TWI748386B

TWI748386B - 塗佈裝置及塗佈方法

Info

Publication number: TWI748386B
Application number: TW109109945A
Authority: TW
Inventors: 安陪裕滋
Original assignee: 日商斯庫林集團股份有限公司
Priority date: 2019-04-18
Filing date: 2020-03-25
Publication date: 2021-12-01
Also published as: KR20200123017A; TW202109713A; JP6916833B2; CN111822234B; CN111822234A; JP2020175328A; KR102326115B1

Abstract

本發明之課題，在於以優異之品質將塗佈液塗佈於基板上。本發明之塗佈裝置具備有：處理台，其使基板懸浮；基板搬送部，其將懸浮於處理台上之基板朝搬送方向進行搬送；及噴嘴，其將處理液供給至藉由基板搬送部所搬送之基板之上表面；處理台具有：供給懸浮區域，其位於噴嘴之下方而使基板懸浮；上游側懸浮區域，其使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之上游側；及下游側懸浮區域，其使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之下游側；且搬送方向上之上游側懸浮區域之長度較下游側懸浮區域之長度為長。

Description

塗佈裝置及塗佈方法

本發明係關於塗佈技術者，該塗佈技術將處理液自噴嘴供給至液晶顯示裝置與有機EL(電致發光)顯示裝置等之FPD(平面顯示器)用玻璃基板、半導體晶圓、光罩用玻璃基板、彩色濾光片用基板、記錄磁碟用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等之精密電子裝置用基板、半導體封裝用基板(以下簡稱為「基板」)而進行塗佈。

於半導體裝置或液晶顯示裝置等之電子零件等的製程中，作為將處理液供給至基板之上表面的基板處理裝置之一例，可採用塗佈裝置。例如，日本專利第5437134號所記載之塗佈裝置，其在使基板自工件台懸浮之狀態下，一邊沿工件台之長邊方向搬送該基板一邊相對於該基板之上表面自噴嘴之吐出口供給處理液而將處理液塗佈於大致整個基板上。

於日本專利第5437134號所記載之裝置中，設置有為了一邊精密地控制基板之懸浮量一邊將處理液自噴嘴供給至基板之精密懸浮台(相當於本發明之「處理台」)。該精密懸浮台具有：塗佈台(相當於本發明之「供給懸浮區域」)，其在噴嘴之下方使基板懸浮；異物檢測台(相當於本發明之「上游側懸浮區域」)，其使基板在基板之搬送方向上懸浮於塗佈台之上游側；及防振台(相當於本發明之「下游側懸浮區域」)，其使基板在基板之搬送方向上懸浮於塗佈台之下游側。而且，異物檢測台發揮對存在於基板之上表面的異物進行檢測而避免該異物與噴嘴之碰撞的功能。另一方面，防振台發揮藉由抑制基板之振動而防止對塗佈台上之處理液的塗佈產生不利影響之情形的功能。

然而，於日本專利第5437134號中雖未詳細地記載，但異物檢測台與防振台具有相同之構成，且在基板之搬送方向上的長度也被設定為相同。又，塗佈處理接取自前處理裝置所搬出之基板，而進行塗佈處理(參照於後所說明之圖1)。於前處理裝置中，存在有執行將藉由藥液或純水等之處理液所進行之洗淨基板及藉由氣刀等所進行之洗淨後之基板乾燥加以組合之前步驟的情形。又，也存在有作為前步驟而依照為了去除水分之基板加熱及基板冷卻之順序來執行之情形。因此，自前處理裝置被傳送至塗佈裝置之基板的溫度，存在有會相較於進行塗佈處理之適當的溫度較高或較低之情形。即使於如此之情形時，於基板在塗佈裝置之內部沿著搬送方向進行搬送之期間，基板之溫度仍會接近於塗佈裝置內之溫度即進行塗佈處理之適當的溫度。然而，於異物檢測台與防振台在搬送方向上具有相同長度之習知裝置中，並不一定會被分配到基板之熱均勻化所需要之充分的搬送距離及搬送時間，而存在有在基板的面內會發生溫度不均的情形。其結果，會成為塗佈不勻發生的主要原因之一，而存在有使塗佈品質降低之情形。

