WO2003100479A1 - Composition de resine photodurcissable utilisee dans la formation de revetements, de pixels rgb, de matrices noires ou d'elements de separation dans la production de filtres colores, et filtres colores - Google Patents

Composition de resine photodurcissable utilisee dans la formation de revetements, de pixels rgb, de matrices noires ou d'elements de separation dans la production de filtres colores, et filtres colores Download PDF

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WO2003100479A1
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photocurable resin
group
copolymer
color filter
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PCT/JP2003/006339
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Masami Okuo
Kensaku Sonoda
Chihiro Imase
Yoshikazu Nakashima
Shinji Hayashi
Akitaka Nishio
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Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Nof Corporation
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/12Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
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    • G02F1/13363Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133634Birefringent elements, e.g. for optical compensation the refractive index Nz perpendicular to the element surface being different from in-plane refractive indices Nx and Ny, e.g. biaxial or with normal optical axis

Definitions

  • a color liquid crystal display device (101) is provided with a gap 3 of about l to 10 / im by facing a color filter 1 and an electrode substrate 2 such as a TFT substrate as shown in FIG.
  • the gap 3 is filled with the liquid crystal compound L, and the periphery thereof is sealed with a sealing material 4.
  • the color filter 1 includes a black matrix layer 6 formed in a predetermined pattern on a transparent substrate 5 to shield the boundary between pixels, and a plurality of colors (usually red ( R), green (G), and blue (B) are arranged in a predetermined order in a pixel portion 7 or, more recently, a pixel portion using a hologram, a protective film 8, and a transparent electrode film 9. It has a laminated structure in this order from the side close to the substrate.
  • an alignment film 10 is provided on the inner surface side of the color filter 1 and the electrode substrate 2 facing the color filter.
  • the protective film 8 formed on the color filter plays a role of protecting the pixel portion and flattening the color filter when the pixel portion is provided in the color filter.
  • the presence of gap unevenness due to undulation on the transparent substrate surface of the color filter, gap unevenness between each of the R, G, and B pixels, or gap unevenness within each pixel, etc. If the flatness of the image is impaired, color unevenness or contrast unevenness is caused, and as a result, image quality is deteriorated. Therefore, high flatness is required for the protective film.
  • the pearl When dispersing the fine pearl 11 as shown in Fig. 1 as a spacer, the pearl is independent of whether it is behind the black matrix layer 6 or the pixel, Disperse randomly.
  • the pearl is arranged in the display area, that is, the pixel portion, the light of the backlight passes through the pearl portion, and the alignment of the liquid crystal around the pearl is disturbed, so that the quality of the displayed image is significantly reduced. Therefore, as shown in FIG. 2, instead of dispersing pearls, a columnar space having a height corresponding to the cell gap is provided in a region on the inner surface side of the color filter and overlapping with the position where the black matrix layer 6 is formed. The formation of sir 12 has begun to take place.
  • the above-described colored layers such as the pixel portion 7 and the black matrix layer 6, the protective film 8, and the columnar spacers 12 can be formed using a resin.
  • the coloring layer must be formed in a predetermined pattern for each pixel of each color and each line of black matrix.
  • the protective film 8 can cover only the region where the pixel portion is formed on the transparent substrate in consideration of the adhesiveness and the sealing property of the seal portion.
  • the columnar spacers 12 need to be accurately provided in the formation region of the black matrix layer, that is, in the non-display region. For this reason, it has been proposed to form a colored layer, a protective film, and a columnar spacer using a photocurable resin capable of forming an alkaline image after selectively exposing a region to be cured.
  • soluble photocurable resin for example, ⁇ -cresol novolak epoxy atalylate having a weight average molecular weight of about 2,000 and having a carboxylic acid group that defines solubility is known. ing.
  • This resin defines the curability The reliability at the time of film formation is low because the monomer component is used as the atalyloyl group. That is, for example, the residual monomer units may be eluted into the liquid crystal part, and the amount of elution during alkali development may be large, and the film may be reduced.
  • a radical polymerizable group such as a (meth) atalyloyl group into the molecular structure of the compound to impart photocurability
  • a diol is reacted with an excess of diisocyanate, and the terminal isocyanate is added.
  • a reactant with a group remaining is prepared, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is reacted with the isocyanate group of the reactant to form urethane (meth) atalylate.
  • a method for introducing a radical polymerizable group such as an atalyloyl group is known.
  • (meth) atalyloyl groups are introduced only at both ends of the molecular structure in principle.
  • a method is conceivable in which a polyfunctional compound having two or more radically polymerizable groups such as a (meth) atalyloyl group in one molecule is included for radical polymerization.
  • a polyfunctional compound having two or more radically polymerizable groups such as a (meth) atalyloyl group in one molecule is included for radical polymerization.
  • problems such as gelation.
  • the present inventors have a main chain comprising at least a structural unit represented by the following formula 5 and a structural unit represented by the following formula 6, and at least a part of the carboxyl group or the hydroxyl group thereof has the following structure.
  • a photocurable resin in which a (meth) atalyloyloxyalkyl isocyanate compound represented by the formula 7 is bonded by a reaction of an isocyanate group of the compound has been proposed (Japanese Patent Publication No. 2000-1). 0 5 4 5 6). Equation 5
  • OCN-R 12 -0-CC CH.
  • R 1G represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • R 11 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • R 12 represents an alkylene group
  • R 13 represents hydrogen or methyl.
  • the color filter is exposed to a high temperature in the course of assembling the liquid crystal panel. For example, in the process of forming the alignment film, the color filter is heated at about 250 ° C. for about one hour.
  • the color filter is heated at about 250 ° C. for about one hour.
  • the color changes during such a high-temperature heating process, causing problems such as yellowing and a decrease in transparency. There is a risk.
  • a first object of the present invention is to provide a protective film for a color filter, RGB, which is excellent in heat discoloration resistance and is suitable for forming a microscopic structure.
  • Pixel, black matrix or spacer An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition for use in the present invention, in particular, an alkali developable photocurable resin composition.
  • a second object of the present invention is to provide a color filter which is excellent in heat discoloration resistance and transparency, and is excellent in dimensional accuracy and uniformity of details.
  • a photocurable resin composition for forming a protective film of a color filter, a pixel for RGB, a black matrix or a spacer according to the present invention is represented by at least the following formula 1 as a binder component: It is characterized by containing a copolymer having a molecular structure in which a structural unit and a structural unit having an acidic functional group are linked.
  • This fumarate-based copolymer not only has excellent heat discoloration resistance, but also can appropriately adjust the reaction curability, alkali solubility, coatability, and the like by changing the content ratio of each constituent unit. Therefore, a cured product formed from the photocurable resin composition according to the present invention containing the copolymer is excellent in heat discoloration resistance, causing discoloration such as yellowing and reduction in transparency. Absent.
  • the structural unit having an acidic functional group in the fumarate-based copolymer is preferably a structural unit represented by the following formula 2. Equation 2
  • R 3 is a hydrogen atom, a methyl group or a carboxymethyl group.
  • the fumarate-based copolymer preferably further has a constitutional unit having an ethylenically unsaturated bond. Ethylenically unsaturated bonds contribute to reaction curability. Further, the constituent unit having an ethylenically unsaturated bond is preferably a constituent unit represented by the following formula 3 or a constituent unit represented by the following formula 4. Equation 3
  • R 6 and R 9 are a hydrogen atom or a methyl group
  • R 7 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • R 8 is an alkylene group
  • h is a number of 0 or 1.
  • the polymerization ratio of the structural unit represented by the above formula 1 and the structural unit having an acidic functional group is preferably adjusted so that the acid value of the copolymer is 40 to 200 mgKOHZg.
  • the acid value is
  • the polymerization ratio it is preferable to control the polymerization ratio so that the content is 40 to 200 mg KOHZg and the content of ethylenically unsaturated bonds is 0.5 to 2. Ommo 1 Zg.
  • the weight average molecular weight of the fumarate copolymer is preferably 5,000 to 100,000.
  • a cross-link is also formed between the fumarate-based copolymer and the reaction-curable compound.
  • the density of the crosslinking reaction points is increased, and the exposure sensitivity and the strength and hardness of the film are improved.
  • the photocurable resin composition for forming a protective film of a color filter, a pixel for RGB, a black matrix or a spacer further contains a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds. Is preferred. Further, this photocurable resin composition may further contain a photopolymerization initiator, if necessary. According to the present invention, when the cured film of the photocurable resin composition is heated at 250 ° C. for 1 hour, the light transmittance at 380 nm before heating and the light transmittance at the same wavelength after heating are compared. It is possible to obtain a cured film having excellent heat resistance such that the ratio is 90% or more.
  • the photocurable resin composition for forming the protective film of the color filter, the pixel for RGB, the black matrix or the spacer according to the present invention may be used for the details of the color filter, for example, the pixel portion and the black matrix layer.
  • a columnar spacer having a desired height can be accurately formed.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view of another example of the liquid crystal panel.
  • the meanings of the reference numerals in each figure are as follows.
  • Malate-based copolymers are at least represented by the following formula 1.
  • R 1 and R 2 are each independently a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms or a substituted branched alkyl group, or a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms or a substituted cycloalkyl group. Represents.
  • the structural unit (fumarate unit) represented by Formula 1 is a component that mainly contributes to the heat discoloration resistance and transparency of the resin.
  • a fumarate represented by the following formula 8 can be used as a monomer used to introduce the structural unit represented by the formula 1 into the main chain of the copolymer. Equation 8
  • RR 2 in Formula 1 and Formula 8 is a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms or substituted branch
  • alkyl functional group include isopropyl, 1-chloro-2-propynole, 1,3-dichloro-2-propynole, sec-butynole, 3-chloro-2-butyl, and tert-butyl. , Sec-amyl, 3-pentyl, 2,3-dimethyl-3-pentyl, tert-aminole, neopentyl, isopentyl, 4-methyl-2-pentyl, 2-ethyl-hexyl and the like.
  • Such a fumarate having a branched alkyl group and z or a substituted branched alkyl group include diisoppy ⁇ / fumarate, di-sec-ptinolefumarate, di-tert-butynolefumarate, and diisobutino.
  • Refumarate di-sec-amyl fumarate, di-tert-amyl fumarate, di-methyl-2-pentyl fumarate, di-sec-aminolefumarate, di-3-pentinorefumarate, bis (2, 4 Dimethyl-3pentinofumarate) fumarate, isopropyl-sec-butynolefumarate, tert-butyl-4,1-methyl-2-pentinolefumarate, isopropinole-tert-butylnorefumarate, sec-butynolae tert-ptinolefumarate , Sec-butynole-tert-aminolefumarate, di-4-methynole-pentinolefumarate, tert-ptino One Isoa Mirufumareto, and the like.
  • RR 2 in Formulas 1 and 8 is a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms or a substituted cycloalkyl group
  • a cyclobutyl group a cyclopentanol group, a cyclohexynole group, a cyclohexynole group, and a cyclohexynole group.
  • the fumarate having such a cycloalkyl group and z or a substituted cycloalkyl group include dicyclobutinolefumarate, dicyclopentinolefumarate, dicyclohexinolefumarate, dicyclohexylfumarate, and dicycloheptylfumarate.
  • R 1 in Formula 1 is an alkyl group and R 2 is a cycloalkyl group
  • R 2 is a cycloalkyl group
  • the structural unit having an acidic functional group is a component that contributes to alkali developability, and the content ratio is adjusted according to the degree of alkali solubility required for the resin.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond and an acidic functional group can be used as the monomer used to introduce the structural unit having an acidic functional group into the main chain of the copolymer.
  • the acidic functional group is usually a carboxyl group, but may be other than a carboxyl group as long as it can contribute to alkali developability.
  • a structural unit represented by the following formula 2 is preferable. Equation 2
  • R 3 is a hydrogen atom, a methyl group or a carboxymethyl group.
  • Acrylic acid, methacrylic acid or itaconic acid can be used as a monomer used for introducing the structural unit of the formula 2.
  • the copolymer used in the present invention contains a structural unit represented by Formula 1 (fumarate unit) and a structural unit having an acidic functional group (acidic functional group-containing unit) as essential main chain components.
  • a structural unit represented by Formula 1 fluoride unit
  • a structural unit having an acidic functional group acidic functional group-containing unit
  • other copolymer components may be contained in the main chain.
  • the main chain may contain, for example, a structural unit having an ethylenically unsaturated bond, a structural unit having an aromatic carbocyclic ring, and / or a structural unit having an ester group.
  • Structural units having an ethylenically unsaturated bond are components that contribute to the reaction curability of the resin, and the content ratio is adjusted according to the degree of curability required. Since the ethylenically unsaturated bonds contributing to the curability can be copolymerized together under the polymerization conditions to form the backbone linkage, after forming the backbone portion of the copolymer, The pendant is introduced into the main chain of the copolymer via a functional group.
  • a unit represented by the following formula 3 is preferable. Equation 3
  • R 4 and R 5 are a hydrogen atom or a methyl group.
  • the structural unit of the formula 3 In order to introduce the structural unit of the formula 3 into the copolymer, first, after fumarate and (meth) ataryl acid or itaconic acid are copolymerized to form a main chain portion of the copolymer, the above (meth) acrylic Carboxyl group derived from acid or itaconic acid contains epoxy group (T) Atarilate may be reacted. However, if the carboxyl group derived from (meth) acrylic acid or itaconic acid becomes too small, the developability of the resin becomes insufficient. Therefore, it is necessary to appropriately adjust the amount of the epoxy group-containing (meth) acrylate.
  • Examples of the epoxy group-containing (meth) acrylate include glycidyl or methyldarcidyl (meth) acrylate, represented by the following formula 9, and an alicyclic epoxy compound represented by the following formula 10: .
  • Plemmer GH (trade name, manufactured by NOF Corporation) is used as the glycidyl methacrylate of formula 9, and Cyclomer M-GMA (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) is used as methyl darcidyl methacrylate.
  • Cyclomer M100 and A200 (CYCLOMER Ml00 and CYCLOMER A200) as alicyclic epoxy compounds of formula 10 (trade name, Daicel Chemical Industries, Ltd.) Is commercially available. Equation 9
  • R 16 is hydrogen atom or a methyl group.
