JP3837789B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部から供給口を通して供給される液を環状の分配室に分配し、分配された液を内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法及び塗布装置、特に、エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を均一に塗布する塗布方法及び塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
円筒状基材の外周面上への薄膜で均一な塗布に関しては、従来からスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。特に、電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しかしながら、従来の円筒状基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかったり生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】
スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出した塗布液滴が円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それに伴い塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限がある。
【０００４】
ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し、円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回転させた後ブレード若しくはロールを後退させるものである。しかしながらブレード若しくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点がある。
【０００５】
浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】
しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】
そこで特開昭５８−１８９０６１号公報や特開昭６０−９５４４０号公報に記載の如く円形型塗布装置、いわゆるリングコーターが開発された。このリングコーターは、外部から供給口を通して供給される液を環状の分配室に分配し、分配された液を内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動するエンドレスに形成された連続面を有した円筒状基材の外周面に塗布液を均一に塗布する塗布装置である。特に、前者のリングコーターは、スライドホッパー型塗布装置と呼び、スリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布するものである。
【０００８】
これらリングコーターは、スリットから供給する液量を微量に調整でき、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したリングコーターにおいても、膜厚変動が生じて塗布ムラが発生するという問題が生じた。特に、前者のスライドホッパー型塗布装置においては、スライド面上に流下する液の流れが変動し、ビードが切れるという問題が生じた。本出願人は、この問題を鋭意検討した結果、上記問題は、スリット中の液の挙動に起因していることをつきとめ、このスリット中の液の挙動を安定させることが必要であることを見出した。
【００１０】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、スリット中の液の挙動を安定させ、塗布ムラをおさえることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、外部から供給口を通して供給される液を、環状の分配室に分配し、分配された液を、内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法において、前記分配室内の絶対圧Ｐが１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することを特徴とする塗布方法（請求項１）により達成される。
【００１２】
本発明で用いられる塗布方法では、分配室内の絶対圧Ｐが、１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００１３】
また、本発明で用いられる塗布方法は、同時重層塗布方法（請求項２）や逐次重層塗布方法（請求項３）に適用しても、同様の効果を得る。
【００１４】
更に、スリットから供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との間隙部分にビードを形成し、塗布する（請求項４）ことにより、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じない。
【００１５】
更に、絶対圧Ｐが、１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することが好ましく、これにより、塗布ムラが更になくなる。
【００１６】
なお、本発明でいう「絶対圧」とはゲージ圧のことである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて塗布装置の一実施の形態の例を示し、説明を行う。図１は本発明に係わる塗布装置の縦断面図で、図２はその斜視図である。
【００１８】
図１に示されるように中心線ＹＹに沿って垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に矢示の如く上方向に上昇移動（移動速度は、５ｍｍ／ｓｅｃ以上５０ｍｍ／ｓｅｃ以下が好ましい）させ、その周囲を取り囲み、基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗布に直接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）３により塗布液Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。
