JPH10113592A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
塗布装置および塗布方法Info
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- JPH10113592A JPH10113592A JP8265798A JP26579896A JPH10113592A JP H10113592 A JPH10113592 A JP H10113592A JP 8265798 A JP8265798 A JP 8265798A JP 26579896 A JP26579896 A JP 26579896A JP H10113592 A JPH10113592 A JP H10113592A
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- coating liquid
- coating
- continuous
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ドラムに感光体の塗布を長時間行っている
際、コーターを丹念に洗浄した直後塗布してもスジ故障
が発生し、塗布液によっては塗布液膜切れ（液切れによ
るものが多い）、膜厚の変動、等の問題があり未だ満足
のいくものではない。 【解決手段】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続形
成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗布液
分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜角を
もって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布液分
配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且
つエンドレスに形成された連続面のスライド面より前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に於い
て、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが
１３度以上である。
際、コーターを丹念に洗浄した直後塗布してもスジ故障
が発生し、塗布液によっては塗布液膜切れ（液切れによ
るものが多い）、膜厚の変動、等の問題があり未だ満足
のいくものではない。 【解決手段】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続形
成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗布液
分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜角を
もって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布液分
配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且
つエンドレスに形成された連続面のスライド面より前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に於い
て、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが
１３度以上である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エンドレスに形成
された連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を
均一に塗布する塗布装置及び塗布方法に関するものであ
る。
された連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を
均一に塗布する塗布装置及び塗布方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材（ドラムとも云う）の外面上へ薄膜を均一に
塗布する方法として、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ブ
レード塗布法、ロール塗布法等の方法が検討されてい
る。特に、電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な
塗布については生産性の優れた塗布方法、装置を開発す
べく検討されている。スプレー塗布法ではスプレーガン
より噴出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続
面を有する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒
が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしま
い、それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が
面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないため
に、あるいは乾燥して固体化してしまった粒子が表面に
付着するために、塗布表面の平滑性の良いものが得られ
ない。また、連続面を有する円筒状基材への液滴の到達
率が１００％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも
不均一であるため、膜厚コントロールが困難である。更
に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用
する溶媒及び樹脂に制限がされてしまう。
円筒状基材（ドラムとも云う）の外面上へ薄膜を均一に
塗布する方法として、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ブ
レード塗布法、ロール塗布法等の方法が検討されてい
る。特に、電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な
塗布については生産性の優れた塗布方法、装置を開発す
べく検討されている。スプレー塗布法ではスプレーガン
より噴出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続
面を有する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒
が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしま
い、それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が
面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないため
に、あるいは乾燥して固体化してしまった粒子が表面に
付着するために、塗布表面の平滑性の良いものが得られ
ない。また、連続面を有する円筒状基材への液滴の到達
率が１００％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも
不均一であるため、膜厚コントロールが困難である。更
に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用
する溶媒及び樹脂に制限がされてしまう。
【０００３】ブレード塗布法、ロール塗布法では、例え
ば円筒状基材の軸方向にブレードもしくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
１回転させた後、ブレードもしくはロールを後退させる
ものである。しかしながらブレードもしくはロールを後
退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他
の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠
点がある。
ば円筒状基材の軸方向にブレードもしくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
１回転させた後、ブレードもしくはロールを後退させる
ものである。しかしながらブレードもしくはロールを後
退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他
の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠
点がある。
【０００４】浸漬塗布法では、上記におけるような塗布
液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良され
る。しかしながら、塗布膜厚の制御が塗布液物性の例え
ば、粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配さ
れ、塗布液物性の調製が重要となる。また塗布速度も低
いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量
が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け出
し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良され
る。しかしながら、塗布膜厚の制御が塗布液物性の例え
ば、粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配さ
れ、塗布液物性の調製が重要となる。また塗布速度も低
いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量
が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け出
し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００５】そこで、スライドホッパー型を含む円形量
規制型塗布装置の技術が開示されている。該スライドホ
ッパー型の塗布装置はエンドレスに形成された連続周面
を有する円筒状基材を連続的にその軸方向に移動させな
がら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面
に対して塗布液を塗布するものであって、さらにこの塗
布装置は環状の液分配室（液溜まり室とも言う）と、該
液分配室の一部に対して外部から塗布液を供給する供給
口と、前記液分配室の内方に開口する塗布液分配スリッ
トとを有し、該スリットから流出した塗布液を斜め下方
に傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端
の唇状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙
部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその
外周面に塗布するものである。該塗布装置を用いること
により、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、
生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となること
が知られている。（特開昭５８−１８９０６１号公報参
照）
規制型塗布装置の技術が開示されている。該スライドホ
ッパー型の塗布装置はエンドレスに形成された連続周面
を有する円筒状基材を連続的にその軸方向に移動させな
がら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面
に対して塗布液を塗布するものであって、さらにこの塗
布装置は環状の液分配室（液溜まり室とも言う）と、該
液分配室の一部に対して外部から塗布液を供給する供給
口と、前記液分配室の内方に開口する塗布液分配スリッ
トとを有し、該スリットから流出した塗布液を斜め下方
に傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端
の唇状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙
部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその
外周面に塗布するものである。該塗布装置を用いること
により、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、
生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となること
が知られている。（特開昭５８−１８９０６１号公報参
照）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、円形ス
ライドホッパー型の塗布装置（以下コーターと云う）に
より長時間の塗布を行っていると突然スジ故障が発生す
るケースが多発したり、コーターを丹念に洗浄した直後
に塗布してもスジ故障が発生したりする。