  • CYCLOMER M l 0 0 is R 16 turtles methyl group, CYCLOMER A 2 0 0 is R 16 is a hydrogen atom.
  • Equation 4 a structural unit represented by the following formula 4 is also one of the preferable units. Equation 4
  • R 6 and R 9 are a hydrogen atom or a methyl group
  • R 7 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • R 8 is an alkylene group
  • h is a number of 0 or 1.
  • R 7 in Formula 4 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and examples thereof include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.
  • R 8 is preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
  • a hydroxyalkyl (meth) atalylate represented by the following formula 11 is copolymerized with fumarate and (meth) acrylic acid or itaconic acid. To form the main chain portion of the copolymer. Equation 1
  • R 8 is an alkylene group
  • R 9 is a hydrogen atom or a methyl group
  • h is a number of 0 or 1.
  • Examples of the (meth) atalyloyloxyalkyl isocyanate of the formula 13 include methacryloyl isocyanate, 2-atalyloyloxyshethyl isocyanate, and metharyloylethyl isocyanate. Etc. are exemplified.
  • the (meth) acryloyl group is an isocyanate group via an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
  • 2-atalyloyloxylethyl isocyanate 2-metariloylethylethyl isocyanate, or the like.
  • metatariroyl isocyanate is represented by the following formula 14, and is commercially available, for example, under the trade name of “MA I” manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.
  • 2-methacryloylethyl isocyanate is, for example, a “power lens MO” manufactured by Showa Denko KK
  • the site for introducing a structural unit having an ethylenically unsaturated bond into the copolymer is a main chain structural unit derived from a monomer having a hydroxyl group or a hydroxyl group
  • a main chain constituent unit derived from a monomer having an isocyanate group and an epoxy group can be used as the introduction site.
  • methacryloyl isocyanate represented by the above formula 14 methacryloyl isocyanate represented by the above formula 14
  • glycidyl (meth) atalylate represented by the above formula 9 glycidyl (meth) atalylate represented by the above formula 9
  • alicyclic epoxy compound represented by the above formula 10 can be used. These are easy to control and manufacture as in the case of the monomers exemplified above.
  • a structural unit having an ethylenically unsaturated bond can be introduced.
  • the constituent unit having an aromatic carbon ring is a component that imparts coating properties to the resin when the copolymer is used as a coating film forming resin such as a protective film of a color filter. It is.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond and an aromatic carbon ring can be used as the monomer used to introduce the aromatic carbon ring-containing unit into the main chain of the copolymer.
  • Equation 1 5 a structural unit represented by the following formula 15 is preferable. Equation 1 5
  • R 17 is a hydrogen atom or a methyl group
  • R 18 represents an aromatic carbocyclic ring.
  • R 18 contained in the above formula is an aromatic carbocyclic ring, for example, a fuel group, Examples include a naphthyl group.
  • Examples of the monomer used to introduce this structural unit include styrene and ⁇ -methylstyrene, and the aromatic ring has a halogen atom such as chlorine or bromine, a methyl group, or ethyl.
  • an amino group such as an alkylamino group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid machine, or the like.
  • Structural units with ester groups are used for alkaline development of resins.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond and an ester group can be used as the monomer used for this purpose.
  • R 19 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 ° represents an alkyl group or an aralkyl group.
  • R 2 ° contained in the above formula is an alkyl group or an aralkyl group, and examples thereof include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group such as a benzyl group and a phenylethyl group.
  • Monomers used to introduce this structural unit include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethyl (meth) acrylate.
  • the monomers used to introduce each structural unit into the main chain of the copolymer are as follows: For each unit, those exemplified above may be used alone or in combination of two or more.
  • a structural unit having an ethylenically unsaturated bond is linked to a structural unit represented by Formula 1 and a structural unit having an acidic functional group, and is a copolymer having a reaction curability.
  • the body can be exemplified. Note that the main chain of these copolymers may contain other main chain constituent units as necessary. o-Equation 1 7 coccG R lIlll
  • R 1 to R 5 are the same as above.
  • A, b, and c are integers.
  • R 1 to R 3 , R 6 to R 9 and h are the same as above.
  • A, b, and c are integers.
  • the content ratio of each structural unit constituting the molecular structure of the copolymer is appropriately adjusted. If the content of the structural unit represented by the formula 1 is too small, the heat discoloration resistance will not be sufficiently improved, and if it is too large, there will be a problem that the reversibility is reduced. Also, when the number of the acidic functional group-containing units is too small, the alkali developability becomes insufficient, and when the number is too large, the solvent solubility decreases. When the amount of the ethylenically unsaturated bond is too small, the reaction curability becomes insufficient, and when the amount is too large, the adhesion to the substrate is reduced.
  • the fumarate-based copolymer contains the structural unit represented by the formula 1 and the structural unit having the acidic functional group in the fumarate-based copolymer, and has an acid value of preferably 40 to 20 OmgKOH Zg, particularly preferably.
  • the polymerization ratio is adjusted so as to be 70 to 15 OmgKOH / g.
  • the acid value is preferably 40 to 20 Omg. KOH / g, particularly preferably 70 to 150 mg K: O HZ g, and the content of ethylenically unsaturated bonds is preferably 0.5 to 2.
  • a structural unit represented by Formula 1 and a structural unit represented by Formula 2 having an acidic functional group are formed.
  • a structural unit having a functional group into which a pendant structure having a saturated bond can be introduced later a structural unit having an aromatic carbon ring such as Formula 15, a structural unit such as Formula 16 having an ester group, or A polymer having a main chain containing other constituent units (raw material polymer), and then reacting the raw material polymer with a compound having some other functional group together with an ethylenically unsaturated bond, A pendant structure of an ethylenically unsaturated bond may be introduced.
  • the acidic functional group-containing unit is used.
  • the unit also functions as a pendant linking site for an ethylenically unsaturated bond
  • the main chain of the starting polymer is used to introduce an ethylenically unsaturated bond separately from the unit containing an acidic functional group. It may not contain a structural unit having a necessary functional group.
  • a solvent having no active hydrogen such as a hydroxyl group or an amino group is preferable.
  • ethers such as tetrahydrofuran; diethylene glycolone resin methylene ether; Glyconoethers such as diethylene glycolone retinoleate, methylene glycol methizoleetinoleatenoate, etc., cellosolp esters such as methyl sorbate acetate, propylene glycol, ′ ′ recol monomethyl ether acetate, and 1-3-methoxy butyl acetate And aromatic hydrocarbons, ketones, esters and the like.
  • the polymerization initiator used for producing the raw material polymer those generally known as a radical polymerization initiator can be used.
  • a radical polymerization initiator examples include 2,2,1-azobisisobutyronitrile, 2,2,1-azobis (2,4-dimethylpareronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy) Nitrile-based azo compounds such as 2,4-dimethylvaleronitrile) (nitrile-based azo-based polymerization initiator); dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate), 2,2, -Non-nitrile azo compounds (non-nitrile azo polymerization initiators) such as azobis (2,4,4-trimethylpentane); t-hexylperoxybivalate, tert-butyl peroxy Pivalate, 3,5,5-trimethylhexanoylperoxide, otanoinoleperoxide, lauroylphenoleoxide, stearoylper
  • a molecular weight regulator can be used to control the weight average molecular weight.
  • halogenated hydrocarbons such as carbon form, carbon tetrabromide, and the like
  • n-hexyl mercaptan, Mercaptans such as n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, tert-dodecyl mercaptan, and thioglycolic acid
  • xanthogens such as dimethyl xanthogen disulfide and diisopropyl xanthogen disanolide
  • the raw material polymer may be any of a random copolymer and a block copolymer.
  • a blended composition containing each monomer, a catalyst and the like for deriving each structural unit is placed in a polymerization vessel containing a solvent at 80 to 110 ° C. Polymerization can be carried out by dropping the mixture under temperature conditions over 2 to 5 hours and aging.
  • the raw material polymer has a weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, simply referred to as “weight average molecular weight” or “M w J”) in the range of 5,000 to 100,000.
  • Weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, simply referred to as “weight average molecular weight” or “M w J”) in the range of 5,000 to 100,000.
  • Value is 40 mg KOH / g to 200 mg K ⁇ H / g, hydroxyl value is 5 mg KO More preferred is HZ g to 40 O mg KOH / g.
  • the reaction for introducing an ethylenically unsaturated bond into the raw material polymer varies depending on the combination of the molecular structure of the raw material polymer and the molecular structure of the unit for introducing the ethylenically unsaturated bond.
  • Glycidyl (meth) is used as a unit for introducing an ethylenically unsaturated bond to a raw material polymer comprising a structural unit represented by the formula 1 and a carboxyl group-containing unit represented by the formula 2 and optionally containing other structural units.
  • a raw material polymer comprising a structural unit represented by the formula 1 and a carboxyl group-containing unit represented by the formula 2 and optionally containing other structural units.
  • a raw material polymer comprising a structural unit represented by Formula 1, a carboxyl group-containing unit represented by Formula 2 and a hydroxyl group-containing unit represented by Formula 12 and optionally containing other structural units,
  • an isocyanate compound represented by the formula 13 as a unit for introducing an ethylenically unsaturated bond
  • the entire amount of the isocyanate compound is added at once to a solution of the raw polymer in the presence of a small amount of a catalyst.
  • the copolymer represented by Formula 18 can be obtained by a force that continues the reaction for a certain period of time or by dropping it little by little.
  • dibutyltin laurate or the like is used as a catalyst, and polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol, hydroquinone, naphthinoleamine, tertiary butyl alcohol, and 2,3-G tert-butynole p-cresol Are used as needed. '
  • the isocyanate compound having an ethylenically unsaturated bond undergoes an addition reaction to the alcoholic hydroxyl group of the raw material polymer via the isocyanate group to form a urethane bond.
  • an ethylenic unsaturated bond is introduced into the hydroxyl group-containing unit represented by Formula 12 in the main chain of the raw material polymer, and a structural unit of Formula 4 is formed.
  • the isocyanate compound having an ethylenically unsaturated bond undergoes a condensation reaction accompanied by elimination of carbon dioxide gas from the carboxyl group of the raw material polymer via the isocyanate group to form an amide bond.
  • an ethylenically unsaturated bond is also introduced into the carboxyl group-containing unit represented by Formula 2 in the main chain of the raw material polymer.
  • the ethylenically unsaturated bond is mainly introduced into the alcoholic hydroxyl group-containing unit.
  • the ethylenically unsaturated bonds introduced into the carboxyl group-containing unit are generally very small. Therefore, most of the hydroxyl groups remain and alkali developability is not lost.
  • the fumarate-based copolymer thus obtained is used for forming a colored layer of a color filter, a protective film covering the colored layer, or a columnar spacer for maintaining a cell gap of a liquid crystal panel.
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC (gel permeation chromatography) is preferably adjusted to 5,000 to 100,000, and more preferably to 8,000 to 70,000. If the weight average molecular weight is less than 5,000, the developability is too good to control the pattern shape at the time of pattern exposure, and the final film thickness is reduced even if a pattern can be produced (film loss). There is a problem.
  • the acid value of the fumarate-based copolymer is preferably from 40 mg KOH / g to 200 mg KOH / g, more preferably from 70 mg KOHZg to 150 mg KOH / g.
  • the acid value is related to the developability of the toner. If the acid value is too low, the developability deteriorates, and problems such as residues occur. On the other hand, if the acid value is too high, there is a problem that the developability is too good to control the pattern shape at the time of pattern exposure.
  • the hydroxyl value of the fumarate copolymer can be adjusted in the range of 5 mg KOHZg to 400 mg KOH / g.
  • the fumarate-based copolymer used in the present invention is obtained by linking the structural unit of the formula 1 contributing to heat discoloration resistance with an acidic functional group-containing unit contributing to acidity or alkali solubility, and further, if necessary.
  • the unit is formed by linking ethylenically unsaturated bond-containing units that contribute to reaction curability, aromatic carbon ring-containing units that contribute to coating properties, and ester group-containing units that suppress alkali developability. Not only has heat discoloration resistance By changing the content ratio of each of these constituent units, the reaction curability, alkali solubility, coatability and the like can be appropriately adjusted.
  • the fumarate-based copolymer is preferably used as a binder component of an alkali-developable photocurable resin composition for forming a protective film of a color filter, a pixel for RGB, a black matrix, or a spacer. it can.
  • the photo-curable resin composition using the fumarate-based copolymer forms the details of the color filter, especially the colored layer of the color filter, the protective film, or the columnar spacer for maintaining the cell gap of the liquid crystal panel.
  • it has excellent heat discoloration resistance and is unlikely to cause yellowing, so it is very suitable for forming high transparency parts such as pixel areas and protective films. I have.
  • An alkali-developable photocurable resin composition can be prepared by adding a photocurable compound, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, and the like to the fumarate-based copolymer as necessary. If the fumarate-based copolymer has an ethylenically unsaturated bond-containing unit, the ethylenically unsaturated bond can form a cross-linking bond by light irradiation. It can be used as a resin composition. However, even in this case, it is preferable to mix a photocurable compound in order to improve reactivity and crosslink density.
  • the photo-curable resin composition in the present invention the solid content ratio of fumarate copolymer, usually 5 to 8 0 wt 0/0, thereby preferably 1 0-5 0 weight 0/0 contained. If the content of the fumarate-based copolymer is more than 80% by weight, the viscosity becomes too high, and as a result, the fluidity may be reduced and the coating property may be deteriorated. On the other hand, if the content of the fumarate-based copolymer is less than 5% by weight, the viscosity becomes too low, and as a result, the stability of the coating film after coating and drying is insufficient, and the suitability for exposure and development is impaired. May cause problems.
  • a polyfunctional polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds is preferably used.
  • polyfunctional acrylate polymers One or an oligomer is preferably used.
  • ethylene dalcol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene diol glycol (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate Polyethylene glycol di (meta) acrylate, polypropylene glycol di (meta) acrylate, hexane di (meta) acrylate, neopentyl alcohol glycol (meta) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, glycerin trilate (Meth) atarilate, trimethylolpropane tri (meta) atarilate, 1,4-butanediol diatalylate, pentaerythritol tonole (met
  • the above-mentioned polyfunctional polymerizable compound preferably contains a monomer having three or more ethylenically unsaturated bonds, and the content thereof is about 30 to 95% by weight of the polyfunctional polymerizable compound used. Preferably it occupies 0 .
