾーンを通さないで逐次に塗布
しても良いし、乾燥ゾーンを通して乾燥させた上に重層
させても良い。

【００１４】

【発明の実施の形態】次に、実施の形態により本発明を
説明するが、これに限定されるものではない。図１は、
本発明に係わる塗布装置の一例の構成断面図と要部拡大
図で、更に詳しくは、図１（ａ）は構成断面図で、図１
（ｂ）は要部拡大図である。図２は、図１に係わる塗布
装置の斜視図である。

【００１５】図１、２で、中心線Ｙに沿って垂直状に重
ね合わしたエンドレスに形成された円筒状基材１Ａ、１
Ｂと該円筒状基材１Ａ、１Ｂに順次感光用の塗布液２を
塗布する塗布装置を示す。図の様に円筒状基材１Ａ取り
囲む様に塗布液２の液水平スライド面４が形成され、該
液水平スライド面４に供給される塗布液２を前記円筒状
基材１Ａに順次塗布する様に構成している。塗布方法と
しては、前記塗布ヘッド３を固定し、前記円筒状基材１
Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上
端部より塗布を行う。その周囲を取り囲み、円筒状基材
１Ａ、１Ｂの外周面に対し塗布装置の塗布に直接係わる
部分の塗布ヘッド３により塗布液２が塗布される。塗布
ヘッド３には、円筒状基材１Ａ、１Ｂ側に開口する塗布
液流出口９を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリッ
トとも言う）８が水平方向に形成されている。このスリ
ット８は環状の液分配室７に連通し、この環状の液分配
室７には塗布液タンク５内の塗布液２を送液ポンプ６の
塗布液供給部６Ａにより供給管を介して供給するように
なっている。他方、スリット８の塗布液流出口９の下側
には、基材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすよ
うに形成された液水平スライド面４が形成されている。
なお、液水平スライド長Ｌは図１（ｂ）に示すように、
スリット８の塗布液流出口９より基材１の外寸よりやや
大なる寸法の終端までの長さである。更に、この液水平
スライド面４の終端より下方に延びる唇状部が形成され
ている。かかる塗布装置による塗布においては、円筒状
基材１Ａ、１Ｂを引き上げる過程で、塗布液２をスリッ
ト８から押し出し、液水平スライド面４に沿って流す
と、液水平スライド面の終端に至った塗布液は、その液
水平スライド面の終端と円筒状基材１Ａ、１Ｂの外周面
との間にビードを形成した後、円筒状基材の表面に塗布
される。なお、メニスカス最小曲率半径Ｒは図１（ｂ）
に示すビードの曲率半径である。また、円筒状基材とし
ては中空ドラム、例えば、アルミニウムドラム、プラス
チックドラムの他、シームレスベルト型の基材でも良
い。

【００１６】図３は、本発明に係わる他の塗布装置の一
例の構成断面図と要部拡大図で、図３（ａ）は構成断面
図、図３（ｂ）は要部拡大図である。更に詳しくは、図
１のスリットの変形例である。図１と機構的、機能的に
同一部材は、同一符号を付け説明を省略する。スリット
８の一部が下方に傾斜している。液水平スライド長Ｌは
図３（ｂ）に示すように、スリット８の塗布液流出口９
より基材１の外寸よりやや大なる寸法の終端までの長さ
である。同様にして、図４は、本発明に係わる他の塗布
装置の一例の構成断面図と要部拡大図で、図４（ａ）は
構成断面図、図４（ｂ）は要部拡大図である。図３と機
構的、機能的に同一部材は、同一符号を付け説明を省略
する。スリット８の一部が上方に傾斜している。

