JP3666060B2 - 連続塗布乾燥装置及び連続塗布乾燥方法 - Google Patents
連続塗布乾燥装置及び連続塗布乾燥方法 Download PDFInfo
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、円筒状基材に感光液よりなる塗布液を塗布手段を用いて塗布する事によって電子写真感光体を製造する際、前記円筒状基材に塗布液を均一の膜厚に塗布すると共に、塗布液を塗布した円筒状基材を乾燥する塗布乾燥装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
円筒状基材の外周面上に感光液である塗布液を塗布し、電子写真感光体ドラムを製造する方法として、スプレー塗布法、侵漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等が知られている。
【0003】
又特開昭54−15866号、特開昭56−15885号、特開昭56−15866号には円筒状基材の円周に、あるクリアランスを持って配置された掻取刃を移動させ、塗布液の塗布を行うスライドホッパー型の塗布方法が提案されている。更に特開平1−242165号、特開平3−118866号、特開平3−118867号、特開平3−274564号には円筒状基材に連結部材を用いて連結塗布を行う連続塗布方法が知られている。
【0004】
又、連続塗布方法の改良方法として円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する装置として、塗布液分配スリットが端部を持たず、円筒状基材の外周面を取り囲むようにして連続であり、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜し、且つエンドレスに形成された連続面を有し、前記円筒状基材の外周面よりやや大きな寸法で終端をなすように構成された液スライド面を有する環状塗布装置として特開昭58−189061号に代表される円筒状基材塗布装置が知られている。更に塗布液を円筒状基材塗布装置で円筒状基材の外周面に塗布した後、直ちに塗布液を乾燥する乾燥手段として、特願平5−216495号が提案されている。前記塗布液の乾燥手段として、円筒状基材塗布装置の直上に多数の穴を形成した乾燥用フードを設け、適度に乾燥時間を調整して塗布ムラを防止する手段が提案されている。又、前記同様に、円筒状基材塗布装置の適宜上部位置に、強制排気手段を内蔵した排気乾燥手段を設けて乾燥させる手段が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
前記の様に塗布液の乾燥手段として、円筒状基材塗布装置の直上に多数の穴を形成した乾燥用フードを設けるか、又は円筒状基材塗布装置の適宜上部位置に、強制排気手段を内蔵した排気乾燥手段を何れか一方のみに設ける事により、円筒状基材の塗布液の乾燥を行っているが、塗布液を円筒状基材に塗布する塗布方法として、単層で円筒状基材塗布装置で塗布する場合でも、感光液の種類、溶媒組成、濃度等により塗布乾燥物性が変化する。又複数個の円筒状基材塗布装置を用いて円筒状基材に塗布液の多層逐次重層塗布を行う場合も同様に乾燥物性が変化してくる。以上の塗布作業を円筒状基材に塗布する際、乾燥速度が遅いと液垂れが発生し、乾燥速度が速いと塗膜ムラが発生する。前記の様に膜厚が変化した場合の乾燥を、従来より用いている多数の穴を形成した乾燥用フードか、又は単なる強制排気手段を内蔵した排気乾燥手段を用いて乾燥を行った時、膜厚により液垂れ又は塗膜ムラが発生する。このような液垂れ又は塗膜ムラが発生した感光体ドラムは不良品として使用する事は出来ない。
【0006】
