JPH09206660A

JPH09206660A - 連続塗布装置及び連続塗布方法

Info

Publication number: JPH09206660A
Application number: JP1671996A
Authority: JP
Inventors: Akira Ohira; 晃大平; Junji Ujihara; 淳二氏原; Masanari Asano; 真生浅野
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1996-02-01
Filing date: 1996-02-01
Publication date: 1997-08-12
Anticipated expiration: 2016-02-01
Also published as: JP3613742B2

Abstract

(57)【要約】【課題】連続塗布された円筒状基材に塗布欠陥がな
く、画像ムラ、画像欠陥のない良好な画像を得る塗布手
段及び塗布方法を提供する【解決手段】円筒状基材１の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら円筒状基材１の外
周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段４０、塗布
手段１０に円筒状基材１を供給する為の供給手段１０、
円筒状基材１を上方に搬送する為の搬送手段２０、円筒
状基材１を正確に積み重ねるために中心軸を合わせる位
置決め手段３０、塗布された円筒状基材１を乾燥又は乾
燥調整する為の乾燥手段５０及び塗布された後の円筒状
基材１を取り出す為の分離排出手段６０を具備する連続
塗布装置において、前記各手段１０〜６０の少なくとも
１つの駆動系が防振台上または能動除振台上に設置され
ている連続塗布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エンドレスに形成
された連続面を有する円筒状基材の筒軸を合わせて積み
重ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材
の外周面上に塗布液を均一に連続的に塗布する連続塗布
装置及び連続塗布方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してス
プレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗
布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感
光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性
の優れた塗布手段を開発すべく検討されている。しかし
ながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材への塗布手段及び塗布方法においては、均一
な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の短所があ
った。

【０００３】スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有
する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発
するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、そ
れにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到
達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或
いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するため
に、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、
該連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００
％でなく塗布液のロスがあったり、部分的にも不均一で
あるため、膜厚コントロールが非常に困難である。更
に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため、使
用する溶媒及び樹脂に制限がある。

【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を
１回転させたのち、ブレード若しくはロールを後退させ
るものである。しかしながらブレード若しくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。

【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００６】しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性例え
ば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配さ
れ、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速
度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上
の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶
け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布手段（この中にはスライド
ホッパー型塗布手段が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布手段はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更に
この塗布手段は環状の塗布液溜まり室と、この塗布液溜
まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給
口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液分配
スリットとを有し、このスリットから流出した塗布液を
斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下させ、塗
布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状基材と
の僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動
に伴ってその外周面に塗布するものである。このスライ
ドホッパー型塗布手段を用いることにより、少ない液量
で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚
制御の容易な塗布が可能となった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布手段を用いても、なお、塗布液に
よっては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）
や膜厚の変動等の塗布欠陥があり、満足のいくものでは
ない。

【０００９】上記の塗布欠陥を発生させる要因に、円
筒状基材に直接接触する供給手段や把持搬送手段や分離
排出手段等の駆動系からの振動伝達による塗布ムラ、塗
布段ムラ発生、円筒状基材に均一に塗布液を塗布する
塗布手段の振動による膜厚変動等がある。

【００１０】本発明はこのような問題点を解消して、連
続塗布された円筒状基材に塗布欠陥がなく、画像ムラ、
画像欠陥のない良好な画像を得る塗布手段及び塗布方法
を提供することを課題目的とするものである。

【００１１】即ち、本発明の目的は、（１）塗布性が良
好、（２）ビード切れが無い、（３）円筒状基材の円周
方向や長手方向の膜厚変動が無い、円筒状基材の連続塗
布手段及び塗布方法を提供するものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的は、円筒状基材
の筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げ
ながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗
布する塗布手段、前記塗布手段に円筒状基材を供給する
為の供給手段、前記円筒状基材を上方に搬送する為の搬
送手段、前記円筒状基材を正確に積み重ねるために中心
軸を合わせる位置決め手段、前記塗布された円筒状基材
を乾燥又は乾燥調整する為の乾燥手段及び前記塗布され
た後の円筒状基材を取り出す為の分離排出手段を具備す
る連続塗布装置において、前記各手段の少なくとも１つ
の駆動系が防振台上に設置されていることを特徴とする
連続塗布装置及び方法によって達成される（請求項１、
２）。

【００１３】また上記目的は、少なくとも前記円筒状基
材と直接に接触する供給手段、搬送手段及び分離排出手
段の各駆動系が防振台上に設置されていることを特徴と
する連続塗布装置及び方法によって達成される（請求項
３、４）。

【００１４】さらに上記目的は、前記各手段の少なくと
も１つの駆動系が能動除振台上に設置されていることを
特徴とする連続塗布装置及び方法によって達成される
（請求項１０、１１）。

【００１５】さらにまた上記目的は、前記円筒状基材と
直接に接触する供給手段、搬送手段又は分離排出手段の
内少なくとも１つの対応する駆動系が能動除振台上に設
置されていることを特徴とする連続塗布装置及び方法に
よって達成される（請求項１２、１３）。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の第一
の実施の形態を説明する。図１は本発明による連続塗布
装置の全体構成を示す斜視図である。図において、１０
は円筒状基材１を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給
して上方に押し上げる供給手段、２０は供給された円筒
状基材１の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね下
から上へ垂直に押し上げて搬送する搬送手段、３０は前
記円筒状基材１を連続塗布装置の環状塗布部の中心に位
置合わせする位置決め手段、４０は前記円筒状基材１の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、５０は
円筒状基材１上に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手
段、６０は乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の
複数の円筒状基材から分離させて１個ずつ取り出し排出
させる分離排出手段である。