ライドホッパー型の塗布装置（以下コーターと云う）に
より長時間の塗布を行っていると突然スジ故障が発生す
るケースが多発したり、コーターを丹念に洗浄した直後
に塗布してもスジ故障が発生したりする。
【０００７】前記スライドホッパー型塗布装置を用いて
も、なお塗布液によっては塗布液膜切れ（ビード切れに
よるものが多い）、膜厚の変動、スジ故障等の問題があ
り未だ満足のいくものではない。
も、なお塗布液によっては塗布液膜切れ（ビード切れに
よるものが多い）、膜厚の変動、スジ故障等の問題があ
り未だ満足のいくものではない。
【０００８】即ち、前記スライドホッパー型のコーター
を用いてもなお塗布条件が把握できず、ある塗布液では
うまく塗布できるが、別の塗布液ではムラが発生する
等、液によって、あるいは他の装置条件によって塗布性
が微妙に異なっている。
を用いてもなお塗布条件が把握できず、ある塗布液では
うまく塗布できるが、別の塗布液ではムラが発生する
等、液によって、あるいは他の装置条件によって塗布性
が微妙に異なっている。
【０００９】このような原因については塗布液とコータ
ー、塗布条件とのミスマッチングとされていたのである
が、本発明者等は鋭意研究観察した結果、液スライド面
上部の蓋エッジ部に塗布液の盛り上がりが非定常状態的
に発生消失を繰り返し、液スライド面を撹乱し、スジ状
塗布故障を発生させることを見いだし、蓋エッジ部の表
面物性（接触角θE）、あるいは蓋エッジ部とスライド
面との表面物性バランス、あるいは蓋エッジ部と基材塗
布面との表面物性バランスが主原因であることを突き止
め本発明に至った。
ー、塗布条件とのミスマッチングとされていたのである
が、本発明者等は鋭意研究観察した結果、液スライド面
上部の蓋エッジ部に塗布液の盛り上がりが非定常状態的
に発生消失を繰り返し、液スライド面を撹乱し、スジ状
塗布故障を発生させることを見いだし、蓋エッジ部の表
面物性（接触角θE）、あるいは蓋エッジ部とスライド
面との表面物性バランス、あるいは蓋エッジ部と基材塗
布面との表面物性バランスが主原因であることを突き止
め本発明に至った。
【００１０】本発明はこれに鑑み提案されたものであ
り、その目的とするところのものは、低粘度や高粘度の
塗布液においても膜厚変動のない、スジ故障のない、長
時間安定塗布に優れた塗布装置及び塗布方法を提供する
ことにある。
り、その目的とするところのものは、低粘度や高粘度の
塗布液においても膜厚変動のない、スジ故障のない、長
時間安定塗布に優れた塗布装置及び塗布方法を提供する
ことにある。
【００１１】図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は前記コータ
ーの蓋エッジ部９Ａ、スライド面４、円筒状基材１Ａに
対する塗布液２の状態を各々示す。但し本図に於いては
垂直であったり、傾斜した状態で示しているので接触角
はθE′，θS′，θD′であり、実際の測定値は図２
（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）で示すように平面の状態で行っ
た値θE，θS，θDである。
ーの蓋エッジ部９Ａ、スライド面４、円筒状基材１Ａに
対する塗布液２の状態を各々示す。但し本図に於いては
垂直であったり、傾斜した状態で示しているので接触角
はθE′，θS′，θD′であり、実際の測定値は図２
（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）で示すように平面の状態で行っ
た値θE，θS，θDである。
【００１２】図２（ａ）は、蓋エッジ部９Ａに塗布液２
が静止状態で接触する接触角θE′で示す。
が静止状態で接触する接触角θE′で示す。
【００１３】図２（ｂ）は、前記ホッパー塗布面のスラ
イド面４に塗布液２が静止状態で接触する接触角を
θS′で示す。
イド面４に塗布液２が静止状態で接触する接触角を
θS′で示す。
【００１４】図２（ｃ）は、円筒状基材１Ａに対する塗
布液２が静止状態で接触する接触角をθD′で示す。
布液２が静止状態で接触する接触角をθD′で示す。
【００１５】前記の関係で、平面で行った値でθE≦
θS、又はθE＜θDである時はスライド面４に流れる塗
布液２の一部が蓋エッジ部９Ａに盛り上がり、スライド
面４にスジ状の流れが発生し、円筒状基材１Ａに対する
塗布液２にスジ故障が発生して安定した塗布が出来な
い。
θS、又はθE＜θDである時はスライド面４に流れる塗
布液２の一部が蓋エッジ部９Ａに盛り上がり、スライド
面４にスジ状の流れが発生し、円筒状基材１Ａに対する
塗布液２にスジ故障が発生して安定した塗布が出来な
い。
【００１６】通常の電子写真感光体に用いられる有機溶
媒系塗布液では、蓋エッジ部９Ａの接触角が１３度以上
あれば蓋エッジ部９Ａヘの盛り上がりがないし、更に２
０度以上がよく、更には３０度以上が好ましい。そして
好ましくはθE＞θS≧θDの関係となる場合が良好とな
る。
媒系塗布液では、蓋エッジ部９Ａの接触角が１３度以上
あれば蓋エッジ部９Ａヘの盛り上がりがないし、更に２
０度以上がよく、更には３０度以上が好ましい。そして
好ましくはθE＞θS≧θDの関係となる場合が良好とな
る。
【００１７】更に本発明の目的は、同一塗布装置から複
数の塗布層を同時に円筒状基材上に形成させるいわゆる
同時重層塗布においても、ビード切れがなく、膜厚変動
のない長期安定塗布に優れた塗布装置、及び塗布方法を
提供することにある。
数の塗布層を同時に円筒状基材上に形成させるいわゆる
同時重層塗布においても、ビード切れがなく、膜厚変動
のない長期安定塗布に優れた塗布装置、及び塗布方法を
提供することにある。
【００１８】更に又本発明の目的は、複数の塗布装置か
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布においても、ビード切れがなく膜厚変動のない、長期
安定塗布に優れた塗布装置及び塗布方法を提供すること
にある。
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布においても、ビード切れがなく膜厚変動のない、長期
安定塗布に優れた塗布装置及び塗布方法を提供すること
にある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的のため
請求項１に於いて、エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置で
あって、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連
続形成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗
布液分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜
角をもって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布
液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜
し、且つエンドレスに形成された連続面のスライド面よ
り前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端
をなすようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
Eが１３度以上であること、請求項２に於いて、エンド
レスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に
塗布液を塗布する塗布装置であって、前記円筒状基材の
外周を取り囲むようにして連続形成され端部を有しない
塗布液分配スリットと、該塗布液分配スリットの塗布液
流出口の上側に垂直乃至傾斜角をもって形成された連続
した蓋エッジ部と、前記塗布液分配スリットの塗布液流
出口の下側に連続して傾斜し、且つエンドレスに形成さ
れた連続面のスライド面より前記円筒状基材の外径寸法
よりやや大きな寸法で終端をなすようにホッパー塗布面
とが形成された塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッ
ジ部と塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布
液との接触角θSは下記式の関係であること、 θE＞θS 請求項３に於いて、エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置で
あって、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連
続形成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗
布液分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜
角をもって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布
液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜
し、且つエンドレスに形成された連続面のスライド面よ
り前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端
をなすようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
Eと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液との接触角θDは
下記式の関係であること、 θE≧θD 請求項４に於いて、前記スライド面が金属であること、
請求項５に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEが１３度以上であること、請求項６に於い
て、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが
θE＞θS≧θDであること、請求項７に於いて、前記塗
布液が有機溶媒であること、請求項８に於いて、エンド
レスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に
塗布液を塗布する塗布装置であって、連続形成され端部
を有しない塗布液分配スリットが前記円筒状基材の外周
を取り囲み、上側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋
エッジ部が形成された前記塗布液分配スリットの塗布液
流出口より塗布液が流出し、前記塗布液分配スリットの
塗布液流出口の下側に連続して傾斜して形成されたスラ
イド面よりエンドレスに形成された連続面を有し、前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ように構成されホッパー塗布面とより前記円筒状基材の
外面上に塗布液を塗布する塗布方法に於いて、前記連続
した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが１３度以上で
あること、請求項９に於いて、エンドレスに形成された
連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する
塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布液
分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側
に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成さ
れた前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布液
が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下
側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエンド
レスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外径
寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成されホ
ッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液を
塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部と
塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布液との
接触角θSは下記式の関係であること、 θE＞θS 請求項１０に於いて、エンドレスに形成された連続面を
有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置
であって、連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側に垂直乃
至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成された前記
塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布液が流出
し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜して形成されたスライド面よりエンドレスに
形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よ
りやや大きな寸法で終端をなすように構成されホッパー
塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液と
の接触角θDは下記式の関係であること、 θE≧θD 請求項１１に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEが１３度以上であること、請求項１２に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
EがθE＞θS≧θDであることにより達成される。
請求項１に於いて、エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置で
あって、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連
続形成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗
布液分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜
角をもって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布
液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜
し、且つエンドレスに形成された連続面のスライド面よ
り前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端
をなすようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
Eが１３度以上であること、請求項２に於いて、エンド
レスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に
塗布液を塗布する塗布装置であって、前記円筒状基材の
外周を取り囲むようにして連続形成され端部を有しない
塗布液分配スリットと、該塗布液分配スリットの塗布液
流出口の上側に垂直乃至傾斜角をもって形成された連続
した蓋エッジ部と、前記塗布液分配スリットの塗布液流
出口の下側に連続して傾斜し、且つエンドレスに形成さ
れた連続面のスライド面より前記円筒状基材の外径寸法
よりやや大きな寸法で終端をなすようにホッパー塗布面
とが形成された塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッ
ジ部と塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布
液との接触角θSは下記式の関係であること、 θE＞θS 請求項３に於いて、エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置で
あって、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連
続形成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗
布液分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜
角をもって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布
液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜
し、且つエンドレスに形成された連続面のスライド面よ
り前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端
をなすようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
Eと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液との接触角θDは
下記式の関係であること、 θE≧θD 請求項４に於いて、前記スライド面が金属であること、
請求項５に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEが１３度以上であること、請求項６に於い
て、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが
θE＞θS≧θDであること、請求項７に於いて、前記塗
布液が有機溶媒であること、請求項８に於いて、エンド
レスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に
塗布液を塗布する塗布装置であって、連続形成され端部
を有しない塗布液分配スリットが前記円筒状基材の外周
を取り囲み、上側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋
エッジ部が形成された前記塗布液分配スリットの塗布液
流出口より塗布液が流出し、前記塗布液分配スリットの
塗布液流出口の下側に連続して傾斜して形成されたスラ
イド面よりエンドレスに形成された連続面を有し、前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ように構成されホッパー塗布面とより前記円筒状基材の
外面上に塗布液を塗布する塗布方法に於いて、前記連続
した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが１３度以上で
あること、請求項９に於いて、エンドレスに形成された
連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する
塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布液
分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側
に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成さ
れた前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布液
が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下
側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエンド
レスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外径
寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成されホ
ッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液を
塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部と
塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布液との
接触角θSは下記式の関係であること、 θE＞θS 請求項１０に於いて、エンドレスに形成された連続面を
有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置
であって、連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側に垂直乃
至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成された前記
塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布液が流出
し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜して形成されたスライド面よりエンドレスに
形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よ
りやや大きな寸法で終端をなすように構成されホッパー
塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液と
の接触角θDは下記式の関係であること、 θE≧θD 請求項１１に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEが１３度以上であること、請求項１２に
於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θ
EがθE＞θS≧θDであることにより達成される。
【００２０】
【発明の実施の形態】次に、実施の形態より本発明を説
明するが、これに限定されるものではない。図１は、本
発明の塗布装置の塗布状態を示す断面図で、図に於いて
中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わしたエンドレスに形
成された円筒状基材１Ａ，１Ｂと、円筒状基材１Ａ，１
Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する塗布装置を示す。
即ち、前記塗布装置は、エンドレスに形成された連続面
を有する円筒状基材１Ａ、１Ｂの外面上に塗布液２を塗
布する塗布装置であり、前記円筒状基材１Ａ、１Ｂの外
周を取り囲むようにして連続形成され端部を有しない塗
布液分配スリット８と、該塗布液分配スリット８で、塗
布液流出口９（図４参照）の上側に垂直乃至傾斜角をも
って形成された連続した蓋エッジ部９Ａが形成され前記
塗布液分配スリット８の塗布液流出口９の下側に連続し
て傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のスライ
ド面４より前記円筒状基材１Ａ、１Ｂの外径寸法よりや
や大きな寸法で終端をなすようにホッパー塗布面が形成
されている。そして図のように前記円筒状基材１Ａを取
り囲むように、塗布液２のホッパー塗布面のスライド面
４が形成され、スライド面４に供給される塗布液２を前
記円筒状基材１Ａに順次塗布するように構成している。
塗布方法としては、コーター３を固定し、円筒状基材１
Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上
端部より塗布を行う。前記コーター３のホッパー塗布面
のスライド面４に塗布液２を供給するため、外部に設け
た塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａ
を前記コーター３に接続し、塗布液２を供給する。次に
供給された塗布液２は、前記コーター３内に形成した環
状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８
より蓋部９１に形成した蓋エッジ部９Ａを有するエンド
レスの前記塗布液流出口９より前記ホッパー塗布面のス
ライド面４に塗布液２が連続的に供給し、塗布液２は円
筒状基材１Ａの全周面に塗布される。
明するが、これに限定されるものではない。図１は、本
発明の塗布装置の塗布状態を示す断面図で、図に於いて
中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わしたエンドレスに形
成された円筒状基材１Ａ，１Ｂと、円筒状基材１Ａ，１
Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する塗布装置を示す。
即ち、前記塗布装置は、エンドレスに形成された連続面
を有する円筒状基材１Ａ、１Ｂの外面上に塗布液２を塗
布する塗布装置であり、前記円筒状基材１Ａ、１Ｂの外
周を取り囲むようにして連続形成され端部を有しない塗
布液分配スリット８と、該塗布液分配スリット８で、塗
布液流出口９（図４参照）の上側に垂直乃至傾斜角をも
って形成された連続した蓋エッジ部９Ａが形成され前記
塗布液分配スリット８の塗布液流出口９の下側に連続し
て傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のスライ
ド面４より前記円筒状基材１Ａ、１Ｂの外径寸法よりや
や大きな寸法で終端をなすようにホッパー塗布面が形成
されている。そして図のように前記円筒状基材１Ａを取
り囲むように、塗布液２のホッパー塗布面のスライド面
４が形成され、スライド面４に供給される塗布液２を前
記円筒状基材１Ａに順次塗布するように構成している。
塗布方法としては、コーター３を固定し、円筒状基材１
Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上
端部より塗布を行う。前記コーター３のホッパー塗布面
のスライド面４に塗布液２を供給するため、外部に設け
た塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａ
を前記コーター３に接続し、塗布液２を供給する。次に