本発明は前記の様な欠点を改善するため特に考えられたものである。即ち、円筒状基材を連続して塗布液を塗布し、乾燥する塗布乾燥装置で、塗布液の塗布を完了した円筒状基材表面の塗布液を乾燥する際、適正な乾燥速度を調整し、液垂れ又は塗膜ムラの発生を防止することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記目的のため、請求項1に於いて、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下部位置より上部位置に垂直に円筒状基材押上手段で押し上げながら、垂直塗布装置により、前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、乾燥装置中を通過させることにより連続塗布を行う連続塗布装置に於いて、前記乾燥装置は、穴付き乾燥フードで構成され、塗布層の急速な乾燥を防止する乾燥調整手段及び乾燥手段より構成されていること、請求項2に於いて、前記乾燥手段は、環状の吸引排気式乾燥手段であること、請求項3に於いて、前記乾燥調整手段は垂直塗布装置の直上に設けたこと、請求項4に於いて、前記乾燥手段は、加熱された空気吹付型乾燥手段であること、請求項5に於いて、複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下部位置より上部位置に垂直に円筒状基材押上手段で押し上げながら、垂直塗布装置により、前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、乾燥装置中を通過させることにより連続塗布を行う連続塗布装置に於いて、筒軸を合わせて積み重ねた円筒状基材押上手段で垂直方向に押し上げられる複数の円筒状基材をして、垂直塗布装置により前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、穴付き乾燥フードで構成され、塗布層の急速な乾燥を防止する乾燥調整手段及び乾燥手段をこの順序で通過させ、乾燥を行うことを特徴とする連続塗布乾燥方法。
【0008】
【実施例】
以下実施例に付いて順次説明する。
【0009】
実施例1
円筒状基材として導電性支持体としては鏡面加工を施した直径80mm、高さ355mm、283gのアルミニウムドラム支持体を用いた。又塗布液としては下記記載の▲1▼UCL−1塗布液組成物を用い、乾燥膜厚3.0μmになるように塗布した。
【0010】
▲1▼UCL−1塗布液組成物(4.0W/V%ポリマー濃度)
共重合ナイロン樹脂(CM−8000 東レ社製)
メタノール/n−ブタノール=10/1(Vol比)
図1は連続塗布手段の全体配置図を示す。全体配置図の内、先ず下部位置に配置された円筒状基材供給装置10より説明する。
【0011】
図2に本発明の円筒状基材供給装置10の詳細図を示す。1Mは円筒状基材で、円筒状基材供給装置10に供給するため、供給台72に複数の円筒状基材1Mを載置されている。円筒状基材1Mは自動運搬装置71に設けた円筒状基材1Mを把持して運搬する運搬部材70で、該運搬部材70は上下動及び回動可能に設けられている。一方自動運搬装置71の側方に時計方向に回転する回転テーブル12が設けられ、該回転テーブル12上に円筒状基材1Mを載置する載置案内部材(以下スペーサと云う)である複数のスペーサ11が回転テーブル12の回転円周方向に複数個設けられている。一個の円筒状基材1Mを運搬部材70で把持し、回動動作により図示の様に円筒状基材1の位置に移動し、スペーサ11に載置する。円筒状基材1の有無状況を検知手段S2により検知し、スペーサ11に対し正確に載置されていれば、制御手段C1により自動運搬装置71の運搬部材70に退避信号を送り、運搬部材70は円筒状基材1より退避動作を行う。退避完了後、制御手段C1より回転制御手段C2の制御によりサーボモータMを始動する。この状態に於いて回転テーブル12上のスペーサ11A,11B,11Cには各々既に円筒状基材1が載置されている。前記サーボモータMの始動によりピニオン142にてラック141で昇降部材14の上昇を開始する。該昇降部材14の上部には緩衝手段であるスプリングSを介して押上部材15が設けられており、該押上部材15にて前記スペーサ11の底部113を押し上げる。スペーサ11の押上位置を正確ならしめるため、円筒状基材押上部材15を円錐状に形成し、スペーサ11の底部113を該円筒状基材押上部材15の円錐状と合致するように凹状に形成する。
【0012】
