CN104571751B - 触摸屏面板以及制造触摸屏面板的方法 - Google Patents
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Abstract
公开了一种触摸屏面板以及制造触摸屏面板的方法。触摸屏面板包括：支承构件；第一绝缘层，该第一绝缘层形成在支承构件上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；第一触摸电极图案，该第一触摸电极图案形成在第一绝缘层的触摸电极图案支承部上；第二绝缘层，该第二绝缘层形成在第一绝缘层和第一触摸电极图案上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；以及第二触摸电极图案，该第二触摸电极图案形成在第二绝缘层的触摸电极图案支承部上，其中，第一绝缘层的触摸电极图案支承部的厚度大于第一绝缘层的连接部的厚度，并且第二绝缘层的触摸电极图案支承部的厚度大于第二绝缘层的连接部的厚度。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2013年10月17日提交至韩国知识产权局的韩国专利申请第10-2013-0123718号的优先权及权益，其全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
本发明涉及触摸屏面板以及制造触摸屏面板的方法，并且更具体地，涉及下述触摸屏面板以及制造下述触摸屏面板的方法：可以替换稀有金属、可以实现低电阻值以及可以通过减少基体材料等的数量来实现超薄(slim)结构。
背景技术
触摸检测装置包括触摸屏面板，并且将用户通过触摸屏面板的屏幕触摸或手势识别为输入信息。触摸检测装置的触摸屏面板被分类成电阻型、电容型、超声波型、红外线型等，并且在上述类型中，易于将触摸输入到电容型触摸屏面板中，因此电容型的触摸屏面板广受关注。
其中多个X轴检测电极被设置在基板上并且设置有与X轴检测电极交叉的多个Y轴检测电极的结构被用作电容型触摸屏面板的检测电极结构。在上述电容型触摸屏面板的检测电极结构中，位于同一行的X轴检测电极需要彼此电连接，并且位于同一列的Y轴检测电极需要彼此电连接。然而，在保持上述连接结构的同时，X轴检测电极需要绝缘于Y轴检测电极，因此使用下述方法：在一个基板上形成X轴检测电极、在另一基板上形成Y轴检测电极并且将两个基板接合的方法，或者在X轴检测电极和Y轴检测电极上形成多个绝缘层并且在绝缘层上形成连接电极以使X轴检测电极中的一个检测电极与Y轴检测电极中的一个检测电极电连接的方法。然而，当通过上述方法形成检测电极时，随着基板数目的增加，整个触摸屏面板的厚度也增大，因此难以制造超薄触摸屏面板，需要用于形成单独的绝缘层的另外的处理，使得增加处理难度、处理成本和处理时间，并且存在绝缘层的对准问题。
同时，使用透明导电材料作为配置触摸屏面板的检测电极的材料，并且特别地，广泛使用例如铟锡氧化物(ITO)的材料。当使用ITO作为配置检测电极的材料时，需要曝光处理、显影处理、刻蚀处理及剥离处理以用于形成电极图案，使得需要多个处理。此外，作为稀有金属的ITO逐渐被耗尽，并且也增加了其成本。
[相关技术文献]
1.用于透明电极的导电聚合物组合物，以及使用该导电聚合物组合物的触摸屏(Conductive polymer composition for transparent electrode,and touch panelusing the same)(韩国专利申请第10-2010-0057586号)
发明内容
本发明致力于提供下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，在所述触摸屏面板中，在形成检测电极图案时，替换了作为稀有金属的ITO的使用，并且减小了检测电极图案的电阻。
本发明还致力于提供下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，其中，降低了触摸屏面板的处理难度、处理成本和处理时间。
本发明还致力于提供下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，其中，通过不使用相关技术中使用的基板和绝缘层来减小触摸屏面板的总体厚度。
本发明的目的不限于上述目的，并且本领域技术人员根据下面的描述将会清楚地理解未描述的其他目的。
本发明的示例性实施方案提供了触摸屏面板，包括：支承构件；第一绝缘层，该第一绝缘层形成在支承构件上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；形成在第一绝缘层的触摸电极图案支承部上的第一触摸电极图案；第二绝缘层，该第二绝缘层形成在第一绝缘层和第一触摸电极图案上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；以及形成在第二绝缘层的触摸电极图案支承部上的第二触摸电极图案，其中，第一绝缘层的触摸电极图案支承部的厚度大于第一绝缘层的连接部的厚度，并且第二绝缘层的触摸电极图案支承部的厚度大于第二绝缘层的连接部的厚度。
第一绝缘层和第二绝缘层可以由光致抗蚀剂材料形成。
第一触摸电极图案和第二触摸电极图案可以是透明导电图案。
透明导电图案可以由包含金属的导电材料形成。
第一触摸电极图案可以沿第一方向延伸，并且第二触摸电极图案可以沿垂直于第一方向的第二方向延伸。
本发明的另一示例性实施方案提供了触摸屏面板，包括：支承构件；形成在支承构件的一个表面上并且具有凸部和凹部第一光敏树脂层；形成在第一光敏树脂层的凸部上的第一导电图案；第二光敏树脂层，该第二光敏树脂层形成在第一光敏树脂层和第一导电图案上，并且包括具有第一厚度的第一部以及具有大于第一厚度的第二厚度的第二部；以及形成在第二光敏树脂层的第二部上的第二导电图案。
