WO2005037698A1 - 接着テープの剥離装置 - Google Patents

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WO2005037698A1
WO2005037698A1 PCT/JP2004/014820 JP2004014820W WO2005037698A1 WO 2005037698 A1 WO2005037698 A1 WO 2005037698A1 JP 2004014820 W JP2004014820 W JP 2004014820W WO 2005037698 A1 WO2005037698 A1 WO 2005037698A1
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adhesive tape
adhesive
wafer
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Takeshi Akechi
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Lintec Corporation
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    • Y10T156/1911Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus for peeling an adhesive tape such as a surface protection tape, which is singulated into chip sizes and attached to the surface of a plate-like member such as a semiconductor wafer, by force of the plate-like member.
  • wafer a semiconductor wafer
  • the semiconductor chip is manufactured by polishing the back surface of the wafer in order to make it uniform or to remove an oxide film generated during circuit formation, and then dicing (singulation) the wafer into circuits. are doing.
  • Patent Document 1 JP-A-1116862
  • Patent Document 2 JP-A-8-230093
  • the peeling device described in Patent Document 1 uses a wafer from a surface before dicing. Since the protective tape is peeled off, dicing is performed on the wafer from which the surface protective tape has been peeled off, and there is a possibility that the chips generated by dicing adhere to the circuit pattern and cause the above problem. there were.
  • a surface protective tape formed by providing an adhesive layer on a heat-shrinkable substrate is attached to a plate-like member, and then the surface protective tape is peeled off.
  • the singulated surface protective tape shrinks and bends to reduce the contact area with those plate-like members, thereby reducing This facilitates peeling of the surface protection tape from the plate member.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to remove an adhesive tape that can easily and efficiently peel an individualized adhesive tape from a plate-like member. It is to provide a device.
  • the invention according to claim 1 provides an apparatus for peeling an adhesive tape, which has been singulated into chips and attached to the surface of a plate member, from the plate member, Release tape supply means for feeding a release tape to the plate-like member set thereon,
  • Release tape applying means for applying the release tape fed out by the release tape supply means to the entire surface of the adhesive tape applied to the surface of the plate-like member;
  • Tape peeling means for peeling the adhesive tape adhered to the peeling tape by the heating means together with the peeling tape from the plate member
  • the invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein a continuous sheet tape is used as the release tape, and the release tape attaching means and the tape peeling means are provided by a common roller unit. It is characterized by comprising.
  • the invention according to claim 3 is the invention according to claim 1, wherein a tape pre-cut according to the surface shape of the plate-like member is used as the release tape, and the tape is bonded to an end of the release tape. It is characterized in that the adhesive tape is peeled off together with a peeling tape by a plate-like member by gripping the second adhesive tape thus peeled off by a peeling head and pulling it.
  • a fourth aspect of the present invention is characterized in that, in the first aspect of the present invention, the adhesive tape is formed by providing a pressure-sensitive adhesive layer on a heat-shrinkable substrate.
  • the invention according to claim 5 is the invention according to claim 4, wherein the pressure-sensitive adhesive layer of the adhesive tape is formed of a UV-curable pressure-sensitive adhesive, and an ultraviolet irradiation means for irradiating the adhesive tape with ultraviolet light. It is characterized by having been provided.
  • the invention according to claim 6 is characterized in that, in the invention according to claim 1, cooling means for cooling the peeling tape and the adhesive tape heated by the heating means is provided.
  • the individualized adhesive tape adheres to the peeling tape, so that the adhesive tape is peeled.
  • the individualized adhesive tape can also be easily peeled off the plate-shaped member, and these series of steps are peeled off.
  • a peeling device including a tape supply unit, a peeling tape attaching unit, a heating unit, a tape peeling unit, and a collecting unit, the peeling operation of the adhesive tape can be performed efficiently.
  • the individualized adhesive tape is continuously adhered to the continuous sheet tape so that the plate member Mosquitoes can be efficiently peeled off and collected.
  • the peeling tape attaching means and the tape peeling means are constituted by a common roller unit, the structure of the peeling device can be simplified and the cost can be reduced.
  • a tape precut according to the surface shape of the plate member is used as the release tape, and the second adhesive tape bonded to the end of the release tape is used. The adhesive tape can be easily and efficiently peeled off together with the peeling tape by holding and pulling the adhesive tape by the peeling head.
  • the heat-shrinkable base material is heated when the adhesive tape is heated.
  • the individual adhesive tapes that shrink and singulate are curved and the contact area with the plate-like member is reduced, so that each adhesive tape is easily peeled off by the plate-like member, and these easily adhere to the release tape. Then, the plate-like member peels off and is collected together with the release tape.
  • the adhesive tape composed of an ultraviolet-curable adhesive when the adhesive tape composed of an ultraviolet-curable adhesive is irradiated with ultraviolet light by an ultraviolet irradiation means, the adhesive of the adhesive tape is cured.
  • the adhesive force of the adhesive tape is weakened, and the individualized adhesive tapes are more easily peeled off by the plate-like member force, and these are easily peeled and collected together with the release tape.
  • FIG. 1 is a side view of a peeling device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view of a peeling device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 3 is a side view of a suction table portion of the peeling device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 4 is a plan view of a suction table portion of the peeling device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a wafer having a surface protective tape adhered to the surface.
  • FIG. 6 is a sectional view of a surface protection tape.
  • FIG. 7 is an explanatory view showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 8 is an explanatory view showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 9 shows a peeling method performed by using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. It is explanatory drawing shown in order.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention in the order of steps.
  • ⁇ 11 ⁇ is an explanatory view showing, in order, a peeling method performed by using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 12 is an explanatory view showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention in the order of the steps.
  • FIG. 13 is an explanatory view showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 14 is an explanatory view showing a peeling method performed by using the peeling apparatus according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view of a wafer having a surface protective tape adhered to a surface in a peeling method performed using the peeling device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view showing a state in which the peeling tape is attached to the surface protection tape on the wafer surface after heating in the peeling method performed using the peeling device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a plan view of a peeling device according to Embodiment 2 of the present invention.
  • FIG. 18 is an explanatory view showing a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 3 of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 19 is an explanatory view showing a peeling method performed by using the peeling apparatus according to Embodiment 3 of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram showing, in order, a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 21 is a cross-sectional view showing a state of the surface protective tape and the peeling tape after heating in a peeling method performed using the peeling device according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view showing a state in which a peeling tape and a surface protection tape are peeled off by a wafer surface force in a peeling method performed using the peeling apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.
  • Heating Z cooling unit Heating means Z cooling means
  • UV irradiation unit UV irradiation means
  • FIG. 1 is a side view of the peeling device according to Embodiment 1 of the present invention
  • FIG. 2 is a plan view of the peeling device
  • FIG. 3 is a side view of a suction table portion of the peeling device
  • FIG. FIG. 5 is a plan view
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a wafer having a surface protective tape (adhesive tape) adhered to its surface
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the surface protective tape (adhesive tape).
  • the peeling device 1 removes the surface protection tape 2a, which is affixed to the surface of the wafer W and singulated as shown in FIG. It is a device for peeling.
  • a surface protection tape 2 is adhered, and in this state, the back surface of the wafer W is polished.
  • the wafer W is diced (singulated) together with the surface protection tape 2 for each circuit.
  • 2a denotes a singulated surface protection tape
  • W1 denotes a singulated wafer.
  • the surface protection tape 2 has a configuration in which a pressure-sensitive adhesive layer 2B is applied to the surface of a heat-shrinkable base material 2A made of sufficiently stretched polyethylene, and is made of an acrylic resin.
  • a pressure-sensitive adhesive layer 2B made of a pressure-sensitive adhesive adheres to the surface of the wafer W, the surface protection tape 2 is adhered to the surface of the wafer W.
  • a release tape unit 20 which is a release tape supply means for feeding the release tape 3 to the wafer W set on the suction table 10;
  • Heating means for heating together with the surface protection tape 2 (2a) the peeling tape 3 affixed to the entire surface of the surface protection tape 2 (2a) by the affixing Z release roller unit 30, and the peeling heated by the heating means A heating Z cooling unit 40 that integrates the tape 3 and cooling means for cooling the surface protection tape 2 (2a);
  • a tape winding unit 50 which is a collecting means for collecting the surface protection tape 2 (2a) and the release tape 3 which have been peeled off by the aforesaid Z release roller unit 30 and the wafer W surface force;
  • the cylindrical suction table 10 is fixed to the ring frame 11 via the dicing tape 4 on the side opposite to the surface to which the surface protection tape 2 is attached, and is separated into individual pieces together with the surface protection tape 2.
  • the wafer W is positioned and placed on the wafer W, and the ring frame 11 and the wafers W are held by suctioning the lower surface.
  • the release tape 3 is attached to the entire surface of the surface protection tape 2 attached to the surface of the wafer W by the attachment Z release roller unit 30. At this time, the release tape is used.