更に前記スペーサ11の上部には円筒状基材1が緩く嵌合出来る円形溝111が形成されている。この様に形成された押上部材15によりスペーサ11の底部113を押し上げる作動順序を図3に従って説明する。図3(a)は前記昇降部材14の上昇でスペーサ11Cの円形溝111に嵌合載置された円筒状基材1Bと共に図1に示す矢示Zの方向に上昇を開始する。次に図3(b)は上昇により塗布液を塗布するため一定速度で先に上昇している円筒状基材1に、円筒状基材1の先端が突き当たった状態を示す。前記昇降部材14の上昇速度は、上昇開始時の速度は塗布速度より1.5〜5倍の速度で上昇し、前記先に上昇している円筒状基材1に、円筒状基材1の先端が突き当る直前に、前記上昇速度に対し塗布速度に対し1.0〜1.5倍の速度迄減速される様に、前記制御手段C1と回転制御手段C2によりサーボモータMの回転を制御する。又前記先に上昇している円筒状基材1に、後の円筒状基材1の先端が突き当る時、昇降部材14が若干上昇動作を続けてもスプリングSに吸収され、図1に示す様に塗布のため塗布速度で上昇する複数の円筒状基材1に対して衝撃を与える事がなく、塗布ムラが発生しない。尚回転テーブル12の回転円周方向に配置された6個のスペーサ11,11A,11B,11C,11D,11Eの下部には各々押上用の孔が形成されている。前記スプリングSは金属バネ、空気バネ、ゴムバネ、油気圧バネ等の使用が可能であるが、特にスプリング状の物が好ましい。
【0013】
以上の動作が完了した後、図3(b)に示す様に円筒状基材1Bは先ず搬送把持部材22で把持される。次に図3(b)に示す様に制御手段C1と回転制御手段C2の制御によりサーボモータMの下降動作に移りピニオン142とラック141で昇降部材14は前記スペーサ11Cと共に下降する。その際円筒状基材1とスペーサ11の円形溝111は容易に離間するように構成されている。次に図3(c)に示す様に昇降部材14は回転テーブル12の下位置迄下降して停止し、次の上昇動作のために待機し、スペーサ11Cは回転テーブル12上に残る。次に前記把持搬送装置22で確実に円筒状基材1が把持された事が検知部材S1で検知されると、制御手段C2により駆動モータM1より歯車132,131を介して軸13と共に回転テーブル12を時計方向に回動し、次の円筒状基材1とスペーサ11Bを円筒状基材押上部材15上に移動して停止する。前記の様な動作を順次繰り返しながら、円筒状基材1を塗布手段40に供給する。尚前記回転テーブル12を正確に停止させるために、6個のスペーサ11,11A,11B,11C,11D,11Eの載置位置に停止用切欠部12A,12B,12C,12D,12E,12Fを形成し、停止用クリック121により前記に円筒状基材の供給位置と、押上位置に停止させる様に構成する。又前記制御モータM1を制御して停止させてもよい。本発明で使用されるスペーサ11,11A,11B,11C,11D,11Eは、円筒状基材1に対し傷や損傷を与えず垂直保持できる材質が良い。中でもエンジニアリングプラスチックが良い。円筒状基材1は垂直に保持供給される為、把持搬送が確実、容易となり誤動作が発生しない。又円筒状基材1の径の変更に対しても容易に迅速に対処できる。
【0014】
次に図1に示す搬送手段20について詳細に説明する。
【0015】
先ず搬送手段20の把持搬送装置21,22について図4で説明する。先ず上部位置に設けた把持搬送装置21の搬送ハンド211の把持部214と、搬送ハンド212の把持部215は軸213により回動自在に支持され、先に押し上げられて上方に搬送された円筒状基材1と、同様に先に押し上げられた円筒状基材1間を、前記把持部214と、把持部215で段差調整して把持しながら塗布速度で矢示方向に上昇させている。更に下部位置に設けた把持搬送装置22の搬送ハンド221の把持部224と、搬送ハンド222の把持部225も軸223により回動自在に支持され、円筒状基材1間と、新たに押し上げられた円筒状基材1間を前記把持部224と、把持部225で段差調整して把持するようにする。そして把持完了後、前記把持搬送装置21と同速度となる塗布速度で矢示方向に上昇させる。216,226は前記把持部先端に取り付けられ滑り止めと、円筒状基材1面を保護するための押圧緩衝部材である。
【0016】
次に図5で把持搬送装置21,22の搬送手段20について説明する。搬送手段20は把持搬送装置21,22に各々設けられ、搬送手段20に対して縦方向に回転自在に設けられたネジ杆221に嵌合した上下移動部材23を設け、該上下移動部材23に前記把持搬送装置21,22を連結する。前記ネジ杆221を例えばモータと減速歯車等の回転駆動装置を用いて一定速度で回転する事で上下移動部材23も一定速度、即ち複数の円筒状基材1に塗布液を塗布する塗布速度で把持搬送装置21,22が上昇移動する様に構成される。