本发明的又一示例性实施方案提供了制造触摸屏面板的方法，包括：在支承构件上设置下部光致抗蚀剂膜以及形成在下部光致抗蚀剂膜上的下部透明导电层；通过对下部光致抗蚀剂膜曝光若干次来形成包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部的第一光致抗蚀剂硬化层；通过对下部光致抗蚀剂膜进行显影来形成第一透明导电图案；在第一光致抗蚀剂硬化层和第一透明导电图案上设置上部光致抗蚀剂膜以及形成在上部光致抗蚀剂膜上的上部透明导电层；通过对上部光致抗蚀剂膜曝光若干次来形成包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部的第二光致抗蚀剂硬化层；以及通过对上部光致抗蚀剂膜进行显影来形成第二透明导电图案。
第一透明导电图案和第二透明导电图案可以包括含金属的导电材料。
第一光致抗蚀剂硬化层的形成可以包括：通过对下部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部；以及通过对下部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成第一光致抗蚀剂硬化层的连接部，连接部的厚度小于第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部的厚度。
所述形成第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部可以包括通过设置掩膜来对下部光致抗蚀剂膜进行曝光，所述掩模的与第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部对应的区域是开放的，以与下部透明导电层接触。
所述形成第一光致抗蚀剂硬化层的连接部可以包括通过设置掩膜来对下部光致抗蚀剂膜进行曝光，所述掩模的与第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部以及第一光致抗蚀剂硬化层的连接部对应的区域是开放的，以与下部透明导电层分隔开。
所述形成第一光致抗蚀剂硬化层的连接部可以包括对下部光致抗蚀剂膜的整个区域进行曝光。
第一透明导电图案可以形成在第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部上。
所述形成第二光致抗蚀剂硬化层可以包括：通过对上部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成第二光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部；以及通过对上部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成第二光致抗蚀剂硬化层的连接部，连接部的厚度小于第二光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部的厚度。
第二透明导电图案形成在第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部上。
实施方案的其他具体内容包括具体实施方案和附图中。
根据本发明的示例性实施方案，可以提供下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，在所述触摸屏面板中，在形成检测电极图案时可以替换作为稀有金属的ITO的使用并且可以减小检测电极图案的电阻。
根据本发明的示例性实施方案，可以提供触下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，其中，可降低触摸屏面板的处理难度、处理成本和处理时间。
根据本发明的示例性实施方案，可以提供下述触摸屏面板以及制造该触摸屏面板的方法，其中，通过不使用相关技术中使用的基板或绝缘层可减小触摸屏面板的总体厚度。
根据本发明的效果不限于上面例示的内容，并且在本说明书中还包括更多的不同效果。
附图说明
图1是根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的俯视图；
图2是沿图1的线II-II’截取的触摸屏面板的截面图；
图3是沿图1的线III-III’截取的触摸屏面板的截面图；
图4是沿图1的线IV-IV’截取的触摸屏面板的截面图；
图5是用于描述制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法的流程图；以及
图6A至图6H是用于描述制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法的工艺截面图。
具体实施方案
参照附图根据示例性实施方案的以下具体实施方式使得本公开内容及其方法实现的各种优点和特征变得明显。然而，本发明不限于文中所公开的示例性实施方案而是可以以各种形式来实现的。提供示例性实施方案以使得本发明被完全公开并且使本领域技术人员能够充分理解本发明的范围。因此，本发明将仅由所附的权利要求的范围来限定。
应理解，当如层、膜、区域或衬底的元件被称为在另一元件“上”时，其可直接在另一元件上或者也可以存在中间元件。
虽然构成元件的名称使用例如“第一……”、“第二……”等来区分，但是这是用来对构成元件的相同名称进行区分的，并且构成元件的名称不限于该顺序。因此，下面提到的第一构成元件可以是本发明的技术精神范围内的第二构成元件。
在整个说明书中，类似的附图标记表示类似的元件。
另外，为了说明书的理解和方便起见，附图中所示的各结构的大小和厚度是任意显示的，且本发明不限于此。
本发明的若干个示例性实施方案的相应的特性可以部分地或完全地结合或组合，以及在技术上且以不同方式连接并且足以使本领域技术人员充分理解，并且相应的示例性实施方案可以独立地实施以及可以根据相关联的关系被一起实现。
在下文中，将参照附图具体地描述本发明的各种示例性实施方案。
图1是根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的俯视图。参照图1，触摸屏面板100包括支承构件10、第一绝缘层20、第一触摸电极图案40、第二绝缘层30以及第二触摸电极图案50。
