WO2004000940A1

WO2004000940A1 - 金型離型性に優れたポリカーボネート組成物

Info

Publication number: WO2004000940A1
Application number: PCT/JP2002/006275
Authority: WO
Inventors: Yuichi Kageyama; Takanori Miyoshi; Masumi Hirata; Wataru Funakoshi; Toru Sawaki; Katsushi Sasaki
Original assignee: Teijin Limited
Priority date: 2002-06-24
Filing date: 2002-06-24
Publication date: 2003-12-31
Also published as: CN1561370A; HK1071391A1; JPWO2004000940A1; US20040198884A1; CN1252181C

Abstract

芳香族ポリカーボネート100重量部、炭素数10～25の脂肪族モノカルボン酸と炭素数2～10の脂肪族多価アルコールのエステル0.005～0.2重量部および少なくとも分子内に4個のべンゼン環を有する芳香族エーテル、エステルまたはカーボネート化合物である第1芳香族化合物0.015～0.3重量部から成るポリカーボネート組成物であって、シリンダー温度380℃、金型温度80℃、射出速度200mm/sec、保持圧力3,432kPa(35kgf/cm2)の条件で120mm×50mm、厚さ2mmの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第1芳香族化合物が上記エステル1重量部当り0.5～3重量部となるように、上記エステルを上記重量範囲内で含有する、ポリカーボネート組成物。この組成物は、金型離型性に加えて成型時の熱安定性に優れている。

Description

金型離型性に優れたポリカーボネー卜組成物

技術分野

本発明は金型離型性に優れたポリカーポネ一ト組成物、光記録媒体用基板および光記録媒体に関する。 '

明

従来の技術

細

ポリカーボネートは、色相、透明性、機械強度に優れたエンジニアリングブラスチックである。近年その用途は多岐にわたり様々な成型品への加工がなされているが、特に優れた機械強度を持つことから光ディスク基板や電化製品のハウジングといった、肉薄で表面積比の高い成型品の材料として大量に使用されている。かかる成型品は一般に金型を用いた射出成型法によって成型されるが、該成型方法では成型品を離型する過程において、成型品の金型離型性が悪いと生産効率に支障をもたらすことが従来より懸念され、生産規模が大きいほど重要な問題とされている。

特に光ディスク基板は通常、スタンパーに刻印された信号をポリカーボネート基板上に正確に転写するために、射出成型機のシリンダー温度を 3 5 0〜4 0 0 °Cの高温にして樹 J3旨の流動性を向上させる。そのためスタンパーが装着される金型の温度も 8 0〜 1 2 0 °Cの高温に設定する必要がある。しかし金型温度が高いとポリカーボネート成型品の金型離型性の低下や離型むら発生、転写性が悪くなるといつた問題が生じる。これを防ぐために成型品の離型前に金型を十分に冷却する必要があるが、そうすると成型サイクルが長くなり生産性が低下するため望ましくない。かかる理由から近年、射出成型において金型離型性が良好なポリカーボネートの開発が強く望まれている。

ポリカーボネートの離型性を改善するために離型剤を添加する方法が有効であることが従来公知である。離型剤としては通常、滑剤と言われる種々の化合物が知られている。特公昭 4 7 - 4 1 0 9 2号公報には、高級脂肪族カルボン酸と、高級脂肪族アルコールもしくは多価アルコールとのエステルまたは部分エステルを離型剤として添加することが提案されている。

然るに離型剤の添加は周知のごとくコスト面、工程数増加の点から望ましくなく、また剤の影響で製造されるポリマーの色相や透明性、機械強度といったポリ力一ポネートの特徴に悪影響をおよぼすことが懸念される。かかる背景から、簡便、安価な成型品製造のために離型剤を特に加えることなしに、ポリ力一ポネートの金型離型性を改善する方法の開発が強く望まれている。

また、特開平 6— 2 5 5 2 3号公報には、優れた流動性と耐衝撃性および高い曲げ弾性率と熱変形温度を有するポリカーボネート樹脂組成物の提供を目的として、重量平均分子量 4 0， 0 0 0〜 3 0 0， 0 0 0の高分子量芳香族ポリカーボネート 5〜9 5重量％と、重量平均分子量 7， 0 0 0〜2 8 , 0 0 0の低分子量芳香族ポリカーボネート 9 5〜5重量部からなりそして重量平均分子量が 2 0 , 0 0 0〜5 0 , 0 0 0であり且つ分子量 1 , 0 0 0以下の部分が 1 . 5重量％以下であるポリ力一ポネート樹脂組成物が開示されている。

特開平 8— 7 3 7 2 4号公報には、優れた離型性、耐熱性、転写性を持ち、光ディスクの如き光学用途に適したポリカーボネート樹脂組成物の提供を目的として、ゲルパーミエ一シヨンクロマトグラフィ一で測定した分子量分布 (Mw/M n) が 2 . 0〜2 . 8である芳香族ポリカーボネート棚旨 1 0 0重量部と脂肪族カルボン酸と多価アルコールとの部分エステル 0 . 0 1〜0 . 1重量部を含むポリ力一ポネ一ト樹脂組成物が開示されている。

さらに、特許第 3 1 2 4 7 8 6号公報には、 MwZM pの値が 1 . 5以下（M はゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ一で測定したクロマトグラムのピ一クトップの分子量を表す）でありそして実質的に塩素を含まない芳香族ポリカーポネートが、溶融成形に適した流動性、優れたカラー、押出成形やプロ一成形に適した溶融張力を有しそして高温での成形時に着色や劣化のない芳香族ポリカーポネートの提供を目的として、開示されている。発明の開示本発明の目的は、金型離型性特に射出成形における金型離型性に優れたポリ力一ポネ一ト組成物を提供することにある。

本発明の他の目的は、金型離型性に加えて成型時の熱安定性に優れたポリ力一ポネ一ト組成物を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、残存フエノール類の含有量が少なくかつ上記のごとき性能を備えたポリ力一ポネ一ト組成物を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、本発明のポリカ一ポネート組成物からなる光記録媒体用基板を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、本発明の光記録媒体用基板を用いた光記録媒体を提供することにある。

本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第 1に、

( 1 ) ( i ) 主たる繰返し単位が次式 ( I )

(式中の R ¹ R ²、 R ³、および R ⁴は、それぞれ独立に、炭素数 1〜2 0のァルキル基、炭素数 1〜2 0のアルコキシ基、炭素数 6〜2 0のシクロアルキル基、炭素数 6〜 2 0のァリール基、炭素数 6〜 2 0のシクロアルコキシ基または炭素数 6〜2 0のァリールォキシ基であり、 Wは単結合、酸素原子、カルボ二ル基、炭素数 1〜2 0のアルキレン基、炭素数 2〜2 0のアルキリデン基、炭素数 6〜 2 0のシクロアルキレン基、炭素数 6〜 2 0のシクロアルキリデン基または炭素数 6〜2 0のァリ一レン基または炭素数 6〜 2 0のアルキレンァリ一レンアルキレン基である。）で表わされ、