【0017】
前記の様にして把持搬送装置21,22により複数の円筒状基材1が上方向へ移行され、図1の位置決め手段30へ至る。位置決め手段30は特開平3−280063号公報の他、特願平7−125230号、同7−125231号の如くリング状の位置決め装置が好ましく用いられている。前記特許出願に記載されている様に内壁面に形成した多数のノズルより空気を噴出し、位置決め手段30の内壁面と円筒状基材間に空気圧による一定の間隙を形成形成する位置決め手段の他、図示しないが、好ましくはリング状に形成した位置決め装置が用いられる。
【0018】
前記の様にして位置決め手段30で正確に塗布位置に位置決めされた円筒状基材1は、図1に示す垂直型の塗布手段40へ上昇移行され塗布液が塗布される。
【0019】
40は垂直型の塗布手段であるが、▲1▼スライドホッパー型、▲2▼押し出し型、▲3▼リングコーター型、▲4▼スプレーコーター型等円筒状基材1を積み重ねて上方又は下方に相対的に移動する事により塗布するものであれば種類を問わないが、信頼性の高い連続安定塗布が得られる事により▲1▼のスライドホッパー型の塗布手段が好ましく、図6にスライドホッパー型の塗布手段である垂直型の塗布手段40を示す。該垂直型の塗布手段40は環状に形成され、塗布液よりなる前記塗布液組成物UCL−1を外部より補給する塗布液補給部4を設け、内部に形成された環状液溜部44に塗布液を供給する。環状液溜部44よりスリット43を介して塗布液出口42より垂直型の塗布手段40の内部に環状に形成され塗布部45を形成する。図示の様に塗布速度に押し上げられている円筒状基材1が垂直型塗布手段40の塗布部45に進入し、一定量で供給される塗布液が塗布部45面で円筒状基材1に塗布される。46は前記環状液溜部44内の塗布液に泡の発生を防止するための空気排出手段で、開閉弁47により開閉される。
【0020】
この様にして塗布液である前記塗布液組成物UCL−1が円筒状基材1上に塗布される。塗布を完了した円筒状基材1は乾燥手段50に上昇移行される。塗布を完了した円筒状基材1は乾燥速度を制御刷る乾燥フード51を通過して先ず1次乾燥し、次に吸引式乾燥手段53により強制乾燥される。乾燥した上部の円筒状基材1は分離排出手段60により外部に搬出される。乾燥手段50は、図1の如く乾燥フード51と吸引式乾燥手段53が上下に重ねて用いられている。図7に前記塗布手段40の上部に環状に形成した乾燥フード51と、吸引式乾燥手段53の実施例を示す。前記乾燥フード51には多数の開口部511が形成されている。前記のように円筒状基材1を塗布速度で矢示方向に上昇させ、形成された感光液よりなる塗布層Aは、前記乾燥フード51内を通過しながら塗布された塗布層Aを徐々に乾燥させる。乾燥は前記開口部511より塗布層Aに含まれる溶媒を外部に放出する事により行なわれる。前記のように、円筒状基材1の塗布層Aは、塗布直後の位置に設けられた乾燥フード51にて遮蔽されており、前記開口部511からのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における塗布層Aの乾燥速度は、前記開口部511の開口面積に比例して1次乾燥される。
【0021】
次に、前記乾燥フード51の上部位置に、前記乾燥フード51の上端位置から0〜200mm、好ましくは10〜100mm離れた上方に設けられた吸引式乾燥手段53の構成は、吸引スリット531、吸引チャンバー532、吸引ノズル533を各々有する吸引スリット部材534の下部に筒状吸引部材535と、上部に同じく筒状吸引部材536が各々同心で結合されている。
【0022】
そして、複数設けられた吸引ノズル533より例えば吸引ポンプ、回転ファン等を用いて吸引を行い、周方向均一な吸引チャンバー532と、吸引スリット531により周方向均一化がなされた吸引エアーが流れ、更に、吸引スリット部材534の上下に設けた筒状吸引部材535,536の各内径面と塗布済の円筒状基材1の塗布層A面の外周面との間の空気流れの乱れをバッファー空間537で僅かに抑えて、538で示す乾燥の為の均一吸引エアーのエアー流を作り出して2次乾燥を行う。
【0023】