本發明係鑑於上述課題所完成者，其目的在於提供可以優異之品質將塗佈液塗佈於基板上之塗佈裝置及塗佈方法。

本發明一態樣之塗佈裝置，係將處理液供給至自前處理裝置所接取到之基板之上表面而進行塗佈者；其特徵在於具備有：處理台，其使基板懸浮；基板搬送部，其將懸浮於處理台上之基板朝搬送方向進行搬送；及噴嘴，其將處理液供給至藉由基板搬送部所搬送之基板之上表面；處理台具有：供給懸浮區域，其位於噴嘴之下方而使基板懸浮；上游側懸浮區域，其使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之上游側；及下游側懸浮區域，其使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之下游側；且搬送方向上之上游側懸浮區域之長度較下游側懸浮區域之長度為長。

又，本發明另一態樣之塗佈方法，係將自前處理裝置所接取到之基板在藉由處理台而使其懸浮之狀態下一邊藉由搬送部朝搬送方向搬送一邊將處理液自噴嘴供給至基板之上表面而進行塗佈者；其特徵在於，在將處理台中位於噴嘴之下方而使基板懸浮之區域設為供給懸浮區域，將使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之上游側之區域設為上游側懸浮區域，並將使基板在搬送方向上懸浮於供給懸浮區域之下游側之區域定義為下游側懸浮區域時，朝搬送方向被搬送之基板之通過上游側懸浮區域的時間，較通過下游側懸浮區域的時間為長。

於如此所構成之發明中，自前處理裝置所供給之基板，通過上游側懸浮區域之上方而在供給懸浮區域之上方被懸浮搬送，且自噴嘴所供給之處理液在該供給懸浮區域被塗佈於基板之上表面。此處，若在接取到基板之時間點基板之溫度與進行處理液之塗佈之適當的溫度不同，便如上述般容易發生溫度不勻。然而，於本發明中，搬送方向上之上游側懸浮區域的長度較下游側懸浮區域的長度為長，而使基板在上游側懸浮區域之搬送時間變長。因此，基板之熱均勻化在上游側懸浮區域的通過中會變快，而可抑制基板之溫度不勻，其結果，可良好地執行處理液之塗佈。

又，由於存在有如上述般之長度關係，因此搬送方向上之下游側懸浮區域之長度較上游側懸浮區域的長度為短，則即便已使上游側懸浮區域之長度增加，仍可抑制搬送方向上之處理台的大型化。

如上所述般，根據本發明，被構成為搬送方向上之上游側懸浮區域之長度較下游側懸浮區域之長度為長，而使通過基板之上游側懸浮區域的時間較通過下游側懸浮區域的時間為長。因此，可抑制因溫度不勻所引起之塗佈不勻，而可以優異之品質將塗佈液塗佈於基板上。

圖1係顯示具備有本發明之塗佈裝置之一實施形態之基板處理系統之一例的圖。該基板處理系統具備有：塗佈裝置1，其對基板S實施塗佈處理；前處理裝置PR，其執行由塗佈裝置1所執行之塗佈處理的前步驟；及後處理裝置PS，其對經塗佈處理後之基板S執行後步驟。前處理裝置PR作為前步驟而執行洗淨步驟及乾燥步驟，該洗淨步驟係於進行塗佈處理之前對基板S進行洗淨，而該乾燥步驟係使被洗淨後之基板S乾燥者。又，塗佈裝置1係如後所詳述般，一邊對自前處理裝置PR所接取到之基板S進行懸浮搬送，一邊將處理液供給至基板S之上表面而進行塗佈。此外，後處理裝置PS作為後步驟而執行加熱步驟，該加熱步驟係對基板S進行加熱而使被塗佈於基板S之處理液固化者。再者，前步驟及後步驟之內容並非被限定於以上所述者。