【００１７】本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を
連続して垂直中心線Ｚ−Ｚ上に配置した垂直塗布構成で
あり、人手を要しない完全自動化生産が高精度で達成さ
れる。垂直塗布手段とは、スライドホッパー型コー
タ、押し出し型コータ、リングコータ、スプレー
コータ等で、円筒状基材を積み重ねて上方又は下方に相
対的に移動する事により塗布するもので、方式は問わな
いがが塗布性の信頼性等の点で優れている。

【００１８】即ち、前記供給手段１０は前記円筒状基材
１を載置するための複数の載置案内部材１１を備えた回
転テーブル１２、該回転テーブル１２を回転させて前記
搬送手段２０へつながる垂直ラインへ送り込む駆動手段
１３、前記搬送手段２０により既に上方に把持搬送され
ている円筒状基材１を積み重なるように上方に押し上げ
る昇降部材１４、該昇降部材１４の上端に設けられた円
筒状基材供給用の押し上げ部材１５及び前記駆動手段１
３による回転や昇降部材１４による押し上げのタイミン
グを制御する図示しない制御手段等から構成されてい
る。なお、前記回転テーブル１２上への円筒状基材１の
供給は、ロボットハンドルにより行われる。

【００１９】前記供給手段１０の上方に設けられた搬送
手段２０は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且
つ垂直上下方向に移動可能な２組の把持手段２１，２２
を有し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送
する機能を有する。３０はエアベアリング式位置決め手
段、４０はスライドホッパー型コーター等の垂直型環状
の塗布手段、５０は乾燥調整器５１，リング式吸引乾燥
器５３，リング式加熱乾燥器５２から成る乾燥手段、６
０は塗布乾燥されて垂直上方に搬送されてきた積み重ね
状の複数の円筒状基材１の最上部から、内径部を把持し
て分離させて１個ずつ取り出して装置本体外に排出させ
る分離排出手段である。以下、上記各装置１０、２０，
３０，４０，５０，６０の詳細は後述する。

【００２０】図２は本発明による第二の実施の形態であ
る逐次連続塗布装置を示す斜視図である。この実施例で
は、前記搬送手段２０の上方の垂直中心線Ｚ−Ｚ上に
は、位置決め手段３０Ａ、塗布手段４０Ａ、乾燥手段５
０Ａとから成るユニットＡ、位置決め手段３０Ｂ、塗布
手段４０Ｂ、乾燥手段５０Ｂとから成るユニットＢ、位
置決め手段３０Ｃ、塗布手段４０Ｃ、乾燥手段５０Ｃと
から成るユニットＣ、を複数組垂直縦列配置したもので
ある。最上段には前記分離排出手段６０が配置されてい
る。各塗布手段４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃからそれぞれ吐
出された塗布液は、円筒状基材１上に多層の塗布層を逐
次形成し、各乾燥手段５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃにより乾
燥される。乾燥済みの最上段の円筒状基材１Ａは、分離
排出手段６０により把持されて下方の円筒状基材１Ｂか
ら分離されて、機外のパレット上に載置される。図３は
本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置を示す正
面図である。

【００２１】前記エアベアリング式位置決め手段３０、
環状の塗布手段４０、リング状の乾燥手段５０は連続塗
布装置本体７０の所定位置に固定され、通過する円筒状
基材１の外周面に近接し非接触である。供給手段１０、
搬送手段２０、分離排出手段６０は何れも各駆動源に接
続し、円筒状基材１の外周面または内周面に接触して移
動可能である。

【００２２】以下、連続塗布装置を構成する供給手段１
０、搬送手段２０、位置決め手段３０、塗布手段４０、
乾燥手段５０、分離排出手段６０の詳細を説明する。

【００２３】図４は前記供給手段１０の斜視図である。
塗布処理工程前の複数個の円筒状基材１は予め供給台１
６１に収容されている。自動運搬装置１６２の移動可能
な運搬部材１６３は、供給台１６１上の円筒状基材１か
ら１個の円筒状基材１を把持して移動し、前記回転テー
ブル１２上の載置案内部材１１内に載置する。該載置案
内部材１１は、円筒状基材１が遊嵌して収容可能な円形
溝１１Ａを有し、回転テーブル１２の回転円周方向に複
数個（図示の６箇所）設けられている。該回転テーブル
１２は駆動手段１３のモータＭ１、ギア列１３１，１３
２により間欠回転駆動される。１個の円筒状基材１が前
記垂直中心線Ｚ−Ｚの下方に運搬されて停止すると、モ
ータＭ２の始動によりピニオンギア１４１及びラックギ
ア１４２を介して昇降部材１４を上昇させる。該昇降部
材１４の上部には緩衝手段であるコイルバネ１４３を介
して押し上げ部材１５が設けられていて、該押し上げ部
材１５の上昇により載置案内部材１１の底部が押し上げ
られる。

【００２４】図５は供給手段１０による円筒状基材１の
上昇過程を示す断面図である。図５（ａ）は、円筒状基
材１の上昇開始状態を示す。モータＭ２の駆動回転によ
り、前記押し上げ部材１５が上昇して、載置案内部材１
１の底部が矢印方向に押し上げられ、円筒状基材１がＺ
−Ｚ方向に上昇される。図５（ｂ）は、載置案内部材１
１の上昇終了状態を示す。前記昇降部材１４の上昇開始
時の速度は、塗布速度の１．５〜５倍の速度で上昇し、
該円筒状基材１の先端部が先行して上昇中の円筒状基材
１の後端部に、後続する突き当たる直前に、前記塗布速
度の１．０〜１．５倍に減速されるように前記モータＭ
２により制御される。また、先に上昇している円筒状基
材１の後端部に後続する円筒状基材１の先端部が突き当
たるとき、前記昇降部材１４が若干上昇動作を続けて
も、コイルバネ１４３に吸収され、図１に示すように塗
布速度で上昇する複数個の円筒状基材１に対して衝撃を
与えることがなく、塗布ムラが発生することはない。

