JPH0924326A - 円筒状基材の塗布方法及び該装置 - Google Patents

円筒状基材の塗布方法及び該装置

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JPH0924326A
JPH0924326A JP17351595A JP17351595A JPH0924326A JP H0924326 A JPH0924326 A JP H0924326A JP 17351595 A JP17351595 A JP 17351595A JP 17351595 A JP17351595 A JP 17351595A JP H0924326 A JPH0924326 A JP H0924326A
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JP
Japan
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cylindrical base
coating
cylindrical
stopper mechanism
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Application number
JP17351595A
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English (en)
Inventor
Akira Ohira
晃 大平
Junji Ujihara
淳二 氏原
Hirohiko Seki
浩彦 関
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 円筒状基材の載置による塗装膜粉、顔料粉等
の飛散を防ぎ、塗膜欠陥がなく、黒ポチ、白ポチ等の画
像欠陥がない円筒状基材の塗布方法また装置を提供す
る。 【構成】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ねられた
前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布により塗布液を連
続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材を把持しながら
下方の隣接する円筒状基材より分離して、分離後に円筒
状基材受け部に円筒状基材を載置する円筒状基材の塗布
装置において、前記円筒状基材を載置するとき、前記円
筒状基材の下端部が円筒状基材以外の部材に接触するこ
となく前記円筒状基材の内側面を挟持するストッパー機
構を有することを特徴とする円筒状基材の塗布装置であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、垂直方向に縦列して搬
送される複数の円筒状基材(ドラム、感光体ドラムとも
いう)に連続して塗布液を塗布して乾燥した後、順に円
筒状基材を分離して、円筒状基材を載置する円筒状基材
の塗布方法および該装置に関し、特に、電子写真用感光
体ドラムの分離と感光体ドラムの載置に関する。
【0002】
【従来の技術】円筒状基材の外面上へ薄膜で均一な塗布
する方法についてはスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレ
ード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法がある。特に
電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布につい
ては生産性の優れた塗布装置が検討されている。しかし
ながら、従来の円筒状基材への塗布方法及び塗布装置に
おいては、均一な塗布膜が得られなかったり、生産性が
悪い等の問題があった。
【0003】スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発
するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、そ
れにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到
達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或
いは乾燥して固形化してしまった粒子が表面に付着する
ために、塗布表面の平滑性の良いものが得られない。ま
た、円筒状基材への液滴の到達率が100%でなく塗布
液のロスがあったり、部分的にも不均一であるため、膜
厚制御が非常に困難で、更に高分子溶液等では糸引きを
起こす事があるため、使用する溶媒及び樹脂に制限があ
る。
【0004】ブレード塗布法、ロール塗布法では、例え
ば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配
置し、円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
1回転させた後に、ブレード若しくはロールを後退させ
るものである。しかしながらブレード若しくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。
【0005】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性、例えば粘度、表
面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物
性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、
塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要
である。さらに重層する場合、下層成分が溶け出し塗布
液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【0006】そこで、特開昭58−189061号公報
に記載の如く円形量規制型塗布装置(この中にはスライ
ドホッパー型の塗布装置も含まれる)が開発された。こ
のスライドホッパー型の塗布装置はエンドレスに形成さ
れた連続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方
向に移動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒
状基材の外周面に対して塗布液を塗布するものであっ
て、この塗布装置は環状の塗布液溜まり室と、この塗布
液溜まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する
供給口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液
分配スリットとを有し、このスリットから流出した塗布
液を斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下さ
せ、塗布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状
基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材
の移動に伴ってその外周面に塗布するものである。この
スライドホッパー型の塗布装置を用いることにより、少
ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高
い、膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【0007】上記装置のように、円筒状基材に連続して
塗布し、乾燥する場合、円筒状基材がその端面をつき合
わせてて載み重ねられた状態で、その表面に塗布を行い
乾燥すると、円筒状基材の端面のつき合わせ部は、塗布
膜が連結された状態となっている。これを分離して他の
場所へ移動して円筒状基材の下端部を載置部材等に置て
いた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布後
の円筒状基材の載置部材上での塗膜粉等の発生度合いは
塗布方法によりことなり、浸漬塗布方法やスプレー塗布
方法の場合はある程度液膜が固まったまま乾燥するにし
ても、塗膜は形成された状態になっているので載置部材
上での塗膜粉等の汚れが発生しにくいのに対し、本発明
の塗布方法では重ねられた円筒状基材に塗布して、指触
乾燥あるいは完全乾燥の後、機械的に引きちぎり分離す
るので、載置部材等にゴミ等が付着し易く、円筒状基材
にゴミ等が付着して塗膜欠陥が生じたり、黒ポチや白ポ
チ等の画像欠陥の原因となっていた。したがって、本発
明の塗布方法、装置では塗膜片の飛び散り、ゴミ等の付
着のない載置方法、装置が望まれる。
【0009】本発明は、上記の課題に鑑みなされたもの
で、円筒状基材の載置による塗装膜粉、顔料粉等の飛散
を防ぎ、塗膜欠陥がなく、黒ポチや白ポチ等の画像欠陥
がない円筒状基材の塗布方法また該装置を提供すること
を目的としてる。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的は下記のよう
な手段により達成される。即ち、(1)円筒状基材の筒
軸を合わせて積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上
に垂直塗布により塗布液を連続的に塗布した後、塗布済
の円筒状基材を把持しながら下方に隣接する円筒状基材
より分離して、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材
を載置する円筒状基材の塗布装置において、前記円筒状
基材を載置するとき、前記円筒状基材の下端部が円筒状
基材以外の部材に接触することなく前記円筒状基材の内
側面を挟持するストッパー機構を有することを特徴とす
る円筒状基材の塗布装置であり、(2)円筒状基材の筒
軸を合わせて積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上
に垂直塗布により塗布液を連続的に塗布した後、塗布済
の円筒状基材を把持しながら下方に隣接する円筒状基材
より分離して、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材
を載置する円筒状基材の塗布方法において、前記円筒状
基材を載置するとき、ストッパー機構により前記円筒状
基材の下端部が円筒状基材以外の部材に接触することな
く前記円筒状基材の内側面を挟持することを特徴とする
円筒状基材の塗布方法であり、(3)円筒状基材の筒軸
を合わせて積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上に
垂直塗布により塗布液を連続的に塗布した後、塗布済の
円筒状基材を把持しながら下方に隣接する円筒状基材よ
り分離して、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材を
載置する円筒状基材の塗布方法において、第1基材移動
手段により前記分離後の塗布済の円筒状基材を回転テー
ブルを有する基材載置手段に移動し、ストッパー機構に