支承构件10可以用作用于支承触摸屏面板100的各种元件的支承体并且由透明绝缘材料形成。支承构件10可以由适用于柔性显示器等的高强度材料(如钢化玻璃和丙烯酸树脂)或硬质材料(如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚酰亚胺(PI)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA))形成。
包括交替设置的触摸电极图案支承部21和连接部22的第一绝缘层20形成在支承构件10上，第一触摸电极图案40形成在第一绝缘层20的触摸电极图案支承单元21上，包括交替设置的触摸电极图案支承部31和连接部32的第二绝缘层30形成在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上，并且第二触摸电极图案50形成在第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31上。将参照图2至图4更具体地描述第一绝缘层20、第一触摸电极图案40、第二绝缘层30、第二触摸电极图案50。
图2是沿着图1中的线II-II’截取的触摸屏面板的截面图。图3是沿着图1中的线III-III’截取的触摸屏面板的截面图。图4是沿着图1中的线IV-IV’截取的触摸屏面板的截面图。图2是基于图1中所示的触摸屏面板100的上表面沿对角线方向截取的触摸屏面板100的截面图，图3是基于图1中所示的触摸屏面板100的上表面沿Y轴方向截取的触摸屏面板100的截面图，以及图4是基于图1中所示的触摸屏面板100的上表面沿X轴方向截取的触摸屏面板100的截面图。
参照图2至图4，第一绝缘层20形成在支承构件10上。第一绝缘层20可以由光致抗蚀剂材料形成，并且特别地，第一绝缘层20可以是其中光致抗蚀剂材料被硬化的光致抗蚀剂硬化层。由于第一绝缘层20是由光致抗蚀剂材料形成的，所以第一绝缘层20可以被称为第一光敏树脂层。
第一绝缘层20具有交替设置的触摸电极图案支承部21和连接部22。第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21是用于支承形成在第一绝缘层20上的第一触摸电极图案40的部分，并且第一绝缘层20的连接部22是用于连接相邻的触摸电极图案支承部21的部分。
第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的厚度d1大于第一绝缘层20的连接部22的厚度d2。如图2至图4所示，当第一绝缘层20形成在具有平坦表面的支承构件10上时，第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的高度大于第一绝缘层20的连接部22的高度。因此，第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21可被定义为凸部，而第一绝缘层20的连接部22可被定义为凹部。第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21和第一绝缘层20的连接部22可以通过对光致抗蚀剂材料曝光若干次的方法来形成。下面将参照图5和图6描述第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21和第一绝缘层20的连接部22的具体制造过程。
当未形成第一绝缘层20的连接部22时，当第二绝缘层30由支承构件10与第一绝缘层20的触摸电极图案之间的台阶形成时，在第一绝缘层20与第二绝缘层30之间形成间隙，以使得第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的空间是开放的。因此，根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100中的第一绝缘层20包括用于连接第一绝缘层20的相邻的触摸电极图案支承部21从而使第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的开放现象最小化的连接部22。
第一触摸电极图案40形成在第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21上。触摸电极图案可以被称为检测电极图案。第一触摸电极图案40形成在第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21上，并且第一触摸电极图案40可以在支承构件10上沿第一方向延伸。图1示出了第一触摸电极图案40沿Y轴延伸，但本发明不限于此。
第一触摸电极图案40可以包括多个检测电极以及用于连接多个检测电极的多个连接电极。多个检测电极可以以各种形状形成。为了方便描述，图1示出了多个检测电极具有菱形形状并且连接电极具有用于连接多个检测电极的形状，但是多个检测电极还可以以各种形状形成，如圆柱形、斑块形、圆形以及多边形。
第一触摸电极图案40的一个表面的形状可基本上和与第一触摸电极图案40连接的第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的上表面的形状相同。也就是说，如图1所示，当第一触摸电极图案40沿Y轴方向延伸时，第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21也沿Y轴延伸，并且形成第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的上表面以使其具有与第一触摸电极图案40的连接电极和菱形检测电极的形状相同的形状。
第一触摸电极图案40是透明导电材料并且可以由包含金属的导电材料形成。例如，第一触摸电极图案40可以由银纳米线、金属网以及石墨烯中的任意一种形成。在根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100中，使用不是ITO的包含金属的导电材料作为第一触摸电极图案40，从而替代稀有金属的使用。