圖2係示意地顯示圖1之基板處理系統所配備之塗佈裝置之整體構成的圖。該塗佈裝置1係一狹縫式塗佈機，其對自圖2之左手側朝右手側以水平姿勢被搬送之基板S的上表面Sf塗佈作為處理液之一例的塗佈液。再者，於以下各圖中，為了使裝置各部之間的配置關係明確化，而在與基板S之搬送方向X建立關聯來顯示位置關係時，存在有將「基板S之搬送方向X上的上游側」簡稱為「上游側」，而且將「基板S之搬送方向X上的下游側」簡稱為「下游側」。於本例子中，相對於自某基準位置觀察時，(-X)側對應於「上游側」，而(+X)側對應於「下游側」。

首先，使用圖2對塗佈裝置1之構成及動作之概要進行說明，然後對具備有本發明之技術特徵之懸浮台部3之詳細構成及動作進行說明。於塗佈裝置1中，輸入輸送帶100、輸入移載部2、懸浮台部3、輸出移載部4及輸出輸送帶110沿著基板S之搬送方向X依此順序被接近地配置，如以下所詳述般，藉由該等而形成有朝大致水平方向延伸之基板S的搬送路徑。

作為處理對象之基板S，自圖2之左手側被搬入輸入輸送帶100。輸入輸送帶100具備有輥式輸送帶101、及對該輥式輸送帶101進行旋轉驅動的旋轉驅動機構102，且基板S藉由輥式輸送帶101之旋轉，而以水平姿勢朝下游側即(+X)方向被搬送。輸入移載部2具備有輥式輸送帶21、以及具有對該輥式輸送帶21進行旋轉驅動之功能及使其升降之功能的旋轉/升降驅動機構22。藉由輥式輸送帶21進行旋轉，基板S進一步朝(+X)方向被搬送。又，藉由輥式輸送帶21進行升降，可改變基板S之鉛垂方向位置。藉由如此所構成之輸入移載部2，基板S自輸入輸送帶100被移載至懸浮台部3。

懸浮台部3，具備有沿著基板之搬送方向X被分割成三部分之平板狀的工件台。亦即，懸浮台部3具備有入口懸浮台31、塗佈台32及出口懸浮台33，且該等各個台之上表面相互地構成相同平面之一部分。而且，懸浮台部3，係使基板自各台之上表面朝鉛垂上方(+Z)懸浮。再者，於該等各個台中之入口懸浮台31，配設有未圖示之升降銷，且於懸浮台部3設置有使該升降銷升降之升降銷驅動機構34。又，關於塗佈台32上之懸浮量，係藉由控制單元9根據感測器61、62的檢測結果所算出，而可高精度地進行調整。

經由輸入移載部2被搬入懸浮台部3之基板S，藉由輥式輸送帶21之旋轉而被賦予朝向(+X)方向之推進力，而被搬送至入口懸浮台31上。入口懸浮台31、塗佈台32及出口懸浮台33，係將基板S支撐為懸浮狀態，但未具有將基板S朝水平方向搬送之功能。懸浮台部3上之基板S的搬送，係藉由被配置於入口懸浮台31、塗佈台32及出口懸浮台33之下方的基板搬送部5所執行。

基板搬送部5具備有：夾盤機構51，其藉由局部抵接於基板S之下表面周緣部而自下方支撐基板S；及吸附/移行控制機構52，其具有對被設於夾盤機構51上端之吸附構件的吸附墊(省略圖示)施加負壓而使其吸附保持基板S之功能、及使夾盤機構51沿著X方向往返移行之功能。於夾盤機構51保持有基板S之狀態下，基板S之下表面Sb位於較懸浮台部3之各個台之上表面更高的位置。因此，基板S一邊藉由夾盤機構51吸附周緣部而被保持一邊藉由自懸浮台部3所賦予的懸浮力而整體上維持為水平姿勢。再者，為了在藉由夾盤機構51而局部地保持有基板S之下表面Sb之階段對基板S之上表面的鉛垂方向位置進行檢測，板厚測定用之感測器61被配置於輥式輸送帶21之附近。藉由未保持基板S之狀態之夾盤(省略圖示)位於該感測器61之正下方位置，感測器61可檢測吸附構件的上表面即吸附面之鉛垂方向位置。

夾盤機構51保持自輸入移載部2被搬入懸浮台部3的基板S，且夾盤機構51在該狀態下朝(+X)方向移動，藉此基板S自入口懸浮台31之上方經由塗佈台32之上方被搬送至出口懸浮台33的上方。被搬送之基板S被遞交至在出口懸浮台33之(+X)側所配置的輸出移載部4。

