JPH11197570A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

塗布方法及び塗布装置

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JPH11197570A
JPH11197570A JP10002874A JP287498A JPH11197570A JP H11197570 A JPH11197570 A JP H11197570A JP 10002874 A JP10002874 A JP 10002874A JP 287498 A JP287498 A JP 287498A JP H11197570 A JPH11197570 A JP H11197570A
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coating
coating liquid
peripheral surface
supplied
slit
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JP10002874A
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Akira Ohira
晃 大平
Junji Ujihara
淳二 氏原
Nobuaki Kobayashi
信昭 小林
Masanari Asano
真生 浅野
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Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布装置のスリット中の塗布液の挙動を安定
化し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさ
え、塗布ムラをおさえる。また、塗布液中の顔料の凝集
物の流出を防止し、塗布性を向上し、ビード切れや膜厚
変動が無く、送液の脈動変化に強い塗布性能に優れた塗
布方法及び装置を提供する。 【解決手段】 （１）外部から供給口４８を通して供給
される塗布液Ｌを、環状の塗布液溜まり室４４に分配
し、分配された塗布液Ｌを、内周面側に向けてスリット
４３を通して供給し、相対的に移動する円筒状基材１の
外周面に塗布する塗布方法において、塗布液溜まり室４
４内の絶対圧Ｐが、３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ
2Ｏ）を満足する塗布方法。（２）供給口４８から供給
された塗布液Ｌを、曲線で形成された断面形状をなす塗
布液溜まり室４４内の塗布液Ｌの最底部に供給し、塗布
液溜まり室４４内の塗布液Ｌを内周面側に向けてスリッ
ト４３を通して圧送し、相対的に移動する円筒状基材１
の外周面に塗布する塗布方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、外部から供給口を
通して供給される塗布液を環状の塗布液溜まり室に分配
し、分配されたと塗布液を内周面側に向けてスリットを
通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に
塗布する塗布方法及び塗布装置、特に、エンドレスに形
成された連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液
を均一に塗布する塗布方法及び塗布装置に関するもので
ある。このような塗布装置は、例えば電子写真方式の画
像形成装置に使用される感光体ドラムの製造に際して、
感光材料含有塗料を円筒状基材上に塗布する塗布装置に
好適に利用される。
【０００２】
【従来の技術】円筒状基材の外周面上への薄膜で均一な
塗布に関しては、従来からスプレー塗布法、浸漬塗布
法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検
討されている。特に、電子写真感光体ドラムのような薄
膜で均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開
発すべく検討されている。しかしながら、従来の円筒状
基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなか
ったり生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が円筒状基材の外周面上に到達するまでに
溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇して
しまい、それに伴い塗布液滴の粘度上昇が起って塗布液
滴が面に到達したとき、塗布液滴が面上を充分に広がら
ないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が表面に
付着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられ
ない。また、基材への塗布液滴の到達率が１００％でな
く塗布液のロスがあったり部分的にも不均一であるため
膜厚コントロールが非常に困難である。更に、高分子塗
布液等では糸引きを起こす事があるため使用する溶媒及
び樹脂に制限がある。
【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置
し、円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１
回転させた後ブレード若しくはロールを後退させるもの
である。しかしながらブレードもしくはロールを後退さ
せる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部
分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点が
