CN203799174U - 一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备。本实用新型的有益效果是：减压干燥的同时进行加热，将减压干燥工艺和前烘工艺同时进行，降低成本、提高生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及液晶产品工艺技术领域，尤其涉及一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备。
背景技术
TFT-LCD（薄膜晶体管液晶显示器，Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay）不断向高世代发展，玻璃基板不断增大，产能不断提高。各厂商为了提高竞争力，在不断提高产品性能和开发新产品的同时，还在成本的降低上做着各种努力。
如图1所示，现有技术中的减压干燥装置，包括干燥室1和设置与干燥室1内的用于承载玻璃基板的承载台2，所述承载台2由多个独立且位于同一水平面的承载板间隔组成。如图2所示，现有的烘烤装置，包括本体1，所述本体1包括多层设置的烤箱2。
在传统的光刻设备中减压干燥设备和前烘设备是完全独立的设备，不仅增加了设备，还增占了厂房面积（光刻产线是Array厂房中最长的产线），而且加大了对设备维护的难度。
实用新型内容
为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备，提高生产效率。
为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：
干燥室；
用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；
所述减压干燥装置还包括：
用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。
进一步的，所述承载台包括一第一承载板，所述第一承载板的外表面形成用于承载玻璃基板的承载面。
进一步的，所述承载台还包括与所述第一承载板叠置的第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间具有间隙形成用于容纳所述加热结构的容纳空间。
进一步的，所述加热结构包括一电加热板。
进一步的，还包括：
固定支架，固定于所述干燥室的外底部；
多个升降杆，一端固定于所述固定支架，另一端穿设于所述承载台；
所述多个升降杆具有第一状态和第二状态，所述第一状态为多个所述升降杆的另一端的高度低于所述承载面的高度；所述第二状态为多个所述升降杆的另一端的高度高于所述承载面的高度；
驱动结构，用于控制多个所述升降杆从所述第一状态运动到所述第二状态。
进一步的，所述干燥室的底部设有与真空泵连接的抽气孔。
进一步的，所述干燥室底部设有用于支撑所述承载台的支撑杆。
本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备，包括上述的减压干燥装置。
本实用新型的有益效果是：减压干燥的同时进行加热，将减压干燥工艺和前烘工艺同时进行，降低成本、提高生产效率。
附图说明
图1表示现有技术中减压干燥装置结构示意图；
图2表示现有技术中烘烤装置结构示意图；
图3表示本实用新型减压干燥装置结构示意图；
图4表示本实用新型减压干燥装置分解结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。
如图3和图4所示，本实施例提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：
干燥室1；
用于承载玻璃基板的承载台2，设于所述干燥室1内；
所述减压干燥装置还包括：
用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室1内。
本实施例减压干燥装置将减压干燥工艺和前烘工艺合为一体，不仅减少了设备上的资金投入、节省了厂房面积，减少了设备内一些无谓的传送，降低了设备的生产节拍，提高了产能，而且有效的减小了VOC（挥发性有机化合物）的挥发，降低了VOC挥发对人体造成的伤害。
本实施例中，所述干燥室1为一具有盖体11的密封式腔体结构，所述干燥室1的底部设有与真空泵连接的抽气孔。
所述承载台2包括一第一承载板21，所述第一承载板21的外表面形成用于承载玻璃基板的承载面。
现有技术中，承载台由多个独立且位于同一水平面的承载板间隔设置形成，其用于承载玻璃基板的承载面则由所述多个间隔设置的承载板的表面形成，本实施例中，所述承载面为一独立的、完整的平面，减压干燥时气体可均匀的通过载台四周流向抽气孔，避免了传统式下部排气时，中心与边缘溶质析出后的气流紊乱、溶质析出不均的问题。
本实施例中，所述加热结构与所述承载台的连接关系可以有多种，可以直接作为一体结构，也可以可拆卸的连接，例如：卡接、插接等，以下介绍几种本实施例中所述加热结构与所述承载台的连接关系：
一实施例中，所述承载台2还包括与所述第一承载板21叠置的第二承载板22，所述第一承载板21和所述第二承载板22之间具有间隙形成用于容纳所述加热结构的容纳空间。
一实施例中，所述第一承载板21的一侧设有条形开口，沿着所述开口向所述承载面平行的方向向内延伸形成一用于容纳玻璃基板的凹槽。
一实施例中，所述第一承载板21的底部设有用于连接所述加热结构的卡接结构。
进一步的，所述加热结构包括一电加热板。当然，所述加热结构也可以是其他结构形式，例如，包括多个加热灯的承载板。