輸出移載部4具備有：輥式輸送帶41；以及旋轉/升降驅動機構42，其具有對輥式輸送帶41進行旋轉驅動之功能及使其升降的功能。藉由輥式輸送帶41進行旋轉，基板S被賦予朝向(+X)方向之推進力，基板S沿著搬送方向X進一步被搬送。又，基板S之鉛垂方向位置藉由輥式輸送帶41進行升降而被改變。關於藉由輥式輸送帶41之升降所實現的功能將於後述之。藉由輸出移載部4，基板S自出口懸浮台33之上方被移載至輸出輸送帶110。

輸出輸送帶110具備有輥式輸送帶111、及對該輥式輸送帶111進行旋轉驅動之旋轉驅動機構112，基板S藉由輥式輸送帶111之旋轉而進一步朝(+X)方向被搬送，且在最後朝向後處理裝置PS(圖1)被排出。再者，輸入輸送帶100及輸出輸送帶110，雖可作為塗佈裝置1之構成的一部分而被設置，但亦可為獨立於塗佈裝置1者。例如，被於塗佈裝置1之上游側之前處理裝置PR(圖1)的基板排出機構，亦可作為輸入輸送帶100而被使用。又，被設於塗佈裝置1之下游側之後處理裝置PS(圖1)的基板接取機構，亦可作為輸出輸送帶110而被使用。

於如此所搬送之基板S之搬送路徑上，配置有用以將塗佈液塗佈於基板S之上表面Sf的塗佈機構7。塗佈機構7具有作為狹縫噴嘴之噴嘴71。塗佈液自塗佈液供給機構8被供給至噴嘴71，且塗佈液在噴嘴之下部自向下開口之吐出口被吐出。

噴嘴71可藉由省略圖示之定位機構沿著X方向及Z方向移動而定位。藉由定位機構，噴嘴71被定位於塗佈台32之上方的塗佈位置(以圖2中之實線所示之位置)。塗佈液自被定位於該塗佈位置的噴嘴71所吐出，而被供給至在其與塗佈台32之間被搬送而來的基板S上。如此，進行朝向基板S之塗佈液的塗佈。

為了對噴嘴71進行既定之維護，如圖2所示般，於塗佈機構7設置有噴嘴洗淨待機單元72。噴嘴洗淨待機單元72主要具有滾筒721、洗淨部722及滾筒缸723等。而且，藉由該等進行噴嘴洗淨及液池形成，而將噴嘴71之吐出口調整至適合進行後續之塗佈處理的狀態。又，使噴嘴71位於噴嘴洗淨待機單元72所設置的位置即維護位置，來執行最佳化處理中之模擬吐出。

除此之外，於塗佈裝置1設置有用以控制裝置各部之動作的控制單元9。控制單元9具備有儲存既定之控制程式與各種資料之儲存手段、藉由執行控制程式而使裝置各部執行既定之動作之CPU(中央處理單元)等的運算手段、及負責進行與使用者或外部裝置之資訊交換的介面手段等。於本實施形態中，運算手段控制裝置各部而如以下所說明般，一邊高精度地控制基板S在塗佈台32上之懸浮量一邊進行自噴嘴71之塗佈液的供給。

圖3係顯示圖2所示之塗佈裝置所配備之懸浮台部之構成的圖，該圖中之上段所示之圖係懸浮台部3之局部俯視圖，而中段及下段係示意性地顯示懸浮台部3上之基板S之懸浮搬送狀態的側視圖。再者，於該圖及於後所要說明之圖4至圖7中，為了易於理解，視需要而誇大或簡化地顯示各部的尺寸與數量。