図8に、前記乾燥フード51の他の実施例である乾燥フード5111を示す。乾燥フード5111の下端部51Bと、前記塗布ヘッド41の上端部41A間を50mmの場合である。更に乾燥フード5111の上部を延長して前記150mmの上部に開口部51Cを形成し、乾燥フード5111を環状の塗布手段40の上部に設けることにより、円筒状基材1に塗布された感光液よりなる塗布層Aの溶媒蒸気濃度が制御される。従って塗膜乾燥速度が制御されることで塗膜の均一化を計る事が出来る。又前記の様な乾燥フード5111を設ける事で塗布層Aのビート部分の溶媒蒸気濃度が高くなるため、急速な乾燥が防止され、塗布層のビート切れを防止出来る。
【0024】
前記の様に構成された吸引式乾燥手段53の吸引乾燥位置に塗布層Aを塗布した円筒状基材1を上昇させて順次搬送する事により塗布層Aの乾燥を行う。以下前記乾燥フード51と、吸引式乾燥手段53(NO.1−1)を用いて塗布層Aの乾燥を行った時の結果を下記表1に示す。
【0025】
本実施例1の乾燥フード51として図7に示される形式で、例えば全長150mm、穴径3.5mmを用いる。又、環状の吸引式乾燥手段53として図7に示される形式で全長700mmのものを使用した。なお比較例として本発明の乾燥フード51と、環状の吸引式乾燥手段53を用いないもの(NO.1−2)、穴付きの乾燥フード51を用いないもの(NO.1−4)、及び吸引式乾燥手段53を用いないもの(NO.1−3)で塗布乾燥を行った。結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
表1に示す如く(NO.1−1)の実施例には膜厚ムラ、液タレ等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な感光体ドラムが得られた。又比較例1,2,3の感光体ドラムの塗布層A面のムラが大きく評価の対象とならなかった。
【0028】
乾燥終了後、図1に示す分離排出手段60へ上昇移行される。移行手段としては、特開平7−43917号公報に詳しく記載されている手段を用いるのが最適であるが、別の分離排出手段として、特開昭61−120662号、同61−120664号公報の手段を用いてもよい。分離されて感光体ドラムは自動搬出手段により収納室、乾燥室或いは次の工程に移行する。
【0029】
実施例2
図1に示す様に、実施例1と同様に複数の円筒状基材1を順次供給する円筒状基材供給装置10と、円筒状基材1の搬送手段20を有し、図8に示す様に各々位置決め手段30と乾燥手段50及びスライドホッパー型の塗布手段40A,40B,40Cを一組とした3組の連続塗布手段A,B,Cを用い、円筒状基材1に鏡面加工を施した直径80mm、高さ355mm、283gのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲1▼UCL−1、▲2▼CGL−2及び▲3▼CTL−1を調整し、スライドホッパー型の塗布手段40A(▲1▼UCL−1用)、塗布手段40B(▲2▼CGL−2用)、塗布手段40C(▲3▼CTL−1用)にて逐次3組の連続塗布手段A,B,Cに従い連続5000本の塗布と、実施例1と同様の乾燥フード51と、環状の吸引式乾燥手段53を有する乾燥手段50を前記3組の連続塗布手段A,B,Cの上部に設けて乾燥を行った。各層それぞれ乾燥膜厚0.8μm、2.1μm及び23μmになるように3層の逐次重層塗布、乾燥し、更に90℃、60分の本乾燥を乾燥室(図示せず)で行い感光体ドラムを作成した(NO.2−1)。なお比較例として本発明の乾燥フード51と、環状の吸引式乾燥手段53を用いないもの(NO.2−2)、乾燥フード51のみ使用のもの(NO.2−3)、及び環状の吸引式乾燥手段53のみ用いたもの(NO.2−4)で塗布乾燥を行った。結果を下記表2に示す。
【0030】
▲1▼UCL−1塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂(CM−8000 東レ社製)
メタノール/n−ブタノール=10/1(Vol比)
▲2▼CGL−2塗布液組成物
ペリレン顔料(CGM−2) 500g
ブチラール樹脂(エスレックBX−L 積水化学社製) 500g
メチルエチルケトン 24l