  • the height of the ring frame 11 is set one step lower than the surface of the wafer W so that 3 does not adhere to the ring frame 11.
  • a mouth-shaped peeling tape raw material 21 formed by winding a peeling tape 3 is rotatably supported, and a shaft of the peeling tape raw material 21 is provided. Is connected to a pulley 22.
  • a torque motor Ml is disposed in the vicinity of the raw material tape 21 and an endless belt 24 is wound between the pulley 23 connected to the output shaft end of the torque motor Ml and the pulley 22. Is equipped.
  • the release tape 3 a heat-sensitive adhesive tape in which a heat-sensitive adhesive layer is provided on a heat-resistant film such as polyethylene terephthalate is used, and the heat-sensitive adhesive layer is covered with a release paper 3a. ing.
  • Another motor M2 is disposed below the torque motor Ml, and the output shaft of the motor M2 has a peeling tape 3a for winding the release paper 3a separated from the peeling tape 3. Paper winding shaft 25 is attached.
  • the release tape unit 20 includes upper and lower roller pairs 26a, 26b for holding the release tape 3 fed from the release tape raw material 21 and separating the release paper 3a from the release tape 3; Guide rollers 27a-27d are provided to guide the release paper 3a separated from the release tape 3.
  • one guide roller 27c constitutes a buffer roller which can move up and down along a guide groove 28 formed in the vertical direction, and this buffer roller 27c is always downwardly moved by a biasing means (not shown). It is urged to pull the release paper 3a to prevent it from loosening.
  • Adhesion Z peeling roller unit Adhesion Z peeling roller unit:
  • the Z-peeling roller unit 30 has two rollers 31 and 32 rotatably supported one above the other, which are arranged in parallel on a main body of the apparatus.
  • the slide rail 33 is movably supported via a slide track 34.
  • the attached Z-peeling roller unit 30 is reciprocated on the slide rail 33 in the direction indicated by an arrow by a moving uniaxial robot 35 (see FIG. 2) installed on the apparatus main body in parallel with the slide rail 33. .
  • the affixing Z peeling roller unit 30 is supported so as to be able to move up and down along two guide shafts 36 arranged in the vertical direction.
  • the cylinder 37 is moved up and down along the guide shaft 36.
  • the release tape 3 from which the release paper 3a is separated is wound around the rollers 31 and 32 of the affixing Z release roller unit 30.
  • Heating Z cooling unit
  • the heating Z cooling unit 40 includes a heater main body 41 and cooling means (not shown) such as a cooling fan as heating means, and a pair of right and left slide rails 42 orthogonal to the slide rails 33. It is movably supported via a slide track 43 in a direction perpendicular to the plane of FIG. A slide cylinder 44 for reciprocating the heating Z cooling unit 40 along the slide rail 42 is provided in parallel with the slide rail 42 (see FIG. 2).
  • the heater main body 41 is supported so as to be vertically movable along a plurality of guide shafts 45, and the heater main body 41 is vertically moved by a vertical cylinder 46. (See Figure 1).
  • the tape winding unit 50 is disposed above the peeling tape unit 20.
  • the tape winding unit 50 includes a feed roller 51 driven to rotate by a motor M3 and a feed roller 51.
  • a pinch roller 52 that rotates in contact therewith, guide rollers 53 and 54 disposed on both sides of the pinch roller 52, and a release tape winding shaft 55 for winding the release tape 3 together with the surface protection tape 2 (2a) adhered thereto.
  • a torque motor M4 is disposed in the vicinity of the winding shaft 55, and a pulley 56 connected to an output shaft end of the torque motor M4 and a pulley 57 connected to the peeling tape winding shaft 55 are disposed.
  • An endless belt 58 is wound between them.
  • the peeling tape 3 fed to the tape winding unit 50 via the roller 31 of the affixing Z peeling roller unit 30 and the surface protection tape 2 (2a) adhered thereto are formed by the guide roller. After passing through 53, it is pinched by a feed roller 51 and a pinch roller 52, further reaches a peeling tape winding shaft 55 through a guide roller 54, and is wound and collected by the peeling tape winding shaft 55.
  • FIGS. 7 to 16 are explanatory views showing the peeling method in the order of the steps
  • FIG. 15 is a cross-sectional view showing the state of the peeling tape adhered to the surface protective tape on the wafer surface
  • FIG. 16 is a surface protective sheet after heating.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state of a tape and a release tape.
  • the peeling method according to the present embodiment is a method of peeling the surface protective tape 2a attached to the surface of the wafer W and singulated into chip sizes similarly to the singulated wafer W1. Then, it is performed through the following peeling tape attaching step, heating Z cooling step, and tape peeling step.
  • the wafer W having the surface protection tape 2 adhered to the surface is positioned so that the surface protection tape 2 side faces upward. It is suction-set together with the ring frame 11 via the dicing tape 4, and the surface protection tape 2 is diced into chips together with the wafer W by dicing.
  • the attached Z-peeling roller unit 30 is waiting at the position shown in FIGS. 1 and 2, and the two rollers 31, 32 of the attached Z-peeling roller unit 30 are in the positions shown in FIG. Then, the peeling tape 3 stretched over them is made to stand by the side of the wafer W.
  • the moving single-axis robot 35 is driven to move the sticking Z peeling roller unit 30 to the left in FIGS. 1 and 2 along the slide rail 33.
  • the rollers 31, 32 of the unit 30 also move in the direction of the arrow to the position indicated by the dashed line in FIG.
  • the motor M3 is in the locked state, and the rollers 31 and 32 move to move the peeling tape 3 from which the release paper 3a is separated from the raw material of the peeling tape 21 while pulling out the peeling tape 3.
  • the peeling tape 3 stretched between the roller 32 and the roller pair 26a, 26b is positioned obliquely.
  • the vertical cylinder 37 is driven to move the Z peeling roller unit 30 down along the guide shaft 36, and as shown in FIG. Adhere to one end.
  • the peeling tape 3 is stuck to one end of the surface protection tape 2 (2a) stuck to the surface of the wafer W, and in this state, the moving uniaxial robot 35 is driven to stuck the Z peeling roller unit 30. Move it along the slide rail 33 to the right in Figs.
  • rollers 31 and 32 of the affixing Z-peeling roller unit 30 also move in the direction of the arrow to the position indicated by the dashed line in FIG. 10, and the roller 32 applies the peeling tape 3 to a wedge and the surface protection tape 2 for W surface. (2a) is moved while being pressed, so that the release tape 3 is adhered to the entire surface of the surface protection tape 2 (see FIG. 15).
  • the moving single-axis robot 35 is driven again, and the attaching Z peeling roller unit 30 is moved along the slide rail 33 as shown in FIG.
  • the vertical cylinder 37 is driven to move the bonding Z-peeling roller unit 30 up along the guide shaft 36, and the roller 32 is also separated from the wafer W surface force.
  • the rollers 31, 32 of the sticking Z-peeling roller unit 30 also move in the direction of the arrow to the position indicated by the dashed line in FIG.
  • the slide cylinder 44 is driven to move the heating Z cooling unit 40 along the slide rail 42 downward in FIG. 2, and the heating Z cooling unit 40 is positioned above the wafer W.
  • the vertical cylinder 46 of the heating Z cooling unit 40 is driven, and the heater main body 41 of the heating Z cooling unit 40 is moved down along the guide shaft 45, as shown in FIG.
  • the heater body 41 is brought into contact with the peeling tape 3 adhered to the surface protection tape 2 (2a) on the surface of the Ueno W.
  • the heater of the heater body 41 is energized to heat the release tape 3 and the surface protection tape 2 (2a) to a predetermined temperature.
  • the heating temperature and heating time are determined by the force of the material of the surface protection tape 2, generally 40 to 200 ° C (preferably 70 to 130 ° C), and 0.5 to 120 seconds (preferably). Is about 110 seconds).
  • the surface protective tape 2 is formed by applying the adhesive layer 2B to the surface of the heat-shrinkable base material 2A, when this is heated, The heat-shrinkable base material 2A shrinks, and the individualized surface protection tapes 2a are curved as shown in FIG. Therefore, the contact area of the individualized surface protection tapes 2a with respect to the surface of the wafer W (W1) is reduced, and the surface protection tapes 2a are more likely to peel off the surface of the wafer W (W1).
  • the vertical cylinder 46 is driven to move the heater body 41 of the heating Z cooling unit 40 upward along the guide shaft 45, and the heater body 41 is separated from the wafer W as shown in FIG.
  • a cooling means such as a cooling fan (not shown).
  • the slide cylinder 44 is driven to move the heated Z cooling unit 40 upward along the slide rail 42 in FIG.
  • the upward force of the wafer W is also retracted.