(ii) 粘度平均分子量が 12， 000〜 100， 000であり、

(iii) 溶融粘度安定性が 0. 5%以下であり、

(iv) ポリマー 1トンあたりの末端〇H基量が 5〜100化学当量であり、そして

(V) z平均分子量（Mz) と重量平均分子量（Mw) の比が 1. 4〜1. 7の範囲にある、

芳香族ポリ力一ポネート 100重量部、

(2) 炭素数 10〜 25の脂肪族モノカルボン酸と炭素数 2〜10の脂肪族多価アルコールのエステル 0. 005〜0. 2重量部および

(3) 下記式（I I)

(II)

ここで、 R⁵、 R⁶、 R ⁷および R ⁸は互いに独立に水素原子、炭素数 1〜10 のアルキル基、炭素数 6〜 20のァリ一ル基および炭素数 7〜 20のァラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 R⁹、 R¹⁰, R¹¹および R¹²は互いに独立に水素原子、および炭素数 1〜 10のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 W¹は、炭素数 1〜6のアルキレン基、炭素数 2〜10のアルキリデン基、炭素数 5〜10のシクロアルキレン基、炭素数 5〜10のシクロアルキリデン基、炭素数 8〜15のアルキレン—ァリーレン一アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそして X¹ および X²は互いに独立にェ一テル結合（—〇—）、エステル結合（一 COO— または一 OCO— ) またはカーボネート結合（_〇CO〇一）である、

で表される第 1芳香族化合物 0. 015〜0. 3重量部から成るポリ力一ポネ一ト組成物であって、

シリンダー温度 380°C、金型温度 80°C、射出速度 20 Omm/s e c、保持 5

圧力 3， 432 kP a (35kg f /cm²) の条件で 12 OmmX 50mm、厚さ 2 mmの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第 1芳香族化合物が上記エステル 1重量部当り 0. 5〜3重量部となるように、上記エステルを上記重量範囲内で含有する、

ことを特徴とするポリ力一ポネート組成物によって達成される。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第 2に、

本発明の芳香族ポリ力一ポネート組成物からなる光記録媒体用基板によって達成される。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第 3に、

本発明の上記基板および該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体によって達成される。発明の好ましい実施形態

本発明において用いられる芳香族ポリ力一ポネート（1) は、主たる繰返し単位が下記式 (I)

(式中の R R²、 R³、および R⁴は、それぞれ独立に、炭素数 1〜20のァルキル基、炭素数 1〜20のアルコキシ基、炭素数 6〜 20のシクロアルキル基、炭素数 6〜20のァリール基、炭素数 6〜20のシクロアルコキシ基または炭素数 6〜20のァリールォキシ基であり、 Wは単結合、酸素原子、カルポニル基、炭素数 1〜 20のアルキレン基、炭素数 2〜 20のアルキリデン基、炭素数 6〜 20のシクロアルキレン基、炭素数 6〜 20のシクロアルキリデン基または炭素 6

数 6〜20のァリ一レン基または炭素数 6〜20のアルキレンァリーレンアルキレン基である。）

で表されるものである。

上記芳香族ポリカーポネートは、粘度平均分子量が 12, 000〜： L 00， 0 00であり、好ましくは 13， 000〜28, 000のものである。

また、 z平均分子量（Mz) と重量平均分子量（Mw) の比は、 1. 4〜1. 7の範囲にあり、好ましくは 1. 45〜1. 6の範囲にある。

z平均分子量（Mz) と重量平均分子量（Mw) との比（Mz/Mw) はポリマーの分子量分布を評価する重要なパラメーターであり、上記範囲を逸脱した場合流動性等の変動により光学歪や転写性不良を生じ易くなるため好ましくない。すなわち、（Mz/Mw) が上記範囲にある芳香族ポリカーボネートを使用した光記録媒体用基板は、光記録媒体用基板として、光学的特性や転写性に優れた基板となる。

分子量分布 (Mz/Mw) の調整は末端封止剤の添加や重合反応条件により調節することができる。例えば溶融重合の場合には原料である芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルの仕込みモル比を変更したり、重合条件（温度/真空度 /滞留時間）を変更することにより分子量分布 (Mz Mw) を変更することができる。 z平均分子量はゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ一で測定した分子量分布から求められる。

さらに、芳香族ポリカーボネートは、溶融粘度安定性が 0. 5%以下である。溶融粘度安定性とは、窒素気流下、せん断速度 1 r ad/s e c、 300°Cで 3 0分間測定した溶融粘度の変ィ匕を絶対値で評価し、 1分間当りの変化率で表した数値である。

このような溶融粘度安定性は、重合後のポリカーボネートに溶融粘度安定剤を加えることにより得ることができる。

溶融粘度安定化剤は、ポリ力一ポネ一ト製造時に使用した重合触媒の活性の一部または全部を失活させる作用も有している。

溶融粘度安定化剤を添加する方法としては、例えば、反応生成物であるポリ力ーポネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをべレタイズした後、再溶融し添加してもよい。前者においては、反応槽内または押し出し機内の反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、また重合後得られたポリカーボネートが反応槽から押し出し機を通つてペレタイズされる間に、溶融粘度安定化剤を添加して混練することもできる。溶融粘度安定化剤としては、公知のいかなる剤も使用できるが、得られるポリマ一の色調や耐熱性、耐沸水性などの物性の向上に対する効果が大きい点から、有機スルホン酸の塩、有機スルホン酸エステル、有機スルホン酸無水物、および有機スルホン酸べタインなどのスルホン酸化合物を使用することが好ましい。なかでもスルホン酸のホスホニゥム塩および Zまたはスルホン酸のアンモニゥム塩を使用することが好ましい。そのなかでも特に、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニゥム塩（以下 D B S Pと略す）やパラトルエンスルホン酸テトラプチルアンモニゥム塩などが好ましい例として挙げられる。

本発明におけるこれら溶融粘度安定化剤の使用量は触媒として用いたアルカリ金属、アルカリ土類金属に対して 0 . 0 5〜2 0倍相当の化学当量の範囲から選択される。

上記ポリカーボネートにおいて、末端水酸基濃度はポリマ一 1トンあたり 5〜 1 0 0当量の範囲であり、好ましくは 5〜8 0当量、さらに好ましくは 5〜6 0 当量、特に好ましくは 5〜5 0当量である。かかる量比で末端水酸基が含有されることにより、金型表面と成型品表面との接着性が、離型性を良好にする範囲に制御されるものと判断される。末端水酸基は少ないほど良好な離型性が得られるが、末端水酸基濃度を 5当量より減少させてもさらなる転写性の向上は少ない。また末端水酸基濃度を 1 0 0当量以上導入したときは、成型時に酸化反応に起因すると推定される成型品の焼けが発生し本発明の目的に好ましくない。

本発明で射出成型されるポリカーポネ一ト組成物はいかなる方法で製造してもよいが、プロセス、原料を含めたコスト面や、含ハロゲン溶媒などの重合溶媒を用いずに済む点、さらに炭酸エステル形成性化合物としてホスゲンなどの有害化合物を用いずに済む点から溶融法や固相重合法、なかでも溶融法で製造するのが好ましい。