ある。
【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の塗
布液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶
け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報や
特開昭６０−９５４４０号公報に記載のように円形型液
量規制の塗布装置が開発された。この塗布装置は、外部
から供給口を通して供給される塗布液を環状の塗布液溜
まり室に分配し、分配された塗布液を内周面側に向けて
スリットを通して供給し、相対的に移動するエンドレス
に形成された連続面を有した円筒状基材の外周面に塗布
液を均一に塗布する塗布装置である。特に、後者の公報
に記載の押し出し型コーターでは高粘度塗布液を円筒状
基材に塗布できる唯一のものである。
【０００８】この押し出し型コーターとは、塗布液分配
室（塗布液溜まり室）に供給された塗布液を塗布液分配
スリットを通して塗布液流出口に直接押し出し、円筒状
基材と塗布液流出口との間にビードを形成し、連続的に
塗布するコーターである。
【０００９】この押し出し型コーターは、スリットから
供給する塗布液量を微量に調整でき、少ない塗布液量で
塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制
御の容易な塗布が可能となった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た塗布装置においても、膜厚変動が生じて塗布ムラが発
生するという問題が生じた。特に、後者の公報に記載の
押し出し型塗布装置において高粘度塗布液を使用すると
きには、ビードが切れるという問題が生じた。本出願人
は、この問題を鋭意検討した結果、上記問題は、スリッ
ト中の塗布液の挙動、すなわち塗布液分配室内の絶対圧
と密接に関連していることをつきとめた。
【００１１】本発明が解決しようとする課題は、スリッ
ト中の塗布液の挙動を安定させ、塗布ムラをおさえるこ
とにある。また本発明は、塗布液分配室内の液や泡の滞
留がなく、安定性に優れ、塗布欠陥や塗布ムラのない均
一塗布を行うことを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題は、外部から供
給口を通して供給される塗布液を、環状の塗布液溜まり
室に分配し、分配された塗布液を、内周面側に向けてス
リットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の
外周面に塗布する塗布方法において、前記塗布液溜まり
室内の絶対圧Ｐが、３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ
2Ｏ）を満足することを特徴とする塗布方法（請求項
１）により達成される。
【００１３】本発明で用いられる塗布方法では、分配室
内の絶対圧Ｐが、３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ2
Ｏ）を満足することにより、スリット中の高粘度な塗布
液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された塗布液の
膜厚の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができ
る。
【００１４】また、本発明の塗布装置は、外部から塗布
液が供給される供給口と、前記供給口より供給された塗
布液を環状に分配する塗布液溜まり室と、前記塗布液溜
まり室から内周面側に向けて塗布液を供給する環状のス
リットと、を有し、前記スリットから供給された塗布液
を、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗
布装置において、前記塗布液溜まり室内の絶対圧Ｐが、
３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ2Ｏ）を満足するこ
とを特徴とするものである（請求項４）。
【００１５】なお、本発明でいう「絶対圧」とはゲージ
圧のことである。
【００１６】さらに、本発明の塗布方法は、外部から供
給口を通して供給される塗布液を環状の塗布液溜まり室
に分配し、分配された塗布液を、スリットを通して供給
し、円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法において、
前記供給口から供給された塗布液を、曲線で形成された
断面形状をなす前記塗布液溜まり室内の塗布液の最底部
に供給し、前記塗布液溜まり室内の塗布液を内周面側に
向けて前記スリットを通して圧送し、相対的に移動する
円筒状基材の外周面に塗布することを特徴とするもので
ある（請求項５）。
【００１７】さらにまた、本発明の塗布装置は、長手方
向に移動する円筒状基材の周囲を環状にとり囲み、その
内部に環状の塗布液溜まり室と、該塗布液溜まり室に対
して外部から塗布液を供給する供給口と、前記塗布液溜
まり室の内方に開口するスリットを有する塗布装置にお
いて、前記供給口の入り口部が前記塗布液溜まり室に対
して最底部にあり、前記塗布液溜まり室の断面が曲線で
形成され形状をなすことを特徴とするものである（請求
項６）。
【００１８】本発明で用いられる塗布方法は、特開昭６
０−９５４４０号公報の第１図、第２図に記載の同時重
層塗布方法や、逐次重層塗布方法に適用可能である。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。図１は本発明による連続塗布装置の
全体構成を示す斜視図である。
【００２０】図１において、１０は円筒状基材１を塗布
手段の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し上げる
供給手段、２０は供給された円筒状基材１の外周面を把
