JPH10305251A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 円筒状基材の円周方向や上下方向の塗布膜厚
が均一で、塗布膜厚変動が少ない優れた円筒状基材の塗
布方法及びその塗布装置。 【解決手段】 環状のスリットを形成し塗布液を流す塗
布液スリットの入口開口部より塗布液を供給し、前記塗
布液スリットの入口開口部より内方に設けた出口開口部
より塗布液を流出させ、前記出口開口部より内方で下側
に傾斜し円筒状基材の外周面に近接した環状端部まで延
びるホッパー面に塗布液を流出させ、上方に移動してい
る円筒状基材の外周面上に塗布液を供給して、前記円筒
状基材の外周面上に塗布し塗布膜を形成する塗布方法に
おいて、前記塗布液スリットの前記入口開口部の半径方
向の単位長さ当たりの環状総体積をＭ，前記塗布液スリ
ットの前記出口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環
状総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８ なる条件を満足する塗布液スリットで塗布液を流すこと
を特徴とする塗布方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布方法及び塗布装
置に係わり、さらに詳しくは、塗布液を流す環状のスリ
ットを形成する塗布液スリットより塗布液をホッパー面
に流出させ、ホッパー面に対し円筒状基材を上方向に垂
直移動させながら、円筒状基材の外周面上に塗布し塗布
膜を形成する塗布方法及びその塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】円筒状基材の外周面上に塗布液を塗布し
塗布膜を形成する塗布方法として、スプレー塗布法、浸
漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方
法がある。特に、電子写真感光体ドラムのような薄膜で
均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開発す
べく検討されている。しかしながら、従来の円筒状基材
への塗布方法においては、薄膜で均一な塗膜が得られな
かったり生産性が悪い等の短所があった。

【０００３】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が円筒状基材の外周面上に到達するまでに
溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇して
しまい、それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液
滴が面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらない
ために、あるいは乾燥固体化してしまった粒子が表面に
付着するために、塗布表面の平滑性の良いものが得られ
ない。また連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率
が１００％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも不
均一であるため、膜厚コントロールが非常に困難であ
る。

【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレードもしくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレードもしくはロールを後退させるもので
ある。しかしながら、ブレードもしくはロールを後退さ
せる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部
分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点が
ある。

【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性、例えば粘度、表面
張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性
の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗
布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要で
ある。さらに重層する場合、下層成分が溶け出し、層界
面が乱れしかも塗布液槽が汚染されやすい等の欠点があ
る。

【０００６】そこでホッパー型の塗布装置が開発され
た。その一例を図面を参照して説明する。図７は従来の
塗布装置の一例の構成断面図である。図で、塗布方法を
説明すると、塗布液１１を流す環状のスリットを形成す
る塗布液スリット８の入口開口部８ａより塗布液を供給
し、前記入口開口部８ａの内方に設けた塗布液スリット
の出口開口部８ｂより塗布液１１を流出させ、前記出口
開口部８ｂより内方で下側に傾斜し円筒状基材１の外周
面に近接した環状端部４ｂまで延びるホッパー面４に塗
布液１１を流出させ、一方、前記ホッパー面４に対し前
記円筒状基材１を図の矢印の上方向に垂直移動させなが
ら、前記円筒状基材１の外周面と前記ホッパー面４の環
状端部との間に連続的に塗布液１１を供給して前記円筒
状基材１の外周面上に塗布し塗布膜を形成する。なお、
塗布液スリット８の入口開口部８ａの半径方向の単位長
さ当たりの環状総体積をＭ，前記塗布液スリットの出口
開口部８ｂの半径方向の単位長さ当たりの環状総体積を
Ｎとして、Ｍ／Ｎは１．９以上となった塗布液スリット
８に塗布液１１を流すようになっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記塗
布装置を用いても、塗布液が均一に円筒状基材の外周面
に塗布されず、円筒状基材の円周方向、上下方向に膜厚
変動が生じ、また場合により塗布膜切れが生じることが
ある。