溶融法は常圧およびまたは減圧不活性ガス雰囲気下で芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを加熱しながら攪拌して、生成するアルコールまたはフエノールを留出させることで行われる。その反応温度は生成物の沸点等により異なるが、反応により生成するアルコールまたはフエノールを除去するため通常 1 2 0〜3 5 0 °Cの範囲である。従来、溶融法によるポリ力一ポネートの製造において、通常、反応初期には 1 8 0〜2 2 0 °Cの温度範囲で徐々に昇温しつつ、反応系内を 1 0〜1 0 O mmH gに徐々に減圧するが、本発明のポリカーボネートの製造においては、連続射出成型時の金型のポリマー接触表面に付着する成分中の上記の特定成分含有量を特定範囲にするために、特に反応初期において 1 8 0〜 2 2 0 °Cの温度範囲で徐々に昇温しつつ、反応系内を 4 0〜1 5 O mmH gの範囲と、系内圧を通常よりも高めにし、反応時間を通常よりも長くして反応させるのが好ましい。反応後期には系内をさらに減圧にして生成するアルコールまたはフエノールの留出を容易にさせる。反応後期の系の内圧は、通常 I mmH g以下である。

本発明のポリ力一ポネートの製造に使用する芳香族ジヒドロキシ化合物としては、たとえば 2， 2—ビス（4ーヒドロキシフエニル）プロパン（以下ビスフエノ一ル Aと略す）、ビス（2—ヒドロキシフエニル）メタン、ビス（4ーヒドロキシフエ二レ）メタン、 1， 1一ビス（4ーヒドロキシフエニル）ェタン、 1 , 1一ビス ( 4—ヒドロキシフエニル) プロパン、 2， 2—ビス（2—ヒドロキシフエニル）プロパン、 2 , 2一ビス ( 4—ヒドロキシー 3， 5—ジメチルフエ二ル）プロパン、 2， 2—ビス（4ーヒドロキシー 3 , 5—ジブロモフエニル）プ口パン、 2 , 2—ビス ( 4ーヒドロキシ _ 3—メチルフエニル) プロパン、 2 , 2—ビス（4ーヒドロキシフエ二レ）ペンタン、 3 , 3—ビス（4ーヒドロキシフエニル）ペンタン、 1 , 1—ビス（4—ヒドロキシフエ二レ）シクロへキサン、ビス（4ーヒドロキシフエニル）サルファイド、ビス（4ーヒドロキシフエ二ル）スルホン等およびその芳香環に例えばアルキル基、ァリール基等が置換されたものがあげられ、これらは単独で用いてもまたは二種以上併用してもよい。なかでもコスト面からビスフエノール Aが特に好ましい。

また炭酸ジエステルとしては例えばジフエ二ルカ一ポネート、ジナフチルカ一ポネート、ビス（ジフエニル）力一ポネート、ジメチルカーポネート、ジェチルカーボネート、ジブチルカ一ポネート等があげられ、なかでもコスト面からジフェニルカーボネートが好ましい。

本発明においては、重合速度を速めるために重合触媒を使用することができる。重合触媒としては、アル力リ金属化合物およびアル力リ土類金属化合物が好ましく用いられる。かかる化合物としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭化水素化合物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チォシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素ィ匕ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸塩、酸性リン酸塩、ビスフエノール、フエノールの塩等が挙げられる。具体例としては水酸ィ匕ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、水酸化ルビジウム、水酸化フランシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリゥム、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸ルビジウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸力リウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チォシアン酸ナトリウム、チォシアン酸カリウム、チォシアン酸リチウム、チォシアン酸セシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、フエニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフエノール Aのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、ジセシウム塩、モノナトリウム塩、モノカリウム塩、モノセシウム塩、ナトリウムカリウム塩、ナトリウムリチウム塩、フエノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられる。中でも、セシウム化合物およびルビジウム化合物が好ましい。アル力リ金属化合物としてはセシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも 1種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび/またはルビジウム金属元素数が 0. 001〜 100 %であるものが好ましく、全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび Zまたはルビジゥム金属元素数が 90〜100%であるものがさらに好ましい。

これらの重合触媒の使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物 1モルに対し好ましくは 0. 05〜5 化学当量、より好ましくは 0. 07〜3 2化学当量、特に好ましくは 0. 07〜 2 化学当量の範囲から選択される。

これらのアル力リ金属化合物およびアル力リ土類金属化合物は、含窒素塩基性化合物および Zまたは含リン塩基性化合物と組合せで用いるのが好ましい。この組合せ使用により、色相や熱安定性に優れたポリ力一ポネートが大きい重合速度で得られる。

含窒素塩基性化合物の具体的例としては、テトラメチルァンモニゥムヒドロキシド（Me₄N〇H)、テトラェチルアンモニゥムヒドロキシド（E t₄NOH)、テトラプチルアンモニゥムヒドロキシド（Bu₄NOH；)、ベンジルトリメチルアンモニゥムヒドロキシド（PhCH₂ (Me) ₃N〇H)、へキサデシルトリメチルアンモニゥムヒドロキシドなどのアルキル、ァリール、ァラルキル基などを有するァンモニゥムヒドロキシド；テトラメチルアンモニゥムアセテート、テトラエチルアンモニゥムフエノキシド、テトラプチルアンモニゥム炭酸塩、ベンジソレトリメチルアンモニゥム安息香酸塩、へキサデシルトリメチルアンモニゥムェトキシドなどのアルキル、ァリール、アルキルァリール基などを有する塩基性ァンモニゥム塩；トリェチルァミン、トリプチルァミン、ジメチルペンジルァミン、へキサデシルジメチルァミンなどの第三級ァミン；あるいはテトラメチルアンモニゥムポロハイドライド（Me₄NBH₄)、テトラブチ^/アンモニゥムポロハイドライド（Bu₄NBH₄)、テトラプチルアンモニゥムテドラフエ二ルポレート (Bu₄NBPh₄)、テトラメチルアンモニゥムテトラフエ二ルポレート（Me 4NBPh₄) などの塩基性塩などを挙げることができる。

また含リン塩基性化合物の具体例としては、テトラメチルホスホニゥムヒド口キシド（Me₄P〇H)、テトラェチルホスホニゥムヒドロキシド（E t ₄PO H)、テトラブチルホスホニゥムヒドロキシド（Bu₄POH)、テトラフェニルホスホニゥムヒドロキシド（Ph₄POH)、ベンジル卜リメチルホスホニゥムヒドロキシド（PhCH₂ (Me) ₃POH)、へキサデシルトリメチルホスホニゥムヒドロキシドなどのアルキル、ァリール、アルキルァリール基などを有するホスホニゥムヒドロキシド類；あるいはテトラメチルホスホニゥムポロハイドライド（Me₄PBH₄)、テトラブチルホスホニゥムポロハイドライド（Bu₄P BH₄)、テトラブチルホスホニゥムテトラフエ二ルポレート（Bu₄PBPh₄)、テトラメチルホスホニゥムテトラフエ二ルポレート、（Me₄PBPh₄) などの塩基性塩などを挙げることができる。

上記含窒素塩基性化合物および Zまたは含リン塩基性化合物は、塩基性窒素原子あるいは塩基性リン原子が芳香族ジヒドロキシ化合物、 1モルに対し、 10〜 1, 000 化学当量となる割合で好ましく用いられる。より好ましい使用割合は同じ基準に対し 20〜500 ^化学当量となる割合であり、特に好ましい割合は同じ基準に対し 5 0〜 5 0 O 化学当量となる割合である。

