CN104571757B - 电容式触摸屏的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明适用于触控技术领域，公开了一种电容式触摸屏的制作方法，其包括：在基板上依次形成遮挡层图形；形成第一电极层；形成第一金属层；蚀刻第一电极图形；蚀刻引线图形；去除桥点区引线图形；形成绝缘层，形成第二电极层；蚀刻第二电极图形。本发明中，其通过先在基板上沉积第一电极层和第一金属层，然后利用同一光罩对其进行构图工艺，从而可节省一个光罩，且其在去除桥点区的引线图形时，采用遮挡层图形为掩膜来去除第一电极图形上的第一金属层，无需使用新的光罩；且在本发明中，只需制作一层绝缘层图案，一方面作为触控电极层中的绝缘块，另一方面作为引线图形上的保护图案，从而相比现有技术，其不仅可减少制作工序，还可再节省一个光罩。
Description
技术领域
本发明属于触控技术领域，尤其涉及一种电容式触摸屏的制作方法。
背景技术
现有技术中触控面板的制作一般需要经过六道制程，其主要工艺如下：
a、在玻璃基板的正面上形成一层黑色油墨层遮挡层，然后利用第一光罩制作遮挡层图形；
b、在所述玻璃基板上形成第一ITO(铟锡氧化物)电极层，然后利用第二光罩制作第一电极图形；
c、在所述玻璃基板上形成一第一金属层，然后利用第三光罩制作引线图形；
d、在所述玻璃基板上形成一第一OC(感光胶)绝缘层，然后利用第四光罩制作第一OC绝缘图形；
e、在所述玻璃基板上形成第二电极层，然后利用第五光罩制作第二电极图形，所述第一电极图形与所述第二电极图形通过所述第一绝缘层绝缘，并共同组成所述触控面板的触控电极层；
f、在所述玻璃基板上制作一第二绝缘层,然后利用第六光罩制作第二绝缘层图形，以覆盖所述引线图形。其中，玻璃基板周边区域的引线图形作为金属引线，其与触控电极层电连接。
在触控面板的制作过程中，其对光罩的精度要求较高，光罩使用得越多，其对触摸屏所产生的累积系统误差也就越大，而在上述步骤中，需要用到六个光罩，因而其对触摸屏所产生的累积系统误差相对较大，且上述步骤工序过多，不利于成本的节约及生产效率的提高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电容式触摸屏的制作方法，旨在解决现有技术的电容式触摸屏制作方法需用到多个光罩及工序较多而导致触摸屏产生的累积系统误差相对较大及不利于节约成本及提高生产效率的问题。
本发明的技术方案是：一种电容式触摸屏的制作方法，其至少包括以下步骤：
a、提供至少具有相背的第一表面和第二表面的基板，所述第一表面至少包括一第一区域和第二区域，所述第二区域位于所述第一区域的至少一侧，在所述第一表面上形成一遮挡层，利用一第一光罩对所述遮挡层进行构图工艺，形成遮挡层图形；
b、至少在所述第一表面的第一区域上形成第一电极层；
c、在所述第一表面上形成一第一金属层，所述第一金属层至少覆盖所述第一电极层和所述遮挡层；
d、利用一第二光罩对所述形成有所述第一电极层和所述第一金属层的基板进行构图工艺以形成第一电极图形以及引线图形；
e、以所述遮挡层图形为掩膜，对所述d步骤后的基板进行构图工艺，以去除所述第一电极图形上的第一金属层；
f、在所述第一表面上形成一绝缘层，利用一第三光罩制作绝缘层图案，所述绝缘层图案包括形成在所述第一电极图形上的绝缘块以及覆盖在所述引线图形上的保护图案。
g、在形成有所述绝缘层图案的基板上形成第二电极层，利用一第四光罩进行构图工艺以形成第二电极图形，所述第二电极图形与所述第一电极图形通过所述绝缘块绝缘，并共同形成所述电容式触控屏的触控电极层。
具体地，所述b步骤中，所述第一电极层还形成在所述第二区域所在的第一表面。
具体地，所述第二区域邻接且环绕所述第一区域，所述d步骤中形成所述第一电极图形以及引线图形时使用了一第一曝光量，所述e步骤中去除所述第一金属层时使用了一第二曝光量，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。
进一步地，所述构图工艺为黄光工艺或者镭射工艺，所述黄光工艺至少包括曝光、显影、刻蚀工艺。
具体地，所述d步骤中，还包括在经过所述刻蚀工艺形成所述第一电极图形中使用一酸性溶液，所述酸性溶液为草酸。
具体地，所述第一电极图形为桥接线图形，所述第二电极图形为电极单元图形，所述桥接块位于所述第一表面与所述绝缘块之间。