持して筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押し上
げて搬送する搬送手段、３０は前記円筒状基材１を塗布
装置の環状塗布部の中心に位置合わせする位置決め手
段、４０は前記円筒状基材１の外周面上に塗布液を連続
的に塗布する塗布手段、５０は円筒状基材１上に塗布さ
れた塗布液を乾燥させる乾燥手段、６０は乾燥されて垂
直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材から分
離させて円筒状基材を１個ずつ取り出し排出させる分離
排出手段である。
【００２１】本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を
連続して垂直中心線Ｚ−Ｚ上に配置した構成であり、人
手を要しない完全自動化生産が高精度で達成される。即
ち、前記供給手段１０は前記円筒状基材１を載置するた
めの複数の取り付け手段１１を備えた可動テーブル１
２、該可動テーブル１２を回転させて前記搬送手段２０
へつながる垂直ラインへ送り込む駆動手段１３、前記搬
送手段２０により既に上方に把持搬送されている円筒状
基材１を積み重なるように上方に押し上げる昇降手段１
４、該昇降手段１４の上端に設けられた円筒状基材供給
用のハンド手段１５及び前記駆動手段１３による回転や
昇降手段１４による押し上げのタイミングを制御する図
示しない制御手段等から構成されている。なお、前記可
動テーブル１２上への円筒状基材１の供給は、ロボット
ハンドルにより行われる。
【００２２】前記供給手段１０の上方に設けられた搬送
手段２０は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且
つ垂直上下方向に移動可能な２組の把持手段２１，２２
を有し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送
する機能を有する。以下、上記各手段２０，３０，４
０，５０，６０の詳細は後述する。
【００２３】図２は本発明による他の実施例である逐次
連続塗布装置を示す斜視図である。この実施例では、前
記搬送手段２０の上方の垂直中心線Ｚ−Ｚ上には、位置
決め手段３０Ａ、塗布手段４０Ａ、乾燥手段５０Ａとか
ら成るユニットＡ、位置決め手段３０Ｂ、塗布手段４０
Ｂ、乾燥手段５０Ｂとから成るユニットＢ、位置決め手
段３０Ｃ、塗布手段４０Ｃ、乾燥手段５０Ｃとから成る
ユニットＣ、を複数組垂直縦列配置したものである。最
上段には前記分離排出手段６０が配置されている。各塗
布手段４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃからそれぞれ吐出された
塗布液は、円筒状基材１上に多層の塗布層を逐次形成
し、各乾燥手段５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃにより乾燥され
たのち、分離排出手段６０により最上段の円筒状基材１
は把持されて下方の円筒状基材１から分離されて、機外
のパレット上に載置される。
【００２４】図３〜図７は本発明の請求項５〜７による
塗布手段４０の実施の形態を示す図である。
【００２５】図３は位置決め手段３０と塗布手段４０と
を示す断面図、図４は塗布手段４０の斜視図である。
【００２６】図３に示されるように垂直中心線Ｚ−Ｚに
沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１
Ｂ（以下、円筒状基材１と称す）を連続的に矢示方向に
上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状基材１の外
周面に対しスライドホッパー型塗布装置４０の塗布に直
接係わる部分であるホッパー塗布面４１により塗布液
（感光液）Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１として
は中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチック
ドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。
【００２７】前記ホッパー塗布面４１には、円筒状基材
１側に開口する塗布液流出口４２を有する幅狭の塗布液
分配スリット（スリットと略称する）４３が水平方向に
形成されている。このスリット４３は環状の塗布液分配
室（塗布液溜まり室）４４に連通し、この環状の塗布液
分配室４４には、貯留タンク２内の塗布液Ｌを圧送ポン
プ３により供給管４を介して、供給口４８から導入して
供給するようになっている。
【００２８】前記供給口４８から供給された塗布液Ｌ
は、曲線で形成された断面形状、例えば円形断面形状を
なす前記塗布液分配室（塗布液溜まり室）４４内の最底
部に供給される。塗布液分配室４４内の塗布液は、圧送
ポンプ３によりスリット４３に供給される。
【００２９】塗布液分配室４４の断面形状は、上記の円
形断面に限定されるものではなく、小さなコーナー部分
がなく、すべて緩やかな曲線で形成されているものを含
む。例えば、円形率が０．８〜１．２のほぼ楕円形状、
長円形状、卵形状等でも良い。このようなほぼ曲線断面
から成る塗布液分配室４４は、塗布液分配室内での塗布
液の停滞するスペースがないから、塗布液停滞による凝
固の発生がなく、分散液や高粘度の塗布液を円筒状基材
１に塗布するときにも、初期塗布から数万本塗布に至る
間、均一塗布が維持され、安定性に優れた効果を発揮す
る。
【００３０】他方、スリット４３の塗布液流出口４２の
下側には、連続して下方に傾斜し、円筒状基材１の外径
寸法よりやや大なる寸法で終端をなすように形成された
塗布液スライド面（以下、スライド面と称す）４５が形
成されている。更に、このスライド面４５終端より下方
に延びる唇状部４６が形成されている。かかる塗布手段
（スライドホッパー型塗布装置）４０による塗布におい