【００１９】
一方、塗布液Ｌは貯留タンク５内に貯留されており、圧送ポンプ６により供給口２を通して供給するようになっている。供給口２から供給された塗布液Ｌは環状の分配室７で分配される。この分配室７は中心線ＹＹと同心状に配置され、供給された塗布液Ｌを環状に全周にわたって分配する。分配室７で分配された塗布液Ｌは、スリット８を通して塗布ヘッド３の内周面側である円筒状基材１側に向けて供給される。このスリット８は、環状の分配室７に連通し、円筒状基材１側に全周にわたって開口する塗布液流出口９を有しており、所定の間隙（好ましくは、５０μｍ以上５００μｍ以下）が水平方向に形成されている。
【００２０】
スリット８を通して供給される塗布液Ｌは斜め下方に傾斜するスライド面１０を流下する。このスライド面１０は、スリット８の塗布液流出口９の下側に、連続して下方に傾斜し円筒状基材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成されている。このスライド面１０の下端には、スライド面１０の終端より下方に延びるスライドエッジ４が形成されており、スライド面１０に沿って流下してスライド面１０の終端に至った塗布液Ｌは、そのスライド面１０の下端のスライドエッジ４と上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成した後、円筒状基材１Ａの外周面面に塗布される。
【００２１】
スライド面１０の終端（及びスライドエッジ４）と円筒状基材１とは、ある間隙（好ましくは、３０μｍ以上５００μｍ以下）を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
【００２２】
一方、供給口２より最も遠い位置で分配室７の一部より空気抜き部材１１を、分配室７より外部に貫通するように設けるとともに、この空気抜き部材１１の一部に開閉弁１２を設ける。この空気抜き部材１１は、塗布液Ｌの供給を開始したときに、開閉弁１２を開いて分配室７内の空気を排気するものであって、塗布液Ｌを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２を閉じている。
【００２３】
図３，図４は円筒状基材１上に２層の塗布層を形成する重層塗布する塗布装置の例を示している。図示したのは２層の重層塗布であるが、同様構造によって、或いはそれらの組み合わせによって３層以上の重層塗布する塗布装置を提供することができる。なお図３，図４において図１と同一の構成については同一数字を用いて示している。
【００２４】
まず、上述した塗布装置において、供給口２、分配室７及びスリット８を複数有し、スリット８から供給される液を重ね合わせた後、相対的に移動する円筒状基材１の外周面に塗布することにより、円筒状基材１の外周面上に複数層を塗布する同時重層塗布装置について説明する。図３は、同一塗布装置から塗布液ＬＡ，ＬＢによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるいわゆる同時２層塗布装置を示している。
【００２５】
貯留タンク５Ａ，５Ｂに貯留された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ圧送ポンプ６Ａ，６Ｂにより、供給口２Ａ，２Ｂを通して供給され、環状の分配室７Ａ，７Ｂでそれぞれ分配される。分配された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布ヘッド３の水平方向に形成された所定の間隙を有するスリット８Ａ，８Ｂを通り、環状に開口する塗布液流出口９Ａ，９Ｂから塗布ヘッド３の内周面側に向けて供給される。供給された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布液流出口９Ａ，９Ｂの下側に設けられた下方に傾斜したスライド面１０Ａ，１０Ｂ上を流下する。ここで、上層となるスライド面１０Ｂを流下している塗布液ＬＢは、スライド面１０Ａ上を流下している塗布液ＬＡ上に重ね合わさり、重ね合わさった塗布液ＬＡ，ＬＢは、スライド面１０Ａの下端に形成されたスライド面１０Ａの終端より下方に延びるスライドエッジ４と上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成し、円筒状基材１Ａの外周面に２層同時に塗布される。
【００２６】
なお、空気抜き部材１１Ａ，１１Ｂは、塗布液ＬＡ，ＬＢの供給を開始したときに、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを開いて分配室７Ａ，７Ｂ内の空気をそれぞれ排気するものであって、塗布液ＬＡ，ＬＢを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを閉じている。
【００２７】
次に、供給口２、分配室７及びスリット８を複数有し、スリット８から供給される液を、逐次、相対的に移動する円筒状基材１の外周面に塗布することにより、円筒状基材１の外周面上に複数層を塗布する逐次重層する塗布装置について説明する。図４は、複数の塗布装置から塗布液ＬＡ，ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次２層塗布を行う装置を示している。
【００２８】
貯留タンク５Ａ，５Ｂに貯留された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ圧送ポンプ６Ａ，６Ｂにより、供給口２Ａ，２Ｂを通して供給され、環状の分配室７Ａ，７Ｂでそれぞれ分配される。分配された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布ヘッド３の水平方向に形成された所定の間隙を有するスリット８Ａ，８Ｂを通り、環状に開口する塗布液流出口９Ａ，９Ｂから塗布ヘッド３の内周面側に向けて供給される。供給された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布液流出口９Ａ，９Ｂの下側に設けられた下方に傾斜したスライド面１０Ａ，１０Ｂ上を流下する。それぞれ流下した塗布液ＬＡ，ＬＢは、スライド面１０Ａ，１０Ｂの下端に形成されたスライド面１０Ａ，１０Ｂの終端より下方に延びるスライドエッジ４Ａ，４Ｂと上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成し、塗布液ＬＡは円筒状基材１Ａ上に塗布され、塗布液ＬＢは塗布液ＬＡ上に塗布され、逐次、移動する円筒状基材１の外周面上に２層塗布される。