上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CGM−2:BX−L=2:1に固定)をサンドミルを用いて20時間分散したもの。
【0031】
【化1】
【0032】
▲3▼CTL−1塗布液組成物
CTM−1 5kg
ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製) 5.6kg
1,2−ジクロロエタン 28l
固形分については固形分重量比CTM−1:Z−200=0.89:1に固定
【0033】
【化2】
【0034】
【表2】
【0035】
表2に示す如く塗布ムラ、膜厚ムラ、色ムラ、液タレ、色流れ等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な感光体ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布ができ、完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質かつ高信頼性ある製品が可能となった。
【0036】
得られた感光体ドラムNO.2−1をコニカ社製U−BIX3035複写機で実写したところ濃淡ムラ、カブリムラやゴミ等に起因する画像欠陥(黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ)等がなく、初期から5000本にわたり良好な画像が得られた。比較例の感光体ドラムについては塗布層Aのムラがひどく評価の対象とならなかった。
【0037】
実施例3
図9で示す様に、実施例1と同様に複数の円筒状基材1を順次供給する円筒状基材供給装置10と、円筒状基材1の搬送手段20を有し、各々位置決め手段30と、乾燥手段50及びスライドホッパー型の塗布手段40A,40B,40Cを一組とした3組の連続塗布手段A,B,Cを用い、円筒状基材1に鏡面加工を施した直径80mm、高さ355mm、283gのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物として、▲1▼UCL−3、▲2▼CGL−3、及び▲3▼CTL−2を調整し、スライドホッパー型の塗布手段40A(▲1▼UCL−3用)、塗布手段40B(▲2▼CGL−3用)、塗布手段40C(▲3▼CTL−2用)にて3組の連続塗布手段A,B,Cを用い、連続5000本の塗布と、乾燥を行った。前記各層は、各々乾燥膜厚0.6μm、1.5μm、22μmとなるように3層の逐次重層塗布と、乾燥を行い、感光体ドラムを作成した。使用した乾燥手段として、図10に示す塗布、乾燥手段を用いた。即ち、図7に示す塗布乾燥手段50に上昇移行される。塗布を完了した円筒状基材1は乾燥速度を制御する乾燥フード51(全長200mm、穴径4.5mm)を通過して先ず乾燥し、次に吸引式乾燥手段53により強制乾燥される。乾燥した上部の円筒状基材1は分離排出手段60により外部に搬出される。乾燥手段50は、図の乾燥フード51と吸引式乾燥手段53が上下に重ねて用いられている。図7同様に塗布層Aは、前記乾燥フード51内を通過しながら塗布された塗布層Aを徐々に乾燥させる。乾燥は前記開口部511より塗布層Aに含まれる溶媒を外部に放出することにより行なわれる。前記のように、円筒状基材1の塗布層Aは、塗布直後の位置に設けられた乾燥フード51にて遮蔽されており、前記開口部511からのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における塗布層Aの乾燥速度は、前記開口部511の開口面積に比例して乾燥される。
【0038】
次に、吸引式乾燥手段53で、複数設けられた吸引ノズル533より例えば吸引ポンプ、回転ファン等を用いて吸引を行い、塗布済の円筒状基材1の塗布層A面の乾燥を行う。更に本実施例に於いて、吸引式乾燥手段53の上部に、加熱された空気を吹き付ける、環状の加熱吹き付型乾燥手段701を設ける。該加熱吹き付型乾燥手段701は、複数の送風ファン711と、送風された空気を各々90℃に加熱するヒータ721と、加熱された空気を円筒状基材1の塗布層Aに効率的に流すフード731より構成され、前記の乾燥手段50で乾燥した塗布層Aに90℃に加熱した空気を矢示方向に吹き付けて乾燥した。
【0039】