  • these polyfunctional polymerizable compounds include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and pentyl (meth) as reaction diluents.
  • Monofunctional monomers such as acrylate V-rate, ethylhexyl (meta) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone can be added.
  • the polyfunctional polymerizable compound is contained in the photocurable resin composition in a solid content ratio of 3 to 80% by weight, preferably 5 to 75% by weight. 3 weight of polyfunctional polymerizable compound. If the ratio is less than / 0, there arises a disadvantage that various physical strengths such as adhesive strength and heat resistance of the formed film become insufficient, and this value is 80 weight. When the ratio exceeds / 0 , the stability of the photocurable resin composition decreases, and the flexibility of the formed film becomes insufficient. Furthermore, this ratio is necessary to improve the dissolution characteristics in the developing solution. If the ratio is out of the above range, the pattern is resolved but the monomer curing speed is increased, and scum and whiskers are formed around the pattern. Is generated.
  • the photocurable resin composition of the present invention may contain two epoxy groups in the molecule as necessary.
  • the compound (epoxy resin) having the above can be blended.
  • the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin such as epoxy coat 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).
  • EP-coat 807 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as a phenol F-type epoxy resin
  • EP PN 201, 202 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a phenol novolak-type epoxy resin
  • EOCN 102, 103S, 104S, 1020, 1025, 1027 (trade names, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epiko 1-18 OS (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like.
  • a cycloaliphatic epoxy resin and an aliphatic polyglycidyl ether are also exemplified.
  • bisphenol A type epoxy resin bisphenol F type epoxy resin, phenol nopolak type epoxy resin, and cresol nopolak type epoxy resin are preferable.
  • Many of these compounds having two or more epoxy groups in the molecule are high molecular weight compounds, but glycidyl ethers of bisphenol A and bisphenol F are low molecular weight compounds, and such low molecular weight compounds are particularly preferable.
  • acryl copolymers containing dalicydyl (meth) acrylate, oxetane (meth) acrylate, alicyclic epoxy (meth) acrylate in the resin skeleton, and the like are also effective.
  • an epoxy resin When such an epoxy resin is incorporated into the photocurable resin composition, it is contained in a solid content ratio of usually 60% by weight or less, preferably 5 to 40% by weight. When the content of the epoxy resin exceeds 60% by weight, the amount of the epoxy resin becomes too large, and the storage stability and the development suitability of the photocurable resin composition may be reduced.
  • the epoxy resin is also effective for removing tackiness in the dried coating film of the photocurable resin composition, and a sufficient effect is mentioned when the added amount is about 5% by weight.
  • the epoxy resin reacts with acidic groups remaining in the coating without reacting even after exposure It reacts by the treatment and gives the coating excellent alkali resistance.
  • a radical polymerization initiator that can be activated by ultraviolet rays, ionizing radiation, visible light, or other wavelengths, particularly, an energy ray of 365 nm or less can be preferably used.
  • the radical polymerization initiator is, for example, a compound that generates a free radical by the energy of ultraviolet light, and is a benzophenone derivative such as benzoin or benzophenone or a derivative such as an ester thereof; a xanthone or a thioxanthone derivative; Halogen-containing compounds such as aromatic compounds, chloromethyl heterocyclic compounds, and chloromethylbenzophenones; triazines; fluorenones; haloalkanes; redox couples of a photoreducing pigment with a reducing agent; Sulfur compounds; peroxides and the like.
  • irgacure 1 184, irgacure 1 369, irgacure 1 651, irgacure 1 907 (trade name, Ciba 'Specialty' Chemicals), darocure 1 1 7 3 (trade name, Ciba specialty-manufactured by Chemicals Co., Ltd., Adeki 1 7 1 7 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), 2-methyl-1-1 (4-methylthiophene), 2-monoreholinopropanone 1,2,2, -Bis (o-mono-closed phenol) 1,4,5,4'-Tetrapheno-1,2, -biimidazole (Kurokin Kasei Co., Ltd.) And imidazole compounds.
  • These initiators can be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable not to hinder the absorption spectral characteristics.
  • the radical polymerization initiator is usually contained in the photocurable resin composition in a solid content ratio of 0.05 to 18% by weight, preferably 0.1 to 13% by weight. / 0 contained. If the amount of the radical polymerization initiator is less than 0.05% by weight, the photocuring reaction does not proceed, and the residual film ratio, heat resistance, chemical resistance, and the like tend to decrease. On the other hand, if the amount exceeds 18% by weight, the solubility in the base resin reaches saturation, and crystals of the initiator precipitate during spin coating or coating leveling, so that the uniformity of the film surface cannot be maintained. As a result, the problem of film roughening occurs.
  • the polymerization initiator is Force that may be added to the photocurable resin composition containing the copolymer in the first place.For storage for a relatively long time, disperse or disperse in the photocurable resin composition immediately before use. It is preferred to dissolve.
  • a sensitizer may be added.
  • the sensitizer used is preferably a styryl compound or a coumarin compound.
  • tamarin compounds examples include 7-getylamino-1-methylcoumarin, 7-ethynoleamino-41-trinoleolomethinorecmarin, 4,6-getinoleamino-7-ethynoleaminocoumarin, and 3- (2-benzimidazolyl).
  • additives such as a surfactant and a silane coupling agent can be added to the photocurable resin composition, if necessary, in addition to the above components.
  • a coloring material such as a pigment or a dye is blended into the curable resin composition.
  • Colorants include organic colorants and inorganic colorants according to the required colors such as R, G, and B in the pixel area. Fine particles that have heat resistance enough to withstand the heating process of the color filter and can be well dispersed can be selected from the agents.
  • organic colorant for example, dyes, organic pigments, natural pigments and the like can be used.
  • inorganic colorant for example, an inorganic pigment, an extender, or the like can be used.
  • organic pigments include compounds classified as Pigment in the Color Index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), that is, the following Color Index (CI) numbers. Can be listed. CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, C Pigment Yellow 12, CL Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 13 8, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 180, CI Pigment Yellow 18 Yellow pigments such as 5 yellow pigments; CI pigment red 1, CI pigment red 2, CI pigment red 3, CI pigment red 254, red pigments such as CI pigment red 177, etc .; Blue pigments such as C ⁇ Pigment Pull 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6; C ⁇ Pigment Violet 23: 19; CI Pigment Green 36 .
  • the inorganic pigment or extender include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron (red iron oxide (111)), cadmium red, Ultramarine, navy blue, chromium oxide green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black, and the like.
  • the coloring materials can be used alone or in combination of two or more.
  • the coloring material is usually 40 to 75% by weight, preferably 45 to 70% by weight, in the photocurable resin composition. / 0 ratio. If the blending ratio of the coloring material is less than 40% by weight, the coloring power of each pixel portion is insufficient, and it is difficult to display a clear image. Inconvenience such as insufficient light transmittance at When a coloring material is blended into the photocurable resin composition, a dispersing agent may be blended into the photocurable resin composition in order to uniformly and stably disperse the coloring material. Dispersant and For example, cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants can be used. Among the surfactants, polymer surfactants (polymer dispersants) as exemplified below are preferable.
  • Polyoxyethylene lauryl ethers polyoxyethylene stearyl ethers, polyoxyethylene oleyl ethers, and the like; polyoxyethylene olequinoleate etherates; Polyoxyethylene alkynolepheninolates such as ninoleatenole; polyethylene dalicol diesters such as polyethylene glycol resoleate and polyethylene glycol restearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; High molecular surfactants such as secondary amine-modified polyurethanes are preferably used.
  • the photocurable resin composition of the present invention usually contains a solvent having good solubility in a fumarate-based copolymer, a photocurable compound, a photopolymerization initiator, etc. in consideration of coating and coating suitability.
  • Usable solvents include, for example, phenolic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, N-propyl alcohol, and i-propynole alcohol; solvent solvents such as methoxyethanol and ethoxyxanol; methoxhetoxy.
  • Carbitol-based solvents such as ethanol and ethoxyxetoxyethanol
  • ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, and ethyl lactate
  • acetone methyl isobutyl ketone
  • simulant hexanone Methoxethylacetate
  • methoxethylacetate methoxethylacetate.
  • Cellocurbacetate solvents such as ethoxetine oleate, ethylcetate sonorebacetate, etc .; Methoxyethoxyxetyl acetate, ethoxyxetxyl acetate Ether solvents such as cane bite acetoate solvents such as ethyl acetate; ethylene solvents such as getinoleate ethereone, ethylene glycol corn resin methine oleate enole, diethylene glycolone resin methine oleate enole, and tetrahydrofuran; —Non-protonic amide solvents such as dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; 0 —Lactonic solvents such as butyrolataton; non-protonic solvents such as benzene, tonolene, xylene, and naphthalene Saturated hydrocarbon solvents; N-heptan
  • cellosolve acetate solvents such as methoxetyl acetate, ethoxyxyl acetate, and ethyl sorbate
  • carbitol solvents such as methoxetixethyl acetate and ethoxyethoxyethyl acetate
  • Acetonitrile-based solvents ethylene glycol-resin methine ether, diethylene glycol dimethyl enoate ether, propylene glycol oleno-retinoate ethere, etc., ethereal solvents IJ; methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl ethyl lactate, etc.
  • Ester solvents are particularly preferably used. Particularly preferred are MBA (13-methoxybutyl acetate, CH 3 CH (OCH 3 ) CH 2 CH 2 OCOCH 3 ), PGMEA (a pyrene glycol monomethyl ether acetate, CH 3 OCH 2 CH (CH 3) OCOCH3), DMDG (diethylene glycol dimethyl ether, H 3 COC 2 H 4 OCH 3) or can use these a mixture, to prepare a solid content of 5 to 50% by weight by using these .
  • MBA 13-methoxybutyl acetate, CH 3 CH (OCH 3 ) CH 2 CH 2 OCOCH 3
  • PGMEA a pyrene glycol monomethyl ether acetate, CH 3 OCH 2 CH (CH 3) OCOCH3
  • DMDG diethylene glycol dimethyl ether, H 3 COC 2 H 4 OCH 3
  • the above-mentioned fumarate-based copolymer, photocurable compound, photopolymerization initiator, and other components are charged into a suitable solvent, and a paint shaker and bead mill are prepared. It may be dissolved and dispersed by a general method such as ⁇ , sand grind ⁇ ⁇ , bono reminore, attritor mill, two-roll mill, or three-roll mill.
  • a general method such as ⁇ , sand grind ⁇ ⁇ , bono reminore, attritor mill, two-roll mill, or three-roll mill.
  • the fumarate-based copolymer as the main polymer one obtained by isolating and purifying the fumarate-based copolymer as the active ingredient after the synthesis reaction is used. May be used as it is.
  • the photocurable resin composition thus obtained is applied to any support to form a coating film, and when the coating film is irradiated with activating energy rays such as ultraviolet rays and ionizing radiation, the photocurable compound becomes Either a cross-link is formed to enclose the fumarate-based copolymer, or, if the fumarate-based copolymer has an ethylenically unsaturated bond, it forms a cross-link itself and cures.
  • activating energy rays such as ultraviolet rays and ionizing radiation
  • the cured film has excellent heat discoloration resistance, and is unlikely to discolor, such as yellowing, or to decrease transparency.
  • a fumarate copolymer having an ethylenically unsaturated bond and a photocurable compound are used in combination, the fumarate copolymer and the photocurable compound may be used. Since a cross-linking bond is formed between them, the density of cross-linking reaction points is increased, and the exposure sensitivity and the strength and hardness of the film are improved.
  • the heat resistance (yellowing resistance) of the film can be evaluated by the following method.
  • a curable resin composition is applied on a substrate and, if necessary, dried to form a coating film.
  • the substrate can be used without any problem as long as it does not hinder a series of pattern forming steps such as exposure and development, such as a transparent glass substrate.
  • the thickness of the coating film is not particularly limited, but is usually about 1 to 10 ⁇ .
  • This coating film is prebaked under appropriate conditions, for example, at 70 to 150 ° C. for 1 to 10 minutes.
  • the coating film is exposed and cured at an irradiation intensity that completely cures it, and then post-treated under appropriate conditions, for example, at 180 to 280 ° C for 20 to 80 minutes. Beta.
  • the light transmittance (380 nm) of the cured film thus obtained is measured using a glass substrate as a reference.
  • the transmittance measured at this stage is referred to as “transmittance before heating test”.
  • the cured film on the glass substrate is heated at 250 ° C. for 1 hour to obtain a cured film for a heat test.
  • the light transmittance (380 nm) of the heat-test cured film on the glass substrate thus obtained is measured using the glass substrate as a reference.
  • the transmittance measured at this stage is referred to as “transmittance after heating test”.
  • the light transmittance before and after the heating test is calculated respectively, and the heat resistance of the cured film can be evaluated from the ratio of the transmittance before the heating test to the transmittance after the heating test.
  • the ratio of light transmittance before and after the heating test can be maintained at 90% or more.
  • the exposure sensitivity of the curable resin composition can be evaluated by the following method.
  • a curable resin composition is applied on a substrate, and dried if necessary to form a coating film.
  • the substrate can be used without any problem as long as it does not hinder a series of pattern forming steps such as exposure and development, such as a transparent glass substrate.
  • the thickness of the coating film is not particularly limited, it is usually about 1 to 10 ⁇ .
  • This coating film is applied under appropriate conditions, for example, 70 to 150 ° C. Pre-beta for 1 to 10 minutes. After the pre-beta, the coating film is exposed at a known irradiation intensity and the film thickness is measured. The film thickness measured at this stage is referred to as “film thickness before development”.
  • the pre-beta coated film is brought into contact with an appropriate developer to dissolve and remove unexposed portions, and the remaining exposed portions are washed as necessary to develop the coated film.
  • the composition of the developer and the conditions for development are appropriately selected according to the curable resin composition to be tested. Needless to say, it is preferable that the developer hardly dissolves the exposed portion (cured portion) of the curable resin composition and completely dissolves the unexposed portion.
  • the developed coating film is post-betaed under appropriate conditions, for example, at 180 to 280 ° C. for 20 to 80 minutes. After post beta, measure the thickness of the coating film and use it as “final film thickness after curing”.