【００２９】
なお、空気抜き部材１１Ａ，１１Ｂは、塗布液ＬＡ，ＬＢの供給を開始したときに、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを開いて分配室７Ａ，７Ｂ内の空気をそれぞれ排気するものであって、塗布液ＬＡ，ＬＢを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを閉じている。
【００３０】
上述した塗布装置において、分配室内の絶対圧Ｐを、２．０＜Ｐ＜２５０００（ｍｍＨ2Ｏ）の範囲にすることにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができた。絶対圧Ｐが２．０（ｍｍＨ2Ｏ）以下だとスリットから流出する塗布液に脈動成分が多く、均一な塗布層が形成されない。また、絶対圧が２５０００（ｍｍＨ2Ｏ）以上だとスリット中を流れる塗布液が乱流となり、均一な塗布層を形成することができない。また、絶対圧Ｐは、好ましくは１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することがよく、これにより、塗布ムラが更になくなる。
【００３１】
なお、「絶対圧」とはゲージ圧のことであり、その測定は、分配室７内に測定端子を入れ直接測ればよく、上述した実施の形態においては、空気抜き部材１１用の孔に、測定端子を入れ、分配室７内の絶対圧を測定した。また、絶対圧を調整するには、絶対圧の主要因が塗布液の粘度、スリット８間隙、塗布液流量であるので、これらを種々変えることにより絶対圧を調整できる。
【００３２】
また、上述した実施の形態は、スリット８から供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面１０上に流下させ、該スライド面１０の下端のスライドエッジ４と円筒状基材１との間隙部分にビードを形成し、塗布するものであり、この形態では、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じず、効果が大きいが、これに限られず、スリット８から供給される液を直接円筒状基材１上に塗布するものであっても、上述した絶対圧Ｐを満足することにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００３３】
また、本実施の形態の塗布方法及び塗布装置では、スライド面終端と基材は、ある間隙を持って配置されているため基材を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆ど溶出しないし、塗布層にも溶出することなく塗布できる。
【００３４】
なお、本発明の塗布方法及び塗布装置は、薄膜で均一な塗布膜を要求する電子写真感光体ドラムが好ましいが、これに限られることはなく、静電記録体の製造、ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面への塗膜形成等に用いることができる。即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周面の塗布方法として用いられる。また、塗布装置を固定し、基材自体を移動（特に、上方向が好ましい）させた方がよいが、これに限られることはなく、基材と塗布装置が相対的に移動していればよい。
【００３５】
【実施例】
次に本発明の実施例について説明する。
【００３６】
実施例１
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表１に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＵＣＬ−１、ＵＣＬ−２の液粘度（溶媒量の添加によるポリマー濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．１−１〜１−７を得た。
【００３７】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０ 積水化学社製）
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表１である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００３８】
【表１】
【００３９】
実施例２
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表２に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２、ＣＧＬ−３の液粘度（溶媒量の添加による固形分濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−９を得た。
【００４０】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４１】
ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４２】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製）
ｔ−酢酸ブチル
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００４３】
【化１】
【００４４】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表２である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００４５】
【表２】
【００４６】
実施例３