【０００８】本発明は塗布方法および塗布装置の改良に
関するもので、この発明の目的は円筒状基材の円周方向
や上下方向の塗布膜厚が均一で、円筒状基材に塗布中の
ビード形成が安定性して円筒状基材上の膜切れがない優
れた円筒状基材の塗布方法及びその塗布装置を提供する
ことにある。また、本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布膜を同時に円筒状基材上に形成させるいわゆ
る同時重層塗布においても前記と同様の優れた塗布方法
を提供することにある。さらに、本発明の目的は、複数
の塗布装置から塗布膜を逐次円筒状基材上に形成させる
いわゆる逐次重層塗布においても前記と同様の優れた塗
布方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的は下記のよう
な手段により達成される。即ち、（１）環状のスリット
を形成し塗布液を流す塗布液スリットの入口開口部より
塗布液を供給し、前記塗布液スリットの入口開口部より
内方に設けた出口開口部より塗布液を流出させ、前記出
口開口部より内方で下側に傾斜し円筒状基材の外周面に
近接した環状端部まで延びるホッパー面に塗布液を流出
させ、上方に移動している円筒状基材の外周面上に塗布
液を供給して、前記円筒状基材の外周面上に塗布し塗布
膜を形成する塗布方法において、前記塗布液スリットの
前記入口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環状総体
積をＭ，前記塗布液スリットの前記出口開口部の半径方
向の単位長さ当たりの環状総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８・・・・・・・ なる条件を満足する塗布液スリットで塗布液を流すこと
を特徴とする塗布方法。

【００１０】または、（２）塗布液を供給する塗布液供
給手段と、前記塗布液供給手段より供給された塗布液を
環状の入口開口部より入れ、前記塗布液スリットの入口
開口部より内方に設けた出口開口部より流出させて塗布
液を流す塗布液スリットと、前記出口開口部より内方で
下側に傾斜し円筒状基材の外周面に近接した環状端部ま
で延びるホッパー面と、前記ホッパー面に対し前記円筒
状基材を上方に垂直に移動させる基材上昇移動手段とを
備え、前記円筒状基材を移動させながら、前記円筒状基
材の外周面と前記ホッパー面の前記環状端部との間に連
続的に塗布液を供給して前記円筒状基材の外周面上に塗
布し塗布膜を形成する塗布装置において、前記塗布液ス
リットの前記入口開口部の半径方向の単位長さ当たりの
環状総体積をＭ，前記塗布液スリットの前記出口開口部
の半径方向の単位長さ当たりの環状総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８・・・・・・ なる条件を満足することを特徴とする塗布装置。

【００１１】上記、式の０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる
条件を満足することにより、塗布液スリットの入口開口
部より出口開口部にかけて塗布液がスムースに流れ、塗
布液が均一にホッパー面上に流出し、円筒状基材の外周
面に塗布され円周方向、上下方向に膜厚変動の少ない塗
布膜を形成できる。なお、Ｍ／Ｎが１．８の上限を越え
ると塗布液が塗布液スリットをスムースに流れなくな
り、塗布液がホッパー面を脈動して流れ、塗布膜厚変動
（塗布ムラ）が大きくなる。

【００１２】また、Ｍ／Ｎが０．５の下限を越えると塗
布液が脈動等をおこしスムースに流れなくなり、塗布膜
厚が不均一となり、塗布膜厚変動（塗布ムラ）が大きく
なる。なお、Ｍ／Ｎは好ましくは０．８≦Ｍ／Ｎ≦１．
５、さらに好ましくは０．９≦Ｍ／Ｎ≦１．２である。

