CN106020562A - 一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏，用以在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。所述触控屏的制作方法，该方法包括：在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；在具有所述第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；在所述第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。

Description

一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏
技术领域
本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏。
背景技术
自触摸技术兴起以来，其普及度越来越高，依照感应方式的不同，触摸屏大致可以分为电阻式、电容式、红外线式、声波式四类。其中电阻式与电容式目前的市场用量最大，其他技术短期内恐很难赶上。随着人们对触摸的体验认可，电容屏正逐渐取代电阻屏。其中，电容式触摸屏可以分为互容式触摸屏和自容式触摸屏，由于互容式触摸屏可以实现多点触控，因此互容式触摸屏称为触摸屏市场上的主流和未来发展的趋势。
互容式触摸屏可以分为外挂式触摸屏和内嵌式触摸屏。其中，外挂式触摸屏主要可以分为G+G、GFF、单片式触控面板(One Glass Solution，OGS)和On cell等类型，其中On cell结构的触摸屏是指将触摸屏嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间的方法，即在液晶面板上设置触控模组。无论是Oncell还是OGS都面临着高开发成本，工艺流程复杂程度高，Mask数量多，桥点可视性差等问题。
为了有效降低触控模块成本，同时满足多点触控性能，近2年触控业者积极着手研发减少光罩数，降低工艺流程复杂程度，布局发展OGS、On cell或GF薄膜技术。目前已有部分TP厂家着手生产单层图案在玻璃上(single layeron cell，SLOC)的产品，SLOC产品因其制作工艺简单，制作成本低廉而备受关注，但其在推广大规模生产使用过程中因其触控区域及走线区域均使用铟锡氧化物半导体(Indium Tin Oxides，ITO)材料制作，由于ITO方阻较高，通道阻抗过大，无法实现大尺寸多点触控而止步不前，无法大规模推广应用；另外，触控厂家又通过将OC材料作为绝缘层且在OC材料中设计过孔，从而减少光罩数，通过使用ITO桥代替金属桥解决消影问题，使常规的6掩膜版(Mask)变为5Mask。然而，这些设计并不能从根本上大幅度的减少研发费用、降低生产成本，提升产品综合竞争力，解决桥点可视性问题。
综上所述，如何从根本上降低研发费用，解决桥点可视性问题从而提高产品竞争力成为更大触摸屏厂家亟待解决的难题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏，用以在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。
本发明实施例提供了一种触控屏的制作方法，该方法包括：
在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；
在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；
在具有所述第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；
在所述第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；
在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成所述第一金属走线层和所述第二金属走线层的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成所述第一金属走线层和所述第二金属走线层的图形，具体包括：
采用同一掩膜板形成与所述第一触控检测电极连接的第一金属线，和与所述第二触控检测电极连接的第二金属线的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，形成第二金属走线层的图形之后，该方法还包括：
采用蒸镀工艺在具有所述第二金属走线层的衬底基板上方形成第二绝缘层的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形之前，该方法还包括：
在衬底基板的边框区域形成黑矩阵的图形。
相应地，本发明实施例还提供了一种触控屏，所述触控屏包括：
衬底基板；
设置在所述衬底基板上的第一触控检测电极；
设置在所述第一触控检测电极所在膜层之上且位于边框区域的至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层；
设置在所述第一金属走线层之上的第一绝缘层；
设置在所述第一绝缘层之上的第二触控检测电极；
以及设置在所述第一触控检测电极所在膜层之上且位于边框区域的至少与所述第二触控检测电极电性相连的第二金属走线层