▲1▼UCL−3塗布層組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体(エルバックス4260 三井デュポンケミカル社製)
トルエン/n−ブタノール=5/1(Vol比)
▲2▼CGL−3塗布液組成物
Y−型チタニルフタロシアニン(CGM−3) 100g
シリコーン樹脂(KR−5240 信越化学社製) 100g
t−酢酸ブチル 10l
上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CGM−3:Z−200=2:1に固定)
【0040】
【化3】
【0041】
▲3▼CTL−2塗布液組成物
CTM−2 5.0kg
ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製) 5.6kg
1,2−ジクロロエタン 28l
固形分については固形分重量比CTM−1:Z−200=0.89:1に固定
【0042】
【化4】
【0043】
以上の様に塗布装置による塗布と、乾燥手段による乾燥を行ったところ、塗布層Aに塗布ムラ、膜厚ムラ、色ムラ、液タレ、色流れ等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な感光体ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布ができ、完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質かつ高信頼性ある製品が可能となった。
【0044】
得られた感光体ドラムNO.2−1をコニカ社製U−BIX3035複写機で実写したところ濃淡ムラ、カブリムラやゴミ等に起因する画像欠陥(黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ)等がなく、初期から5000本にわたり良好な画像が得られた。
【0045】
次に図11に示された他の吸引式排気乾燥装置8について説明する。前記のように垂直状に上昇して供給される複数の円筒状基材1に図6と同様の環状の塗布手段40にて感光液が塗布されて塗布層Aが形成される。前記排気乾燥装置8は塗布した直後の塗布層Aより蒸発する溶媒を吸引し、更に乾燥を行うもので、前記環状の塗布手段40の直上に設けられている。8Aは環状に形成された吸引ダクトで、該吸引ダクト8Aより前記塗布層Aに向けて吸引口8Bが形成されている。前記吸引ダクト8Aの一部には排気管8Cが接続され、該排気管8C内に設けた排気ファン8Dにより前記塗布層Aより蒸発する溶媒を吸引して、強制的に外部に排出し乾燥させる。前記のように環状の塗布手段40にて塗布層を塗布した直後に、該塗布層Aより発生する溶媒蒸気を排気するため円筒状基材1に塗布された塗布層Aの塗布層が多量に流下するのを停止させることができる。前記のような排気乾燥装置8を作動させることにより、多数の円筒状基材1を接続して感光液を塗布した場合でも塗布層Aの近傍より溶媒を急速に排出出来ると共に、感光液2による塗膜の流下を強制的に制御して塗布層Aに発生する前記薄膜や液溜りの発生を防止する事も出来る。尚前記排気ファン8Dは、吸引ダクト8Aに複数箇所設けてもよい。
【0046】
【発明の効果】
請求項1に於いて、複数の円筒状基材を一定の塗布速度で上昇させながら、塗布装置で塗布層の塗布を行い、該塗布層の乾燥を行う時、塗布装置の直上に設けた乾燥調整作用を有する乾燥手段で乾燥する事で急速な乾燥を防止し、次に吸引式の乾燥手段により急速に乾燥させるため、塗布条件の不適合による塗布ムラ、塗布層垂れ、等が発生しない。又塗布層の膜厚変動が発生せず、塗布性が良好であり、塗布膜厚、塗布層物性等の変化に応じて幅広い乾燥条件が最適値で設定出来る。
【0047】
請求項2に於いて、前記乾燥調整作用を有する乾燥手段は、穴付き乾燥フードにより行い、穴径及び穴数を設定し、正確な乾燥調整を行う事が出来る。
【0048】
請求項3に於いて、前記吸引式の乾燥手段は、環状の吸引排気式乾燥手段であり、吸引排気を調整する事により前記穴付き乾燥フードにより調整乾燥された塗布層を最適の乾燥速度で乾燥させる事が可能となり塗布ムラ、塗布層垂れ、等が発生せず、且つ塗布層の膜厚変動も発生しない。
【0049】