【００１３】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明するが、これに限定されるものではな
い。

【００１４】（実施の形態１）図１は実施形態の塗布装
置の構成断面図で、図２は実施形態の塗布液スリットの
斜視図で、図３、４は塗布液スリットの拡大断面図であ
る。

【００１５】図１、２で、塗布液供給手段である送液ポ
ンプ６は塗布液タンク５の塗布液１１を塗布液供給口６
Ａに供給する。塗布ヘッド３は塗布液溜まり室７、塗布
液スリット８、ホッパー面４等で構成され、円筒状基材
に外周面上に塗布するようになっている。塗布液溜まり
室７は円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の周囲を環状にとり囲
み設けられ、送液ポンプ６により供給される塗布液１１
を環状に液溜めする。また、塗布液スリット８は入口開
口部８ａと出口開口部８ｂを有し、塗布液供給手段より
供給された塗布液１１を環状の入口開口部８ａより入れ
入口開口部８ａより内方の環状の出口開口部８ｂより流
出させ塗布液１１を流すようになっている。なお、塗布
液スリット長さは入口開口部８ａより出口開口部８ｂま
での半径方向の長さをいう。また、「半径方向」とは、
図１で説明すると円筒状基材１の円筒中心軸Ｙ−Ｙを通
る垂直な方向を意味する。

【００１６】Ｍは塗布液スリット８の入口開口部８ａの
半径方向の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を示
し、Ｎは塗布液スリット８の出口開口部８ｂの半径方向
の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を示す。そし
て、Ｍ／Ｎの比は０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる条件を満
足するようになっている。この条件を満足することによ
り塗布液の液圧が徐々に減圧して行き、塗布液がスリッ
トに流れるようになる。

【００１７】ホッパー面４は環状の出口開口部８ｂより
内方で下側に傾斜し円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面
に近接した環状端部４ｂまで延び、円錐状となってい
る。

【００１８】基材上昇移動手段１２はホッパー面４に対
し円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・を把持して上方に垂直移動
させる。なお、円筒状基材は１Ａ，１Ｂ・・と積み重な
っている。また、円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・としては中
空ドラム、例えば、アルミニウムドラム、プラスチック
ドラムの他、シームレスベルト型の円筒状基材でも良
い。

【００１９】ここで、塗布液スリット８についてさらに
図３、４で説明すると、図３（ａ）は、図１の塗布液ス
リット８の拡大図で、塗布液スリット８の下側は水平
面、上側は傾斜面となっている。図３（ｂ）から図４
（ｅ）は他の例で、図３（ｂ）は塗布液スリット８の上
側、下側ともなだらかな曲面となっている。また、図３
（ｃ）は塗布液スリット８の上側、下側が共に傾斜面と
なっている。図４（ｄ）は塗布液スリット８の下側は水
平面、上側は一部水平面、一部傾斜面となっている。図
４（ｅ）は塗布液スリット８の下側は水平面、上側は一
部段差となっている。

【００２０】ここで、円筒状基材の塗布方法を説明す
る。塗布液タンク５の塗布液１１を送液ポンプ６で塗布
液供給口６Ａに供給する。供給された塗布液１１を液溜
まり室７で液溜めした後に、塗布液１１は流す環状のス
リットを形成する塗布液スリット８の入口開口部８ａに
入り、塗布液１１がスムースな層流となって流れ、前記
出口開口部８ｂより塗布液１１を流出させる。そして、
出口開口部８ｂより内方で下側に傾斜し円筒状基材１
Ａ，１Ｂ・・の外周面に近接した環状端部４ｂまで延び
るホッパー面４に塗布液１１を流出させる。

【００２１】一方、前記ホッパー面４に対し前記円筒状
基材１Ａ，１Ｂ・・を上方向に垂直移動させながら、円
筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面と環状端部４ｂとの間
に連続的に塗布液１１を供給して円筒状基材１Ａ，１Ｂ
・・の外周面上に塗布し塗布膜２を形成する。

【００２２】以上のように、塗布液がホッパー面を安定
して均一に流れ、円筒状基材の円周方向や上下方向の塗
布膜厚が均一で、また、塗布液の円筒状基材に塗布中の
ビードの形成が安定性よく円筒状基材上の塗布膜切れが
ない。