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏中，所述第一金属走线层和第二金属走线层的图形相同，包括：
与所述第一触控检测电极连接的第一金属线，和与所述第二触控检测电极连接的第二金属线。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏中，所述触控屏还包括：
设置在所述衬底基板和所述第一触控检测电极之间的边框区域的黑矩阵。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控屏中，所述触控屏还包括：
设置在所述第二金属走线层之上的第二绝缘层。
相应地，本发明实施例还提供了一种外挂式触摸屏，包括对盒设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述对向基板远离所述阵列基板一侧的，本发明实施例提供的任一种触控屏。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供了一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏，所述触控屏的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；在具有所述第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；在所述第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。因此，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，通过在衬底基板上形成异层结构的第一触控检测电极和第二触控检测电极，且在衬底基板的边框区域形成与第一触控检测电极连接的第一金属走线层和与第二触控检测电极连接的第二金属走线层，使得金属走线层仅位于边框区域，且触控区域中的第一触控检测电极和第二触控电极之间通过第一绝缘层相互绝缘，无需设计桥接实现第一触控检测电极或第二触控检测电极的相连，从而避免了解决了桥点消影的问题，且本发明实施例提供的触控屏，在边框区域的金属走线区无需采用ITO材料进行制作，且触控区域也无需设计OC绝缘层，从而降低了设计的成本。因此，本发明实施例提供的触控屏，在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种触控屏的制作方法的流程示意图；
图2(a)-图2(h)为本发明实施例提供的一种触控屏的制作方法在每个步骤执行后的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种触控屏的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种金属走线层的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的第二种触控屏的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的第三种触控屏的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种外挂式触摸屏的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的第二种外挂式触摸屏的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的第三种外挂式触摸屏的结构示意图；。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏，用以在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。
下面结合附图，对本发明实施例提供的触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
参见图1，本发明实施例提供的一种触控屏的制作方法，该方法包括：
S101、在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；
S102、在衬底基板的边框区域形成至少与第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；
S103、在具有第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；
S104、在第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；
S105、在衬底基板的边框区域形成至少与第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。
需要说明的是，第一触控检测电极可以作为触控驱动电极，第二触控检测电极作为触控感应电极；或者，第一触控检测电极作为触控感应电极，第二触控检测电极作为触控驱动电极，在此不做具体限定。其中，第一触控检测电极的图形包括呈阵列排布的多个菱形电极块，或者呈阵列排布的任何形状的电极块，第二触控检测电极的图形可以与第一触控检测电极的图形完全相同，或者与第一触控电极的图形在衬底基板基板上投影不重叠。
其中，触控屏包括触控区域和边框区域，本发明实施例提供的触控屏的触控区域不包括金属走线层，仅有边框区域形成金属走线层，从而避免了金属消影的问题。