ては、円筒状基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをス
リット４３から押し出し、スライド面４５に沿って流下
させると、スライド面４５の終端に至った塗布液は、そ
のスライド面４５の終端と円筒状基材１の外周面との間
にビードを形成した後、円筒状基材１の表面に塗布され
る。スライド面４５の終端と円筒状基材１は、ある間隙
を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事
なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合におい
ても、既に塗布された層を損傷することなく塗布でき
る。
【００３１】一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部よ
り最も遠い位置で、前記塗布液分配室４４の一部には、
塗布液分配室４４内の泡抜き用の空気抜き手段４７が設
けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配
室４４に供給されて塗布液分配スリット４３から塗布液
流出口４２に供給されるとき、開閉弁を開いて空気抜き
手段４７より塗布液分配室４４内の空気を排出する。
【００３２】図３に示すように、前記塗布手段４０の下
部には、円筒状基材の円周方向を位置決めする位置決め
手段３０が固定されている。前記円筒状基材１の位置決
め手段３０の本体３１には、複数の給気口３２と、複数
の排気口３３が穿設されている。該複数の給気口３２
は、図示しない給気ポンプに接続され、空気等の流体が
圧送される。該給気口３２の一端部で円筒状基材１の外
周面に対向する側には、吐出口３４が貫通している。該
吐出口３４は前記円筒状基材１の外周面と所定の間隙を
保って対向している。該間隙は、３０μｍ〜２ｍｍであ
る。前記吐出口３４は直径０．０５〜０．５ｍｍの小口
径のノズルである。
【００３３】前記本体３１の内壁下部の内周面は、入り
口側が広がったテーパー面３５になっている。このテー
パー面３５は、例えば軸方向の長さが５０ｍｍで、片側
傾斜角が０．５ｍｍの円錐面である。
【００３４】前記給気ポンプから圧送された流体は、複
数の給気口３２から本体３１の内部に導入されて、複数
の吐出口３４から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１
Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流
体は複数の排気口３３から装置外に排出される。
【００３５】前記吐出口３４の開口直径は、例えば０．
２〜０．５ｍｍの円形に形成されている。排気口３３の
開口直径は、例えば３〜５ｍｍの円形に形成されてい
る。
【００３６】前記給気口３２に供給される流体は、空
気、不活性ガス例えば窒素ガスが良い。そして該流体
は、ＪＩＳ規格でクラス１００以上の清浄な気体が良
い。
【００３７】なお、本発明の位置決め手段に接続される
垂直塗布装置としては、スライドホッパー型、押し出し
型、リングコーター等の各種装置が用いられる。
【００３８】前記塗布手段４０の上方には、乾燥フード
５１と乾燥器５３とから成る乾燥手段５０が設けられて
いる。
【００３９】図５は前記塗布手段４０と該塗布手段４０
の上部に設けた乾燥フード５１の断面図である。該乾燥
フード５１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の開口
５１Ａが穿設されている。前記円筒状基材１を矢示方向
に上昇させ、前記塗布手段４０のホッパー塗布面（塗布
ヘッド）４１で塗布液Ｌを塗布し、感光層５を形成す
る。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾燥フ
ード５１内を通過しながら徐々に乾燥される。この乾燥
は前記多数の開口５１Ａより塗布液Ｌに含まれている溶
媒を壁面外に放出することにより行われる。前記のよう
に、塗布手段４０により円筒状基材１上に塗布液Ｌを塗
布することにより、形成された感光層５は、塗布直後に
おいて乾燥フード５１により包囲されており、開口５１
Ａからのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における感
光層５の乾燥速度は、前記開口５１Ａの開口面積にほぼ
比例する。
【００４０】図６は本発明による塗布手段４０の他の実
施の形態を示す断面図である。
【００４１】図において、スライド面４５の頂部すなわ
ち塗布液流出口４２と、塗布液分配室４４とを結ぶスリ
ット４３は、水平面に対して塗布液分配室４４から上方
向に傾斜角で傾斜して形成されている。スリット４３の
傾斜角は１０〜８０度である。スリット４３の傾斜角が
１０度より小さくなると、脈動の変動に対する効果が著
しく小さくなる。また、傾斜角が８０度より大きくなる
と、ホッパー塗布面４１での塗布液の液波立ちが大きく
なり、かえって膜圧変動が大きくなる。また塗布液の特
性や塗布液の供給条件を含め、傾斜角は好ましくは２０
〜７０度である。４９は前記供給口４８から導入された
塗布液Ｌを塗布液分配室４４に供給する供給路である。
【００４２】供給口４８から供給路に供給された塗布液
は、曲線で形成された断面形状をなす塗布液分配室４４
内の最底部に供給される。塗布液分配室４４内の塗布液
は内周面側に上向けにしてスリット４３を通して圧送さ
れ、塗布液流出口４２から吐出され、スライド面４５を
流下して、ホッパー塗布面４１で相対的に移動する円筒
状基材１の外周面に塗布される。
【００４３】図７はスライドホッパー型塗布手段４０の
さらに他の実施の形態を示す断面図である。
【００４４】図において、供給路４９の塗布液分配室４
４への入り口部が塗布液分配室４４の最底部にある。す
なわち、供給路４９の入り口部の管の内径最底部４９Ａ