【００２３】（実施形態２）図５は、実施形態の塗布装
置の構成断面図で、さらに詳しくは各々複数の塗布液ス
リットを設け、異なる塗布液を塗布液スリットの環状の
出口開口部から同一のホッパー面に流出させ、複数の塗
布膜を同時に円筒状基材の外周面上に形成させる塗布装
置である。なお、図１，２，３の塗布装置と機構的、機
能的に同じ部分は説明を省略する。

【００２４】図で、塗布液供給手段である送液ポンプ６
１は塗布液タンク５１の塗布液１１１を塗布液供給口６
Ｂに供給する。塗布液溜まり室７１は円筒状基材１Ａ，
１Ｂ・・の周囲を環状にとり囲み設けられ、送液ポンプ
６１により供給される塗布液１１を環状に液溜めする。
塗布液スリット８１は入口開口部８１ａと出口開口部８
１ｂがあり、塗布液１１１を環状の入口開口部８１ａよ
り入れ、入口開口部８１ａより内方の環状の出口開口部
８１ｂより流出させ塗布液１１１を流すようになってい
る。

【００２５】Ｍは塗布液スリット８１の入口開口部８１
ａの半径方向の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を
示し、Ｎは塗布液スリット８の出口開口部８１ｂの半径
方向の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を示す。そ
して、０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる条件を満足するよう
になっている。

【００２６】ホッパー面４は環状の出口開口部８ｂより
内方で下側に傾斜し円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面
に近接した環状端部４ｂまで延びて円錐状となってい
る。基材上昇移動手段１２はホッパー面４に対し円筒状
基材１Ａ，１Ｂ・・を把持して上方に垂直移動させる。
なお、円筒状基材は１Ａ，１Ｂ・・と積み重なってい
る。

【００２７】ここで塗布方法を説明する。塗布液タンク
５の塗布液１１を送液ポンプ６で塗布液供給口６Ａに供
給し、供給された塗布液１１を液溜まり室７で液溜めし
た後に、塗布液１１は流す環状のスリットを形成する塗
布液スリット８の入口開口部８ａより入り、塗布液はス
ムースな層流となって流れ、入口開口部８ａの内方に設
けた塗布液スリット８の出口開口部８ｂより塗布液１１
を流出させる。そして、塗布液１１を出口開口部８ｂよ
り内方で下側に傾斜し円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周
面に近接した環状端部４ｂまで延びるホッパー面４に塗
布液１１を流出させる。一方、ホッパー面４に対し円筒
状基材１Ａ，１Ｂ・・を上方向に垂直移動させながら、
円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面とホッパー面４の環
状端部４ｂとの間に連続的に塗布液１１を供給して円筒
状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面上に塗布し塗布膜２を形
成する。塗布液スリット８の入口開口部８ａの半径方向
の単位長さ当たりの環状総体積をＭ，前記塗布液スリッ
トの出口開口部８ｂの半径方向の単位長さ当たりの環状
総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８ なる条件を満足して塗布液スリット８に塗布液１１を流
すようになっている。

【００２８】さらに、塗布液タンク５１の塗布液１１１
を送液ポンプ６１で塗布液供給口６Ｂに供給し、供給さ
れた塗布液１１１を液溜まり室７１で液溜めした後に、
塗布液１１１は流す環状のスリットを形成する塗布液ス
リット８１の入口開口部８１ａより塗布液を供給し、塗
布液がスムースな層流となって流れ、入口開口部の内方
に設けた塗布液スリット８１の出口開口部８１ｂより塗
布液１１１を流出させる。そして、塗布液１１１を出口
開口部８１ｂより内方で下側に傾斜し円筒状基材１Ａ，
１Ｂ・・の外周面に近接した環状端部４ｂまで延びるホ
ッパー面４に塗布液１１１を流出させる。

【００２９】一方、ホッパー面４に対し円筒状基材１
Ａ，１Ｂ・・を上方向に垂直移動させながら、円筒状基
材１Ａ，１Ｂ・・の外周面とホッパー面４の環状端部４
ｂとの間に連続的に塗布液１１１を供給して円筒状基材
１Ａ，１Ｂ・・の外周面上の塗布膜２の上に塗布し塗布
膜２Ａを形成する。０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる条件を
満足して塗布液スリット８に塗布液１１を流すようにな
っている。