【００２５】図６は搬送手段２０の把持手段２１，２２
の斜視図である。先ず上部位置に設けた把持手段２１の
搬送ハンド２１１の把持部２１４と、搬送ハンド２１２
の把持部２１５は軸２１３により回転自在に支持され、
先に押し上げられて上方に搬送された円筒状基材１と、
同様に先に押し上げられた円筒状基材１間を、前記把持
部２１４と把持部２１５とで段差調整して把持しながら
塗布速度と同速度で矢示方向に上昇させる。更に下部位
置に設けた把持手段２２の搬送ハンド２２１の把持部２
２４と、搬送ハンド２２２の把持部２２５も軸２２３に
より回転自在に支持され、円筒状基材１間と、新たに押
し上げられた円筒状基材１間を前記把持部２２４と、把
持部２２５とで段差調整して把持するようにする。そし
て把持完了後、前記把持手段２１と同速度となる塗布速
度と同速度で矢示方向に上昇させる。２１６，２２６は
前記把持部先端に取り付けられ、滑り止めと円筒状基材
１周面を保護するための押圧緩衝部材である。

【００２６】次に、図３で把持手段２１，２２を有する
搬送手段２０について説明する。搬送手段２０は、把持
手段２１，２２に各々設けられ、搬送手段２０に対して
垂直方向に回転可能に設けられたボールネジ２４に嵌合
した上下移動部材２３を設けた。該上下移動部材２３は
前記把持手段２１，２２に連結する。前記ボールネジ２
４をモータＭ３，Ｍ４と減速ギア列とから成る回転駆動
装置を用いて一定速度で回転することにより、上下移動
部材２３は一定速度、即ち複数の円筒状基材１に塗布液
を塗布する塗布速度で把持手段２１，２２が上昇移動す
るように構成されている。

【００２７】図７は位置決め手段３０と塗布手段４０と
を示す断面図、図８は塗布手段４０の斜視図である。

【００２８】図７に示されるように垂直中心線Ｚ−Ｚに
沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１
Ｂ（以下、円筒状基材１と称す）を連続的に矢示方向に
上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状基材１の外
周面に対しスライドホッパー型塗布手段４０の塗布に直
接係わる部分（ホッパー塗布面）４１により塗布液（感
光液）Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中
空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラ
ムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。前記ホッ
パー塗布面４１には、円筒状基材１側に開口する塗布液
流出口４２を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリッ
トと略称する）４３が水平方向に形成されている。この
スリット４３は環状の塗布液分配室（塗布液溜り室）４
４に連通し、この環状の塗布液分配室４４には、貯留タ
ンク２内の塗布液Ｌを圧送ポンプ３により供給管４を介
して、供給口４８から導入して供給するようになってい
る。他方、スリット４３の塗布液流出口４２の下側に
は、連続して下方に傾斜し、円筒状基材１の外径寸法よ
りやや大なる寸法で終端をなすように形成された塗布液
スライド面（以下、スライド面と称す）４５が形成され
ている。更に、このスライド面４５終端より下方に延び
る唇状部４６が形成されている。かかる塗布手段（スラ
イドホッパー型塗布手段）４０による塗布においては、
円筒状基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリット
４３から押し出し、スライド面４５に沿って流下させる
と、スライド面４５の終端に至った塗布液は、そのスラ
イド面４５の終端と円筒状基材１の外周面との間にビー
ドを形成した後、円筒状基材１の表面に塗布される。ス
ライド面４５の終端と円筒状基材１は、ある間隙を持っ
て配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、
また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、
既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。

【００２９】一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部よ
り最も遠い位置で、前記塗布液分配室４４の一部には、
塗布液分配室４４内の泡抜き用の空気抜き手段４７が設
けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配
室４４に供給されて塗布液分配スリット４３から塗布液
流出口４２に供給されるとき、開閉弁を開いて空気抜き
手段４７より塗布液分配室４４内の空気を排出する。

【００３０】前記塗布手段４０の下部には、円筒状基材
１の円周方向を位置決めする位置決め手段３０が固定さ
れている。前記円筒状基材１の位置決め手段３０の本体
３１には、複数の給気口３２と、複数の排気口３３が穿
設されている。該複数の給気口３２は、図示しない給気
ポンプに接続され、空気等の流体が圧送される。該給気
口３２の一端部で円筒状基材１の外周面に対向する側に
は、吐出口３４が貫通している。該吐出口３４は前記円
筒状基材１の外周面と所定の間隙を保って対向してい
る。該間隙は、３０μｍ〜２ｍｍである。前記吐出口３
４は直径０．０５〜０．５ｍｍの小口径のノズルであ
る。

【００３１】前記給気ポンプから圧送された流体は、複
数の給気口３２から本体３１の内部に導入されて、複数
の吐出口３４から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１
Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流
体は複数の排気口３３から装置外に排出される。