  • the remaining film ratio is calculated according to the following equation.
  • Residual film ratio (%) (Film thickness after final curing ( ⁇ ) ⁇ film thickness before development ( ⁇ )) X 100
  • the same curable resin composition was coated on a substrate in the same manner as above. Dry, pre-beta, and form a reference coating. The reference coating film is exposed at an irradiation intensity at which the coating film is completely cured, and the film thickness is measured. The film thickness measured at this stage is referred to as “completely exposed film thickness”.
  • the fully exposed coating film was post-betaed in the same manner as the sample without development, and the thickness of the resulting film was measured in the same manner as described above. Thickness ”.
  • the reference residual film ratio is calculated from the measured completely exposed film thickness and the final film thickness without the development process according to the following equation.
  • Reference residual film ratio (%) (final film thickness without development process ( ⁇ ) ⁇ complete exposure film thickness ( ⁇ m)) X 100
  • the residual film ratio and the reference residual film ratio are calculated in this manner, and the smallest exposure amount at which the residual film ratio is equal to the reference residual film ratio with an error range of 1% is determined as the minimum exposure amount of the curable resin composition. I do. The smaller the minimum exposure, the higher the sensitivity.
  • the minimum exposure determined in this way is 10 O mjZ cm 2 or less. It is possible to obtain the following curable resin composition.
  • the photocurable resin composition of the present invention maintains the details of the color filter, for example, a colored layer such as a pixel portion or a black matrix layer, a protective layer covering the colored layer, and a cell gap of a liquid crystal panel. It is suitable for forming columnar spacers.
  • the photocurable resin composition of the present invention can be used for other types of display devices other than the liquid crystal display device. For example, a protective film for a color filter of an organic EL display element, a pixel portion, and other components can be used. It is also suitable for forming details.
  • the photocurable resin composition of the present invention when used as a protective film or a pixel portion of a color filter, is unlikely to be yellowed by a heating process during the assembly of a liquid crystal panel, and is extremely excellent in transparency. Further, when a fumarate copolymer having an ethylenically unsaturated bond and a curable compound as the third component are combined in the photocurable resin composition, the reaction point of the crosslinking reaction in the composition is considered. It has a high density and has excellent physical properties such as coating strength, heat resistance and chemical resistance after curing.
  • the color filter includes a black matrix formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, a pixel portion formed in a predetermined pattern on the black matrix, and a protective film formed to cover the pixel portion.
  • a transparent electrode for driving a liquid crystal may be formed on the protective film as needed.
  • a columnar spacer is formed on the transparent electrode plate, the pixel portion, or the protective film in accordance with the region where the black matrix layer is formed.
  • the pixel portion is composed of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern arranged in a desired form such as a mosaic type, a stripe type, a triangle type, a four-pixel arrangement type, and the black matrix layer is provided between the pixel patterns and in the pixel portion. It is provided in a predetermined area outside the formation area.
  • Colored layers such as a pixel portion and a black matrix layer can be formed by various methods, and can be formed by, for example, any of a dyeing method, a pigment dispersion method, a printing method, and an electrodeposition method.
  • the black matrix layer may be formed by chromium evaporation or the like.
  • these colored layers are preferably formed by a pigment dispersion method using the above-described photocurable resin composition. That is, a colored or black colored pigment is dispersed in the above-described photocurable resin composition to prepare a coating material, A colored layer can be formed by applying the composition on one side of the substrate, exposing it to a line of activating energy such as ultraviolet rays or ionizing radiation through a photomask, and developing it with alkali, followed by heat curing with a clean open or the like.
  • the coloring layer is usually formed to a thickness of about 1.5 / m.
  • the protective film can be formed by applying a coating solution of the above-described photocurable resin composition by a method such as a spin coater, a roll coater, a spray, or printing.
  • the protective film is formed, for example, to a thickness of about 2 ⁇ .
  • the number of rotations should be set within the range of 500 to 150 rotations Z minutes.
  • the coating film of the photocurable resin composition is exposed by irradiating an activation energy ray through a photomask, and after being alkali-developed, is heated and cured in a clean oven or the like to form a protective film.
  • the transparent electrode on the protective film is formed by sputtering, vacuum evaporation, indium tin oxide (IT ⁇ ), zinc oxide ( ⁇ ), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. It is formed by a general method such as a CVD method or the like, and is formed into a predetermined pattern by etching using a photoresist or using a jig as necessary.
  • the thickness of the transparent electrode is usually about 20 to 500 nm, preferably about 100 to 300 nm.
  • the columnar spacer on the transparent electrode is also coated with a coating liquid of the above-described photocurable resin composition by a method such as a spin coater, a roll coater, a spray, or printing, and activated energy rays are transmitted through a photomask. It can be formed by exposing to light by irradiation, and after developing with heat, heat-curing with a tally oven or the like.
  • a coating liquid of the above-described photocurable resin composition by a method such as a spin coater, a roll coater, a spray, or printing, and activated energy rays are transmitted through a photomask. It can be formed by exposing to light by irradiation, and after developing with heat, heat-curing with a tally oven or the like.
  • Columnar spacers are, for example,
  • the number of rotations of the spin coater may be set in the range of 500 to 150 rotations / minute as in the case of forming the protective film.
  • a liquid crystal panel can be obtained by forming an alignment film on one side of the color filter manufactured as described above, facing the electrode substrate, filling the gap with liquid crystal and sealing.
  • Example Example 1
  • DCHF Dicyclohexinolefumarate
  • DMDG diethylene glycol dimethyl ether
  • perbutyl O trade name, organic peroxide manufactured by NOF CORPORATION
  • DCHF Dicyclohexinolefumarate
  • DMDG diethylene glycol dimethyl ether
  • Partyl O trade name, an organic peroxide manufactured by Honhon Yushi Co., Ltd.
  • a solution of the raw polymer obtained in the above-mentioned synthesis (1730 g) Daricidyl methacrylate (GMA) (99 g), pyridine (5 g), and hydroquinone (0.5 g) were charged and uniformly dissolved. Next, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C. while bubbling air through the reaction solution under stirring, and reacted at 80 for 5 hours to obtain a copolymer resin solution 2.
  • GMA Daricidyl methacrylate
  • pyridine pyridine
  • hydroquinone 0.5 g
  • a composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to the copolymer resin solution 2, and a photocurable resin composition 2 was obtained.
  • a composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to the copolymer resin solution 3, and a photocurable resin composition 3 was obtained.
  • DMDG ethylene glycol dimethyl ether
  • AIBN azobisisobutyl mouth-tolyl
  • a composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to the copolymer resin solution 4, and a photocurable resin composition 4 was obtained.
  • Table 1 shows the physical properties of the obtained copolymer.
  • GMA Glycidyl methacrylate
  • the above resin composition for a photocurable black matrix is applied on a 1.1 mm thick glass substrate (AL material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) using a spin coater, and dried at 100 ° C. for 3 minutes.
  • a photocurable black matrix layer of about 1 ⁇ m was formed.
  • a black matrix was formed in a region where a light-shielding portion should be formed by performing a heat treatment.
  • a red (R) photocurable resin ink of the following composition is applied by spin coating (coating thickness: 1.5 ⁇ m) on the substrate on which the black matrix has been formed as described above, and then at 70 ° C. In the oven for 30 minutes.
  • a photomask is placed at a distance of 100 // m from the red (for R) photocurable ink coating film, and a colored layer is formed using a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp by Proxy's Miti Liner. Only the region corresponding to the region was irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds. Then, immerse in a 0.05 wt% aqueous hydroxide solution (solution temperature 23 ° C) for 1 minute and develop with alkali, and remove only the uncured portion of the red (for R) photocurable resin ink coating film. Removed. Thereafter, the substrate was left in an atmosphere of 180 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a red relief pattern in a region where a red pixel was to be formed.
  • a green (for G) photocurable resin ink having the following composition a green relief pattern was formed in a region where a green pixel was to be formed in the same process as the formation of the red relief pattern.
  • a blue (for B) photocurable resin ink of the following composition a blue relief pattern is formed in the area where a blue pixel is to be formed in the same process as the formation of the red relief pattern, and the red (R) , Green (G) and blue (B) was.
  • the photocurable resin composition 1 of Example 1 was applied on the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 4 by spin coating, and dried to form a coating film having a dry film thickness of 2 // m.
  • a photomask is placed at a distance of 100 ⁇ from the coating film of the photocurable resin composition 1, and the area where the colored layer is to be formed is determined using a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp by a proximity liner. UV light was applied for 10 seconds.
  • the film was immersed in a 0.05 wt% aqueous solution of hydroxylated water (liquid temperature: 23 ° C.) for 1 minute and developed completely by force to remove only the uncured portion of the coating film of the photocurable resin composition. . Thereafter, the substrate was left in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a protective film, thereby obtaining a color filter of the present invention.
  • Example 6 Formation of spacer The photocurable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied on the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 4 by a spin coating method and dried to form a coating film having a dry film thickness of 5 ⁇ . .
  • a photomask is placed at a distance of 100 / m from the coating film of the photocurable resin composition 1, and a super-high-pressure mercury lamp of 2.0 kW is used by a proximity liner to scan the surface of the black matrix.
  • Ultraviolet rays were irradiated only for 10 seconds to the formation region of the sample.
  • the film is immersed in a 0.05 wt% aqueous solution of aqueous hydroxide (23 ° C. for 1 minute) for 1 minute and developed completely, and only the uncured portion of the coating film of the photocurable resin composition is removed. Removed. Thereafter, the substrate was left in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a fixed spacer, thereby obtaining a color filter of the present invention.
  • a transparent electrode film was formed on the surface including the fixed spacer of the obtained color filter at a substrate temperature of 200 ° C. by using argon and oxygen as discharge gases and using ITO as a target by DC magnetron sputtering. Thereafter, an alignment film consisting of polyimide was further formed on the transparent electrode film.
  • the color filter and the glass substrate on which the TFT was formed were joined by applying epoxy resin as a sealing material at 150 ° C. and applying a pressure of 0.3 kg Z cm 2 to form a cell.
  • a liquid crystal display device was manufactured by enclosing a TN liquid crystal. '
  • a substrate temperature of 200 ° C. was applied on the colored layer of the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 4, and on the protective film of the color filter on which the colored layer and the protective film were formed in Example 5.
  • a transparent electrode film was formed by DC magnetron sputtering using IT as a target. Thereafter, an alignment film made of polyimide was further formed on the transparent electrode film to obtain a color filter.
  • the photocurable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied to a 10 cm glass substrate by a spin coater (type 1H—DX2, manufactured by MIKASA), dried, and dried. A coating film having a thickness of 2.2 was formed. This coating film was placed on a hot plate at 90 ° C, Heat for 3 minutes. After heating, UV Arai ⁇ "A the ultra-high pressure mercury lamp 2. 0 kW in the coating film is attached (form MA 1 200, Dainippon Screen) by, 1 00m j / cm 2 intensity (405 nm illuminance conversion) Was irradiated with ultraviolet rays.
  • the coating film was dried at 200 ° C for 30 minutes by a clean open (S COV-250 Hy-So, manufactured by Oshitari Research Institute Co., Ltd.) to obtain a cured film with a thickness of 2. O / m. I got The light transmittance (380 nm) of the cured film on the glass substrate thus obtained was measured using an absorbance meter (Shimadzu Corporation, UV-3100 PC) with the glass substrate as a reference. .
  • the glass substrate with the cured film was heated at 250 ° C. for 1 hour by a clean open (SCOV—250 Hy—So, manufactured by Oshitari Research Institute Co., Ltd.) to obtain a cured film for a heating test.
  • the transmittance of visible light (380 to 780 nm) of the cured film for heat test on the glass substrate obtained in this manner was measured using a glass substrate as a reference and an absorbance meter (UV-3100 PC, manufactured by Shimadzu Corporation). It measured using.
  • the heat resistance of the cured film was evaluated from the change in the transmittance of light (380 nm) before and after the heating test. Further, by the same method as described above, the photocurable resin composition 2 obtained in Example 2, the photocurable resin composition 3 obtained in Example 3, and the light obtained in Comparative Example 1 A coating film of the curable resin composition 4 was formed, and the heat resistance of the cured film was evaluated from the change in light transmittance before and after the heating test.
  • Table 2 shows the results of evaluating the heat resistance of the cured films formed from each of the photocurable resin compositions 1 to 4 as described above.
  • the photocurable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied to a 10 cm glass substrate by a spin coater (model 1H—DX2, manufactured by MI KASA), dried, and dried. A coating film of / im was formed. This coating film was heated on a hot plate at 90 ° C for 3 minutes. After heating, place the photomask at a distance of 100 // m from the coating film and use a UV aligner (model MA1200, manufactured by Dainippon Screen) equipped with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp to form the same coating film Each of the four regions was irradiated with ultraviolet light at an intensity of 50, 100, 150, 200, and mj / cm 2 (in terms of 405 nm illuminance).
  • the coating film was scraped into a rectangular shape with dimensions of about lmm x 3 mm to partially expose the glass substrate, and a stylus type surface roughness measuring device (Dektak 1600, The film thickness of each irradiated area was measured by Nippon Anelva Co., Ltd.) and used as the film thickness before development.
  • a 0.05 wt% aqueous solution of hydroxylic reamer was applied to the exposed part of the coating film using a spin imager (INK: MODEL: 915, manufactured by Applied Process Technology 1). The exposed part was dissolved and removed, and the remaining exposed part was developed by washing with pure water for 60 seconds.
  • the exposed film was heated at 200 ° C for 30 minutes by clean open (S COV-250 Hy-So, manufactured by Oshitari Research Laboratories). Then, the film thickness of each region of the obtained film was measured by the same method as described above, and was defined as the film thickness after final curing.
  • the residual film ratio was calculated according to the following equation.
  • Residual film ratio (%) (Film thickness after final curing (/ xm) ⁇ Film thickness before development (um)) XI 00
  • the reference residual film ratio was determined as follows. First, the completely exposed film thickness of the photocurable resin composition 1 was measured in the same manner as in the sample except that the entire surface of the coating film was exposed at an intensity of 100 mJ / cm 2 . Next, the coating film exposed to 10 OmjZcm 2 was heated without any development, using the same method as the sample, and the film thickness of the obtained film was measured in the same manner as described above. The final film thickness was obtained. And, The reference residual film ratio was calculated from the determined completely exposed film thickness and the final film thickness without the development step according to the following equation.