【００３０】以上のように、塗布液スリット間隔での層
流が安定し、塗布液のビードが安定して円周方向、垂直
方向の膜厚変動が少なく、優れた塗布ができる。

【００３１】（実施形態３）図６は、実施形態の塗布装
置の構成断面図で、さらに詳しくは、各々複数の塗布液
スリット及びホッパー面を設け、異なる塗布液を各々の
前記塗布液スリットに供給し、各々の塗布液スリットの
出口開口部から各々の前記ホッパー面に流出させ、複数
の塗布膜を逐次円筒状基材の外周面上に形成させる塗布
装置の構成断面図である。なお、図１、２の塗布装置と
機構的、機能的に同じ部分は説明を省略する。

【００３２】図６で、塗布液供給手段である送液ポンプ
６２は塗布液タンク５２の塗布液１１２を塗布液供給口
６Ｃに供給する。塗布ヘッド３２は塗布液溜まり室７
２、塗布液スリット８２、ホッパー面４２等で構成さ
れ、円筒状基材に外周面上に塗布するようになってい
る。塗布液溜まり室７２は円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の
周囲を環状にとり囲み設けられ、送液ポンプ６２により
供給される塗布液１１２を環状に液溜めする。塗布液ス
リット８２は入口開口部８２ａと出口開口部８２ｂがあ
り、塗布液１１２を入口開口部８２ａより入れ前記入口
開口部８２ａより内方の環状の出口開口部８２ｂより流
出させ塗布液１１２を流すようになっている。

【００３３】Ｍは塗布液スリット８２の入口開口部８２
ａの半径方向の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を
示し、Ｎは塗布液スリット８２の出口開口部８２ｂの半
径方向の単位長さ（ｍｍ）当たりの環状総体積を示す。
そして、０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる条件を満足するよ
うになっている。

【００３４】ホッパー面４２は環状の出口開口部８２ｂ
より内方で下側に傾斜し円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・の外
周面に近接した環状端部４２ｂまで延びて円錐状となっ
ている。基材上昇移動手段１２はホッパー面４に対し前
記円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・を把持して上方に垂直移動
させる。なお、円筒状基材は１Ａ，１Ｂ・・と積み重な
っている。

【００３５】ここで、円筒状基材の塗布方法を説明す
る。塗布液タンク５の塗布液１１を送液ポンプ６で塗布
液供給口６Ａに供給する。供給された塗布液１１を液溜
まり室７で液溜めした後に、塗布液１１は流す環状のス
リットを形成する塗布液スリット８の入口開口部８ａよ
り塗布液を供給し、塗布液がスムースな層流となって流
れ、出口開口部８ｂより塗布液１１を流出させる。そし
て、塗布液１１を出口開口部８ｂより内方で下側に傾斜
し環状端部４ｂまで延びるホッパー面４に塗布液１１を
流出させる。

【００３６】一方、前記ホッパー面４に対し円筒状基材
１Ａ，１Ｂ・・を上方向に垂直移動させながら、円筒状
基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面と環状端部４ｂとの間に連
続的に塗布液１１を供給して円筒状基材１Ａ，１Ｂ・・
の外周面上に塗布し塗布膜２を形成する。０．５≦Ｍ／
Ｎ≦１．８なる条件を満足して塗布液スリット８に塗布
液１１を流すようになっている。

【００３７】さらに、塗布液タンク５２の塗布液１１２
を送液ポンプ６２で塗布液供給口６Ｃに供給する。供給
された塗布液１１２を液溜まり室７２で液溜めした後
に、塗布液１１２は流す環状のスリットを形成する塗布
液スリット８２の入口開口部８２ａより塗布液を供給
し、塗布液がスムースな層流となって流れ、入口開口部
８２ａの内方に設けた塗布液スリット８２の出口開口部
８２ｂより塗布液１１２を流出させる。そして、塗布液
１１２を出口開口部８２ｂより内方で下側に傾斜し円筒
状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面に近接した環状端部４２
ｂまで延びるホッパー面４２に塗布液１１２を流出させ
る。

