JP3661256B2 - 連続塗布装置及び連続塗布方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を均一に連続的に塗布する連続塗布装置及び連続塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れた塗布手段を開発すべく検討されている。しかしながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材への塗布手段及び塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】
スプレー塗布法では、スプレーガンより噴出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、該連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロスがあったり、部分的にも不均一であるため、膜厚コントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため、使用する溶媒及び樹脂に制限がある。
【０００４】
ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回転させたのち、ブレード若しくはロールを後退させるものである。しかしながらブレード若しくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点がある。
【０００５】
浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】
しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】
そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に記載の如く円形量規制型塗布手段（この中にはスライドホッパー型塗布手段が含まれる）が開発された。このスライドホッパー型塗布手段はエンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更にこの塗布手段は環状の塗布液溜まり室と、この塗布液溜まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットとを有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下させ、塗布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗布手段を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記スライドホッパー型塗布手段を用いても、なお、塗布液によっては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）や膜厚の変動等の塗布欠陥があり、満足のいくものではない。
【０００９】
上記の塗布欠陥を発生させる要因に、▲１▼円筒状基材に直接接触する供給手段や把持搬送手段や分離排出手段等の駆動系からの振動伝達による塗布ムラ、塗布段ムラ発生、▲２▼円筒状基材に均一に塗布液を塗布する塗布手段の振動による膜厚変動等がある。
【００１０】
非画像部に塗布するときにのみ駆動系からの振動が伝達されても良いように、円筒状基材に直接接触する供給手段や把持搬送手段や分離排出手段等の作動が非画像部通過に同期して起きるようにする方法があるが、これでは不十分で、画像部に必ず振動が伝播してしまう。このため、円筒状基材の水平方向と垂直方向の振動幅を同時に所定値以内に抑えるのが重要である。特に、コーター部に最近接する円筒状基材の水平方向の最大振幅、垂直方向の最大振幅を所定値以内に抑えるのが重要である。この最大振幅値の範囲を越えると、塗布ムラ、膜厚変動が発生し、ひどい場合は未塗布部分ができたり、あるいはコーター部、エアーベアリング部と円筒状基材とが接触する。
【００１１】
本発明はこのような問題点を解消して、連続塗布された円筒状基材に塗布欠陥がなく、画像ムラ、画像欠陥のない良好な画像を得る塗布手段及び塗布方法を提供することを課題目的とするものである。
【００１２】
即ち、本発明の目的は、（１）画像ムラがなく良好な画像が得られる、（２）長時間安定した塗布ができる、円筒状基材の連続塗布手段及び塗布方法を提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、円筒状基材を供給し上方に押し上げる供給手段と、供給された前記円筒状基材の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら搬送する搬送手段と、前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段と、乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材から分離させて１個ずつ取り出し排出させる分離排出手段を有する連続塗布装置において、前記供給手段、搬送手段、分離排出手段を駆動させる駆動系を、ゴムまたは空気ばねを有する防振台上に設けるとともに、前記塗布手段に最近接する前記円筒状基材の水平方向の最大振幅が３８μｍ以下であり、且つ垂直方向の最大振幅が３５μｍ以下であることを特徴とする連続塗布装置及び方法によって達成される（請求項１、２）。