本发明实施例提供了触控屏的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；在衬底基板的边框区域形成至少与第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；在具有第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；在第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；在衬底基板的边框区域形成至少与第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。因此，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，通过在衬底基板上形成异层结构的第一触控检测电极和第二触控检测电极，且在衬底基板的边框区域形成与第一触控检测电极连接的第一金属走线层和与第二触控检测电极连接的第二金属走线层，使得金属走线层仅位于边框区域，且触控区域中的第一触控检测电极和第二触控电极之间通过第一绝缘层相互绝缘，无需设计桥接实现第一触控检测电极或第二触控检测电极的相连，从而避免了解决了桥点消影的问题，且本发明实施例提供的触控屏，在边框区域的金属走线区无需采用ITO材料进行制作，且触控区域也无需设计OC绝缘层，从而降低了设计的成本。因此，本发明实施例提供的触控屏，在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，为了进一步减少触控屏的制作成本，减少光罩次数，本发明实施例中，采用同一掩膜版形成第一金属走线层和第二金属走线层的图形。因此，本发明实施例提供的触控屏的制作方法中，可以实现第一金属走线层和第二金属走线层分布制作，同时导通的作用，实现大尺寸多点触控，触控效果好的目的。
具体地，在形成第一金属走线层和第二金属走线层时采用同一掩膜版，使得形成第一金属走线层和第二金属走线层仅需要一个Mask。本发明实施例提供的触控屏的制作方法可以采用3个Mask制作，第一个掩膜版用于在衬底基板上形成第一触控检测电极，第二个掩膜版用于在边框区域形成第一金属走线层和第二金属走线层，第三个掩膜版用于在第一绝缘层上方形成第二触控检测电极。因此，本发明实施例提供的触控屏的制作方法，通过在形成第一金属走线层和第二金属走线层时采用同一掩膜版，使得在形成触控屏时，可以采用4道制程，3个掩膜版形成。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成第一金属走线层和第二金属走线层的图形，具体包括：采用同一掩膜板形成与第一触控检测电极连接的第一金属线，和与第二触控检测电极连接的第二金属线的图形。
具体地，在采用同一掩膜版形成第一金属走线层和第二金属走线层时，在形成于第一触控检测电极相连的第一金属走线层时，该掩膜版中包括用于形成第二金属走线层的图形，因此，同时形成用于与第二触控检测电极相连的第二金属走线层。在实际应用中，第一金属走线层包括与第一触控检测电极连接的第一金属线和与第一金属线同层设置的第一连接线，该第一连接线的图形与第二金属线的图形相同。较佳地，可以在第一绝缘层中设置过孔使得第一连接线与第二触控检测电极电性相连，或者不设置过孔，使得第一连接线与第二触控检测电极相绝缘。同理，第二金属走线层包括与第二触控检测电极连接的第二金属线和与第二金属线同层设置的第二连接线，该第二连接线的图形与第一金属线的图形相同。较佳地，可以在第一绝缘层中设置过孔使得第二连接线与第一触控检测电极电性相连，或者不设置过孔，使得第二连接线与第一触控检测电极相绝缘。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，形成第二金属走线层的图形之后，该方法还包括：采用蒸镀工艺在具有第二金属走线层的衬底基板上方形成第二绝缘层的图形。其中，第二绝缘层可以作为触控屏的保护层，提高了触控屏的图案的消影效果。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，绝缘层的材料为氮氧化硅或二氧化硅。其中，本发明实施例中的绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层，因此，第一绝缘层和第二绝缘层的材料可以均为氮氧化硅或二氧化硅中的任一种或两种的组合；或者，第一绝缘层或第二绝缘层的材料氮氧化硅或二氧化硅中的任一种或两种的组合，在此不作具体限定。其中，将氮氧化硅或二氧化硅制作的第二绝缘层可以作为触控屏的保护层，从而进一步避免桥点消影，提高了触控屏的图案的消影效果。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形之前，该方法还包括：在衬底基板的边框区域形成黑矩阵的图形。形成黑矩阵的图形用于遮挡边框区域的第一金属走线层和第二金属走线层。
另外，由于本发明实施例中黑矩阵位于边框区域的第一触控检测电极的下方，因此，黑矩阵与第一触控检测电极搭接的部分形成了闭合回路，从而将黑矩阵上方的第一触控过检测电极上的静电通过该黑矩阵的闭合回路释放到GND走线上，然后通过印刷电路板上的GND pin引脚与GND线相连，将静电进行释放。因此，进一步避免了触控屏中黑矩阵被静电击穿，防止触控区域形成导电通道或短路现象。