第二绝缘层30形成在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上。第二绝缘层30可以由光致抗蚀剂材料形成，并且特别地，第二绝缘层30可以是其中光致抗蚀剂材料经硬化的光致抗蚀剂硬化层。由于第二绝缘层30是由光致抗蚀剂材料形成的，所以第二绝缘层30可以被称为第二光敏树脂层。
第二绝缘层30具有交替设置的触摸电极图案支承部31和连接部32。第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31是用于支承形成在第二绝缘层30上的第二触摸电极图案50的部件，并且第二绝缘层30的连接部32是用于连接相邻的触摸电极图案支承部31的部件。
第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31的厚度d3大于第二绝缘层30的连接部32的厚度d4。第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31和第二绝缘层30的连接部32可以通过对光致抗蚀剂材料曝光若干次的方法来形成。下面将参照图5和图6描述第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31和第二绝缘层30的连接部32的具体制造过程。
当未形成第二绝缘层30的连接部32时，通过第一触摸电极图案40与第一触摸电极图案50之间的台阶，可见性可能劣化。通常，触摸屏面板100形成在用来显示图像的显示装置上，以使得当具有大台阶的图案形成在触摸屏面板100的上表面时，显示在显示装置中的图像的可见性可能劣化。因此，根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100可以通过形成第二绝缘层30的连接部32来改善可见性。
第二触摸电极图案50形成在第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31上。第二触摸电极图案50形成在第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31上，并且第二触摸电极图案50可以在支承构件10上沿垂直于第一方向的第二方向延伸。图1示出了第二触摸电极图案50沿X轴延伸，但本发明不限于此。
第二触摸电极图案50可以包括多个检测电极以及用于连接多个检测电极的多个连接电极。多个检测电极可以以各种形状形成。为了方便描述，图1示出了多个检测电极具有菱形形状并且连接电极具有用于连接多个检测电极的形状，但是多个检测电极还可以以各种形状形成，如圆柱形、斑块形、圆形以及多边形。
第二触摸电极图案50的一个表面的形状可基本上和与第二触摸电极图案50连接的第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31的上表面的形状相同。也就是说，如图1所示，当第二触摸电极图案50沿X轴方向延伸时，第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31也沿X轴延伸，并且形成第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31的上表面以使其具有与第二触摸电极图案50的连接电极和菱形检测电极的形状相同的形状。
第二触摸电极图案50是透明导电材料并且可以由包含金属的导电材料形成。第二触摸电极图案50可以由银纳米线、金属网以及石墨烯中的任意一种形成，以及第二触摸电极图案50可以由与第一触摸电极图案的材料相同的材料形成。
第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的厚度d1等于或小于第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31的厚度d3，并且第一触摸电极图案40的厚度d2可以与第二触摸电极图案50的厚度d4相同。因此，第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21与第一触摸电极图案40的厚度之和可以等于或小于第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31与第二触摸电极图案50的厚度之和。当形成在第一绝缘层20上的第二绝缘层30的厚度相对小于第一绝缘层20的厚度时，当形成第二绝缘层30时，在第一绝缘层20与第二绝缘层30之间形成间隙，以使得第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的空间是开放的。因此，可以通过使形成在第一绝缘层20上的第二绝缘层30的厚度等于或相对大于第一绝缘层20的厚度、以使第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的开放现象最小化。在一些示例性实施方案中，第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的厚度与第一触摸电极图案40的厚度之和、以及第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31的厚度与第二触摸电极图案50的厚度之和可以是10μm或更小。
触摸屏面板100基于第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的电容的变化来计算是否产生触摸并且计算触摸坐标。也就是说，根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100基于彼此相邻的第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的电容的变化来计算是否产生触摸并且计算触摸坐标，以使得触摸屏面板100可以基于水平地形成在第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的电容的变化来计算是否产生触摸并且计算触摸坐标。