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の第一の実施の形態を説明する。図１は本発明による連続塗布装置の全体構成を示す斜視図である。図において、１０は円筒状基材１を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し上げる供給手段、２０は供給された円筒状基材１の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押し上げて搬送する搬送手段、３０は前記円筒状基材１を連続塗布装置の環状塗布部の中心に位置合わせする位置決め手段、４０は前記円筒状基材１の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、５０は円筒状基材１上に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手段、６０は乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材から分離させて１個ずつ取り出し排出させる分離排出手段である。
【００１５】
本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を連続して垂直中心線Ｚ−Ｚ上に配置した垂直塗布構成であり、人手を要しない完全自動化生産が高精度で達成される。垂直塗布手段とは、▲１▼スライドホッパー型コータ、▲２▼押し出し型コータ、▲３▼リングコータ、▲４▼スプレーコータ等で、円筒状基材を積み重ねて上方又は下方に相対的に移動する事により塗布するもので、方式は問わないが▲１▼が塗布性信頼性等の点で優れている。
【００１６】
即ち、前記供給手段１０は前記円筒状基材１を載置するための複数の載置案内部材１１を備えた回転テーブル１２、該回転テーブル１２を回転させて前記搬送手段２０へつながる垂直ラインへ送り込む駆動手段１３、前記搬送手段２０により既に上方に把持搬送されている円筒状基材１を積み重なるように上方に押し上げる昇降部材１４、該昇降部材１４の上端に設けられた円筒状基材供給用の押し上げ部材１５及び前記駆動手段１３による回転や昇降部材１４による押し上げのタイミングを制御する図示しない制御手段等から構成されている。なお、前記回転テーブル１２上への円筒状基材１の供給は、ロボットハンドルにより行われる。
【００１７】
前記供給手段１０の上方に設けられた搬送手段２０は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且つ垂直上下方向に移動可能な２組の把持手段２１，２２を有し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送する機能を有する。３０はエアベアリング式位置決め手段、４０はスライドホッパー型コーター等の垂直型環状の塗布手段、５０は乾燥調整器５１，リング式吸引乾燥器５３，リング式加熱乾燥器５２から成る乾燥手段、６０は塗布乾燥されて垂直上方に搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材１の最上部から、内径部を把持して分離させて１個ずつ取り出して装置本体外に排出させる分離排出手段である。以下、上記各装置１０，２０，３０，４０，５０，６０の詳細は後述する。
【００１８】
図２は本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置を示す正面図である。前記エアベアリング式位置決め手段３０、環状の塗布手段４０、リング状の乾燥手段５０は連続塗布装置本体７０の所定位置に固定され、通過する円筒状基材１の外周面に近接し非接触である。供給手段１０、搬送手段２０、分離排出手段６０は何れも各駆動源に接続し、円筒状基材１の外周面または内周面に接触して移動可能である。
【００１９】
以下、連続塗布装置を構成する供給手段１０、搬送手段２０、位置決め手段３０、塗布手段４０、乾燥手段５０、分離排出手段６０の詳細を説明する。
【００２０】
図３は前記供給手段１０の斜視図である。塗布処理工程前の複数個の円筒状基材１は予め供給台１６１に収容されている。自動運搬装置１６２の移動可能な運搬部材１６３は、供給台１６１上の円筒状基材１から１個の円筒状基材１を把持して移動し、前記回転テーブル１２上の載置案内部材１１内に載置する。該載置案内部材１１は、円筒状基材１が遊嵌して収容可能な円形溝１１Ａを有し、回転テーブル１２の回転円周方向に複数個（図示の６箇所）設けられている。該回転テーブル１２は駆動手段１３のモータＭ１、ギア列１３１，１３２により間欠回転駆動される。１個の円筒状基材１が前記垂直中心線Ｚ−Ｚの下方に運搬されて停止すると、モータＭ２の始動によりピニオンギア１４１及びラックギア１４２を介して昇降部材１４を上昇させる。該昇降部材１４の上部には緩衝手段であるコイルバネ１４３を介して押し上げ部材１５が設けられていて、該押し上げ部材１５の上昇により載置案内部材１１の底部が押し上げられる。