が、塗布液分配室４４の最底部４４Ａと同一水平面上あ
るいはそれ以下にあるように配置したものである。この
ように配置することにより、送液時に発生する塗布液の
脈動の変動が消失し、膜厚むらが減少し、ひいては多数
枚コピーでの画像の濃淡むらが発生しなくなる。
【００４５】図８〜図１０は本発明の請求項１〜４によ
る押し出し型塗布手段の実施の形態を示す図である。
【００４６】図８は本発明に係わる押し出し型塗布装置
の断面図で、図９はその斜視図である。なお、これらの
図面に使用されている符号について、図３〜図５と同じ
機能を有する部分には、同符号を付している。また、前
記の実施の形態と異なる点を説明する。
【００４７】本発明に係わる押し出し型塗布手段とは、
前記スライド面を有せず、塗布液分配室４４に供給され
た塗布液を塗布液分配スリット４３を通して、塗布液流
出口４２に押し出し、塗布液流出口４２と円筒状基材１
の外周との間にビードを形成し、連続的に塗布する塗布
手段である。
【００４８】図８に示されるように中心線Ｚ−Ｚに沿っ
て垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的
に矢示の如く上方向に移動（移動速度は、３ｍｍ／ｓｅ
ｃ以上３０ｍｍ／ｓｅｃ以下が好ましい）させ、その周
囲を取り囲み、円筒状基材１の外周面に対し押し出し型
塗布装置の塗布に直接係わる部分（塗布ヘッドと略称す
る）４１により塗布液Ｌが塗布される。なお、円筒状基
材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プ
ラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも
良い。
【００４９】一方、塗布液Ｌは貯留タンク２内に貯留さ
れており、圧送ポンプ３により供給口４８を通して供給
するようになっている。供給口４８から供給された塗布
液Ｌは環状の塗布液分配室４４で分配される。塗布液分
配室４４は中心線Ｚ−Ｚと同心状に配置され、供給され
た塗布液Ｌを環状に全周にわたって分配する。塗布液分
配室４４で分配された塗布液Ｌは、スリット４３を通し
て塗布ヘッド４１の内周面側である円筒状基材１側に向
けて押し出し供給される。このスリット４３は、環状の
塗布液分配室４４に連通し、円筒状基材１側に全周にわ
たって開口する塗布液流出口４２を有しており、所定の
間隙（好ましくは、３０μｍ以上１０００μｍ以下）が
水平方向に形成されている。
【００５０】スリット４３を通して押し出し供給される
塗布液Ｌは、塗布ヘッド４１において、上方へ移動して
いる円筒状基材１Ａの外周面に直接接触してビードを形
成し、円筒状基材１Ａの外周面面に塗布される。
【００５１】塗布液流出口４２の塗布ヘッド（コーター
エッジ部）４１は、円筒状基材１の外径寸法よりやや大
きい寸法で形成されている。
【００５２】塗布ヘッド４１と円筒状基材１とは、ある
間隙（好ましくは、３０μｍ以上１０００μｍ以下）を
もって配置されているため、円筒状基材１を傷つける事
なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合におい
ても、既に塗布された層を損傷することなく塗布でき
る。
【００５３】一方、供給口４８より最も遠い位置で塗布
液分配室４４の一部より空気抜き手段４７を、塗布液分
配室４４より外部に貫通するように設けるとともに、こ
の空気抜き手段４７の一部に開閉弁を設ける。この空気
抜き手段４７は、塗布液Ｌの供給を開始したときに、開
閉弁を開いて塗布液分配室４４内の空気を排気するもの
であって、塗布液Ｌを円筒状基材１上に塗布していると
きは、開閉弁を閉じている。
【００５４】図１０は、塗布液流出口４２から押し出し
た塗布液を、スライド面４５を流下させて円筒状基材１
の外周面に塗布液を吐出するスライドホッパー型塗布装
置を示す斜視図である。
【００５５】上述した各塗布装置において、塗布液分配
室４４内の絶対圧Ｐを、３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍ
ｍＨ2Ｏ）の範囲にすることにより、スリット４３中の
塗布液の挙動が安定し、円筒状基材１上に塗布された塗
布液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることが
できた。特に、高粘度の塗布液（好ましくは、５００〜
１００００ミリパスカル・秒）に有効であった。絶対圧
Ｐが３×１０4（ｍｍＨ2Ｏ）以下であると、スリット４
３から流出する塗布液に脈動成分が多く、均一な塗布層
が形成されない。また、絶対圧Ｐが３×１０6（ｍｍＨ2
Ｏ）以上であると、スリット４３中を流れる塗布液が乱
流となり、均一な塗布層を形成することができない。ま
た、絶対圧Ｐは、好ましくは５×１０4＜Ｐ＜１×１０6
（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することがよく、これにより、塗
布ムラが更になくなる。
【００５６】なお、「絶対圧」とはゲージ圧のことであ
り、その測定は、塗布液分配室４４内に測定端子を入れ
直接測ればよく、上述した実施の形態においては、空気
抜き手段４７用の孔に、測定端子を入れ、塗布液分配室
４４内の絶対圧Ｐを測定した。また、絶対圧Ｐを調整す
るには、絶対圧Ｐの主要因が塗布液の粘度、スリット４
３間隙、塗布液流量であるので、これらを種々変えるこ
とにより絶対圧Ｐを調整できる。
【００５７】また、本実施の形態の塗布方法及び塗布装
置では、塗布液流出口４２と円筒状基材１は、ある間隙
を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事
なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合におい
ても、既に塗布された層を損傷することなく塗布でき