【００１７】図５は、本発明に係わる同時重層の塗布装
置の一例の構成断面図で、更に、詳しくは前記図３の塗
布装置を同時に重層塗布する装置である。エンドレスに
形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに感光体となる塗布液を
同時に重層塗布する。中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合
わした円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１Ａ、１
Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する塗布装置を示す。
図の様に前記円筒状基材１Ａ取り囲む様に、塗布液２、
２Ａの液水平スライド面４が形成され、液水平スライド
面４に供給される塗布液２、２Ａを前記円筒状基材１Ａ
に順次塗布する様に構成している。塗布方法としては、
前記塗布ヘッド３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心
線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より
塗布を行う。前記塗布ヘッド３の液水平スライド面４に
塗布液２、２Ａを供給するため、外部に設けた塗布液タ
ンク５、５１より液送ポンプ６の塗布液供給部６Ａを下
位置に、液送ポンプ６１の塗布液供給部６Ｂを上位置に
各々取り付けて前記塗布ヘッド３に接続し、塗布液２、
２Ａを供給する。

【００１８】次に、供給された塗布液２、２Ａは、前記
塗布ヘッド３内に形成した環状の液分配室７には塗布液
２を供給し、塗布ヘッド３内に形成した環状の液分配室
７１には前記塗布液２Ａを供給する。先ず供給された塗
布液２は塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗布液
流出口９より前記液水平スライド面４に塗布液２が連続
的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布
液２に塗布される。

【００１９】更に前記塗布液分配室７１には前記塗布液
２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配
スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前
記塗布された塗布液２の面上に連続的に供給され、前記
円筒状基材１Ａの全周面に塗布液２の表面に塗布液２Ａ
が重層塗布される。

【００２０】図６は、本発明に係わる逐次重層の塗布装
置の１例の構成断面図で、更に詳しくは図３の塗布装置
を上下に配置した逐次重層塗布する塗布装置である。エ
ンドレスに形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布液の重
層塗布を行う。図３と同様に液水平スライド面４に供給
される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗布する。
塗布方法としては、前記塗布ヘッド３を固定し、前記円
筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動さ
せながら上端部より塗布を行う。前記塗布ヘッド３の液
水平スライド面４に塗布液２を供給するため、外部に設
けた塗布液タンク５より液送ポンプ６の塗布液供給部６
Ａを前記塗布ヘッド３に接続し、塗布液２を供給する。
次に、供給された塗布液２は、前記塗布ヘッド３内に形
成した環状の液分配室７に供給されて塗布液分配スリッ
ト８よりエンドレスの塗布液流出口９より前記液水平ス
ライド面４に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は
円筒状基材１Ａの全周面に一層目が塗布される。

【００２１】更に塗布ヘッド３の上部に塗布ヘッド３２
が設けられ、一層目の塗布液２が塗布された塗布液２は
熱源Ｈで乾燥され、円筒状基材１Ａは矢示方向に上昇
し、塗布ヘッド３２の液水平スライド面４２に進入す
る。液水平スライド面４２に供給される塗布液２Ａを前
記円筒状基材１Ａに塗布された塗布液２を面上に順次重
層塗布する。塗布方法としては、前記同様に前記塗布ヘ
ッド３２を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿
って矢印方向に上昇移動させながら上端部より重層塗布
を行う。塗布ヘッド３２の液水平スライド面４２に塗布
液２Ａを供給するため、外部に設けた塗布液タンク５２
より送液ポンプ６２の塗布液供給部６Ｃを塗布ヘッド３
２に接続し、塗布液２Ａを供給する。次に、供給された
塗布液２Ａは、塗布ヘッド３２内に形成した環状の液分
配室７２に供給されて塗布液分配スリット８２よりエン
ドレスの塗布液流出口９２より液水平スライド面４２に
塗布液２Ａが連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒
状基材１Ａに塗布された塗布液２の全周面に塗布され
る。

【００２２】なお、上記逐次重層の塗布装置は２つの塗
布ヘッド３２を設けたものであるが、更に塗布ヘッド３
２の上部に別の塗布ヘッドを設け塗布ヘッドが３つの逐
次重層の塗布装置としてもよいことは言うまでもない。