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表３に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＣＴＬ−１、ＣＴＬ−２、ＣＴＬ−３の液粘度（溶媒量の添加によるポリマー濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．３−１〜３−９を得た。
【００４７】
ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定ＣＴＬ−２塗布液組成物
ＣＴＭ−２
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定ＣＴＬ−３塗布液組成物
ＣＴＭ−３
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定
【００４８】
【化２】
【００４９】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表３である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００５０】
【表３】
【００５１】
実施例４
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表４に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＰＣＬ−１、ＯＣＬ−１の液粘度（溶媒量の添加による固形分濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．４−１〜４−４を得た。
【００５２】
ＰＣＬ−１塗布液組成物
ＣＧＭ−２
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
ＣＴＭ−４
１，２−ジクロロエタン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−４：Ｚ−２００：ＣＴＭ−４＝１０：２０：１５に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００５３】
【化３】
【００５４】
ＯＣＬ−１塗布液組成物
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
シリコーン系微粒子（トスパール１０３ 東芝シリコーン社製）
１，２−ジクロロエタン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比Ｚ−２００：トスパール＝１００：１に固定）をサンドミルを用いて３時間分散したもの。
【００５５】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表４である。
【００５６】
【表４】
【００５７】
実施例５
実施例１と同じドラム上に、図４に示すような逐次重層塗布するスライドホッパー型塗布装置を用いて、実施例１の塗布ドラムＮｏ．１−２と同じ条件で塗布液ＵＣＬ−１を塗布し、更にこの上に実施例２の塗布ドラムＮｏ．２−２と同じ条件で塗布液ＣＧＬ−１を塗布し、更にこの上に実施例３の塗布ドラムＮｏ．３−３と同じ条件で塗布液ＣＴＬ−１を塗布し、逐次重層塗布を行った。
【００５８】
得られた感光体を用いて実写テストをおこなったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００５９】
本発明の塗布方法及び塗布装置によれば、実施例１〜３の結果である表１〜３及び実施例４の結果から明らかなように、スライド面上の塗布液が安定（すなわちスリット中の液の挙動が安定）しており、塗布ムラ（膜圧変動）をおさえることがわかった。更に、本実施例では塗布液のビード切れも生じなかった。また、多層からなる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００６０】
【発明の効果】
本発明による塗布方法及び塗布装置（請求項１、５）によると、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００６１】
また、本発明の塗布方法は、同時重層塗布方法（請求項２）や逐次重層塗布方法（請求項３）に適用しても、同様の効果を得る。
【００６２】
更に、スリットから供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との間隙部分にビードを形成し、塗布する（請求項４、６）ことにより、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる塗布装置例の縦断面図である。
【図２】本発明に係わる塗布装置例の斜視図である。
【図３】本発明に係わる同時重層塗布装置例の縦断面図である。
【図４】本発明に係わる逐次重層塗布装置例の縦断面図である。
【符号の説明】
１ 円筒状基材
２ 供給口
３ 塗布ヘッド
４ スライドエッジ
５ 貯留タンク
６ 圧送ポンプ
７ 塗布液分配室
８ スリット
９ 塗布液流出口
１０ スライド面
１１ 空気抜き部材
１２ 開閉弁
Ｌ 塗布液
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部から供給口を通して供給される液を環状の分配室に分配し、分配された液を内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法及び塗布装置、特に、エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を均一に塗布する塗布方法及び塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
円筒状基材の外周面上への薄膜で均一な塗布に関しては、従来からスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。特に、電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しかしながら、従来の円筒状基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかったり生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】
スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出した塗布液滴が円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それに伴い塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限がある。
【０００４】
ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し、円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回転させた後ブレード若しくはロールを後退させるものである。しかしながらブレード若しくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点がある。
【０００５】
浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】
しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】
そこで特開昭５８−１８９０６１号公報や特開昭６０−９５４４０号公報に記載の如く円形型塗布装置、いわゆるリングコーターが開発された。このリングコーターは、外部から供給口を通して供給される液を環状の分配室に分配し、分配された液を内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動するエンドレスに形成された連続面を有した円筒状基材の外周面に塗布液を均一に塗布する塗布装置である。特に、前者のリングコーターは、スライドホッパー型塗布装置と呼び、スリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布するものである。
【０００８】
これらリングコーターは、スリットから供給する液量を微量に調整でき、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したリングコーターにおいても、膜厚変動が生じて塗布ムラが発生するという問題が生じた。特に、前者のスライドホッパー型塗布装置においては、スライド面上に流下する液の流れが変動し、ビードが切れるという問題が生じた。本出願人は、この問題を鋭意検討した結果、上記問題は、スリット中の液の挙動に起因していることをつきとめ、このスリット中の液の挙動を安定させることが必要であることを見出した。
【００１０】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、スリット中の液の挙動を安定させ、塗布ムラをおさえることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、外部から供給口を通して供給される液を、環状の分配室に分配し、分配された液を、内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法において、前記分配室内の絶対圧Ｐが１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することを特徴とする塗布方法（請求項１）により達成される。
【００１２】
本発明で用いられる塗布方法では、分配室内の絶対圧Ｐが、１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００１３】
また、本発明で用いられる塗布方法は、同時重層塗布方法（請求項２）や逐次重層塗布方法（請求項３）に適用しても、同様の効果を得る。
【００１４】
更に、スリットから供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との間隙部分にビードを形成し、塗布する（請求項４）ことにより、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じない。
【００１５】
更に、絶対圧Ｐが、１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することが好ましく、これにより、塗布ムラが更になくなる。
【００１６】
なお、本発明でいう「絶対圧」とはゲージ圧のことである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて塗布装置の一実施の形態の例を示し、説明を行う。図１は本発明に係わる塗布装置の縦断面図で、図２はその斜視図である。
【００１８】
図１に示されるように中心線ＹＹに沿って垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に矢示の如く上方向に上昇移動（移動速度は、５ｍｍ／ｓｅｃ以上５０ｍｍ／ｓｅｃ以下が好ましい）させ、その周囲を取り囲み、基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗布に直接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）３により塗布液Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。
【００１９】
一方、塗布液Ｌは貯留タンク５内に貯留されており、圧送ポンプ６により供給口２を通して供給するようになっている。供給口２から供給された塗布液Ｌは環状の分配室７で分配される。この分配室７は中心線ＹＹと同心状に配置され、供給された塗布液Ｌを環状に全周にわたって分配する。分配室７で分配された塗布液Ｌは、スリット８を通して塗布ヘッド３の内周面側である円筒状基材１側に向けて供給される。このスリット８は、環状の分配室７に連通し、円筒状基材１側に全周にわたって開口する塗布液流出口９を有しており、所定の間隙（好ましくは、５０μｍ以上５００μｍ以下）が水平方向に形成されている。
【００２０】
スリット８を通して供給される塗布液Ｌは斜め下方に傾斜するスライド面１０を流下する。このスライド面１０は、スリット８の塗布液流出口９の下側に、連続して下方に傾斜し円筒状基材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成されている。このスライド面１０の下端には、スライド面１０の終端より下方に延びるスライドエッジ４が形成されており、スライド面１０に沿って流下してスライド面１０の終端に至った塗布液Ｌは、そのスライド面１０の下端のスライドエッジ４と上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成した後、円筒状基材１Ａの外周面面に塗布される。