触摸屏面板100是水平型触摸屏面板。当ITO在现有的触摸屏面板中形成为触摸电极图案时，由ITO形成的触摸电极图案之间的距离通常为100μm或更大。因此，由ITO形成的触摸电极图案之间的距离足以计算是否产生触摸并且计算触摸坐标，因此可以实现垂直型触摸屏面板。然而，例如，在根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100中，可以通过使用如银纳米线、金属网以及石墨烯的透明导电材料而不是ITO作为配置触摸电极图案的材料来形成厚度例如约为10μm或更小的薄的触摸电极图案。因此，难以实现垂直型触摸屏面板，从而在根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100中，可以实现其基于水平地形成在第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的电容的变化来计算是否产生触摸并且计算触摸坐标的水平型触摸屏面板。
在若干个示例性实施方案中，触摸屏面板100还可以包括用于对来自第一触摸电极图案40和第二触摸电极图案50的输入信号进行传输的布线。布线可以由导电材料如金属材料形成。布线可以形成在支承构件10上的其中未形成第一绝缘层20和第二绝缘层30的区域中，即，形成在第一绝缘层20和第二绝缘层30的外部区域上，并且可以对来自第一触摸电极图案40和第二触摸电极图案50的输入信号进行传输。
下文中，将参照涉及到制造方法的图5以及图6A至图6H更具体地描述根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板100。
图5是用于描述制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法的流程图。图6A至图6H是用于描述制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法的工艺截面图。
首先，将下部光致抗蚀剂膜120和形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140设置在支承构件10上(S500)。将参照图6A更具体地描述下部光致抗蚀剂膜120和形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140的设置。
下部光致抗蚀剂膜120是用于形成第一绝缘层20的位于包括在触摸屏面板100中的第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的下侧的光致抗蚀剂膜。下部光致抗蚀剂膜120由光致抗蚀剂材料形成，并且处于以膜类型形成的状态下。
下部透明导电层140是用于形成第一触摸电极图案40的透明导电层，其布置在包括在触摸屏面板100中的第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的下侧处。下部透明导电层140由透明导电材料(例如，含有金属的导电材料)形成。
在支承构件10上设置下部光致抗蚀剂膜120和下部透明导电层140之前可以在下部光致抗蚀剂膜120上形成下部透明导电层140。也就是说，可以通过将用于下部透明导电层140的液体导电材料施加在下部光致抗蚀剂膜120上并且对该导电材料进行干燥来在下部光致抗蚀剂膜120上形成下部透明导电层140。
可以通过层叠法在支承构件10上设置下部光致抗蚀剂膜120和形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140，但本发明不限于此，而是可以通过各种方法来设置下部光致抗蚀剂膜120和形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140。
接着，通过对下部光致抗蚀剂膜120曝光若干次来形成具有交替设置的触摸电极图案支承部21和连接部22的第一绝缘层20(S510)。将参照图6A和图6C来更加具体地描述第一绝缘层20的形成。
首先，参照图6B，为了形成第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21，在下部光致抗蚀剂膜120上进行第一曝光。为了形成第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21，可以在下部透明导电层140上设置第一掩模190，其与第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21对应的区域是开放的，并且可以在第一掩模190上进行UV曝光。可以将第一掩模190设置成与形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140接触，并且可以在第一掩模190与下部透明导电层140接触的状态下来进行UV曝光。下部光致抗蚀剂膜120可以由负性光致抗蚀剂材料形成，并且根据第一曝光来对下部光致抗蚀剂膜120中与第一掩模190的开放的区域对应的区域中的下部光致抗蚀剂膜120进行硬化，从而如图6B所示形成第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21。
