CN106707688A - 一种曝光显影工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种曝光显影工艺，包括以下步骤：A)将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；B)将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；C)将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；D)将步骤C)得到的基板进行固烤。相比于现有工艺流程，其减少了一次曝光、一次显影、一次固烤与一次清洗上述四个步骤，而减少了工艺流程，提高了生产效率，且提高了制程良率。实验结果表明，本申请的曝光显影工艺针对白色玻璃盖板的曝光显影，良率可达95.5％以上，砂眼率低于1.1％，透光率低于1.5％，牙缺率低于1.9％。

Description

一种曝光显影工艺
技术领域
本发明涉及曝光显影技术领域，尤其涉及一种曝光显影工艺。
背景技术
曝光显影工艺是3D镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3D产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺，此方法可适用于多种多厚度多曲面要求的3D产品装饰。
随着市场对3D镜片产品的需求，曝光显影工艺的要求越来越高。现有曝光显影工艺的方案为一涂一曝一显，具体的，曝光显影工艺依次为：清洗1→涂布1→预烤1→曝光1→显影1→固烤1→清洗2→涂布2→预烤2→曝光2→显影2→固烤2；上述曝光显影方法工艺流程长，人力、物力需求大，设备投入大，还易造成产品不良率增加，因此现有技术还有待改进和发展。
发明内容
本发明解决的技术问题在于提供一种曝光显影工艺，本申请提供的曝光显影工艺流程简单，且提升了制程良率。
有鉴于此，本申请提供了一种曝光显影工艺，包括以下步骤：
A)，将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；
B)，将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；
C)，将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；
D)，将步骤C)得到的基板进行固烤。
优选的，所述基板为黑色玻璃盖板、白色玻璃盖板或彩色玻璃盖板。
优选的，清洗后所述基板表面的水滴角＜32°。
优选的，步骤A)中，所述感光材料的厚度小于20μm；步骤B)中，所述感光材料的厚度小于20μm。
优选的，步骤B)中，所述预烤的温度为50～120℃，时间为2～10min；步骤C)中，所述预烤的温度为50～120℃，时间为2～10min。
优选的，所述曝光的光源为紫外光，所述紫外光的曝光能量为100～3000mJ。
优选的，所述显影液为氢氧化钾溶液或碳酸钠溶液，所述显影液的浓度为0.2wt％～2wt％。
优选的，所述固烤的温度为120～200℃，时间为20～50min。
本申请提供了一种曝光显影工艺，其具体工艺流程为：清洗-涂布-预烤-涂布-预烤-显影-固烤；相比于现有工艺流程，其减少了一次曝光、一次显影、一次固烤与一次清洗上述四个步骤，则减少了工艺流程，提高了生产效率，且提高了制程良率。实验结果表明，本申请的曝光显影工艺针对白色玻璃盖板的曝光显影，良率可达92％以上，砂眼率低于3.2％，透光率低于2.6％，牙缺率低于1.4％。
具体实施方式
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明权利要求的限制。
本发明实施例公开了一种曝光显影工艺，包括以下步骤：
A)，将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；
B)，将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；
C)，将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；
D)，将步骤C)得到的基板进行固烤。
本申请提供了一种曝光显影工艺，其具体流程为：清洗-涂布-预烤-涂布-预烤-曝光-显影-固烤，上述曝光显影工艺缩短了工艺流程，提高了生产效率，但提升了制程良率。
本申请所述曝光显影工艺针对的是目前需要进行曝光显影的所有工艺过程。在曝光显影过程中，本申请首先将基板进行清洗，以保证后续曝光显影效果。所述基板为本领域技术人员熟知的材料，对此本申请没有特别的限制，示例的，所述基板可以为白色玻璃盖板，也可以为黑色玻璃盖板。所述清洗的工艺本申请没有特别的限制，按照传统的清洗工艺及参数进行即可。为了保证后续涂布以及曝光显影的效果，清洗后的基板表面水滴角优选小于32°，在具体实施例中，所述水滴角为20～30°。
