JP3503005B2 - 円筒状基材の塗布方法 - Google Patents
円筒状基材の塗布方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエンドレスに形成された
連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を均一に
塗布する塗布方法に関するものである。
連続面を有する円筒状基材の外面上に、塗布液を均一に
塗布する塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー
塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等
の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ド
ラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れ
た塗布装置を開発すべく検討されている。しかしなが
ら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する基材
への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかった
り生産性が悪い等の短所があった。
基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー
塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等
の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ド
ラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れ
た塗布装置を開発すべく検討されている。しかしなが
ら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する基材
への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかった
り生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有す
る基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するため
に塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにとも
ない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したと
き、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥
固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表
面の平滑性の良いものがえられない。また該連続面を有
する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロ
スがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロ
ールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引
きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限が
ある。
した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有す
る基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するため
に塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにとも
ない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したと
き、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥
固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表
面の平滑性の良いものがえられない。また該連続面を有
する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロ
スがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロ
ールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引
きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限が
ある。
【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレード若しくはロールを後退させるもので
ある。しかしながらブレード若しくはロールを後退させ
る際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分
より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点があ
る。
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレード若しくはロールを後退させるもので
ある。しかしながらブレード若しくはロールを後退させ
る際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分
より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点があ
る。
【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液
量が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け
出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液
量が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け
出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さら
にこの塗布装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室
内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、
前記液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットと
を有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に
傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端の