  • the minimum exposure amount in which the residual film ratio thus calculated was equal to the reference residual film ratio with an error range of 1% was determined as the minimum exposure amount of the photocurable resin composition 1.
  • the photocurable resin composition 2 obtained in Example 2 the photocurable resin composition 3 obtained in Example 3, and the light obtained in Comparative Example 1
  • a coating film of the curable resin composition 4 was formed, and the film thickness before development, the film thickness after final curing, the completely exposed film thickness, and the final film thickness without the development step were measured.
  • a minimum exposure of ⁇ 4 was determined.
  • the fumarate-based copolymer used as a binder component in the present invention contributes to the structural unit of Formula 1 contributing to heat discoloration resistance and to the acidity and alkali solubility.
  • Units containing acidic functional groups are linked and, if necessary, ethylenically unsaturated bond-containing units that contribute to reaction curability and aromatic carbocycles that contribute to paint film ⁇ It is formed by linking a content unit and an ester group-containing unit that suppresses alkali developability.
  • This fumarate-based copolymer not only has excellent heat discoloration resistance, but also can appropriately adjust the reaction curability, alkali solubility, coatability, and the like by changing the content ratio of each constituent unit. Therefore, this copolymer can be suitably used as one component of a binder of a reaction curable resin composition such as a photocurable or thermosetting resin. In particular, it is possible to form the details of the color filters.
  • the photocurable resin composition for forming the protective film of the color filter, the pixel for RGB, the black matrix or the spacer provided by the present invention contains the fumarate-based copolymer as a binder component. is there.
  • This photocurable resin composition is used to maintain the details of the color filter, for example, a colored layer such as a pixel portion or a black matrix layer, a protective layer covering the colored layer, and a columnar shape for maintaining the cell gap of the liquid crystal panel. Suitable for forming spacers.
  • the photocurable resin composition for forming the protective film of the color filter, the pixel for RGB, the black matrix or the spacer of the present invention causes yellowing when used as the protective film of the color filter or the pixel portion. Difficult and excellent in transparency.
  • the fumarate-based copolymer when contained as a binder component, and if necessary, a polyfunctional polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds is combined and compounded, a crosslinking reaction in the composition is performed.
  • a crosslinking reaction in the composition has a high reaction point density, and is excellent in exposure sensitivity and various physical properties such as coating strength after curing, heat resistance, and chemical resistance.

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Description

明 細 書 カラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリ ックス又はス' 一サーを形成するための光硬化性樹脂組成物、 及びカラー' 技術分野 本発明は、 フマレート系共重合体を含有し、 カラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリックス又はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂 組成物、 及び、 それを用いたカラーフィルターに関する。 背景技術 近年、 パーソナルコンピューターなどのフラッ トディスプレーとして、 カラー 液晶表示装置が急速に普及してきている。 一般にカラー液晶表示装置 (1 0 1 ) は、 図 1に示すように、 カラーフィルター 1と T F T基板等の電極基板 2とを対 向させて l〜1 0 /i m程度の間隙部 3を設け、 当該間隙部 3内に液晶化合物 Lを 充填し、 その周囲をシール材 4で密封した構造をとつている。 カラーフィルター 1は、 透明基板 5上に、 画素間の境界部を遮光するために所定のパターンに形成 されたブラックマトリ ックス層 6と、 各画素を形成するために複数の色 (通常、 赤 (R ) 、 緑 (G ) 、 青 (B ) の 3原色) を所定順序に配列した画素部 7又は最 近ではホログラムを利用した画素部と、 保護膜 8と、 透明電極膜 9とが、 透明基 板に近い側からこの順に積層された構造をとつている。 また、 カラーフィルター 1及びこれと対向する電極基板 2の内面側には配向膜 1 0が設けられる。 さらに 間隙部 3には、 カラーフィルター 1と電極基板 2の間のセルギャップを一定且つ 均一に維持するために、 スぺーサ一として一定粒子径を有するパール 1 1が分散 されている。 そして、 各色に着色された画素それぞれ又はカラーフィルターの背 後にある液晶層の光透過率を制御することによってカラー画像が得られる。 カラーフィルターに形成される保護膜 8は、 カラーフィルターに画素部が設け られる場合には画素部の保護とカラーフィルターの平坦化の役割を果たしてい る。 カラー液晶表示装置では、 カラーフィルターの透明基板表面のうねりに起因 するギャップムラ、 R、 G及び Bの各画素間でのギャップムラ、 或いは各画素内 でのギャップムラなどの存在により透明電極膜 9の平坦性が損なわれると、 色ム ラ或いはコントラス トムラを生じ、 その結果、 画像品質の低下を来たすと言う問 題がある。 従って、 保護膜には高い平坦性が求められる。
スぺーサ一として図 1に示したような微粒子状のパール 1 1を分散させる場 合には、 当該パールは、 ブラックマトリ ックス層 6の背後であるか画素の背後で あるかは関係なく、 ランダムに分散する。 パールが表示領域すなわち画素部に配 置された場合、 パールの部分をバックライトの光が透過し、 また、 パール周辺の 液晶の配向が乱れ、 表示画像の品位を著しく低下させる。 そこで図 2に示すよう に、 パールを分散させるかわり 、 カラーフィ ターの内面側であってブラック マトリックス層 6が形成されている位置と重り合う領域に、 セルギャップに対応 する高さを有する柱状スぺーサー 1 2を形成することが行われるようになって きた。
上記した画素部 7やブラックマトリックス層 6のような着色層、 保護膜 8及び 柱状スぺーサー 1 2は、 樹脂を用いて形成することができる。 着色層は、 各色の 画素やブラックマトリッタスの線ごとに所定のパターンに形成する必要がある。 保護膜 8は、 シール部の密着性や密閉性を考慮すると、 透明基板上の画素部が形 成された領域のみ被覆できるものであることが好ましい。 また、 柱状スぺーサー 1 2は、 ブラックマトリックス層の形成領域内すなわち非表示領域に正確に設け る必要がある。 このため、 硬化させたい領域を選択的に露光した後にアルカリ現 像することができる光硬化性樹脂を用いて着色層、 保護膜及び柱状スぺーサーを 形成することが提案されている。
アル力リ可溶性光硬化性樹脂としては、 例えば、 重量平均分子量が約 2 , 0 0 0で、 アル力リ可溶性を規定するカルボン酸基を有する ο —クレゾールノボラッ クエポキシアタリレート等が知られている。 し力、し、 この樹脂は、 硬化性を規定 するアタリロイル基としてモノマー成分を使用することから、 成膜時の信頼性が 低レ、。すなわち、例えば液晶部へ残留モノマー単位が溶出するなどの恐れがあり、 さらに、 アルカリ現像時の溶出量が多く、 減膜する場合がある。
また、 光硬化性を付与するために (メタ) アタリロイル基等のラジカル重合性 基を化合物の分子構造中に導入する方法としては、 例えば、 ジオール類に過剰の ジィソシァネートを反応させて、 末端にィソシァネート基を残した反応物を調製 し、 この反応物のイソシァネート基に 2—ヒドロキシルェチル (メタ) アタリレ ートなどを反応させてウレタン(メタ)アタリレートを生成させることによって、 末端に (メタ) アタリロイル基等のラジカル重合性基を導入する方法が知られて いる。 しかしながら、 この方法では、 原理的に分子構造の両末端だけにしか (メ タ) アタリロイル基が導入されない。 さらに、 一分子中に (メタ) アタリロイル 基等のラジカル重合性基を 2個以上有する多官能化合物を含有させてラジカル 重合させる方法も考えられるが、 ラジカル重合性基の含有量を制御することはで きず、 ゲル化等の問題もある。
そこで、 本発明者らは、 少なくとも下記式 5で表される構成単位と下記式 6で 表される構成単位とからなる主鎖を有し、 そのカルボキシル基又は水酸基の少な くとも一部に下記式 7で表される (メタ) アタリロイルォキシアルキルイソシァ ネート化合物が'当該化合物のィソシァネート基の反応により結合した光硬化性 樹脂を提案している (日本特許公開公報 2 0 0 0— 1 0 5 4 5 6号) 。 式 5
R10
C -C-
0=0
OH R10
O CORIII
CH. -C H一一- o
式 7
O R13
II I
OCN-R12-0-C-C=CH.
(各式中、 R 1Gは水素または炭素数 1〜5のアルキル基、 R 11は炭素数 2〜4のァ ルキレン基、 R 12はアルキレン基、 および、 R 13は水素またはメチルを示す。 ) 上記提案に係る光硬化性樹脂は、 アル力リ可溶性のカルボキシル基とラジカル 重合性の (メタ) アタリロイル基の量を自由に調節できるという利点を有するも のである。
しかし、 上述した種々のアクリル系硬化性樹脂は、 いずれも耐熱変色性が十分 とは言えない。 カラーフィルタ一は液晶パネルを組み立てる途中で高温に晒され、 例えば、 配向膜を形成する工程においては 2 5 0 °C程度で約 1時間ほど加熱され る。 アクリル系硬化性樹脂を用いてカラーフィルターの着色層や保護膜を形成す る場合には、 このような高温の加熱プロセス中に変色し、 黄変の招来や透明性の 低下などの問題を生じるおそれがある。
本発明は、 かかる事情を考慮して成し遂げられたものであり、 その第一の目的 は、 耐熱変色性に優れ、 微細形状の構造を形成するのに好適な、 カラーフィルタ 一の保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリックス又はスぺーサーを形成するた めの光硬化性樹脂組成物、 特に、 アルカリ現像性の光硬化性樹脂組成物を提供す ることにある。
また、 本発明の第二の目的は、 耐熱変色性や透明性に優れ、 且つ、 細部の寸法 精度や均一性にも優れた性能の良いカラーフィルターを提供することにある。 発明の開示 本発明に係るカラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリック ス又はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂組成物は、 バインダー成分とし て、 少なくとも下記式 1で表される構成単位と酸性官能基を備えた構成単位とが 連結した分子構造を有する共重合体を含有することを特徴とする。 式