【００２１】
図４は供給手段１０による円筒状基材１の上昇過程を示す断面図である。図４（ａ）は、円筒状基材１の上昇開始状態を示す。モータＭ２の駆動回転により、前記押し上げ部材１５が上昇して、載置案内部材１１の底部が矢印方向に押し上げられ、円筒状基材１がＺ−Ｚ方向に上昇される。図４（ｂ）は、載置案内部材１１の上昇終了状態を示す。前記昇降部材１４の上昇開始時の速度は、塗布速度の１．５〜５倍の速度で上昇し、該円筒状基材１の先端部が先行して上昇中の円筒状基材１の後端部に、後続する突き当たる直前に、前記塗布速度の１．０〜１．５倍に減速されるように前記モータＭ２により制御される。また、先に上昇している円筒状基材１の後端部に後続する円筒状基材１の先端部が突き当たるとき、前記昇降部材１４が若干上昇動作を続けても、コイルバネ１４３に吸収され、図１に示すように塗布速度で上昇する複数個の円筒状基材１に対して衝撃を与えることがなく、塗布ムラが発生することはない。この載置案内部材１１の上死点近傍において、円筒状基材１の上端の非画像部が後述の搬送手段２０の把持手段２２により把持される。円筒状基材１が把持手段２２により把持されたのち、昇降部材１４は下降し、図４（ｃ）に示す下死点で待機する。
【００２２】
図５は搬送手段２０の把持手段２１，２２の斜視図である。先ず上部位置に設けた把持手段２１の搬送ハンド２１１の把持部２１４と、搬送ハンド２１２の把持部２１５は軸２１３により回転自在に支持され、先に押し上げられて上方に搬送された円筒状基材１と、同様に先に押し上げられた円筒状基材１間を、前記把持部２１４と把持部２１５とで段差調整して把持しながら塗布速度と同速度で矢示方向に上昇させる。更に下部位置に設けた把持手段２２の搬送ハンド２２１の把持部２２４と、搬送ハンド２２２の把持部２２５も軸２２３により回転自在に支持され、円筒状基材１間と、新たに押し上げられた円筒状基材１間を前記把持部２２４と、把持部２２５とで段差調整して把持するようにする。そして把持完了後、前記把持手段２１と同速度となる塗布速度と同速度で矢示方向に上昇させる。２１６，２２６は前記把持部先端に取り付けられ、滑り止めと円筒状基材１周面を保護するための押圧緩衝部材である。
【００２３】
次に、図２で把持手段２１，２２を有する搬送手段２０について説明する。搬送手段２０は、把持手段２１，２２に各々設けられ、搬送手段２０に対して垂直方向に回転可能に設けられたボールネジ２４に嵌合した上下移動部材２３を設けた。該上下移動部材２３は前記把持手段２１，２２に連結する。前記ボールネジ２４をモータＭ３，Ｍ４と減速ギア列とから成る回転駆動装置を用いて一定速度で回転することにより、上下移動部材２３は一定速度、即ち複数の円筒状基材１に塗布液を塗布する塗布速度で把持手段２１，２２が上昇移動するように構成されている。
【００２４】
図６は位置決め手段３０と塗布手段４０とを示す断面図、図７は塗布手段４０の斜視図である。
【００２５】
図６に示されるように垂直中心線Ｚ−Ｚに沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１Ｂ（以下、円筒状基材１と称す）を連続的に矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布手段４０の塗布に直接係わる部分（ホッパー塗布面）４１により塗布液（感光液）Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。前記ホッパー塗布面４１には、円筒状基材１側に開口する塗布液流出口４２を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリットと略称する）４３が水平方向に形成されている。このスリット４３は環状の塗布液分配室（塗布液溜り室）４４に連通し、この環状の塗布液分配室４４には、貯留タンク２内の塗布液Ｌを圧送ポンプ３により供給管４を介して、供給口４８から導入して供給するようになっている。他方、スリット４３の塗布液流出口４２の下側には、連続して下方に傾斜し、円筒状基材１の外径寸法よりやや大なる寸法で終端をなすように形成された塗布液スライド面（以下、スライド面と称す）４５が形成されている。更に、このスライド面４５終端より下方に延びる唇状部４６が形成されている。かかる塗布手段（スライドホッパー型塗布手段）４０による塗布においては、円筒状基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリット４３から押し出し、スライド面４５に沿って流下させると、スライド面４５の終端に至った塗布液は、そのスライド面４５の終端と円筒状基材１の外周面との間にビードを形成した後、円筒状基材１の表面に塗布される。スライド面４５の終端と円筒状基材１は、ある間隙を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