より前記円筒状基材の下端部が円筒状基材以外の部材に
接触しないで前記円筒状基材の内側面を挟持して載置
し、さらに第2基材移動手段により、前記回転テーブル
に載置された円筒状基材を少なくともそれぞれ前記スト
ッパー機構を有する前記円筒状基材を収容する収容台、
乾燥室の乾燥台又は次の塗布供給部へ移動することを特
徴とする円筒状基材の塗布方法であり、(4)円筒状基
材の筒軸を合わせて積み重ねられた前記円筒状基材の外
周面上に垂直塗布により塗布液を連続的に塗布した後、
塗布済の円筒状基材を把持しながら下方に隣接する円筒
状基材より分離して、分離後に円筒状基材受け部に円筒
状基材を載置する円筒状基材の塗布方法において、第1
基材移動手段により前記分離後の円筒状基材を垂直上方
に移行後、スライド部材を有する基材スライド載置手段
により移動し、ストッパー機構により前記円筒状基材の
下端部が円筒状基材以外の部材に接触しないで前記円筒
状基材の内側面を挟持して載置し、第2基材移動手段に
より、前記スライド部材に載置された円筒状基材を少な
くともそれぞれ前記ストッパ機構を有する前記円筒状基
材を収容する収容台、乾燥室の乾燥台又は次の塗布供給
部へ移動することを特徴とする円筒状基材の塗布方法で
ある。
【0011】
【作用】以上のように構成した作用について説明する。
【0012】請求項1は、円筒状基材の筒軸を合わせて
積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布に
より塗布液を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材
を把持しながら下方の隣接する円筒状基材より分離し、
さらに分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材を載置す
る円筒状基材の塗布装置にあって、前記円筒状基材を載
置するときに、前記円筒状基材の下端部が円筒状基材以
外の部材に接触することなく前記円筒状基材の内側面を
挟持するストッパー機構を設ける。その結果として、円
筒状基材の下端部等の塗膜粉、顔料粉等の周囲に飛散す
るのを防ぎ、円筒状基材にゴミ等が付着せず、塗膜欠陥
がなく、黒ポチや白ポチ等の画像欠陥がなく、さらに載
置部材等にゴミ等が付着しなくなる。
【0013】請求項2は、請求項1に記載の円筒状基材
の塗布装置において、前記円筒状基材がアルミニウム材
ドラムである。その結果として、アルミニウム材のドラ
ムを用いた例えば電子写真感光体ドラムの塗布後の分
離、移動がゴミ等が付着せず行なわれる。
【0014】請求項3は、請求項1に記載の円筒状基材
の塗布装置において、ストッパー機構が複数のリンク部
材により前記円筒状基材の内側面を挟持する。その結果
として、前記円筒状基材の内側面を確実に挟持でき、構
造が簡単となる。
【0015】請求項4は、請求項1に記載の円筒状基材
の塗布装置において、ストッパー機構がスライド部材に
より前記円筒状基材の内側面を挟持する。その結果とし
て、前記円筒状基材の内側面を確実に把持でき、構造が
簡単となる。
【0016】請求項5は、円筒状基材の筒軸を合わせて
積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布に
より塗布液を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材
を把持しながら下方に隣接する円筒状基材より分離し
て、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する
円筒状基材の塗布方法において、前記円筒状基材を載置
するとき、ストッパー機構により前記円筒状基材の下端
部が円筒状基材以外の部材に接触することなく前記円筒
状基材の内側面を挟持する。その結果として、円筒状基
材の下端部の塗膜粉や顔料粉等の周囲に飛散するのを防
ぎ、円筒状基材にゴミ等が付着せず、塗膜欠陥がなく、
黒ポチや白ポチ等の画像欠陥がなく、さらに載置部材等
にゴミ等が付着しなくなる。
【0017】請求項6は、円筒状基材の筒軸を合わせて
積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布に
より塗布液を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材
を把持しながら下方に隣接する円筒状基材より分離し
て、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する
円筒状基材の塗布方法において、第1基材移動手段によ
り前記分離後の塗布済の円筒状基材を回転テーブルを有
する基材載置手段に移動し、ストッパー機構により前記
円筒状基材の下端部が円筒状基材以外の部材に接触しな
いで前記円筒状基材の内側面を挟持して載置する。さら
に、第2基材移動手段により、前記回転テーブルに載置
された円筒状基材を少なくともそれぞれ前記ストッパー
機構を有する前記円筒状基材を収容する収容台、乾燥室
の乾燥台又は次の塗布供給部へ移動する。その結果とし
て、回転テーブルを有する基材載置手段や、前記収容
台、前記乾燥台、次の塗布供給部で、ストッパー機構に
より円筒状基材の下端部を接触さないで載置して、円筒
状基材の下端部の塗膜粉や顔料粉等が周囲に飛散するの
を防ぎ、円筒状基材にゴミ等が付着せず、塗膜欠陥がな
く、黒ポチや白ポチ等の画像欠陥がない。さらに、載置
部材等にゴミ等が付着しなくなる。
【0018】請求項7は、円筒状基材の筒軸を合わせて
積み重ねられた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布に