Figure imgf000007_0001
(式中、 1^及び1^2は、 それぞれ独立して炭素数 3〜 8の分岐アルキル基若し くは置換分岐アルキル基、 又は、 炭素数 4〜 8のシクロアルキル基若しくは置換 シク口アルキル基を表す。 )
このフマレート系共重合体は優れた耐熱変色性を備えるだけでなく、 各構成単 位の含有割合を変更することによって、 反応硬化性、 アルカリ可溶性、 塗工性な どを適宜に調節できる。 従って、 この共重合体を配合した本発明に係る光硬化性 樹脂組成物により形成された硬化物は、 耐熱変色性に優れており、 黄変などの変 色や透明性の低下を来たさない。
上記フマレート系共重合体中の酸性官能基を備えた構成単位は、 下記式 2で表 される構成単位であることが好ましい。 式 2
Rcoc ClllII
3 H - - o o
GH,
(式中、 R3は水素原子、 メチル基又はカルボキシメチル基である。 ) 上記フマレート系共重合体は、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位をさら に有するのが好ましい。 エチレン性不飽和結合は反応硬化性に寄与する。 また、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位は、 下記式 3で表される構成単位又は下 記式 4で表される構成単位であることが好ましい。 式 3
R4
C
HO—
Figure imgf000008_0001
(式中、 R4及び R 5は水素原子又はメチル基である。 ) 式 4 o CORIII
) 7一 -
R6
I . o
G一
Figure imgf000009_0001
CH
(式中、 R6及び R9は水素原子又はメチル基であり、 R7は炭素数 2乃至 4のァ ルキレン基であり、 R8はアルキレン基である。また、 hは 0又は 1の数である。) 上記式 1で表される構成単位と前記酸性官能基を備えた構成単位の重合割合 は、 共重合体の酸価が 40〜200mgKOHZgとなるように調節するのが好 ましい。
また、 フマレート系共重合体が、 式 1で表される構成単位と前記酸性官能基を 備えた構成単位と共にエチレン性不飽和結合含有単位を有する場合には、 酸価が
40〜 200 m g KOHZgで、 且つ、 エチレン性不飽和結合の含有量が 0. 5 ~2. Ommo 1 Z gとなるように重合割合を調節するのが好ましい。
フマレート系共重合体の重量平均分子量は 5000〜 100000であるこ とが好ましい。
また、 エチレン性不飽和結合を有するフマレート系共重合体と何らかの反応硬 化性化合物を組み合わせて用いる場合には、 フマレート系共重合体と反応硬化性 化合物の間にも架橋結合が形成されるので、 架橋の反応点密度が高くなり露光感 度及び皮膜の強度や硬度が向上する。
カラーフィルターの保護膜、 RGB用画素、 ブラックマトリ ックス又はスぺー サーを形成するための上記光硬化性樹脂組成物は、 2個以上のエチレン性不飽和 結合を有する重合性化合物をさらに含有することが好ましい。 また、 この光硬化 性樹脂組成物は、 必要に応じて、 光重合開始剤をさらに含有していてもよい。 本発明によれば、 上記光硬化性樹脂組成物の硬化膜を 250°Cで 1時間加熱し た時に、 加熱前の 380 nmにおける光線透過率に対する加熱後の同波長におけ る光線透過率の比が 90 %以上であるような、 耐熱性に優れた硬化膜を得ること できる。
本発明に係るカラーフィルターの保護膜、 RGB用画素、 ブラックマトリック ス又はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの 細部、 例えば、 画素部やブラックマトリ ックス層などの着色層、 当該着色層を被 覆する保護層、 及び、 液晶パネルのセルギャップを維持するための柱状スぺーサ 一を形成するのに適しており、 所望の膜厚の着色層、 保護膜及び所望の高さの柱 状スぺーサーを精度よく形成することができる。 図面の簡単な説明 第 1図は、 液晶パネルの一例についての模式的断面図である。
第 2図は、 液晶パネルの別の例についての模式的断面図である。 なお、 各図中の符号の意味は以下の通りである。
液晶パネル (1 0 1) ;液晶パネル (102) ;カラーフィルター (1) ;電 極基板 (2) ;間隙部 (3) ; シール材 (4) ;透明基板 (5) ;ブラックマト リ ックス層(6) ;画素部(7R、 7G、 7B) ;保護膜( 8 ) ;透明電極膜( 9 ) ; 配向膜 (1 0) ; パール (1 1) ;柱状スぺーサー (1 2) 発明を実施するための最良の形態 以下において本発明を詳しく説明する。 なお、 本発明において (メタ) アタリ ルとはアクリル基又はメタクリル基のいずれかであることを意味し、 (メタ) ァ クリロイルとはアタリロイル基又はメタクリロイル基のいずれかであることを 意味する。 本発C CI明においてバインダー成分として用いられる共重合体 (以下において 「フ H o
マレート系 o一共重合体」 と称する場合がある) は、 少なくとも、 下記式 1で表され
C
る構成単位と、 H酸性官能基を備えた構成単位とが連結した分子構造を有するもの である。 式
COOR2
(式中、 R 1及び R2は、 それぞれ独立して炭素数 3〜 8の分岐アルキル基若し くは置換分岐アルキル基、 又は、 炭素数 4〜 8のシクロアルキル基若しくは置換 シク口アルキル基を表す。 )
式 1で表される構成単位 (フマレート単位) は、 主として樹脂の耐熱変色性、 透明性に寄与する成分である。 式 1で表される構成単位を共重合体の主鎖へと導 入するために使用される単量体としては、 下記式 8で表されるフマレートを使用 することができる。 式 8
R1OOC H
C = C
H COOR2
(式中、 R 1及び R2は、 式 1と同じである。 )
式 1及び式 8中の R R2が炭素数 3〜 8の分岐アルキル基若しくは置換分岐 アルキルである官能基の具体例としては、 イソプロピル基、 1一クロロー 2—プ ロピノレ基、 1, 3—ジクロロー 2—プロピノレ基、 sec —プチノレ基、 3—クロロー 2—ブチル基、 tert -ブチル基、 sec—アミル基、 3—ペンチル基、 2 , 3—ジメ チルー 3—ペンチル基、 tert-アミノレ基、 ネオペンチル基、 イソペンチル基、 4 —メチルー 2—ペンチル基、 2—ェチルーへキシル基等が挙げられる。
このような分岐アルキル基及び z又は置換分岐アルキル基を有するフマレー トの具体例としては、 ジイソプピ^ /フマレート、 ジ- sec—プチノレフマレート、 ジ 一 tert—ブチノレフマレート、 ジイソブチノレフマレート、 ジ一 sec—アミルフマレ 一ト、ジー tert—アミルフマレート、ジー 4ーメチル一 2—ペンチルフマレート、 ジ一 sec—アミノレフマレート、 ジー 3—ペンチノレフマレート、 ビス (2, 4ージ メチルー 3ペンチノレ) フマレート、 イソプロピル一sec—ブチノレフマレート、 ter t一プチルー 4一メチルー 2—ペンチノレフマレート、 ィソプロピノレ一 tert—プチ ノレフマレート、 sec—ブチノレー tert—プチノレフマレート、 sec—ブチノレ一 tert—ァ ミノレフマレート、 ジ一 4ーメチノレ一ペンチノレフマレート、 tert—プチノレ一イソァ ミルフマレート等が挙げられる。
式 1及び式 8中の R R2が炭素数 4〜 8のシクロアルキル基若しくは置換シ クロアルキル基である官能基の具体例としては、 シクロプチル基、 シクロペンチ ノレ基、 シクロへキシノレ基、 シクロへプチノレ基、 4一クロ口一シクロへキシノレ基、 4一 tert—プチル一シクロへキシノレ基、 イソボノレ-ノレ基、 ポゾレニノレ基、 ノノレボニ ル基等が挙げられる。
このようなシク口アルキル基及び z又は置換シク口アルキル基を有するフマ レートの具体例としては、 ジシクロブチノレフマレート、 ジシク口ペンチノレフマレ ート、 ジシクロへキシノレフマレート、 ジシク口へプチルフマレート、 ジシクロォ クチノレフマレート、 ビス ( 4一クロローシク口へキシノレ) フマレート、 ビス ( 4 一 tert—プチルーシクロへキシル) フマレート、 ジイソポルニノレフアレート、 ジ ポルニルフマレート、 ジノルポニルフマレート等が挙げられる。
式 1中の R 1がアルキル基で、 R 2がシク口アルキル基であるフマレートの具体 例としては、 ィソプロピルーシクロブチルフマレート、 1一クロ口一 2—プロピ ノレーシクロペンチノレフマレート、 1 , 3ージクロロ一 2—プロピノレ一シク口へキ シノレフマレート、 s e c—ブチノレーシクロへキシノレフマレート、 3—クロロー 2— プチノレ一シク口へキシノレフマレート、 tert-プチノレ一シク口ペンチノレフマレ一ト、 t ert—ブチノレシク口へキシノレフマレート、 s ec—ァミノレ一シク口へキシルフマレ ート、 3—ペンチノレ一ボルエルフマレート、 2 , 3—ジメチル一 3—ペンチル一 ァダマンチルフマレート、 t ert-ァミノレーシク口へキシノレフマレート、 ネオペン チノレーシク口ペンチノレフマレート、 4ーメチノレー 2—ペンチノレーシク口へキシノレ フマレート、 2ーェチルーへキシルーシク口へキシルフマレート等が挙げられる c 前記フマレートの中でも、 ジィソプロピルフマレート、 ジ -sec—プチルフマレ ート、 ジ一 tert—ブチゾレフマレート、 ジシクロへキシノレフマレート、 ジー tert— アミノレフマレートが好ましい。
酸性官能基を備えた構成単位 (酸性官能基含有単位) は、 アルカリ現像性に寄 与する成分であり、 その含有割合は、 樹脂に要求されるアルカリ可溶性の程度に より調整される。 酸性官能基を有する構成単位を共重合体の主鎖へと導入するた めに使用される単量体としては、 エチレン性不飽和結合と酸性官能基を有する化 合物を使用することができる。 酸性官能基は、 通常はカルボキシル基であるが、 アルカリ現像性に寄与できる成分であればカルボキシル基以外のものでもよい。 酸性官能基を有する構成単位としては、 下記式 2で表される構成単位が好まし い。 式 2
R3 GH2一?
0= 0
OH
(式中、 R3は水素原子、 メチル基又はカルボキシメチル基である。 ) 式 2の構成単位を導入するために使用される単量体としては、 アクリル酸、 メ タクリル酸又はィタコン酸を用いることができる。
本発明に用いられる共重合体は、 式 1で表される構成単位 (フマレート単位) と、 酸性官能基を備えた構成単位 (酸性官能基含有単位) を必須の主鎖構成成分 として含有するが、 他の共重合成分を主鎖に含んでいてもよい。 主鎖には、 例え ば、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位、 芳香族炭素環を備えた構成単位、 及び/又は、 エステル基を備えた構成単位が含有されていてもよい。
エチレン性不飽和結合を備えた構成単位(エチレン性不飽和結合含有単位)は、 樹脂の反応硬化性に寄与する成分であり、 その含有割合は要求される硬化性の程 度により調整される。 硬化性に寄与するエチレン性不飽和結合は、 主鎖連結を形 成するための重合条件の下で一緒に共重合し得るので、 共重合体の主鎖部分を形 成した後で、 適切な官能基を介して共重合体の主鎖にペンダント状に導入する。 エチレン性不飽和結合含有単位としては、 下記式 3で表されるものが好ましい。 式 3
Figure imgf000014_0001
(式中、 R4及び R5は水素原子又はメチル基である。 )
式 3の構成単位を共重合体に導入するためには、 先ず、 フマレートと (メタ) アタリル酸又はィタコン酸を共重合して共重合体の主鎖部分を形成した後、 上記 (メタ) アクリル酸又はィタコン酸由来のカルボキシル基にエポキシ基含有 (メ タ) アタリレートを反応させればよい。 ただし、 (メタ) アクリル酸又はイタコ ン酸由来のカルボキシル基が少なくなり過ぎるとアル力リ現像性が不足するの で、 エポキシ基含有 (メタ) アタリレートの量を適切に調節する必要がある。 エポキシ基含有 (メタ) アタリレートとしては、 下記式 9で表されるグルシジ ル又はメチルダルシジル (メタ) アタリレートや、 下記式 1 0で表される脂環族 エポキシ化合物を例示することができる。 式 9のグルシジルメタクリレートとし てはプレンマー G H (商品名、 日本油脂 (株) 製) 、 メチルダルシジルメタタリ レートとしてはサイクロマー M—GMA (CYCLOMER M-GMA) (商品名、 ダ ィセル化学工業 (株) 製) が市販され、 式 1 0の脂環族エポキシ化合物としては サイクロマー M 1 0 0及ぴ A 2 0 0 (CYCLOMER Ml 00及び CYCLOMER A200) (商品名、 ダイセル化学工業 (株) 製) が市販されている。 式 9
R14
R15
GH„ = G
COCH2C—— CH2
\
(式中、 R 14及び R 15は各々独立して水素原子又はメチル基である。 ) 式 1 0
Figure imgf000015_0001
(式中、 R 16は水素原子又はメチル基である。 サイクロマー M l 0 0は R 16がメ チル基であり、 サイクロマー A 2 0 0は R 16が水素原子である。 )
また、 エチレン性不飽和結合含有単位としては、 下記式 4で表される構成単位 も好ましいものの一つである。 式 4
R6
CH2— C
Figure imgf000016_0001
CH2
(式中、 R6及び R9は水素原子又はメチル基であり、 R7は炭素数 2乃至 4のァ ルキレン基であり、 R8はアルキレン基である。 また、 hは 0又は 1の数である。) 式 4に含まれる R7は、炭素数 2乃至 4のアルキレン基であり、 例えば、ェチレ ン基、 プロピレン基、 ブチレン基等を例示できる。 R 8は好ましくは炭素数 2乃至 6のアルキレン基である。
式 4の構成単位を共重合体に導入するためには、先ず、 フマレート及び(メタ) アクリル酸又はィタコン酸と共に下記式 1 1で表されるヒドロキシアル'キル (メ タ) アタリレートを共重合して共重合体の主鎖部分を形成する。 式 1
Figure imgf000017_0001
(式中、 R 6及び R7は式 4と同じである。 )
その後、 上記ヒ ドロキシアルキル (メタ) アタリレート由来の水酸基に下記式 1 3で表されるイソシァネート化合物を反応させればよい。 C
H
式 21一一 3
C,
Figure imgf000018_0001
(式中、 R 8はアルキレン基であり、 R 9は水素原子又はメチル基である。 また、 hは 0又は 1の数である。 )
式 1 3の (メタ) アタリロイルォキシアルキルィソシァネートとしては、 メタ クリ ロイルイソシァネート、 2—アタリロイルォキシェチルイソシァネート、 2 一メタタリロイルェチルイソシァネ一ト等が例示される。 これらの中では、 (メ タ) ァクリロイル基が炭素数 2〜6のアルキレン基を介してィソシァネート基