唇状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部
分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外
周面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗
布装置を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗
布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗
布が可能となった。
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さら
にこの塗布装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室
内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、
前記液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットと
を有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に
傾斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端の
唇状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部
分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外
周面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗
布装置を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗
布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗
布が可能となった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお塗布液によっ
ては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）、膜
厚の変動等の問題があり未だ満足のいくものではない。
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお塗布液によっ
ては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）、膜
厚の変動等の問題があり未だ満足のいくものではない。
【０００９】（１）本発明は前記実情に鑑みて提案され
たものであり、その第１の目的とするところのものは、
低粘度の塗布液においても膜厚変動がなく、ビード切れ
のない、優れた塗布方法を提供することにある。
たものであり、その第１の目的とするところのものは、
低粘度の塗布液においても膜厚変動がなく、ビード切れ
のない、優れた塗布方法を提供することにある。
【００１０】さらに本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布による低粘度の塗布液においても、膜厚変動が
なく、ビード切れのない、優れた塗布方法を提供するこ
とにある。さらに又本発明の目的は、複数の塗布装置か
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布による低粘度の塗布液においても、膜厚変動がなく、
ビード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布による低粘度の塗布液においても、膜厚変動が
なく、ビード切れのない、優れた塗布方法を提供するこ
とにある。さらに又本発明の目的は、複数の塗布装置か
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布による低粘度の塗布液においても、膜厚変動がなく、
ビード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
【００１１】（２）本発明の第２の目的とするところの
ものは、高粘度の塗布液においても膜厚変動がなく、ビ
ード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
ものは、高粘度の塗布液においても膜厚変動がなく、ビ
ード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
【００１２】さらに本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布による高粘度の塗布液においても、膜厚変動が
なく、ビード切れのない、優れた塗布方法を提供するこ
とにある。さらに又本発明の目的は、複数の塗布装置か
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布による高粘度の塗布液においても、膜厚変動がなく、
ビード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布による高粘度の塗布液においても、膜厚変動が
なく、ビード切れのない、優れた塗布方法を提供するこ
とにある。さらに又本発明の目的は、複数の塗布装置か
ら塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗
布による高粘度の塗布液においても、膜厚変動がなく、
ビード切れのない、優れた塗布方法を提供することにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】（１）本発明の第１の目
的は、エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状
基材を移動させながら、塗布液を、前記基材側に開口す
る塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して、
前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接
形成されたホッパー塗布面に設けられたスライド面上に
流出させ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的
に供給させて塗布する方法において、前記塗布液の粘度
を１以上１０ミリパスカル・秒未満、前記基材表面及び
ホッパーの先端部の間隙を３０〜２００μｍ、並びに前
記塗布液分配スリット間隙を５０〜２００μｍとしたこ
とを特徴とする円筒状基材の塗布方法により達成され
る。（第１発明）本発明（第１発明）で用いられる塗布
方法では、１以上１０ミリパスカル・秒の低粘度塗布液
を用いたとき、前記基材表面とホッパー塗布面の先端部
との間隙（コータギャップとも言う）が３０〜２００μ
ｍであり、かつ前記塗布液分配スリット間隙が５０〜２
００μｍであるとする。前記コータギャップが３０μｍ
未満のときには、ビードの安定性に欠く為、適正な膜厚
に制御できず膜厚変動も大きい。又ギャップ間隔に余裕
が無いためコータと基材とがぶつかり易い。２００μｍ
より大きいときには、ビード切れが起き易く膜厚変動も
大きい。前記塗布液分配スリット間隙が５０μｍ未満の
ときは、膜厚変動が大きく信頼性に欠ける。２００μｍ
より大きいときには、液スライド面上の液膜が乱れ易い
ため膜厚変動が大きい。
的は、エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状
基材を移動させながら、塗布液を、前記基材側に開口す
る塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して、
前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接
形成されたホッパー塗布面に設けられたスライド面上に
流出させ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的
に供給させて塗布する方法において、前記塗布液の粘度
を１以上１０ミリパスカル・秒未満、前記基材表面及び
ホッパーの先端部の間隙を３０〜２００μｍ、並びに前
記塗布液分配スリット間隙を５０〜２００μｍとしたこ
とを特徴とする円筒状基材の塗布方法により達成され
る。（第１発明）本発明（第１発明）で用いられる塗布
方法では、１以上１０ミリパスカル・秒の低粘度塗布液
を用いたとき、前記基材表面とホッパー塗布面の先端部
との間隙（コータギャップとも言う）が３０〜２００μ
ｍであり、かつ前記塗布液分配スリット間隙が５０〜２
００μｍであるとする。前記コータギャップが３０μｍ
未満のときには、ビードの安定性に欠く為、適正な膜厚
に制御できず膜厚変動も大きい。又ギャップ間隔に余裕
が無いためコータと基材とがぶつかり易い。２００μｍ
より大きいときには、ビード切れが起き易く膜厚変動も
大きい。前記塗布液分配スリット間隙が５０μｍ未満の
ときは、膜厚変動が大きく信頼性に欠ける。２００μｍ
より大きいときには、液スライド面上の液膜が乱れ易い
ため膜厚変動が大きい。
【００１４】本発明（第１発明）で用いられる塗布速度
は、基材の移動速度や塗布液膜厚等によるので一概に定
められないが、２０〜５０ｍｍ／ｓｅｃの範囲に収める
ことにより、より一層の安定した塗布ができる。
は、基材の移動速度や塗布液膜厚等によるので一概に定
められないが、２０〜５０ｍｍ／ｓｅｃの範囲に収める
ことにより、より一層の安定した塗布ができる。
【００１５】本発明（第１発明）で用いられる塗布液の
粘度は２２℃の時の値であり、通常実験室や工程プロセ
スで用いられる任意の粘度計が用いられるが、いわゆる
Ｂ型粘度計といわれるものが簡便でよい。
粘度は２２℃の時の値であり、通常実験室や工程プロセ
スで用いられる任意の粘度計が用いられるが、いわゆる
Ｂ型粘度計といわれるものが簡便でよい。
【００１６】本発明（第１発明）で用いられる塗布方法
は同時重層塗布方法や逐次重層塗布方法にも同様に適用
される。逐次重層塗布方法においては、下層が未乾の状
態で、即ち乾燥ゾーンを通さないで逐次に塗布しても良
いし、乾燥ゾーンを通して乾燥させた上に重層させても
良い。
は同時重層塗布方法や逐次重層塗布方法にも同様に適用
される。逐次重層塗布方法においては、下層が未乾の状
態で、即ち乾燥ゾーンを通さないで逐次に塗布しても良
いし、乾燥ゾーンを通して乾燥させた上に重層させても
良い。
【００１７】（２）本発明の第２の目的は、エンドレス
に形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させな
がら、塗布液を塗布液分配スリットを通して、前記基材
周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成され
たホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出
口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に流出さ
せ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給
させて塗布する方法において、前記塗布液の粘度を１０
以上６００ミリパスカル・秒未満、前記基材表面及びホ
ッパーの先端部の間隙を５０〜５００μｍ、並びに前記
塗布液分配スリット間隙を５０〜５００μｍとしたこと
を特徴とする円筒状基材の塗布方法により達成される。
（第２発明） 本発明（第２発明）で用いられる塗布方法では、１０以
上６００ミリパスカル・秒の高粘度塗布液を用いたと
き、前記基材表面とホッパー塗布面の先端部との間隙
（コータギャップとも言う）が５０〜５００μｍであ
り、かつ前記塗布液分配スリット間隙が５０〜５００μ
ｍであるとする。前記コータギャップが５０μｍ未満の
ときには、ビードの安定性に欠く為、適正な膜厚に制御
できず膜厚変動も大きい。５００μｍより大きいときに
は、ビード切れが起き易く膜厚変動も大きい。前記塗布
液分配スリット間隙が５０μｍ未満のときは、膜厚変動
が大きく信頼性に欠ける。５００μｍより大きいときに
は、液スライド面上の液膜が乱れ易いため膜厚変動が大
きい。
に形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させな
がら、塗布液を塗布液分配スリットを通して、前記基材
周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成され
たホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出
口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に流出さ
せ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給
させて塗布する方法において、前記塗布液の粘度を１０
以上６００ミリパスカル・秒未満、前記基材表面及びホ
ッパーの先端部の間隙を５０〜５００μｍ、並びに前記
塗布液分配スリット間隙を５０〜５００μｍとしたこと
を特徴とする円筒状基材の塗布方法により達成される。
（第２発明） 本発明（第２発明）で用いられる塗布方法では、１０以
上６００ミリパスカル・秒の高粘度塗布液を用いたと
き、前記基材表面とホッパー塗布面の先端部との間隙
（コータギャップとも言う）が５０〜５００μｍであ
り、かつ前記塗布液分配スリット間隙が５０〜５００μ
ｍであるとする。前記コータギャップが５０μｍ未満の
ときには、ビードの安定性に欠く為、適正な膜厚に制御
できず膜厚変動も大きい。５００μｍより大きいときに
は、ビード切れが起き易く膜厚変動も大きい。前記塗布
液分配スリット間隙が５０μｍ未満のときは、膜厚変動
が大きく信頼性に欠ける。５００μｍより大きいときに
は、液スライド面上の液膜が乱れ易いため膜厚変動が大
きい。
【００１８】本発明（第２発明）で用いられる塗布速度
は、基材の移動速度や塗布液膜厚等によるので一慨に定
められないが、５〜３０ｍｍ／ｓｅｃの範囲に収めるこ
とにより、より一層の安定した塗布ができる。
は、基材の移動速度や塗布液膜厚等によるので一慨に定
められないが、５〜３０ｍｍ／ｓｅｃの範囲に収めるこ
とにより、より一層の安定した塗布ができる。
【００１９】本発明（第２発明）で用いられる塗布液の
粘度は２２℃の時の値であり、通常実験室や工程プロセ
スで用いられる任意の粘度計が用いられるが、いわゆる
Ｂ型粘度計といわれるものが簡便でよい。
粘度は２２℃の時の値であり、通常実験室や工程プロセ
スで用いられる任意の粘度計が用いられるが、いわゆる
Ｂ型粘度計といわれるものが簡便でよい。
【００２０】本発明（第２発明）で用いられる塗布方法
は同時重層塗布方法や逐次重層塗布方法にも同様に適用
される。逐次重層塗布方法においては、下層が未乾の状
態で、即ち乾燥ゾーンを通さないで逐次に塗布しても良
いし、乾燥ゾーンを通して乾燥させた上に重層させても
良い。
は同時重層塗布方法や逐次重層塗布方法にも同様に適用
される。逐次重層塗布方法においては、下層が未乾の状
態で、即ち乾燥ゾーンを通さないで逐次に塗布しても良
いし、乾燥ゾーンを通して乾燥させた上に重層させても
良い。
【００２１】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の説明を行う。図
１は本発明に係わる塗布装置例の縦断面図で、図２はそ
の斜視図である。
１は本発明に係わる塗布装置例の縦断面図で、図２はそ
の斜視図である。
【００２２】図１に示されるように中心線ＸＸに沿って
垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に
矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、基材１
の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗布に直
接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）１０により塗布
液Ｌが塗布される。なお、基材としては中空ドラム例え
ばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシー
ムレスベルト型の基材でも良い。前記塗布ヘッド１０に
は、基材１側に開口する塗布液流出口１１を有する幅狭
の塗布液分配スリット（スリットと略称する）１２が水
平方向に形成されている。このスリット１２は環状の塗
布液分配室１３に連通し、この環状の塗布液分配室１３
には貯留タンク４内の感光液Ｌを圧送ポンプ５により供
給管１４を介して供給するようになっている。他方、ス
リット１２の塗布液流出口１１の下側には、連続して下
方に傾斜し基材の外寸よりやや大なる寸法で終端をなす
ように形成されたスライド面１５が形成されている。さ
らに、このスライド面１５終端より下方に延びる唇状部
１６が形成されている。かかる塗布装置による塗布にお
いては、基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリッ
ト１２から押し出し、スライド面１５に沿って流下させ
ると、スライド面終端に至った感光液は、そのスライド
面終端と基材１の外周面との間にビードを形成した後、
基材表面に塗布される。
垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に
矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、基材１
の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗布に直
接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）１０により塗布
液Ｌが塗布される。なお、基材としては中空ドラム例え
ばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシー
ムレスベルト型の基材でも良い。前記塗布ヘッド１０に
は、基材１側に開口する塗布液流出口１１を有する幅狭
の塗布液分配スリット（スリットと略称する）１２が水
平方向に形成されている。このスリット１２は環状の塗
布液分配室１３に連通し、この環状の塗布液分配室１３
には貯留タンク４内の感光液Ｌを圧送ポンプ５により供
給管１４を介して供給するようになっている。他方、ス
リット１２の塗布液流出口１１の下側には、連続して下
方に傾斜し基材の外寸よりやや大なる寸法で終端をなす
ように形成されたスライド面１５が形成されている。さ
らに、このスライド面１５終端より下方に延びる唇状部
１６が形成されている。かかる塗布装置による塗布にお
いては、基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリッ
ト１２から押し出し、スライド面１５に沿って流下させ
ると、スライド面終端に至った感光液は、そのスライド
面終端と基材１の外周面との間にビードを形成した後、
基材表面に塗布される。
【００２３】スライド面終端と基材は、ある間隙を持っ
て配置されているため基材を傷つける事なく、また性質
の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布
された層を損傷することなく塗布できる。
て配置されているため基材を傷つける事なく、また性質
の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布
された層を損傷することなく塗布できる。
【００２４】図３，図４は基材１上に２層の塗布層を形
成する重層塗布装置例を示している。図示したのは２層
の重層塗布装置であるが、同様構造によって、或いはそ
れらの組み合わせによって３層以上の重層塗布装置を提
供することができる。なお図３，図４において図１と同
一の構成については同一符号を用いて示している。
成する重層塗布装置例を示している。図示したのは２層
の重層塗布装置であるが、同様構造によって、或いはそ
れらの組み合わせによって３層以上の重層塗布装置を提
供することができる。なお図３，図４において図１と同
一の構成については同一符号を用いて示している。
【００２５】図３は、同一塗布装置から塗布液ＬＡ，Ｌ
Ｂによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるい
わゆる同時重層塗布装置を示している。処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからはそれぞれ圧送
ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド２０の水平方向に
形成された幅狭の塗布液分配スリット１２Ａ，１２Ｂを
通り円筒状基材１側に環状に開口する塗布液流出口１１
Ａ，１１Ｂが設けられていて、塗布液流出口１１Ａ，１
１Ｂの下側には共通の連続して下方に傾斜し、円筒状基
材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成
されたスライド面１５と、さらにこのスライド面１５終
端より下方に延びる唇状部１６が形成されている。かか
る塗布装置においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液ＬＡ，ＬＢをスリット１２Ａ，１２Ｂから押
出しスライド面１５に沿って流下させると塗布液ＬＡ，
ＬＢは２層をなして流下し、スライド面１５の終端に至
った２層の塗布液ＬＡ，ＬＢは円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成したのち基材表面に２層の塗布液Ｌ
Ａ，ＬＢが同時に塗布される。
Ｂによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるい
わゆる同時重層塗布装置を示している。処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからはそれぞれ圧送
ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド２０の水平方向に
形成された幅狭の塗布液分配スリット１２Ａ，１２Ｂを
通り円筒状基材１側に環状に開口する塗布液流出口１１
Ａ，１１Ｂが設けられていて、塗布液流出口１１Ａ，１
１Ｂの下側には共通の連続して下方に傾斜し、円筒状基
材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成
されたスライド面１５と、さらにこのスライド面１５終
端より下方に延びる唇状部１６が形成されている。かか
る塗布装置においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液ＬＡ，ＬＢをスリット１２Ａ，１２Ｂから押
出しスライド面１５に沿って流下させると塗布液ＬＡ，
ＬＢは２層をなして流下し、スライド面１５の終端に至
った２層の塗布液ＬＡ，ＬＢは円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成したのち基材表面に２層の塗布液Ｌ
Ａ，ＬＢが同時に塗布される。
【００２６】図４は、複数の塗布装置から塗布液ＬＡ，
ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐
次重層塗布装置を示している。複数の塗布装置では各々
複数の処理液分配スリット１２、塗布液流出口１１、及
びホッパー塗布面のあるスライド面１５を設け、処理液
ＬＡ，ＬＢを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからそれぞ
れ圧送ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド１０Ａ，１
０Ｂの各塗布液分配スリット１２に処理液ＬＡ，ＬＢを
供給し、各々塗布液流出口１１から各々のホッパー塗布
面にあるスライド面１５上に流出させ、処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂの塗布層を円筒状基材１上に逐次形成させる。
ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐
次重層塗布装置を示している。複数の塗布装置では各々
複数の処理液分配スリット１２、塗布液流出口１１、及
びホッパー塗布面のあるスライド面１５を設け、処理液
ＬＡ，ＬＢを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからそれぞ
れ圧送ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド１０Ａ，１
０Ｂの各塗布液分配スリット１２に処理液ＬＡ，ＬＢを
供給し、各々塗布液流出口１１から各々のホッパー塗布
面にあるスライド面１５上に流出させ、処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂの塗布層を円筒状基材１上に逐次形成させる。
【００２７】本発明の塗布方法では、スライド面終端と
基材は、ある間隙を持って配置されているため基材を傷
つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場
合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗
布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多
層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存
在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆
ど溶出しないし、塗布槽にも溶出することなく塗布でき
る。
基材は、ある間隙を持って配置されているため基材を傷
つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場
合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗
布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多
層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存
在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆
ど溶出しないし、塗布槽にも溶出することなく塗布でき
る。
【００２８】本発明の塗布方法は、薄膜で均一な塗布膜
を要求する電子写真感光体ドラム、静電記録体の製造、
ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面へ
の塗膜形成等に用いられそれらに制限される事はない。
即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周
面の塗布方法として用いられる。塗布は基材自体が移動
しても塗布装置が移動しても良く、更に円筒状基材を回
転しても良い。
を要求する電子写真感光体ドラム、静電記録体の製造、
ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面へ
の塗膜形成等に用いられそれらに制限される事はない。
即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周
面の塗布方法として用いられる。塗布は基材自体が移動
しても塗布装置が移動しても良く、更に円筒状基材を回
転しても良い。
【００２９】なお本発明は添付した図の形状だけに制約
されるものではない。
されるものではない。
【００３０】（実施例）次に実施例により本発明（第１
発明及び第２発明）について説明するが、これに限定さ
れるものではない。
発明及び第２発明）について説明するが、これに限定さ
れるものではない。
【００３１】（１）第１発明（低粘度の塗布液使用）
実施例１
（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００３２】前記支持体上に下記の如く各塗布液組成物
ＵＣＬ−１、ＵＣＬ−２、ＵＣＬ−３を表１の如くの粘
度になるようにポリマー濃度（溶媒量の添加による）を