进一步地，所述第二电极图形包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块绝缘。
具体地，所述第一电极图形为电极单元图形，所述第二电极图形为桥接线图形，所述桥接线图形位于所述绝缘块远离所述基板的一侧。
具体地，制成所述第二电极层的材料为金属或者导电金属氧化物。
进一步地，所述第一电极图形包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块绝缘。
本发明提供的电容式触摸屏的制作方法，其通过先在所述基板上沉积第一电极层和第一金属层，然后利用同一个光罩对其进行构图工艺，从而可节省一个光罩，同时也减少了一道曝光、显影的工序，且其在去除桥点区的引线图形时，采用形成第二区域所在的第一表面上的遮挡层图形为掩膜去除所述第一电极图形上的第一金属层，无需使用新的光罩；且采用本发明提供的电容式触摸屏的制作方法，只需制作一层绝缘层图案，一方面作为触控电极层中的绝缘块，另一方面作为引线图形上的保护图案，从而相比现有技术的需制作两层绝缘层，其不仅可减少制作工序，还可再节省一个光罩，即其相比现有技术可节省两个光罩，只需使用四个光罩，从而不仅可大大地减小累积系统误差，提高触摸屏的质量，同时，还可减少生产物料，节约生产成本，同时由于其工序更简便，从而还可提高生产效率。
附图说明
图1是本发明实施例提供的基板上形成遮挡层的示意图；
图2是本发明实施例提供的采用第一光罩对基板进行曝光的示意图；
图3是本发明实施例提供的基板上形成遮挡层图形的示意图；
图4是本发明实施例提供的基板上形成第一电极层和第一金属层的示意图；
图5是本发明实施例提供的采用第二光罩对基板进行曝光的示意图；
图6是本发明实施例提供的在图5的基板上形成第一电极图形和引线图形的示意图；
图7是本发明实施例提供的在图6的基板上涂布正性胶的示意图；
图8是本发明实施例提供的采用遮挡层图形对图7的基板进行曝光的示意图；
图9是本发明实施例提供的去除桥点区的引线图形后的基板的示意图；
图10是本发明实施例提供的在图9的基板上涂布绝缘层的示意图；
图11是本发明实施例提供的采用第三光罩对图10的基板进行曝光的示意图；
图12是本发明实施例提供的形成有绝缘层图案的基板的示意图；
图13是本发明实施例提供的在图12的基板上沉积第二电极层及涂布正性胶的示意图；
图14是本发明实施例提供的采用第四光罩对图13的基板进行曝光的示意图；
图15是本发明实施例提供的形成有第二电极图形的基板的示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明提供了一种电容式触摸屏的制作方法，其包括以下步骤：
a、如图1至图3所示，提供至少具有相背的第一表面11和第二表面12的基板1，本实施例中，第一表面11为基板1的正面，第二表面12为基板1的背面，所述第一表面11至少包括一第一区域111和第二区域112，所述第二区域112位于所述第一区域111的至少一侧，在所述第一表面11上形成一遮挡层20，利用一第一光罩31对所述遮挡层20进行构图工艺，形成遮挡层图形21；本实施例中，遮挡层20可通过在所述基板1上涂布一层黑色耐高温油墨而形成，且该油墨具有抗腐蚀感光特性，然后利用第一光罩31对所述遮挡层20进行曝光，经过紫外线的照射，遮挡层20上的图形被显影出来，将显影后的基板1置入碱性溶液中清洗，从而基板1上保留形成有遮挡层图形21；
b、如图4所示，至少在所述第一表面11的第一区域111上形成第一电极层40，第一电极层40可采用导电金属氧化材料或金属材料制成，例如铟锡氧化物等；
c、如图4所示，在所述第一表面11上形成一第一金属层50，所述第一金属层50至少覆盖所述第一电极层40和遮挡层20，并涂上正性胶6；
d、如图5至图7所示，利用一第二光罩32对所述形成有所述第一电极层40和所述第一金属层50的基板1进行构图工艺以形成第一电极图形41以及引线图形51，并涂上正性胶6；具体实施时，可采用酸性溶液在所述第一金属层50上蚀刻形成引线图形51，本实施例中，所采用的酸性溶液可为双氧水；在形成第一电极图形41时，可采用硝酸溶液、盐酸溶液或草酸溶液等对基板1进行蚀刻，在第一电极层40上形成第一电极图形41，优选地，采用草酸溶液进行蚀刻，采用草酸溶液进行蚀刻时，可防止将引线图形51也蚀刻掉；