( - N C O ) と結合したもの、 例えば、 2—アタ リロイルォキシェチルイソシァ ネート、 2—メタタリロイルェチルイソシァネート等を使用するのが好ましレ、。 これらのうち、メタタリロイルイソシァネートは、下記式 1 4で表され、例えば、 日本ペイント (株) 製 「MA I」 等の商品名で市販されている。 また、 2—メタ クリロイルェチルイソシァネートは、 例えば、 昭和電工 (株) 製 「力レンズ M O
I J 等の商品名で市販されている。 式 1 4
G— NCO
II
0
上記の例では、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位を共重合体に導入する 部位が、 水酸基や力ルポキシル基を有するモノマー由来の主鎮構成単位であるが, 逆に、 ィソシァネート基ゃエポキシ基を有するモノマー由来の主鎖構成単位を導 入部位として利用することも出来る。
例えば、 上記式 1 4で表されるメタクリロイルイソシァネート、 上記式 9で表 されるグリシジル (メタ) アタリレート、 上記式 1 0で表される脂環族エポキシ 化合物等を用いることが出来る。 これらは、 先に例示したモノマーと同様、 反応 制御や製造が容易である。 これらのモノマーを用いて共重合体の主鎖部分を形成 した後、 主鎖部分に導入されたイソシァネート基ゃエポキシ基と反応し得る官能 基 (水酸基やカルボキシル基) とエチレン性不飽和結合とを有する化合物を主鎖 部分に反応させることによって、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位を導入 することができる。
芳香族炭素環を備えた構成単位 (芳香族炭素環含有単位) は、 共重合体をカラ 一フィルターの保護膜等の塗膜形成樹脂として用いる際に、 当該樹脂に塗膜性を 付与する成分である。 芳香族炭素環含有単位を共重合体の主鎖へと導入するため に使用される単量体としては、 エチレン性不飽和結合と芳香族炭素環とを有する 化合物を使用することができる。
芳香族炭素環含有単位としては、 下記式 1 5で表される構成単位が好ましい。 式 1 5
R 7
CH2- C
R18
(式中、 R 17は水素原子又はメチル基であり、 R 18は芳香族炭素環を示す。 ) ±記式中に含まれる R 18は芳香族炭素環であり、 例えば、 フエ-ル基、 ナフチ ル基等が例示される。 この構成単位を導入するために使用される単量体としては、 例えば、 スチレン、 α—メチルスチレンを例示でき、 また、 その芳香族環は、 塩 素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル基、 ェチル基等のアルキル基、 アミノ基、 ジ 9
18 アルキルアミノ基等のアミノ基、 シァノ基、 カルボキシル基、 スルフォン酸基、 燐酸機等で置換されていてもよい。
エステル基を備えた構成単位 (エステル基含有単位) は、 樹脂のアルカリ現像
CORII
性を抑制する成分 M一一である。 エステル基含有単位を共重合体の主鎖へと導入するた o
めに使用される単量体としては、 エチレン性不飽和結合とエステル基とを有する 化合物を使用することができる。
エステル基含有単位としては、 下記式 1 6で表されるものが好ましい。 式 1 6
R 19
CH,-C
(式中、 R 19は水素原子又はメチル基であり、 R2°はアルキル基またはァラルキル 基を示す。 )
上記式中に含まれる R2°はアルキル基またはァラルキル基であり、 例えば、 炭 素数 1乃至 1 2のアルキル基、 ベンジル基、 フエ-ルェチル基等のァラルキル基 が例示される。 この構成単位を導入するために使用される単量体としては、 例え ば、 (メタ) ァクリル酸メチル、 (メタ) アクリル酸ェチル、 (メタ) アクリル 酸プチル、 (メタ) アクリル酸一 2—ェチルへキシル、 (メタ) ァクリル酸フエ ニル、 (メタ) ァクリル酸シク口へキシル、 (メタ) アクリル酸ジシクロペンタ ニル、 (メタ) ァクリル酸ジシクロペンタニルォキシェチル、 (メタ) アクリル 酸イソボニル、 (メタ) アクリル酸ベンジル、 (メタ) アタリル酸フエ二ルェチ ル等の (メタ) アクリル酸のエステル類が例示される。
各構成単位を共重合体の主鎖へと導入するために使用される単量体は、 各構成 単位ごとに、 それぞれ例示したものを単独でも、 また 2種以上を混合して使用し てもよい。
特に好ましい共重合体としては、 式 1で表される構成単位と、 酸性官能基を備 えた構成単位と共に、 エチレン性不飽和結合を備えた構成単位が連結してなり、 反応硬化性を有する共重合体 (硬化性樹脂) 、 具体的には、 下記式 1 7又は下記 式 1 8で表されるランダムc ■共 I重合体又はプロック共重合体、 特にランダム共重合 o b
体を例示することができる。 なお、 これらの共重合体の主鎮は、 必要に応じて他 の主鎖構成単位を含んでいてもよい H。 o - 式 1 7 coccG R lIlll
H H
o
D c
H
COOR1 R3
CH-CH ■C GH。
| 」3
COOR2
OH
R5
0-C-C = CH,
II
0
(式中、 R 1乃至 R 5は上記と同じである。 a、 b、 cは整数である。 )
式 1 8
Figure imgf000022_0001
(式中、 R1乃至 R3、 R6乃至 R9及び hは上記と同じである。 a、 b、 cは整数 である。 )
本発明において、 共重合体の分子構造を構成する各構成単位の含有割合は適宜 調節される。 式 1で表される構成単位の含有割合が少なすぎる場合には耐熱変色 性が十分に向上せず、 多すぎる場合にはアル力リ現像性が低下するという問題が ある。 また、 酸性官能基含有単位が少なすぎる場合にはアルカリ現像性が不十分 となり、 多すぎる場合には溶剤溶解性が低下するという問題がある。 また、 ェチ レン性不飽和結合が少なすぎる場合には反応硬化性が不十分となり、 多すぎる場 合には基板密着性が低下するという問題がある。
具体的には、 上記フマレート系共重合体中に式 1で表される構成単位と前記酸 性官能基を備えた構成単位を含有し、 酸価が好ましくは 40〜20 OmgKOH Zg、 特に好ましくは 70〜1 5 OmgKOH/ gとなるように重合割合を調節 する。
また、 フマレート系共重合体が、 式 1で表される構成単位と前記酸性官能基を 備えた構成単位と共にエチレン性不飽和結合含有単位を有する場合には、 酸価が 好ましくは 40〜 20 Omg KOH/g、 特に好ましくは 70〜; 1 50mgK:O HZ gで、 且つ、 エチレン性不飽和結合の含有量が好ましくは 0. 5~2. Om mo 1 /g、 特に好ましくは 0. 8〜1. 6 mm o 1 Zgとなるように重合割合 を調節する。
上記のフマレート系共重合体を製造するには、 先ず、 式 1で表される構成単位 と、 酸性官能基を備えた式 2のような構成単位からなり、 さらに必要に応じて、 エチレン性不飽和結合を有するペンダント構造を後から導入できる官能基を有 する構成単位、 芳香族炭素環を備えた式 1 5のような構成単位、 エステル基を備 えた式 1 6のような構成単位、 或いは、 その他の構成単位を含有する主鎖を有す る重合体 (原料重合体) を製造し、 それから当該原料重合体にエチレン性不飽和 結合と共に何らかの別の官能基を有する化合物を反応させて、 エチレン性不飽和 結合のペンダント構造を導入すればよい。
ただし、 酸性官能基含有単位としてカルボキシル基を備えた式 2のような構成 単位を用い、 エチレン性不飽和結合含有単位としてグリシジル (メタ) アタリ レ ートを用いる場合のように、 酸性官能基含有単位がエチレン性不飽和結合のペン ダント連結部位としても機能する場合には、 原料重合体の主鎮は、 酸性官能基含 有単位とは別に、 ェチレン性不飽和結合を後から導入するために必要な官能基を 有する構成単位を含有していなくてもよい。
原料重合体を製造するために用いられる重合用溶媒としては、 水酸基、 ァミノ 基等の活性水素を有しない溶媒が好ましく、 例えば、 テトラヒドロフラン等のェ 一テル類; ジエチレングリコーノレジメチノレエ一テル、 ジエチレングリコーノレジェ チノレエーテノレ、 ジェチレングリコールメチゾレエチノレエーテノレ等のグリコーノレエー テル類、 メチルセ口ソルブァセテ一ト等のセロソルプエステル類やプロピレンク、' リコールモノメチルエーテルアセテート、 酢酸一 3—メ トキシブチル等が挙げら れ、 芳香族炭化水素類、 ケトン類、 エステル類等も用いることができる。
原料重合体を製造するために用いられる重合開始剤としては、 一般的にラジカ ル重合開始剤として知られているものを使用することができる。 その具体例とし ては、 2 , 2, 一ァゾビスイソブチロニトリノレ、 2, 2, ーァゾビス一 ( 2, 4 ージメチルパレロニトリル) 、 2 , 2 ' —ァゾビス一 (4—メ トキシ一 2, 4 - ジメチルバレロニトリル) 等のニトリル系ァゾ化合物 (二トリル系ァゾ系重合開 始剤) ; ジメチル 2 , 2 ' ーァゾビス (2—メチルプロピオネート) 、 2 , 2 , —ァゾビス ( 2, 4, 4 _トリメチルペンタン)等の非二トリル系ァゾ化合物(非 二トリル系ァゾ系重合開始剤) ; t—へキシルペルォキシビバレート、 t e r t —プチルペルォキシピバレート、 3, 5 , 5—トリメチルへキサノィルペルォキ シド、 オタタノイノレペルォキシド、 ラウロイルぺノレォキシド、 ステアロイルペル ォキシド、 1 , 1, 3 , 3—テトラメチルブチルペルォキシ 2 _ェチルへキサノ エート、 サクシニックぺノレオキシド、 2, 5—ジメチノレ一 2, 5—ジ (2—ェチ ノレへキサノイスレぺノレオキシ) へキサン、 1ーシクロへキシノレ一 1—メチ /レエチノレ ペルォキシ 2—ェチノレへキサノエ一ト、 t一へキシノレぺノレオキシ 2ーェチルへキ サノエー ト、 4ーメチルべンゾィノレペルォキシド、ベンゾイノレぺノレオキシド、 1, 1 ' —ビス一 ( t e r t—プチルペルォキシ) シクロへキサン等の有機過酸化物 (パーオキサイド系重合開始剤) ;および過酸化水素が挙げられる。 ラジカル重 合開始剤として過酸化物を使用する場合には、 これと還元剤とを組み合わせてレ ドックス型重合開始剤として使用してもよい。
原料重合体の製造においては、 重量平均分子量を調節するために分子量調節剤 を使用することができ、 例えば、 クロ口ホルム、 四臭化炭素等のハロゲン化炭化 水素類; n—へキシルメルカプタン、 n—ォクチルメルカプタン、 n—ドデシル メルカプタン、 t e r t—ドデシルメルカプタン、 チォグリコール酸等のメルカ プタン類; ジメチルキサントゲンジスルフィ ド、 ジイソプロピルキサントゲンジ スノレフィ ド等のキサントゲン類;ターピノーレン、 aーメチノレスチレンダイマー 等が挙げられる。
原料重合体は、 ランダム共重合体およびプロック共重合体のいずれであってよ い。 ランダム共重合体を製造する場合には、 各構成単位を誘導するそれぞれの単 量体、 触媒等を含有する配合組成物を、 溶剤を入れた重合槽中に 8 0〜 1 1 0 °C の温度条件で 2 ~ 5時間かけて滴下し、 熟成させることにより重合させることか できる。
原料重合体のポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に 「重量平均分子量」 または 「M w J という。 ) が 5 , 0 0 0〜 1 0 0, 0 0 0の範囲のものが好まし く、 酸価が 4 0 m g K O H/ g〜 2 0 0 m g K〇 H/ g、 水酸基価が 5 m g K O HZ g〜4 0 O m g K O H/ gのものがより好ましい。
原料重合体にエチレン性不飽和結合を導入する反応は、 原料重合体の分子構造 と、 エチレン性不飽和結合を導入する単位の分子構造との組み合わせに応じて 様々である。
式 1で表される構成単位と式 2で表されるカルボキシル基含有単位からなり 必要に応じて他の構成単位を含有する原料重合体に、 エチレン性不飽和結合の導 入単位としてグリシジル (メタ) アタリレートを反応させる場合には、 当該ダリ シジル (メタ) アタリレートを少量の触媒の存在下、 原料重合体の溶液中に全量 を一度に投入してから一定時間反応を続けるカ 或いは、 少しずつ滴下すること によって、 式 1 7で表される共重合体が得られる。
また、 式 1で表される構成単位と式 2で表されるカルポキシル基含有単位と式 1 2で表される水酸基含有単位からなり必要に応じて他の構成単位を含有する 原料重合体に、 エチレン性不飽和結合の導入単位として式 1 3で表されるイソシ ァネート化合物を反応させる場合には、 当該ィソシァネート化合物を少量の触媒 の存在下、 原料重合体の溶液中に、 全量を一度に投入してから一定時間反応を続 ける力、 或いは、 少しずつ滴下することによって、 式 1 8で表される共重合体が 得られる。 この場合、 触媒としてはラウリン酸ジブチル錫等が用いられ、 また、 p—メ トキシフエノ一ズレ、 ヒ ドロキノン、 ナフチノレアミン、 t e r t一プチノレ力 テコール、 2, 3ージー t e r t—プチノレ p—クレゾール等の重合禁止剤が必要 に応じて使用される。 '
エチレン性不飽和結合を有するィソシァネート化合物は、 原料重合体のアルコ ール性水酸基に対してイソシァネート基を介して付加反応をし、 ウレタン結合を 形成する。 その結果、 原料重合体の主鎖における式 1 2で表される水酸基含有単 位の部分にェチレン性不飽和結合が導入され、 式 4の構成単位が形成される。 また、 エチレン性不飽和結合を有するイソシァネート化合物は、 原料重合体の カルボキシル基に対してィソシァネート基を介して炭酸ガスの脱離を伴う縮合 反応をし、 アミド結合を形成する。 その結果、 原料重合体の主鎖における式 2で 表されるカルボキシル基含有単位の部分にもェチレン性不飽和結合が導入され る。 ただし、 カルボキシル基に対するイソシァネート化合物の反応性は、 アルコ ール性水酸基に対する同ィソシァネート化合物の反応性と比べて非常に小さい ので、 エチレン性不飽和結合は主としてアルコール性水酸基含有単位の部分に導 入され、 カルボキシル基含有単位の部分に導入されるエチレン性不飽和結合は概 して非常に少量である。 従って、 ほとんどの力ルポキシル基は残存し、 アルカリ 現像性は失われない。
このようにして得られるフマレート系共重合体を、 カラーフィルターの着色層、 当該着色層を被覆する保護膜または液晶パネルのセルギャップを維持するため の柱状スぺーサーを形成するために用いる場合には、 GPC (ゲルパーミエーシ ヨンクロマトグラフィー) で測定したポリスチレン換算重量平均分子量が 5, 0 00〜100, 000、 好ましくは 8, 000〜70, 000の範囲に調節する のが好ましい。 重量平均分子量が 5, 000より小さいと現像性が良すぎてパタ ーン露光時のパターン形状を制御しにくく、 また、 パターンが作製できる場合で も最終的な膜厚が減る (膜減り) 等の問題がある。 一方、 重量平均分子量が 1 0 0, 000より大きいと、 レジス ト化した時の粘度が高くなりすぎて塗工適性が 低下したり、 現像性が悪くなりパターンが抜けにくくなるなどの問題がある。 フマレート系共重合体の酸価は 40 m g KOH/ g〜 200 m g KOH/g とするのが好ましく、 70mgKOHZg〜l 5 Omg KOH/gとするのがよ り好ましい。 酸価はアル力リ現像性と関係しており、 酸価が低すぎると現像性が 悪化し、 残渣などの問題を生じる。 一方、 酸価が高すぎると現像性が良すぎてパ ターン露光時のパターン形状を制御しにくい等の問題がある。 フマレート系共重 合体において水酸基価は、 5mg KOHZg〜400 m g KO H/ gの範囲に調 節できる。