按照本发明，基板清洗后则在基板表面涂布感光材料。所述涂布工艺为本领域技术人员熟知的涂布工艺，可以采用ink jet、喷涂、旋涂或其它涂布工艺，对此本申请没有特别的限制。所述感光材料本申请没有特别的限制，为本领域熟知的感光材料，在某些实施例中，所述感光材料为白色感光材料、黑色感光材料或彩色感光材料，更具体的，所述感光材料为市售的335-6010黑色感光材料、市售的11白色感光材料或市售的335-6008彩色感光材料。在涂布过程中，感光材料在基板表面的厚度应小于20μm，在某些具体实施例中，所述厚度为10～20μm。
本申请在涂布之后进行了预烤，即将涂布后的基板进行预烤。所述预烤为本领域技术人员熟知的预烤，其可以在隧道式烤箱中进行，也可以在立式烤箱中进行，对此本申请没有特别的限制。所述预烤的温度为50～120℃，所述预烤的时间为2～10min；在某些具体实施例中，所述预烤的温度为60～100℃，时间为4～8min。
在预烤之后，本申请则将预烤后的基板进行再次涂布，以在完成第一次底层涂布的工件表面再次涂布感光材料。所述涂布工艺为本领域技术人员熟知的涂布工艺，可以采用ink jet、喷涂、旋涂或其它涂布工艺，对此本申请没有特别的限制。所述感光材料本申请没有特别的限制，为本领域熟知的感光材料，在某些实施例中，所述感光材料为白色感光材料、黑色感光材料或彩色感光材料，更具体的，所述感光材料为市售的335-6010黑色感光材料、市售的11白色感光材料或市售的335-6008彩色感光材料。在涂布过程中，感光材料在基板表面的厚度应小于20μm，在某些具体实施例中，所述厚度为10～20μm。两次涂布工艺中，涂布的膜厚可以相同也可以不同，对此本申请不进行特别的限制，所述涂布的感光材料可以相同也可以不同，对此本申请没有特别的限制。
本申请在再次涂布之后进行了再次预烤，则将涂布后的基板再次进行预烤。所述预烤为本领域技术人员熟知的预烤，其可以在隧道式烤箱中进行，也可以在立式烤箱中进行，对此本申请没有特别的限制。所述预烤的温度为50～120℃，所述预烤的时间为2～10min；在某些具体实施例中，所述预烤的温度为60～100℃，时间为4～8min。本申请两次预烤的温度可以相同，也可以不同，对此本申请根据感光材料进行具体设计。
按照本发明，则将再次预烤后的基材进行曝光。所述曝光为本领域技术人员熟知的技术，对此具体技术手段本申请不进行特别的说明。本申请优选采用紫外光对涂布后的涂膜进行曝光，所述曝光的能量为100～3000mJ，在某些具体实施例中，所述曝光的能量为200～1000mJ。在曝光之后本申请进行了显影，所述显影为本领域技术人员熟知的技术手段，对此本申请不进行特别的说明。在具体实施例中，所述显影液可以为氢氧化钾溶液，也可以为碳酸钠溶液，还可以为其他显影液，根据具体的感光材料而定，所述显影液的浓度为0.2～2wt％。所述显影的电导率为6.0～10.0ms/cm2。
本申请最后将显影后的基板进行固烤，以使曝光显影效果更牢固。所述固烤为本领域技术人员熟知的固烤，其可以在隧道式烤箱中进行，也可以在立式烤箱中进行，对此本申请没有特别的限制。所述固烤的温度为120～200℃，所述固烤的时间为20～50min。
本申请提供了一种曝光显影工艺方案，所述曝光显影工艺方案流程为：清洗→涂布1→预烤1→涂布2→预烤2→曝光→显影→固烤，对比现有工艺流程：清洗1→涂布1→预烤1→曝光1→显影1→固烤1→清洗2→涂布2→预烤2→曝光2→显影2→固烤2；该方案减少4个工序流程。因此，大大节约设备、人力投入，提高生产效率，降低了产品的生产成本，提升制程良率。
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明提供的曝光显影工艺进行详细说明，本发明的保护范围不受以下实施例的限制。
以下实施例中采用的原料均为市售产品。
实施例1
一种黑色玻璃盖板曝光显影装饰应用过程，具体的工作过程如下：
清洗：使用传统的清洗工艺及参数对玻璃盖板进行表面清洁，玻璃表面水滴角管控＜32°；
涂布1：使用喷涂工艺，将黑色感光材料(具体为335-6010黑色感光材料)涂布至工件表面，厚度10～12μm；
预烤1：使用隧道式烤箱于对涂布后的工件进行预烤表干，预烤的温度为60℃，保温时间为5min；
涂布2：使用旋涂工艺，将黑色感光材料(具体为335-6010黑色感光材料)涂布至已完成第一次黑色底层涂布的工件表面，厚度10～12μm；
预烤2：使用隧道式烤箱对再次涂布后的产品进行预烤表干，预烤的温度为60℃，保温时间为5min；
曝光：使用紫外光对预烤后的涂膜的表面进行曝光处理，曝光能量3000mJ；
显影：使用KOH显影液对完成曝光后产品进行显影，得到需求图案，显影浓度1％
固烤：使用隧道式烤箱对显影后的产品进行固化，固烤的温度为180℃，时间为20min。
表1为本实施例曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺效果对比表，其中现有技术曝光显影工艺为背景技术中的曝光显影工艺。
表1本实施例的曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺的效果数据表
实验结果表明，本实施例黑色玻璃盖板的良率可达92％以上，砂眼率低于3.2％，透光不良低于2.6％，牙缺率低于1.4％。