接着，参照图6C，为了形成第一绝缘层20的连接部22，在下部光致抗蚀剂膜120上进行第二曝光。为了形成第二绝缘层30的连接部32，可以在下部透明导电层140上进行UV曝光。图6C示出了这样的情况：其中，在下部透明导电层140上不使用单独的掩模，而是可以在下部透明导电层140上设置一种掩模，该掩模的与第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21和第一绝缘层20的连接部22对应的区域是开放的，并且可以在该掩模上进行UV曝光，并且在该情况中，将该掩模设置成不接触下部透明导电层140。如上所述，当在不使用单独的掩模的情况下进行UV曝光时，或者当通过使用掩模(即使使用掩模，该掩模也被设置成不接触下部透明导电层140)进行UV曝光时，与下部光致抗蚀剂膜120的接触支承构件10的下表面不同，在UV曝光期间氧流动到下部光致抗蚀剂膜120的与下部透明导电层140接触的下表面的上表面中，并且下部光致抗蚀剂膜120的上表面的硬化根据氧的流入受干扰，使得硬化从下部光致抗蚀剂膜120的上表面到上侧进行。因此，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，可以通过调节UV曝光的量来调节第一绝缘层20的连接部22的厚度，并且第一绝缘层20的连接部22的厚度可以形成为比第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21的厚度更小。此外，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，通过对下部光致抗蚀剂膜120曝光若干次来使第一绝缘层20的相邻的触摸电极支承部件21连接，并且形成用于减小第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21与支承构件10之间的台阶的连接部，从而使第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的开放现象最小化。
接着，通过对下部光致抗蚀剂膜120进行显影来形成第一触摸电极图案40(S520)。将参照图6D来更加具体地描述第一触摸电极图案40的形成。
参照图6D，在下部光致抗蚀剂膜120的若干次曝光完成之后，可以通过对下部光致抗蚀剂膜120进行显影来去除残留的下部光致抗蚀剂膜120。此外，由于去除了残留的下部光致抗蚀剂膜120，所以也可以去除形成在去除的下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140。可以使用无机碱性溶液或有机碱性溶液来对下部光致抗蚀剂膜120进行显影，但本发明不限于此，而是可以使用各种显影方法。
通过对下部光致抗蚀剂膜120的显影，去除了残留的下部光致抗蚀剂膜120和形成在残留的下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140，使得在第一绝缘层20的触摸电极图案支承部21上形成第一触摸电极图案40。在一些示例性实施方案中，在形成第一触摸电极图案40之后，可以在第一绝缘层20上进行另外的硬化。
对于相关技术中使用ITO作为触摸电极图案的触摸屏面板，为了形成一个触摸电极图案，需要将ITO沉积在支承构件上以形成光致抗蚀剂层，并且需要进行曝光、显影、蚀刻和剥离处理来对ITO进行图案化。然而，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，可以通过在支承构件10上设置下部光致抗蚀剂膜120和形成在下部光致抗蚀剂膜120上的下部透明导电层140并且仅进行用于图案化的曝光处理和显影处理来形成触摸电极图案。因此，蚀刻处理和剥离处理等不是必需的，使得可以根据处理数目的减少而降低生产成本和生产时间，并且可以降低生产难度。
接着，在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上设置上部光致抗蚀剂膜130和形成在上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150(S530)。将参照图6E更加具体地描述上部光致抗蚀剂膜130和形成在上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150的布置。
上部光致抗蚀剂膜130是用于形成第二绝缘层30的光致抗蚀剂膜，其布置在包括在触摸屏面板100中的第一绝缘层20与第二绝缘层30之间的上侧处。上部光致抗蚀剂膜130由光致抗蚀剂材料形成，并且以膜型的状态形成。
上部透明导电层150是用于形成第二触摸电极图案50的透明导电层，其布置在包括在触摸屏面板100中的第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的上侧处。上部透明导电层150和下部透明导电层140可以由相同的材料形成。
在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上设置上部光致抗蚀剂膜130和上部透明导电层150之前，可以在上部光致抗蚀剂膜130上形成上部透明导电层150。可以通过与在下部光致抗蚀剂膜120上形成下部透明导电层140相同的方法来在上部光致抗蚀剂膜130上形成上部透明导电层150。
可以通过层叠法在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上设置上部光致抗蚀剂膜130和形成在上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150，但本发明不限于此，而是可以通过各种方法来设置上部光致抗蚀剂膜130和形成在上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150。
接着，通过对上部光致抗蚀剂膜130曝光若干次来形成具有交替设置的触摸电极图案支承部31和连接部32的第二绝缘层30(S540)。将参照图6F和图6G来更加具体地描述第二绝缘层30的形成。
首先，参照图6F，为了形成第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31，在上部光致抗蚀剂膜130上进行第一曝光。为了形成第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31，可以在上部透明导电层150上设置第二掩模191，该第二掩模191的与第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31对应的区域是开放的，并且可以在第二掩模191上进行UV曝光。可以将第二掩模191设置成接触形成在上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150，并且可以在第二掩模191与上部透明导电层150接触的状态下来进行UV曝光。上部光致抗蚀剂膜130可以由负性光致抗蚀剂材料形成，并且根据第二曝光来对上部光致抗蚀剂膜130中与第二掩模191的开放的区域对应的区域中的上部光致抗蚀剂膜130进行硬化，从而如图6F所示形成第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31。