【００２６】
一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部より最も遠い位置で、前記塗布液分配室４４の一部には、塗布液分配室４４内の泡抜き用の空気抜き手段４７が設けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配室４４に供給されて塗布液分配スリット４３から塗布液流出口４２に供給されるとき、開閉弁を開いて空気抜き手段４７より塗布液分配室４４内の空気を排出する。
【００２７】
前記塗布手段４０の下部には、円筒状基材１の円周方向を位置決めする位置決め手段３０が固定されている。前記円筒状基材１の位置決め手段３０の本体３１には、複数の給気口３２と、複数の排気口３３が穿設されている。該複数の給気口３２は、図示しない給気ポンプに接続され、空気等の流体が圧送される。該給気口３２の一端部で円筒状基材１の外周面に対向する側には、吐出口３４が貫通している。該吐出口３４は前記円筒状基材１の外周面と所定の間隙を保って対向している。該間隙は、３０μｍ〜２ｍｍである。前記吐出口３４は直径０．０５〜０．５ｍｍの小口径のノズルである。
【００２８】
前記給気ポンプから圧送された流体は、複数の給気口３２から本体３１の内部に導入されて、複数の吐出口３４から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流体は複数の排気口３３から装置外に排出される。
【００２９】
なお、位置決め手段３０に接続される垂直型塗布手段４０としては、スライドホッパー型、押し出し型、リングコーター等の各種装置が用いられる。
【００３０】
前記塗布手段４０の上方には、乾燥フード５１と乾燥器５３とから成る乾燥手段５０が設けられている。
【００３１】
図８は前記塗布手段４０と該塗布手段４０の上部に設けた乾燥フード５１の断面図である。該乾燥フード５１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の開口５１Ａが穿設されている。前記円筒状基材１を矢示方向に上昇させ、前記塗布手段４０のホッパー塗布面（塗布ヘッド）４１で塗布液Ｌを塗布し、感光層５を形成する。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾燥フード５１内を通過しながら徐々に乾燥される。この乾燥は前記多数の開口５１Ａより塗布液Ｌに含まれている溶媒を壁面外に放出することにより行われる。前記のように、塗布手段４０により円筒状基材１上に塗布液Ｌを塗布することにより、形成された感光層５は、塗布直後において乾燥フード５１により包囲されており、開口５１Ａからのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における感光層５の乾燥速度は、前記開口５１Ａの開口面積にほぼ比例する。
【００３２】
図９に本発明の乾燥器５３の断面図を示す。乾燥器５３は、吸引スリット５３１と吸引チャンバー５３２と吸引ノズル５３３とを有する吸引スリット部材５３４、下部の筒状部材５３５、上部の筒状部材５３６がそれぞれ同心に結合されている。そして、複数設けられた吸引ノズル５３３から吸引を行ない、周方向均一な吸引チャンバー５３２、周方向均一な吸引スリット５３１により周方向の均一化がなされた吸引エアーが流れ、更に、吸引スリット部材５３４、その上下の筒状部材５３６，５３５の各内径面と塗布済みの円筒状基材１の外周面との間の空気流の乱れをバッファー空間５３７で極く僅かにおさえて、５３８に示す乾燥の為の均一吸引エアーの空気流を作り出している。この乾燥ゾーンに矢印で示すＺ方向に塗布済の円筒状基材１を搬送することにより、塗布膜の乾燥を行うものである。
【００３３】
以上のようにして塗布及び塗布膜乾燥が行われた円筒状基材（基体ドラム）１を分離する工程を、図１０の分離過程の各プロセスの状態図を用いて説明する。分離排出手段６０は、垂直移動ロボットステージ６１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、下チャック（下把持子）６４、エアーシリンダー６５により構成されている。
【００３４】
塗布済の円筒状基材１は下方より上方へ向けて積み上げられ、上方向へ移動し図１０（ａ）に示すように分離位置に達する。この時垂直ロボットが起動し被分離円筒状基材１と同軸、等速度で同架された分離装置全体を移動する。まず、図１０（ｂ）に示す位置で下把持子６４が被分離円筒状基材１Ａに隣接する円筒状基材１Ｂを保持する。次いで図１０（ｃ）に示す位置で上把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持する。エアーシリンダー６５に接続する軸体６２により上把持子６３は被分離円筒状基材１Ａを保持したまま上方向へ移動して図１０（ｄ）に示す位置になる。この時、被分離円筒状基材１Ａと隣接する円筒状基材１Ｂにまたがる塗布膜が切り裂かれ図１０（ｄ）に示すように円筒状基材１Ａ、１Ｂの分離が行われる。分離済みの円筒状基材１Ａを排出するために図１０（ｅ）に示すように下把持子６４は解放状態となり、次いで図１０（ｆ）に示すように上把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持した状態で垂直移動ロボットステージ６１が急上昇を行い、隣接する円筒状基材１Ｂの位置よりはるか上方に配置された分離装置に分離済の円筒状基材１Ａを置き、上把持子６３が解放となり工程を終了する。そして次なる円筒状基材１Ｂの分離の為、垂直移動ロボットステージ６１が下降しまた軸体６２が下降し、初期状態の位置の図１０（ａ）に戻る。
【００３５】
次に、連続塗布装置における振動防止について説明する。
【００３６】
円筒状基材１の非画像部に塗布するときにのみ駆動系からの振動が伝達されても良いように、円筒状基材１に直接接触する供給手段１０や把持搬送手段２０や分離排出手段６０等の作動が非画像部通過に同期して起きるようにする方法があるが、これでは不十分で、画像部に必ず振動が伝播してしまう。このため、円筒状基材１の水平方向と垂直方向の振動幅を同時に下記の所定値以内に抑えるのが重要である。即ち、塗布手段４０のコーター部に最近接する円筒状基材１の水平方向の最大振幅を３８μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下に、垂直方向の最大振幅を３５μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下にすることが重要である。この最大振幅値の範囲（３８μｍあるいは３５μｍ）を越えると、塗布ムラ、膜厚変動が発生し、ひどい場合は未塗布部分ができたり、あるいはコーター部、エアーベアリング部と円筒状基材とが接触する。振動の最大振幅を抑える方法しては，各発生源からの影響を公知の防振方法、材料あるは能動除振方法あるいは上記組み合わせ等により抑えたり、振動の少ない動力源を用いたり、あるいは動力源、供給源、把持部等を精度の良い部品、加工法に替えたり、緩衝機構を用いたりしたものにより得られる。例えば水平方向は把持部の緩衝機構の精度向上、垂直方向は供給駆動系のボールネジの精度を上げたり、性能の良いサーボモーターを用いる。
【００３７】
Ｘ−Ｙ方向の振幅測定については、例えば、レーザー変位計や渦電流式変位センサー等により非接触に検出することができる。また、Ｚ方向の振幅測定については、例えば、加速度計を用いて振幅を読み取ることにより得られる。
【００３８】
再び、図２において、前記回転テーブル１２、ギア列１３１，１３２、モータＭ１から成る駆動手段１３は、装置本体７０の底部に設けた防振台８１上に設置されている。また、前記押し上げ部材１５を昇降させる昇降部材１４も、装置本体７０の底部に設けた防振台８２上に設置されている。なお、上記駆動手段１３と昇降部材１４とを一つの防振台上に設置してもよい。また、装置本体７０の中間部には、前記把持手段２１，２２、上下移動部材２３、ボールネジ２４から成る搬送手段２０が、防振台８３上に設置されている。さらに、装置本体７０の上部には、垂直移動ロボットステージ６１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、下チャック（下把持子）６４、エアーシリンダー６５により構成されている分離排出手段６０が、防振台８４上に設置されている。このように、少なくとも前記円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０、搬送手段２０、分離排出手段６０の各駆動系を防振台上に設置することにより、駆動系から発生する振動を極めて小さくできる。また、円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０と搬送手段２０とを同一の防振台に設置して、また円筒状基材１に直接に接触する分離排出手段６０を別の防振台上に設置する事により振動を効率良く抑えることが出来た。さらに、少なくとも前記円筒状基材１に直接に接触しないが連続塗布装置本体に固定された位置決め手段３０、塗布手段４０、乾燥手段５０を防振台上に設置することにより、装置本体から伝達される振動を遮断するようにしてもよい。
【００３９】
前記防振台８１，８２，８３，８４を支える防振材料としては金属バネ、コイルバネ、防振ゴム、空気バネ等があり、防振系の固有振動によっても異なるが防振ゴム、空気バネ等が良い。上記防振材料に関しては、「振動工学ハンドブック（養賢堂発行）」、「精密防振ハンドブック」、等に記載されている。
【００４０】
従来は、非画像部に振動が起きても良いように、各装置１０〜６０の作動が非画像部に同期して起きる方法であったが、これでは不十分であると判明した。これら元の振動の振幅は累積され、大きい時には１００μｍにも達し、段ムラ塗布等の故障となり、ひどい時には塗布手段４０のコーター部や位置決め手段３０の内面と接触する等の問題が発生した。従って、各振動発生源からの影響を小さくする必要がある。特に、後述する３層逐次連続塗布の場合、１層塗布の時と比して振動源は約３倍増え、従って塗布に与える振動はより深刻となる。