【００２１】
スライド面１０の終端（及びスライドエッジ４）と円筒状基材１とは、ある間隙（好ましくは、３０μｍ以上５００μｍ以下）を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
【００２２】
一方、供給口２より最も遠い位置で分配室７の一部より空気抜き部材１１を、分配室７より外部に貫通するように設けるとともに、この空気抜き部材１１の一部に開閉弁１２を設ける。この空気抜き部材１１は、塗布液Ｌの供給を開始したときに、開閉弁１２を開いて分配室７内の空気を排気するものであって、塗布液Ｌを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２を閉じている。
【００２３】
図３，図４は円筒状基材１上に２層の塗布層を形成する重層塗布する塗布装置の例を示している。図示したのは２層の重層塗布であるが、同様構造によって、或いはそれらの組み合わせによって３層以上の重層塗布する塗布装置を提供することができる。なお図３，図４において図１と同一の構成については同一数字を用いて示している。
【００２４】
まず、上述した塗布装置において、供給口２、分配室７及びスリット８を複数有し、スリット８から供給される液を重ね合わせた後、相対的に移動する円筒状基材１の外周面に塗布することにより、円筒状基材１の外周面上に複数層を塗布する同時重層塗布装置について説明する。図３は、同一塗布装置から塗布液ＬＡ，ＬＢによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるいわゆる同時２層塗布装置を示している。
【００２５】
貯留タンク５Ａ，５Ｂに貯留された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ圧送ポンプ６Ａ，６Ｂにより、供給口２Ａ，２Ｂを通して供給され、環状の分配室７Ａ，７Ｂでそれぞれ分配される。分配された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布ヘッド３の水平方向に形成された所定の間隙を有するスリット８Ａ，８Ｂを通り、環状に開口する塗布液流出口９Ａ，９Ｂから塗布ヘッド３の内周面側に向けて供給される。供給された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布液流出口９Ａ，９Ｂの下側に設けられた下方に傾斜したスライド面１０Ａ，１０Ｂ上を流下する。ここで、上層となるスライド面１０Ｂを流下している塗布液ＬＢは、スライド面１０Ａ上を流下している塗布液ＬＡ上に重ね合わさり、重ね合わさった塗布液ＬＡ，ＬＢは、スライド面１０Ａの下端に形成されたスライド面１０Ａの終端より下方に延びるスライドエッジ４と上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成し、円筒状基材１Ａの外周面に２層同時に塗布される。
【００２６】
なお、空気抜き部材１１Ａ，１１Ｂは、塗布液ＬＡ，ＬＢの供給を開始したときに、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを開いて分配室７Ａ，７Ｂ内の空気をそれぞれ排気するものであって、塗布液ＬＡ，ＬＢを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを閉じている。
【００２７】
次に、供給口２、分配室７及びスリット８を複数有し、スリット８から供給される液を、逐次、相対的に移動する円筒状基材１の外周面に塗布することにより、円筒状基材１の外周面上に複数層を塗布する逐次重層する塗布装置について説明する。図４は、複数の塗布装置から塗布液ＬＡ，ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次２層塗布を行う装置を示している。
【００２８】
貯留タンク５Ａ，５Ｂに貯留された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ圧送ポンプ６Ａ，６Ｂにより、供給口２Ａ，２Ｂを通して供給され、環状の分配室７Ａ，７Ｂでそれぞれ分配される。分配された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布ヘッド３の水平方向に形成された所定の間隙を有するスリット８Ａ，８Ｂを通り、環状に開口する塗布液流出口９Ａ，９Ｂから塗布ヘッド３の内周面側に向けて供給される。供給された塗布液ＬＡ，ＬＢはそれぞれ塗布液流出口９Ａ，９Ｂの下側に設けられた下方に傾斜したスライド面１０Ａ，１０Ｂ上を流下する。それぞれ流下した塗布液ＬＡ，ＬＢは、スライド面１０Ａ，１０Ｂの下端に形成されたスライド面１０Ａ，１０Ｂの終端より下方に延びるスライドエッジ４Ａ，４Ｂと上へ移動している円筒状基材１Ａの外周面との間にビードを形成し、塗布液ＬＡは円筒状基材１Ａ上に塗布され、塗布液ＬＢは塗布液ＬＡ上に塗布され、逐次、移動する円筒状基材１の外周面上に２層塗布される。
【００２９】
なお、空気抜き部材１１Ａ，１１Ｂは、塗布液ＬＡ，ＬＢの供給を開始したときに、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを開いて分配室７Ａ，７Ｂ内の空気をそれぞれ排気するものであって、塗布液ＬＡ，ＬＢを円筒状基材１上に塗布しているときは、開閉弁１２Ａ，１２Ｂを閉じている。
【００３０】
上述した塗布装置において、分配室内の絶対圧Ｐを、２．０＜Ｐ＜２５０００（ｍｍＨ2Ｏ）の範囲にすることにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができた。絶対圧Ｐが２．０（ｍｍＨ2Ｏ）以下だとスリットから流出する塗布液に脈動成分が多く、均一な塗布層が形成されない。また、絶対圧が２５０００（ｍｍＨ2Ｏ）以上だとスリット中を流れる塗布液が乱流となり、均一な塗布層を形成することができない。また、絶対圧Ｐは、好ましくは１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ）を満足することがよく、これにより、塗布ムラが更になくなる。