下面通过一个具体实施例说明本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法，该方法包括：
步骤1、在衬底基板01的边框区域形成黑矩阵02的图形，如图2(a)所示；其中，在衬底基板基板上经过涂覆、曝光、显影的构图工艺形成黑矩阵的图形；
需要说明的是，形成黑矩阵的图形为可选步骤，可以直接执行步骤2。
步骤2、在衬底基板01的边框区域和触控区域形成第一触控检测电极03的图形，如图2(b)所示，其中为了进一步说明第一触控检测电极的结构，参见图2(c)所示，第一触控检测电极03的结构可以为呈阵列排布的菱形结构；其中，在衬底基板上进行镀膜一层ITO膜层、涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光、显影，最后对ITO膜层进行刻蚀，形成第一触控检测电极的图形；
需要说明的是，第一触控检测电极的形状不仅包括图2(c)所示的结构，可以为其他形状的结构，在此不做具体限定。
步骤3、采用掩膜版在衬底基板01的边框区域形成与第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层04的图形，如图2(d)所示；其中，在衬底基板的边框区域进行金属镀膜、涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光、显影，然后对金属镀膜进行刻蚀，形成第一金属走线层的图形；
步骤4、在第一金属走线层上方形成第一绝缘层05的图形，如图2(e)所示；其中，形成第一绝缘层的图形时可以通过蒸镀的方式，且第一绝缘层的图形为整层结构；
步骤5、在第一绝缘层05的上方形成第二触控检测电极06的图形，如图2(f)所示；其中，第一绝缘层位于第一金属走线层与第二触控检测电极之间，且位于第一触控检测电极和第二触控检测电极之间；
其中，第二触控检测电极的形状与图2(c)中的第一触控检测电极的形状相同，且每一第二触控检测电极在衬底基板上的投影与第一触控检测电极在衬底基板上的投影不重叠。
步骤6、采用同一掩膜版在第二触控检测电极06的上方形成第二金属走线层07的图形，如图2(g)所示；其中，第二金属走线层与第一金属走线层采用的掩膜版相同，包括在衬底基板的边框区域的第二触控检测电极上方进行金属镀膜、涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光、显影，然后对金属镀膜进行刻蚀，形成第二金属走线层的图形；
步骤7、在第二金属走线层07的上方形成第二绝缘层08的图形，如图2(h)所示；其中，第二绝缘层位于边框区域和触控区域，第二绝缘层的图形可以通过蒸镀的方式形成。
其中，第一绝缘层和第二绝缘层的材料为SiNxOy或SiO2。
较佳地，第一触控检测电极和第二触控检测电极的材料为氧化铟锡。
具体地，通过上述步骤1至7形成触控屏，步骤1至7中均需要采用构图工艺进行构图。构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种触控屏，参见图3，触控屏包括：衬底基板01；设置在衬底基板上的第一触控检测电极03；设置在第一触控检测电极03所在膜层之上且位于边框区域的至少与第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层04；设置在第一金属走线层04之上的第一绝缘层05；设置在第一绝缘层05之上的第二触控检测电极06；以及设置在第一触控检测电极所在膜层之上且位于边框区域的至少与第二触控检测电极06电性相连的第二金属走线层07。
在具体实施例中，本发明实施例提供的触控屏中，第一金属走线层和第二金属走线层的图形相同。其中，第一金属走线层和第二金属走线层的图形相同，使得在制备第一金属走线层和第二金属走线层时，可以采用同一掩膜版形成，从而节省了制作触控屏的掩膜版次数，节省了成本。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏中，参见图4，第一金属走线层和第二金属走线层的图形相同，包括：与第一触控检测电极03连接的第一金属线031，和与第二触控检测电极06(图4中虚线框仅代表用于形成第二触控检测电极的区域)连接的第二金属线032。其中，第一金属线用于连接印刷电路板和第一触控检测电极，第二金属线用于连接印刷电路板和第二触控检测电极。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏中，参见图5，触控屏还包括：设置在衬底基板01和第一触控检测电极03之间的边框区域的黑矩阵02。其中，黑矩阵用于遮挡边框区域的第一金属走线层和第二金属走线层，由于本发明实施例中黑矩阵位于边框区域的第一触控检测电极的下方，因此，黑矩阵与第一触控检测电极搭接的部分形成了闭合回路，从而将黑矩阵上方的第一触控过检测电极上的静电通过该黑矩阵的闭合回路释放到GND走线上，然后通过印刷电路板上的GND pin引脚与GND线相连，将静电进行释放。因此，进一步避免了触控屏中黑矩阵被静电击穿，防止触控区域形成导电通道或短路现象。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控屏中，参见图6，触控屏还包括：设置在第二金属走线层07之上的第二绝缘层08。