  • the moving uniaxial robot 35 is driven to move the sticking Z peeling roller unit 30 to the right in FIGS. 1 and 2 along the slide rail 33, and the sticking Z peeling roller unit 30
  • the rollers 31, 32 move in the direction of the arrow from the chain line position to the solid line position in FIG. 14.
  • the motor M3 and the torque motor M4 are simultaneously driven.
  • the torque motor M In 4 since a predetermined tension is applied to the peeling tape 3, the rotation is transmitted to the tape winding shaft 55 via the pulley 56, the belt 58 and the pulley 57, and the tape winding is performed. Since the shaft 55 is rotationally driven, the peeling tape 3 is peeled off together with the surface protection tape 2 (2a) adhered to the wafer W.
  • the individualized surface protection tapes 2a are curved and are easily peeled off from the surface of the wafer W. 2a adheres to the release tape 3 and is easily peeled off on the surface of the wafer W.
  • the peeling tape 3 from which the surface force of the wafer W has been peeled off is wound around the tape winding shaft 55 of the tape winding unit 50 and collected together with the surface protection tape 2a adhered thereto.
  • the peeling tape 3 attached to the entire surface of the surface protection tape 2 is heated together with the surface protection tape 2 (2a)
  • the individualized surface protection tape 2a Since the surface protection tape 2a shrinks while adhering to the release tape 3, the force that can easily release the individualized surface protection tape 2a and the surface force of the wafer W can be easily obtained.
  • the peeling device 1 including the Z peeling roller unit 30, the heating Z cooling unit 40, and the tape winding unit 50 the peeling operation of the surface protection tape 2 (2a) can be performed efficiently. .
  • the individualized surface protection tape 2 a is continuously adhered to the continuous release tape 3 and the wafer W The surface force can be efficiently peeled off and recovered.
  • the peeling tape attaching means and the tape peeling means are constituted by the common attaching Z peeling roller unit 30, the structure of the peeling device 1 can be simplified and the cost can be reduced.
  • the heated release tape 3 and surface protection tape 2 (2a) are cooled, so that the operation time can be shortened and higher efficiency can be achieved.
  • the peeling apparatus 1 In the peeling apparatus 1 according to the present embodiment, all the operations are performed automatically so that a part of the operation (for example, setting of the wafer W on the suction table 10) is performed manually. With such a configuration, it is possible to realize a fully automatic peeling apparatus.
  • FIG. 17 is a plan view of the peeling device according to the present embodiment.
  • the peeling device 1 includes a frame chuck unit for automatically taking in and out wafers (weno integrated with the ring frame 11) W into and from the frame cassette 71. 70 and a UV irradiation unit 80 for irradiating ultraviolet rays (UV) to the surface protection tape 2 (2a) in which the pressure-sensitive adhesive layer 2B shown in FIG. 6 is made of a UV-curable pressure-sensitive adhesive.
  • the other configuration is the same as that of the peeling apparatus 1 according to the first embodiment.
  • the suction table 10, the peeling tape unit 20, the sticking Z peeling roller unit 30, the heating Z cooling unit 40 and the tape winding are provided. Equipped with a take unit 50! / Puru.
  • the frame chuck unit 70 takes out one of the plurality of wafers W stored in the frame cassette 71 at appropriate intervals in the vertical direction, and takes out one of the wafers W.
  • the tape 2 (2a) is peeled off, and the wafer W from which the surface protection tape 2 (2a) has been peeled is stored in the frame cassette 71, and is moved up and down along the slide rail 72 which is vertically set up.
  • a moving table 73 is provided.
  • a pair of guide rails 74 are installed on the table 73 and extend in parallel with each other with a force toward the opening of the frame cassette 71.
  • a pair of slide rails 75 are provided between the guide rails 74. Are installed in parallel!
  • the slide rail 75 is provided with a slider 76 which can reciprocate on the slide rail 75 by a driving means (not shown).
  • the slider 76 has a wafer W (actually, Is mounted with a frame chuck 77 for chucking the ring frame 11).
  • the UV irradiation unit 80 is for irradiating the surface protection tape 2 (2a) adhered to the surface of the wafer W with ultraviolet light (UV).
  • UV ultraviolet light
  • the transport unit 90 includes a pair of parallel slide rails 92 arranged in a direction perpendicular to the slide rails 75, and the slide rails 92 A slider 93 is slidably provided.
  • the slider 93 has a pair of parallel slide rails 94 orthogonal to the slide rail 92 slidably supported along the slider 93 in a vertical direction (a direction perpendicular to the plane of FIG. 17).
  • the base end of an L-shaped support arm 95 that supports the suction arm 91 at the tip is slidably supported via a slider 96.
  • the support arm 95 is provided with a mechanism (not shown) that can turn the suction arm 91 upside down.
  • the table 73 of the frame chuck unit 70 is moved along the slide rail 72.
  • the movement of the table 73 is stopped, and the frame chuck 77 slides on the slide rail 75 against the frame cassette 71 so that the frame cassette 71 moves.
  • the desired wafer W (actually, the ring frame 11) is chucked and taken out, and the wafer W integrated with the ring blem 11 is moved along the guide rail 74, and this is shown by the solid line in FIG. It is transported to the specified position indicated by.
  • the transfer unit 90 is driven, and the suction arm 91 attached to the tip of the support arm 95 moves to the frame chuck unit 70 side along the slide rail 92, and 17 moves above the wafer W waiting at the solid line position in FIG. 17, and is moved down along the slider 93 to suck the ring frame 11 and support the wafer W therewith.
  • the suction arm 91 moves up again and moves along the slide rail 92, and passes the wafer W above the UV irradiation unit 80, thereby adhering to the surface of the wafer W and applying the surface protection tape 2.
  • (2a) is irradiated with ultraviolet rays (UV).
  • the UV-curable pressure-sensitive adhesive of the surface protection tape 2 (2a) is cured, and the adhesive force of the surface protection tape 2 (2a) to the surface of the wafer W is weakened. At this time, the wafer W is supported with the surface side on which the surface protection tape 2 (2a) is stuck down.
  • the suction arm 91 moves along the slide rail 92 of the transfer unit 90, and turns over the front and back of the wafer W.
  • the wafer W is placed on the suction table 10 in the same manner as in the peeling apparatus 1 according to the first embodiment. Set it with the front side to which the protective tape 2 is attached facing up. Then, thereafter, as in the first embodiment, the surface protection tape 2 (2a) attached to the surface of the wafer W is peeled off from the wafer W and removed.
  • the wafer W from which the singulated surface protection tape 2a has been peeled off and removed is sucked by the suction arm 91 and is positioned at a predetermined position on the guide rail 74 of the frame chuck unit 70 (see FIG. 17). (The position shown by the solid line), is transported along the guide rail 74 by the slider 76 in the direction of the frame cassette 71 while being chucked by the frame chuck 77, and stored in a predetermined location of the frame cassette 71. You.
  • the surface protection tape 2 (2a) can be peeled off from the plurality of wafers W in a fully automatic manner, thereby saving labor and improving work efficiency. It comes out.
  • the surface protection tape 2 (2a) is irradiated with ultraviolet rays by the UV irradiation unit 80.
  • the UV-curable pressure-sensitive adhesive of the surface protection tape 2 (2a) is cured, the adhesive strength of the surface protection tape 2 (2a) is weakened, and the individualized surface protection tape 2a is replaced with the wafer W. Surface force It becomes more easily peeled off, and these are easily peeled off together with the release tape and recovered.
  • FIGS. FIG. 18 to FIG. 20 are explanatory views showing, in the order of steps, a peeling method performed by using the peeling apparatus according to Embodiment 3 of the present invention
  • FIG. 21 is a state of the surface protection tape and the peeling tape after heating.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view showing a state in which the peeling tape and the surface protection tape are peeled off from the wafer surface.
  • the peeling method according to the present embodiment is similar to that of the first and second embodiments, except that the surface protection tape 2a affixed to the surface of the wafer W and singulated into chip sizes is used. Force, which is a method of peeling, is used as the peeling tape 3 according to the surface shape of the wafer W. The difference from the first and second embodiments is that a recut circular tape is used.
  • the sheet-shaped release paper 3a wound around the raw release tape 61 is precut according to the surface shape of the wafer W.
  • a plurality of circular release tapes 3 are temporarily attached at appropriate intervals, and the release paper 3a unwound from the raw release tape 61 is guided by rollers 62-65 and wound on a winding shaft 66.
  • the surface protection tape 2 has a configuration in which an adhesive layer is applied to the surface of a heat-shrinkable base material as in the first embodiment, and the release tape 3 is made of a heat-resistant material such as polyethylene terephthalate.
  • a heat-sensitive adhesive tape formed by providing a heat-sensitive adhesive layer on a film is used.
  • the release paper 3a is stretched substantially horizontally above the wafer W by two rollers 63 and 64, and is temporarily attached to the lower surface of the release paper 3a.