る。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多層形成
させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存在する
時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆ど溶出
しないし、塗布層にも溶出することなく塗布できる。
【００５８】図１１は、本発明に係わる逐次重層塗布装
置の一例を示す断面図であり、図３に示す塗布装置４０
を上下に配置した逐次重層塗布装置である。
【００５９】塗布装置４０Ａ内に水平方向に形成されて
いるスリット４３Ａは、環状の塗布液分配室４４Ａに連
通し、この環状の塗布液分配室４４Ａには、貯留タンク
２Ａ内の塗布液ＬＡを圧送ポンプ３Ａにより供給管４Ａ
を介して導入して供給するようになっている。
【００６０】スリット４３Ａの塗布液流出口４２Ａから
押し出された塗布液ＬＡは、スライド面４５Ａに沿って
流下し、スライド面４５Ａの終端に至った塗布液ＬＡ
は、そのスライド面４５Ａの終端と円筒状基材１の外周
面との間にビードを形成した後、円筒状基材１の表面に
塗布される。
【００６１】塗布装置４０Ａの垂直上方に配置された塗
布装置４０Ｂは、塗布装置４０Ａとほぼ同一形状をな
す。
【００６２】塗布装置４０Ｂ内に水平方向に形成されて
いるスリット４３Ｂは、環状の塗布液分配室４４Ｂに連
通し、この環状の塗布液分配室４４Ｂには、貯留タンク
２Ｂ内の塗布液ＬＢを圧送ポンプ３Ｂにより供給管４Ｂ
を介して導入して供給される。
【００６３】スリット４３Ｂの塗布液流出口４２Ｂから
押し出された塗布液ＬＢは、スライド面４５Ｂに沿って
流下し、スライド面４５Ｂの終端に至った塗布液ＬＢ
は、そのスライド面４５Ｂの終端と円筒状基材１の外周
面に塗布された塗布液ＬＡとの間にビードを形成した
後、塗布液ＬＡの上層に重層塗布される。
【００６４】なお、本発明の塗布方法及び塗布装置は、
薄膜で均一な塗布膜を要求する電子写真感光体ドラムが
好ましいが、これに限られることはなく、静電記録体の
製造、ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外
周面への塗膜形成等に用いることができる。即ちエンド
レスに形成された連続面を有する円筒状基材の外周面の
塗布方法として用いられる。また、塗布装置を固定し、
円筒状基材自体を移動（特に、上方向が好ましい）させ
た方がよいが、これに限られることはなく、円筒状基材
と塗布装置が相対的に移動していればよい。
【００６５】
【実施例】本発明の請求項１〜４を以下の実施例につい
て説明する。なお、下記の実施例は、電子写真装置の感
光体ドラムを製造する際の感光材料含有塗料の塗布につ
いて説明しているが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、その他の適宜の塗料塗布に適用可能である。
【００６６】実施例１ （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を円筒状基材として、図１０に記載の如くの
スライドホッパー型塗布装置を用いて、下記の塗布液組
成物ＵＣＬ−１を調製し、円筒状基材上に、乾燥膜厚
０．５μｍになるように塗布した。
【００６７】ＵＣＬ−１塗布液組成物（３％ポリマー濃
度） 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） 次いで、図１０に示すスライドホッパー型塗布装置を用
いて、前記ＵＣＬ−１上に、下記の塗布液組成物ＣＧＬ
−１を調製して、塗布し、乾燥膜厚０．３μｍになるよ
うに塗布した。
【００６８】ＣＧＬ−１塗布液組成物（固形分濃度３．
０％） フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１） ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００６９】次いで、図８に示す押し出し型塗布装置を
用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表１に記載の如くな
るように、下記の塗布液組成物ＣＴＬ−１の塗布液粘度
（溶媒量の添加による固形分濃度を調製）、スリット４
３の間隙、流量（圧送ポンプ３の流量調整）を調整し、
ＣＧＬ−１上に、乾燥膜厚が３０μｍになるように塗布
して、塗布ドラムＮｏ．１−１、１−２、１−３を得
た。塗布結果を表１に示す。
【００７０】
【表１】
【００７１】ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ポリカーボネート（粘度分子量Ｍｖ ２０万） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：ポリカーボ
ネート＝０．８９：１に固定。
【００７２】実施例２ 実施例１のＣＧＬ−１の代わりにＣＧＬ−２を、ＣＴＬ
−１の代わりにＣＴＬ−２を用いた以外は実施例１と同
じようにして塗布ドラム２−１、２−２、２−３を作製
した。塗布結果を表１に示す。
【００７３】実施例３ 実施例１のＣＧＬ−１の代わりにＣＧＬ−３を、ＣＴＬ
−１の代わりにＣＴＬ−３を用いた以外は実施例１と同
じようにして塗布ドラム３−１、３−２、３−３を作製
した。塗布結果を表１に示す。
【００７４】ＣＧＬ−２塗布液組成物 ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２） ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） メチルエチルケトン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００７５】ＣＧＬ−３塗布液組成物 Ｙ型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３） シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製） ｔ−酢酸ブチル ＣＴＬ−２塗布液組成物 ＣＴＭ−２ ポリカーボネート（粘度分子量Ｍｖ ３０万） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：ポリカーボ