供給された塗布液２は、前記コーター３内に形成した環
状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８
より蓋部９１に形成した蓋エッジ部９Ａを有するエンド
レスの前記塗布液流出口９より前記ホッパー塗布面のス
ライド面４に塗布液２が連続的に供給し、塗布液２は円
筒状基材１Ａの全周面に塗布される。
【００２１】図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、エンドレ
スの塗布液流出口９の蓋エッジ部９Ａに設けた塗布ムラ
防止部材の断面図を示す。
スの塗布液流出口９の蓋エッジ部９Ａに設けた塗布ムラ
防止部材の断面図を示す。
【００２２】図３（ａ）は、蓋エッジ部９Ａにテフロン
部材９２をエンドレスに張り付けて固定した実施形態を
示す。
部材９２をエンドレスに張り付けて固定した実施形態を
示す。
【００２３】図３（ｂ）は、蓋エッジ部９Ａにテフロン
コーティング９３をエンドレスに施した実施形態を示
す。
コーティング９３をエンドレスに施した実施形態を示
す。
【００２４】図３（ｃ）は、蓋エッジ部９Ａに分散メッ
キ膜９４をエンドレスに施した実施形態を示す。又、蓋
エッジ部９Ａ位置に使用される好ましい材料としては、
プラスチック、セラミック或いは金属があり、具体的に
はＰＥＴ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、
ガラス、アルミナ、表面処理真鍮、表面処理ステンレス
等があり更に好ましくは例えばテフロン（ＰＴＦＥ）、
フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥ
Ｐ）、シリコーンポリマー等の低エネルギー表面材料が
良く、これらポリマーの張り合わせやコーティングも良
い。また別の好ましい例としては分散メッキ処理、例え
ばカニフロン（日本カニゼン社）等のいわゆる機能性メ
ッキを施すことにより達成される。
キ膜９４をエンドレスに施した実施形態を示す。又、蓋
エッジ部９Ａ位置に使用される好ましい材料としては、
プラスチック、セラミック或いは金属があり、具体的に
はＰＥＴ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、
ガラス、アルミナ、表面処理真鍮、表面処理ステンレス
等があり更に好ましくは例えばテフロン（ＰＴＦＥ）、
フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥ
Ｐ）、シリコーンポリマー等の低エネルギー表面材料が
良く、これらポリマーの張り合わせやコーティングも良
い。また別の好ましい例としては分散メッキ処理、例え
ばカニフロン（日本カニゼン社）等のいわゆる機能性メ
ッキを施すことにより達成される。
【００２５】これらプラスッチク、セラミック、金属、
分散メッキ処理物は塗布溶媒、洗浄溶媒に不活性である
のは無論である。
分散メッキ処理物は塗布溶媒、洗浄溶媒に不活性である
のは無論である。
【００２６】接触角の測定は接触角計例えばＣＡ−ＤＴ
型（協和界面科学株）による液滴法やＭｉｌｌｅｒの液
滴法（Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ＆
Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ１２（５）１３Ｐ １９７
３）が良い。本発明での接触角は２２℃の塗布液を用い
た時の平面の値である。
型（協和界面科学株）による液滴法やＭｉｌｌｅｒの液
滴法（Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ＆
Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ１２（５）１３Ｐ １９７
３）が良い。本発明での接触角は２２℃の塗布液を用い
た時の平面の値である。
【００２７】図４は、図１のコーター３の一部を切欠し
て示す斜視図である。
て示す斜視図である。
【００２８】以上のコーター３を用いて円筒状基材１
Ａ，１Ｂに塗布液２を塗布した時の実施例及び比較例を
以下に示す。
Ａ，１Ｂに塗布液２を塗布した時の実施例及び比較例を
以下に示す。
【００２９】次に実施例により本発明を説明するが、こ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
【００３０】実施例１−１ 円筒状基材１Ａ，１Ｂを導電性支持体としては鏡面加工
を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム
製のドラムを用いた。
を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム
製のドラムを用いた。
【００３１】前記ドラム上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１を表１の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、図１に記載の如くの
ステンレス（サス４０３）製で、塗布装置であるスライ
ドホッパー型のコーター３を用いて、表１に記載の如く
スリットギャップ、コーターギャップ、及びドラム搬送
速度で塗布した。使用したコーター３は塗布開始に当た
ってアルカリ脱脂した後良く洗浄したコーターＡとし、
アルカリ脱脂せず工業用メチレンクロライドで洗浄した
ものをコーターＢとした。この時の円筒状基材であるド
ラムをそれぞれＮｏ．１−１−１〜１−１−２とする。
結果を表１に示す。
ＣＬ−１を表１の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、図１に記載の如くの
ステンレス（サス４０３）製で、塗布装置であるスライ
ドホッパー型のコーター３を用いて、表１に記載の如く
スリットギャップ、コーターギャップ、及びドラム搬送
速度で塗布した。使用したコーター３は塗布開始に当た
ってアルカリ脱脂した後良く洗浄したコーターＡとし、
アルカリ脱脂せず工業用メチレンクロライドで洗浄した
ものをコーターＢとした。この時の円筒状基材であるド
ラムをそれぞれＮｏ．１−１−１〜１−１−２とする。
結果を表１に示す。
【００３２】ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）
【００３３】
【表１】
【００３４】以上の結果より蓋エッジ部９Ａと塗布液２
の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢの塗
布性が良好であった。
の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢの塗
布性が良好であった。
【００３５】実施例１−２ 円筒状基材１Ａ，１Ｂを導電性支持体としては鏡面加工
を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム
製のドラムを用いた。
を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム
製のドラムを用いた。
【００３６】前記ドラム上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−１を表２の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、図１に記載の如くの
ステンレス（サス４０３）製で、塗布装置であるスライ
ドホッパー型のコーター３を用いて、表２に記載の如く
スリットギャップ、コーターギャップ、ドラム搬送速度
で塗布した。使用したコーター３は塗布開始に当たって
アルカリ脱脂した後、良く洗浄したコーター３を表では
コーターＡとし、アルカリ脱脂せず工業用メチレンクロ
ライドで洗浄したものをコーターＢとした。この時の円
筒状基材である塗布ドラムをそれぞれＮｏ．１−２−１
〜１−２−２とする。結果を表２に示す。
ＧＬ−１を表２の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、図１に記載の如くの
ステンレス（サス４０３）製で、塗布装置であるスライ
ドホッパー型のコーター３を用いて、表２に記載の如く
スリットギャップ、コーターギャップ、ドラム搬送速度
で塗布した。使用したコーター３は塗布開始に当たって
アルカリ脱脂した後、良く洗浄したコーター３を表では
コーターＡとし、アルカリ脱脂せず工業用メチレンクロ
ライドで洗浄したものをコーターＢとした。この時の円
筒状基材である塗布ドラムをそれぞれＮｏ．１−２−１
〜１−２−２とする。結果を表２に示す。
【００３７】ＣＧＬ−１塗布液組成物 フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１） ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００３８】
【表２】
【００３９】
【化１】
【００４０】以上の結果により、蓋エッジ部９Ａと塗布
液２の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢ
の塗布性が良好であった。
液２の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢ
の塗布性が良好であった。
【００４１】実施例１−３ 円筒状基材１Ａ，１Ｂを導電性支持体として鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム製
のドラムを用いた。
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウム製
のドラムを用いた。
【００４２】前記ドラム上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１を調整し、表３の如くの粘度になるように固形
分濃度（溶媒量の添加による）を調整し、実施例１−１
と同じようにステンレス（サス４０３）製の塗布装置で
あるスライドホッパー型のコーターＡ及びコーターＢと
して表３に記載の如くスリットギャップ、コーターギャ
ップ、及びドラム搬送速度で塗布した。この時の円筒状
基材であるドラムをＮｏ．１−３−１及び１−３−２と
し、結果を表３に示す。
ＴＬ−１を調整し、表３の如くの粘度になるように固形
分濃度（溶媒量の添加による）を調整し、実施例１−１
と同じようにステンレス（サス４０３）製の塗布装置で
あるスライドホッパー型のコーターＡ及びコーターＢと
して表３に記載の如くスリットギャップ、コーターギャ
ップ、及びドラム搬送速度で塗布した。この時の円筒状
基材であるドラムをＮｏ．１−３−１及び１−３−２と
し、結果を表３に示す。
【００４３】ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定
＝０．８９：１に固定
【００４４】
【表３】
【００４５】
【化２】
【００４６】以上の結果より蓋エッジ部９Ａと塗布液２
の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢの塗
布性が良好であった。
の接触角θEは、１３〜１５度を用いたコーターＢの塗
布性が良好であった。
【００４７】実施例２ （実施例及び比較例）円筒状基材１Ａ，１Ｂを導電性支
持体として鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５
ｍｍのアルミニウム製のドラムを用いた。
持体として鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５
ｍｍのアルミニウム製のドラムを用いた。
【００４８】前記ドラム上に下記の如く各塗布液組成物
ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２及びＣＧＬ−３を分散調整し、
表４の如くの粘度になるように固形分濃度（溶媒量の添
加による）を調整し、図１に記載の如くのステンレス
（サス４０３）製の塗布装置であるスライドホッパー型
のコーター３を用いて、表４に記載の如くスリットギャ
ップ、コーターギャップで塗布した。この時の円筒状基
材である塗布液を塗布するドラムをＮｏ．２−１〜２−
４とし、結果を表４に示す。
ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２及びＣＧＬ−３を分散調整し、
表４の如くの粘度になるように固形分濃度（溶媒量の添
加による）を調整し、図１に記載の如くのステンレス
（サス４０３）製の塗布装置であるスライドホッパー型
のコーター３を用いて、表４に記載の如くスリットギャ
ップ、コーターギャップで塗布した。この時の円筒状基
材である塗布液を塗布するドラムをＮｏ．２−１〜２−
４とし、結果を表４に示す。
【００４９】ＣＧＬ−１塗布液組成物 フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１） ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００５０】ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２） ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−４：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