接着，参照图6G，为了形成第二绝缘层30的连接部32，在上部光致抗蚀剂膜130上进行第二曝光。为了形成第二绝缘层30的连接部32，可以在上部透明导电层150上进行UV曝光。图6G示出了这样的情况：其中，在上部透明导电层150上不使用单独的掩模，而是可以在上部透明导电层150上设置掩模，所述掩模的与第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31和第二绝缘层30的连接部32对应的区域是开放的，并且可以在该掩模上进行UV曝光，并且在该实例中，将该掩模设置成不接触上部透明导电层150。如上所述，在不使用单独的掩模的情况下进行UV曝光或通过使用掩模(即使使用掩模，该掩模也被设置成不接触上部透明导电层150)进行UV曝光时，与下部光致抗蚀剂膜130的与第一触摸电极图案40和第一绝缘层20接触的下表面不同，在UV曝光期间氧流动到上部光致抗蚀剂膜130的与上部透明导电层150接触的上表面的上表面中，并且上部光致抗蚀剂膜130的上表面的硬化根据氧的流入受干扰，使得硬化从上部光致抗蚀剂膜130的下表面到上侧进行。因此，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，可以通过调节UV曝光的量来调节第二绝缘层30的连接部32的厚度。此外，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，通过对上部光致抗蚀剂膜130进行若干次曝光来使第二绝缘层30的相邻触摸电极图案支承部31连接，并且形成用于减小第一触摸电极图案40与第二触摸电极图案50之间的台阶的连接部32，从而提高可视率。
接着，通过对上部光致抗蚀剂膜130进行显影来形成第二触摸电极图案50(S550)。将参照图6H来更加具体地描述第二触摸电极图案50的形成。
参照图6H，在上部光致抗蚀剂膜130的若干次曝光完成之后，可以通过对上部光致抗蚀剂膜130进行显影来去除残留的上部光致抗蚀剂膜130。此外，由于去除了残留的上部光致抗蚀剂膜130，所以也可以去除形成在去除的上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150。可以使用无机碱性溶液或有机碱性溶液来对上部光致抗蚀剂膜130进行显影，但本发明不限于此，而是可以使用各种显影方法。
通过对上部光致抗蚀剂膜130的显影，去除了残留的上部光致抗蚀剂膜130和形成在残留的上部光致抗蚀剂膜130上的上部透明导电层150，从而在第二绝缘层30的触摸电极图案支承部31上形成第二触摸电极图案50。在一些示例性实施方案中，在形成第二触摸电极图案50之后，可以在第二绝缘层30上进行另外的硬化。
对于在相关技术中使用ITO作为触摸电极图案的触摸屏面板，为了形成一个触摸电极图案，需要将ITO沉积在支承构件上以形成光致抗蚀剂层，并且需要进行曝光、显影、蚀刻和剥离处理来对ITO进行图案化。此外，当期望在已形成的ITO触摸电极图案上形成另外的ITO触摸电极图案时，在已形成的ITO触摸电极图案与另外的ITO触摸电极图案之间设置单独的另外的支承构件。因此，处理成本根据另外的基体材料的使用而增加，并且整个触摸屏面板的厚度增加，使得难以制造超薄触摸屏面板。然而，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，可以通过在第一绝缘层20和第一触摸电极图案40上设置上部光致抗蚀剂膜130和形成在上部光致抗蚀剂膜130上的下部透明导电层150来形成触摸电极图案，并且仅进行用于图案化的曝光和显影。因此，蚀刻处理和剥离处理等不是必需的，使得可以根据处理数目的减少而降低处理成本和处理时间，可以降低处理难度，并且另外的基体材料的使用不是必需的，使得可以降低处理成本，并且可以制造超薄触摸屏。
此外，当期望在已形成的ITO触摸电极图案上形成另外的ITO触摸电极图案时，可以在已形成的ITO触摸电极图案与另外的ITO触摸电极图案之间形成绝缘层而非支承构件。在该种情况下，仅在已形成的ITO触摸电极图案和另外的ITO触摸电极图案的交叉点处形成绝缘层以使触摸屏面板的厚度的增加最小化。当通过上述方法形成绝缘层时，在工艺中增加单独的掩模处理是不利的，并且难以准确地使绝缘层对准。因此，在制造根据本发明的示例性实施方案的触摸屏面板的方法中，其中用于形成第二触摸电极图案50的上部光致抗蚀剂膜130被硬化的第二绝缘层30使第一触摸电极图案40绝缘于第二触摸电极图案50，使得形成用于使第一触摸电极图案40绝缘于第二触摸电极图案50的单独的绝缘层的工艺不是必需的。
已参照附图更加具体地描述了本发明的示例性实施方案，但本发明本质上不限于该示例性实施方案，而是可以在本发明的技术精神的范围内进行各种修改和执行。因此，本文中公开的各种示例性实施方案不意图限制该技术精神而是结合下面的权利要求所表明的真实的范围和精神来描述。因此，上述实施方案全部是示例性的而非限于有限的形式。应基于以下所附的权利要求来理解本发明的范围，并且应理解的是，包含在与权利要求等同的范围内的技术精神属于本发明。
Claims (15)
1.一种触摸屏面板，包括：
支承构件；
第一绝缘层，所述第一绝缘层形成在所述支承构件上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；
第一触摸电极图案，所述第一触摸电极图案形成在所述第一绝缘层的所述触摸电极图案支承部上；
第二绝缘层，所述第二绝缘层形成在所述第一绝缘层和所述第一触摸电极图案上，并且包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；以及第二触摸电极图案，所述第二触摸电极图案形成在所述第二绝缘层的所述触摸电极图案支承部上，