  • the peeled circular tape 3 is positioned above the wafer W.
  • the heater main body 41 of the heating Z cooling unit 40 is moved downward, and as shown in FIG. 19, the heater main body 41 presses the peeling tape 3 against the eno and the surface protection tape 2 on the W surface.
  • the release tape 3 and the surface protection tape 2 are heated to a predetermined temperature.
  • the release tape 3 pre-cut in a circular shape is attached to the entire surface of the surface protection tape 2 on the surface of the wafer W.
  • the surface protection tape 2 is formed by applying a pressure-sensitive adhesive layer to the surface of the heat-shrinkable base material, the heat-shrinkable base material shrinks when heated, and as shown in FIG. As shown, the individualized surface protection tapes 2a are curved. For this reason, the contact area of the individual surface protection tapes 2a singulated on the wafer W surface is reduced, and each surface protection tape 2a is easily peeled off from the wafer W surface.
  • the release tape 3 separates from the release paper 3a and remains on the surface of the wafer W, and only the release paper 3a is opened.
  • the rollers are guided by rollers 64 and 65 and wound on a winding shaft 66.
  • one end of an adhesive tape 67 is adhered to one end of a peeling tape 3 adhered to the entire surface of the surface protection tape on the surface of the wafer W. As shown in the figure, it is folded back into a horizontal U-shape, and the other end is pinched by the stripping head 68 and moved in the direction of the arrow shown in the figure. These are pulled by 8 and these are sequentially separated and recovered from the wafer W surface force.
  • the individualized surface protection tapes 2a are curved and the surface force of the wafer W is easily peeled off, and thus these surface protection tapes 2a are attached to the release tape 3. And easily peel off from the surface of the wafer.
  • the individualized surface protection tape 2a can also be easily and efficiently peeled with a surface force of wafer W, similar to the first embodiment. The effect is obtained.
  • the present invention is applicable to a method and an apparatus for peeling an adhesive tape such as a surface protection tape, which is singulated into chip sizes and affixed to the surface of a plate member, from the plate member. It can also be used in the fields of manufacturing optical devices and electronic components such as lenses, diodes, and wavelength conversion elements other than in the field of semiconductor manufacturing.

Abstract

 個片化された接着テープを板状部材から容易に且つ効率良く剥離することができる接着テープの剥離装置を提供する。  チップサイズに個片化されてウエハ(板状部材)Wの表面に貼付された表面保護テープ(接着テープ)2aをウエハWから剥離する装置を、  吸着テーブル10上にセットされたウエハWに対して剥離テープ3を繰り出す剥離テープ供給手段20と、該剥離テープ供給手段20によって繰り出された剥離テープ3をウエハWの表面に貼付された表面保護テープ2aの全面に貼付する剥離テープ貼付手段と、該剥離テープ貼付手段によって接着テープの全面に貼付された剥離テープを接着テープと共に加熱する加熱手段と、該加熱手段による加熱によって剥離テープに付着した接着テープを剥離テープと共に板状部材から剥離するテープ剥離手段と、該テープ剥離手段によって板状部材から剥離された接着テープと剥離テープを回収する回収手段と、を含んで構成する。

Description

明 細 書
接着テープの剥離装置
技術分野
[0001] 本発明は、チップサイズに個片化されて半導体ウェハ等の板状部材の表面に貼付 された表面保護テープ等の接着テープを板状部材力 剥離する装置に関するもの である。
背景技術
[0002] 例えば、電子産業や光学産業における半導体チップの製造工程においては、半導 体ウェハ(以下、単に「ウェハ」と称する)の表面に所定の回路パターンを形成した後 、ウェハの厚みを薄く均一にするため、或は回路形成時に生成された酸ィ匕膜を除去 するためにウェハの裏面を研磨し、その後、ウェハを回路毎にダイシング (個片化)す ることによって半導体チップを製造している。
[0003] ところで、ウェハの研磨に際しては研磨屑が発生し、この研磨屑が回路パターンに 接触すると、回路パターンが破壊される可能性がある。
[0004] そこで、ウェハの表面に表面保護テープを貼着してウェハ表面を保護し、この状態 で研磨を行い、研磨後に表面保護テープをウェハ表面力 剥離する方法が採用さ れ、この方法を実施するための剥離装置も提案されている (特許文献 1参照)。
[0005] 又、ウェハを回路毎にダイシング (個片ィ匕)することによって切削屑が発生し、この 切削屑が回路パターンに接触しても、該回路パターンが破壊される可能性があるた め、ウェハ表面に表面保護テープが貼着された状態でダイシングを行い、ダイシング 後に個片化された表面保護テープをウェハ表面力 剥離する方法が提案されて 、る (特許文献 2参照)。
[0006] 特許文献 1 :特開平 11 16862号公報
特許文献 2:特開平 8— 230093号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] ところが、特許文献 1に記載された剥離装置は、ダイシングする前のウェハから表面 保護テープを剥離する装置であるため、表面保護テープが剥離されたウェハに対し てダイシングがなされることとなり、ダイシングによって発生した切削屑が回路パター ンに付着して前記問題が発生する可能性があった。
[0008] 又、特許文献 2に記載された剥離方法は、熱収縮性基材上に粘着剤層を設けて成 る表面保護テープを板状部材に貼着した後、該表面保護テープを剥離する際に実 質的に熱収縮性基材のみを加熱することによって、個片化された表面保護テープを 収縮'湾曲せしめてそれらの板状部材への接触面積を減少せしめ、これによつて表 面保護テープの板状部材からの剥離を容易化するものである。
[0009] ところが、上記剥離方法においては、収縮 '湾曲した個々の表面保護テープを送風 、吸引、粘着テープによる剥離等の手段によって板状部材表面力 除去する必要が あり、この作業は専ら手作業によっていたため、効率が悪いという問題があった。