Ｍ−４：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００５１】ＣＧＬ−３塗布液組成物 Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３） シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製） ｔ−酢酸ブチル 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミル
を用いて１７時間分散したもの。
Ｍ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミル
を用いて１７時間分散したもの。
【００５２】
【表４】
【００５３】
【化３】
【００５４】
【化４】
【００５５】以上の結果により、蓋エッジ部９Ａと塗布
液２の接触角θEが１３度以下の場合はスジ故障が発生
し、１３度以上の場合には良好であることが分かる。
液２の接触角θEが１３度以下の場合はスジ故障が発生
し、１３度以上の場合には良好であることが分かる。
【００５６】実施例３ 円筒状基材１Ａ，１Ｂを導電性支持体として鏡面加工後
水洗浄を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミ
ニウムドラム支持体を用いた。
水洗浄を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミ
ニウムドラム支持体を用いた。
【００５７】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１を表５の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、表５及び図１に記載
の如くのステンレス（サス４０３）製スライドホッパー
型塗布装置を用いて、表５に記載の如くスリットギャッ
プ、コーターギャップ、ドラム搬送速度で塗布した。こ
の時の円筒状基材であるドラムをそれぞれＮｏ．３−１
〜３−４とする。結果を表５に示す。
ＣＬ−１を表５の如くの粘度になるようにポリマー濃度
（溶媒量の添加による）を調整し、表５及び図１に記載
の如くのステンレス（サス４０３）製スライドホッパー
型塗布装置を用いて、表５に記載の如くスリットギャッ
プ、コーターギャップ、ドラム搬送速度で塗布した。こ
の時の円筒状基材であるドラムをそれぞれＮｏ．３−１
〜３−４とする。結果を表５に示す。
【００５８】ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）
【００５９】
【表５】
【００６０】本実施例に於いても、以上の結果により、
蓋エッジ部９Ａと塗布液２の接触角θEが１３度以下の
場合はスジ故障が発生し、１３度以上の場合には良好で
あることが分かる。
蓋エッジ部９Ａと塗布液２の接触角θEが１３度以下の
場合はスジ故障が発生し、１３度以上の場合には良好で
あることが分かる。
【００６１】図５は、本発明の他の実施例を示す塗布装
置による塗布状態を示す断面図である。さらに詳しく
は、前記図１の実施例に用いられた塗布装置を用いてエ
ンドレスに形成した円筒状基材１Ａ，１Ｂに感光体とな
る塗布液を同時に重層塗布する他の実施例を示す。図に
於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わした円筒状
基材１Ａ，１Ｂと、該円筒状基材１Ａ，１Ｂに順次感光
用の塗布液２を塗布する塗布装置を示す。図の様に前記
円筒状基材１Ａを取り囲む様に、塗布液２，２Ａのスラ
イド面４が形成され、該スライド面４に供給される塗布
液２，２Ａを前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構
成している。塗布方法としては、前記コーター３を固定
し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に
上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記コータ
ー３のスライド面４に塗布液２，２Ａを供給するため、
外部に設けた塗布液タンク５，５１より送液ポンプ６の
塗布液供給部６Ａを下位置に、送液ポンプ６１の塗布液
供給部６Ｂを上位置に各々取り付けて前記コーター３に
接続し、塗布液２，２Ａを供給する。
置による塗布状態を示す断面図である。さらに詳しく
は、前記図１の実施例に用いられた塗布装置を用いてエ
ンドレスに形成した円筒状基材１Ａ，１Ｂに感光体とな
る塗布液を同時に重層塗布する他の実施例を示す。図に
於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わした円筒状
基材１Ａ，１Ｂと、該円筒状基材１Ａ，１Ｂに順次感光
用の塗布液２を塗布する塗布装置を示す。図の様に前記
円筒状基材１Ａを取り囲む様に、塗布液２，２Ａのスラ
イド面４が形成され、該スライド面４に供給される塗布
液２，２Ａを前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構
成している。塗布方法としては、前記コーター３を固定
し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に
上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記コータ
ー３のスライド面４に塗布液２，２Ａを供給するため、
外部に設けた塗布液タンク５，５１より送液ポンプ６の
塗布液供給部６Ａを下位置に、送液ポンプ６１の塗布液
供給部６Ｂを上位置に各々取り付けて前記コーター３に
接続し、塗布液２，２Ａを供給する。
【００６２】次に供給された塗布液２，２Ａは、前記コ
ーター３内に形成した環状の塗布液分配室７には前記塗
布液２を供給し、コーター３内に形成した環状の塗布液
分配室７１には前記塗布液２Ａを供給する。先ず供給さ
れた塗布液２は塗布液分配スリット８よりエンドレスの
塗布液流出口９より前記スライド面４に塗布液２が連続
的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布
液２に塗布される。
ーター３内に形成した環状の塗布液分配室７には前記塗
布液２を供給し、コーター３内に形成した環状の塗布液
分配室７１には前記塗布液２Ａを供給する。先ず供給さ
れた塗布液２は塗布液分配スリット８よりエンドレスの
塗布液流出口９より前記スライド面４に塗布液２が連続
的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布
液２に塗布される。
【００６３】更に前記塗布液分配室７１には前記塗布液
２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配
スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前
記塗布された塗布液２の面上に連続的に供給され、前記
円筒状基材１Ａの全周面に先ず、塗布液２の表面に塗布
液２Ａが重層塗布される。
２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配
スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前
記塗布された塗布液２の面上に連続的に供給され、前記
円筒状基材１Ａの全周面に先ず、塗布液２の表面に塗布
液２Ａが重層塗布される。
【００６４】実施例４ 図６に示す如く、逐次スライドホッパー型塗布装置を用
いて、実施例１−１と同じ前記円筒状基材１Ａ上に実施
例１−１の塗布液ＵＣＬ−１をドラムＮｏ.１−１−２
と同じ条件で塗布し、該塗布液の上に実施例２のドラム
Ｎｏ.２−４と同じ条件で逐次塗布し、更に該塗布液の
上る実施例１−３の塗布液ＣＴＬ−１をＮｏ.１−３−
２と同じ条件で塗布した。得られた感光体ドラムを用い
て実写テストを行ったところ、塗布ムラ、筋ムラに起因
する画像ムラはなく良好な画像がえられた。
いて、実施例１−１と同じ前記円筒状基材１Ａ上に実施
例１−１の塗布液ＵＣＬ−１をドラムＮｏ.１−１−２
と同じ条件で塗布し、該塗布液の上に実施例２のドラム
Ｎｏ.２−４と同じ条件で逐次塗布し、更に該塗布液の
上る実施例１−３の塗布液ＣＴＬ−１をＮｏ.１−３−
２と同じ条件で塗布した。得られた感光体ドラムを用い
て実写テストを行ったところ、塗布ムラ、筋ムラに起因
する画像ムラはなく良好な画像がえられた。
【００６５】図６は前記実施例４のスライドホッパー型
塗布装置を示し、塗布状態を示す断面図で、さらに詳し
くは、前記図１の実施例に使用されているコーター３，
３２を上下に配置し、前記図５に示すようにエンドレス
に形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布液の重層塗布を
行う実施例である。先ず、前記図１と同様にスライド面
４に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗
布する。塗布方法としては、前記コーター３を固定し、
前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇
移動させながら上端部より塗布を行う。前記コーター３
のスライド面４に塗布液２を供給するため、外部に設け
た塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａ
を前記コーター３に接続し、塗布液２を供給する。次に
供給された塗布液２は、前記コーター３内に形成した環
状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８
よりエンドレスの塗布液流出口９より前記スライド面４
に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は前記円筒状
基材１Ａの全周面に一層目が塗布される。
塗布装置を示し、塗布状態を示す断面図で、さらに詳し
くは、前記図１の実施例に使用されているコーター３，
３２を上下に配置し、前記図５に示すようにエンドレス
に形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布液の重層塗布を
行う実施例である。先ず、前記図１と同様にスライド面
４に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗
布する。塗布方法としては、前記コーター３を固定し、
前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇
移動させながら上端部より塗布を行う。前記コーター３
のスライド面４に塗布液２を供給するため、外部に設け
た塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａ
を前記コーター３に接続し、塗布液２を供給する。次に
供給された塗布液２は、前記コーター３内に形成した環
状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８
よりエンドレスの塗布液流出口９より前記スライド面４
に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は前記円筒状
基材１Ａの全周面に一層目が塗布される。
【００６６】更に前記コーター３の上部にコーター３２
が設けられ、一層目の塗布液２が塗布された塗布液２は
熱ヒータＨで乾燥され、円筒状基材１Ａは矢示方向に上
昇し、コーター３２のスライド面４２に進入する。スラ
イド面４２に供給される塗布液２Ａを前記円筒状基材１
Ａに塗布された塗布液２面上に順次重層塗布する。塗布
方法としては、前記同様に前記コーター３２を固定し、
前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇
移動させながら上端部より重層塗布を行う。前記コータ
ー３２のスライド面４２に塗布液２Ａを供給するため、
外部に設けた塗布液タンク５２より送液ポンプ６２の塗
布液供給部６Ｃを前記コーター３２に接続し、塗布液２
Ａを供給する。次に供給された塗布液２Ａは、前記塗布
ヘッド装置３２内に形成した環状の塗布液分配室７２に
供給されて塗布液分配スリット８２よりエンドレスの塗
布液流出口９２より前記スライド面４２に塗布液２Ａが
連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒状基材１Ａに
塗布された塗布液２の全周面に塗布される。
が設けられ、一層目の塗布液２が塗布された塗布液２は
熱ヒータＨで乾燥され、円筒状基材１Ａは矢示方向に上
昇し、コーター３２のスライド面４２に進入する。スラ
イド面４２に供給される塗布液２Ａを前記円筒状基材１
Ａに塗布された塗布液２面上に順次重層塗布する。塗布
方法としては、前記同様に前記コーター３２を固定し、
前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇
移動させながら上端部より重層塗布を行う。前記コータ
ー３２のスライド面４２に塗布液２Ａを供給するため、
