CN109454777A - 多通道3d纳米纹理和立体logo模具的制备方法 - Google Patents

Abstract

一种多通道3D纳米纹理和立体LOGO模具的制备方法，步骤包括：在PET光刻材料上涂上光刻胶烘干；在PET光刻材料的生胶面上放上mask图纹版，抽真空进行光刻，光刻完成后显影，使其图纹在PET光刻材料上显示出来，脱水甩干得到第一层纹理；然后进行第二层纹理光刻处理，与上述第一层类似，实现第二次纹理的处理叠加,然后进行立体logo光刻处理获得目标模具。具有制作工艺简单，成本低，同时还能重复使用，且可以实现多个纹理叠加、获得更好的纹理呈现效果，提高工作效率的优点。制作工艺简单，成本低，同时还能重复使用，且可以实现多个纹理和立体logo同时出现和叠加、获得更好的纹理呈现效果，提高工作效率的优点。

Description

多通道3D纳米纹理和立体LOGO模具的制备方法

技术领域

本发明涉及光刻技术领域的模具制备技术领域，具体是一种多通道3D纳米纹理和立体LOGO模具的制备方法。

背景技术

随着科技的发展和人们欣赏水平的提高，电子产业不断的发展壮大。电子产品，特别是手机、笔记本类便携式设备的外观越来越精细，越来越复杂。桔皮纹、木纹、仿炭纤维纹，CD纹等精细纹路装饰越来越受欢迎，并且都得到实际应用。随着外观装饰的不断拓展，纸币外观装饰的模具也日益要求精密，目前，模具加工多采用机械加工技术，包括CNC(computer numerical control，计算机数字控制机床)、线切割、电火花等。另外，微米、纳米级别模具的制备则采用光刻技术。

机械加工用到的设备多，成本高且操作麻烦，更重要的是无法完成微、纳米级别纹理的加工，如炭纤维纹路，乳突结构等。光刻技术虽然加工精度高，可以完成微、纳米级别纹理的加工，但是设备非常的昂贵，加工成本极高。

现有模具制备技术中还涉及一种转印方法，通过将有机硅胶涂布在有图案的纸上，固化后，在水液中把纸搓洗掉，将纸上的图纹和文字转印到硅胶片上，再将硅胶片连同图档一起附着在基材上。该方案主要针对可以轻易去除母版的纸类图档，一个图档只能获得一个样品，不能重复利用；而且为了复制图档清晰，必须要求涂布厚度均匀，所以对设备及其精度要求也较高，同时，现有的硅胶片上的图纹一般是单个的纹理，不能多个图纹设置在同一个硅胶片上，因此，有必要进行寻找一种更为理想的方法，能够克服现有技术的上述不足，获得更好纹理效果的技术。

此外，有时候根据客户需要，产品图文既需要纹理作为整版效果，同时还需要和logo进行配合，但是传统的都是采用将一个一个构成logo的单个图案或者文字通过电镀的方式进行制作，该过程不环保，需要大量的水造成污染水体的排放，还要通过沉积、通电油墨等到出来，工序复杂。此外，上述传统的这种方式获得的logo很容易发生磨损或者剥落，造成logo的缺失，不利于产品的品牌推广；而且，上述这种工艺制备的logo，是一种类似于平面印刷的产品，没有立体效果，不吸引客户。

发明内容

本发明针对现有技术的上述不足，提供一种制作工艺简单，成本低，同时还能重复使用，且可以实现多个纹理和立体logo同时出现和叠加、获得更好的纹理呈现效果，提高工作效率的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，具体操作步骤包括：

(1)在PET(聚对苯二甲酸类塑料)光刻材料上涂上光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用；

(2)第一层纹理光刻处理，具体包括：

(2.1)在PET光刻材料的生胶面(涂覆光刻胶的面)上放上mask(掩膜)图纹版；

(2.2)将放置好的mask图纹版的PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空；

(2.3)根据mask图纹版的精细度、调节设置光刻时间，然后进行光刻；

(2.4)光刻完成后，取出mask图纹版下一次备用；

(2.5)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(2.6)把步骤(2.5)清洗完成的PET光刻材料放入都真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干；

(3)第二层纹理光刻处理，具体包括：

(3.1)在第一层纹理处理完成后的光刻PET光刻材料上(位于第一层纹理所在面)再涂一层光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用；