实施例2
一种白色玻璃盖板曝光显影装饰应用过程，具体的工作过程如下：
清洗：使用传统的清洗工艺及参数对玻璃盖板进行表面清洁，玻璃表面水滴角管控＜32°；
涂布1：使用旋涂工艺，将白色感光材料(具体为335-6011白色感光材料)涂布至工件表面，厚度17～20um；
预烤1：使用立式烤箱对涂布后的产品进行预烤表干，预烤的温度为65℃，时间为6min
涂布2：使用旋涂工艺，将黑色感光材料(具体为335-6011黑色感光材料)涂布至已完成第一次白色底层涂布的工件表面，厚度8～10μm；
预烤2：使用立式烤箱对再次涂布后的产品进行预烤表干，预烤的温度为70℃，时间为6min；
曝光：使用紫外光对预烤后的涂膜的表面进行曝光处理，曝光能量为3500mJ；
显影：使用碳酸钠显影液对完成曝光后产品进行显影，得到需求图案，显影浓度1.2％；
固烤：使用立式烤箱对显影后的产品进行固化，固烤的温度为150℃，时间为20min。
表2为本实施例曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺效果对比表，其中现有技术曝光显影工艺为背景技术中的曝光显影工艺。
表2本实施例的曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺的效果数据表
实验结果表明，本实施例白色玻璃盖板的良率可达95％以上，砂眼率低于1.1％，透光不良低于1.5％，牙缺率低于1.9％。
实施例3
一种彩色玻璃盖板曝光显影装饰应用过程，具体的工作过程如下：
清洗：使用传统的清洗工艺及参数对玻璃盖板进行表面清洁，玻璃表面水滴角管控＜32°；
涂布1：使用喷涂工艺，将彩色感光材料(具体为335-6008彩色感光材料)涂布至工件表面，厚度为19～23um；
预烤1：使用立式烤箱对涂布后的产品进行预烤表干，预烤的温度为90℃，时间为6min；
涂布2：使用喷涂工艺，将黑色感光材料(具体为335-6011黑色感光材料)涂布至已完成第一次彩色底层涂布的工件表面，厚度为8～11um；
预烤2：使用立式烤箱对再次涂布后的产品进行预烤表干，预烤的温度为90℃，时间为6min；
曝光：使用紫外光对预烤后的涂膜的表面进行曝光处理，曝光能量为1800mj；
显影：使用碳酸钠显影液对完成曝光后产品进行显影，得到需求图案，显影浓度1.8％；
固烤：使用立式烤箱对显影后的产品进行固化，固烤的温度为180℃，时间为20min。
表3为本实施例曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺效果对比表，其中现有技术曝光显影工艺为背景技术中的曝光显影工艺。
表3本实施例的曝光显影工艺与现有技术曝光显影工艺的效果数据表
结果表明，本实施例白色玻璃盖板的良率可达90％以上，异色率低于3.2％，砂眼率低于3.1％，透光不良低于3.3％。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (8)

1.一种曝光显影工艺，包括以下步骤：
A)，将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；
B)，将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；
C)，将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；
D)，将步骤C)得到的基板进行固烤。
2.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，所述基板为黑色玻璃盖板、白色玻璃盖板或彩色玻璃盖板。
3.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，清洗后所述基板表面的水滴角＜32°。
4.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，步骤A)中，所述感光材料的厚度小于20μm；步骤B)中，所述感光材料的厚度小于20μm。
5.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，步骤B)中，所述预烤的温度为50～120℃，时间为2～10min；步骤C)中，所述预烤的温度为50～120℃，时间为2～10min。
6.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，所述曝光的光源为紫外光，所述紫外光的曝光能量为100～3000mJ。
7.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，所述显影液为氢氧化钾溶液或碳酸钠溶液，所述显影液的浓度为0.2wt％～2wt％。
8.根据权利要求1所述的曝光显影工艺，其特征在于，所述固烤的温度为120～200℃，时间为20～50min。
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