JP5258849B2 - 塗布装置およびノズルのメンテナンス方法 - Google Patents
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Description
この場合、前記レジスト供給ノズルにはLCD基板の幅方向に延びる微小間隔を有するスリット状の吐出開口が備えられ、このスリット状の吐出開口から帯状に吐出されるレジスト液を基板の表面全体に供給してレジスト層を形成するようになされる。
そこで、レジスト供給ノズルの吐出口を乾燥させないように吐出口をシンナーの蒸気雰囲気に保持するシンナーバスなどを備えたノズル洗浄ユニットを備えた塗布装置が特許文献1に開示されている。
前記したようにノズル10内がシンナー等の洗浄液に置換されている場合においては、シンナーを薬液導入部14から加圧導入し、左右の導出部15,16からベントラインに前記シンナーを排出させることで、ノズル10内から異物を排出させるメンテナンス操作が行われる。
この気泡18は、場合によってはキャビティ13内から剥がれて浮遊し、スリット状吐出口17の一部に達して、レジスト液の吐出を阻止するために、基板の一部にレジスト液が塗布されない、いわゆるすじ引きあるいは丸抜けと称するレジスト液の塗布不良を発生させる。
このために、キャビティ内での薬液への加圧が十分ではなく、キャビティ内での薬液の流れを加速できないために、ノズル内からの異物や気泡等の満足な排出効果を得ることができないという課題があった。
また、前記した課題を解決するためになされた本発明にかかる塗布装置におけるノズルのメンテナンス方法は、前記塗布装置におけるノズルのメンテナンス方法であって、前記ノズルの内部を洗浄液あるいはレジスト液に置換した状態で、前記ノズルの吐出口を前記封止部材に当接させて前記吐出口を封止するステップと、前記ノズルの吐出口を前記封止部材により封止した状態において、前記ノズル内に形成されたキャビティに連通する薬液導入部から、置換した洗浄液あるいはレジスト液を導入し、前記洗浄液あるいはレジスト液を薬液導出部から排出し、薬液回収部に回収することにより、ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップと、
前記ノズルの吐出口を前記封止部材により封止した状態において、前記四方弁を切り換えて、洗浄液あるいはレジスト液を前記薬液導出部から供給し、前記洗浄液あるいはレジスト液をキャビティ内に流し、薬液導入部から薬液回収部に排出し、薬液回収部に回収することにより、ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップと、を実行する点に特徴を有する。
したがって、キャビティ内での薬液への加圧が十分に行われ、キャビティ内での薬液の流れを加速することができるので、ノズル内からの異物や気泡等の排出作用を促進させることができる。
また、メンテナンス時においては、前記封止部材によってノズルの吐出口からの薬液の吐出が阻止されるようになされるので、ノズルのメンテナンスに伴って、薬液を浪費する問題も解消することができる。
なお、この実施の形態ではガスの噴出及び吸気により基板Gを浮上させるようにしているが、これに限らず、ガス噴出のみの構成によって基板を浮上させることもできる。
なお、図1に示す構成においては、ノズル10の下方と浮上ステージ3との間においてガラス基板GがX方向に搬送される。すなわち、ガイドレール5及び基板キャリア6により、ノズル10に対し基板Gを相対的に移動させる相対移動手段が構成されている。
なお、ノズルアーム22の前記した駆動機構および昇降機構は、コンピュータからなる前記制御部30により制御され、前記ノズル10を基板Gにレジスト液を塗布する位置と、前記基板Gが搬送される領域の上部に固定配置された前記回転ロール23、及び待機部としてのメンテナンスステージ25の位置との間で移動させるノズル移動機構を構成している。
プライミング処理の際には、回転ロール23の直上にノズル10の吐出口17を対峙させて、回転ロール23を回転させながら、吐出口17から回転ロール23にレジスト液を吐出する。これにより、吐出口17におけるレジスト液の付着状態が整えられ、吐出口17におけるレジスト液の吐出状態を安定化させることができる。
また、待機部兼メンテナンスステージ25には、後述するノズルのメンテナンス時にノズルの吐出口17を封止するために用いられる長尺状に形成された封止部材25cが配置されている。
すなわち、レジスト液の供給源(図1では、レジスト供給源と標記している。)40には、送出ポンプ43が備えられ、レジスト液の供給源40から送出ポンプ43、三方弁46、薬液供給ライン51を介してレジスト液がノズル10の前記した薬液導入部14に供給できるように構成されている。