【００３１】
なお、「絶対圧」とはゲージ圧のことであり、その測定は、分配室７内に測定端子を入れ直接測ればよく、上述した実施の形態においては、空気抜き部材１１用の孔に、測定端子を入れ、分配室７内の絶対圧を測定した。また、絶対圧を調整するには、絶対圧の主要因が塗布液の粘度、スリット８間隙、塗布液流量であるので、これらを種々変えることにより絶対圧を調整できる。
【００３２】
また、上述した実施の形態は、スリット８から供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面１０上に流下させ、該スライド面１０の下端のスライドエッジ４と円筒状基材１との間隙部分にビードを形成し、塗布するものであり、この形態では、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じず、効果が大きいが、これに限られず、スリット８から供給される液を直接円筒状基材１上に塗布するものであっても、上述した絶対圧Ｐを満足することにより、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００３３】
また、本実施の形態の塗布方法及び塗布装置では、スライド面終端と基材は、ある間隙を持って配置されているため基材を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆ど溶出しないし、塗布層にも溶出することなく塗布できる。
【００３４】
なお、本発明の塗布方法及び塗布装置は、薄膜で均一な塗布膜を要求する電子写真感光体ドラムが好ましいが、これに限られることはなく、静電記録体の製造、ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面への塗膜形成等に用いることができる。即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周面の塗布方法として用いられる。また、塗布装置を固定し、基材自体を移動（特に、上方向が好ましい）させた方がよいが、これに限られることはなく、基材と塗布装置が相対的に移動していればよい。
【００３５】
【実施例】
次に本発明の実施例について説明する。
【００３６】
実施例１
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表１に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＵＣＬ−１、ＵＣＬ−２の液粘度（溶媒量の添加によるポリマー濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．１−１〜１−７を得た。
【００３７】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０ 積水化学社製）
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表１である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００３８】
【表１】
実施例２
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表２に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２、ＣＧＬ−３の液粘度（溶媒量の添加による固形分濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−９を得た。
【００４０】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４１】
ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−２）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４２】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製）
ｔ−酢酸ブチル
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００４３】
【化１】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表２である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００４５】
【表２】
実施例３
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表３に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＣＴＬ−１、ＣＴＬ−２、ＣＴＬ−３の液粘度（溶媒量の添加によるポリマー濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．３−１〜３−９を得た。
【００４７】
ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定ＣＴＬ−２塗布液組成物
ＣＴＭ−２
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定ＣＴＬ−３塗布液組成物
ＣＴＭ−３
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定
【００４８】
【化２】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表３である。なお、表中の「◎」は特によかったことを示している。
【００５０】
【表３】
実施例４
（実施例及び比較例）
導電性支持体としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を円筒状基材として、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置を用いて、絶対圧Ｐ（ｍｍＨ2Ｏ）が表４に記載の如くなるように、下記の各塗布液組成物ＰＣＬ−１、ＯＣＬ−１の液粘度（溶媒量の添加による固形分濃度を調整）、スリット８間隙、流量（圧送ポンプ６の流量調整）を調整し、円筒状基材上に塗布して、塗布ドラムＮｏ．４−１〜４−４を得た。