(3.2)在步骤(3.1)烘干后的PET光刻材料涂胶的一面上再放上第二种mask图纹版；

(3.3)将放置好第二种mask图纹版的PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空；

(3.4)根据第二种mask图纹版的精细度、调节设置光刻时间，然后进行光刻；

(3.5)光刻完成后，取出第二种mask图纹版下一次备用；

(3.6)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把步骤(3.5)光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(3.7)把步骤(3.6)清洗完成的PET光刻材料放入到真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干，从而实现第二次纹理的处理叠加；

(4)立体logo光刻处理，具体包括：

(4.1)将步骤(3)得到的第二层纹理光刻处理的PET光刻材料上(具有两层纹理的面上)涂抹中性UV光刻胶，通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在PET光刻材料上；

(4.2)将步骤(4.1)制备的PET光刻材料进行烘烤固化；

(4.3)电脑上设计好logo的纹理和高亮度，并导入至光刻直写掩膜机，然后根据导入的logo参数通过光刻直写掩膜机对烘烤固化后的PET光刻材料上的中性UV光刻胶进行光刻，再通过显影、坚膜获得具有双层纹理和立体logo的PET光刻材料，然后再将双层纹理和立体logo翻制到PET板材上制成多通道3D纳米纹理和立体logo模具。

进一步的，所述的PET光刻材料上每加一层纹理都需要高清CCD相机进行定位。

进一步的，所述的PET光刻材料放入到光刻机上进行抽真空30-80秒(步骤(2.2)和步骤(3.3)中均为上述参数范围)。

进一步的，所述的mask图纹版的光刻时间为10-150秒。

进一步的，所述PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗设置的时间为20-300秒，进一步优选的为20-60秒。

进一步的，所述的取出mask图纹版下一次备用，为将mask图纹版置于无光盒子内放置，放置图纹版收到外界光照等因素影响，导致无法使用。

进一步的，所述的不锈钢无尘炉进行烘干，烘干温度为95-120℃，时间为10-30min。

进一步的，步骤(4.2)所述的烘烤固化为：将PET光刻材料置于100-115℃中烘烤12-26min，进行固化，使各层之间紧密连接。

进一步的，上述步骤(4.3)中的翻制，具体的过程为：提供一UV母模(PET板)，所述母模为三层结构，包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间的密着层；将双层纹理和立体logo的PET光刻材料放置于UV母模上，通过EVA紫外直射在双层纹理和立体logo的PET光刻材料上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻，形成阴影区；取出UV母模，对UV母模进行显影、脱水，坚膜，获得立体LOGO光学纹理的模具。

进一步的，所述UV光刻胶由中性UV油、光刻胶和助剂按照4:5:1的比例混合而成。按照这个比例混合的UV光刻胶其性能最好。

进一步的，所述显影采用的显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水。

优选的，所述坚膜采用烘烤坚膜方式，烘烤温度为100-110℃，烘烤时间为15-30min。本发明的优点和有益效果：

1.本发明所提供的一种多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，制备工艺简单，生产成本低，同时能重复使用，提高了生产效率。

2.本发明采用在同一张涂有光刻PET光刻材料上每加一层纹理都需要通过进行高清CCD相机进行定位，这样可以很好的在同一张PET光刻材料显示出多种不同的纹理，且不同纹理之间没有相互影响，纹理层次清晰，立体效果显著。

3.本发明首次将两个或者更多纹理图案与立体logo实现叠加，并通过控制每层纹理线条的粗细和光刻时间等参数，以及控制半透叠加或者全透叠加的方式，使得每一层的纹理都能清晰呈现，互不干扰，呈现非常理想的多通道3D纹理和立体logo叠加的技术效果。

附图说明

图1本发明双层纹理+立体logo获得的模具生产出的产品效果图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。

实施例

本发明以制备附图1双层纹理(拉丝+丝绸)+立体logo产品为具体实施例：具体的操作方法和过程为：多通道3D纳米纹理立体logo模具的制备方法，具体操作步骤如下：

(1)在光刻PET光刻材料上涂上光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用，烘干温度96-98℃，时间25-26min。

(2)第一层纹理处理(拉丝)，具体包括：

(2.1)在PET光刻材料生胶面上放入mask图纹版；

(2.2)将放置好的mask图纹版的PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空50秒；

(2.3)通过mask图纹版的精细度(0.05mm线条宽度)、调节设置光刻时间30-35s，然后进行光刻；

(2.4)光刻完成后，取出mask图纹版并将其放入一侧盒子内进行下一次备用；

(2.5)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗(显影)，清洗时间为40秒，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(2.6)把清洗完成的PET光刻材料放入都真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干；