本発明においては、特に射出成型後に分子量の低下や着色の起こりにくい良好な安定性をもつポリカーボネート組成物を得るために、重合後の該ポリマーの各種状況下の安定性を良好なものとするため、溶融ポリマーの溶融粘度安定性に注目し、上記のごとく、この値を 0. 5 %以下にすることが必須であり、そのために特に重合後に溶融粘度安定化剤を用いることが好ましい。なお溶融粘度安定性は、窒素気流下、剪断速度 1 r a d/s e c、 300°Cで 30分間測定した溶融粘度の変化を絶対値で評価し、 1分間あたりの変化率で表わす。

本発明における溶融粘度安定化剤は、ポリ力一ポネート製造時に使用する重合触媒の活性の一部または全部を失活させる作用もある。

溶融粘度安定化剤を添加する方法としては、例えば、反応生成物であるポリ力 —ポネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをぺレタイズした後、再溶融し添加してもよい。前者においては、反応槽内または押し出し機内の反応生成物であるポリ力一ポネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、また重合後得られたポリ力一ポネートが反応槽から押し出し機を通つてペレタイズされる間に、溶融粘度安定化剤を添加して混練することもできる。溶融粘度安定化剤としては、公知のいかなる剤も使用できるが、得られるポリマーの色相や耐熱性、耐沸水性などの物性の向上に対する効果が大きい点から、有機スルホン酸の塩、有機スルホン酸エステル、有機スルホン酸無水物、および有機スルホン酸べタインなどのスルホン酸ィ匕合物を使用することが好ましい。なかでも、好ましいスルホン酸化合物は、下記式（IV)

A ¹ - S O g X ¹ …… （IV)

(ここで、 A ¹は置換していてもよい炭素数 1〜3 0の 1価の炭化水素基であり、 X¹はアンモニゥムカチオン、ホスホニゥムカチオンまたは炭素数 1〜 1 0の 1 価の炭化水素基である）

で表わされるスルホン酸化合物を含有するのが好ましい。

これを含有することで、エステル交換触媒として使用したアル力リ金属またはアルカリ土類金属化合物の活性を低下もしくは失活させることができ、色相、耐熱性、耐加水分解性などの品質に優れたポリカーポネ一トを得ることができる。スルホン酸化合物としては、下記式 (IV) 一 1

(IV)

(ここで、 A²、 A³、 A⁴、 A⁵および A⁶は、互いに独立に、炭素数 1〜2 0の 1価の炭化水素基である）

で表わされるスルホン酸ホスホニゥム塩が効果が大きく、好ましい。

なお、上記式（IV) — 1における A²は、例えば、水素原子、メチル基、へキシル基、ドデシル基、 A³〜A⁶は、それぞれ独立に、メチル基、ブチル基、ォクチル基から選ばれる基が好ましい。このようなスルホン酸ィ匕合物は、ポリマ一中に残存するエステル交換触媒の失活剤として機能するもので、触媒失活剤としては、例えば特開平 8— 5 9 9 7 5 号公報記載のような公知の剤も有効に使用されるが、この中でもスルホン酸のァンモニゥム塩、スルホン酸のホスホニゥム塩が好ましい。さらに具体的は、ドデシルベンゼンスルホン酸のアン乇ニゥム塩、ホスホニゥム塩、パラトルエンスルホン酸のアンモニゥム塩、ホスホニゥム塩ゃベンゼンスルホン酸のアンモニゥム塩、ホスホニゥム塩が好ましい。

本願発明においては、これらの触媒失活剤のうち、上記式（IV) — 1のスルホン酸化合物、とりわけドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニゥム塩や、パラトルエンスルホン酸テトラプチルアンモニゥム塩が最も好ましく使用される。

触媒失活剤は触媒の活性を著しく低下させるものであり、このような触媒失活剤はそれだけでポリカーボネート樹脂に添加してもよく、水と触媒失活剤との混合液として同時にポリカーボネート樹脂に添加してもよい。

溶融重合で得られるポリ力一ポネート樹脂に対する触媒失活剤の添加量は、ァルカリ金属化合物、アル力リ土類金属化合物より選ばれた前記主重縮合触媒 1モル当り 0 . 5〜5 0モルの割合で、好ましくは 0 . 5〜 1 0モルの割合で、さらに好ましくは 0 . 8〜 5モルの割合で使用する。これは通常、ポリカーボネート樹脂 1 0 0重量部に対し 1 X 1 0 _ ⁵〜1 X 1 0一²重量部の割合で使用することに相当する。

また、本発明におけるポリ力一ポネート組成物は、上記ポリカーボネート 1 0 0重量部あたり、炭素数 1 0〜 2 5の脂肪族モノカルボン酸と炭素数 2〜1 0の脂肪族多価アルコールのエステルを 0 . 0 0 5〜0 . 2重量部の範囲で含有する。炭素数 1 0〜2 5の脂肪族モノカルボン酸と炭素数 2〜1 0の脂肪族多価アルコールのエステルは、より良好な離型性を得るために好ましくはポリカーボネート 1 0 0重量部あたり 0 . 0 0 5〜0 . 1重量部、さらに好ましくは 0 . 0 0 7 5 〜0 . 0 7重量部、特に好ましくは 0 . 0 1〜0 . 0 5重量部の範囲であることが好ましい。このエステル成分が 0 . 0 0 5重量部に満たない場合、所望の離型性が得られず、 0 . 2重量部を超える場合、成型品の表面性低下や、成型金型汚染を生じるため好ましくない。

本発明でいう炭素数 1 0〜2 5の脂肪族モノカルボン酸とは、脂肪族の直鎖状あるいは分岐状カルボン酸を含有し、また飽和あるいは不飽和カルボン酸を共に含有する。かかる脂肪族モノカルボン酸としては、具体的には、直鎖状カルボン酸であるラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、および分岐脂肪酸であるイソデカン酸、イソトリデカン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、ィソアラキン酸、イソへキサコ酸が挙げられる。その他不飽和カルボン酸である、ォレイン酸、リノール酸、リノレン酸、 5， 8 , 1 1 , 1 4一エイコサテトラェン酸、 4， 7 , 1 0， 1 3， 1 6， 1 9 一ドコサへキサェン酸等が例示される。

また、本発明にいう炭素数 2〜1 0脂肪族多価アルコールとしては具体的にはエチレングリコール、プロピレングリコール、 1， 3—プロピレングリコール、 1， 4一ブタンジオール、グリセ口一ル、トリメチ口一ルプロパン、ペン夕エリスリ！ ^一ル、ジペン夕エリスリトール、或は 1 , 4—ブテンジォ一ル、さらにはソルビトール、ソルビタン、ショ糖等が例示される。

これら脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルの具体例としては、上記脂肪族モノカルボン酸の少なくとも一種と、脂肪族多価アルコールの少なくとも一種とのエステルが示される。

