CN107640911A

CN107640911A - 一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置

Info

Publication number: CN107640911A
Application number: CN201711008421.9A
Authority: CN
Inventors: 魏凡
Original assignee: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2017-10-25
Filing date: 2017-10-25
Publication date: 2018-01-30
Anticipated expiration: 2037-10-25
Also published as: CN107640911B; WO2019080151A1

Abstract

本发明实施例公开了一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法，包括步骤：将经过清洗装置清洗后的玻璃基板，通过第一滚轮装置移入一烘干室；通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理；将所述烘干后的玻璃基板，通过第二滚轮装置移入一冷却室；通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理；将冷却后的玻璃基板传送至气浮式涂布机的涂布前平台上，以对所述玻璃基板进行涂布处理。本发明还提供了相应的装置。实施本发明实施例，可以减少玻璃基板进行涂布前的异物微粒物的数量，且烘干效果好。

Description

一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置。

背景技术

在液晶显示面板的制作过程中，在阵列基板（TFT侧）的曝光部的生产工艺中，玻璃基板在涂布前需要完成通过清洗装置的清洗（Cleaner）工作，然后进行涂布前烘烤（Dehydration Bake，DB）以及冷却后进入涂布单元，在涂布单元上涂布相应光阻（Coater）后，再次经过烘烤（Pre-bake）过程，然后进入曝光机（Exposure），利用光罩（MASK）在玻璃基板上对光阻定义图形，再经过显影制程（Developer）显示出被定义的图形，才能完成TFT曝光工艺。

为了减少涂布过程中的涂布缺陷（coating defect），在现有技术中需要利用清洗装置（cleaner）完成涂布前清洗，主要分为以下几个步骤：

通过超紫外线（Extreme Ultra-Violet, EUV）来分解基板表面有机物，同时产生臭氧加快有机物分解，以及通过四甲基氢氧化铵（TMAH）来中和基板表面酸性物质；然后通过毛刷（RB）以及AAJEDT等装置来清洁玻璃基板上下两面的异物微粒（Particle）；在基板清洁干净后，再利用风刀（A/K）向基板上下表面吹气，以清除基板上残留的水分；当玻璃基板清洁完成后，会通过机械手臂（Robot）传送至涂布前烘烤设备（DB）中，以将玻璃基板烘干并冷却；冷却后的玻璃基板还需要通过机械手臂移动到涂布机中。

但现有的这种技术存在如下缺陷：首先，机械手臂的单元空间相对清洁段会更大，存在的异物微粒较多；另外，机械手臂的地板为高架地板，在机械手臂操作过程中所产生的气流会将楼下异物带到机械手臂单元空间内；而且，烧烤冷却设备中采用热盘（Hot plate，HP）和冷盘（Cool plate，CP）设置，当玻璃基板进片或出片时，机械手臂单元中的异物微粒会进入热盘和冷盘中，当玻璃基板进行静置加热和冷却时，这些异物微粒也会附着在玻璃表面；在已知技术中，采用气浮式涂布机（Levi coater）代替线性涂布机（Linear Coater）可以减少在涂布前的一次机械手臂传送（将冷却后的玻璃基板移动到涂布机中无需机械手臂），但在现有的这种方案中，在涂布前依能存在一次机械手臂传送过程（将玻璃基板移动到烘烤设备中），以及在烘烤时需要静置玻璃基板，从而仍存在玻璃基板表面吸附异物微粒的问题。

另外，在现有技术中，还存在在涂布前通过不启用DB方式（不对玻璃基板进行烧烤）来减少涂布的影响，此方法需要基于清洁段风刀（A/K）可以将基板上下表面残留的水分完全吹干才能实现，但实际A/K清洁过程中并无法将基板上水汽完全清除干净。若基板表面还存在水分，在涂布光阻的过程中，造成光阻剥落（peeling）风险非常高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置，可以减少玻璃基板进行涂布前的异物微粒物的数量，且烘干效果好。

为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法，所述方法包括步骤：

将经过清洗装置清洗后的玻璃基板，通过第一滚轮装置移入一烘干室；

通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理；

将所述烘干后的玻璃基板，通过第二滚轮装置移入一冷却室；

通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理；

将冷却后的玻璃基板传送至气浮式涂布机的涂布前平台上，以对所述玻璃基板进行涂布处理。

其中，所述通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理的步骤具体为：

在位于所述第一滚轮装置上的玻璃基板以预定速度移动的同时，通过设置于所述烘干室的顶部或/及底部的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理。

其中，通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理的步骤具体为：

在位于所述第二滚轮装置上的玻璃基板以预定速度移动的同时，通过设置于所述冷却室的顶部或/及底部的冷却板，对所述玻璃基板进行冷却处理。

相应地，本发明实施例的另一方面，还提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置，包括并排设置的烘干室和冷却室，其中，

在所述烘干室的底板上设置有第一滚轮装置，用于控制将经过清洗装置清洗后的玻璃基板在所述烘干室中移动；

在所述冷却室的底板上设置有第二滚轮装置，用于控制将经过烘干室烘干的玻璃基板在所述冷却室中移动；

在所述烘干室的顶板内侧设置有多块红外加热板；

在所述冷却室的顶板内侧设置有多块冷却板。

其中，在所述烘干室的底板上进一步设置有红外加热板，在所述冷却室的底板上设置有冷却板。

其中，在所述烘干室靠近玻璃清洗装置一侧、烘干室和冷却室之间、冷却室靠近涂布机一侧均设置有供所述玻璃基板通过的通道。

其中，所述第一滚轮装置表面、第二滚轮装置表面以及所述涂布机的涂布前平台表面处于同一水平高度。

其中，所述烘干室的顶板和所述冷却室的顶板均为可活动设置。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