外部に設けた塗布液タンク５２より送液ポンプ６２の塗
布液供給部６Ｃを前記コーター３２に接続し、塗布液２
Ａを供給する。次に供給された塗布液２Ａは、前記塗布
ヘッド装置３２内に形成した環状の塗布液分配室７２に
供給されて塗布液分配スリット８２よりエンドレスの塗
布液流出口９２より前記スライド面４２に塗布液２Ａが
連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒状基材１Ａに
塗布された塗布液２の全周面に塗布される。
【００６７】
【発明の効果】請求項１に於いて、エンドレスに形成さ
れた連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布
する塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲
むようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配ス
リットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側
に垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ
部と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に
連続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面の
スライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大き
な寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成され
た塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEが１３度以上にすることにより、塗布液
流出口の塗布液の流出が安定しており、特にスライド面
の塗布液の流れが安定するため、前円周面と円筒状基材
の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動がなく、
従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用
感光体ドラムを製作することが出来る。
れた連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布
する塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲
むようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配ス
リットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側
に垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ
部と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に
連続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面の
スライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大き
な寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成され
た塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液
との接触角θEが１３度以上にすることにより、塗布液
流出口の塗布液の流出が安定しており、特にスライド面
の塗布液の流れが安定するため、前円周面と円筒状基材
の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動がなく、
従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用
感光体ドラムを製作することが出来る。
【００６８】請求項２に於いて、エンドレスに形成され
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲む
ようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側に
垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ部
と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のス
ライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな
寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成された
塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEと、前記スライド面と塗布液との接触角θS
をθE＞θSとすることにより、連続した蓋エッジ部と塗
布液との接触角θEよりスライド面と塗布液との接触角
θSを小さくすることにより、スライド面の塗布液の流
れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗
布液の膜厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生
せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作することが
出来る。
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲む
ようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側に
垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ部
と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のス
ライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな
寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成された
塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEと、前記スライド面と塗布液との接触角θS
をθE＞θSとすることにより、連続した蓋エッジ部と塗
布液との接触角θEよりスライド面と塗布液との接触角
θSを小さくすることにより、スライド面の塗布液の流
れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗
布液の膜厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生
せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作することが
出来る。
【００６９】請求項３に於いて、エンドレスに形成され
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲む
ようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側に
垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ部
と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のス
ライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな
寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成された
塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液との
接触角θDをθE≧θDとすることにより、連続した蓋エ
ッジ部と塗布液との接触角θEより、円筒状基材の塗布
面と塗布液との接触角θDを小さくすることにより、円
筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動
がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電
子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、前記円筒状基材の外周を取り囲む
ようにして連続形成され端部を有しない塗布液分配スリ
ットと、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の上側に
垂直乃至傾斜角をもって形成された連続した蓋エッジ部
と、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連
続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面のス
ライド面より前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな
寸法で終端をなすようにホッパー塗布面とが形成された
塗布装置に於いて、前記連続した蓋エッジ部と塗布液と
の接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面と塗布液との
接触角θDをθE≧θDとすることにより、連続した蓋エ
ッジ部と塗布液との接触角θEより、円筒状基材の塗布
面と塗布液との接触角θDを小さくすることにより、円
筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動
がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電
子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
【００７０】請求項４に於いて、前記スライド面を特に
金属で構成することにより、前記スライド面の塗布液の
流れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する
塗布液の膜厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発
生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作すること
が出来る。
金属で構成することにより、前記スライド面の塗布液の
流れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する
塗布液の膜厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発
生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作すること
が出来る。
【００７１】請求項５に於いて、前記連続した蓋エッジ
部と塗布液との接触角θEが１３度以上としたので、前
記同様塗布液流出口の塗布液の流出が安定して液切れが
なく、特にスライド面の塗布液の流れが安定するため、
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な
電子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
部と塗布液との接触角θEが１３度以上としたので、前
記同様塗布液流出口の塗布液の流出が安定して液切れが
なく、特にスライド面の塗布液の流れが安定するため、
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な
電子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
【００７２】請求項６に於いて、前記連続した蓋エッジ
部と塗布液との接触角θEがθE＞θS≧θDとすることに
より、円筒状基材と塗布液との接触角θDよりスライド
面と塗布液との接触角θSを大きくするか、同一とな
し、スライド面と塗布液との接触角θSより連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEを大きくすることによ
り、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜
厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良
好な電子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
部と塗布液との接触角θEがθE＞θS≧θDとすることに
より、円筒状基材と塗布液との接触角θDよりスライド
面と塗布液との接触角θSを大きくするか、同一とな
し、スライド面と塗布液との接触角θSより連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEを大きくすることによ