(3)第二层纹理处理(丝绸)，具体包括：

(3.1)将第一层纹理处理完成后的光刻PET光刻材料上再一次涂一层光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用，，烘干温度为100-101℃，时间为25-26min。；

(3.2)在光刻PET光刻材料涂胶的一面上再放入第二种mask图纹版；

(3.3)将放置好第二种mask图纹版的光刻PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空，抽真空时间60秒；

(3.4)通过第二种mask图纹版的精细度(0.03mm线条宽度)、调节设置光刻时间28秒，然后进行光刻；

(3.5)光刻完成后，取出第二种mask图纹版并将其放入一侧盒子内进行下一次备用；

(3.6)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把步骤(3.4)光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗，清洗时间为35秒，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(3.7)把清洗完成的PET光刻材料放入都真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干；

(4)立体logo光刻处理，具体包括：

(4.1)将步骤(3)得到的第二层纹理光刻处理的PET光刻材料上(具有两层纹理的面上)涂抹中性UV光刻胶，通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在PET光刻材料上；

(4.2)进行烘烤固化：置于105-106℃中烘烤15-16min，进行固化，使各层之间紧密连接

(4.3)电脑上设计好立体logo的纹理和高亮度，并将处理好的立体logo图文数据传递给光刻直写掩膜机，然后根据导入的logo参数通过光刻直写掩膜机对烘烤固化的PET光刻材料上的中性UV光刻胶进行光刻，再通过显影、坚膜获得具有双层纹理和立体logo的PET光刻材料，然后再将双层纹理和立体logo的图形翻制到PET板材上制成多通道3D纳米纹理和立体logo模具。

上述步骤(4.3)中具体的翻制过程为：提供一UV母模(PET板)，所述母模为三层结构，包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间第二密着层；将所述(4.3)制备的双层纹理和立体logo的图形PET光刻材料放置于所述UV母模上，通过EVA紫外直射在具有双层纹理和立体logo图形的PET光刻材料上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻，形成阴影区；取出UV母模，对UV母模进行显影脱水，坚膜，制成多通道3D纳米纹理和立体logo模具。

上述翻制过程的密着层主要是为了提高UV光刻胶和下层PET板的黏着性。密着层要求表面平整，同时耐高温。涂胶方法有浸涂、甩涂、辊涂等，其中辊涂的涂覆质量好于其他两种，它是通过胶辊将感光胶均匀地涂在PET光刻材料上。本申请上述各种方式均可，其中甩涂操作方式更加的便捷，可以优先考虑使用。本发明的密着层包含溶剂及密着促进剂的组合物制得，溶剂包括但不限于：丙二醇单甲醚、二丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯或其组合，优选为丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯或其组合。上述密着促进剂可为本领域普通技术人员所熟知的任何密着促进剂，包括但不限于：硅烷偶联剂；芳香环或杂环化合物；磷酸酯类化合物；多价金属盐或酯类，例如钛酸酯或锆酸酯；有机聚合物树脂，例如环氧树脂或聚酯树脂；或氯化聚烯烃等。溶剂及密着促进剂的配比为溶剂可以将促进剂完全溶解即可，密着层涂抹之后，需要进行加热，120℃-150℃的温度下进行软烤，历时约5分钟至约30分钟)，使得密着促进剂与PET板产生化学键合并由此去除溶剂；溶剂使得促进剂完全溶解就可以满足使用要求，通过加热去除溶剂。

本发明所述的PET光刻材料放入到光刻机上进行抽真空50-55秒(步骤(2.2)和步骤(3.3)中均为上述参数范围)。

本发明所述的取出mask图纹版下一次备用，为将mask图纹版置于无光盒子内放置，防止图纹版受到外界光照等因素影响，导致无法使用。

本发明所述UV光刻胶由中性UV油(市售UV油)、光刻胶和助剂按照4:5:1的重量比例混合而成。按照这个比例混合的UV光刻胶其性能最好。其中的光刻胶可以为市售的光刻胶，助剂可以为硅烷偶联剂、抗氧剂、紫外吸收剂、消泡剂和流平剂中的一种或几种，本实施例为硅烷偶联剂、流平剂和抗氧剂，均为市售常规产品，重量比例2:1:0.5。