なお、図1に示す実施の形態においては、薬液回収部42の直前に吸引ポンプ45が配置されているが、これは必須のものではない。しかしながら、後述するノズルのメンテナンスにあたってエジェクタとしての機能を果たす上では効果的である。
したがって、ノズル10が前記したノズル移動機構の働きにより待機部兼メンテナンスステージ25に移動し、その吐出口17が封止部材25cに当接した場合には、スリット状吐出口17の全体が封止されるように作用する。
図3に示した封止部材25cの形態によると、中空状に形成されているが故に、ノズル10に形成されたスリット状吐出口17への密着性をより向上させることが可能となる。
なお、封止部材25cの中空内に気体を導入する構成を採用する場合においては、ノズル10のメンテナンス動作に伴い、前記封止部材25cを利用する場合においてのみ、図示せぬエアーポンプ等を駆動させて、中空内に気体が導入できるように構成することが望ましい。
図4に示すメンテナンス動作は、そのいずれの場合においても実現させることができるが、以下においては、ノズル内を洗浄液(シンナー)に置換した状態でメンテナンス動作を実行させる場合を例にして説明する。
すなわち、図1において三方弁46のb−c間を開にし、弁47,48を開にすることにより、洗浄液供給源41よりシンナーがノズル10における中央の薬液導入部14より導入される。薬液導入部14より導入されたシンナーは、図4に示すように左右に分かれてキャビティ13内を流れ、ノズル10の両端部に配置された導出部15,16を介して薬液回収部42に至る。
なお、前記したメンテナンス動作時において、前記送出ポンプ44の働きによりキャビティ13内に加わる圧力は0.2MPa程度になされるのが望ましい。
すなわち、図7(A)は、弁46におけるb−c間の開閉状態を示すものであり、図7(A)に示す弁の開閉動作に対応して、弁47,48は図7(B)〜(D)に示す開閉動作がなされる。なお、図7(E)は、イジェクタ動作を示している。
一方、図7(B)は、弁47,48の開閉動作例を示すものであり、弁47,48は前記弁46のb−c間の開弁の直後、すなわちt1において開弁し、前記弁46のb−c間の閉弁の直後、すなわちt2において閉弁される。これはt3およびt4のタイミング二おいても同様になされる。
したがって、図7(A)と(B)の組み合わせによれば、弁46と弁47,48は、その開閉がほぼ同期した比較的ノーマルな動作によって、ノズルのメンテナンスが実行される。
すなわち、図7(E)は吸引ポンプ45の動作(ON,OFF)状態を示しており、これは前記した図7(B)に示す弁47,48の開閉動作に同期した吸引ポンプ45の動作例を示している。
図5に示す例は、メンテナンス時において、ノズル10のキャビティ13内を矢印で示したように一方から他方に向かって薬液を流すように動作させるものである。
これを実現させるには、図1における開閉弁47,48を例えば三方弁に代えて、図5に示すように一方の薬液導出部15から、他方の薬液導出部16に向かう薬液の流れを作るようになされる。
図6に示す例においては、メンテナンス時において、矢印で示したように薬液をキャビティ内において一方向および他方向に切り換えて流すように動作させるものである。
これを実現させるには、さらに四方弁等も併用して薬液の流れを反転させることで実現させることができる。
10 ノズル
13 キャビティ
14 薬液導入部
15,16 薬液導出部
17 吐出口
25 メンテナンスステージ
25c 封止部材
G 被処理基板
Claims (9)
- 被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備し、前記被処理基板に対して、前記ノズルの吐出口からレジスト液を塗布する塗布装置であって、
前記ノズルの内部に形成されたキャビティに連通する、ノズル中央部に設けられた薬液導入部と、前記ノズルの内部に形成されたキャビティに連通する、ノズルの少なくとも一端部に設けられた薬液導出部とを備え、前記ノズルの内部が洗浄液あるいはレジスト液に置換された状態で、更に置換した洗浄液あるいはレジスト液を薬液導入部から導入し、前記薬液導出部から排出することによって、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するメイテナンス機能を有する塗布装置において、
前記ノズルにレジストを供給するレジスト液の供給源と、前記レジスト液の供給源からレジスト液を送出するレジスト送出ポンプと、前記ノズルを洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給源と、前記洗浄液供給源から洗浄液を送出する洗浄液送出ポンプと、前記レジスト液の供給源からのレジスト液あるいは前記洗浄液供給源からの洗浄液を供給する、前記薬液導入部に接続された薬液供給ラインと、前記薬液供給ラインがレジスト液あるいは洗浄液のいずれかを供給するように、薬液供給ラインをレジスト液の供給源側あるいは洗浄液供給源に切り換える弁と、前記薬液導出部に接続され、薬液導出部からレジスト液あるいは洗浄液のいずれかを排出するベントラインと、前記ベントラインを介して前記ノズルの薬液導出部に接続された薬液回収部と、前記ノズルのスリット状吐出口に当接して当該吐出口を封止する封止部材を備え、
前記メイテナンスは、ノズルの内部を洗浄液あるいはレジスト液に置換した状態で、前記ノズルの吐出口を前記封止部材に当接させて前記吐出口を封止した状態になし、置換した洗浄液あるいはレジスト液を前記レジスト液の供給源あるいは洗浄液供給源から前記薬液導入部から供給し、前記洗浄液あるいはレジスト液をキャビティ内に流し、薬液導出部から薬液回収部に排出することによってなされることを特徴とする塗布装置。 - 前記ノズル中央部に設けられた薬液導入部と、ノズルの一端部に設けられた薬液導出部と、ノズルの他端部に設けられた薬液導入部とを備えていることを特徴とする請求項1に記載された塗布装置。
- 前記ノズル中央部に設けられた薬液導入部と、ノズルの一端部に設けられた薬液導出部と、ノズルの他端部に設けられた薬液導出部とを備えていることを特徴とする請求項1に記載された塗布装置。
- 更に、前記薬液供給ラインと前記ベントラインが四方弁を介して接続され、
前記メイテナンスが、ノズルの内部を洗浄液あるいはレジスト液に置換した状態で、前記ノズルの吐出口を前記封止部材に当接させて前記吐出口を封止した状態になし、置換した洗浄液あるいはレジスト液を前記レジスト液の供給源あるいは洗浄液供給源から前記薬液導入部から供給し、前記洗浄液あるいはレジスト液をキャビティ内に流し、薬液導出部から薬液回収部に排出し、更に、前記四方弁を切り換えて、洗浄液あるいはレジスト液を前記レジスト液の供給源あるいは洗浄液供給源から前記薬液導出部から供給し、前記洗浄液あるいはレジスト液をキャビティ内に流し、薬液導入部から薬液回収部に排出することによってなされることを特徴とする請求項3に記載された塗布装置。 - 前記封止部材は、柔軟性を有する素材により形成されると共に前記ノズルの吐出口からレジスト液を被処理基板に塗布する位置と異なるメイテナンスステージに配置され、更に前記メンテナンスステージに移動した状態の前記ノズルのスリット状吐出口に当接するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載された塗布装置。
- 前記封止部材は、長尺状にして中空状に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項5に記載された塗布装置。
- 前記請求項1乃至請求項6のいずれかに記載された塗布装置におけるノズルのメンテナンス方法であって、
前記ノズルの内部を洗浄液あるいはレジスト液に置換した状態で、前記ノズルの吐出口を前記封止部材に当接させて前記吐出口を封止するステップと、
前記ノズルの吐出口を前記封止部材により封止した状態において、前記ノズル内に形成されたキャビティに連通する薬液導入部から、置換した洗浄液あるいはレジスト液を導入し、前記洗浄液あるいはレジスト液を薬液導出部から排出し、薬液回収部に回収することにより、ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップと、
を実行することを特徴とするノズルのメンテナンス方法。 - 前記ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップにおいて、
前記薬液導出部からの洗浄液あるいはレジスト液の排出を間欠的になすことにより、キャビティ内において洗浄液あるいはレジスト液を間欠的に流すことを特徴とする請求項7に記載されたノズルのメンテナンス方法。 - 前記請求項4に記載された塗布装置におけるノズルのメンテナンス方法であって、
前記ノズルの内部を洗浄液あるいはレジスト液に置換した状態で、前記ノズルの吐出口を前記封止部材に当接させて前記吐出口を封止するステップと、
前記ノズルの吐出口を前記封止部材により封止した状態において、前記ノズル内に形成されたキャビティに連通する薬液導入部から、置換した洗浄液あるいはレジスト液を導入し、前記洗浄液あるいはレジスト液を薬液導出部から排出し、薬液回収部に回収することにより、ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップと、
前記ノズルの吐出口を前記封止部材により封止した状態において、前記四方弁を切り換えて、洗浄液あるいはレジスト液を前記薬液導出部から供給し、前記洗浄液あるいはレジスト液をキャビティ内に流し、薬液導入部から薬液回収部に排出し、薬液回収部に回収することにより、ノズルのキャビティ内に洗浄液あるいはレジスト液を流し、前記キャビティ内の異物、気泡を排出するステップと、
を実行することを特徴とするノズルのメンテナンス方法。
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