较佳地，本发明实施例提供的触控屏中，第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为氮氧化硅或二氧化硅。其中，将氮氧化硅或二氧化硅制作的第二绝缘层可以作为触控屏的保护层，从而进一步避免桥点消影，且提高了触控屏的图案的消影效果。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种外挂式触摸屏，参见图7，包括对盒设置的阵列基板1和对向基板2，以及位于对向基板1远离阵列基板1一侧的，本发明实施例提供的任一种触控屏3。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述外挂式触摸屏中，针对on cell结构的外挂式触摸屏，参见图8，触控屏3的衬底基板01为对向基板2。较佳地，外挂式触摸屏还包括位于触控屏3上方的偏光片4，位于偏光片上方的光学透明树脂层(optical clear resin，OCR)5，以及位于OCR上方的盖板6。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述外挂式触摸屏中，针对OGS结构的外挂式触摸屏，参见图9，触控屏3的衬底基板01为外挂式触摸屏的盖板。较佳地，外挂式触摸屏还包括：位于触控屏和对向基板之间的偏光片4，以及位于偏光片4和触控屏3之间的OCR5。
本发明实施例提供了一种触控屏及其制作方法、外挂式触摸屏，所述触控屏的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；在具有所述第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；在所述第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。因此，本发明实施例提供的上述触控屏的制作方法中，通过在衬底基板上形成异层结构的第一触控检测电极和第二触控检测电极，且在衬底基板的边框区域形成与第一触控检测电极连接的第一金属走线层和与第二触控检测电极连接的第二金属走线层，使得金属走线层仅位于边框区域，且触控区域中的第一触控检测电极和第二触控电极之间通过第一绝缘层相互绝缘，无需设计桥接实现第一触控检测电极或第二触控检测电极的相连，从而避免了解决了桥点消影的问题，且本发明实施例提供的触控屏，在边框区域的金属走线区无需采用ITO材料进行制作，且触控区域也无需设计OC绝缘层，从而降低了设计的成本。因此，本发明实施例提供的触控屏，在降低成本的前提下，解决桥点消影的问题，从而提高产品的竞争力。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种触控屏的制作方法，其特征在于，该方法包括：
在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形；
在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层的图形；
在具有所述第一金属走线层的衬底基板上方形成第一绝缘层的图形；
在所述第一绝缘层的上方形成第二触控检测电极的图形；
在所述衬底基板的边框区域形成至少与所述第二触控过检测电极电性相连的第二金属走线层的图形。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用同一掩膜版形成所述第一金属走线层和所述第二金属走线层的图形。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，采用同一掩膜版形成所述第一金属走线层和所述第二金属走线层的图形，具体包括：
采用同一掩膜板形成与所述第一触控检测电极连接的第一金属线，和与所述第二触控检测电极连接的第二金属线的图形。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，形成第二金属走线层的图形之后，该方法还包括：
采用蒸镀工艺在具有所述第二金属走线层的衬底基板上方形成第二绝缘层的图形。
5.根据权利要求1-4任一权项所述的方法，其特征在于，在衬底基板上形成第一触控检测电极的图形之前，该方法还包括：
在衬底基板的边框区域形成黑矩阵的图形。
6.一种触控屏，其特征在于，所述触控屏包括：
衬底基板；
设置在所述衬底基板上的第一触控检测电极；
设置在所述第一触控检测电极所在膜层之上且位于边框区域的至少与所述第一触控检测电极电性相连的第一金属走线层；
设置在所述第一金属走线层之上的第一绝缘层；
设置在所述第一绝缘层之上的第二触控检测电极；
以及设置在所述第一触控检测电极所在膜层之上且位于边框区域的至少与所述第二触控检测电极电性相连的第二金属走线层。
7.根据权利要求6所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属走线层和第二金属走线层的图形相同，包括：
与所述第一触控检测电极连接的第一金属线，和与所述第二触控检测电极连接的第二金属线。
8.根据权利要求6所述的触控屏，其特征在于，所述触控屏还包括：
设置在所述衬底基板和所述第一触控检测电极之间的边框区域的黑矩阵。
9.根据权利要求6或8所述的触控屏，其特征在于，所述触控屏还包括：
设置在所述第二金属走线层之上的第二绝缘层。
10.一种外挂式触摸屏，其特征在于，包括对盒设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述对向基板远离所述阵列基板一侧的，如权利要求6-9任一权项所述的触控屏。
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