将获得的双层纹理+立体logo的模具上涂覆上UV胶，然后覆盖PET板，对UV涂层进行纹理压印，利用UV光源对压印完的UV涂层进行光固化，固化完成后去掉母版，获得具有母版图形的PET板，对PET板上多余的UV胶去除，根据底色要求盖上相应颜色的油墨，然后在油墨上盖上保护胶，进行激光烧外形获得目标产品；如附图1所示的拉丝+丝绸+立体logo的产品，从产品效果图可以看出：采用本发明的模具制备的产品，两种纹理相互不遮盖，同时显现，同时立体logo清晰、层次感强；且从不同角度观察能呈现不同的立体logo显示效果。采用本发明的工艺，可以在同一平面上做出2层、3层甚至多层纹理，每一层纹理都清晰可见，立体感更强。

本发明上述实施例，同一张PET光刻材料上每加一层纹理都需要通过进行高清CCD相机进行定位，这样可以很好的在同一张PET光刻材料显示出多种不同的纹理，且不同纹理之间没有相互影响，纹理层次清晰，立体效果显著，如附图1所示，产品层次感强，纹理清晰。

在本实施例中，涂胶效果控制好坏直接影响光刻质量，因此在操作时应将光刻胶按要求准备好，并控制好光刻胶的涂层厚度及均匀性、涂层表面状态等。本实施例采用中性UV光刻胶来进行涂抹。

在本实施例中，将涂抹处理后的PET光刻材料置于100-110℃中烘烤10-25min，进行固化，使各层之间紧密连接。为保证胶膜的质量，涂胶工序应在洁净条件下进行，最好在密封的无尘环境中进行。

本实施例的光刻,就是在涂好中性UV光刻胶的PET光刻材料的胶面上覆盖掩模版，通过紫外光进行选择性照射，使受光照部位的中性UV光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度，不受光照部分的中性UV光刻胶形成阴影区；一般光刻的过程是：先将光刻直写掩膜机的紫外光灯打开预热，待电源稳定，掩膜版放在印框上通过显微镜进行对位，然后再将PET光刻材料涂胶的一面朝上放在光刻平台，进行定位。最后调节紫外光的照射时间和强度进行光刻。照射时间过短，光刻感光不足，其化学应不充分，显影时受光部分溶解不彻底，易留底膜；曝光时间过长不该曝光部分边缘也被微弱感光，刻蚀后图形边界模糊，细线条变开严重。通过合理控制光刻时间，本发明获得产品效果有保证。

本实施例的显影，光刻完成的PET光刻材料放入一显影槽内进行浸泡显影，显影槽内设有显影液，使得图纹在PET光刻材料上显示出来；显影就是将感光部分的中性UV光刻胶溶除，留下未感光部分的胶膜从而显示所需要的图形。显影液通过浸泡光刻完成的PET光刻材料，或者通过摇摆的喷头喷洒在光刻完成的PET光刻材料的UV光刻胶面上，过一定时间显出图形后，UV母模再通过水洗，将显影液冲掉。显影液有两种，一种是与UV光刻胶配套的专用显影液；另一种是定浓度的碱液(主要包括KOH或NaOH、助剂和活性水)。第二种使用普遍些，本实施例采用二种方式均可以实现。本实施例可以是氢氧化钠：助剂(氨水or硅酸钠)：活性水＝2:5:93(重量比)配置而成，显影液配置是在调制槽中进行的，先在槽中注入一定量活性水，然后根据溶液浓度称量碱放入槽中搅拌，待碱液完全溶解后，将配好的显影液注入显影槽。显影时必须控制好时间和温度(一般温度范围请给出20-25度,时间10-10min)，温度和时间直接影响显影速度，若显影时间不足或温度低，则中性UV光刻胶(UV固体胶)的阴影区不能完溶解，留有一层感光胶，在刻蚀时，这层胶会起保护作用，使应该刻蚀的部分被保护下来。若显影时间过长或温度过高，显影时未被曝光的中性UV光刻胶会从边缘向里钻溶，使图形边缘变差，再严重会使中性UV光刻胶大片剥落。因此，本实施例对时间和温度都进行了理想化的控制，获得的产品比较理想。