於構成懸浮台部3之三個工件台中之入口懸浮台31及出口懸浮台33各自之上表面，呈矩陣狀地設置有多個噴出口36。又，被構成為與日本專利第5437134號所記載之裝置的懸浮控制機構35(圖2)被連接於各噴出口36，自噴出口36朝向基板S之下表面Sb噴出壓縮空氣，而將壓縮空氣送入入口懸浮台31及出口懸浮台33之台上表面與基板S之下表面Sb之間的空間。藉此，基板S藉由自各噴出口36所噴出之氣流所賦予的浮力而懸浮。如此，基板S之下表面Sb以與台上表面分開之狀態被支撐為水平姿勢。基板S之下表面Sb與台上表面之間的距離即懸浮量，可設為例如10μm至500μm。

於塗佈台32中，3個區域32A〜32C沿著搬送方向X以此順序被設置，且被構成為可使基板S以較入口懸浮台31及出口懸浮台33小的懸浮量懸浮。區域32A被設於台構件321之台上表面321a。區域32B被設於台構件322之台上表面322a。區域32C被設於台構件323之台上表面323a。

於區域32A中，分散而設置有上述噴出口36、及對基板S之下表面Sb與台上表面321a之間的空氣進行抽氣之抽氣口37。更詳細而言，複數個開口以較被設於入口懸浮台31及出口懸浮台33之噴出口36小的間距呈矩陣狀地被分散而設置。該等複數個開口中之一半開口係作為上述噴出口36而發功能者，剩餘之一半則作為抽氣口37而發揮功能，且噴出口36與抽氣口37交替地被設置。而且，懸浮控制機構35與區域32A之噴出口36相連接，自噴出口36朝向基板S之下表面Sb噴出壓縮空氣，而將壓縮空氣送入台上表面321a與基板S之下表面Sb(圖2)之間的空間。又，懸浮控制機構35與區域32A之抽氣口37相連接，經由抽氣口37自上述空間對空氣進行抽氣。藉由如此對上述空間進行空氣之噴出及抽氣，於上述空間自各噴出口36所噴出之壓縮空氣之空氣流會在朝水平方向擴散後，由鄰接於該噴出口36之抽氣口37所抽氣。因此，擴散於上述空間之空氣層(壓力氣體層)之壓力平衡會更加穩定，而可高精度地且穩定地控制基板S之懸浮量Fa(參照圖3)。又，與區域32A對應而設置有具有與日本專利第5437134號所記載之裝置相同之構成的異物檢測部73(圖2)，而對以懸浮量Fa所懸浮之基板S進行異物檢測。如此，於本實施形態中，區域32A係作為確保異物檢測之上游側懸浮區域而發揮功能，且於以下將其稱為「上游側懸浮區域32A」。

於台構件322中，複數個開口以較被設於上游側懸浮區域32A之開口(＝噴出口36+抽氣口37)之間距小之進行朝向基板S之塗佈液的塗佈之適當的間距呈矩陣狀地分散而被設置於台上表面322a。該等複數個開口中之一半開口係作為上述噴出口36而發揮功能者，剩餘之一半則作為抽氣口37而發揮功能，且噴出口36與抽氣口37交替地被設置。而且，懸浮控制機構35與上游側懸浮區域32A相同地被連接於區域32B之噴出口36及抽氣口37，而使基板S以懸浮量Fb(參照圖3)懸浮。此處，由於區域32B係位於噴嘴71之下方用以使接受塗佈液之供給的基板S懸浮之供給懸浮區域，因此可使噴出口36及抽氣口37之配置密度高於上游側懸浮區域32A，並且懸浮控制機構35將懸浮量Fb設為小於上游側懸浮區域32A中的懸浮量Fa，而使其適合於朝向基板S之塗佈液之供給。如此，於區域32B中，基板S之懸浮可超高精度地且穩定地被控制。如此，區域32B作為用以確保超高精度之供給的供給懸浮區域而發揮功能，且於以下將其稱為「供給懸浮區域32B」。

於台構件323中，於台上表面323a設有區域32C。於該區域32C中，噴出口36及抽氣口37與上游側懸浮區域32A相同地以既定之間距交替地被設置，而形成將該等呈矩陣狀地分散之配置構造。於台構件323中，自台構件322側被搬送而來的基板S，以較供給懸浮區域32B中之懸浮量Fb大的懸浮量Fc被懸浮。此處，於該基板S之上表面Sf接受塗佈液之供給而形成有塗佈膜，若基板S於台構件323的上方振動，便存在有會對供給懸浮區域32B之上方之塗佈液之塗佈造成不利影響的可能性。因此，上述間距及懸浮量Fc為了防止振動，而被設定為適當之值。再者，於本實施形態中，間距及懸浮量Fc被設定為與上游側懸浮區域32A相同數值，區域32C作為用以確保塗佈完畢基板S之防振之下游側懸浮區域而發揮功能，且於以下將其稱為「下游側懸浮區域32C」。

此處，本實施形態之技術特徵，在於基板S之搬送方向X上之上游側懸浮區域32A的長度La較下游側懸浮區域32C的長度Lc長，且沿著搬送方向X被搬送之基板S之通過上游側懸浮區域32A之時間，較通過下游側懸浮區域32C之時間為長。藉由具有如此之技術特徵，可在將基板S搬送至供給懸浮區域32B之前抑制基板S之面內之溫度不勻的發生，而可提高塗佈品質。對此，一邊與上游側懸浮區域32A及下游側懸浮區域32C在搬送方向X上被設定為相同長度之習知裝置(圖4)進行比較一邊進行說明。

圖4係顯示習知之塗佈裝置所配備之塗佈台之構成的圖。於先前裝置中，與本實施形態之塗佈裝置1相同地，上游側懸浮區域32A、供給懸浮區域32B及下游側懸浮區域32C沿著基板S之搬送方向X依此順序被配置。然而，上游側懸浮區域32A與下游側懸浮區域32C具有完全相同的構成，且於搬送方向X上，上游側懸浮區域32A之長度La’與下游側懸浮區域32C之長度L c’相同。此處，兩個區域32A、32C的功能如上述般互不相同。亦即，相對於上游側懸浮區域32A係用以確保異物檢測之懸浮區域，而下游側懸浮區域32C係用以確保基板S之防振的區域，功能各不相同。然而，習知裝置對此並未有充分的考量。

尤其，在基板S於上游側懸浮區域32A上被懸浮搬送之期間所執行之基板S的熱均勻化則完全未被考量到。亦即，於上游側懸浮區域32A中，如圖3及圖4所示般，在來自噴嘴71之塗佈液被供給至基板S之上表面Sf之前，基板S於上游側懸浮區域32A中係以接近於台構件321之台上表面321a之狀態被搬送。於進行該搬送中，基板S之熱均勻化會藉由台構件321之熱影響而進行。例如，於自前處理裝置PR接取到之時間點的基板S之溫度較塗佈裝置1內之溫度低之情形時，於基板S在上游側懸浮區域32A之搬送中，基板S之溫度會藉由自台構件321朝向基板S之放射熱而接近於塗佈裝置1內之的溫度即塗佈處理的溫度。因此，不僅是就進行異常檢測的觀點，還是就延長可使基板S均熱化之時間而抑制基板S上之溫度不勻的觀點而言，如圖3所示般，皆以延長搬送方向X之上游側懸浮區域32A為佳。

另一方面，由於已塗佈完畢之基板S在下游側懸浮區域32C被搬送而來，因此不須考量溫度不勻的觀點，而僅考量防振即可。為了防止塗佈完畢之基板S，如圖3及圖4所示，只要在下游側懸浮區域32C形成基板S之懸浮量於搬送方向X上被維持為一定之水平懸浮範圍HR即可，在搬送方向X上之水平懸浮範圍HR的長短不太重要。亦即，可一邊滿足形成水平懸浮範圍HR之條件，一邊縮短搬送方向X上之下游側懸浮區域32C。具體而言，如圖3所示，可將搬送方向X上之下游側懸浮區域32C的長度Lc縮短至與供給懸浮區域32B之長度Lb相同的程度。

於本實施形態中，根據該等的考量，一方面縮短下游側懸浮區域32C，另一方面使上游側懸浮區域32A朝搬送方向X延伸於該縮短量(＝ Lc’-Lc)之長度。因此，相較於習知裝置(圖4)，於圖3所示之塗佈裝置1中，可不變更搬送方向X上之塗佈台32的長度，便使長度La延伸而相較於習知裝置延長基板S在上游側懸浮區域32A之搬送時間(即可使基板S均熱化之時間)，而可有效地抑制基板S的溫度不勻。其結果，可不受溫度不勻及振動之影響便將塗佈液均勻地塗佈於基板S之上表面Sf。

如以上所述，於本實施形態中，搬送方向X上之上游側懸浮區域32A的長度La較下游側懸浮區域32C的長度Lc長。藉此，基板S在上游側懸浮區域32A之搬送時間較長，而即使假設自前處理裝置PR接取到基板S之時間點之基板S的溫度與塗佈裝置1內之溫度不同，基板S之熱均勻化仍會於上游側懸浮區域32A的過程中進行。因此，可有效地抑制基板S之溫度不勻，而可良好地執行塗佈液的塗佈。

又，於上述實施形態中，一方面以形成水平懸浮範圍HR來確保防振機構的條件下可盡可能地將下游側懸浮區域32C設定為較短，一方面使上游側懸浮區域32A沿著搬送方向X擴張該縮小量的長度。如此，即使延長上游側懸浮區域32A，亦可有效地抑制搬送方向X上之塗佈台32的大型化。

如以上所述，於上述實施形態中，塗佈液相當於本發明之「處理液」之一例。又，塗佈台32相當於本發明之「處理台」之一例。

再者，本發明並非被限定於上述之實施形態者，可於不脫離本發明主旨之範圍內進行上述者以外的各種變更。例如，於上述實施形態中，雖然將3個區域32A〜32C分配於3個台構件321〜323來設置，但例如圖5所示般，也可相對於一個台構件320設置所有區域32A〜32C。又，也可將區域32A〜32C分配於2個台構件來設置。

又，於上述實施形態中，於上游側懸浮區域32A、供給懸浮區域32B及下游側懸浮區域32C中，雖交替地設置噴出口36及抽氣口37並使該等分散成矩陣狀，但分散形態並非被限定於此者，而言可將噴出口36及抽氣口37設為格子狀。亦即，作為將噴出口36及抽氣口37設為格子狀者，除了設為上述矩陣狀以外，還包含設為例如圖6所示般之蜂巢狀者、或者例如圖7所示般以沿著X方向排列之噴出口36及抽氣口37之開口行39相對於基板S之搬送方向(X方向)傾斜之方式來設置者等。

又，於上述實施形態中，雖被構成為搬送方向X上之各區域32A〜32C的長度La〜Lc滿足下式：La＞Lc＝Lb，但使搬送方向X上之下游側懸浮區域32C之長度Lc與供給懸浮區域32B的長度Lb一致並非必要，而在可形成水平懸浮範圍HR從而發揮防振機構的範圍內即可任意。又，針對與長度La、Lc之關係為了用以確保防止塗佈不勻所需要之充分的熱均勻化，較佳係一方面將長度La設定為超過長度Lc的1.5倍，另一方面為了抑制塗佈台32之大型化而將長度La設定為未滿10倍(例如未滿8倍)。亦即，較佳係例如設為滿足下式：1.5×Lc＜La＜8×Lc。

本發明可應用於用以將處理液自噴嘴供給至被懸浮搬送之基板而進行塗佈之塗佈技術。

1:塗佈裝置 2:輸入移載部 3:懸浮台部 4:輸出移載部 5:基板搬送部 7:塗佈機構 9:控制單元 21:輥式輸送帶 22:旋轉/升降驅動機構 31:入口懸浮台 32:塗佈台(處理台) 32A:上游側懸浮區域 32B:供給懸浮區域 32C:下游側懸浮區域 33:出口懸浮台 34:升降銷驅動機構 35:懸浮控制機構 36:噴出口 37:抽氣口 39:開口行 42:旋轉/升降驅動機構 51:夾盤機構 52:吸附/移行控制機構 61、62:感測器 71:噴嘴 72:噴嘴洗淨待機單元 73:異物檢測部 100:輸入輸送帶 101:輥式輸送帶 102:旋轉驅動機構 110:輸出輸送帶 111:輥式輸送帶 112:旋轉驅動機構 321〜323:台構件 321a〜323a:台上表面 721:滾筒 722:洗淨部 723:滾筒缸 Fa:(在上游側懸浮區域之)懸浮量 Fb:(在供給懸浮區域之)懸浮量 Fc:(在下游側懸浮區域之)懸浮量 HR:水平懸浮範圍 La:(搬送方向X上之上游側懸浮區域32A的)長度 Lb:(搬送方向X上之供給懸浮區域32B的)長度 Lc:(搬送方向X上之下游側懸浮區域32C的)長度 PR:前處理裝置 PS:後處理裝置 S:基板 Sb:(基板之)下表面 Sf:(基板之)上表面 X:搬送方向 Z:鉛垂方向

圖1係顯示具備有本發明之塗佈裝置之一實施形態之基板處理系統之一例的圖。圖2係示意性地顯示圖1之基板處理系統所配備之塗佈裝置之整體構成的圖。圖3係顯示圖2所示之塗佈裝置所配備之懸浮台部之構成的圖。圖4係顯示習知之塗佈裝置所配備之塗佈台之構成的圖。圖5係顯示本發明之塗佈裝置之另一實施形態所配備之懸浮台部之局部構成的圖。圖6係顯示本發明之塗佈裝置之又一實施形態所配備之懸浮台部之局部構成的圖。圖7係顯示本發明之塗佈裝置之再一實施形態所配備之懸浮台部之局部構成的圖。

3:懸浮台部

31:入口懸浮台

32:塗佈台(處理台)

32A:上游側懸浮區域

32B:供給懸浮區域

32C:下游側懸浮區域

33:出口懸浮台

36:噴出口

37:抽氣口

321~323:台構件

321a~323a:台上表面

Fa:(在上游側懸浮區域之)懸浮量

Fb:(在供給懸浮區域之)懸浮量

Fc:(在下游側懸浮區域之)懸浮量

HR:水平懸浮範圍

La:(搬送方向X上之上游側懸浮區域32A的)長度

Lb:(搬送方向X上之供給懸浮區域32B的)長度

Lc:(搬送方向X上之下游側懸浮區域32C的)長度

S:基板

X:搬送方向

Z:鉛垂方向

Claims

一種塗佈裝置，係自前處理裝置接取具有與塗佈處理之適當溫度不同之溫度的基板，並對上述基板之上表面供給處理液而進行塗佈者；其特徵在於，其具備有：處理台，其使上述基板懸浮；基板搬送部，其將懸浮於上述處理台上之上述基板朝搬送方向進行搬送；及噴嘴，其將處理液供給至藉由上述基板搬送部所搬送之上述基板之上表面；而上述處理台具有：供給懸浮區域，其位於上述噴嘴之下方而使上述基板懸浮；上游側懸浮區域，其使上述基板在上述搬送方向上懸浮於上述供給懸浮區域之上游側；及下游側懸浮區域，其使上述基板在上述搬送方向上懸浮於上述供給懸浮區域之下游側；且上述搬送方向上之上述上游側懸浮區域之長度較上述下游側懸浮區域之長度為長。
如請求項1之塗佈裝置，其中，其具備異物檢測部，被配置於上述上游側懸浮區域之上方而檢測存在於上述基板之上表面的異物。
如請求項1或2之塗佈裝置，其中，上述處理台將於上述搬送方向上之上述基板的懸浮量被維持為一定之水平懸浮範圍而形成於上述下游側懸浮區域，藉此防止上述基板之振動。
一種塗佈方法，係自前處理裝置接取具有與塗佈處理之適當溫度不同之溫度的基板，並將上述基板在藉由處理台而使其懸浮之狀態下一邊藉由搬送部朝搬送方向搬送一邊將處理液自噴嘴供給至上述基板之上表面而進行塗佈者；其特徵在於，在將上述處理台中位於上述噴嘴之下方而使上述基板懸浮之區域設為供給懸浮區域，將使上述基板在上述搬送方向上懸浮於上述供給懸浮區域之上游側之區域設為上游側懸浮區域，並將使上述基板在上述搬送方向上懸浮於上述供給懸浮區域之下游側之區域定義為下游側懸浮區域時，朝上述搬送方向被搬送之上述基板之通過上述上游側懸浮區域的時間，較通過上述下游側懸浮區域的時間為長。