より塗布液を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材
を把持しながら下方に隣接する円筒状基材より分離し
て、分離後に円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する
円筒状基材の塗布方法において、第1基材移動手段によ
り前記分離後の円筒状基材を垂直上方に移行後、スライ
ド部材を有する基材スライド載置手段により移動する。
その後ストッパー機構により前記円筒状基材の下端部が
円筒状基材以外の部材に接触しないで前記円筒状基材の
内側面を挟持して載置する。さらに、第2基材移動手段
により、前記スライド部材に載置された円筒状基材を少
なくともそれぞれ前記ストッパ機構を有する前記円筒状
基材を収容する収容台、乾燥室の乾燥台又は次の塗布供
給部へ移動する。その結果として、スライド部材を有す
る基材載置手段や、前記収容台、前記乾燥台、次の塗布
供給部で、ストッパー機構により円筒状基材の下端部を
接触さないで載置して、円筒状基材の下端部の塗膜粉、
顔料粉等が周囲に飛散するのを防ぎ、円筒状基材にゴミ
等が付着せず、塗膜欠陥がなく、黒ポチや白ポチ等の画
像欠陥がない。さらに、載置部材等にゴミ等が付着しな
くなる。
【0019】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1は本発明による塗布装置の構成を示す斜視
図である。図において、10は円筒状基材1を塗布手段
の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し上げる供給
手段、20は供給された円筒状基材1の外周面を把持し
て筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押し上げて
搬送する搬送手段、30は前記円筒状基材1を塗布手段
の環状塗布部の中心に位置合わせする位置決め手段、4
0は前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布
する塗布手段、50は円筒状基材1上に塗布された塗布
液を乾燥させる乾燥手段、60は乾燥されて垂直搬送さ
れてきた積み重ね状の複数の円筒状基材からを分離させ
て1個ずつ取り出し排出させる分離排出手段である。な
お、図示しない第1基材移動手段、基材載置手段、第2
基材移動手段さらに基材スライド載置手段については後
述する。
【0020】本発明の塗布装置は、上記の各手段を連続
して垂直中心線Z−Z上に配置した構成であり、自動的
に生産が高精度で達成できる。前記供給手段10は前記
円筒状基材1を載置するための複数の取付け部11を備
えた可動テーブル12は、該可動テーブル12を回転さ
せて前記搬送手段20へつながる垂直ラインへ送り込む
駆動部13、前記搬送手段20により既に上方に把持搬
送されている円筒状基材1を積み重なるように上方に押
し上げる昇降部14、該昇降部14の上端に設けられた
円筒状基材の供給用のハンド部15及び前記駆動部13
による回転や昇降部14による押し上げのタイミングを
制御する図示しない制御手段等から構成されている。な
お、前記可動テーブル12上への円筒状基材1の供給
は、図示しないロボットハンドルにより行われる。
【0021】前記供給手段10の上方に設けられた搬送
手段20は、円筒状基材1の外周面に圧接離間可能で且
つ垂直上下方向に移動可能な2組の把持部21,22を
有し、円筒状基材1を位置決めして把持し上方に搬送す
る機能を有する。以下、上記各手段20,30,40,
50,60の詳細は後述する。
【0022】図2は、塗布装置の他の実施例を示す斜視
図である。この実施例では、前記搬送手段20の上方の
垂直中心線Z−Z上には、位置決め手段30A、塗布手
段40A、乾燥手段50Aとから成るユニットA、位置
決め手段30B、塗布手段40B、乾燥手段50Bとか
ら成るユニットB、位置決め手段30C、塗布手段40
C、乾燥手段50Cとから成るユニットC、を垂直に縦
列に配置したものである。最上段には前記分離排出手段
60が配置されている。各塗布手段40A,40B,4
0Cからそれぞれ吐出された塗布液は、円筒状基材1上
に多層の塗布層を逐次形成し、各乾燥手段50A,50
B,50Cにより乾燥されたのち、分離排出手段60に
より最上段の円筒状基材1Aは把持されて下方の円筒状
基材1Bから分離される。なお、円筒状基材の内部を挟
持する分離把持は、特開昭61−120662、特開平
4−258960、特開平7−43917に記載されて
いる。特に分離する円筒状基材1Aの下方の円筒状基材
1Bを把持しつつ、上の円筒状基材1Aを分離するのが
より好ましい。
【0023】次に、塗布装置の工程について説明する。
円筒状基材1は図示されていない供給ロボットにより円
筒状基材収納室より可動テーブル12上にある円筒状基
材1Aの位置に置かれる。円筒状基材1Aは可動テーブ
ル12の矢印方向の回転により円筒状基材1Bの位置に
達する。この時、昇降部(供給アーム)14が下方より
上方へ円筒状基材1Bを押し上げ、ハンド部15の位置
まで供給される。好ましくは昇降部14による押し上げ
が完了する時緩衝機構が作用し、円筒状基材1Bとの接
合時のショックを無くするのが良い。このようにして円
筒状基材1Bが1Cの搬送手段20のところまで運び込
まれる。
【0024】20は搬送手段を示し把持部(搬送ハン
ド)21,22により円筒状基材1Cと1Dとの繋ぎ部
が把持されかつ上方に搬送され、位置決め手段30へ至
る。
【0025】30は位置決め手段であり、特開平3−2
