CN112540509A - 一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 - Google Patents
一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112540509A CN112540509A CN201910900741.8A CN201910900741A CN112540509A CN 112540509 A CN112540509 A CN 112540509A CN 201910900741 A CN201910900741 A CN 201910900741A CN 112540509 A CN112540509 A CN 112540509A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating layer
- mounted screen
- vehicle
- photoresist coating
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 72
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 4
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010892 electric spark Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
本发明涉及一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,包括以下步骤:对3D曲面车载屏进行清洁至水滴角小于十度;在3D曲面车载屏上喷涂负性光阻,形成光阻涂布层;软烘光阻涂布层,使之凝固在3D曲面车载屏上;将预设图案曝光在光阻涂布层上;对光阻涂布层进行显影处理;硬烤光阻涂布层,使之附着在3D曲面车载屏上。使用该技术工艺,克服3D曲面车载屏印刷无法加工的技术瓶颈,实现超薄、高遮盖力的涂布条件,达到外观线条流畅美观,提升贴合良率。
Description
技术领域
本发明涉及3D屏幕的技术领域,尤其是涉及一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺。
背景技术
在汽车内部设置有用于显示各类信息的车载屏。最初,车载中控屏通常使用2D玻璃,为了提升屏幕整体的视觉体验等性能,2.5D弧面玻璃逐渐取代2D玻璃,2.5D在2D玻璃的基础上,对玻璃边缘进行了弧度处理。随着人们对画质、视觉体验的要求的提高,拥有更轻薄、透明洁净、耐候性更佳等特点的3D曲面玻璃显然更适合作为电子终端的面板保护玻璃。
在应用3D曲面玻璃的中控屏上,因其表面曲度较大,使用传统油墨或胶进行涂层覆盖时,喷涂不均匀,导致外观粗糙、反射不均匀,且其颗粒较大,导致涂层较厚,触摸敏感度差,同时增加后期贴合难度,导致贴合良率差。
发明内容
本发明的目的是提供一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,克服3D曲面车载屏印刷无法加工的技术瓶颈,实现超薄、高遮盖力的涂布条件,达到外观线条流畅美观,提升贴合良率。
本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,包括以下步骤:
对3D曲面车载屏进行清洁至水滴角小于十度;
在3D曲面车载屏上喷涂负性光阻,形成光阻涂布层;
软烘光阻涂布层,使之凝固在3D曲面车载屏上;
将预设图案曝光在光阻涂布层上;
对光阻涂布层进行显影处理;
硬烤光阻涂布层,使之附着在3D曲面车载屏上。
通过采用上述技术方案,将半导体的黄光技术工艺应用于3D曲面车载屏上,采用负性光阻在3D曲面车载屏上形成涂布层,经过曝光、显影以预设图案形式附着在3D车载屏上,解决现有油墨因3D车载屏曲度较大印刷无法加工的技术问题,利用负性光阻实现了超薄涂层、高遮盖力的涂布条件,外观线条流畅美观,提升后续贴合良率。
本发明进一步设置为:上述所述步骤重复一次。
通过采用上述技术方案,单层的负性光阻涂布层可能出现针孔透光点,遮盖力不够,光密度值和表面张力系数不利于贴合,双层负性光阻涂布层遮盖率提高,增加遮蔽性,光密度值和表面张力系数均有提升,有利于提升后续贴合良率。
本发明进一步设置为:所述喷涂负性光阻所用喷枪喷口内径在0.8微米以下。
通过采用上述技术方案,口径限制使负性光阻喷涂形成的涂布层厚度更好控制,也更均匀,减少单层针孔透光点。
本发明进一步设置为:所述曝光采用激光直写式。
通过采用上述技术方案,采用激光直写式,将图档发送给直写式曝光机的激光器,曝光精度高,形成的图案线条流畅,外观精美。
本发明进一步设置为:所述硬烤设定温度高于负性光阻的热固化点,时间设定为一小时。
通过采用上述技术方案,高于热固化点和长时间的高温,将残留的显影液清除,同时增加负性光阻涂布层在3D曲面车载屏上的附着力。
综上所述,本发明的有益技术效果为:
1.针对3D曲面车载屏,利用黄光技术工艺将负性光阻在3D曲面车载屏上形成超薄、高遮盖力的涂层条件,克服3D曲面车载屏的印刷无法加工的技术瓶颈,且线条流畅美观,提升后续贴合良率;
2.喷涂两次形成双层涂布层,克服单层涂布可能出现的针孔透光问题,且提高光密度和表面张力系数,更有利于后续贴合良率的提升。
具体实施方式
为了进行清楚的解释,首先对涉及到的行业术语和名词进行解释。
黄光是一种精细电路的制程工艺,通常指在半导体行业里,将晶片进行涂胶、软烘、曝光、显影、硬烤,使其光刻出一定图形的工艺。
光阻,亦称为光阻剂,是一种用在工业制程上的光敏材料,在紫外光的作用下会发生化学变化,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。负性光阻是光阻的一种,其照射到紫外光的部分难溶于光阻。