[0010] 本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、個片化された 接着テープを板状部材カも容易に且つ効率良く剥離することができる接着テープの 剥離装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0011] 上記目的を達成するため、請求項 1記載の発明は、チップサイズに個片化されて板 状部材の表面に貼付された接着テープを前記板状部材から剥離する装置を、 吸着テーブル上にセットされた前記板状部材に対して剥離テープを繰り出す剥離 テープ供給手段と、
該剥離テープ供給手段によって繰り出された剥離テープを板状部材の表面に貼付 された前記接着テープの全面に貼付する剥離テープ貼付手段と、
該剥離テープ貼付手段によって接着テープの全面に貼付された剥離テープを接 着テープと共に加熱する加熱手段と、
該加熱手段による加熱によって剥離テープに付着した接着テープを剥離テープと 共に板状部材から剥離するテープ剥離手段と、
該テープ剥離手段によって板状部材力 剥離された接着テープと剥離テープを回 収する回収手段と、
を含んで構成したことを特徴とする。 [0012] 請求項 2記載の発明は、請求項 1記載の発明において、前記剥離テープとして、連 続したシート状テープを用い、前記剥離テープ貼付手段と前記テープ剥離手段とを 共通のローラユニットで構成したことを特徴とする。
[0013] 請求項 3記載の発明は、請求項 1記載の発明において、前記剥離テープとして、前 記板状部材の表面形状に合わせてプリカットされたテープを用い、該剥離テープの 端部に接着された第 2の接着テープを剥しヘッドによって把持してこれを引っ張ること によって前記接着テープを剥離テープと共に板状部材力 剥離することを特徴とす る。
[0014] 請求項 4記載の発明は、請求項 1記載の発明において、前記接着テープを、熱収 縮性基材上に粘着剤層を設けて構成したことを特徴とする。
[0015] 請求項 5記載の発明は、請求項 4記載の発明において、前記接着テープの粘着剤 層を紫外線硬化型の粘着剤で構成するとともに、該接着テープに紫外線を照射する 紫外線照射手段を設けたことを特徴とする。
[0016] 請求項 6記載の発明は、請求項 1記載の発明において、前記加熱手段によってカロ 熱された剥離テープと接着テープを冷却する冷却手段を設けたことを特徴とする。 発明の効果
[0017] 請求項 1記載の発明によれば、接着テープの全面に貼付された剥離テープを接着 テープと共に加熱すると、個片化された接着テープが剥離テープに付着するため、 この接着テープを剥離テープと共に板状部材力 剥離し、剥離された接着テープと 剥離テープを回収することによって、個片化された接着テープを板状部材カも容易 に剥離することができ、これら一連の工程を剥離テープ供給手段と、剥離テープ貼付 手段と、加熱手段と、テープ剥離手段及び回収手段を含んで構成される剥離装置に よって実施することによって、接着テープの剥離作業を効率良く行うことができる。
[0018] 請求項 2記載の発明によれば、剥離テープとして、連続したシート状テープを用い るため、個片化された接着テープを連続したシート状テープに連続的に付着させて 板状部材カも効率良く剥離して回収することができる。又、剥離テープ貼付手段とテ ープ剥離手段とを共通のローラユニットで構成することによって、剥離装置の構造単 純ィ匕とコストダウンを図ることができる。 [0019] 請求項 3記載の発明によれば、剥離テープとして、板状部材の表面形状に合わせ てプリカットされたテープを用い、該剥離テープの端部に接着された第 2の接着テー プを剥しヘッドによって把持してこれを引っ張ることによって接着テープを剥離テープ と共に板状部材力 容易に且つ効率良く剥離することができる。
[0020] 請求項 4記載の発明によれば、接着テープとして、熱収縮性基材上に粘着剤層を 設けて成るテープを用いるため、該接着テープが加熱されると熱収縮性基材が収縮 し、個片化された個々の接着テープが湾曲してそれらの板状部材に対する接触面積 が減少するため、各接着テープが板状部材力 剥れ易くなり、これらは剥離テープに 容易に付着して板状部材力 剥離して剥離テープと共に回収される。
[0021] 請求項 5記載の発明によれば、粘着剤層が紫外線硬化型の粘着剤で構成される 接着テープに紫外線照射手段によって紫外線を照射すると、該接着テープの粘着 剤が硬化するために接着テープの接着力が弱められ、個片化された各接着テープ が板状部材力 一層剥れ易くなり、これらは剥離テープと共に板状部材力 容易に 剥離して回収される。
[0022] 請求項 6記載の発明によれば、加熱された剥離テープと接着テープを冷却すること によって、作業時間を短縮して更なる高効率ィ匕を図ることができる。
図面の簡単な説明
[0023] [図 1]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置の側面図である。
[図 2]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置の平面図である。
[図 3]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置の吸着テーブル部分の側面図である。
[図 4]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置の吸着テーブル部分の平面図である。
[図 5]表面に表面保護テープが貼着されたウェハの断面図である。
[図 6]表面保護テープの断面図である。
[図 7]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
[図 8]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
[図 9]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 10]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 11]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 12]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 13]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 14]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 15]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法におい て表面に表面保護テープが貼着されたウェハの断面図である。
圆 16]本発明の実施の形態 1に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法における 加熱後のウェハ表面の表面保護テープへの剥離テープの貼着状態を示す断面図 である。
圆 17]本発明の実施の形態 2に係る剥離装置の平面図である。
圆 18]本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 19]本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 20]本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をそのェ 程順に示す説明図である。
圆 21]本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法における 加熱後の表面保護テープと剥離テープの状態を示す断面図である。
圆 22]本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法におい て剥離テープと表面保護テープをウェハ表面力 剥離する状態を示す断面図である 符号の説明
1 剥離装置
2 表面保護テープ (接着テープ)
2A 熱収縮性基材
2B 粘着剤層
2a 個片化された表面保護テープ (接着テープ)
3 剥離テープ
3a 剥離紙
10 吸着テーブル
11 リングフレーム
20 剥離テープユニット (剥離テープ供給手段)
21 剥離テープ原反
25 剥離紙卷取り軸
30 貼付 Z剥離ローラユニット (剥離テープ貼付手段 Zテープ剥離手段)
31, 32 ローラ
35 移動用一軸ロボット
37 上下用シリンダ
40 加熱 Z冷却ユニット (加熱手段 Z冷却手段)
41 ヒータ本体
44 スライド用シリンダ
50 テープ卷取りユニット(回収手段)
55 剥離テープ卷取り軸
61 剥離テープ原反
62— 65 ローラ
66 卷取り軸
67 接着テープ
68 剥しヘッド
70 フレームチャックユニット 71 フレームカセット
72 スライドレーノレ
73 テーブル
74 ガイドレール
75 スライドレーノレ
76 スライダ
77 フレームチャック
80 UV照射ユニット (紫外線照射手段)
90 搬送ユニット
91 吸着アーム
92 スライドレーネ
93 スライダ
94 スライドレーノレ
95 支持アーム
96 スライダ
W 半導体ウェハ (板状部材)
Wl 個片化された半導体ウェハ
Ml— M4 モータ
発明を実施するための最良の形態
[0025] 以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
[0026] <実施の形態 1 >
図 1は本発明の実施の形態 1に係る剥離装置の側面図、図 2は同剥離装置の平面 図、図 3は同剥離装置の吸着テーブル部分の側面図、図 4は同吸着テーブル部分 の平面図、図 5は表面に表面保護テープ (接着テープ)が貼着されたウェハの断面 図、図 6は表面保護テープ (接着テープ)の断面図である。