【００３８】一方、前記ホッパー面４２に対し円筒状基
材１Ａ，１Ｂ・・を上方向に垂直移動させながら、円筒
状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面と前記ホッパー面４の環
状端部との間に連続的に塗布液１１を供給して前記円筒
状基材１Ａ，１Ｂ・・の外周面上に塗布し塗布膜２Ａを
形成する。０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８なる条件を満足して
塗布液スリット８に塗布液１１２を流すようになってい
る。

【００３９】以上のように、塗布液スリット間隔での層
流が安定し、塗布液のビードが安定して円周方向、垂直
方向の膜厚変動が少なく、優れた塗布ができる。

【００４０】なお、上記逐次重層の塗布装置は２つの塗
布ヘッド３２を設けたものであるが、更に塗布ヘッド３
２の上部に別の塗布ヘッドを設け塗布ヘッドが３つの逐
次重層の塗布装置としてもよいことは言うまでもない。

【００４１】

【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、これ
に限定されるものではない。

【００４２】〈実施例１〉円筒状基材の導電性支持体と
しては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ
のアルミニウムのドラム支持体を用いた。前記円筒状基
材の上に下記の塗布液組成物ＵＣＬ−１を調製し、図１
に示す塗布装置を用い図４（ｅ）の形状の塗布液スリッ
トを用いて、表１に記載のＭ／Ｎ比を変化させて塗布
し、塗布ドラムＮｏ．１−１〜１−４を得た。なお、比
較例は図７の従来の塗布装置で、塗布液スリットの入口
開口部側と出口開口部側とが半径方向の長さで単位長さ
（ｍｍ）で同じ断面積を有するものである。なお、塗布
結果を表１に示す。

【００４３】ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）；２
ｇ メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）；
１０００ｇ

【００４４】

【表１】

【００４５】塗布液がホッパー面を安定して均一に流
れ、円筒状基材の円周方向や上下方向の塗布膜厚が均一
で、塗布膜厚変動（塗布ムラ）が少なく、また、ビード
切れが発生せず、円筒状基材上の膜切れがなかった。

【００４６】〈実施例２〉円筒状基材の導電性支持体と
しては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ
のアルミニウムドラム支持体を用いた。円筒状基材の上
に下記の塗布液組成物ＣＧＬ−１を分散して調製し、図
１に記載の塗布装置を用いて、図３（ｃ）の形状の塗布
液スリットを用いて、表２に記載のＭ／Ｎ比を変化させ
て塗布し、塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−４を得た。な
お、比較例は図７の従来の塗布装置で、塗布液スリット
の入口開口部側と出口開口部側とが半径方向の長さで単
位長さ（ｍｍ）で同じ断面積を有するものである。

【００４７】ＣＧＬ−１塗布液組成物 フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）；２５ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社
製）；１０ｇ メチルエチルケトン；１４３０ｍｌ 上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散し
たものである。

【００４８】ここで、ＣＧＭ−１の化学式を「化１」に
示す。

【００４９】

【化１】

【００５０】次に、塗布結果を表２に示す。

【００５１】

【表２】

【００５２】塗布液がホッパー面を安定して均一に流
れ、円筒状基材の円周方向や上下方向の塗布膜厚が均一
で、塗布膜厚変動（塗布ムラ）が少なく、また、ビード
切れが発生せず、円筒状基材上の膜切れがなかった。

【００５３】〈実施例３〉円筒状基材の導電性支持体と
しては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ
のアルミニウムドラム支持体を用いた。円筒状基材の上
に下記の塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図１に記載
の塗布装置を用いて、図３（ａ）の形式の塗布液スリッ
トを用いて、表３に記載のＭ／Ｎ比を変化させて塗布
し、塗布ドラムＮｏ．３−１〜３−４を得た。なお、比
較例は図７の従来の塗布装置で、塗布液スリットの入口
開口部側と出口開口部側とが半径方向の長さで単位長さ
（ｍｍ）で同じ断面積を有するものである。