【００２３】

【実施例】次に、実施例により本発明を説明するが、こ
れに限定されるものではない。

【００２４】＜実施例１＞ （実施例及び比較例）円筒状の基材である導電性支持体
としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍ
ｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。前記導電性支
持体の上に下記の塗布液組成物ＵＣＬ−１（ポリマー濃
度３ｗｔ％）を調製し、図１に記載の塗布装置を用いて
塗布し、塗布ドラムＮｏ．１−１を得た。なお基材の移
動速度は２５ｍｍ／ｓｅｃで行った。

【００２５】 ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） ３ｇ メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） １０００ｇ 塗布試験の結果、塗布性は良好であり、振動による膜厚
変動は見られなかった。

【００２６】＜実施例２＞導電性支持体としては鏡面加
工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウ
ムドラム支持体３本を用いた。前記支持体上に下記のご
とく各塗布液組成物ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２及びＣＧＬ
−３を調製し、それぞれ図３（ａ），（ｂ）に記載のご
とくの塗布装置を用いて塗布し、塗布ドラムＮｏ．２−
１〜２−３を得た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／se
cで行った。

【００２７】 ＣＧＬ−１塗布液組成物 フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１） ２５ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） １０ｇ メチルエチルケトン １４３０ｍｌ 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したものである。なお、ＣＧＭ−１の化
学式を「化１」に示す。

【００２８】

【化１】

【００２９】 ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２） ５０ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ５０ｇ メチルエチルケトン ２４００ｍｌ 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−４：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。なお、ＣＧＭ−２の化学式を
「化２」に示す。

【００３０】

【化２】

【００３１】 ＣＧＬ−３塗布液組成物 Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３） １０ｇ シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製） １０ｇ ｔ−酢酸ブチル １０００ｍｌ なお、ＣＧＭ−３の化学式を「化３」に示す。

【００３２】

【化３】

【００３３】上記塗布液組成物（固形分については固形
分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）
をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。塗布試験
の結果、塗布性は良好であり振動や送液脈動等による塗
布ムラや膜厚変動は見られなかった。

【００３４】＜実施例３＞導電性支持体としては鏡面加
工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウ
ムドラム支持体を用いた。前記支持体上に下記のごとく
塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図４（ａ），（ｂ）
に記載のごとく塗布装置を用いて、膜厚１７．５μの塗
布ドラムＮｏ．３−１を得た。なお基材の移動速度は１
５ｍｍ／ｓｅｃで行った。

【００３５】 ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ５０００ｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５６００ｇ １，２−ジクロロエタン ２８０００ｍｌ なお、ＣＴＭ−１の化学式を「化４」に示す。

【００３６】

【化４】

【００３７】得られた塗布ドラムの膜厚変動を図７に示
す。図７は塗布ドラムの長手方向と円周方向の膜厚分布
図で、図７（ａ）は塗布ドラムの長手方向、図７（ｂ）
は円周方向をそれぞれ示す。塗布ムラや膜厚変動もなく
塗布性は良好であった。

【００３８】＜実施例４＞円筒状の基材である導電性支
持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５
５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。前記導電
性支持体の上に＜実施例１＞のＵＣＬを、この上に＜実
施例２＞のＣＧＬ−２を、更にこの上に＜実施例３＞の
ＣＴＬ塗布組成物ＣＴＬ−１を図６に示す逐次型塗布装
置の形式で塗布ヘッドを３つ設けて塗布し、感光体ドラ
ムを得た。この感光体ドラムを用いて実写したところ膜
厚ムラ等の画像故障は見られなかった。

【００３９】

【発明の効果】以上のように構成したので、下記のよう
な効果を奏する。請求項１及び２の発明は、エンドレス
に形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布
する装置であって、塗布液分配スリットが端部を持たず
円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続であり、該
塗布液分配スリットの塗布液流出口から水平に連続し、
且つ該エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基
材の外形寸法よりやや大なる寸法において終端をなすよ
うに構成された液水平スライド面を有するので、ビード
が安定して優れた塗布ができ、膜厚変動がなく、振動に
対して影響を受けにくい。

【００４０】請求項３の発明は、水平スライド長が０．
５〜１０ｍｍであるので、適正塗布条件の幅が広く、ビ
ードの形成が安定し適正な膜厚変動内に制御でき、振動
に対して影響を受けにくい。