具体的には、エチレングリコールモノイソパルミテート、エチレングリコールジステアレート、プロピレングリコールジォレート、プロピレングリコールモノイソミリステート、 1 , 4一ブタンジオールジイソパルミテート、 1， 4ーブテンジオールジイソステアレート、 1， 4ーブテンジォ一ルモノステアレート、 1 , 4ーブテンジォ一ルジステアレート、グリセロールモノラウレート、グリセロールモノミリステート、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノべへネ —ト、グリセロールモノイソミリステート、グリセロールモノイソステアレート、グリセロールモノォレート、グリセロールモノリノレート、グリセロミテート、グリセロールジステアレート、グリセロールジイソパルミテート、グリセ口一ルジイソステアレート、グリセロールジォレート、グリセロールステアレートイソパルミテート、グリセロールトリミリステート、グリセロールトリステアレート、グリセロールトリべへネート、グリセロールトリイソステアレート、トリメチロールプロパンモノステアレート、トリメチロールプロパンモノべへネート、卜リメチロールプロパンモノイソパルミテート、トリメチ口一ルプロパンモノォレート、トリメチロールプロパンジパルミテート、卜リメチロ一ルプロパンジイソステアレート、トリメチロールプロパントリステアレート、トリメチロールプロパントリイソミリステート、トリメチロールプロパントリオレート、ぺンタエリスリトールモノパルミテート、ペンタエリスリ 1 ^一ルジイソパルミテート、ペン夕エリスリトールトリオレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペン夕エリスリトールテトライソパルミテート、ペン夕エリスリトールジォレートジステアレート、その他ソルビタンモノステアレート、ショ糖ジイソステアレート等が例示される。

これらの中でのグリセロール、トリメチロールプロパン、ペン夕エリスリ！ ^一ルのエステル類が好ましく使用される。

また、本発明の組成物中に含有される第 1芳香族化合物は下記式（I I)

(I I)

で表される。

式中、 R ⁵、 R ⁶、 R ⁷および R ⁸は互いに独立に水素原子、炭素数 1〜1 0のアルキル基、炭素数 6〜2 0のァリール基および炭素数 7〜2 0のァラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 R ⁹、 R ^{1 Q}、 R ^{1 1}および R ^{1 2}は互いに独立に水素原子、および炭素数 1〜： L 0のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 W¹は、炭素数 1〜 6のアルキレン基、炭素数 2〜1 0のアルキリデン基、炭素数 5〜1 0のシクロアルキレン基、炭素数 5〜1 0のシクロアルキリデン基、炭素数 8〜15のアルキレン一ァリ一レン一アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそして X¹および X²は互いに独立にエーテル結合（一〇一）、エステル結合（一 COO 一または一 OC〇一）またはカーボネート結合 (-OCOO-) である。

上記式（Π) 中の R⁵〜R¹²および W¹を定義するそれぞれの基の具体例は、前記式（I) 中の尺¹〜!^および Wについて例示した具体例から明らかであろ。

上記第 1芳香族化合物としては、下記式（II) 一 1

ここで、 ⁵〜1^ぉょぴ^¹の定義は上記式（Π) に同じである、

で表される化合物が好ましく、例えば下記式

で表される化合物が挙げられる。

第 1芳香族ィ匕合物は、芳香族ポリ力一ポネート 100重量部に対し、 0. 01 5〜0. 3重量部、好ましくは 0. 016〜0. 28重量部、さらに好ましくは 0. 017〜0. 25重量部で含有される。

本発明の組成物は、上記脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルと上記第 1芳香族化合物とを、シリンダー温度 380 、金型温度 80°C、射出速度 200 mm/ s e c, 保持圧力 3, 432KP a (35 kg f /cm 2) の条件下で 12 Ommx 50mm、厚さ 2mmの板を射出したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に見られる上記エステルと第 1芳香族化合物の量によって適切に決定される。すなわち、上記エステルは、前記した重量範囲で用いられるが、さらに、上記付着物中に第 1芳香族化合物がエステル 1重量部当り 0. 5〜 3重量部、好ましくは 0. 6〜2. 8重量部となる割合で用いられる。エステルと第 1芳香族化合物が上記付着物中に上記割合で含有されるとき、所望の離型性が得られまた色調や機械物性に悪影響がない成型品が得られる。本発明の組成物は、さらに下記式 (III)

ここで、 R⁵〜R¹⁽⁾、 X¹および W¹の定義は上記式（Π) に同じである、で表される第 2芳香族化合物を含有することができる。

上記式 (III) の化合物としては、下記式（III) 一 1

ここで、！^〜！^ぉょぴ^ の定義は上記式 (III) に同じである、

で表される化合物が好ましく、例えば下記式

で表される化合物が挙げられる。

第 2芳香族化合物は、芳香族ポリカーボネート 100重量部に対し、好ましくは 0. 01〜0. 1重量部、さらに好ましくは 0. 011〜0. 095重量部、特に好ましくは 0. 012〜0. 09重量部で含有される。

また、上記脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルと上記第

2芳香族化合物とは、上記付着物中に第 2芳香族化合物が上記エステル 1重量部当り好ましくは 2. 5〜10重量部、より好ましくは 2. 6〜9. 5重量部となる割合で用いられる。

さらに、上記式（ΙΠ) で表される第 2芳香族化合物は、前記式（II) で表される第 1芳香族化合物 1重量部に対し、好ましくは 0. 5〜50重量部、より好ましくは 0 . 5〜2 . 5重量部、特に好ましくは 0 . 5〜2. 0重量部で用いられる。第 2芳香族化合物を上記割合で含有することにより、より望ましい離型性が達成される。

第 1芳香族化合物および場合によりさらに第 2芳香族化合物の含有量を上記の範囲に制御するには、ポリ力一ポネートを製造する溶融重合反応初期条件およびまたは溶融重合反応後期条件で温度、減圧度を適切に保ち重合反応と同時に、該化合物を合成かつ制御する方法や、重合の最終段階で別途合成した該化合物を溶融状態のポリカーボネ一トへ混合する方法や、重合終了後一旦ポリカーポネ一トを固化し再溶融時に該化合物を混合する方法等が挙げられる。好ましくは、溶融重合反応中に該化合物を合成かつ制御する方法である。

該重量比を上記範囲に制御する方法としては、例えば重合反応装置の特徴を考え重合反応仕込み時の炭酸ジエステル/芳香族ジヒドロキシ化合物モル比を高める方法（例えば 1 . 0 3〜 1 . 1 0の間に設定し重合を行うこと；重合原料仕込みモル比制御法)、および Zまたは重合反応終了時点において米国特許第 5 6 9 6 2 2 2号に記載の方法に従い、サリチル酸エステル系化合物により OH末端基を封止する方法等が具体的に挙げられる。

ポリマー中のこれらの化合物の含有量は公知の方法で測定可能だが、ポリマー再沈殿法により抽出される有機低分子化合物を高速液体ク口マトグラフィ一で測定し、検量する方法；有機低分子化合物に対しては溶解性が高ぐポリカーボネ一卜には溶解性がない有機溶媒を用いてソックスレー抽出を行い、溶媒を溜去して検量する方法等が挙げられる。前者の方法がより好ましい。

本発明の芳香族ポリカーボネート組成物は、任意成分として、亜リン酸エステルおよび/またはリン酸エステルを芳香族ポリ力一ポネート 1 0 0重量部に対し、

1 X 1 0— ⁴〜0 . 1重量部でさらに含有することができる。

亜リン酸エステルとしては、例えばトリメチルホスファイト、トリェチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス（2— ェチルへキシル）ホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファアルキルホスフアイト、トリシクロへキシルホスフアイトなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフエニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（ェチレフェニル）ホスファイト、トリス（2， 4—ジー t一ブチルフエ二ル）ホスファイト、トリス（ノエルフエニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフエ二ル）ホスファイトなどのトリァリールホスファイト、フエニルジデシルホスファイト、ジフエニルデシルホスファイト、ジフエ二ルイソォクチルホスフアイト、フエ二ルイソォクチルホスフアイト、 2—ェチルへキシルジフエニルホスフアイトなどのァリ一ルアルキルホスフアイトなどを挙げることができる。さらに、亜リン酸エステルとして、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフアイト、ビス（2， 4ージー t _ブチルフエニル）ペンタエリスリチルジホスフアイトなどを挙げることができる。