本发明实施例提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置，在烘干室中采用红外加热板对玻璃基板进行烘干，同时搭配气浮式涂布机来完成涂布过程；同时，在烘干室和冷却室中均设置有滚轮装置，在对玻璃基板传送过程中，无需采用机械手臂，从而可以缩小烘干室和冷却室的空间，并减少或避免从外部空间带入的异物微粒的数量；

同时，通过控制滚轮装置的传播速度，可以在玻璃基板传送的过程中即完成对玻璃基板的加热及冷却，无需象现有技术中需要静置加热及冷却，可以进一步减少少涂布工艺前玻璃基板表面异物微粒的数量，从而可以提高对玻璃基板的涂布效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法的一个实施例的主流程示意图；

图2是本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置的一个实施例的侧视结构示意图；

图3是图2中烘干室中顶板中红外加热板的设置示意图；

图4是图2中打开顶板的结构示意图；

图5是本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置的另一个实施例的侧视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在此，还需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本发明，在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了与本发明关系不大的其他细节。

如图1所示，示出了本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法的一个实施例的主流程示意图，在所述实施例中，所述方法包括如下步骤：

步骤S10，将经过清洗装置清洗后的玻璃基板，通过第一滚轮装置移入一烘干室；

步骤S11，通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理；在一个实施例中，该步骤具体为：

步骤S12，将所述烘干后的玻璃基板，通过第二滚轮装置移入一冷却室；

步骤S13，通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理；在一个实施例中，该步骤具体为：

在位于所述第二滚轮装置上的玻璃基板以预定速度移动的同时，通过设置于所述冷却室的顶部或/及底部的冷却板，对所述玻璃基板进行冷却处理，将所述玻璃基板控温至需求温度（如23℃）。

步骤S14，将冷却后的玻璃基板传送至气浮式涂布机的涂布前平台上，以对所述玻璃基板进行涂布处理。

如图2所示，示出了本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置的一个实施例的侧视结构示意图；请一并结合图3和图4所示，在本实施例中，所述装置包括并排设置的烘干室10和冷却室11，其中，

在所述烘干室10的底板100上设置有第一滚轮装置101，用于控制将经过清洗装置清洗后的玻璃基板2在所述烘干室10中移动；

在所述冷却室11的底板110上设置有第二滚轮装置111，用于控制将经过烘干室10烘干的玻璃基板在所述冷却室11中移动；

具体地，在所述烘干室10的顶板102内侧设置有多块红外加热板3，所述红外加热板3在通电后，通过电阻发热产生包含红外线的热辐射，用于对玻璃基板进行烘干；

在所述冷却室11的顶板112内侧设置有多块冷却板11，所述冷却板11可以通过热辐射的形式对冷却室11进行降温。

可以理解的是，其中红外加热板3、冷却板11的数量以及排列方式可以依据烘干室和冷却室的大小的变化有所调整，如图3中即示出了一种具有十块红外加热板的顶板。

具体地，在所述烘干室10靠近玻璃清洗装置的一侧103、烘干室10和冷却室11之间104、冷却室11靠近涂布机一侧114均设置有供所述玻璃基板2通过的通道。

在一个例子中，所述烘干室10的顶板102和所述冷却室4的顶板112均为可活动设置，所述两个顶板可以向上打开，其效果如图4所示。

可以理解的是，在其他的实施例中，所述所述烘干室10的顶板102和所述冷却室4的顶板112也可以是固定设置。

可以理解的是，所述第一滚轮装置101表面、第二滚轮装置111表面以及所述清洗装置的出口、涂布机的涂布前平台表面处于同一水平高度，从而可以无需机械手臂就能实现将玻璃基板从清洗装置移入烘干室、冷却室中，并从冷却室中移入至气浮式涂布机的涂布前平台上。

如图5所示，示出了本发明提供的一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置的另一个实施例的侧视结构示意图，在该实施例中，其与图2中的区别在于，在烘干室10的底板100上进一步设置有多块红外加热板3，在所述冷却室11的底板110上设置有多块冷却板4，从而进一步提高烘干室的烘干效果以及提高冷却室的冷却效果。其他结构及原理与图2中示出的相同，在此不进行赘述。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims

1.一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法，其特征在于，所述方法包括步骤：

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理的步骤具体为：

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理的步骤具体为：

4.一种对玻璃基板进行烘干和冷却的装置，其特征在于，包括并排设置的烘干室和冷却室，其中，

在所述烘干室的顶板内侧设置有多块红外加热板；

在所述冷却室的顶板内侧设置有多块冷却板。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，在所述烘干室的底板上进一步设置有红外加热板，在所述冷却室的底板上设置有冷却板。

6.如权利要求5所述的装置，在所述烘干室靠近玻璃清洗装置一侧、烘干室和冷却室之间、冷却室靠近涂布机一侧均设置有供所述玻璃基板通过的通道。

7.如权利要求6所述的装置，所述第一滚轮装置表面、第二滚轮装置表面以及所述涂布机的涂布前平台表面处于同一水平高度。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述烘干室的顶板和所述冷却室的顶板均为可活动设置。