CN201936121U

CN201936121U - 基板烘烤设备

Info

Publication number: CN201936121U
Application number: CN2010206792779U
Authority: CN
Inventors: 刘杰; 焦宇; 吴超; 宋篷磊; 剧永波
Original assignee: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2010-12-23
Filing date: 2010-12-23
Publication date: 2011-08-17
Anticipated expiration: 2020-12-23

Abstract

本实用新型提供一种基板烘烤设备，属于烘烤技术领域，其可解决现有的基板烘烤设备易于造成基板损伤的问题。本实用新型的基板烘烤设备包括：用于沿与基板平行的方向输送基板的输送机构；至少一个用于加热位于所述输送机构上的所述基板的加热机构。本实用新型可用于在液晶显示面板的光刻工艺中烘烤玻璃基板。

Description

基板烘烤设备

技术领域

本实用新型涉及烘烤技术领域，尤其涉及一种用于液晶显示面板的玻璃基板的基板烘烤设备。

背景技术

在液晶显示面板制造中，光刻是最重要的工艺步骤之一。在光刻过程中，需要对液晶显示面板的玻璃基板进行多次烘烤(Bake)，例如在涂敷光刻胶(PhotoResist)前需烘烤基板以除去其表面的水分、提高涂敷均匀性；在涂敷光刻胶后需烘烤基板以使光刻胶固化；曝光完成后还需再次烘烤基板以除去残留的显影液。

如图1所示，现有的基板烘烤设备为箱式设备，其包括多个沿垂直方向设置的加热盘2和冷却盘3，机械手9将基板1从光刻生产线上取下，并依次放入各加热盘2和冷却盘3中进行加热、冷却等操作。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题：随着技术的发展，液晶显示面板的基板1的尺寸越来越大而厚度越来越薄，因此用机械手9传递基板1的过程中很容易因震动等原因等造成基板1的损伤(如破碎等)。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种基板烘烤设备，其可避免基板的损伤。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一种基板烘烤设备，包括：

用于沿与基板平行的方向输送所述基板的输送机构；

至少一个用于加热位于所述输送机构上的基板的加热机构。

其中，“与基板平行的方向”是指与基板整体所处的平面相平行的方向，通常也是与基板的最大表面(即上、下表面)相平行的方向。

由于本实用新型的实施例的基板烘烤设备具有用于沿与基板平行的方向输送所述基板的输送机构，因此基板可从生产线上直接水平运动到基板烘烤设备中，不需要使用机械手等进行传递，从而避免了基板的损伤。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述输送机构为用于沿与重力方向垂直且与所述基板平行的方向输送所述基板的输送机构。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，包括两个在所述输送机构输送所述基板的方向上相接排列的加热机构。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述加热机构包括：两块用于将位于所述输送机构上的基板夹在中间的、与位于所述输送机构上的基板平行的加热板。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述加热机构还包括：包围所述加热板和输送机构的腔室，所述腔室具有用于供所述基板通过的开口。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，还包括：在所述输送机构输送所述基板的方向上位于所述加热机构后方的、用于冷却位于所述输送机构上的基板的冷却机构。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述冷却机构为吹风冷却机构。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，还包括：用于控制所述输送机构输送所述基板的速度的控制单元。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述控制单元为可编程序逻辑控制器、单片机、微处理器、电脑中的任意一种。

作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述输送机构为传送带输送机构、辊道输送机构中的任意一种。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有的基板烘烤设备的侧视结构示意图；

图2为本实用新型实施例的基板烘烤设备的剖面结构示意图；

其中附图标记为：1、基板；2、加热盘；21、第一加热机构；211、加热板；212、腔室；2121、开口；22、第二加热机构；221、加热板；222、腔室；2221、开口；3、冷却盘；31、冷却机构；311、喷气喷头；4、输送机构；41、输送基板的方向；9、机械手。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供一种基板烘烤设备，包括：

用于沿与基板平行的方向输送所述基板的输送机构；

至少一个用于加热位于所述输送机构上的基板的加热机构。

由于本实用新型的实施例的基板烘烤设备具有用于沿与基板平行的方向输送所述基板的输送机构，因此基板可从生产线上直接水平运动到基板烘烤设备中，不需要使用机械手等进行传递，从而避免了基板的损伤；同时，由于不需要用机械手在垂直方向上多次传递基板，故本实施例的基板烘烤设备还可减少基板烘烤所需的时间，提高烘烤效率；另外，相对于复杂且成本高的机械手装置，本实施例的基板烘烤设备结构简单、成本低。

实施例

本实用新型实施例提供一种基板烘烤设备，如图2所示，其包括用于沿与基板1(例如液晶显示面板的玻璃基板1)平行的方向41输送基板的输送机构4，以及用于加热位于输送机构4上的基板1的加热机构21、22。

优选地，输送机构4输送基板的方向41同时还与重力方向垂直；也就是说，输送机构4优选沿水平方向支撑并输送基板1。这样的输送机构4可以使基板1的定位稳定，不对自身产生额外的压力，同时还可使基板烘烤设备能容易的与其它基板处理设备相连接，提高烘烤效率。