リン酸エステルとしては、例えばトリメチルホスフエ一ト、トリェチルホスフェ一ト、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデシルホスフェート、卜リオクタデシルホスフエー卜、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェートなどのトリアルキルホスフェート、トリシクロへキシルホスフエ一トなどのトリシクロアルキルホスフェート、トリフエニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス（ノエルフエニル）ホスフエ一ト、 2—ェチルフエニルジフェニルホスフェートなどのトリァリールホスフエ一トなどを挙げることができる。

これらの化合物は 1種のみ、あるいは 2種以上組み合わせて用いることができる。これらのうち芳香族亜リン酸エステルが好ましく用いられる。

亜リン酸エステルおよび Zまたはリン酸エステルは、芳香族ポリ力一ポネート (A) 1 0 0重量部に対し、好ましくは I X 1 0— ³〜5 X 1 0— ²重量部含有させる。

さらに、本発明の芳香族ポリ力一ポネート組成物は、任意成分として、塩酸、リン酸、亜リン酸、ホウ酸、これらのアミン塩およびアンモニゥム塩よりなる、群から選ばれる少なくとも 1種の化合物を、芳香族ポリカーボネート（A) 1 0 0 重量部当り、 1 X 1 0— ⁵〜1 X 1 0一²重量部の割合で、さらに含有することができる。

これらの任意成分の使用はポリカーボネート樹脂組成物における高温時、特に

3 0 0 °C以上の高温での溶融成形時の着色や品質劣化あるいはシルバーストリ一クの発生等の不具合を解消するのに有効である。

上記アミン塩を構成するァミンとしては、例えばジメチルァミン、ジェチルァミン、ジブチルァミン、ジォクチルァミン、ジラウリルァミン、ピぺラジン、ピぺリジンおよびシク口プチルァミンのごとき 2級ァミン；並びにトリメチルァミン、トリェチルァミン、トリプチルァミンおよびピリジンのごとき 3級ァミンが挙げられる。

任意成分としてのこれらの化合物は、芳香族ポリ力一ポネート 1 0 0重量部当り、好ましくは 1 X 1 0— ⁴〜5 X 1 0— ³重量部である。

本発明の前記芳香族ポリカーポネ一ト組成物には、用途に応じて従来公知の離型剤、加工安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、金属不活性化剤、金属石鹼、造核剤、帯電防止剤、難燃剤などを添加することができる。従来公知の離型剤としては、脂肪族カルボン酸と多価アルコールとの部分エステル化合物、すなわち多価アルコールの少なくとも 1つの水酸基が未反応のままで遊離の状態にあるエステル化合物を挙げることができる。

上記脂肪族カルボン酸としては特に限定されず、飽和および不飽和脂肪族カルボン酸のいずれであってもよい。脂肪族カルボン酸としては飽和一価脂肪酸が好ましく炭素数 1 2〜 2 4のものが特に好ましい。

かかる脂肪族カルボン酸としては、具体的には、ドデシル酸、ベンダデシル酸、パルチミン酸、ヘプ夕デシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、ァラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸などが挙げられる。

上記多価アルコールとしても、特に限定されず、 2価、 3価、 4価、 5価、 6 価いずれも用いることができる。例えばエチレングリコール、プロピレングリコ —ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペン夕エリスリトールなどが好ましく、グリセリンが特に好ましい。

上記部分エステル化合物としては、炭素数 1 2〜 2 4の飽和一価脂肪族のモノグリセリドおよび/またはジグリセリドが好ましい。

上記部分エステル化合物は、上記式（I ) で表されるエポキシ化合物対部分ェステル化物の重量比が好ましくは 0. 2 5〜5、さらに好ましくは 0 . 4 2〜1 となる割合で使用するのが望ましい。

加工安定剤としては、例えば 2— t—プチルー 6— ( 3 - t -プチル— 2—ヒドロキシー 5—メチルベンジル）一 4一メチルフエニルァクリレート、 2 - [ 1 - ( 2—ヒドロキシー 3， 5—ジー t一ペンチルフエ二ル）ェチル] —4 , 6— ジ一 t—ペンチルフエ二ルァクリレート等が挙げられる。

光安定剤としては、例えば 2— （3— t—ブチル—2—ヒドロキシー 5—メチルフエ二ル） —5—クロ口べンゾトリァゾ一ル、 2 _ ( 3， 5—ジ— t一ブチル一 2—ヒドロキシフエニル）ベンゾトリアゾ一ル、 2— （2—ヒドロキシー 5— メチルフエニル）ベンゾトリァゾール、 2— （2—ヒドロキシ一 5 _ t _ォクチルフエニル）ベンゾトリアゾール、 2— （3， 5—ジー t一ペンチルー 2—ヒドロキシフエニル）ベンゾトリアゾール、 2— 〔2—ヒドロキシー 3— （3， 4， 5， 6—テトラヒドロフタルイミドメチル）フエニル〕ベンゾトリアゾール、 2 - [ 2—ヒドロキシー 3 , 5 _ビス（， α—ジメチルベンジル）フエニル] ベンゾトリァゾールのごときべンゾトリァゾール系化合物； 2—ヒドロキシー 4一ォクチルォキシベンゾフエノン、 2—ヒドロキシ一 4ーメトキシベンホゾフエノンのごときべンゾフエノン系化合物； 2 , 4—ジー t一ブチルフエニル、 3 , 5 —ジー tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエートのごときヒドロキシベンゾフエノン系化合物；ェチルー 2—シァノー 3， 3—ジフエ二ルァクリレ一ト等のシァノアクリレー卜系化合物などの紫外線吸収剤、ニッケルジブチルジチォカーパメート、 [ 2， 2， —チォビス（4一 t一才クチルフエノラート）] 一 2 _ェチルへキシルァミンニッゲルなどのニッケル系クェンチヤ一などが挙げられる。

金属不活性化剤としては、例えば N， N ' ― [ 3— （3 , 5—ジ _ t—ブチル一 4—ヒドロキシフエニル) プロピオニル] ヒドラジン等が、金属石験類としては例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸ニッケル等が挙げられる。

造核剤としては、例えばジ（4一 t一ブチルフエニル）ホスホン酸ナトリウム、ジベンジリデンソルビ! ^一ル、メチレンビス（2， 4ージ _ t一ブチルフエノール）ァシッドホスフエ一トナトリゥム塩等のソルビトール系、リン酸塩系化合物が挙げられる。

帯電防止剤としては、例えば（j3—ラウラミドプロピル）トリメチルアンモニゥムメチルスルフェート等の第 4級アンモニゥム塩系、アルキルホスフェート系化合物が挙げられる。