【００５４】ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１；５００ｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）；
５６０ｇ １，２−ジクロロエタン；２８００ｍｌ ここで、ＣＴＭ−１の化学式を「化２」に示す。

【００５５】

【化２】

【００５６】次に、塗布結果を表３に示す。

【００５７】

【表３】

【００５８】塗布液がホッパー面を安定して均一に流
れ、円筒状基材の円周方向や上下方向の塗布膜厚が均一
で、塗布膜厚変動（塗布ムラ）が少なく、また、塗布液
の円筒状基材に塗布中のビード形成が安定性がよくビー
ド切れが発生せず、円筒状基材上の膜切れがなかった。

【００５９】＜実施例４＞実施例１の塗布ドラムＮｏ．
１−２の上に、実施例２の塗布組成物を、更に実施例３
の塗布組成物を、図６に示す逐次重層の塗布装置を用い
て、図３（ａ）の形式の塗布液スリットでＭ／Ｎ比を
１．５にして塗布し逐次重層した。その結果、塗布液が
ホッパー面を安定して均一に流れ、円筒状基材の円周方
向や上下方向の塗布膜厚が均一で、塗布膜厚変動（塗布
ムラ）が少なく、また、ビード切れが発生せず、円筒状
基材上の膜切れがなかった。

【００６０】本発明の塗布方法によれば、実施例１〜４
から明らかなように塗布液がホッパー面を安定して均一
に流れ、円筒状基材の円周方向や上下方向の塗布膜厚が
均一で、塗布膜厚変動（塗布ムラ）が少なく、また、ビ
ード切れが発生せず、円筒状基材上の膜切れがなかっ
た。

【００６１】さらに、本発明の塗布方法で塗布した多層
からなる有機感光体を画像形成装置に組み上げて画像テ
ストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはな
く良好な画像が得られた。

【００６２】

【発明の効果】以上のように構成したので下記の効果を
奏する。請求項１の発明の塗布方法は、塗布液スリット
の入口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環状総体積
をＭ，前記塗布液スリットの出口開口部の半径方向の単
位長さ当たりの環状総体積をＮとして、０．５≦Ｍ／Ｎ
≦１．８なる条件を満足する前記塗布液スリットに塗布
液を流すので、塗布液が塗布液スリットをスムースに流
れ、さらにホッパー面を安定して均一に流れ、円筒状基
材の円周方向や上下方向の塗布膜厚が均一で、塗布膜厚
変動（塗布ムラ）が少ない。また、塗布液の円筒状基材
に塗布中のビード形成が安定性がよくビード切れが発生
せず、円筒状基材上の膜切れがない。

【００６３】請求項２の発明の塗布装置は、塗布液スリ
ットの入口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環状総
体積をＭ，前記塗布液スリットの出口開口部の半径方向
の単位長さ当たりの環状総体積をＮとして、０．５≦Ｍ
／Ｎ≦１．８なる条件を満足するようにしたので、請求
項１の効果の記載と同様の効果がある。

【００６４】請求項３の発明の塗布方法は、各々複数の
塗布液スリットを設け、異なる塗布液を前記塗布液スリ
ットの環状の出口開口部から同一のホッパー面に流出さ
せ、複数の塗布膜を同時に円筒状基材の外周面上に形成
させるので、請求項１の効果の記載と同様の効果に加
え、重層性がよく、塗布膜が複数の場合に塗布処理時間
が短縮できる。

【００６５】請求項４の発明の塗布方法は、各々複数の
塗布液スリット及びホッパー面を設け、異なる塗布液を
各々の前記塗布液スリットに供給し、各々の塗布液スリ
ットの出口開口部から各々の前記ホッパー面に流出さ
せ、複数の塗布膜を逐次前記円筒状基材の外周面上に形
成させるので、請求項１の効果の記載と同様の効果に加
え、重層性がよく、塗布膜が複数の場合に塗布処理時間
が短縮できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態の塗布装置の構成断面図である。