80063号公報に記載されている位置決め手段の他、
特願平7−125230号明細書や特願平7−1252
31号に記載のリング状位置決めが好ましく用いられ
る。
【0026】このようにして正確に位置決めされた円筒
状基材は垂直型塗布手段40へ移行され塗布される。4
0は垂直型の塗布手段であり、スライドホッパー型、
押し出し型、リングコーター型、スプレーコータ
ー型等円筒状基材(ドラム)を積み重ねて上方又は下方
に相対的に移動する事により塗布するものであれば種類
を問わないが、信頼性の高い連続安定塗布が得られる事
によりのスライドホッパー型コーターが好ましく、例
えば、特開昭58−189061号公報に記載されてい
る。
【0027】このようにして塗布組成物が円筒状基材1
上に塗布される。塗布された円筒状基材1は乾燥手段5
0に移行される。乾燥手段50は乾燥フード51と吸引
式の乾燥器53を重ねて用いても良いし、塗布液の溶媒
や液膜厚に応じてフードのみでも良いし、吸引式の乾燥
器のみでも良い。これらは特願平5−216495号あ
るいは特願平5−99559号に記載してある。また、
ある塗布液の場合、上記乾燥手段を特別に設けず自然乾
燥に任せても良い。
【0028】その後、分離排出手段60へ移行される。
特開平7−43917号公報に詳しく述べられているも
のが良い。別のものとしては特開昭61−120662
号、同61−120664号公報等も良い。
【0029】図3は、上記塗布手段の斜視図である。図
に示されるように中心線Z−Zに沿って垂直状に重ね合
わせた複数の円筒状基材1A,1B(以下、円筒状基材
1と称す)を連続的に矢印方向に上昇移動させ、その周
囲を取り囲み、円筒状基材1の外周面に対しスライドホ
ッパー型の塗布手段の塗布に直接係わる部分(ホッパー
塗布面)41により塗布液(感光液)が塗布される。な
お、円筒状基材1としては中空ドラム例えばアルミニウ
ムドラム、プラスチックドラムのほかシームレスベルト
型等でも良い。前記ホッパー塗布面41には、円筒状基
材1側に開口する塗布液流出口42を有する幅狭の塗布
液分配スリット(スリットと略称する)43が水平方向
に形成されている。このスリット43は環状の塗布液分
配室(塗布液溜り室)44に連通し、この環状の塗布液
分配室44には図示しない貯留タンク内の塗布液を供給
管4を介して供給するようになっている。他方、スリッ
ト43の塗布液流出口42の下側には、連続して下方に
傾斜し、円筒状基材1の外径寸法よりやや大なる寸法で
終端をなすように形成された塗布液スライド面(以下、
スライド面と称す)45が形成されている。さらに、こ
のスライド面45終端より下方に延びる唇状部が形成さ
れている。かかる塗布手段(スライドホッパー型塗布手
段)40による塗布においては、円筒状基材1を引き上
げる過程で、塗布液をスリット43から押し出し、スラ
イド面45に沿って流下させると、スライド面45の終
端に至った塗布液は、そのスライド面45の終端と円筒
状基材1の外周面との間にビードを形成した後、円筒状
基材1の表面に塗布される。スライド面45の終端と円
筒状基材1は、ある間隙を持って配置されているため円
筒状基材1を傷つける事なく、また性質の異なる層を多
層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷
することなく塗布できる。
【0030】一方、供給管4より最も遠い位置で、前記
塗布液分配室44の一部には、塗布液分配室44内の泡
抜き用の空気抜き部材46が設けられている。塗布液が
塗布液分配室44に供給されて塗布液分配スリット43
から塗布液流出口42に供給されるとき、開閉弁47を
開いて空気抜き部材46より塗布液分配室44内の空気
を排出する。
【0031】前記スライドホッパー型塗布手段40の下
部には、円筒状基材の円周方向を位置決めする位置決め
手段30が固定されている。前記円筒状基材1の位置決
め装置30の本体には、図示しない複数の給気口と、複
数の排気口が穿設されている。該複数の給気口は、図示
しない給気ポンプに接続され、空気等の流体が圧送され
る。該給気口の一端部で円筒状基材1の外周面に対向す
る側には、吐出口が貫通している。該吐出口は前記円筒
状基材1の外周面と所定の間隙を保って対向している。
【0032】前記塗布手段40の上方には、乾燥フード
51と乾燥器53とから成る乾燥手段50が設けられて
いる。
【0033】図4は、分離排出手段及び、第1基材移動
手段の説明図である。塗布済の円筒状基材1Aは下方よ
り上方へ向けて押し上げられ、上方向へ移動し図4
(a)に示すように分離位置に達する。このとき、移動
ロボット61が起動し被分離の円筒状基材1Aを移動す
る。先ず、図4(b)に示す位置で下把持子64が被分
離の円筒状基材1Aに隣接する円筒状基材1Bを保持す
る。次いで図4(c)に示す位置で上把持子63が被分
離円筒状基材1Aを保持する。エアーシリンダー62に
より上把持子63は上方向へ移動して図4(d)に示す
位置になる。被分離の円筒状基材1Aから隣接する円筒
状基材1Bにまたがる塗布膜が切り裂かれ図4(d)図
に示すように円筒状基材1A、1Bの分離が行われる。
分離済の円筒状基材1Aを排出する為に図4(e)に示
すように下把持子64は解放状態となり、移動ロボット
61及びエアーシリンダー62が急上昇する。
【0034】次いで図4(f)に示すようにエヤーシリ
ンダー62の先端は上方へ移動する。そして、円筒状基
材1Bの分離の為、移動ロボット61及びエアーシリン
ダー62が下降し、初期状態の位置図4(a)に戻る。
なお分離排出後の工程については図6、図7で説明す
る。
【0035】図5は前述の分離排出手段の各種実施例を