難燃剤としては、例えばトリス（2—クロロェチル）ホスフェートなどの含ハロゲンリン酸エステル類、へキサブ口モシクロドデカン、デカブ口モフエ二ルォキサイドなどのハロゲン化物、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、水酸化ァルミニゥムなどの金属無機化合物類、これらの混合物等が挙げられる。

上記の各成分の芳香族ポリカーボネート配合は、例えば、溶融状態にあるポリ力一ポネートに加えて混練してもよく、また、ポリ力一ポネートの溶液に加えて混練してもよい。より具体的には、重合反応が終了して得られる溶融状態にある反応器内または押出機内の反応生成物であるポリカーボネートに、直接、加えて混練する方法、あるいは、得られたポリカーボネートをペレット化し、このペレットと共に一軸または二軸押出機などに供給して溶融混練する方法、さらに、得られたポリカーボネートを適当な溶媒（例えば塩化メチレン、クロ口ホルム、トルェン、テトラヒドロフラン等）に溶解させ、この溶液に加えて攪拌する方法などを挙げることができるが、溶融状態の熱履歴時間および再溶融回数を減らすという点から、溶融重合で得られた溶融状態のポリカーポネ一トにスルホン酸化合物、環状ィ匕合物等の成分を添加混練しペレツト化するのが好ましい。

本発明のポリ力一ポネート組成物は射出成型により種々の成型品とすることができる。射出成型はいかなる装置を用いて行ってもよいが、成型機のシリンダーにおける設定温度は 2 5 0〜4 0 0 °Cが好ましい。設定温度が 2 5 0 °Cに満たない場合ポリマーの流動性が低いために良好な成型品が得られず、特にポリカーボネートの主要用途の一つである光ディスク基板の成型ではスタンパー信号の転写性が低下するため好ましくない。 4 0 0 °Cを超える場合ポリマ一が熱劣化を生じ色調や機械物性が著しく悪化するため好ましくない。また、金型における設定温度は 50〜140°Cが好ましく、設定温度が 50°Cに満たない場合は成型品に離型むらが生じ、 140°Cを超える場合は所望の離型性が得られず好ましくない。本発明によれば、上記のごとく射出成型をする際に、芳香族ポリカーボネートを受け入れる射出成型金型の芳香族ポリ力一ポネートを接触する金型内表面に、上記式（II) で表される第 1芳香族化合物を金型内表面 1 cm²当り 0. 005 〜0. lmgの割合で付着せしめるときには、第 1芳香族化合物の離型作用により、射出成型品が離型性良く製造し得る。

本発明の芳香族ポリ力一ポネート組成物の成型品には、例えば電子 ·通信器材； OA機器；レンズ、プリズム、光ディスク基板のごとき光記録媒体用基板、光ファイバ一などの光学部品；家庭電器、照明部材、重電部材などの電子 '電機材料；車両内外装、精密機械、絶縁材などの機械材料；医療材料；保安 ·保護材料；スポーツレジャー用品；家庭用品などの雑貨材料；容器 ·包装材料；表示 · 装飾材料が包含される。また、上記光ディスク基板としては、例えば成型基板の厚みが 1. 2mmの CD、 LD、 CD— ROM、 CD-R, 光磁気ディスク、相変化型ディスク等の基板、厚みが 1. 2 mmの単板を 2枚貼り合わせることによつて得られる基板、厚みが 0. 6 mmの基板、厚みが 0. 6 mmの単板である D V D用の成型基板を 2枚張貼り合わせることによって得られる DVD基板などが挙げられる。 DVD基板としては例えば、 DVD— R〇M、 DVD-R, DVD 一 R AMなどの基板が挙げられる。

本発明の光記録媒体用基板は、好ましくは臨界表面張力が 34. 8-36. 4 の範囲にある。

本発明によれば、本発明のポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板、および上記の光記録媒体用基板および該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体が同様に提供される。

この光記録媒体は、公知の光記録媒体と同様に、必要により誘電体層および反射層を備えることができる。

実施例

以下に実施例を挙げてさらに説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、ポリマーの各評価は以下の方法で行った。

(1) 粘度平均分子量 (Mv)

塩化メチレン中 20°Cでの極限粘度 [77] を測定し、下記式にて粘度平均分子量に換算した。

[ ] =1. 23X 10-⁴Mw°- ⁸³

(2) 分子量分布

昭和電工社製ゲル浸透クロマトグラフィー（s hod e XGPC Sy s t em- 11) を用いて測定した。

(3) 末端 OH基濃度

J EOL社製高分解能 NMR (EX-270) を用いて測定し、全末端基量に対する末端 OH基量の割合を算出した。

(4) 臨界表面張力の測定

J I S規格 K6768に準拠した。すなわち、ぬれ試験液（ホルムアミド、ェチレングリコールモノメチルエーテル混合液；和光純薬（株)）および発色剤 (ビクトリアブル一 B；和光純薬（株)）を用いて成型板表面の表面張力（30 〜56 dyn/cm; 330〜 560M N/ cm) を測定した。各ポリマーにつき 30検体の成型板を用い、各成型板ごとに 5点ずつの測定を行い平均した。

(5) 離型性

コンパクトディスク基盤を連続 100ショット成型し、そのうちディスクまたはスプル一の金型への残りがあったショット数を不良率（％) として評価した。

(6) 転写性

上の方法にて得たディスク基盤に転写されたピットを光学顕微鏡 (800倍）で観察し、評価した。実施例、比較例それぞれについて、ディスク 100枚を評価した。

具体的には、転写されたピット形状に異常が認められるか否かを評価した。ここで形状にムラがあるとは、ディスク基盤に転写されたピットの形状にムラがあり、ミクロンオーダ一の転写が不良になることを意味する。

(7) 熱安定性得られたペレットを射出成型機内（シリンダー温度 340°C、金型温度 8 0°C) で 5分滞留させた後、厚さ 2 mmの成型板を作成した。滞留前後の色差を日本電色工業（株）製のカラ一メ一ターで測定した。

実施例 2、 3および比較例 1

ビスフエノール A (以下 BPA) 228重量部、ジフエ二ルカ一ポネート（以下 DPC) 223重量部およびテトラメチルアンモニゥムヒドロキシド 0. 00 9重量部、ビスフエノ一ル Aジナトリウム塩 0. 00014重量部を攪拌装置、蒸留塔および減圧装置を備えた反応槽に仕込み窒素置換した後、 140°Cで溶解した。 30分間攪拌後、内温を 205でに昇温し、内圧 100 mmH gで 50分間反応させ、生成するフエノールを留去した。ついで内温を 240°Cに昇温しつつ内圧を徐々に 2 OmmHgまで減圧し、同温度、同圧下で 70分間さらに反応を続行した。最終的に 270°Cまで昇温し内圧 1 mmH gでポリカーボネートの重縮合を継続した。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は 15, 200 であった。次いで溶融状態のままで、このポリマーをギアポンプにて二軸押出機 (L/D=l 7. 5、バレル温度 270°C) に挿入し、ポリマ一に対して表記載のエステル化合物、酸、スルホン酸化合物、亜リン酸エステルをそれぞれ所定量添加混練し、ダイを通してストランド状とし、カツタ一で切断しペレットとした。実施例 4