e、如图8和图9所示，以所述遮挡层图形21为掩膜，对所述d步骤后的基板1进行构图工艺，且在进行构图工艺时，将基板1翻转，使其第二表面12朝上面向所述作为掩膜的遮挡层图形21，以去除所述第一电极图形41上的第一金属层50；即在本步骤中，在进行构图工艺时所使用的掩膜是遮挡层图形21，从而此处无需使用光罩设备，可节约一个光罩，减少生产物料；
f、如图10至图12所示，在所述第一表面11上形成一绝缘层70，利用一第三光罩33制作绝缘层图案71，所述绝缘层图案71包括形成在所述第一电极图形41上的绝缘块711以及覆盖在所述引线图形51上的保护图案712。
g、如图13至15所示，在形成有所述绝缘层图案71的基板1上形成第二电极层80，涂上正性胶6，利用一第四光罩34进行构图工艺，以形成第二电极图形81，所述第二电极图形81与所述第一电极图形41通过所述绝缘块711绝缘，并共同形成所述电容式触控屏的触控电极层。本发明中，其只需设置一层绝缘层即可，从而相比现有技术可减少一层绝缘层，不仅可减少工序，还可减少生产物料，从而可节约生产成本，提高生产效率。
本发明提供的电容式触摸屏的制作方法，其通过先在所述基板1上沉积第一电极层40和第一金属层50，然后利用同一个光罩对其进行构图工艺，从而可节省一个光罩，同时也减少了一道构图工序，且其在去除桥点区的引线图形51时，采用形成第二区域112所在的第一表面11上的遮挡层图形21为掩膜去除所述第一电极图形41上的第一金属层50，无需使用新的光罩；且采用本发明提供的电容式触摸屏的制作方法，只需制作一层绝缘层图案71，一方面作为触控电极层中的绝缘块，另一方面作为引线图形51上的保护图案，从而相比现有技术的需制作两层绝缘层，其不仅可减少制作工序，还可再节省一个光罩，即其相比现有技术可节省两个光罩，只需使用四个光罩，从而不仅可大大地减小累积系统误差，提高触摸屏的质量，同时，还可减少生产物料，节约生产成本，同时由于其工序更简便，从而还可提高生产效率。
在所述b步骤中，所述第一电极层40还可形成在第一表面11的所述第二区域112。即第一电极层40在所述第一表面11上的形成位置并不引以为限，可视实际情况而定。
作为一具体实施方式，所述第二区域112可邻接且环绕所述第一区域111，所述d步骤中形成所述第一电极图形41以及引线图形51时使用了一第一曝光量，所述e步骤中去除所述第一金属层50时使用了一第二曝光量，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。所述第一曝光量和第二曝光量至少包括各自的曝光强度。
在本发明中，上述的构图工艺可为黄光工艺或者镭射工艺，所述的黄光工艺至少包括曝光、显影、刻蚀工艺。
作为一具体实施方式，如图15所示，所述第一电极图形41可为桥接线图形，所述桥接线图形包括一桥接块411，所述第二电极图形81可为电极单元图形，所述桥接块411位于所述第一表面11与所述绝缘块711之间。
作为一具体实施方式，所述第二电极图形81可包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列(图中未示出)，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块711绝缘。
作为另一实施方式，所述第一电极图形41可为电极单元图形，所述第二电极图形81可为桥接线图形，该桥接线图形位于所述绝缘块711远离所述基板1的一侧(图中未示出)。
本发明中，制成所述第二电极层81的材料亦可采用金属材料或者导电金属氧化物材料，例如氧化铟锡等。
作为一具体实施方式，所述第一电极图形41可包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块711绝缘(图中未示出)。
作为一实施方式，所述f步骤中，所述绝缘层70可采用光刻胶形成。光刻胶为感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化，经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，即可得到所需的图形。