【００３２】なお、位置決め手段３０に接続される垂直
型塗布手段４０としては、スライドホッパー型、押し出
し型、リングコーター等の各種装置が用いられる。

【００３３】前記塗布手段４０の上方には、乾燥フード
５１と乾燥器５３とから成る乾燥手段５０が設けられて
いる。

【００３４】図９は前記塗布手段４０と該塗布手段４０
の上部に設けた乾燥フード５１の断面図である。該乾燥
フード５１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の開口
５１Ａが穿設されている。前記円筒状基材１を矢示方向
に上昇させ、前記塗布手段４０のホッパー塗布面（塗布
ヘッド）４１で塗布液Ｌを塗布し、感光層５を形成す
る。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾燥フ
ード５１内を通過しながら徐々に乾燥される。この乾燥
は前記多数の開口５１Ａより塗布液Ｌに含まれている溶
媒を壁面外に放出することにより行われる。前記のよう
に、塗布手段４０により円筒状基材１上に塗布液Ｌを塗
布することにより、形成された感光層５は、塗布直後に
おいて乾燥フード５１により包囲されており、開口５１
Ａからのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における感
光層５の乾燥速度は、前記開口５１Ａの開口面積にほぼ
比例する。

【００３５】図１０に本発明の乾燥器５３の断面図を示
す。乾燥器５３は、吸引スリット５３１と吸引チャンバ
ー５３２と吸引ノズル５３３とを有する吸引スリット部
材５３４、下部の筒状部材５３５、上部の筒状部材５３
６がそれぞれ同心に結合されている。そして、複数設け
られた吸引ノズル５３３から吸引を行ない、周方向均一
な吸引チャンバー５３２、周方向均一な吸引スリット５
３１により周方向の均一化がなされた吸引エアーが流
れ、更に、吸引スリット部材５３４、その上下の筒状部
材５３６，５３５の各内径面と塗布済みの円筒状基材１
の外周面との間の空気流の乱れをバッファー空間５３７
で極く僅かにおさえて、５３８に示す乾燥の為の均一吸
引エアーの空気流を作り出している。この乾燥ゾーンに
矢印で示すＺ方向に塗布済の円筒状基材１を搬送するこ
とにより、塗布膜の乾燥を行うものである。

【００３６】以上のようにして塗布及び塗布膜乾燥が行
われた円筒状基材（基体ドラム）１を分離する工程を、
図１１の分離過程の各プロセスの状態図を用いて説明す
る。

【００３７】分離排出手段６０は、垂直移動ロボットス
テージ６１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、
下チャック（下把持子）６４、エアーシリンダー６５に
より構成されている。

【００３８】塗布済の円筒状基材１は下方より上方へ向
けて積み上げられ、上方向へ移動し図１１（ａ）に示す
ように分離位置に達する。この時垂直ロボットが起動し
被分離円筒状基材１と同軸、等速度で同架された分離装
置全体を移動する。まず、図１１（ｂ）に示す位置で下
把持子６４が被分離円筒状基材１Ａに隣接する円筒状基
材１Ｂを保持する。次いで図１１（ｃ）に示す位置で上
把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持する。エアー
シリンダー６５に接続する軸体６２により上把持子６３
は被分離円筒状基材１Ａを保持したまま上方向へ移動し
て図１１（ｄ）に示す位置になる。この時、被分離円筒
状基材１Ａと隣接する円筒状基材１Ｂにまたがる塗布膜
が切り裂かれ図１１（ｄ）に示すように円筒状基材１
Ａ、１Ｂの分離が行われる。分離済みの円筒状基材１Ａ
を排出するために図１１（ｅ）に示すように下把持子６
４は解放状態となり、次いで図１１（ｆ）に示すように
上把持子６３が被分離円筒状基材１Ａを保持した状態で
垂直移動ロボットステージ６１が急上昇を行い、隣接す
る円筒状基材１Ｂの位置よりはるか上方に配置された分
離装置に分離済の円筒状基材１Ａを置き、上把持子６３
が解放となり工程を終了する。そして次なる円筒状基材
１Ｂの分離の為、垂直移動ロボットステージ６１が下降
しまた軸体６２が下降し、初期状態の位置の図１１
（ａ）に戻る。

【００３９】再び、図３において、前記回転テーブル１
２、ギア列１３１，１３２、モータＭ１から成る駆動手
段１３は、装置本体７０の底部に設けた防振台８１上に
設置されている。また、前記押し上げ部材１５を昇降さ
せる昇降部材１４も、装置本体７０の底部に設けた防振
台８２上に設置されている。なお、上記駆動手段１３と
昇降部材１４とを一つの防振台上に設置してもよい。ま
た、装置本体７０の中間部には、前記把持手段２１，２
２、上下移動部材２３、ボールネジ２４から成る搬送手
段２０が、防振台８３上に設置されている。さらに、装
置本体７０の上部には、垂直移動ロボットステージ６
１、軸体６２、上チャック（上把持子）６３、下チャッ
ク（下把持子）６４、エアーシリンダー６５により構成
されている分離排出手段６０が、防振台８４上に設置さ
れている。このように、少なくとも前記円筒状基材１に
直接に接触する供給手段１０、搬送手段２０、分離排出
手段６０の各駆動系を防振台上に設置することにより、
駆動系から発生する振動を極めて小さくできる。また、
円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０と搬送手段
２０とを同一の防振台に設置して、また円筒状基材１に
直接に接触する分離排出手段６０を別の防振台上に設置
する事により振動を効率良く抑えることが出来た。さら
に、少なくとも前記円筒状基材１に直接に接触しないが
連続塗布装置本体に固定された位置決め手段３０、塗布
手段４０、乾燥手段５０を防振台上に設置することによ
り、装置本体から伝達される振動を遮断するようにして
もよい。

【００４０】前記防振台８１，８２，８３，８４を支え
る防振材料としては金属バネ、コイルバネ、防振ゴム、
空気バネ等があり、防振系の固有振動によっても異なる
が防振ゴム、空気バネ等が良い。上記防振材料に関して
は、「振動工学ハンドブック（養賢堂発行）」、「精密
防振ハンドブック」、等に記載されている。