り、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜
厚変動がなく、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良
好な電子写真用感光体ドラムを製作することが出来る。
【００７３】請求項７に於いて、前記塗布液が有機溶媒
であるので、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触
角θEが１３度以上としたので、前記同様塗布液流出口
の塗布液の流出が安定して液切れがなく、特にスライド
面の塗布液の流れが安定し、塗布液の膜厚変動がなく、
従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用
感光体ドラムを製作することが出来る。
であるので、前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触
角θEが１３度以上としたので、前記同様塗布液流出口
の塗布液の流出が安定して液切れがなく、特にスライド
面の塗布液の流れが安定し、塗布液の膜厚変動がなく、
従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用
感光体ドラムを製作することが出来る。
【００７４】請求項８に於いて、エンドレスに形成され
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布
液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上
側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成
された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布
液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の
下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエン
ドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外
径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成され
ホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液
を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部
と塗布液との接触角θEが１３度以上にすることによ
り、塗布液流出口の塗布液の流出が安定しており、特に
スライド面の塗布液の流れが安定するため、前円周面と
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、液切れも発生せず、従って塗布液のスジ故障
が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作する
ことが出来る。
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布
液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上
側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成
された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布
液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の
下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエン
ドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外
径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成され
ホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液
を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部
と塗布液との接触角θEが１３度以上にすることによ
り、塗布液流出口の塗布液の流出が安定しており、特に
スライド面の塗布液の流れが安定するため、前円周面と
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、液切れも発生せず、従って塗布液のスジ故障
が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作する
ことが出来る。
【００７５】請求項９に於いて、エンドレスに形成され
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布
液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上
側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成
された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布
液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の
下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエン
ドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外
径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成され
ホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液
を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部
と塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布液と
の接触角θSをθE＞θSとすることにより、連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEよりスライド面と塗布
液との接触角θSが小さくなり、スライド面の塗布液の
流れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する
塗布液の膜厚変動がなく、液切れも発生しない。従って
塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用感光体
ドラムを製作することが出来る。
た連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗布
液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、上
側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成
された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗布
液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の
下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエン
ドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外
径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成され
ホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布液
を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ部
と塗布液との接触角θEと、前記スライド面と塗布液と
の接触角θSをθE＞θSとすることにより、連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEよりスライド面と塗布
液との接触角θSが小さくなり、スライド面の塗布液の
流れが安定し、円筒状基材の外面上の長手方向に対する
塗布液の膜厚変動がなく、液切れも発生しない。従って
塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用感光体
ドラムを製作することが出来る。
【００７６】請求項１０に於いて、エンドレスに形成さ
れた連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布
する塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗
布液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、
上側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形
成された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗
布液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口
の下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエ
ンドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の
外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成さ
れホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布
液を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ
部と塗布液との接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面
と塗布液との接触角θDをθE≧θDとすることにより、
連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEより、円筒
状基材の塗布面と塗布液との接触角θDが小さくなり、
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、液切れも発生しない。従って塗布液のスジ故
障が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作す
ることが出来る。
れた連続面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布
する塗布装置であって、連続形成され端部を有しない塗
布液分配スリットが前記円筒状基材の外周を取り囲み、
上側に垂直乃至傾斜角をもって連続した蓋エッジ部が形
成された前記塗布液分配スリットの塗布液流出口より塗
布液が流出し、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口
の下側に連続して傾斜して形成されたスライド面よりエ
ンドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の
外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなすように構成さ
れホッパー塗布面とより前記円筒状基材の外面上に塗布
液を塗布する塗布方法に於いて、前記連続した蓋エッジ
部と塗布液との接触角θEと、前記円筒状基材の塗布面
と塗布液との接触角θDをθE≧θDとすることにより、
連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEより、円筒
状基材の塗布面と塗布液との接触角θDが小さくなり、
円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変
動がなく、液切れも発生しない。従って塗布液のスジ故
障が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラムを製作す
ることが出来る。
【００７７】請求項１１に於いて、前記連続した蓋エッ
ジ部と塗布液との接触角θEが１３度以上とすることに
より、前記同様塗布液流出口の塗布液の流出が安定して
液切れがなく、特にスライド面の塗布液の流れが安定す
るため、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液
の膜厚変動がなく、液切れも発生しない。従って塗布液
のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラム
を製作することが出来る。
ジ部と塗布液との接触角θEが１３度以上とすることに