作为一具体实施方式，所述的光刻胶可为正性OC胶或负性OC胶，光照后形成不可溶物质的为负性OC胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性OC胶，本实施例中，以负性OC胶为例。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，其至少包括以下步骤：
a、提供至少具有相背的第一表面和第二表面的基板，所述第一表面为所述基板的正面，所述第二表面为所述基板的背面，所述第一表面至少包括一第一区域和第二区域，所述第二区域位于所述第一区域的至少一侧，在所述第一表面上形成一遮挡层，利用一第一光罩对所述遮挡层进行构图工艺，形成遮挡层图形；
b、至少在所述第一表面的第一区域上形成第一电极层；
c、在所述第一表面上形成一第一金属层，所述第一金属层至少覆盖所述第一电极层和所述遮挡层，并涂上正性胶；
d、利用一第二光罩对所述形成有所述第一电极层和所述第一金属层的基板进行构图工艺以形成第一电极图形以及引线图形，并涂上所述正性胶；
e、以所述遮挡层图形为掩膜，对所述d步骤后的基板进行构图工艺，以去除所述第一电极图形上的第一金属层；
f、在所述第一表面上形成一绝缘层，利用一第三光罩制作绝缘层图案，所述绝缘层图案包括形成在所述第一电极图形上的绝缘块以及覆盖在所述引线图形上的保护图案；
g、在形成有所述绝缘层图案的基板上形成第二电极层，利用一第四光罩进行构图工艺以形成第二电极图形，所述第二电极图形与所述第一电极图形通过所述绝缘块绝缘，并共同形成所述电容式触控屏的触控电极层。
2.如权利要求1所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述b步骤中，所述第一电极层还形成在所述第二区域所在的第一表面。
3.如权利要求1所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述第二区域邻接且环绕所述第一区域，所述d步骤中形成所述第一电极图形以及引线图形时使用了一第一曝光量，所述e步骤中去除所述第一金属层时使用了一第二曝光量，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。
4.如权利要求1所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述构图工艺为黄光工艺或者镭射工艺，所述黄光工艺至少包括曝光、显影、刻蚀工艺。
5.如权利要求4所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述d步骤中，还包括在经过所述刻蚀工艺形成所述第一电极图形中使用一酸性溶液，所述酸性溶液为草酸。
6.如权利要求1所述电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述第一电极图形为桥接线图形，所述桥接线图形包括一桥接块，所述第二电极图形为电极单元图形，所述桥接块位于所述第一表面与所述绝缘块之间。
7.如权利要求6所述电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述第二电极图形包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块绝缘。
8.如权利要求1所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述第一电极图形为电极单元图形，所述第二电极图形为桥接线图形，所述桥接线图形位于所述绝缘块远离所述基板的一侧。
9.如权利要求8所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，制成所述第二电极层的材料为金属或者导电金属氧化物。
10.如权利要求9所述的电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，所述第一电极图形包括多条第一电极串列和多个第二电极单元，相邻两所述第二电极单元通过所述桥接线图形电性连接，所述第一电极串列沿一第一方向排列，同一行的所述第二电极单元和所述桥接线图形沿一第二方向排列并构成第二电极串列，所述第一电极串列和第二电极串列在交叉处通过所述绝缘块绝缘。
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