本发明公开的一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,包括以下步骤:
对3D曲面车载屏进行清洁至水滴角小于十度;
在进行黄光技术工艺之前利用等离子清洁3D曲面车载屏,通过等离子在车载屏表面产生电火花使车载屏表面洁净度和平整度更高,水滴角检测小于十度,使光阻更容易附着且附着更牢靠。
在3D曲面车载屏上喷涂负性光阻,形成光阻涂布层;
使用喷口内径小于0.8微米的高精度喷枪将负性光阻均匀喷涂在3D曲面车载屏上,采用满喷的形式覆盖3D车载屏。且对于喷涂所用压缩气源需要过滤达到无水无油状态,负性光阻遇水和油会发生分散现象,使负性光阻之间连接度减弱,不利于形成连续性的薄膜。
软烘光阻涂布层,使之凝固在3D曲面车载屏上;
软烘是在曝光前将光阻由原来喷涂时的液态凝成固态薄膜,负性光阻的颗粒大小处于微米级,单层的光阻涂布层厚度小于3微米。软烘温度超过负性光阻的热固化点,且采用垂直式烘烤,对光阻薄膜保护的同时使光阻薄膜受热更均匀。
将预设图案曝光在光阻涂布层上;
将预设的图案输入利用直写式曝光机的激光器中,对光阻涂布层进行直写式曝光,直写式曝光精准度高,经光照射部分的负性光阻将难溶于显影液。
对光阻涂布层进行显影处理;
使用能够完全覆盖3D车载屏的显影机,利用适用于负性光阻的光阻显影液对涂布层进行显影处理,经激光照射的部分留在3D曲面车载屏上,未经激光照射的部分会溶于显影液被清除。
硬烤光阻涂布层,使之附着在3D曲面车载屏上。
硬烤将残留在负性光阻上的显影液进行清除,同时在高于负性光阻热固化点的温度,进行一小时的长时间烘烤,进一步将负性光阻附着在3D车载屏上。
在上述步骤完成后需重复一次,在3D车载屏上覆盖两层负性光阻涂布层,单层的涂布层厚度小于3微米,其光密度值较小,表面张力系数较小,负性光阻涂布层设置两层,其厚度小于7微米,遮盖力提高,避免了单层可能出现的真空透光点,光密度值和表面张力系数均提高,从而提高后续的贴合良率。
本实施例的实施原理为:清洁3D车载屏后,利用喷枪将负性光阻均匀喷涂在3D车载屏上,形成光阻涂布层,软烘定型,利用直写曝光机对负性光阻涂布层进行曝光照射,后用显影机将未照射光位置的光阻进行清除,最后进行硬烤,长时间的高温去除多余显影液的同时进一步增加负性光阻在3D车载屏上的附着强度;在执行完硬烤后再次从清洁开始重复操作一次,两层的光阻涂布层遮盖力好,光密度值和表面张力系数均有所提高,从而提升后续贴合的良率。
本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例,并非依此限制本发明的保护范围,故:凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,其特征在于:包括以下步骤:
对3D曲面车载屏进行清洁至水滴角小于十度;
在3D曲面车载屏上喷涂负性光阻,形成光阻涂布层;
软烘光阻涂布层,使之凝固在3D曲面车载屏上;
将预设图案曝光在光阻涂布层上;
对光阻涂布层进行显影处理;
硬烤光阻涂布层,使之附着在3D曲面车载屏上。
2.根据权利要求1所述的一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,其特征在于:上述所述步骤重复一次。
3.根据权利要求1所述的一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,其特征在于:所述喷涂负性光阻所用喷枪喷口内径在0.8微米以下。
4.根据权利要求1所述的一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,其特征在于:所述曝光采用激光直写式。
5.根据权利要求1所述的一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺,其特征在于:所述硬烤设定温度高于负性光阻的热固化点,时间设定为一小时。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910900741.8A CN112540509A (zh) | 2019-09-23 | 2019-09-23 | 一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910900741.8A CN112540509A (zh) | 2019-09-23 | 2019-09-23 | 一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112540509A true CN112540509A (zh) | 2021-03-23 |
Family
ID=75013196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910900741.8A Pending CN112540509A (zh) | 2019-09-23 | 2019-09-23 | 一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112540509A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101950126A (zh) * | 2010-09-08 | 2011-01-19 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 基于su-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法 |