【００４１】従来は、非画像部に振動が起きても良いよ
うに、各装置１０〜６０の作動が非画像部に同期して起
きる方法であったが、これでは不十分であると判明し
た。これら元の振動の振幅は累積され、大きい時には１
００μｍにも達し、段ムラ塗布等の故障となり、ひどい
時には塗布手段４０のコータ部や位置決め手段３０の内
面と接触する等の問題が発生した。従って、各振動発生
源からの影響を小さくする必要がある。特に、図２に示
す３層逐次連続塗布の場合、１層塗布の時と比して振動
源は約３倍増え、従って塗布に与える振動はより深刻と
なる。

【００４２】本発明の防振台設置により、（１）駆動系
の振動による塗布ムラ、段ムラが発生しない、（２）画
像ムラがなく良好な画像が得られる等の優れた効果が得
られた。

【００４３】前記防振台８１〜８４に代えて、能動除振
台を、円筒状基材１に直接に接触する供給手段１０、搬
送手段２０、分離排出手段６０の各駆動系に設置するこ
とにより、駆動系をから発生する振動を極めて小さくで
きる。

【００４４】前記能動除振台の一例として、次の能動制
御除振機構は、圧力容器を具備した空気バネで制振台
を支持する、制振台本体にレベルセンサと振動センサ
とを設置する、レベルセンサにより検出したレベル変
位信号と、振動センサにより検出した床面や機器等の振
動源から受けた制振台本体の振動検出信号を１８０°反
転させた反転信号とをレベル変動分加算器に入力して加
減算を行う、レベル変動分加算器からの加減変動信号
に合わせ、駆動回路から駆動信号を出力して制御弁の開
閉度合を制御する、この制御弁により空気バネの圧力
容器内の空気圧を調節することにより精密なレベルコン
トロールと制振動を行うことができる（特開平１−２１
０６３４号公報、能動制御精密制振台）。

【００４５】この他、次の方法で行っても良い。

【００４６】１．連続塗布装置が設置された除振台２．除振台を弾性的に支持する弾性支持手段３．除振台上に設けたセンサ。このセンサはレベルセン
サと振動センサとを兼ねても良いし、別々に設けても良
い４．除振台を駆動するアクチュエータ５．センサから出力を補償してアクチュエータにフィー
ドバックする位置制御補償及び／又は振動補償手段より
構成した。なお、弾性支持手段例えば空気バネをアクチ
ュエータとしても良い。

【００４７】また、円筒状基材１と直接に接触する搬送
手段２０と供給手段１０が同一の能動除振台にあり、又
円筒状基材１に直接接触する分離排出手段６０を別の能
動除振台上に設置する事により振動を効率良く抑えるこ
とが出来た。

【００４８】Ｘ−Ｙ方向の振幅測定については、例え
ば、レーザー変位計や渦電流式変位センサー等により非
接触に検出することができる。また、Ｚ方向の振幅測定
については、例えば、加速度計を用いて振幅を読み取る
ことにより得られる。

【００４９】

【実施例】以下実施例に沿って説明する。

【００５０】（実施例１）円筒状基材（導電性支持体）
１としては鏡面加工を施した直径４０ｍｍ、高さ２７１
ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。又塗布液と
しては下記記載のＣＧＬ−２塗布液組成物を用い、乾
燥膜厚２．０μｍになるように塗布した。

【００５１】ＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝１：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００５２】

【化１】

【００５３】図１２（ａ）に連続塗布装置の正面図を示
す。

【００５４】本実施例１では図示のように、供給手段１
０の昇降手段１４の駆動系を防振台８２の上に設置し、
把持手段２１，２２、上下移動部材２３、ボールネジ２
４及び駆動系から成る搬送手段２０を防振ゴムを介した
防振台８３の上に設置した。このように構成した連続塗
布装置により塗布を行い、得られた塗布済み円筒状基材
（塗布ドラム）の目視観察を行った。水平方向、垂直方
向の最大振幅は塗布手段４０の最近接位で測定を行っ
た。なお円筒状基材１は３０本積み重ねた。表１に結果
を示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】本発明の防振台８２，８３を有する連続塗
布装置により、膜厚ムラに起因する色ムラがなく、塗布
性の良好な塗布ドラムが得られた。

【００５７】（実施例２）本実施例２では図１２（ｂ）
に示すように、垂直移動ロボットステージ６１、軸体６
２、上把持子６３、下把持子６４、エアーシリンダー６
５及び駆動手段により構成されている分離排出手段６０
を防振ゴムを介した防振台８４上に設置した以外、防振
台８２，８３を備えたことは実施例１と同じである。得
られた結果を表２に示す。

【００５８】

【表２】

【００５９】本発明の防振台８２，８３，８４を有する
連続塗布装置により、膜厚ムラに起因する色ムラがな
く、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。

【００６０】（実施例３）本実施例３では図１２（ｃ）
に示すように、供給手段２０の回転テーブル１２を間欠
回転させる駆動系を防振台８１上に、エアーベアリング
から成る位置決め手段３０を防振台８５上に、塗布手段
４０を防振台８５上に、乾燥手段５０を防振台８７上に
それぞれ設置した以外、防振台８２，８３，８４を備え
たことは実施例２と同じである。得られた結果を表３に
示す。

【００６１】

【表３】

【００６２】本発明の防振台８１，８２，８３，８４，
８５，８６，８７を有する連続塗布装置により、膜厚ム
ラに起因する色ムラがなく、塗布性の良好な塗布ドラム
が得られた。

【００６３】（実施例４）実施例１の連続塗布装置の代
わりに図２の逐次連続塗布装置で塗布を行う。図１３の
ように供給手段１０昇降部材１４の駆動手段及び供給手
段２０の把持手段２１，２２とその上下搬送の駆動装置
を防振ゴムを介した同一の防振台８８上に設置するとと
もに、分離排出手段６０の駆動系を防振ゴムを介した別
の防振台８９の上に設置した。このように構成した逐次
連続塗布装置により塗布を行った。即ち鏡面加工を施し
た直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニ
ウムドラム支持体（円筒状基材）１上に、下記の如く各
々塗布液組成物ＵＣＬ−１ＣＧＬ−２及びＣＴＬ
−１を調製し、スライドホッパー型塗布手段７（ＵＣ
Ｌ−１用）、７−１（ＣＧＬ−２用）、７−２（Ｃ
ＴＬ−１用）にて、それぞれ乾燥膜厚１．０μｍ、２．
２μｍ及び２３μｍになるように３層の逐次重層塗布を
行い、感光体を作成し目視観察した。なお、円筒状基材
１は２５本積み重ね、最大振幅は最上部の塗布手段（コ
ーター）４０Ｃとの最近接位ドラムで測定した。得られ
た結果を表４に示す。

【００６４】

【表４】

【００６５】ＵＣＬ−１塗布液組成物共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００東レ社製）３０ｇメタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）１０ｌＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００６６】ＣＴＬ−１塗布液組成物ＣＴＭ−１５ｋｇポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）５．６ｋｇ１，２−ジクロロエタン２８ｌ固形分については、固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２０
０＝０．８９：１に固定した。

【００６７】

【化２】

【００６８】本発明の防振台８８，８９を有する逐次連
続塗布装置を用いると、振動が少なく、膜厚ムラ、接触
キズ等のない塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。得
られた感光体Ｎｏ．４−１をコニカ社製Ｕ−ＢＩＸ３０
３５複写機で実写したところ、画像ムラやカブリムラ等
の塗布ムラに起因する画像不良はなく、画像欠陥（黒ポ
チ、白ポチ、ゴミ、スジ等）もなく良好であった。

【００６９】（実施例５）実施例５〜８は、前記防振台
８１〜８７の代わりに能動除振台を備えた連続塗布装置
である。

【００７０】以下、能動除振装置について説明する。連
続塗布装置に伝わる振動をできるだけ低い周波数から達
成する為に、バネ定数と粘性の小さい支持機構を有する
防振台上に設置すれば良い。通常塗布手段中に振動を発
生する振動源があり、支持機構のバネ定数と塗布手段及
び防振台の質量できまる低周波共振により、全体の振動
が大きくなってしまう恐れがあるので、バネ定数及び粘
性は小さくできない。このため防振装置は床から伝わる
振動の絶縁と装置から発生する振動の兼ね合いより選択
されるが、限界があり近年能動除振装置が実用化されて
いる。これは防振台の振動をセンサで検出し、フィード
バック機構よりアクチュエータ等で振動制御を行うのが
能動式除振装置（能動除振台）である。

【００７１】本発明で用いられる能動式除振装置は、例
えば特開平１−２１０６３４号公報に記載の如く、除振
台の振動をセンサで検出し、制御弁を介して空気バネ内
の空気圧を調整する事により振動制御を行う空気圧式能
動除振機構を用いても良く、また除振台を弾性的に支持
する弾性支持手段、除振台を駆動するアクチュエータ、
除振台の振動を検出する振動センサ、振動センサの出力
を補償してアクチュエータにフィードバックする振動制
御補償手段、除振台の変位を検出する変位センサ及び変
位センサの出力を補償してアクチュエータにフィードバ
ックする位置制御補償手段等を有する能動除振装置を用
いても良い。

【００７２】本発明で用いられる垂直型連続塗布装置
は、円筒状基材１を垂直に積み重ね上方向に搬送させつ
つ塗布を行うものであるから、本質的に振動の発生や伝
達に対しての影響が大きく、根本的な弱点を有する。

【００７３】本発明はこれに鑑みて行われたものであ
り、能動式除振装置を設置することにより振動の塗布膜
への影響を極めて小さく出来、しかも予期せざる外乱の
影響をも除くことが出来るものである。又積み重ね円筒
状基材の本数を増すことができコスト的にも有利となる
他、塗布手段以後の乾燥工程の有効長を従来のものより
約２倍以上長くすることができ、急速乾燥による塗膜の
ちじれ模様の発生をなくすることもできるという長所も
見いだされた。

【００７４】導電性支持体（円筒状基材）としては鏡面
加工を施した直径４０ｍｍ、高さ２７１ｍｍのアルミニ
ウムドラム支持体を用いた。又塗布液としては下記記載
のＣＴＬ−１塗布液組成物を用い、乾燥膜厚２４μｍ
になるように塗布した。

【００７５】ＣＴＬ−１塗布液組成物ＣＴＭ−１５ｋｇポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）５．６ｋｇ１，２−ジクロロエタン２８ｌ固形分については、固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２０
０＝０．８９：１に固定した。

【００７６】本実施例５では把持手段２１，２２、上下
移動部材２３、ボールネジ２４、駆動手段から成る供給
手段２０を空気バネを介し能動除振台の上に設置した。
該能動除振台上にはレベルセンサ及び振動センサがあ
り、これらセンサからの出力を補償してアクチュエータ
にフィードバックする位置制御補償、振動補償がなさ
れ、アクチュエータにより能動除振台を駆動する機構に
なっており、この能動除振台機構を利用し塗布を行っ
た。得られた塗布ドラムの目視観察を行うと共に、図１
の塗布手段４０の最近接位の円筒状基材１での最大振幅
を測定した。なお円筒状基材１は３１本積み重ねた。表
５に結果を示す。

【００７７】

【表５】

【００７８】本発明の能動除振台を有する塗布手段を用
いると膜厚ムラ、乾燥ムラに起因する塗布故障がなく、
塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。

【００７９】（実施例６）本実施例６では図１２（ｂ）
に示すように、供給手段１０の昇降手段１４の駆動系を
能動除振台（８２）上に、把持手段２１，２２、上下移
動部材２３、ボールネジ２４及び駆動系から成る搬送手
段２０を能動除振台（８３）上に、分離排出手段６０の
駆動系を能動除振台（８４）上にそれぞれ設置した。各
能動除振台（８２，８３，８４）として、実施例５と同
じ機構の能動除振装置を用いて、塗布を行った。得られ
た塗布ドラムの目視観察を行った。振動の振幅測定は実
施例５と同じ。なお、円筒状基材１は３０本積み重ね
た。表６に結果を示す。

【００８０】

【表６】

【００８１】本発明の能動除振台を有する連続塗布装置
を用いると膜厚ムラ、乾燥ムラに起因する塗布故障がな
く、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。

【００８２】（実施例７）本実施例７では前記供給手段
１０の昇降部材１４の駆動系と、搬送手段２０とを第一
の能動除振台上に、塗布手段４０の駆動系を第二の能動
除振台上に、分離排出手段６０の駆動系を空気バネを介
した第三の能動除振台上にそれぞれ設置した。また、円
筒状基材と直接に接触する供給手段１０と搬送手段２０
とが同一の能動除振台にあり、又円筒状基材に直接接触
する分離排出手段６０を別の能動除振台上に設置する事
により振動を効率良く抑えることが出来た。得られた結
果を表７に示す。

【００８３】

【表７】

【００８４】本発明の能動除振台を有する連続塗布装置
を用いると膜厚ムラ、乾燥ムラに起因する塗布故障がな
く、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。

【００８５】（実施例８）実施例５の塗布手段の代わり
に図２に示す逐次連続塗布装置で塗布を行った。前記供
給手段１０の昇降部材１４の駆動系と、搬送手段２０と
を第一の能動除振台上に、分離排出手段６０の駆動系を
空気バネを介した第二の能動除振台上にそれぞれ設置し
て、塗布を行った。なお、能動除振台は実施例５と同じ
機構である。

【００８６】鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５
５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体（円筒状
基材）上に、下記の如く各々塗布液組成物ＵＣＬ−
１、ＣＧＬ−２及び、ＣＴＬ−１を調製し、スライ
ドホッパー型塗布手段７（ＵＣＬ−１用）、７−１
（ＣＧＬ−２用）、７−２（ＣＴＬ−１用）にて、
それぞれ乾燥膜厚１．０μｍ、２．２μｍ及び２３μｍ
になるように３層の逐次重層塗布を行い、感光体を作成
した。なお、円筒状基材は２３本積み重ね、最上部の塗
布手段４０Ｃに最近接する円筒状基材の最大振幅を測定
した。結果を表８に示す。

【００８７】

【表８】

【００８８】ＵＣＬ−１塗布液組成物共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００東レ社製）３０ｇメタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）１０ｌＣＧＬ−２塗布液組成物ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）５００ｇブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ積水化学社製）５００ｇメチルエチルケトン２４ｌ上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧ
Ｍ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用い
て２０時間分散したもの。

【００８９】ＣＴＬ−１塗布液組成物ＣＴＭ−１５ｋｇポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）５．６ｋｇ１，２−ジクロロエタン２８ｌ固形分については、固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２０
０＝０．８９：１に固定した。

【００９０】本発明の能動除振台を有する逐次連続塗布
装置を用いると、振動が少なく膜厚ムラ、乾燥ムラに起
因する塗布故障がなく、塗布性の良好な塗布ドラムが得
られた。得られた感光体Ｎｏ．７−１をコニカ社製Ｕ−
ＢＩＸ３０３５複写機で実写したところ画像ムラやカブ
リムラ等の塗布ムラに起因する画像不良はなく、画像欠
陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ等）もなく良好であっ
た。

【００９１】

【発明の効果】本発明による防振台を設けた連続塗布装
置は、（１）駆動系の振動による塗布ムラや段ムラが発
生しない、（２）画像ムラがなく良好な画像が得られる
等の優れた効果が得られる。また、本発明による能動除
振台を設けた連続塗布装置は、（１）振動による塗布ム
ラ、塗布故障がない、（２）振動による画像ムラ、画像
欠陥がない、（３）外力により振動が加えられても影響
が少ない、（４）ドラムの積み重ね本数が増やせる等の
利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置
の全体構成を示す斜視図。