优选地，输送机构4可如图2所示为辊道输送机构4，也可为传送带输送机构等其它的形式。

优选地，在输送机构4输送基板的方向41上相接排列有第一加热机构21和第二加热机构22，即基板1会先进入第一加热机构21后再进入第二加热机构22。通过设置两个加热机构21、22，可为烘烤操作提供更大的灵活性。例如，对液晶显示面板光刻工艺中的玻璃基板1，可以第一加热机构21作为预热段，将其加热温度控制在50～60℃，而以第二加热机构22作为加热段，将其加热温度控制在110～130℃；这样，基板1在烘烤过程中温度是逐渐升高的，故可避免基板1在开始烘烤时因各部分温度差过大而产生内应力，导致损伤。当然，根据不同的烘烤工艺要求，还可设置更多的加热机构21、22。

优选地，每个加热机构21、22中可包括两块加热板211，221，同一加热机构21、22中的加热板211、221分别设在基板1的上、下两侧(即将基板1夹在中间)，且加热板211、221与基板1平行。这种形式的加热机构21、22可以保证基板1受热均匀，温度易于控制。

优选地，加热机构21、22还包括包围加热板211、221和输送机构4的腔室212、222，腔室212、222上具有用于供基板1通过的开口2121、2221。使用腔室212、222可以获得更好的保温效果，进一步保证加热均匀，并可减少热量散失，降低能耗。

优选地，基板烘烤设备还包括在输送机构4输送基板的方向41上位于加热机构221后方的冷却机构31；该冷却机构31优选为具有多个喷气喷头311的吹风冷却机构31。设置冷却机构31可以加速基板1的冷却，使其可以更快的进入后续处理步骤，提高烘烤效率。

优选地，基板烘烤设备还包括用于控制输送机构4输送基板1的速度的控制单元(图中未示出)；该控制单元优选为可编程序逻辑控制器(PLC)、单片机、微处理器、电脑中的任意一种。显然，该控制单元可对输送机构4进行统一控制，也可对对应各加热机构21、22和冷却机构31的输送机构4的各段分别进行独立控制，或者也可为对应各加热机构21、22和冷却机构31的输送机构4的各段别分别设置多个独立的控制单元。该控制单元可通过控制输送机构4的驱动机构(例如伺服电机，图中未示出)来调节输送速度。由于具有控制单元，因此基板1在输送机构4上的运行是可控的，从而其在加热机构21、22和冷却机构31中的停留时间也是可控的，故其烘烤过程可被严格控制，以达到最好的烘烤效果。例如，控制单元可根据加热机构21、22或冷却机构31的长度以及所需的加热时间或冷却时间控制输送机构4的各段的运行速度，或者其也可以在基板1进入加热机构21、22或冷却机构31后停止该段输送机构4的运行，使基板1停止，从而进行充分的加热或冷却。

显然，上述实施例的基板烘烤设备还可进行许多公知的变化。例如：还可具有加热机构的控制单元、电源等其它公知组件；输送机构、加热机构、冷却机构、控制单元等的位置、数量、具体形式等都可不同；还可具有用于驱动加热机构、冷却机构沿输送机构运动的第二驱动机构(即可使加热机构、冷却机构随着基板运动)。

显然，本实用新型实施例的基板烘烤设备除了用于在光刻工艺中烘烤液晶显示面板的玻璃基板外，也可用于许多其它领域，如用于烘烤半导体基板等。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种基板烘烤设备，其特征在于，包括：

用于沿与基板平行的方向输送基板的输送机构；

至少一个用于加热位于所述输送机构上的基板的加热机构。

2.根据权利要求1所述的基板烘烤设备，其特征在于，所述输送机构为用于沿与重力方向垂直且与所述基板平行的方向输送所述基板的输送机构。

3.根据权利要求1所述的基板烘烤设备，其特征在于，包括两个在所述输送机构输送所述基板的方向上相接排列的加热机构。

4.根据权利要求1所述的基板烘烤设备，其特征在于，所述加热机构包括：

两块用于将位于所述输送机构上的基板夹在中间的、与位于所述输送机构上的基板平行的加热板。

5.根据权利要求4所述的基板烘烤设备，其特征在于，所述加热机构还包括：

包围所述加热板和输送机构的腔室，所述腔室具有用于供所述基板通过的开口。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的基板烘烤设备，其特征在于，还包括：

在所述输送机构输送所述基板的方向上位于所述加热机构后方的、用于冷却位于所述输送机构上的基板的冷却机构。

7.根据权利要求6所述的基板烘烤设备，其特征在于，所述冷却机构为吹风冷却机构。

8.根据权利要求1至5中任意一项所述的基板烘烤设备，特征在于，还包括：

用于控制所述输送机构输送所述基板的速度的控制单元。

9.根据权利要求6所述的基板烘烤设备，其特征在于，

所述控制单元为可编程序逻辑控制器、单片机、微处理器、电脑中的任意一种。

10.根据权利要求1至5中任意一项所述的基板烘烤设备，其特征在于，所述输送机构为传送带输送机构、辊道输送机构中的任意一种。