其中，所述第一绝缘层的所述触摸电极图案支承部的厚度大于所述第一绝缘层的所述连接部的厚度，并且
所述第二绝缘层的所述触摸电极图案支承部的厚度大于所述第二绝缘层的所述连接部的厚度。
2.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层由光致抗蚀剂材料形成。
3.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中，所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案是透明导电图案。
4.根据权利要求3所述的触摸屏面板，其中，所述透明导电图案由包含金属的导电材料形成。
5.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中，所述第一触摸电极图案沿第一方向延伸，并且
所述第二触摸电极图案沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸。
6.一种触摸屏面板，包括：
支承构件；
第一光敏树脂层，所述第一光敏树脂层形成在所述支承构件的一个表面上，并且具有凸部和凹部；
第一导电图案，所述第一导电图案形成在所述第一光敏树脂层的所述凸部上；
第二光敏树脂层，所述第二光敏树脂层形成在所述第一光敏树脂层和所述第一导电图案上，并且包括具有第一厚度的第一部以及具有大于所述第一厚度的第二厚度的第二部；以及
第二导电图案，所述第二导电图案形成在所述第二光敏树脂层的所述第二部上。
7.一种制造触摸屏面板的方法，包括：
在支承构件上设置下部光致抗蚀剂膜以及形成在所述下部光致抗蚀剂膜上的下部透明导电层；
通过对所述下部光致抗蚀剂膜曝光若干次来形成第一光致抗蚀剂硬化层，所述第一光致抗蚀剂硬化层包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；
通过对所述下部光致抗蚀剂膜进行显影来形成第一透明导电图案；
在所述第一光致抗蚀剂硬化层和所述第一透明导电图案上设置上部光致抗蚀剂膜以及形成在所述上部光致抗蚀剂膜上的上部透明导电层；
通过对所述上部光致抗蚀剂膜曝光若干次来形成第二光致抗蚀剂硬化层，所述第二光致抗蚀剂硬化层包括交替设置的触摸电极图案支承部和连接部；以及
通过对所述上部光致抗蚀剂膜进行显影来形成第二透明导电图案。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一透明导电图案和所述第二透明导电图案包括含金属的导电材料。
9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述形成第一光致抗蚀剂硬化层包括：
通过对所述下部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成所述第一光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部；以及
通过对所述下部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成所述第一光致抗蚀剂硬化层的连接部，所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述连接部的厚度小于所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部的厚度。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述形成第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部包括通过设置掩模来对所述下部光致抗蚀剂膜进行曝光，所述掩模的与所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部对应的区域是开放的，以与所述下部透明导电层接触。
11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述形成所述第一光致抗蚀剂硬化层的连接部包括通过设置掩模来对所述下部光致抗蚀剂膜进行曝光，所述掩模的与所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部以及所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述连接部对应的区域是开放的，以与所述下部透明导电层分隔开。
12.根据权利要求9所述的方法，其中，所述形成所述第一光致抗蚀剂硬化层的连接部包括对所述下部光致抗蚀剂膜的整个区域进行曝光。
13.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一透明导电图案形成在所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部上。
14.根据权利要求7所述的方法，其中，所述形成第二光致抗蚀剂硬化层包括：
通过对所述上部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成所述第二光致抗蚀剂硬化层的触摸电极图案支承部；以及
通过对所述上部光致抗蚀剂膜进行曝光来形成所述第二光致抗蚀剂硬化层的连接部，所述第二光致抗蚀剂硬化层的所述连接部的厚度小于所述第二光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部的厚度。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述第二透明导电图案形成在所述第一光致抗蚀剂硬化层的所述触摸电极图案支承部上。
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