[0027] 本実施の形態に係る剥離装置 1は、半導体製造工程において、図 5に示すようにゥ ェハ Wの表面に貼付されて個片化された表面保護テープ 2aをウェハ Wの表面から 剥離する装置である。 [0028] ここで、ウェハ Wの表面には所定の回路パターンが形成された後、図 5に示すよう に、表面保護テープ 2が貼着され、その状態でウェハ Wの裏面が研磨され、その後、 該ウェハ Wは表面保護テープ 2と共に回路毎にダイシング (個片化)される。尚、図 5 にお 、て 2aは個片化された表面保護テープ、 W1は個片化されたウェハを示す。
[0029] ところで、表面保護テープ 2は、図 6に示すように、十分に延伸加工されたポリェチ レンから成る熱収縮性基材 2Aの表面に粘着剤層 2Bを塗工した構成で、アクリル系 粘着剤から成る粘着剤層 2Bがウェハ Wの表面に接着することによって表面保護テ ープ 2がウェハ Wの表面に貼着される。
[0030] 而して、本実施の形態に係る剥離装置 1は、図 1に示すように、
1)吸着テーブル 10と、
2)上記吸着テーブル 10上にセットされたウェハ Wに対して剥離テープ 3を繰り出 す剥離テープ供給手段である剥離テープユニット 20と、
3)上記剥離テープユニット 20によって繰り出された剥離テープ 3をウェハ Wの表面 に貼付された前記表面保護テープ 2 (2a)の全面に貼付する剥離テープ貼付手段と 、後述の加熱 Z冷却ユニット 40による加熱によって剥離テープ 3に付着した表面保 護テープ 2 (2a)を剥離テープ 3と共にウェハ W表面から剥離するテープ剥離手段と を一体ィ匕して成る貼付 Z剥離ローラユニット 30と、
4)上記貼付 Z剥離ローラユニット 30によって表面保護テープ 2 (2a)の全面に貼付 された剥離テープ 3を表面保護テープ 2 (2a)と共に加熱する加熱手段と、該加熱手 段によって加熱された剥離テープ 3と表面保護テープ 2 (2a)を冷却する冷却手段と を一体化して成る加熱 Z冷却ユニット 40と、
5)前記貼付 Z剥離ローラユニット 30によってウェハ W表面力 剥離された表面保 護テープ 2 (2a)と剥離テープ 3とを回収する回収手段であるテープ卷取りユニット 50 と、
を含んで構成されている。
[0031] ここで、吸着テーブル 10、剥離テープユニット 20、貼付 Z剥離ローラユニット 30、 加熱 Z冷却ユニット 40及びテープ卷取りユニット 50についてそれぞれ以下に詳細に 説明する。 [0032] 1)吸着テーブル:
円柱状の吸着テーブル 10は、図 4に示すように、表面保護テープ 2が貼付された面 の反対側にダイシングテープ 4を介してリングフレーム 11に固定され、表面保護テー プ 2と共に個片化されたウェハ Wを位置決めして載置するようになっており、リングフ レーム 11とウエノ、 Wは共に下面を吸着して保持される。
[0033] 尚、後述のように、ウェハ W表面に貼付された表面保護テープ 2の全面には前記貼 付 Z剥離ローラユニット 30によって剥離テープ 3が貼着されるが、このとき、剥離テー プ 3がリングフレーム 11に付着しな 、ように、リングフレーム 11の高さはウェハ W表面 よりも一段低く設定されている。
[0034] 2)剥離テープユニット:
剥離テープユニット 20においては、図 1に示すように、剥離テープ 3を卷装して成る 口ール状の剥離テープ原反 21が回転自在に支承されており、該剥離テープ原反 21 の軸にはプーリ 22が結着されている。そして、剥離テープ原反 21の近傍にはトルク モータ Mlが配置されており、該トルクモータ Mlの出力軸端に結着されたプーリ 23と 前記プーリ 22の間には無端状のベルト 24が卷装されている。
[0035] ここで、剥離テープ 3としては、ポリエチレンテレフタレート等の耐熱フィルムに感熱 性接着剤層を設けて成る感熱性接着テープが用いられるが、感熱性接着剤層は剥 離紙 3aによって被覆されている。
[0036] 又、前記トルクモータ Mlの下方には別のモータ M2が配置されており、該モータ M 2の出力軸には、前記剥離テープ 3から分離された剥離紙 3aを巻き取るための剥離 紙卷取り軸 25が結着されて ヽる。
[0037] 更に、剥離テープユニット 20には、前記剥離テープ原反 21から繰り出された剥離 テープ 3を挟持して該剥離テープ 3から剥離紙 3aを分離する上下のローラ対 26a, 2 6bと、剥離テープ 3から分離された剥離紙 3aをガイドするガイドローラ 27a— 27dが 設けられている。ここで、 1つのガイドローラ 27cは、上下方向に形成されたガイド溝 2 8に沿って上下動可能なバッファローラを構成しており、このバッファローラ 27cは不 図示の付勢手段によって常時下方に付勢され、剥離紙 3aを引っ張ってこれの弛みを 防ぐ機能を果たす。 [0038] 3)貼付 Z剥離ローラユニット:
貼付 Z剥離ローラユニット 30は、図 1に示すように、回転自在に支持された 2つの口 ーラ 31, 32を上下に配して構成され、これは装置本体上に平行に設置された一対 のスライドレール 33にスライドトラック 34を介して移動自在に支持されている。そして 、この貼付 Z剥離ローラユニット 30は、装置本体上に前記スライドレール 33と平行に 設置された移動用一軸ロボット 35 (図 2参照)によってスライドレール 33上を図示矢 印方向に往復動せしめられる。
[0039] 又、貼付 Z剥離ローラユニット 30は、図 2に示すように、上下方向に配された 2本の ガイドシャフト 36に沿って上下動可能に支持されており、これに設けられた上下用シ リンダ 37によって前記ガイドシャフト 36に沿って上下動せしめられる。
[0040] 尚、貼付 Z剥離ローラユニット 30の前記ローラ 31, 32には、剥離紙 3aが分離され た剥離テープ 3が巻き掛けられて 、る。
[0041] 4)加熱 Z冷却ユニット:
加熱 Z冷却ユニット 40は、図 1に示すように、加熱手段としてヒータ本体 41と冷却フ アン等の不図示の冷却手段を備えており、前記スライドレール 33に直交する左右一 対のスライドレール 42にスライドトラック 43を介して図 1の紙面直交方向に移動自在 に支持されている。そして、加熱 Z冷却ユニット 40をスライドレール 42に沿って往復 移動せしめるスライド用シリンダ 44が前記スライドレール 42と平行に設置されている( 図 2参照)。
[0042] 又、加熱 Z冷却ユニット 40においては、前記ヒータ本体 41が複数のガイドシャフト 4 5に沿って上下動自在に支持されており、該ヒータ本体 41は、上下用シリンダ 46によ つて上下動せしめられる(図 1参照)。
[0043] 5)テープ卷取りユニット:
テープ卷取りユニット 50は、図 1に示すように、前記剥離テープユニット 20の上方に 配置されており、このテープ卷取りユニット 50には、モータ M3によって回転駆動され るフィードローラ 51とこれに当接して従動回転するピンチローラ 52、これの両側に配 されたガイドローラ 53, 54及び剥離テープ 3をこれに付着した表面保護テープ 2 (2a )と共に巻き取るための剥離テープ卷取り軸 55が設けられている。そして、剥離テー プ卷取り軸 55の近傍にはトルクモータ M4が配置されており、該トルクモータ M4の出 力軸端に結着されたプーリ 56と前記剥離テープ卷取り軸 55に結着されたプーリ 57 の間には無端状のベルト 58が卷装されている。
[0044] 而して、前記貼付 Z剥離ローラユニット 30のローラ 31を経てテープ卷取りユニット 5 0へと送り込まれる剥離テープ 3とこれに付着した表面保護テープ 2 (2a)は、ガイド口 ーラ 53を経てフィードローラ 51とピンチローラ 52によって挟持され、更にガイドローラ 54を経て剥離テープ卷取り軸 55に至り、該剥離テープ卷取り軸 55に巻き取られて 回収される。
[0045] 次に、以上の構成を有する剥離装置 1の作用を説明しながら、個片化された表面 保護テープ 2aの剥離方法を図 7—図 16に基づいて説明する。尚、図 7—図 14は剥 離方法をその工程順に示す説明図、図 15はウェハ表面の表面保護テープへの剥 離テープの貼着状態を示す断面図、図 16は加熱後の表面保護テープと剥離テープ の状態を示す断面図である。
[0046] 本実施の形態に係る剥離方法は、ウェハ Wの表面に貼付されてチップサイズに個 片化された表面保護テープ 2aを同じく個片化されたウェハ W1表面力 剥離する方 法であって、以下の剥離テープ貼付工程、加熱 Z冷却工程及びテープ剥離工程を 経て実施される。
[0047] 1)剥離テープ貼付工程:
吸着テーブル 10上のリングフレーム 11の内側には、図 3に示したように、表面に表 面保護テープ 2が貼着されたウェハ Wが前記表面保護テープ 2側が上になるように 位置決めされてダイシングテープ 4を介してリングフレーム 11と共に吸着セットされて おり、表面保護テープ 2はダイシングによってウェハ Wと共にチップサイズに個片化さ れている。
[0048] 先ず、前記貼付 Z剥離ローラユニット 30は、図 1及び図 2に示す位置に待機してお り、該貼付 Z剥離ローラユニット 30の 2つのローラ 31, 32は図 7に示す位置にあって 、これらに張架された剥離テープ 3をウェハ Wの側方に待機させている。
[0049] 上記状態で前記移動用一軸ロボット 35を駆動し、貼付 Z剥離ローラユニット 30をス ライドレール 33に沿って図 1及び図 2の左方向に移動させると、該貼付 Z剥離ローラ ユニット 30のローラ 31, 32は図 8の鎖線位置力も実線位置まで矢印方向に移動する 。このとき、モータ M3はロック状態になっており、ローラ 31, 32の移動により、剥離テ 一プ原反 21から剥離紙 3aが分離された剥離テープ 3を引き出しながら移動し、ゥェ ハ Wの上方には、ローラ 32とローラ対 26a, 26b間に張設された剥離テープ 3が斜め に位置している。