本发明所述的坚膜采用烘烤坚膜方式，由于显影使中性UV固体胶发生软化、膨胀，影响胶膜的抗蚀能力，因此显影后必须用适当温度烘焙整个UV母模以去除水分，增强与底层PC板材4的粘着性，这个过程叫坚膜。坚膜的方式有两种，一种是用烘箱坚膜，另一种是用红外光坚膜。坚膜也需要着重控制温度和时间，这两个条件对坚膜质量的影响很大。本实施例的烘烤坚膜的温度为106-108℃，烘烤时间28-30min。

本发明的PET光刻材料即为透明的PET薄膜板材。

本发明的上述实施例是对本发明的说明而不能用于限制本发明，与本发明的权利要求相当的含义和范围内的任何改变，都应认为是包括在权利要求书的范围内。

Claims (10)

1.一种多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，具体操作步骤如下：

(1)在PET光刻材料上涂上光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用；

(2)第一层纹理光刻处理，具体包括：

(2.1)在PET光刻材料的光刻胶所在面上放上mask图纹版；

(2.2)将放置好的mask图纹版的PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空；

(2.3)根据mask图纹版的精细度、调节设置光刻时间，然后进行光刻；

(2.4)光刻完成后，取出mask图纹版下一次备用；

(2.5)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(2.6)把步骤(2.5)清洗完成的PET光刻材料放入都真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干；

(3)第二层纹理光刻处理，具体包括：

(3.1)在第一层纹理处理完成后的PET光刻材料上再涂一层光刻胶，然后进入不锈钢无尘炉进行烘干备用；

(3.2)在步骤(3.1)烘干后的PET光刻材料涂胶的一面上再放上第二种mask图纹版；

(3.3)将放置好第二种mask图纹版的PET光刻材料放入到光刻机上，然后打开真空泵，进行抽真空；

(3.4)根据第二种mask图纹版的精细度、调节设置光刻时间，然后进行光刻；

(3.5)光刻完成后，取出第二种mask图纹版下一次备用；

(3.6)取配好的显影液放入清洗盒中，然后把步骤(3.5)光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗，使其图纹在PET光刻材料上显示出来；

(3.7)把步骤(3.6)清洗完成的PET光刻材料放入到真空环境中，打开脱水机将PET光刻材料的水分进行甩干，从而实现第二次纹理的处理叠加；

(4)立体logo光刻处理，具体包括：

(4.1)将步骤(3)得到的第二层纹理光刻处理的PET光刻材料上涂抹中性UV光刻胶，通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在PET光刻材料上；

(4.2)将步骤(4.1)制备的PET光刻材料进行烘烤固化；

(4.3)电脑上设计好logo的纹理和高亮度，并导入至光刻直写掩膜机，然后根据导入的logo参数通过光刻直写掩膜机对烘烤固化后的PET光刻材料上的中性UV光刻胶进行光刻，再通过显影、坚膜获得具有双层纹理和立体logo的PET光刻材料，然后再将双层纹理和立体logo翻制到PET板材上制成多通道3D纳米纹理和立体logo模具。

2.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述的PET光刻材料上每加一层纹理都需要高清CCD相机进行定位。

3.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述的PET光刻材料放入到光刻机上进行抽真空30-80秒。

4.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述的mask图纹版的光刻时间为30-150秒；更具体的线条宽度为0.01-0.03mm细的时间10-80秒，线条宽度为0.031-0.05mm的时间为81-150秒。

5.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述PET光刻材料放入清洗盒中进行清洗设置的时间为20-300秒。

6.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述的取出mask图纹版下一次备用，为将mask图纹版置于无光盒子内放置。

7.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述的不锈钢无尘炉进行烘干，烘干温度为95-120℃，时间为10-30min；所述的清洗时间为20-60秒。

8.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：步骤(4.2)所述的烘烤固化为：将涂抹处理后的所述光学高分子PC复合板材置于100-110℃中烘烤固化10-25min；步骤(4.3)中的翻制，具体的过程为：提供一UV母模，所述母模为三层结构，包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间的密着层；将双层纹理和立体logo的PET光刻材料放置于UV母模上，通过EVA紫外直射在双层纹理和立体logo的PET光刻材料上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻，形成阴影区；取出UV母模，对UV母模进行显影、脱水，坚膜，获得立体LOGO光学纹理的模具。

9.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述UV光刻胶由中性UV油、光刻胶和助剂按照4:5:1的比例混合而成。

10.根据权利要求1所述的多通道3D纳米纹理和立体logo模具的制备方法，其特征在于：所述显影采用的显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水。