調整し、図１或いは図３，図４に記載の如くのスライド
ホッパー型塗布装置を用いて、表１に記載の如くコータ
ギャップ及びスリットギャップを調整し塗布し、塗布ド
ラムＮｏ．１−１〜１−９を得た。なお基材の移動速度
は２３ｍｍ／ｓｅｃで行った。
ＵＣＬ−１、ＵＣＬ−２、ＵＣＬ−３を表１の如くの粘
度になるようにポリマー濃度（溶媒量の添加による）を
調整し、図１或いは図３，図４に記載の如くのスライド
ホッパー型塗布装置を用いて、表１に記載の如くコータ
ギャップ及びスリットギャップを調整し塗布し、塗布ド
ラムＮｏ．１−１〜１−９を得た。なお基材の移動速度
は２３ｍｍ／ｓｅｃで行った。
【００３３】ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−
１０ 積水化学社製） アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比） ＵＣＬ−３塗布液組成物 エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６
０ 三井デュポンケミカル社製） トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比） 塗布結果を示したのが表１である。又、長さ方向の膜厚
プロフィールを図５に示す。図５（ａ）は塗布ドラムＮ
ｏ．１−２、図５（ｂ）は塗布ドラムＮｏ．１−６につ
いてこれを示している。
１０ 積水化学社製） アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比） ＵＣＬ−３塗布液組成物 エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６
０ 三井デュポンケミカル社製） トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比） 塗布結果を示したのが表１である。又、長さ方向の膜厚
プロフィールを図５に示す。図５（ａ）は塗布ドラムＮ
ｏ．１−２、図５（ｂ）は塗布ドラムＮｏ．１−６につ
いてこれを示している。
【００３４】
【表１】
【００３５】実施例２
（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００３６】前記支持体上に下記の如く各塗布液組成物
ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２、ＣＧＬ−３を分散調整し、表
２の如くの粘度になるように固形分濃度（溶媒量の添加
による）を調整し、図１或いは図３，図４に記載の如く
のスライドホッパー型塗布装置を用いて、表２に記載の
如くコータギャップ及びスリットギャップを調整し塗布
し、塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−９を得た。なお基材
の移動速度は３７ｍｍ／ｓｅｃで行った。
ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２、ＣＧＬ−３を分散調整し、表
２の如くの粘度になるように固形分濃度（溶媒量の添加
による）を調整し、図１或いは図３，図４に記載の如く
のスライドホッパー型塗布装置を用いて、表２に記載の
如くコータギャップ及びスリットギャップを調整し塗布
し、塗布ドラムＮｏ．２−１〜２−９を得た。なお基材
の移動速度は３７ｍｍ／ｓｅｃで行った。
【００３７】ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
Ｍ−１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。
【００３８】ＣＧＬ−２塗布液組成物
臭素化アンスアンスロン（ＣＧＭ−２）
ポリカーボネート（パンライトＬ−１２５０ 帝人化成
社製） １，２−ジクロロエタン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：Ｌ−１２５０＝２：１に固定）をサンサミルを
用いて２５時間分散したもの。
社製） １，２−ジクロロエタン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：Ｌ−１２５０＝２：１に固定）をサンサミルを
用いて２５時間分散したもの。
【００３９】ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製）
ｔ−酢酸ブチル
【００４０】
【化１】
【００４１】上記塗布液組成物（固形分については固形
分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）
をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）
をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００４２】塗布結果を示したのが表２である。
【００４３】
【表２】
【００４４】実施例３
実施例１の塗布ドラムＮｏ．１−１及び１−２上に、下
記塗布組成物ＣＧＬ−４を分散調整し、表３の如くの粘
度になるように固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
整し、図４に記載の如くのスライドイホッパー型重層塗
布装置を用いて、表３の塗布条件で逐次重層塗布を行っ
た。
記塗布組成物ＣＧＬ−４を分散調整し、表３の如くの粘
度になるように固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
整し、図４に記載の如くのスライドイホッパー型重層塗
布装置を用いて、表３の塗布条件で逐次重層塗布を行っ
た。
【００４５】ＣＧＬ−４塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製）
メチルエチルケトン
【００４６】
【化２】
【００４７】上記塗布液組成物（固形分については固形
分重量比ＣＧＭ−４：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサン
ドミルを用いて２０時間分散したもの。
分重量比ＣＧＭ−４：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサン
ドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４８】塗布結果を示したのが表３である。
【００４９】
【表３】
【００５０】本発明（第１発明）の塗布方法によれば、
表１〜３から明らかな如く塗布液のビード切れ、塗布ム
ラ、色ムラや膜厚変動等がなく、また重層性も優れるこ
とがわかる。
表１〜３から明らかな如く塗布液のビード切れ、塗布ム
ラ、色ムラや膜厚変動等がなく、また重層性も優れるこ
とがわかる。
【００５１】また本発明（第１発明）の方法で多層から
なる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、
塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られ
た。