[0050] ところで、剥離テープ 3の引き出し中は、トルクモータ Mlによって剥離テープ 3に所 定のテンションが掛カるようになっている。又、剥離紙 3aは、その引き出し時には、バ ッフアローラ 27cが付勢手段によって図 1の鎖線にて示す位置に移動するために弛 みが吸収される。そして、剥離テープ 3のウェハ Wへの貼付が終了すると、モータ M2 が動作を開始し、ノ ッファローラ 27cが不図示のセンサによって検知されると剥離紙 3 aを卷き取る。
[0051] 次に、上下用シリンダ 37を駆動して貼付 Z剥離ローラユニット 30をガイドシャフト 36 に沿って下動させ、図 9に示すように、ローラ 32を剥離テープ 3と共にウエノ、 W表面 の一端に密着させる。この結果、剥離テープ 3がウェハ W表面に貼着された表面保 護テープ 2 (2a)の一端に貼着され、その状態で移動用一軸ロボット 35を駆動して貼 付 Z剥離ローラユニット 30をスライドレール 33に沿って図 1及び図 2の右方向に移動 させる。
[0052] すると、貼付 Z剥離ローラユニット 30のローラ 31, 32は、図 10の鎖線位置力も実 線位置まで矢印方向に移動し、ローラ 32は剥離テープ 3をウエノ、 W表面の表面保護 テープ 2 (2a)に押圧しながら移動するため、表面保護テープ 2の全面に剥離テープ 3が貼着される(図 15参照)。
[0053] 2)加熱/冷却工程:
前記剥離テープ貼付工程において表面保護テープ 2の全面に剥離テープ 3が貼 着されると、もう一度、前記移動用一軸ロボット 35を駆動し、貼付 Z剥離ローラュニッ ト 30をスライドレール 33に沿って図 1及び図 2の左方向に移動させた後、上下用シリ ンダ 37を駆動して貼付 Z剥離ローラユニット 30をガイドシャフト 36に沿って上動せし め、ローラ 32をウェハ W表面力も離間させる。すると、貼付 Z剥離ローラユニット 30の ローラ 31, 32は、図 11の鎖線位置力も実線位置まで矢印方向に移動する。 [0054] 上記状態において、スライド用シリンダ 44を駆動して加熱 Z冷却ユニット 40をスライ ドレール 42に沿って図 2の下方に移動させ、該加熱 Z冷却ユニット 40をウェハ Wの 上方に位置せしめる。
[0055] その後、加熱 Z冷却ユニット 40の上下用シリンダ 46を駆動し、該加熱 Z冷却ュ- ット 40のヒータ本体 41をガイドシャフト 45に沿って下動せしめ、図 12に示すように、 該ヒータ本体 41をウエノ、 W表面の表面保護テープ 2 (2a)に貼着された剥離テープ 3 に当接させる。そして、その状態でヒータ本体 41のヒータに通電して剥離テープ 3と 表面保護テープ 2 (2a)を所定温度に加熱する。
[0056] ここで、加熱温度と加熱時間は、表面保護テープ 2の材質による力 一般的には 40 一 200°C (好ましくは、 70— 130°C)で、 0. 5— 120秒 (好ましくは、 1一 10秒)程度で ある。
[0057] 而して、前述のように(図 6参照)、表面保護テープ 2は熱収縮性基材 2Aの表面に 粘着剤層 2Bを塗着して構成されているため、これを加熱すると熱収縮性基材 2Aが 収縮し、個片化された個々の表面保護テープ 2aが図 16に示すように湾曲する。この ため、個片化された個々の表面保護テープ 2aのウェハ W(W1)表面に対する接触 面積が減少し、各表面保護テープ 2aがウエノ、 W(W1)表面力も剥れ易くなる。
[0058] その後、上下用シリンダ 46を駆動して加熱 Z冷却ユニット 40のヒータ本体 41をガイ ドシャフト 45に沿って上動せしめ、図 13に示すように、該ヒータ本体 41をウェハ Wか ら離間せしめ、その状態で不図示の冷却ファン等の冷却手段によって剥離テープ 3 と表面保護テープ 2を冷却する。
[0059] 3)テープ剥離工程:
上述のように剥離テープ 3と表面保護テープ 2を冷却すると、スライド用シリンダ 44 を駆動して加熱 Z冷却ユニット 40をスライドレール 42に沿って図 2の上方に移動させ 、該加熱 Z冷却ユニット 40をウェハ Wの上方力も退避させる。
[0060] その後、前記移動用一軸ロボット 35を駆動し、貼付 Z剥離ローラユニット 30をスライ ドレール 33に沿って図 1及び図 2の右方向に移動させると、該貼付 Z剥離ローラュニ ット 30のローラ 31, 32は、図 14の鎖線位置から実線位置まで矢印方向に移動する 力 このとき、同時にモータ M3とトルクモータ M4を駆動する。ここで、トルクモータ M 4は、所定のテンションが剥離テープ 3に掛力るようにされているため、その回転がプ ーリ 56、ベルト 58及びプーリ 57を経てテープ卷取り軸 55に伝達され、該テープ卷取 り軸 55が回転駆動されるため、剥離テープ 3がこれに付着した表面保護テープ 2 (2a )と共にウェハ W表面力 剥離される。
[0061] ここで、前述のように(図 16参照)、個片化された個々の表面保護テープ 2aは、湾 曲してウェハ W表面から剥れ易くなつているため、これらの表面保護テープ 2aは、剥 離テープ 3に付着してウェハ W表面カゝら容易に剥離される。
[0062] そして、ウェハ W表面力も剥離した剥離テープ 3は、これに付着した表面保護テー プ 2aと共にテープ卷取りユニット 50のテープ卷取り軸 55に巻き取られて回収される。
[0063] 以上において、本実施の形態によれば、表面保護テープ 2の全面に貼付された剥 離テープ 3を表面保護テープ 2 (2a)と共に加熱すると、個片化された表面保護テー プ 2aが剥離テープ 3に付着した状態で収縮するため、個片化された表面保護テープ 2aをウェハ W表面力も容易に剥離することができる力 これら一連の工程を吸着テー ブル 10、剥離テープユニット 20、貼付 Z剥離ローラユニット 30、加熱 Z冷却ユニット 40及びテープ卷取りユニット 50を含んで構成される剥離装置 1によって実施すること によって、表面保護テープ 2 (2a)の剥離作業を効率良く行うことができる。
[0064] 又、本実施の形態では、剥離テープ 3として、連続したシート状テープを用いるため 、個片化された表面保護テープ 2aを、連続した剥離テープ 3に連続的に付着させて ウェハ W表面力も効率良く剥離してこれを回収することができる。
[0065] 更に、本実施の形態では、剥離テープ貼付手段とテープ剥離手段とを共通の貼付 Z剥離ローラユニット 30で構成したため、剥離装置 1の構造単純化とコストダウンを 図ることができる。
[0066] その他、本実施の形態では、加熱された剥離テープ 3と表面保護テープ 2 (2a)を 冷却するようにしたため、作業時間を短縮して更なる高効率ィ匕を図ることができる。
[0067] 尚、本実施の形態に係る剥離装置 1においては、作業の一部(例えば、ウェハ Wの 吸着テーブル 10へのセット)を手動で行うようにした力 全ての作業を自動的に行うよ う構成すれば、フルオートの剥離装置を実現することも可能である。
[0068] <実施の形態 2 > 次に、本発明の実施の形態 2を図 17に基づいて説明する。尚、図 17は本実施の 形態に係る剥離装置の平面図である。
[0069] 本実施の形態に係る剥離装置 1,は、フレームカセット 71に対してウェハ(リングフレ ーム 11と一体ィ匕されたウエノ、) Wを自動的に出し入れするためのフレームチヤツクユ ニット 70と、図 6に示す粘着剤層 2Bが紫外線硬化型の粘着剤で構成された表面保 護テープ 2 (2a)に紫外線 (UV)を照射する UV照射ユニット 80を別に設けたもので あって、他の構成は前記実施の形態 1に係る剥離装置 1のそれと同じであり、吸着テ 一ブル 10、剥離テープユニット 20、貼付 Z剥離ローラユニット 30、加熱 Z冷却ュ- ット 40及びテープ卷取りユニット 50を備えて!/ヽる。
[0070] 前記フレームチャックユニット 70は、前記フレームカセット 71内に上下方向に適当 な間隔をもって収納された複数のウェハ Wの中から 1枚を取り出し、この取り出したゥ エノ、 Wの表面力 表面保護テープ 2 (2a)を剥離させ、表面保護テープ 2 (2a)が剥 離されたウェハ Wをフレームカセット 71内に収納するものであって、上下方向に立設 されたスライドレール 72に沿って上下動するテーブル 73を備えている。そして、テー ブル 73上には、前記フレームカセット 71の開口部に向力つて互いに平行に延びる一 対のガイドレール 74が設置されており、これらのガイドレール 74の間には一対のスラ イドレール 75が平行に設置されて!、る。
[0071] 上記スライドレール 75には、不図示の駆動手段によってスライドレール 75上を往復 動することができるスライダ 76が摺動自在に設けられており、このスライダ 76にはゥェ ハ W (実際には、リングフレーム 11)をチヤッキングするためのフレームチャック 77が 取り付けられている。
[0072] 又、前記 UV照射ユニット 80は、ウェハ Wの表面に貼着された表面保護テープ 2 (2 a)に紫外線 (UV)を照射するためのものであって、搬送ユニット 90の吸着アーム 91 によって支持されたウェハ Wがその表面保護テープ 2 (2a)側を下にして当該 UV照 射ユニット 80の上方を通過することによって、表面保護テープ 2 (2a)に向力つて紫外 線が照射される。
[0073] ここで、前記搬送ユニット 90は、前記スライドレール 75に直交する方向に配設され た互いに平行を成す一対のスライドレール 92を備えており、該スライドレール 92には スライダ 93が摺動自在に設けられている。そして、このスライダ 93には、スライドレー ル 92に対して直交する互いに平行な一対のスライドレール 94がスライダ 93に沿って 上下方向(図 17の紙面垂直方向)に摺動可能に支持されており、これらのスライドレ ール 94には、前記吸着アーム 91を先端に支持して成る L字状の支持アーム 95の基 端部がスライダ 96を介して摺動可能に支持されている。尚、支持アーム 95には、前 記吸着アーム 91を表裏反転させることができる不図示の機構が設けられている。