【００４１】
本発明の防振台設置により、（１）駆動系の振動による塗布ムラ、段ムラが発生しない、（２）長時間安定した塗布性能が得られる、（３）画像ムラがなく良好な画像が得られる等の優れた効果が得られた。
【００４２】
前記防振台８１〜８４に代えて、能動除振台を、円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０、搬送手段２０、分離排出手段６０の各駆動系に設置することにより、駆動系をから発生する振動を極めて小さくできる。
【００４３】
前記能動除振台の一例として、次の能動制御除振機構は、▲１▼圧力容器を具備した空気バネで制振台を支持する、▲２▼制振台本体にレベルセンサと振動センサとを設置する、▲３▼レベルセンサにより検出したレベル変位信号と、振動センサにより検出した床面や機器等の振動源から受けた制振台本体の振動検出信号を１８０°反転させた反転信号とをレベル変動分加算器に入力して加減算を行う、▲４▼レベル変動分加算器からの加減変動信号に合わせ、駆動回路から駆動信号を出力して制御弁の開閉度合を制御する、▲５▼この制御弁により空気バネの圧力容器内の空気圧を調節することにより精密なレベルコントロールと制振動を行うことができる（特開平１−２１０６３４号公報、能動制御精密制振台）。
【００４４】
この他、次の方法で行っても良い。
【００４５】
１．連続塗布装置が設置された除振台。
【００４６】
２．除振台を弾性的に支持する弾性支持手段。
【００４７】
３．除振台上に設けたセンサ。このセンサはレベルセンサと振動センサとを兼ねても良いし、別々に設けても良い。
【００４８】
４．除振台を駆動するアクチュエータ。
【００４９】
５．センサから出力を補償してアクチュエータにフィードバックする位置制御補償及び／又は振動補償手段より構成した。なお、弾性支持手段例えば空気バネをアクチュエータとしても良い。
【００５０】
また、円筒状基材１と直接に接触する搬送手段２０と供給手段１０が同一の能動除振台にあり、また、円筒状基材１に直接接触する分離排出手段６０を別の能動除振台上に設置する事により振動を効率良く抑えることが出来る。
【００５１】
図１１は本発明による第二の実施の形態である逐次連続塗布装置を示す斜視図、図１２は正面図である。この実施例では、前記搬送手段２０の上方の垂直中心線Ｚ−Ｚ上には、位置決め手段３０Ａ、塗布手段４０Ａ、乾燥手段５０Ａとから成るユニットＡ、位置決め手段３０Ｂ、塗布手段４０Ｂ、乾燥手段５０Ｂとから成るユニットＢ、位置決め手段３０Ｃ、塗布手段４０Ｃ、乾燥手段５０Ｃとから成るユニットＣ、を複数組垂直縦列配置したものである。最上段には前記分離排出手段６０が配置されている。各塗布手段４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃからそれぞれ吐出された塗布液は、円筒状基材１上に多層の塗布層を逐次形成し、各乾燥手段５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃにより乾燥される。乾燥済みの最上段の円筒状基材１Ａは、分離排出手段６０により把持されて下方の円筒状基材１Ｂから分離されて、機外のパレット上に載置される。
【００５２】
３層逐次連続塗布の場合の如く、塗布手段４０が３つ有る時、各々の塗布手段４０のコーター部に最近接する円筒状基材１の水平方向の最大振幅を３８μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下に、垂直方向の最大振幅を３５μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下にすることが重要である。
【００５３】
このため、逐次連続塗布装置においても、図２に示す防振台８１，８２，８３，８３、または能動除振台をそれぞれ供給手段１０、昇降部材１４、搬送手段２０、分離排出手段６０に設置することにより、塗布手段４０のコーター部に最近接する円筒状基材１の水平方向の最大振幅を３８μｍ以下、及び、垂直方向の最大振幅を３５μｍ以下にする。
【００５４】
なお、上記防振台８１，８２，８３，８３、または能動除振台の設置は、図２の実施例に限定されず、円筒状基材１に直接接触する回転テーブル１２の駆動系と昇降部材１４の駆動系とを一つの防振台または能動除振台上に設置しても良い。又は、昇降部材１４の駆動系と供給手段１０の駆動系とを一つの防振台または能動除振台上に設置しても良い。
【００５５】
【実施例】