なる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、
塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られ
た。
【００５２】（２）第２発明（高粘度の塗布液使用）
実施例４
（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００５３】前記支持体上に下記の如く各塗布液組成物
ＣＴＬ−１、ＣＴＬ−２、ＣＴＬ−３を表１の如くの粘
度になるようにポリマー濃度（溶媒量の添加による）を
調整し、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装
置を用いて、表４に記載の如くコータギャップ及びスリ
ットギャップを調整し塗布し、塗布ドラムＮｏ．１−１
〜１−９を得た。なお基材の移動速度は８ｍｍ／ｓｅｃ
で行った。
ＣＴＬ−１、ＣＴＬ−２、ＣＴＬ−３を表１の如くの粘
度になるようにポリマー濃度（溶媒量の添加による）を
調整し、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装
置を用いて、表４に記載の如くコータギャップ及びスリ
ットギャップを調整し塗布し、塗布ドラムＮｏ．１−１
〜１−９を得た。なお基材の移動速度は８ｍｍ／ｓｅｃ
で行った。
【００５４】ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ＣＴＬ−２塗布液組成物 ＣＴＭ−２ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ＣＴＬ−３塗布液組成物 ＣＴＭ−３ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） １，２−ジクロロエタン
＝０．８９：１に固定 ＣＴＬ−２塗布液組成物 ＣＴＭ−２ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） １，２−ジクロロエタン 固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．８９：１に固定 ＣＴＬ−３塗布液組成物 ＣＴＭ−３ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） １，２−ジクロロエタン
【００５５】
【化３】
【００５６】固形分については固形分重量比ＣＴＭ−
１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定塗布結果を示した
のが表４である。
１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定塗布結果を示した
のが表４である。
【００５７】
【表４】
【００５８】実施例５
（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。
【００５９】前記支持体上に下記の如く各塗布液組成物
ＰＣＬ−１、ＯＣＬ−２を分散調整し、表２の如くの粘
度になるように固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
整し、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置
を用いて、表５に記載の如くコータギャップ及びスリッ
トギャップを調整し塗布し、塗布ドラムＮｏ．２−１〜
２−９を得た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ
で行った。
ＰＣＬ−１、ＯＣＬ−２を分散調整し、表２の如くの粘
度になるように固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
整し、図１に記載の如くのスライドホッパー型塗布装置
を用いて、表５に記載の如くコータギャップ及びスリッ
トギャップを調整し塗布し、塗布ドラムＮｏ．２−１〜
２−９を得た。なお基材の移動速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ
で行った。
【００６０】ＰＣＬ−１塗布液組成物
ＣＧＭ−４
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
【００６１】
【化４】
【００６２】ＣＴＭ−４
１，２−ジクロロエタン
【００６３】
【化５】
【００６４】上記塗布液組成物（固形分については固形
分重量比ＣＧＭ−４：Ｚ−２００：ＣＴＭ−４＝１０：
２０：１５に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散
したもの。
分重量比ＣＧＭ−４：Ｚ−２００：ＣＴＭ−４＝１０：
２０：１５に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散
したもの。
【００６５】ＯＣＬ−１塗布液組成物
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
シリコーン系微粒子（トスパール１０３ 東芝シリコー
ン社製） １，２−ジクロロエタン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比Ｚ−
２００：トスパール＝１００：１に固定）をサンドミル
を用いて３時間分散したもの。
ン社製） １，２−ジクロロエタン 上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比Ｚ−
２００：トスパール＝１００：１に固定）をサンドミル
を用いて３時間分散したもの。
【００６６】塗布結果を示したのが表５である。
【００６７】
【表５】
【００６８】実施例６
実施例１の塗布ドラムＮｏ．１−２上に下記塗布組成物
ＣＴＬ−４を、実施例５の塗布ドラムＮｏ．２−２上に
前記ＯＣＬ塗布組成物を、表６の如くの粘度になるよう
に固形分濃度（溶媒量の添加による）を調整し、図４に
記載の如くのスライドホッパー型重層塗布装置を用い
て、表６の塗布条件で逐次重層塗布を行った。
ＣＴＬ−４を、実施例５の塗布ドラムＮｏ．２−２上に
前記ＯＣＬ塗布組成物を、表６の如くの粘度になるよう
に固形分濃度（溶媒量の添加による）を調整し、図４に
記載の如くのスライドホッパー型重層塗布装置を用い
て、表６の塗布条件で逐次重層塗布を行った。
【００６９】ＣＴＬ−４塗布液組成物
ＣＴＭ−４
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００
＝０．７５：１に固定塗布結果を示したのが表６であ
る。
＝０．７５：１に固定塗布結果を示したのが表６であ
る。
【００７０】
【表６】
【００７１】本発明（第２発明）の塗布方法によれば、
表４〜６から明らかな如く塗布液のビード切れ、塗布ム
ラや膜厚変動等がなく、また重層性も優れることがわか
る。
表４〜６から明らかな如く塗布液のビード切れ、塗布ム
ラや膜厚変動等がなく、また重層性も優れることがわか
る。
【００７２】また本発明（第２発明）の方法で多層から
なる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、
塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られ
た。
なる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、
塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られ
た。
【００７３】
【発明の効果】本発明（第１発明、第２発明）の塗布方
法によるときは、塗布液が低粘度のときも（第１発
明）、塗布液が高粘度のときも（第２発明）、円筒状基
材に対して膜厚変動がなく、塗布液のビード切れ、塗布
ムラ、色ムラがない優れた塗布方法を提供することとな
った。また同一塗布装置から複数の塗布層を同時に基材
上に形成させる同時重層塗布方法によっても、複数の塗
布装置から塗布層を逐次基材上に形成させる逐次重層塗
布方法によっても、膜厚変動がなく、ビート切れのな
い、優れた塗布方法を提供することとなった。
法によるときは、塗布液が低粘度のときも（第１発
明）、塗布液が高粘度のときも（第２発明）、円筒状基
材に対して膜厚変動がなく、塗布液のビード切れ、塗布
ムラ、色ムラがない優れた塗布方法を提供することとな
った。また同一塗布装置から複数の塗布層を同時に基材
上に形成させる同時重層塗布方法によっても、複数の塗
布装置から塗布層を逐次基材上に形成させる逐次重層塗
布方法によっても、膜厚変動がなく、ビート切れのな
い、優れた塗布方法を提供することとなった。
【００７４】また本発明の塗布方法によって、円筒上基
材上に多層からなる有機感光体を組み上げて実写テスト
を行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラは認めら
れず、良好な画像を得ることができた。
材上に多層からなる有機感光体を組み上げて実写テスト
を行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラは認めら
れず、良好な画像を得ることができた。
【図１】本発明に係わる塗布装置例の縦断面図である。
【図２】本発明に係わる塗布装置例の斜視図である。
【図３】本発明に係わる同時重層塗布装置例の縦断面図
である。
である。
【図４】本発明に係わる逐次重層塗布装置例の縦断面図
である。
である。
【図５】本発明に係わる長さ方向膜厚プロフィールであ
る。
る。
１ 円筒状基材
４ 貯留タンク
５ 圧送ポンプ
１０，２０ 塗布ヘッド
１１ 塗布液流出口
１２ （処理液分配）スリット
１３ 塗布液分配室
１４ 供給管
１５ スライド面
１６ 唇状部
Ｌ 塗布液
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭61−8164（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−213872（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−93442（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−64367（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−189061（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−158454（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−309252（ＪＰ，Ａ)
実開 昭59−192152（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B05D 1/00 - 7/26
B05C 1/00 - 3/20
G03G 5/00 - 5/16
Claims (4)
- 【請求項１】 エンドレスに形成された連続周面を有す
る円筒状基材を移動させながら、塗布液を、前記基材側
に開口する塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを
通して、前記基材周面を取り囲むように基材全周にわた
って近接形成されたホッパー塗布面に設けられたスライ
ド面上に流出させ、前記基材とホッパー塗布面の先端部
に連続的に供給させて塗布する方法において、前記塗布
液の粘度を１以上１０ミリパスカル・秒未満、前記基材
表面及びホッパーの先端部の間隙を３０〜２００μｍ、
並びに前記塗布液分配スリット間隙を５０〜２００μｍ
としたことを特徴とする円筒状基材の塗布方法。 - 【請求項２】 前記基材の移動速度が２０〜５０ｍｍ／
ｓｅｃであることを特徴とする請求項１記載の円筒状基
材の塗布方法。 - 【請求項３】 各々複数の塗布液分配スリット及び塗布
液流出口を設け、異なる塗布液を塗布液分配スリット及
び塗布液流出口から同一ホッパー塗布面にあるスライド
面上に流出させ、複数の塗布層を同時に基材上に形成さ
せることを特徴とする請求項１又は２記載の円筒状基材
の塗布方法。 - 【請求項４】 各々複数の塗布液分配スリット、塗布液
流出口及びホッパー塗布面を設け、異なる塗布液を各々
の塗布液分配スリットに供給し、各々の塗布液流出口か
ら各々のホッパー塗布面にあるスライド面上に流出さ
せ、複数の塗布層を基材上に逐次形成させることを特徴
とする請求項１又は２記載の円筒状基材の塗布方法。
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|---|---|---|---|
| JP12802395A JP3503005B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | 円筒状基材の塗布方法 |
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|---|---|---|---|
| JP12802395A JP3503005B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | 円筒状基材の塗布方法 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JPH08318209A JPH08318209A (ja) | 1996-12-03 |
| JP3503005B2 true JP3503005B2 (ja) | 2004-03-02 |
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|---|---|---|---|
| JP12802395A Expired - Fee Related JP3503005B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-26 | 円筒状基材の塗布方法 |
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1995
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