示す斜視図で、図5(a)は前述の実施例で説明は省略
する。図5(b)は分離排出手段60の他の実施例を示
す斜視図で、上把持子65及び下把持子66は、ほぼ同
一構造をなし、前記エアーシリンダー62のエアー圧力
により膨張、収縮し円筒状基材1の内周面に3点圧接、
離間する環状の弾性部材である。図5(c)は分離排出
手段60のさらに他の実施例を示す斜視図で、上把持子
67及び下把持子68は、ほぼ同一構造をなし、前記エ
アーシリンダー62のエアー圧力により揺動して傘型に
起立展開及び収縮し、円筒状基材1の内周面に圧接、離
間する環状の揺動部材である。
【0036】図6は、第1基材移動手段、基材載置手段
及び第2基材移動手段の斜視図である。図に示すよう
に、制御回路721の信号により第1基材移動手段72
0の移動ロボット61が駆動して円筒状基材1Aが把持
され、垂直に移動して円筒状基材1Aと円筒状基材1B
とが分離される(図4参照)。その後、円筒状基材1A
は図の矢印のように移動ロボット61により、回動して
基材載置手段に移動する。円筒状基材1Aは基材載置手
段730のテーブル盤731の受け部のストッパー機構
760により円筒状基材1Aの下端部をテーブル盤73
1に当接することなく内側を挟持する。その後、制御回
路721の信号によりモータ733が回転し、歯車列7
32を介してテーブル盤731を回転させる。ここで、
第2基材移動手段750の設けられた下方に円筒状基材
1Aがくると把持され、図示しない円筒状基材を収容す
る収容台、乾燥室の乾燥台、または次の塗布供給部に移
動する。なお、図に示すように、分離した円筒状基材
(ドラム)1Aを直ぐに別の場所にあるテーブル盤73
1に移動することによりゴミ、塗膜片等の飛び散りを少
なくすることができる。
【0037】図7は、他の第1基材移動手段、基材スラ
イド載置手段及び他の第2基材移動手段の斜視図であ
る。図に示すように、分離の後に、制御回路744の信
号により第1基材移動手段の移動ロボット61が駆動し
て円筒状基材1Aが上方に移動して一時停止する(図4
参照)。その後、基材スライド載置手段740のスライ
ド板741が移動して、スライド板741に設けられた
ストッパー機構760が円筒状基材1Aの下部に移動す
る。ここで、移動ロボット61により、円筒状基材1A
は垂直に下降して基材スライド載置手段740のスライ
ド板741の受け部にあるストッパー機構760により
円筒状基材1Aの下端部をスライド板741に当接され
ることなく内側を挟持する。その後、制御回路744の
信号によりモータ743が回転し、次いで歯車742を
回転させてスライド板741を円筒状基材1B,1Cよ
り離れる方向に移動する。ここで、円筒状基材1Aは第
2基材移動手段750により挟持され、図示しない円筒
状基材を収容する収容台、乾燥室の乾燥台、または複数
回の塗布を行う場合は次の塗布工程の載置部材にそれぞ
れ移動するようになっている。なお、図に示すように移
動ロボット61の移動方向は垂直のため移動ロボット6
1の軸ずれが生じにくい。
【0038】図8は、円筒状基材の受け部のストッパー
機構の断面図で、図8(A)は円筒状基材を受け部のス
トッパー機構760に挿入する途中の状態図で、図8
(B)は円筒状基材が受け部のストッパー機構760に
より挟持された状態図である。図に示すように、円筒状
基材1Aが下降してくると,円筒状基材1Aの下端部が
位置センサ769で検知される。すると、位置センサ7
69の検知信号に基づき制御回路768でソレノイド7
67を駆動させバネ766を介して軸765を上昇させ
る。テーブル盤731の受け台761に取り付けられた
リンク762が前記軸765により移動し、さらにリン
ク763が移動するとリンク763に設けられた把持子
764が前記下端部をテーブル盤731に当たることな
く内側を挟持する。
【0039】図9は、円筒状基材の受け部の他のストッ
パー機構の断面図で、図9(A)は円筒状基材を受け部
のストッパー機構780に挿入途中の状態図で、図9
(B)は円筒状基材が受け部のストッパー機構780に
より挟持された状態図である。図に示すように、円筒状
基材1Aが下降してくると,円筒状基材1Aの下端部が
位置センサ789で検知される。すると、位置センサ7
89の信号に基づき制御回路788でソレノイド787
を駆動させる、バネ786を介して軸785が上昇し、
テーブル盤731の受け台761に取り付けられたリン
ク762が前記軸765により移動し、スライドするカ
ム部材782が円筒状基材の筒軸と直角方向にカム部材
782が移動する。するとカム部材782に設けられた
把持子784が円筒状基材1Aの下端部をテーブル盤7
31に当たることなく内側を挟持する。なお、板バネ7
83はカム部材782に作用している。
【0040】(実施例1)ここで、実施例の試験例(実
施例1という)について説明すると、円筒状基材の導電
性支持体としては鏡面加工を施した直径80mm、高さ
355mm、283gのアルミニウム材のドラムを用い
た。また塗布液としては下記記載のCTL−1塗布液
組成物を用い、乾燥膜厚2.0μmになるように塗布し
た。
【0041】 CTL−1塗布液組成物 CTM−1 5kg ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製) 5.6kg 1,2−ジクロロエタン 28l 固形分については固形分重量比CTM−1:Z−200
=0.89:1に固定した。
【0042】実施例1では図1の装置で連続塗布、乾燥
した後に、図5(a)の把持子を用いて分離を行った。
分離後は図8に示す複数のリンク部材を設けたストッパ
ー機構を有する図7のスライド板741上に置いた後、
更に図示しない第2基材移動手段のロボットハンドによ
り、同じストッパー機構を有する収納台上に置いた。更
にこの円筒状基材を温度90℃、1時間、図示しない乾
燥室中に置き、塗布済の円筒状基材を乾燥させた。そし
て汚れ状態、塗布膜への影響等を観察した。
【0043】その結果を表1に示す。
【0044】
【表1】
【0045】上記表のように、本発明のストッパー機構
を有する受け部を用いる事により、収納台等が汚染され
ず、ホコリ、ゴミ、キズ等の塗膜欠陥を生ぜず、塗布性
の良好な感光体ドラムが得られた。また、分離した円筒
状基材1Aを直ぐに別の場所にあるテーブル盤731に
移動することにより、ゴミ、塗膜片等が下方のドラムに
影響しなかった。しかも長時間、多数本の安定な連続塗
布や完全自動化ができるため、ホコリやゴミ等が混入せ
ず高品質かつ高信頼性である製品が可能となった。
【0046】(実施例2)さらに実施例の試験例(実施
例2という)について説明すると、図2の逐次連続塗布
装置で塗布、分離を行った。図9に示すスライド部材を
設けたストッパー機構を用いた。鏡面加工を施した直径
80mm、高さ355mm、283gのアルミニウムド
ラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物UCL
−1CGL−2及びCTL−1を調整し、スライド
ホッパー型の塗布装置ユニットA(UCL−1用)、
ユニットB(CGL−2用)、ユニットC(CTL
−1用)にて、それぞれ乾燥膜厚1.0μm、2.2μ
m及び23μmになるように3層の逐次重層塗布、分
離、収納(載置)を行った。但し、分離後は図4と図6
に示す如く可動テーブル731上に移行し、その後、図
示しないロボットハンドにより同じストッパー機構を有
する載置台上に置き、本乾燥(温度90℃、1時間)、
エージング工程に移行した。このようにして円筒状基材
の収納状態を観察した。
【0047】 UCL−1塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂(CM−8000 東レ社製) 30g メタノール/n−ブタノール=10/1(Vol比) 10l CGL−2塗布液組成物 ペリレン顔料(CGM−2) 500g ブチラール樹脂(エスレックBX−L 積水化学社製) 500g メチルエチルケトン 24l 上記塗布液組成物(固形分については固形分重量比CG
M−2:BX−L=2:1に固定)をサンサミルを用い
て20時間分散したもの。
【0048】 CTL−1塗布液組成物 CTM−1 5kg ポリカーボネート(Z−200 三菱瓦斯化学社製) 5.6kg 1,2−ジクロロエタン 28l 固形分については固形分重量比CTM−1:Z−200
=0.89:1に固定した。上記のCGM−2、CTM
−1の化学式を下記に示す。
【0049】
【化1】
【0050】
【化2】
【0051】上記の試験結果を表2に示す。
【0052】
【表2】
【0053】表のように、本発明のストッパー機構を用
いる事により、ドラムの載置部材(収納部材)が汚染さ
れず、ホコリ、ゴミ、キズ等の塗膜欠陥を生ぜず、塗布
性の良好な感光体ドラムが得られた。また、移動ロボッ
ト61の上下方向の移動の中心軸は図2のZ−Z軸とず
れがなく、高い信頼性の塗布が可能となった。長時間、
多数本の安定な連続塗布や完全自動化ができるため、ホ
コリ、ゴミ等が混入せず高品質かつ高信頼性ある製品が
可能となった。また、得られた感光体No.2−1をコ
ニカ社製U−BIX 3035複写機で実写したところ
画像欠陥(黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ)等がなく良好
であった。
【0054】
【発明の効果】本発明の円筒状基材の塗布方法、装置に
よれば円筒状基材の下端部等による塗装膜粉、顔料粉等
の飛散するのを防ぎ、塗膜欠陥がなく、黒ポチや白ポチ
等の画像欠陥がなくなる。また、載置部材等にゴミ等が
付着しなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による塗布装置の構成を示す斜視図であ
る。
【図2】塗布装置の他の実施例を示す斜視図である。
【図3】上記塗布手段の斜視図である。
【図4】分離排出手段、第1基材移動手段の説明図であ
る。
【図5】分離排出手段の各種実施例を示す斜視図であ
る。
【図6】第1基材移動手段、基材載置手段及び第2基材
移動手段の斜視図である。
【図7】他の第1基材移動手段、基材スライド載置手段
及び他の第2基材移動手段の斜視図である。
【図8】円筒状基材の受け部のストッパー機構の断面図
である。
【図9】円筒状基材の受け部の他のストッパー機構の断
面図である。
【符号の説明】
1,1A,1B,1C,1D 円筒状基材(ドラム,感
光体ドラム) 10 供給手段 20 搬送手段 30,30A,30B,30C 位置決め手段 40,40A,40B,40C 塗布手段(垂直型の塗
布手段) 41 塗布ヘッド(コーター、ホッパー塗布面) 42 塗布液流出口 50,50A,50B,50C 乾燥手段 60 分離排出手段(分離器) 61 移動ロボット 62 エアーシリンダー 63 上把持子 64 下把持子 65,67 上把持子 66,68 下把持子 720 第1基材移動手段 721 制御回路 730 基材載置手段 731 テーブル盤 740 基材スライド載置手段 741 スライド板 750 第2基材移動手段 760 ストッパー機構 761 受け台本体 762,763 リンク 764 把持子 765 軸 767 ソレノイド 780 ストッパー機構 781 受け台本体 782 カム部材 784 把持子 785 軸 787 ソレノイド