【００５２】
ＰＣＬ−１塗布液組成物
ＣＧＭ−２
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
ＣＴＭ−４
１，２−ジクロロエタン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−４：Ｚ−２００：ＣＴＭ−４＝１０：２０：１５に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００５３】
【化３】
ＯＣＬ−１塗布液組成物
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
シリコーン系微粒子（トスパール１０３ 東芝シリコーン社製）
１，２−ジクロロエタン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比Ｚ−２００：トスパール＝１００：１に固定）をサンドミルを用いて３時間分散したもの。
【００５５】
そして、塗布中のスライド面１０上の塗布液の流れの状況及び塗布後の円筒状基材１上の塗布層を目視観察を行った結果を示したのが表４である。
【００５６】
【表４】
実施例５
実施例１と同じドラム上に、図４に示すような逐次重層塗布するスライドホッパー型塗布装置を用いて、実施例１の塗布ドラムＮｏ．１−２と同じ条件で塗布液ＵＣＬ−１を塗布し、更にこの上に実施例２の塗布ドラムＮｏ．２−２と同じ条件で塗布液ＣＧＬ−１を塗布し、更にこの上に実施例３の塗布ドラムＮｏ．３−３と同じ条件で塗布液ＣＴＬ−１を塗布し、逐次重層塗布を行った。
【００５８】
得られた感光体を用いて実写テストをおこなったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００５９】
本発明の塗布方法及び塗布装置によれば、実施例１〜３の結果である表１〜３及び実施例４の結果から明らかなように、スライド面上の塗布液が安定（すなわちスリット中の液の挙動が安定）しており、塗布ムラ（膜圧変動）をおさえることがわかった。更に、本実施例では塗布液のビード切れも生じなかった。また、多層からなる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００６０】
【発明の効果】
本発明による塗布方法及び塗布装置（請求項１、５）によると、スリット中の液の挙動が安定し、円筒状基材上に塗布された液の膜圧の変動をおさえ、塗布ムラをおさえることができる。
【００６１】
また、本発明の塗布方法は、同時重層塗布方法（請求項２）や逐次重層塗布方法（請求項３）に適用しても、同様の効果を得る。
【００６２】
更に、スリットから供給される液を、斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との間隙部分にビードを形成し、塗布する（請求項４、６）ことにより、スライド面上に流下する液の流れの変動をおさえ、ビードが切れるという問題も生じない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる塗布装置例の縦断面図である。
【図２】本発明に係わる塗布装置例の斜視図である。
【図３】本発明に係わる同時重層塗布装置例の縦断面図である。
【図４】本発明に係わる逐次重層塗布装置例の縦断面図である。
【符号の説明】
１ 円筒状基材
２ 供給口
３ 塗布ヘッド
４ スライドエッジ
５ 貯留タンク
６ 圧送ポンプ
７ 塗布液分配室
８ スリット
９ 塗布液流出口
１０ スライド面
１１ 空気抜き部材
１２ 開閉弁
Ｌ 塗布液
Claims (6)
- 外部から供給口を通して供給される液を、環状の分配室に分配し、
分配された液を、内周面側に向けてスリットを通して供給し、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布方法において、
前記分配室内の絶対圧Ｐが次式を満足することを特徴とする塗布方法。
１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ） - 前記供給口、前記分配室及び前記スリットを複数有し、各スリットから供給される液を重ね合わせた後、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布することにより、円筒状基材の外周面上に複数層を塗布することを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
- 前記供給口、前記分配室及び前記スリットを複数有し、各スリットから供給される液を、逐次、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布することにより、円筒状基材の外周面上に複数層を塗布することを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
- 前記スリットから供給される液は、斜め下方に傾斜するスライド面上に流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との間隙部分にビードを形成し、塗布することを特徴とする請求項１〜３何れか１項に記載の塗布方法。
- 外部から液が供給される供給口と、
前記供給口より供給された液を環状に分配する分配室と、
前記分配室から内周面側に向けて液を供給する環状のスリットと、
を有し、前記スリットから供給された液を、相対的に移動する円筒状基材の外周面に塗布する塗布装置において、
前記分配室内の絶対圧Ｐが次式を満足することを特徴とする塗布装置。
１５＜Ｐ＜５０００（ｍｍＨ2Ｏ） - 斜め下方に傾斜し、その下端で円筒状基材と間隙を形成するスライド面を有し、前記スリットから供給される液をスライド面上を流下させ、該スライド面の下端のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し塗布することを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
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