270°Cまで昇温後、反応系内に DP C 2重量部を添加する操作を追加する以外は実施例 1と同様にして実施した。

実施例 5

ビスフエノ一ル Aジナトリウム塩 0. 00014重量部に代わり、水酸化セシゥム 0. 00004重量部を用いた以外は実施例 1と同様に実施した。

比較例 2

DPC 223重量部およびテトラメチルアンモニゥムヒドロキシド 0. 009 重量部に代えて、 DPC231重量部およびビスフエノ一ル Aジナトリウム塩 0. 0003重量部を使用し、最終的に 300°Cの温度でポリカーボネートの重縮合を継続した以外は実施例 1と同様にして実施した。比較例 3

DPC 223重量部に代えて、 D P C 231重量部を使用した以外は実施例 1 と同様にして実施した。

表 1

註） DBSP：ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニゥム塩 TTBPP：トリス（2 4ージー t一ブチルフエニル) ホスファイト表 1つづき

註） DBSP ：ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニゥム塩 TTBPP ：トリス（2, 4—ジ一 t—ブチルフエニル）ホスファイト

Claims

請求の範囲

1. (1) (i) 主たる繰返し単位が次式 (I)

(式中の R R²、 R³、および R⁴は、それぞれ独立に、炭素数 1〜20のァルキル基、炭素数 1〜20のアルコキシ基、炭素数 6〜 20のシクロアルキル基、炭素数 6~20のァリ一ル基、炭素数 6〜20のシクロアルコキシ基または炭素数 6〜20のァリールォキシ基であり、 Wは単結合、酸素原子、カルボ二ル基、炭素数 1〜20のアルキレン基、炭素数 2〜 20のアルキリデン基、炭素数 6〜 20のシクロアルキレン基、炭素数 6〜 20のシクロアルキリデン基または炭素数 6〜20のァリーレン基または炭素数 6〜20のアルキレンァリーレンアルキレン基である。）

で表わされ、

(ii) 粘度平均分子量が 12， 000〜100, 000であり、

Uii)溶融粘度安定性が 0. 5%以下であり、

(iv) ポリマー 1トンあたりの末端 OH基量が 5〜100化学当量であり、そして

(V) z平均分子量（Mz) と重量平均分子量 (Mw) の比が 1· 4〜1. 7の範囲にある、

芳香族ポリ力一ポネート 100重量部、

(2) 炭素数 10〜25の脂肪族モノカルボン酸と炭素数 2〜10の脂肪族多価アルコールのエステル 0. 005〜0. 2重量部および (3) 下記式 (II)

(II)

ここで、 R⁵、 R⁶、 R ⁷および R ⁸は互いに独立に水素原子、炭素数 1〜10 のアルキル基、炭素数 6〜 20のァリール基および炭素数 7〜 20のァラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 R⁹、 R^1G、 R¹¹および R¹²は互いに独立に水素原子、および炭素数 1〜 10のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、 W¹は、炭素数 1〜6のアルキレン基、炭素数 2〜10のアルキリデン基、炭素数 5〜10のシクロアルキレン基、炭素数 5〜10のシクロアルキリデン基、炭素数 8〜15のアルキレンーァリーレン—アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそして X ¹ および X ²は互いに独立にエーテル結合（—〇—）、エステル結合（一 COO— または一 OCO—）またはカーボネート結合（一〇co〇_) である、

で表される第 1芳香族化合物 0. 015〜0. 3重量部から成るポリカーポネ一ト組成物であって、

シリンダー温度 380で、金型温度 80 、射出速度 200 mm/ s e c、保持圧力 3， 432 k P a (35 kg f /cm²) の条件で 120 mmX 50 mm、厚さ 2 mmの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第 1芳香族化合物が上記エステル 1重量部当り 0. 5〜3重量部となるように、上記エステリレを上記重量範囲内で含有する、

ことを特徴とするポリカーボネート組成物。 2. 下記式（III) (III)

ここで、 R ⁵〜R ^{1 0}、 X ¹および^ W¹の定義は上記式 (I I) に同じである、で表される第 2芳香族化合物 0 . 0 1〜0 . 1重量部をさらに含有し、上記と同じ条件で射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第 2芳香族化合物が上記エステル 1重量部当り 2 . 5〜1 0重量部となるように上記重量範囲内で含有する請求項 1に記載のポリ力一ポネート組成物。

3 . 芳香族ポリカーポネ一トが芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、アル力リ金属化合物およびアル力リ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも 1種のエステル交換触媒の存在下に反応せしめて得られた請求項 1または 2に記載のポリカーポネ一ト組成物。

4. エステル交換触媒がアル力リ金属化合物でありそしてアル力リ金属化合物がセシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも 1種を含有する請求項 3の芳香族ポリカーポネ一ト組成物。

5 . アルカリ金属化合物が、セシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも 1種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシゥムおよび/またはルビジウム金属元素数が 0 . 0 0 1〜 1 0 0 %である請求項 4の芳香族ポリ力一ポネ一ト組成物。

6 . アルカリ金属化合物が、セシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも 1種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシゥムおよび Zまたはルビジウム金属元素数が 9 0〜； L.0 0 %である請求項 4の芳香族ポリカーボネート組成物。

7. 芳香族ポリカーボネートが下記式 (IV)

(ここで、 A¹は置換していてもよい炭素数 1〜 30の 1価の炭化水素基であり、 X¹はアンモニゥムカチオン、ホスホニゥムカチオンまたは炭素数 1〜 10の一価の炭ィ匕水素基である）

で表わされるスルホン酸化合物を、芳香族ポリ力一ポネート 100重量部に対し 1 X 10_⁵〜 1 X 10— ²重量部含有する請求項 1に記載の芳香族ポリカーポネ一ト組成物。

8. 上記式 (IV) のスルホン酸化合物が下記式 (IV) -1

(IV)-

(ここで、 A²、 A³、 A⁴、 A⁵および A⁶は、互いに独立に、炭素数 1〜20の 1価の炭化水素基である）

で表わされる化合物である請求項 7に記載の芳香族ポリ力一ポネ一ト組成物。

9. 亜リン酸のエステルおよび Zまたはリン酸のエステルを、芳香族ポリ力一ポネート 100重量部に対し 1 X 10— ⁴〜0. 1重量部含有する請求項 1に記載の芳香族ポリ力一ポネート組成物。

10. 塩酸、リン酸、亜リン酸、ホウ酸、これらのアミン塩およびアンモニゥム塩よりなる群から選ばれる少なくとも 1種の化合物を、芳香族ポリ力一ポネート 100重量部に対し 1 X 10— ⁵〜1 X 10_²重量部含有する請求項 1に記載の芳香族ポリ力一ポネート組成物。香族化合物が下記式 (II) -1

(II) 一 1

ここで、 R⁵〜R⁸および ^W¹の定義は上記式 (II) に同じである、

で表される請求項 1に記載の芳香族ポリ力一ポネ一ト組成物。

12. 第 2芳香族化合物が下記式（ΠΙ) — 1

ここで、！^〜！^ぉょぴェの定義は上記式 (III) に同じである、

で表される請求項 2に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。

13. 上記と同じ条件下で射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の臨界表面張力を J I S K6768に基づく測定で 32〜39 dy n/cmの範囲とする、請求項 1に記載の芳香族ポリ力一ポネート組成物。

14. 請求項 1の芳香族ポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板。

15. 請求項 14の基板おょぴ該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体。