【００４１】請求項４の発明は、基材の移動速度が６〜
５０ｍｍ／ｓｅｃであるので、より一層の安定した塗布
が出来る。

【００４２】請求項５の発明は、各々複数の塗布液分配
スリット及び塗布液流出口を設け、異なる塗布液を塗布
液分配スリット及び塗布液流出口から同一液水平スライ
ド面上に流出させ、複数の塗布層を同時に基材上に形成
させるので、請求項１の効果に加え、塗布層が複数の場
合、塗布処理時間が短縮できる。

【００４３】請求項６の発明は、各々複数の塗布液分配
スリット、塗布液流出口及び液水平スライド面上を設
け、異なる塗布液を各々の塗布液分配スリットに供給
し、各々の塗布液流出口から各々の液水平スライド面に
供給させ、複数の塗布層を基材上に逐次形成させるの
で、請求項１の効果に加え、塗布層が複数の場合、塗布
処理時間が短縮できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる塗布装置の一例の構成断面図と
要部拡大図である。

【図２】図１に係わる塗布装置の斜視図である。

【図３】本発明に係わる他の塗布装置の一例の構成断面
図と要部拡大図である。

【図４】本発明に係わる他の塗布装置の一例の構成断面
図と要部拡大図である。

【図５】本発明に係わる同時重層の塗布装置の一例の構
成断面図である。

【図６】本発明に係わる逐次重層の塗布装置の一例の構
成断面図である。

【図７】塗布ドラムの長手方向と円周方向の膜厚分布図
である。

【符号の説明】

１Ａ，１Ｂ 円筒状基材 ２，２Ａ 塗布液 ３，３２ 塗布ヘッド ４，４２ 液水平スライド面 ５，５１, ５２ 塗布液タンク ６，６１，６２ 送液ポンプ ６Ａ，６Ｂ，６Ｃ 塗布液供給部 ７，７１，７２ 液分配室 ８，８１，８２ 塗布液分配スリット ９，９１，９２ 塗布液流出口 Ｌ 液水平スライド長

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エンドレスに形成された連続面を有する
   基材の外面上に塗布する塗布装置であって、塗布液分配
   スリットが端部を持たず基材の外周を取り囲むように連
   続であり、該塗布液分配スリットの塗布液流出口から水
   平に連続し、且つ該エンドレスに形成された連続面を有
   する円筒状基材の外形寸法よりやや大なる寸法において
   終端をなすように構成された液水平スライド面を備えた
   ことを特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 エンドレスに形成された連続面を有する
   円筒状基材の外面上に塗布する方法であって、塗布液分
   配スリットが端部を持たず基材外周を取り囲むようにし
   て連続であり、該塗布液分配スリットの塗布液流出口か
   ら水平に連続し、かつ該エンドレスに形成された連続面
   を有する円筒状基材の外形寸法よりやや大なる寸法にお
   いて終端をなすように構成された液水平スライド面を有
   する塗布装置により塗布することを特徴とする塗布方
   法。
3. 【請求項３】 前記塗布液流出口より前記終端までの液
   水平スライド長が０．５〜１０ｍｍであることを特徴と
   する請求項１項に記載の塗布装置。
4. 【請求項４】 前記円筒状基材の移動速度が６〜５０ｍ
   ｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項３に記載の塗
   布装置。
5. 【請求項５】 各々複数の塗布液分配スリット及び塗布
   液流出口を設け、異なる塗布液を塗布液分配スリット及
   び塗布液流出口から同一の液水平スライド面上に流出さ
   せ、複数の塗布層を同時に基材上に形成させることを特
   徴とする請求項１に記載の塗布装置。
6. 【請求項６】 各々複数の塗布液分配スリット、塗布液
   流出口及び液水平スライド面上を設け、異なる塗布液を
   各々の塗布液分配スリットに供給し、各々の塗布液流出
   口から各々の液水平スライド面に供給させ、複数の塗布
   層を基材上に逐次形成させることを特徴とする請求項１
   に記載の塗布装置。