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ねら
    れた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布により塗布液
    を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材を把持しな
    がら下方に隣接する円筒状基材より分離して、分離後に
    円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する円筒状基材の
    塗布装置において、前記円筒状基材を載置するとき、前
    記円筒状基材の下端部が円筒状基材以外の部材に接触す
    ることなく前記円筒状基材の内側面を挟持するストッパ
    ー機構を有することを特徴とする円筒状基材の塗布装
    置。
  2. 【請求項2】 前記円筒状基材がアルミニウム材ドラム
    である事を特徴とする請求項1に記載の円筒状基材の塗
    布装置。
  3. 【請求項3】 前記ストッパー機構が複数のリンク部材
    により前記円筒状基材の内側面を挟持することを特徴と
    する請求項1に記載の円筒状基材の塗布装置。
  4. 【請求項4】 前記ストッパー機構が円筒状基材の筒軸
    と直角方向に変位するスライド部材により前記円筒状基
    材の内側面を挟持する事を特徴とする請求項1に記載の
    円筒状基材の塗布装置。
  5. 【請求項5】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ねら
    れた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布により塗布液
    を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材を把持しな
    がら下方に隣接する円筒状基材より分離して、分離後に
    円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する円筒状基材の
    塗布方法において、前記円筒状基材を載置するとき、ス
    トッパー機構により前記円筒状基材の下端部が円筒状基
    材以外の部材に接触することなく前記円筒状基材の内側
    面を挟持することを特徴とする円筒状基材の塗布方法。
  6. 【請求項6】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ねら
    れた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布により塗布液
    を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材を把持しな
    がら下方に隣接する円筒状基材より分離して、分離後に
    円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する円筒状基材の
    塗布方法において、第1基材移動手段により前記分離後
    の塗布済の円筒状基材を回転テーブルを有する基材載置
    手段に移動し、ストッパー機構により前記円筒状基材の
    下端部が円筒状基材以外の部材に接触しないで前記円筒
    状基材の内側面を挟持して載置し、さらに第2基材移動
    手段により、前記回転テーブルに載置された円筒状基材
    を少なくともそれぞれ前記ストッパー機構を有する前記
    円筒状基材を収容する収容台、乾燥室の乾燥台又は次の
    塗布供給部へ移動することを特徴とする円筒状基材の塗
    布方法。
  7. 【請求項7】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ねら
    れた前記円筒状基材の外周面上に垂直塗布により塗布液
    を連続的に塗布した後、塗布済の円筒状基材を把持しな
    がら下方に隣接する円筒状基材より分離して、分離後に
    円筒状基材受け部に円筒状基材を載置する円筒状基材の
    塗布方法において、第1基材移動手段により前記分離後
    の円筒状基材を垂直上方に移行後、スライド部材を有す
    る基材スライド載置手段により移動し、ストッパー機構
    により前記円筒状基材の下端部が円筒状基材以外の部材
    に接触しないで前記円筒状基材の内側面を挟持して載置
    し、第2基材移動手段により、前記スライド部材に載置
    された円筒状基材を少なくともそれぞれ前記ストッパ機
    構を有する前記円筒状基材を収容する収容台、乾燥室の
    乾燥台又は次の塗布供給部へ移動することを特徴とする
    円筒状基材の塗布方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100449240C (zh) * 1998-12-25 2009-01-07 昭和电工株式会社 稀土类磁铁废屑的熔炼方法和熔炼装置以及稀土类磁铁废屑的一次熔炼合金
CN102527583A (zh) * 2012-01-17 2012-07-04 无锡市弼程机电设备有限公司 汽车灯具涂胶装置
CN111359846A (zh) * 2020-03-30 2020-07-03 安徽玄同机电科技有限公司 一种对led灯罩外表面进行涂装的自动化设备

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