【図２】実施形態の塗布スリットの斜視図である。

【図３】塗布液スリットの拡大断面図である。

【図４】塗布液スリットの拡大断面図である。

【図５】実施形態の塗布装置の構成断面図である。

【図６】実施形態の塗布装置の構成断面図である。

【図７】従来の塗布装置の一例の構成断面図である。

【符号の説明】 １Ａ，１Ｂ・・ 円筒状基材 ２，２Ａ 塗布膜 ３，３２ 塗布ヘッド ４，４２ ホッパー面 ４ｂ，４２ｂ 環状端部 ５，５１，５２ 塗布液タンク ６，６１，６２ 送液ポンプ ６Ａ，６Ｂ，６Ｃ 塗布液供給口 ７，７１，７２ 塗布液溜まり室 ８，８１，８２ 塗布液スリット（スリット） ８ａ，８１ａ，８２ａ 入口開口部 ８ｂ，８１ｂ，８２ｂ 出口開口部 １１，１１１，１１２ 塗布液 １２ 基材上昇移動手段 Ｍ，Ｎ 単位長さ当たりの環状総体積

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 環状のスリットを形成し塗布液を流す塗
   布液スリットの入口開口部より塗布液を供給し、前記塗
   布液スリットの入口開口部より内方に設けた出口開口部
   より塗布液を流出させ、前記出口開口部より内方で下側
   に傾斜し円筒状基材の外周面に近接した環状端部まで延
   びるホッパー面に塗布液を流出させ、上方に移動してい
   る円筒状基材の外周面上に塗布液を供給して、前記円筒
   状基材の外周面上に塗布し塗布膜を形成する塗布方法に
   おいて、前記塗布液スリットの前記入口開口部の半径方
   向の単位長さ当たりの環状総体積をＭ，前記塗布液スリ
   ットの前記出口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環
   状総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８ なる条件を満足する塗布液スリットで塗布液を流すこと
   を特徴とする塗布方法。
2. 【請求項２】 塗布液を供給する塗布液供給手段と、前
   記塗布液供給手段より供給された塗布液を環状の入口開
   口部より入れ、前記塗布液スリットの入口開口部より内
   方に設けた出口開口部より流出させて塗布液を流す塗布
   液スリットと、前記出口開口部より内方で下側に傾斜し
   円筒状基材の外周面に近接した環状端部まで延びるホッ
   パー面と、前記ホッパー面に対し前記円筒状基材を上方
   に垂直に移動させる基材上昇移動手段とを備え、前記円
   筒状基材を移動させながら、前記円筒状基材の外周面と
   前記ホッパー面の前記環状端部との間に連続的に塗布液
   を供給して前記円筒状基材の外周面上に塗布し塗布膜を
   形成する塗布装置において、前記塗布液スリットの前記
   入口開口部の半径方向の単位長さ当たりの環状総体積を
   Ｍ，前記塗布液スリットの前記出口開口部の半径方向の
   単位長さ当たりの環状総体積をＮとして、 ０．５≦Ｍ／Ｎ≦１．８ なる条件を満足することを特徴とする塗布装置。
3. 【請求項３】 各々複数の塗布液スリットを設け、異な
   る塗布液を各々の前記塗布液スリットに供給し、各々の
   前記塗布液スリットの環状の出口開口部から同一のホッ
   パー面に異なる塗布液を流出させ、複数の塗布膜を同時
   に円筒状基材の外周面上に形成させることを特徴とする
   請求項１に記載の塗布方法。
4. 【請求項４】 各々複数の塗布液スリット及びホッパー
   面を設け、異なる塗布液を各々の前記塗布液スリットに
   供給し、各々の塗布液スリットの出口開口部から各々の
   前記ホッパー面に流出させ、複数の塗布膜を逐次前記円
   筒状基材の外周面上に形成させることを特徴とする請求
   項１に記載の塗布方法。