【図２】本発明による第二の実施の形態の逐次連続塗布
装置の全体構成を示す斜視図。

【図３】本発明による第一の実施の形態の連続塗布装置
を示す正面図。

【図４】供給手段の斜視図。

【図５】供給手段による円筒状基材の上昇過程を示す断
面図。

【図６】搬送手段における把持手段の斜視図。

【図７】位置決め手段と塗布手段とを示す断面図。

【図８】塗布手段の斜視図。

【図９】塗布手段と塗布手段の上部に設けた乾燥フード
の断面図。

【図１０】乾燥器の断面図。

【図１１】分離排出手段による分離過程を説明する状態
図。

【図１２】防振台または能動除振台を備えた連続塗布装
置の正面図。

【図１３】防振台または能動除振台を備えた逐次連続塗
布装置の正面図。

【符号の説明】

１円筒状基材（塗布ドラム）１０供給手段１２回転テーブル１３駆動手段１４昇降部材１５押し上げ部材２０搬送手段２１，２２把持手段２３上下移動部材２４ボールネジ３０位置決め手段４０塗布手段（コータ）５０乾燥手段６０分離排出手段７０装置本体８１〜８９防振台または能動除振台Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４モータ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周
面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手
段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒状基
材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材を正
確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手段、
前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する為の
乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り出す
為の分離排出手段を具備する連続塗布装置において、前
記各手段の少なくとも１つの駆動系が防振台上に設置さ
れていることを特徴とする連続塗布装置。
【請求項２】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周
面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手
段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒状基
材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材を正
確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手段、
前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する為の
乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り出す
為の分離排出手段を具備する連続塗布装置により塗布す
る方法において、前記各手段の少なくとも１つの駆動系
が防振台上に設置されている連続塗布装置により塗布す
ることを特徴とする塗布方法。
【請求項３】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周
面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手
段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒状基
材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材を正
確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手段、
前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する為の
乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り出す
為の分離排出手段を具備する連続塗布装置において、少
なくとも前記円筒状基材と直接に接触する供給手段、搬
送手段及び分離排出手段の各駆動系が防振台上に設置さ
れていることを特徴とする連続塗布装置。
【請求項４】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材外の周
面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手
段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒状基
材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材を正
確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手段、
前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する為の
乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り出す
為の分離排出手段を具備する連続塗布装置により塗布す
る方法において、少なくとも前記円筒状基材と直接に接
触する供給手段、搬送手段及び分離排出手段の各駆動系
が防振台上に設置されている連続塗布装置により塗布す
ることを特徴とする連続塗布方法。
【請求項５】前記塗布手段が垂直型塗布手段であるこ
とを特徴とする請求項１又は３に記載の連続塗布装置。
【請求項６】前記垂直型塗布手段がスライドホッパー
型塗布手段であることを特徴とする請求項１記載の連続
塗布装置。
【請求項７】前記手段の駆動系の内少なくとも２つ以
上について各々別々の防振台上にあることを特徴とする
請求項１又は３に記載の連続塗布装置。
【請求項８】前記手段の駆動系の内少なくとも前記円
筒状基材と直接に接触する供給手段と搬送手段の各駆動
系が同一の防振台上にあり、分離排出手段の駆動系が別
の防振台上に設置されていることを特徴とする請求項３
記載の連続塗布装置。
【請求項９】複数の塗布手段を有する塗布手段により
前記円筒状基材外周面上に複数の塗布層を逐次形成させ
ることを特徴とする請求項１、３、５、６、７、８の何
れか１項に記載の連続塗布装置。
【請求項１０】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗
布手段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒
状基材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材
を正確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手
段、前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する
為の乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り
出す為の分離排出手段を具備する連続塗布装置におい
て、前記各手段の少なくとも１つの駆動系が能動除振台
上に設置されていることを特徴とする連続塗布装置。
【請求項１１】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗
布手段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒
状基材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材
を正確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手
段、前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する
為の乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り
出す為の分離排出手段を具備する連続塗布装置により塗
布する方法において、前記各手段の少なくとも１つの駆
動系が能動除振台上に設置されている連続塗布装置によ
り塗布することを特徴とする連続塗布方法。
【請求項１２】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗
布手段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒
状基材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材
を正確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手
段、前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する
為の乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り
出す為の分離排出手段を具備する連続塗布装置におい
て、前記円筒状基材と直接に接触する供給手段、搬送手
段又は分離排出手段の内少なくとも１つの対応する駆動
系が能動除振台上に設置されていることを特徴とする連
続塗布装置。
【請求項１３】円筒状基材の筒軸を合わせて積み重
ね、下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の
外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗
布手段に円筒状基材を供給する為の供給手段、前記円筒
状基材を上方に搬送する為の搬送手段、前記円筒状基材
を正確に積み重ねるために中心軸を合わせる位置決め手
段、前記塗布された円筒状基材を乾燥又は乾燥調整する
為の乾燥手段及び前記塗布された後の円筒状基材を取り
出す為の分離排出手段を具備する連続塗布装置により塗
布する方法において、前記円筒状基材と直接に接触する
供給手段、搬送手段又は分離排出手段の内少なくとも１
つの対応する駆動系が能動除振台上に設置されている塗
布手段により塗布することを特徴とする連続塗布方法。
【請求項１４】前記塗布手段が垂直型塗布手段である
ことを特徴とする請求項１０又は１２に記載の連続塗布
装置。
【請求項１５】前記垂直型塗布手段がスライドホッパ
ー型塗布手段であることを特徴とする請求項１４記載の
連続塗布装置。
【請求項１６】前記各手段の駆動系の内少なくとも２
つ以上について各々別々の能動除振台上にあることを特
徴とする請求項１０記載の連続塗布装置。
【請求項１７】前記各手段の駆動系の内少なくとも前
記円筒状基材と直接に接触する供給手段と搬送手段の各
駆動系が同一の能動除振台上にあり、分離排出手段の駆
動系が別の能動除振台上に設置されていることを特徴と
する請求項１２記載の連続塗布装置。
【請求項１８】複数の塗布手段を有する塗布手段によ
り前記円筒状基材の外周面上に複数の塗布層を逐次形成
させることを特徴とする請求項１０、１２、１４、１
５、１６、１７の何れか１項に記載の連続塗布装置。