より、前記同様塗布液流出口の塗布液の流出が安定して
液切れがなく、特にスライド面の塗布液の流れが安定す
るため、円筒状基材の外面上の長手方向に対する塗布液
の膜厚変動がなく、液切れも発生しない。従って塗布液
のスジ故障が発生せず、良好な電子写真用感光体ドラム
を製作することが出来る。
【００７８】請求項１２に於いて、前記連続した蓋エッ
ジ部と塗布液との接触角θEをθE＞θS≧θDとすること
により、円筒状基材と塗布液との接触角θDよりスライ
ド面と塗布液との接触角θSを大きくするか、同一とな
し、スライド面と塗布液との接触角θSより連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEが大きくなり、円筒状
基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動がな
く、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写
真用感光体ドラムを製作することが出来る。
ジ部と塗布液との接触角θEをθE＞θS≧θDとすること
により、円筒状基材と塗布液との接触角θDよりスライ
ド面と塗布液との接触角θSを大きくするか、同一とな
し、スライド面と塗布液との接触角θSより連続した蓋
エッジ部と塗布液との接触角θEが大きくなり、円筒状
基材の外面上の長手方向に対する塗布液の膜厚変動がな
く、従って塗布液のスジ故障が発生せず、良好な電子写
真用感光体ドラムを製作することが出来る。
【図１】本発明のコーターの塗布状態を示す縦断面図で
ある。
ある。
【図２】図１のコーターに於ける連続した蓋エッジ部
と、スライド面と、円筒状基材と、塗布液との接触角
と、平面での測定値の接触角を示す説明図。
と、スライド面と、円筒状基材と、塗布液との接触角
と、平面での測定値の接触角を示す説明図。
【図３】本発明のコーターに於ける連続した蓋エッジ部
に設けた塗布ムラ防止部材を示す断面図。
に設けた塗布ムラ防止部材を示す断面図。
【図４】本発明のコーターの一部を切欠した斜視図。
【図５】本発明のコーターの他の実施例を示す塗布状態
を示す断面図。
を示す断面図。
【図６】本発明のコーターの他の実施例を示す塗布状態
を示す断面図。
を示す断面図。
１Ａ，１Ｂ 円筒状基材 ２，２Ａ 塗布液 ３，３２ コーター ４，４２ スライド面 ５，５１，５２ 塗布液タンク ６，６１，６２ 送液ポンプ ６Ａ，６Ｂ，６Ｃ 塗布液供給部 ７，７１，７２ 塗布液分配室 ８，８１，８２ 塗布液分配スリット ９，９１，９２ 塗布液流出口 ９Ａ 蓋エッジ部 Ｈ 熱ヒータ
Claims (12)
- 【請求項１】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続形
成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗布液
分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜角を
もって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布液分
配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且
つエンドレスに形成された連続面のスライド面より前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に於い
て、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが１３
度以上であることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続形
成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗布液
分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜角を
もって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布液分
配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且
つエンドレスに形成された連続面のスライド面より前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に於い
て、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEと、前
記スライド面と塗布液との接触角θSは下記式の関係で
あることを特徴とする塗布装置。 θE＞θS - 【請求項３】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、前記円筒状基材の外周を取り囲むようにして連続形
成され端部を有しない塗布液分配スリットと、該塗布液
分配スリットの塗布液流出口の上側に垂直乃至傾斜角を
もって形成された連続した蓋エッジ部と、前記塗布液分
配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且
つエンドレスに形成された連続面のスライド面より前記
円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす
ようにホッパー塗布面とが形成された塗布装置に於い
て、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEと、前
記円筒状基材の塗布面と塗布液との接触角θDは下記式
の関係であることを特徴とする塗布装置。 θE≧θD - 【請求項４】 前記スライド面が金属であることを特徴
とする請求項１、２又は３記載の塗布装置。 - 【請求項５】 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接
触角θEが１３度以上であることを特徴とする請求項
２、又は請求項３記載の塗布装置。 - 【請求項６】 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接
触角θEがθE＞θS≧θDであることを特徴とする請求項
２又は請求項３記載の塗布装置。 - 【請求項７】 前記塗布液が有機溶媒であることを特徴
とする請求項１、２又は３記載の塗布装置。 - 【請求項８】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、連続形成され端部を有しない塗布液分配スリットが
前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側に垂直乃至傾斜
角をもって連続した蓋エッジ部が形成された前記塗布液
分配スリットの塗布液流出口より塗布液が流出し、前記
塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾
斜して形成されたスライド面よりエンドレスに形成され
た連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よりやや大
きな寸法で終端をなすように構成されホッパー塗布面と
より前記円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布方
法に於いて、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEが１３
度以上であることを特徴とする塗布方法。 - 【請求項９】 エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であっ
て、連続形成され端部を有しない塗布液分配スリットが
前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側に垂直乃至傾斜
角をもって連続した蓋エッジ部が形成された前記塗布液
分配スリットの塗布液流出口より塗布液が流出し、前記
塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾
斜して形成されたスライド面よりエンドレスに形成され
た連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よりやや大
きな寸法で終端をなすように構成されホッパー塗布面と
より前記円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布方
法に於いて、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEと、前
記スライド面と塗布液との接触角θSは下記式の関係で
あることを特徴とする塗布方法。 θE＞θS - 【請求項１０】 エンドレスに形成された連続面を有す
る円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であ
って、連続形成され端部を有しない塗布液分配スリット
が前記円筒状基材の外周を取り囲み、上側に垂直乃至傾
斜角をもって連続した蓋エッジ部が形成された前記塗布
液分配スリットの塗布液流出口より塗布液が流出し、前
記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して
傾斜して形成されたスライド面よりエンドレスに形成さ
れた連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よりやや
大きな寸法で終端をなすように構成されホッパー塗布面
とより前記円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布
方法に於いて、 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との接触角θEと、前
記円筒状基材の塗布面と塗布液との接触角θDは下記式
の関係であることを特徴とする塗布方法。 θE≧θD - 【請求項１１】 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との
接触角θEが１３度以上であることを特徴とする請求項
９又は請求項１０記載の塗布方法。 - 【請求項１２】 前記連続した蓋エッジ部と塗布液との
接触角θEがθE＞θS≧θDであることを特徴とする請求
項９又は請求項１０記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8265798A JPH10113592A (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 塗布装置および塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8265798A JPH10113592A (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 塗布装置および塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10113592A true JPH10113592A (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17422194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8265798A Pending JPH10113592A (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 塗布装置および塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10113592A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101442810B1 (ko) * | 2012-06-08 | 2014-09-19 | 주식회사 나래나노텍 | 개선된 롤 표면 코팅 장치 및 방법 |
| KR101458187B1 (ko) * | 2012-06-08 | 2014-11-13 | 주식회사 나래나노텍 | 롤 표면 코팅 장치 및 방법 |
| JP2015224375A (ja) * | 2014-05-29 | 2015-12-14 | 新日鐵住金株式会社 | 液体塗布装置 |
-
1996
- 1996-10-07 JP JP8265798A patent/JPH10113592A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101442810B1 (ko) * | 2012-06-08 | 2014-09-19 | 주식회사 나래나노텍 | 개선된 롤 표면 코팅 장치 및 방법 |
| KR101458187B1 (ko) * | 2012-06-08 | 2014-11-13 | 주식회사 나래나노텍 | 롤 표면 코팅 장치 및 방법 |
| JP2015224375A (ja) * | 2014-05-29 | 2015-12-14 | 新日鐵住金株式会社 | 液体塗布装置 |
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