为了玻璃基板受热均匀，所述电加热板的面积不小于所述承载面的面积，即不小于所述相应的玻璃基板的面积。
进一步的，所述减压干燥装置还包括：
固定支架3，固定于所述干燥室1的外底部；
多个升降杆4，一端固定于所述固定支架3，另一端穿设于所述承载台2；
所述多个升降杆4具有第一状态和第二状态，所述第一状态为多个所述升降杆4的另一端的高度低于所述承载面的高度；所述第二状态为多个所述升降杆4的另一端的高度高于所述承载面的高度；
驱动结构，用于控制多个所述升降杆4从所述第一状态运动到所述第二状态。
所述第一承载板21、所述第二承载板22和所述电加热板上对应的位置均设有可供所述升降杆4穿过的孔。
在所述驱动结构的控制下，所述升降杆4从所述第一状态运动到所述第二状态，即所述升降杆4外露于所述承载面，将待处理的玻璃基板放置于所述多个升降杆4的另一端，所述升降杆4下降，所述升降杆4位于所述第一状态，即多个所述升降杆4的另一端的高度低于所述承载面的高度，所述升降杆4整体位于所述承载面以内，此时待处理的玻璃基板与所述承载面相接触。
减压干燥、烘干处理后，在所述驱动结构的控制下，所述升降杆4从所述第一状态运动到所述第二状态，即所述升降杆4外露于所述承载面，多个所述升降杆4托起经过的玻璃基板，玻璃基板与所述承载台2脱离，以方便从所述承载台2上取下玻璃基板。
所述干燥室1底部设有用于支撑所述承载台2的支撑杆12所述承载台2与所述干燥室1的底部具有一定的距离，便于气体从所述干燥室1的底部抽出。
本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备，包括上述的减压干燥装置。
本实施例中，所述承载台2内加入电加热板（Heater），在减压干燥的同时对玻璃基板进行加热，此时光刻胶内的溶剂将更容易挥发出来，光刻胶与玻璃基板的粘附性也将会更好。挥发出来的有机物可有效的通过下面的抽气的抽气孔全部抽走，避免所述盖体11及周围粘附溶剂和光刻胶，从而大大减少溶剂低落到基板导致的产品不良发生，同时可延长维护周期和降低维护难度，不需要使用大量化学清洗剂就可以维护，延长设备寿命，同时降低周围环境的VOC，保证人身健康。
Photolithography（光刻）工艺一直以来都时Array（阵列）的瓶颈工艺，将减压干燥（VCD）工艺和前烘(Bake)工艺同时进行，大大的缩短了Photolithography工艺的Tact Time（节拍时间），大幅度的提高了设备产能，可有效缓解瓶颈工艺的压力。
以上所述为本实用新型较佳实施例，应当指出的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。
Claims (8)
1.一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：
干燥室；
用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；
其特征在于，所述减压干燥装置还包括：
用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。
2.根据权利要求1所述减压干燥装置，其特征在于，所述承载台包括一第一承载板，所述第一承载板的外表面形成用于承载玻璃基板的承载面。
3.根据权利要求1或2所述减压干燥装置，其特征在于，所述承载台还包括与所述第一承载板叠置的第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间具有间隙形成用于容纳所述加热结构的容纳空间。
4.根据权利要求3所述减压干燥装置，其特征在于，所述加热结构包括一电加热板。
5.根据权利要求2所述减压干燥装置，其特征在于，还包括：
固定支架，固定于所述干燥室的外底部；
多个升降杆，一端固定于所述固定支架，另一端穿设于所述承载台；
所述多个升降杆具有第一状态和第二状态，所述第一状态为多个所述升降杆的另一端的高度低于所述承载面的高度；所述第二状态为多个所述升降杆的另一端的高度高于所述承载面的高度；
驱动结构，用于控制多个所述升降杆从所述第一状态运动到所述第二状态。
6.根据权利要求1所述减压干燥装置，其特征在于，所述干燥室的底部设有与真空泵连接的抽气孔。
7.根据权利要求6所述减压干燥装置，其特征在于，所述干燥室底部设有用于支撑所述承载台的支撑杆。
8.一种阵列光刻工艺设备，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的减压干燥装置。
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN105783438A (zh) * | 2016-03-09 | 2016-07-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种减压加热干燥装置 |
| CN106249548A (zh) * | 2016-08-03 | 2016-12-21 | 武汉华星光电技术有限公司 | 基板干燥装置 |
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2014
- 2014-04-01 CN CN201420156215.8U patent/CN203799174U/zh not_active Expired - Fee Related
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