[0074] 而して、前記フレームカセット 71内に収納された複数のウェハ Wから表面保護テー プ 2 (2a)を剥離する作業に際しては、フレームチャックユニット 70のテーブル 73がス ライドレール 72に沿って上下動せしめられ、これが所望のウェハ Wの高さ位置に達 すると、テーブル 73の移動が停止され、フレームチャック 77がスライドレール 75上を フレームカセット 71に向力つて摺動し、フレームカセット 71内力も所望のウェハ W (実 際にはリングフレーム 11)をチヤッキングしてこれを取り出し、リングブレーム 11と一体 化されたウェハ Wをガイドレール 74に沿って移動させてこれを図 17に実線にて示す 所定の位置まで搬送する。
[0075] 次に、搬送ユニット 90が駆動され、支持アーム 95の先端に取り付けられた吸着ァ ーム 91がスライドレール 92に沿ってフレームチャックユニット 70側へと移動するととも に、スライドレール 94に沿って移動し、これが図 17の実線位置において待機するゥ ェハ Wの上方に位置すると、スライダ 93に沿って下動せしめられ、リングフレーム 11 を吸着してこれと共にウェハ Wを支持する。そして、この吸着アーム 91は、再び上動 してスライドレール 92に沿って移動し、ウェハ Wを UV照射ユニット 80の上方を通過 させることによって、該ウェハ Wの表面に貼着され表面保護テープ 2 (2a)に紫外線( UV)を照射する。すると、表面保護テープ 2 (2a)の紫外線硬化型の粘着剤が硬化し 、該表面保護テープ 2 (2a)のウェハ W表面への接着力が弱められる。尚、このとき、 ウェハ Wは、表面保護テープ 2 (2a)が貼着された表面側を下にして支持されている
[0076] 上述のように表面保護テープ 2 (2a)に紫外線が照射されると、吸着アーム 91は、 搬送ユニット 90のスライドレール 92に沿って移動し、ウェハ Wの表裏を反転させて前 記実施の形態 1に係る剥離装置 1と同様に吸着テーブル 10上に該ウェハ Wを表面 保護テープ 2が貼着された表面側を上にしてセットする。そして、以後は前記実施の 形態 1と同様に、ウェハ Wの表面に貼付された表面保護テープ 2 (2a)がウェハ Wか ら剥離されて取り除かれる。
[0077] 而して、個片化された表面保護テープ 2aが剥離されて取り除かれたウェハ Wは、 吸着アーム 91によって吸着されてフレームチャックユニット 70のガイドレール 74上の 所定位置(図 17に実線にて示す位置)まで搬送され、フレームチャック 77よってチヤ ッキングされた状態でスライダ 76によってガイドレール 74に沿ってフレームカセット 7 1方向へと送られ、該フレームカセット 71の所定の場所に格納される。
[0078] 以上の作業を繰り返すことによって、複数枚のウェハ Wに対してその表面力 表面 保護テープ 2 (2a)をフルオートで剥離することができ、省力化と作業効率の向上を図 ることがでさる。
[0079] 又、本実施の形態に係る剥離装置 1 'においては、ウェハ Wに剥離テープを貼付す る前工程として、 UV照射ユニット 80によって表面保護テープ 2 (2a)に紫外線を照射 するようにしたため、表面保護テープ 2 (2a)の紫外線硬化型の粘着剤が硬化して表 面保護テープ 2 (2a)の接着力が弱められ、個片化された表面保護テープ 2aがゥェ ハ Wの表面力 一層剥れ易くなり、これらが剥離テープと共にウェハ Wの表面力 容 易に剥離されて回収される。
[0080] その他、本実施の形態に係る剥離装置 1 'においても、前記実施の形態 1にて得ら れたと同様の効果が得られる。
[0081] <実施の形態 3 >
次に、本発明の実施の形態 3を図 18—図 22に基づいて説明する。尚、図 18—図 2 0は本発明の実施の形態 3に係る剥離装置を用いて実施される剥離方法をその工程 順に示す説明図、図 21は加熱後の表面保護テープと剥離テープの状態を示す断 面図、図 22は剥離テープと表面保護テープをウェハ表面から剥離する状態を示す 断面図である。
[0082] 本実施の形態に係る剥離方法は、前記実施の形態 1, 2のそれと同様に、ウェハ W の表面に貼付されてチップサイズに個片化された表面保護テープ 2aをウェハ W表面 力 剥離する方法である力 剥離テープ 3として、ウェハ Wの表面形状に合わせてプ リカットされた円形のテープを用いる点が実施の形態 1, 2とは異なる。
[0083] 即ち、本実施の形態においては、図 18に示すように、剥離テープ原反 61に卷装さ れたシート状の剥離紙 3aには、ウェハ Wの表面形状に合わせてプリカットされた円形 の複数の剥離テープ 3が適当な間隔で仮着されており、剥離テープ原反 61から繰り 出される剥離紙 3aは、ローラ 62— 65にガイドされて卷取り軸 66に巻き取られる。
[0084] ここで、表面保護テープ 2は、前記実施の形態 1と同様に、熱収縮性基材の表面に 粘着剤層を塗工した構成で、剥離テープ 3としては、ポリエチレンテレフタレート等の 耐熱フィルムに感熱性接着剤層を設けて成る感熱性接着テープが用いられる。
[0085] 而して、図 18に示すように、ウェハ Wの上方には 2つのローラ 63, 64によって剥離 紙 3aが略水平に張設されており、該剥離紙 3aの下面に仮着された円形の剥離テー プ 3がウェハ Wの上方に位置決めされる。
[0086] 次に、加熱 Z冷却ユニット 40のヒータ本体 41が下動せしめられ、図 19に示すように 、該ヒータ本体 41が剥離テープ 3をウエノ、 W表面の表面保護テープ 2に押圧するとと もに、該剥離テープ 3を表面保護テープ 2と共に所定温度に加熱する。すると、円形 にプリカットされた剥離テープ 3がウェハ W表面の表面保護テープ 2の全面に貼着さ れる。
[0087] 而して、表面保護テープ 2は熱収縮性基材の表面に粘着剤層を塗着して構成され ているため、これを加熱すると熱収縮性基材が収縮し、図 21に示すように、個片化さ れた個々の表面保護テープ 2aが湾曲する。このため、個片化された個々の表面保 護テープ 2aのウェハ W表面に対する接触面積が減少し、各表面保護テープ 2aがゥ ェハ W表面から剥れ易くなる。
[0088] その後、加熱 Z冷却ユニット 40のヒータ本体 41を上動せしめると、図 20に示すよう に、剥離テープ 3が剥離紙 3aから分離してウェハ W表面に残り、剥離紙 3aのみが口 ーラ 64, 65にガイドされて卷取り軸 66に巻き取られる。
[0089] 次に、図 21に示すように、ウェハ W表面の表面保護テープの全面に貼着された剥 離テープ 3の一端に接着テープ 67の一端を接着し、この接着テープ 67を図 22に示 すように横 U字状に折り返し、その他端を剥しヘッド 68で挟持してこれを図示矢印方 向に移動させれば、剥離テープ 3とこれに付着した表面保護テープ 2aが剥しヘッド 6 8によって引っ張られてこれらがウェハ W表面力 順次剥離して回収される。
[0090] ここで、前述のように、個片化された個々の表面保護テープ 2aは湾曲してウェハ W 表面力も剥れ易くなつているため、これらの表面保護テープ 2aは剥離テープ 3に付 着してウェハ W表面力ら容易に剥離する。
[0091] 而して、本実施の形態にぉ 、ても、個片化された表面保護テープ 2aをウェハ W表 面力も容易に且つ効率良く剥離することができ、前記実施の形態 1と同様の効果が 得られる。
産業上の利用可能性
[0092] 本発明は、チップサイズに個片化されて板状部材の表面に貼付された表面保護テ ープ等の接着テープを板状部材から剥離する方法及び装置に対して適用可能であ り、半導体製造分野以外のレンズ、ダイオード、波長変換素子等の光学機器や電子 部品の製造分野においても利用可能である。

Claims

請求の範囲
[1] チップサイズに個片化されて板状部材の表面に貼付された接着テープを前記板状 部材力 剥離する装置であって、
吸着テーブル上にセットされた前記板状部材に対して剥離テープを繰り出す剥離 テープ供給手段と、
該剥離テープ供給手段によって繰り出された剥離テープを板状部材の表面に貼付 された前記接着テープの全面に貼付する剥離テープ貼付手段と、
該剥離テープ貼付手段によって接着テープの全面に貼付された剥離テープを接 着テープと共に加熱する加熱手段と、
該加熱手段による加熱によって剥離テープに付着した接着テープを剥離テープと 共に板状部材から剥離するテープ剥離手段と、
該テープ剥離手段によって板状部材力 剥離された接着テープと剥離テープを回 収する回収手段と、
を含んで構成されることを特徴とする接着テープの剥離装置。
[2] 前記剥離テープとして、連続したシート状テープを用い、前記剥離テープ貼付手段 と前記テープ剥離手段とを共通のローラユニットで構成したことを特徴とする請求項 1 記載の接着テープの剥離装置。
[3] 前記剥離テープとして、前記板状部材の表面形状に合わせてプリカットされたテー プを用い、該剥離テープの端部に接着された第 2の接着テープを剥しヘッドによって 把持してこれを引っ張ることによって前記接着テープを剥離テープと共に板状部材 力 剥離することを特徴とする請求項 1記載の接着テープの剥離装置。
[4] 前記接着テープを、熱収縮性基材上に粘着剤層を設けて構成したことを特徴とす る請求項 1記載の接着テープの剥離装置。
[5] 前記接着テープの粘着剤層を紫外線硬化型粘着剤で構成するとともに、該接着テ ープに紫外線を照射する紫外線照射手段を設けたことを特徴とする請求項 4記載の 接着テープの剥離装置。
[6] 前記加熱手段によって加熱された剥離テープと接着テープを冷却する冷却手段を 設けたことを特徴とする請求項 1記載の接着テープの剥離装置。
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