ネート＝０．８９：１に固定。
【００７６】ＣＴＬ−３塗布液組成物 ＣＴＭ−３ ポリカーボネート（粘度分子量Ｍｖ ４０万） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定。
【００７７】本発明の塗布方法及び塗布装置によれば、
実施例１〜３の結果である表１から明らかなように、塗
布液の流出が安定（すなわちスリット中の液の挙動が安
定）しており、塗布ムラ（膜圧変動）をおさえることが
わかった。更に、本実施例では塗布液のビード切れも生
じなかった。また、多層からなる有機感光体を組み上げ
実写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ム
ラはなく良好な画像が得られた。
【００７８】本発明の請求項５〜７を以下の実施例につ
いて説明する。
【００７９】実施例４ （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００８０】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−２を調製し、図７に示すスライドホッパー型塗布
装置を用いて塗布し、塗布ドラムを得た。
【００８１】 ＵＣＬ−２塗布液組成物 塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体 （エスレックＭＦ−１０ 積水化学社製） ５０ｇ アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１ （Ｖｏｌ比） ７０００ｍｌ 初期塗布から１０００本目塗布にかけて塗布性は良好で
あった。
【００８２】実施例５ （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００８３】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−２を調製し、図７に示すスライドホッパー型塗布
装置を用いて塗布し、塗布ドラムを得た。
【００８４】 ＣＧＬ−４塗布液組成物 ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２） ５０ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ５０ｇ メチルエチルケトン ２４００ｍｌ 上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散し
たもの。
【００８５】上記の各実施例に使用したＣＧＭ１〜３、
ＣＴＭ１〜３を以下に示す。
【００８６】
【化１】
【００８７】
【化２】
【００８８】本発明によると、泡抜きのため、当初、液
量をアップして泡抜きをし、塗布量の液量を元に戻して
塗布を開始すると、顔料の凝集物の流出はすぐ止まり、
多数本のドラム塗布中、凝集物は出て来なかった。図１
０に示すスライドホッパー型塗布装置では、一部の凝集
物が塗布１００本目位にスライド面４５に流出し、塗布
欠陥となった。
【００８９】実施例６ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００９０】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｃ
ＴＬ−１を調製し、図６に示すスライドホッパー型塗布
装置を用いて塗布し、塗布ドラムを得た。
【００９１】塗布の結果は、塗布ムラ等がなく塗布性は
良好であった。
【００９２】実施例７ 導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、
高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００９３】図１１の逐次重層塗布装置を用い、実施例
４の塗布ドラムＮｏ．１−３（乾燥膜厚１．０μｍ）上
に実施例５の塗布液組成物ＣＧＬ−２を乾燥膜厚０．５
μｍになるように、更にこの上に実施例６の塗布液組成
物ＣＴＬ−１を乾燥膜厚２３μｍになるように逐次重層
塗布した。
【００９４】塗布の結果は、塗布性、重層性が良好であ
り、長手方向の塗布膜厚ムラもなかった。
【００９５】また、実写テストを行ったところ、塗布ム
ラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００９６】 ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１（前出） ５０００ｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５６００ｇ １，２−ジクロロエタン ２８０００ｍｌ 塗布の結果は、塗布ムラ等がなく塗布性は良好であっ
た。
【００９７】実施例７ 図２に示す連続塗布装置を用い、実施例４の塗布ドラム
（乾燥膜厚１．０μｍ）上に実施例５の塗布液組成物Ｃ
ＧＬ−２を乾燥膜厚０．５μｍになるように、更にこの
上に実施例６の塗布液組成物ＣＴＬ−１を乾燥膜厚２３
μｍになるように逐次重層した。
【００９８】塗布結果、塗布性、重層性は良好であり、
長手方向の塗布膜厚ムラもなかった。また、実写テスト
を行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく、
良好な画像が得られた。
【００９９】
【発明の効果】本発明による塗布方法及び塗布装置（請
求項１〜４）によると、塗布液分配室内の絶対圧及び／
又は塗布液の粘度を所定範囲内に設定することにより、