CN106371686A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-02-01 | 深圳市宇顺工业智能科技有限公司 | 柔性电容式触摸屏及其制作方法 |
CN106707688A (zh) * | 2017-02-15 | 2017-05-24 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种曝光显影工艺 |
CN106774648A (zh) * | 2016-11-26 | 2017-05-31 | 维沃移动通信有限公司 | 一种移动终端3d玻璃盖板及其油墨喷涂工艺方法 |
CN206339959U (zh) * | 2016-10-14 | 2017-07-18 | 深圳市宇顺工业智能科技有限公司 | 柔性电容式触摸屏 |
-
2019
- 2019-09-23 CN CN201910900741.8A patent/CN112540509A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101950126A (zh) * | 2010-09-08 | 2011-01-19 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 基于su-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法 |
CN106371686A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-02-01 | 深圳市宇顺工业智能科技有限公司 | 柔性电容式触摸屏及其制作方法 |
CN206339959U (zh) * | 2016-10-14 | 2017-07-18 | 深圳市宇顺工业智能科技有限公司 | 柔性电容式触摸屏 |
CN106774648A (zh) * | 2016-11-26 | 2017-05-31 | 维沃移动通信有限公司 | 一种移动终端3d玻璃盖板及其油墨喷涂工艺方法 |
CN106707688A (zh) * | 2017-02-15 | 2017-05-24 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种曝光显影工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111453997A (zh) | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 | |
JP4738079B2 (ja) | パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法 | |
CN107415511B (zh) | 一种直接将模具纹理或图案转印到钢化玻璃上的方法 | |
CN107443948A (zh) | 带有印刷层的板及其制造方法、以及显示装置 | |
CN111253076A (zh) | 通过旋转单面蚀刻制造高精度超薄玻璃的方法及其玻璃 | |
KR100664801B1 (ko) | 배선 패턴 형성 방법 | |
US11225057B2 (en) | Bonded article of thin glass on support substrate, preparation method and use thereof | |
JP2013127606A (ja) | レンズと前記レンズ上にパターンコーティングを形成する方法 | |
CN102004277B (zh) | 滤光元件制造方法 | |
EP3941743A1 (en) | Optical pattern for information acquisition system | |
JP5259062B2 (ja) | コーティング方法 | |
CN112540509A (zh) | 一种针对3d曲面车载屏的黄光技术工艺 | |
JP5851762B2 (ja) | ロール状モールド | |
CN105446558A (zh) | 一种双层单面导电线电极膜的电容式触摸屏及制造方法 | |
CN105446559B (zh) | 一种单层双面导电线电极膜的电容式触摸屏及制造方法 | |
CN108620300A (zh) | 3d立体镀膜工艺流程 | |
JP2008083194A (ja) | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスク中間体及びパターンの転写方法 | |
US11249245B2 (en) | Patterned light guide structure and method to form the same | |
JP4486404B2 (ja) | 透光性樹脂製品の製造方法及び透光性樹脂製品 | |
KR102065125B1 (ko) | 커버 글라스 제조 장치 | |
JP2000317662A (ja) | レーザ加工方法及びその装置 | |
KR102065482B1 (ko) | 광학필름의 그 제조방법 | |
TWI277781B (en) | Color filter and method for manufacturing same | |
JPH0563933B2 (zh) | ||
KR20000058361A (ko) | 레이저와 레이저마스크에 의한 회로기판의 회로 형성방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210323 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |