CN104635994B - 一种触摸屏金属图形的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：a)清洗干净已做好ITO图形的玻璃板；b)涂胶，在ITO上表面涂布光刻胶层，光刻胶层呈倒梯形状；c)预固化；d)曝光；e)显影；f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板、ITO与光刻胶层上溅镀金属层；g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解，去除光刻胶层上的金属，得到需要的金属图形；改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的金属，能够将金属杂质一同去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。

Description

一种触摸屏金属图形的制作方法
技术领域
本发明涉及触摸屏制造领域，具体是一种触摸屏金属图形的制作方法。
背景技术
触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备，具有直观、简单、快捷的优点，在许多电子产品中已经获得了广泛的应用，尤其在智能手机、平板电脑等领域的发展最为迅速，目前电容式触摸屏通常采用黄光工艺来制作金属图形，从而形成ITO的导电搭桥，一般包括清洗、镀金属、正梯形胶涂胶、曝光、显影、预固化、蚀刻与脱膜的步骤，在镀金属环节，由于磁控溅射的溅射靶上往往混有金属杂质，那么在ITO上镀金属时就很容易混入不是MoAlMo的金属杂质，在蚀刻时，蚀刻液只能去除MoAlMo的金属层，对于其它的金属杂质不能去除，导致出现金属残留的问题，影响产品的合格率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种触摸屏金属图形的制作方法，该方法能够在制作金属图形时去除在镀金属时混入的金属杂质，避免出现金属残留的问题，提高产品的合格率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：
a)清洗已做好ITO图形的玻璃板，去除玻璃板表面的污物；
b)涂胶，在ITO的上表面涂布光刻胶层，光刻胶层呈倒梯形状；
c)预固化，对光刻胶层进行加热预固化处理；
d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层；
e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层进行显影，将光罩图形保留下来；
f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板、ITO与光刻胶层上溅镀金属层；
g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解，去除光刻胶层上的金属，得到需要的金属图形。
本发明的有益效果是，改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的金属，即使在镀金属时混入了金属杂质，也能够随着光刻胶的溶解被一齐去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：
图1是本发明的示意图；
图2是本发明的脱膜步骤示意图；
图3是本发明的制作结果示意图。
具体实施方式
如图1所示，本发明提供一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：
a)清洗干净已做好ITO2图形的玻璃板1，可采用转动毛刷刷洗、清洗液冲洗、纯水洗涤等常用的清洗方式去除玻璃板1表面的污物；
b)涂胶，在ITO2的上表面涂布光刻胶层3，光刻胶层3呈倒梯形状，可以根据具体需要通过辊涂装置涂布正性光刻胶或是负性光刻胶；
c)预固化，对光刻胶层3进行加热预固化处理，加热温度100℃，加热时间1min，通过加热的方式将光刻胶层3中的溶剂大部分挥发掉从而提高显影的可控性，预固化的温度与时间可采用目前对光刻胶预固化的传统工艺方式；
d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层3；
e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层3进行显影，将光罩图形保留下来；
f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板1、ITO2与光刻胶层3上溅镀MoAlMo金属，从而形成附着在光刻胶层3上的金属层4a以及附着在玻璃板1与ITO2上的金属层4b，所述金属层的厚度小于光刻胶层，镀金属过程采用目前传统的溅镀工艺即可；
g)脱膜，结合图2所示，采用脱膜液对光刻胶层3进行溶解，去除光刻胶层3上的MoAlMo金属（即金属层4a），脱膜液可采用常用的二甲基乙酰胺与二甘醇丁醚构成的混合溶液，结合图3所示，得到需要的MoAlMo金属图形（即金属层4b）。
改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完MoAlMo金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的MoAlMo金属，即使在镀金属时混入了金属杂质，也能够随着光刻胶的溶解被一齐去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (1)

1.一种触摸屏金属图形的制作方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
a)清洗已做好ITO图形的玻璃板(1)，去除玻璃板(1)表面的污物；
b)涂胶，在ITO(2)的上表面涂布光刻胶层(3)，光刻胶层(3)呈倒梯形状；
c)预固化，对光刻胶层(3)进行加热预固化处理；
d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层(3)；
e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层(3)进行显影，将光罩图形保留下来；
f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板(1)、ITO(2)与光刻胶层(3)上溅镀金属层；
g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层(3)进行溶解，去除光刻胶层(3)上的金属，得到需要的金属图形。
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