スリット中の塗布液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗
布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえる
ことができる。
【０１００】また、本発明の請求項５〜７による塗布方
法及び塗布装置によると、塗布液分配室の断面を曲線で
囲まれた形状にすることにより、顔料の凝集物の流出は
発生せず、塗布液分配室内の塗布液の挙動が安定し、塗
布性が良好、ビード切れが無い、円筒状基材の円周方向
の膜厚変動が無い、送液の脈動変化に強い等の優れた効
果を奏する。特に、塗布液を送り出すときに、上記脈動
変化が消失し、塗布膜厚変動が低減するから、多数枚コ
ピー形成時での画像の濃淡むらが発生しないという利点
がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による連続塗布装置の全体構成を示す斜
視図。
【図２】本発明による連続塗布装置の他の実施例を示す
斜視図。
【図３】位置決め手段とスライドホッパー型塗布手段と
を示す断面図。
【図４】上記スライドホッパー型塗布手段の斜視図。
【図５】上記スライドホッパー型塗布手段と乾燥フード
とを示す断面図。
【図６】本発明のスライドホッパー型塗布手段の他の実
施の形態を示す断面図。
【図７】スライドホッパー型塗布手段の更に他の実施の
形態を示す断面図。
【図８】本発明に係わる押し出し型塗布装置の断面図。
【図９】上記押し出し型塗布装置の斜視図。
【図１０】本発明によるスライドホッパー型塗布手段の
更に他の実施例を示す斜視図。
【図１１】本発明に係わる逐次重層塗布装置の一例を示
す断面図。
【符号の説明】
１，１Ａ，１Ｂ 円筒状基材（基体ドラム、導電性支持
体） ２ 貯留タンク ３ 圧送ポンプ ４ 供給管 １０ 供給手段 ２０ 搬送手段 ２１，２２ 把持手段 ３０ 位置決め手段 ４０，４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ 塗布手段（塗布装置、
スライドホッパー型塗布装置、押し出し型塗布装置） ４１ 塗布ヘッド（コーターエッジ部、ホッパー塗布
面） ４２ 塗布液流出口 ４３ 塗布液分配スリット（スリット） ４４ 塗布液分配室（塗布液溜まり室） ４５ スライド面 ４６ 唇状部 ４７ 空気抜き手段 ４８ 供給口 ４９ 供給路 Ｌ 塗布液 Ｐ 絶対圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅野 真生 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 外部から供給口を通して供給される塗布
    液を、環状の塗布液溜まり室に分配し、分配された塗布
    液を、内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対
    的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法に
    おいて、前記塗布液溜まり室内の絶対圧Ｐが、次式を満
    足することを特徴とする塗布方法。 ３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ2Ｏ）
  2. 【請求項２】 前記外部から供給される塗布液の粘度
    が、５００〜１×１０4ミリパスカル・秒の範囲内であ
    ることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
  3. 【請求項３】 前記スリットから供給される塗布液は、
    押し出し型コーターにより円筒状基材の外周面に塗布す
    ることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
  4. 【請求項４】 外部から塗布液が供給される供給口と、
    前記供給口より供給された塗布液を環状に分配する塗布
    液溜まり室と、前記塗布液溜まり室から内周面側に向け
    て塗布液を供給する環状のスリットと、を有し、前記ス
    リットから供給された塗布液を、相対的に移動する円筒
    状基材の外周面に塗布する塗布装置において、前記塗布
    液溜まり室内の絶対圧Ｐが、次式を満足することを特徴
    とする塗布装置。 ３×１０4≦Ｐ＜３×１０6（ｍｍＨ2Ｏ）
  5. 【請求項５】 外部から供給口を通して供給される塗布
    液を環状の塗布液溜まり室に分配し、分配された塗布液
    を、スリットを通して供給し、円筒状基材の外周面に塗
    布する塗布方法において、前記供給口から供給された塗
    布液を、曲線で形成された断面形状をなす前記塗布液溜
    まり室内の塗布液の最底部に供給し、前記塗布液溜まり
    室内の塗布液を内周面側に向けて前記スリットを通して
    圧送し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布す
    ることを特徴とする塗布方法。
  6. 【請求項６】 長手方向に移動する円筒状基材の周囲を
    環状にとり囲み、その内部に環状の塗布液溜まり室と、
    該塗布液溜まり室に対して外部から塗布液を供給する供
    給口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口するスリット
    を有する塗布装置において、前記供給口の入り口部が前
    記塗布液溜まり室に対して最底部にあり、前記塗布液溜
    まり室の断面が曲線で形成され形状をなすことを特徴と
    する塗布装置。
  7. 【請求項７】 前記塗布液溜まり室の断面がほぼ円形形
    状をなすことを特徴とする請求項６に記載の塗布装置。
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