請求項4に於いて、前記乾燥調整作用を有する乾燥手段を、塗布装置の直上に設けたので、円筒状基材に塗布された塗布層が外気に晒される事がなく、外気による塗布層の乾燥を防止し、塗布膜厚を保持する事が出来る。
【0050】
請求項5に於いて、環状の吸引排気式乾燥手段を、排気から空気吹き付け式に変更し、且つ空気を加熱する熱源を設ける事により、特に円筒状基材に塗布層を重層塗布する時、前記穴付き乾燥フードと、環状の吸引排気式乾燥手段を経て、最終的な乾燥を完成させる事ができるため、特に塗布層の膜厚変動も発生しない。
【0051】
請求項6に於いて、複数の円筒状基材を一定の塗布速度で上昇させながら、塗布装置で塗布層の塗布を行い、該塗布層の乾燥を行う時、第1に塗布装置の直上に設けた乾燥調整作用を有する乾燥手段で乾燥して急速な乾燥を防止し、第2に吸引式の乾燥手段により急速に乾燥させるようにしたので、塗布条件の不適合による塗布ムラ、塗布層垂れ、等が発生しない。又塗布層の膜厚変動が発生せず、塗布性が良好であり、塗布膜厚、塗布層物性等の変化に応じて幅広い乾燥条件が最適値で設定出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の連続塗布手段の全体構成を示す斜視図。
【図2】本発明の円筒状基材供給装置の全体構成を示す斜視図。
【図3】本発明の円筒状基材供給装置の押出手段で、円筒状基材を伸し出す状態を示す説明図。
【図4】本発明の円筒状基材の把持搬送装置を示す斜視図。
【図5】本発明の把持搬送装置の搬送手段を示す正面図。
【図6】本発明のスライドホッパー型の塗布手段を示す斜視図。
【図7】本発明の塗布手段と、乾燥手段を示す断面図。
【図8】本発明の塗布手段と、他の乾燥手段を示す断面図。
【図9】本発明の他の連続塗布手段の全体構成を示す斜視図。
【図10】本発明の塗布手段と、他の乾燥手段を示す断面図。
【図11】本発明の塗布手段と、他の乾燥手段を示す断面図。
【符号の説明】
1,1M 円筒状基材
10 円筒状基材供給装置
11,11A,11B,11C,11D,11E スペーサ
12 回転テーブル
14 昇降部材
15 円筒状基材押上部材
20 搬送手段
30 位置決め手段
40,40A,40B,40C 塗布手段
50 乾燥手段
51,5111 乾燥フード
53 吸引式乾燥手段
60 分離排出手段
701 加熱吹き付型乾燥手段
Claims (5)
- 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下部位置より上部位置に垂直に円筒状基材押上手段で押し上げながら、垂直塗布装置により、前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、乾燥装置中を通過させることにより連続塗布を行う連続塗布装置に於いて、前記乾燥装置は、穴付き乾燥フードで構成され、塗布層の急速な乾燥を防止する乾燥調整手段及び乾燥手段より構成されていることを特徴とする連続塗布乾燥装置。
- 前記乾燥手段は、環状の吸引排気式乾燥手段であることを特徴とする請求項1記載の連続塗布乾燥装置。
- 前記乾燥調整手段は垂直塗布装置の直上に設けたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の連続塗布乾燥装置。
- 前記乾燥手段は、加熱された空気吹付型乾燥手段であることを特徴とする請求項3記載の連続塗布乾燥装置。
- 複数の円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下部位置より上部位置に垂直に円筒状基材押上手段で押し上げながら、垂直塗布装置により、前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、乾燥装置中を通過させることにより連続塗布を行う連続塗布乾燥方法に於いて、筒軸を合わせて積み重ねた円筒状基材押上手段で垂直方向に押し上げられる複数の円筒状基材をして、垂直塗布装置により前記円筒状基材周面上に塗布液を連続的に塗布した後、穴付き乾燥フードで構成され、塗布層の急速な乾燥を防止する乾燥調整手段及び乾燥手段をこの順序で通過させ、乾燥を行うことを特徴とする連続塗布乾燥方法。
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