従来、垂直積み重ね方式による塗布はその塗布の形態から位置決め手段、塗布手段（コーター）及び乾燥手段等に接触しないよう、また塗布ムラ（長手方向、円周方向）が発生しないよう、例えば特開平２−１１５０７３号公報の如くの緩衝装置の導入や、特願平７−１６２０２１号明細書の如くの非画像部に振動が発生する操作を集中させたりして、振動の発生や振動の影響を低減させることが行われてきた。しかしながらこのように注意深く行っても、なおかつ塗布故障が発生し、不良ドラムが多発した。そこで振動を低減することが試みられ、ある条件（Ｘ−Ｙ軸方向の振幅を３８μｍ以下、かつ、Ｚ軸方向の振幅を３５μｍ以下に抑えたとき）の場合に不良塗布ドラムが激減した。本発明者等はこの現象を詳細に解析した結果、塗布中に塗布ドラムと塗布ドラム間にずれが発生する事が原因であると解った。この理由については従来垂直積み重ね塗布方式に於いては、塗布不良はＸ−Ｙ軸方向あるいはＺ軸方向のフレによりドラムとコーター間のギャップが変化することによると思われていたが、実際にはＸ−Ｙ軸方向とＺ軸方向との振動が同期し、積み重ねられた塗布ドラムが一瞬上方向に浮き上がった時、Ｘ−Ｙ軸振動によりＸ−Ｙ軸方向に容易にずれてしまい、積み重ね面でのずれが容易に発生するということが判明した。これによりビード形成不良、液膜の下方への流れの不順等が発生し端面薄膜や端面膜の膜厚異常が発生する。
【００５６】
Ｘ−Ｙ軸方向の振幅を３８μｍ以下、かつ、Ｚ軸方向の振幅を３５μｍ以下、好ましくは両者を３０μｍ以下に抑えるのが良く、更には２０μｍ以内が好ましい。これによりドラムのずれは発生せず、ビードの形成は良好であり、塗布ドラム端面薄膜や塗布ドラム端面膜厚異常も発生せず、塗布ドラムの円周方向や長手方向の塗布ムラもなく、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。
【００５７】
以下実施例に沿って説明する。
【００５８】
（実施例１）
円筒状基材１の導電性支持体としては鏡面加工を施した直径４０ｍｍ、高さ２７１ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。また、塗布液としては下記記載の▲１▼ＣＧＬ−２塗布液組成物を用い、乾燥膜厚２．０μｍになるように塗布した。
【００５９】
▲１▼ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン顔料（ＣＧＭ−２） ５００ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ５００ｇ
メチルエチルケトン ２４ｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝１：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００６０】
【化１】

【００６１】
本実施例１では、図２に示すように、垂直方向の振動を抑えるために昇降部材１４及び上下移動部材２３の駆動系のボールネジ２４の精度を向上させ、精度の良いサーボモータ及び精密なリニアガイドを用い、水平方向の振動を抑えるため、把持手段２１，２２に精密な速度減速機能をもたせた緩衝機構を取り入れ、塗布を行った。また得られた塗布ドラムを目視観察すると共に水平、垂直方向の円筒状基材１の最大振幅を塗布装置のコーター部との最近接位置の円筒状基材１で測定した。比較例としては上記の精度を上げたものを用いず通常品を用いた。なお、円筒状基材１を３０本積み重ねた。表１に結果を示す。
【００６２】
【表１】

【００６３】
本発明の如く水平方向と垂直方向を同時に最大振幅４０μｍ以下に制御した連続塗布装置を用いると、膜厚ムラに起因する色ムラがなく、擦りキズや塗布欠陥のない塗布性の良好な塗布ドラムＮｏ．１−１が得られた。
【００６４】
（実施例２）
実施例１の塗布装置の代わりに図１２の逐次連続塗布装置で塗布を行い、供給手段１０や搬送手段２０に実施例１と同じ精度、機構を設けたのを使用し、塗布を行った。即ち、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲１▼ＵＣＬ−１、▲２▼ＣＧＬ−２及び▲３▼ＣＴＬ−１を調製し、スライドホッパー型塗布手段４０Ａ（▲１▼ＵＣＬ−１用）、４０Ｂ（▲２▼ＣＧＬ−２用）、４０Ｃ（▲３▼ＣＴＬ−１用）にて、それぞれ乾燥膜厚１．０μｍ、２．２μｍ及び２３μｍになるように３層の逐次重層塗布を行い、感光体（塗布ドラム）を作成し目視観察した。なお、円筒状基材１は２３本積み重ね、最上部の塗布手段４０Ｃのコーター部と最近接位置の円筒状基材１の最大振幅を測定した。比較例としては上記の精度を上げたものを用いず通常品を用いた。得られた結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】

【００６６】
▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） ３０ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） １０ｌ
▲２▼ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン顔料（ＣＧＭ−２） ５００ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ５００ｇ
メチルエチルケトン ２４ｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００６７】
▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１ ５ｋｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５．６ｋｇ
１，２−ジクロロエタン ２８ｌ
固形分については、固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定
【００６８】
【化２】

【００６９】
本発明の如く、水平方向の最大振幅を３８μｍ以下、垂直方向の最大振幅を３５μｍ以下に同時に制御した連続塗布装置を用いると、膜厚ムラに起因する色ムラがなく、擦りキズや塗布欠陥のない塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。得られた塗布ドラム（感光体）Ｎｏ．２−１をコニカ社製Ｕ−ＢＩＸ ３０３５複写機で実写したところ、画像ムラやカブリムラ等の塗布ムラに起因する画像不良はなく、画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ等）もなく良好であった。
【００７０】
【発明の効果】
本発明による連続塗布装置の駆動系による振動を、水平方向の最大振幅を３８μｍ以下、及び、垂直方向の最大振幅を３５μｍ以下に抑えることにより、（１）画像ムラがなく良好な画像が得られる、（２）長時間安定した塗布が達成される等の優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置の全体構成を示す斜視図。
【図２】上記連続塗布装置の正面図。
【図３】供給手段の斜視図。
【図４】供給手段による円筒状基材の上昇過程を示す断面図。
【図５】搬送手段における把持手段の斜視図。
【図６】位置決め手段と塗布手段とを示す断面図。
【図７】塗布手段の斜視図。
【図８】塗布手段と塗布手段の上部に設けた乾燥フードの断面図。
【図９】乾燥器の断面図。
【図１０】分離排出手段による分離過程を説明する状態図。
【図１１】本発明による第二の実施の形態の逐次連続塗布装置の全体構成を示す斜視図。
【図１２】上記逐次連続塗布装置の正面図。
【符号の説明】
１ 円筒状基材（塗布ドラム）
１０ 供給手段
１２ 回転テーブル
１３ 駆動手段
１４ 昇降部材
１５ 押し上げ部材
２０ 搬送手段
２１，２２ 把持手段
２３ 上下移動部材
２４ ボールネジ
３０ 位置決め手段
４０ 塗布手段（コーター）
５０ 乾燥手段
６０ 分離排出手段
７０ 装置本体
８１〜８４ 防振台または能動除振台
Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４ モータ

Claims (5)

1. 円筒状基材を供給し上方に押し上げる供給手段と、供給された前記円筒状基材の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら搬送する搬送手段と、前記円筒状基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段と、乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材から分離させて１個ずつ取り出し排出させる分離排出手段を有する連続塗布装置において、
   前記供給手段、搬送手段、分離排出手段を駆動させる駆動系を、ゴムまたは空気ばねを有する防振台上に設けるとともに、
   前記塗布手段に最近接する前記円筒状基材の水平方向の最大振幅が３８μｍ以下であり、且つ垂直方向の最大振幅が３５μｍ以下であることを特徴とする連続塗布装置。
2. 前記塗布手段が、垂直型塗布装置であることを特徴とする請求項１に記載の連続塗布装置。
3. 前記垂直型塗布装置が、スライドホッパー型塗布装置であることを特徴とする請求項２に記載の連続塗布装置。
4. 複数の塗布手段を有する塗布装置により前記円筒状基材外周面上に複数の塗布層を逐次形成させることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の連続塗布装置。
5. 供給手段により円筒状基材を供給し上方に押し上げ、
   搬送手段により前記円筒状基体の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら搬送し、
   塗布手段により前記円筒状基材外周面上に塗布液を連続的に塗布し、
   乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材を分離排出手段により分離させ１個ずつ取り出して排出する工程を有する連続塗布方法において、
   前記供給手段、搬送手段、分離排出手段を駆動させる駆動系を、ゴムまたは空気ばねを有する防振台上に設けるとともに、
   前記塗布手段に最近接する前記円筒状基材の水平方向の最大振幅が３８μｍ以下であり、かつ、垂直方向の最大振幅３５μｍ以下であることを特徴とする連続塗布方法。

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