本発明に用いられるフマレート系共重合体は、 耐熱変色性に寄与する式 1の構 成単位と、 酸性やアルカリ可溶性に寄与する酸性官能基含有単位とが連結し、 さ らに必要に応じて、 反応硬化性に寄与するエチレン性不飽和結合含有単位や、 塗 膜性に寄与する芳香族炭素環含有単位や、 アルカリ現像性を抑制するエステル基 含有単位が連結してなるものであり、 優れた耐熱変色性を備えるだけでなく、 こ れら各構成単位の含有割合を変更することによって、 反応硬化性、 アルカリ可溶 性、 塗工性などを適宜に調節できる。
従って、 上記フマレート系共重合体は、 カラーフィルターの保護膜、 R G B用 画素、 ブラックマトリックス又はスぺーサーを形成するためのアルカリ現像可能 な光硬化性樹脂組成物のバインダー成分として好適に用いることができる。 フマ レート系共重合体を用いた光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの細部、 特 に、 カラーフィルターの着色層、 保護膜または液晶パネルのセルギャップを維持 するための柱状スぺーサーを形成するのに適しているが、 耐熱変色性に優れてお り黄変を来たし難いので、 そのなかでも画素部や保護膜などの高い透明性を要求 される部分を形成するのに非常に適している。
以下において、 フマレート系共重合体を配合してなるカラーフィルターの保護 膜、 R G B用画素、 ブラックマトリックス又はスぺーサーを形成するための光硬 化性樹脂組成物について詳しく説明する。
フマレート系共重合体に、 必要に応じて光硬化性化合物、 光重合開始剤、 增感 剤などを配合することによって、 アルカリ現像可能な光硬化性樹脂組成物を調製 することができる。 フマレート系共重合体がエチレン性不飽和結合含有単位を有 する場合には、 エチレン性不飽和結合が光照射により架橋結合を形成し得るので、 光硬化性化合物を配合しなくても光硬化性樹脂組成物として用いることが可能 である。 ただし、 その場合であっても、 反応性や架橋密度を向上させるためには 光硬化性化合物を配合するのが好ましい。
本発明において光硬化性樹脂組成物には、 フマレート系共重合体を固形分比で、 通常 5〜8 0重量0 /0、 好ましくは 1 0〜5 0重量0 /0含有させる。 フマレート系共 重合体の含有量が 8 0重量%よりも多いと粘度が高くなりすぎ、 その結果、 流動 性が低下し塗布性に悪くなる場合がある。 また、 フマレート系共重合体の含有量 が 5重量%よりも少ないと、 粘度が低くなりすぎ、 その結果、 塗布乾燥後の塗膜 安定性が不十分であり、 露光、 現像適性を損なう等の問題を生じる場合がある。 上記の光硬化性化合物としては、 2個以上のエチレン性不飽和結合を有する多 官能重合性化合物が好ましく用いられる。 特に、 多官能アタリレート系のモノマ 一又はオリゴマ一が好ましく用いられ、 例えば、 エチレンダリコールジ (メタ) アタリ レート、 ジエチレングリ コールジ (メタ) アタリ レ ト、 プロピレンダリ コールジ (メタ) アタ リ レート、 ジプロピレングリコールジ (メタ) アタリ レー ト、 ポリエチレングリ コールジ (メタ) アタリ レー ト、 ポリプロピレングリコー ルジ (メタ) アタ リ レート、 へキサンジ (メタ) アタリ レート、 ネオペンチルダ リ コールジ (メタ) アタリ レート、 グリセリンジ (メタ) アタ リ レート、 グリセ リントリ (メタ) アタリ レート、 トリメチロールプロパントリ (メタ) アタリ レ 一ト、 1, 4一ブタンジオールジアタリ レート、 ペンタエリスリ トーノレ (メタ) アタリ レート、 ジペンタエリスリ トールへキサ (メタ) アタリ レートなどを例示 することができる。 これらの成分は 2種以上を組み合わせて使用してもよい。 上記の多官能重合性化合物は、 3個以上のエチレン性不飽和結合を有するモノ マーを含むことが好ましく、 その含有量は多官能重合性化合物の使用量の約 3 0 〜 9 5重量 °/0を占めることが好ましい。
また、 これらの多官能重合性化合物には、 反応希釈剤としてメチル (メタ) ァ タリ レート、 ェチル (メタ) アタリ レート、 プロピル (メタ) アタリ レート、 プ チル (メタ) ァクリ レート、 ペンチル (メタ) ァク V レート、 ェチルへキシル (メ タ) アタリ レート、 スチレン、 メチルスチレン、 N—ビニルピロリ ドンなどの単 官能性モノマ一を添加することができる。
多官能重合性化合物は、 光硬化性樹脂組成物中に固形分比 3〜8 0重量%、 好 ましくは 5〜7 5重量%含有される。 多官能重合性化合物が 3重量。 /0未満になる と、 形成される膜の接着強度、 耐熱性等の各種物理的強度が不十分になるという 不都合が生じ、 また、 この値が 8 0重量。 /0を超えると光硬化性樹脂組成物の安定 性が低下すると共に、 形成される膜の可撓性が不十分になるという不都合が生じ る。 さらに、 現像液に対する溶解特性を向上させるためにもこの割合は必要で、 上記範囲から外れる場合には、 パターン解像はされるがモノマー硬化速度が大き くなり、 パターン周囲に対してスカムやひげを生じる。 さらに上記範囲外におい て、 ひどい場合には部分的な膨潤 .剥離からくるレジス ト再付着が生じ、 正確な パタ一ン形成を阻害することがある。 さらに本発明の光硬化性樹脂組成物の中には、 耐熱性、 密着性、 耐薬品性 (特 に耐アルカリ性) の向上を図る目的で、 必要に応じて、 エポキシ基を分子内に 2 個以上有する化合物 (エポキシ樹脂) を配合することができる。 エポキシ樹脂と しては、 例えば、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂としてェピコート 1 00 1、 1002、 1003, 1004, 1 007、 1009、 101 0 (商品名、 ジャ パンエポキシレジン (株) 製) など、 ビスフエノール F型エポキシ樹脂としてェ ピコート 807 (商品名、 ジャパンエポキシレジン (株) 製) など、 フエノール ノボラック型エポキシ樹脂として EP PN 201、 202 (商品名、日本化薬(株) 製) 、 ェピコート 1 54 (商品名、 ジャパンエポキシレジン (株) 製) など、 ク レゾールノボラック型エポキシ樹脂として EOCN 102、 1 03 S、 104 S、 1020、 1025、 1027 (商品名、 日本化薬 (株) 製) 、 ェピコ一ト 1 8 O S (商品名、 ジャパンエポキシレジン (株) 製) などを例示できる。 さらに、 環式脂肪族エポキシ樹脂や脂肪族ポリグリシジルエーテルを例示することもで さる。
これらの中では、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂、 ビスフエノール F型ェポ キシ樹脂、 フエノールノポラック型エポキシ樹脂、 クレゾールノポラック型ェポ キシ樹脂が好ましい。 これらのエポキシ基を分子内に 2個以上有する化合物の多 くは高分子量体であるが、 ビスフエノール Aやビスフエノール Fのグリシジルェ 一テルは低分子量体であり、 そのような低分子量体は特に好ましい。 また、 ダリ シジル (メタ) アタリレート、 ォキセタン (メタ) アタリレート、 脂環式ェポキ シ(メタ)ァクリ レート等を樹脂骨格中に含むァクリル共重合体等も有効である。 このようなエポキシ樹脂を光硬化性樹脂組成物中に配合する場合には、 固形分 比で、 通常は 60重量%以下、 好ましくは 5〜40重量%の割合で含有される。 エポキシ樹脂の含有量が 60重量%を超えると、 エポキシ樹脂量が多くなりすぎ、 光硬化性樹脂組成物の保存安定性、 現像適正が低下する場合がある。 また、 ェポ キシ樹脂は、 光硬化性樹脂組成物の乾燥塗膜のタックを除去するためにも有効で あり、 添加量 5重量%程度で十分な効果が発言する。 エポキシ樹脂は、 露光 'ァ ルカリ現像後においても反応することなく塗膜中に残存している酸性基と、 加熱 処理によって反応し、 塗膜に優れた耐ァルカリ性を付与することになる。
光重合開始剤としては、 紫外線、 電離放射線、 可視光、 或いは、 その他の各波 長、 特に 3 6 5 n m以下のエネルギー線で活性化し得るラジカル重合開始剤を好 ましく用いることができる。 ラジカル重合開始剤は、 例えば紫外線のエネルギー によりフリ一ラジカルを発生する化合物であって、 ベンゾイン、 ベンゾフエノン などのベンゾフエノン誘導体又はそれらのエステルなどの誘導体;キサントン 並びにチォキサントン誘導体;ク口ロスルフォニル、 クロロメチル多核芳香族化 合物、 クロロメチル複素環式化合物、 クロロメチルベンゾフエノン類などの含ハ ロゲン化合物; トリアジン類; フルォレノン類;ハロアルカン類;光還元性色 素と還元剤とのレドックスカツプル類;有機硫黄化合物;過酸化物などがある。 好ましくは、 ィルガキュア一 1 8 4、 ィルガキュア一 3 6 9、 ィルガキュア一 6 5 1、 ィルガキュア一 9 0 7 (商品名、 チバ 'スペシャルティー 'ケミカルズ社 製) 、 ダロキュア一 1 1 7 3 (商品名、 チバ■スペシャルティー -ケミカルズ社 製) 、 アデ力 1 7 1 7 (商品名、 旭電化工業 (株) 製) 、 2—メチルー 1一 (4 一メチルチオフエ二ノレ) 一 2—モノレホリノプロパノン一 1、 2 , 2, -ビス ( o 一クロ口フエ二ノレ) 一 4 , 5, 4 ' —テトラフエエノレー 1, 2, ービイミダゾー ル (黒金化成 (株) 製) などのケトン系及びビイミダゾール系化合物等を挙げる ことができる。 これらの開始剤を 1種のみ又は 2種以上を組み合わせて用いるこ とができる。 2種以上を併用する場合には、 吸収分光特性を阻害しないようにす るのがよい。
ラジカル重合開始剤は、 光硬化性樹脂組成物中に固形分比として、 通常、 0 . 0 5〜1 8重量%、 好ましくは 0 . 1〜1 3重量。 /0含有される。 ラジカル重合開 始剤の添加量が 0 . 0 5重量%未満になると光硬化反応が進まず、 残膜率、 耐熱 性、 耐薬品性などが低下する傾向がある。 また、 この添加量が 1 8重量%を超え るとベース樹脂への溶解度が飽和に達し、 スピンコーティング時や塗膜レベリン グ時に開始剤の結晶が析出し、 膜面の均質性が保持できなくなってしまい、 膜荒 れ発生と言う不具合が生じる。
なお、 光硬化性榭脂組成物を調製するにあたって、 重合開始剤は、 前記フマレ 一ト共重合体を含有する光硬化性樹脂組成物に最初から添加しておいてもよい 力 比較的長期間保存する場合には、 使用直前に光硬化性樹脂組成物中に分散或 いは溶解することが好ましい。
光感度の向上を期待したい場合には、 増感剤を添加してもよい。 用いる増感剤 としては、 スチリル系化合物或いはクマリン系化合物が好ましい。 具体的には、
2 - ( p—ジメチルアミノスチリル) キノ リン、 2— ( p—ジェチルアミノスチ リル) キノリン、 4一 ( p—ジメチルアミノスチリル) キノ リン、 4一 ( p—ジ ェチルアミノスチリル) キノ リン、 2— (p—ジメチルアミノスチリル) 一 3,
3— 3 H—インドール、 2— (p—ジェチルアミノスチリル) 一 3 , 3 - 3 H - インドール、 2一 ( p—ジメチノレアミノスチリノレ) ベンズォキサゾール、 2 - ( ρ
-ジェチノレアミノスチリノレ) 一ベンズォキサゾーノレ、 2一 ( ρ—ジメチノレアミノ スチリノレ) ベンズイミダゾーノレ、 2— (ρ—ジェチノレアミノスチリル) 一べンズ ィミダゾールなどが挙げられる。
また、 タマリン系化合物としては、 7—ジェチルアミノ一4ーメチルクマリン、 7—ェチノレアミノー 4一 トリフノレオロメチノレクマリン、 4, 6—ジェチノレアミノ — 7—ェチノレアミノクマリン、 3— (2—べンズイミダゾリル) 一 7— Ν, Ν - ジェチノレアミノクマリン、 7—ジェチノレアミノシクロペンタ (c ) クマリン、 7 —アミノー 4一 トリフノレオロメチルクマリン、 1 , 2 , 3, 4, 5, 3 Η, 6 Η, 1 0 Η—テトラヒ ドロー 8— トリフルォロメチル (1 ) ベンゾピラノー ( 9 , 9 a ' 1 - g h ) ーキノ リジン一 1 0—オン、 7ーェチルァミノー 6—メチルー 4 一トリフルォロメチルクマリン、 1, 2 , 3, 4, 5 , 3 H , 6 H , 1 0 H—テ トラヒ ドロー 9一カルべトキシ (1 ) ベンゾピラノ一 (9 , 9 a , 1 - g h ) - キノリジン一 1 0—オンなどが挙げられる。
上述の光硬化性樹脂組成物には、 必要に応じて上記の成分以外にも、 界面活性 剤、 シランカップリング剤等の各種の添加剤を配合することができる。
さらに、 上記光硬化性樹脂組成物を用いてカラーフィルターの着色層を形成す る場合には、 当該硬化性樹脂組成物中に顔料や染料等の色材を配合する。 色材と しては、 画素部の R、 G、 B等の求める色に合わせて、 有機着色剤及び無機着色 剤の中からカラーフィルターの加熱プロセスに耐え得る耐熱性があり、 且つ、 良 好に分散し得る微粒子のものを選んで使用することができる。
有機着色剤としては、 例えば、 染料、 有機顔料、 天然色素等を用いることがで きる。 また、 無機着色剤としては、 例えば、 無機顔料、 体質顔料等を用いること ができる。
有機顔料の具体例としては、カラーインデックス (C.I.; The Society of Dyers and Colourists 社発行) においてビグメント (Pigment) に分類されている化合 物、 すなわち、 下記のようなカラーインデックス (C.I.) 番号が付されているも のを挙げることができる。 C.I.ピグメントイェロー 1、 C.I.ピグメントイエロー 3、 C丄ピグメントイエロー 1 2、 C.Lビグメントイエロー 1 3、 C.I.ビグメントイエ ロー 1 3 8、 C.I.ピグメントイェロー 1 5 0、 C.I.ピグメントイェロー 1 8 0、 C. I.ピグメントイェロー 1 8 5等のイェロー系ピグメント ; C.I.ピグメントレッド 1、 C.I.ビグメントレッド 2、 C.I.ピグメントレッド 3、 C.I.ピグメントレッド 2 5 4、 C.I.ビグメントレッド 1 7 7等のレッド系ピグメント ;及び、 C.I.ピグメン トプノレー 1 5、 C丄ピグメントプル一 1 5 : 3、 C.I.ピグメントブルー 1 5 : 4、 C.I.ピグメントブルー 1 5 : 6等のブルー系ビグメント ; C丄ピグメントバイォ レッ ト 2 3 : 1 9 ; C.I.ピグメントグリーン 3 6 .
また、 前記無機顔料あるいは体質顔料の具体例としては、 酸化チタン、 硫酸バ リウム、 炭酸カルシウム、 亜鉛華、 硫酸鉛、 黄色鉛、 亜鉛黄、 べんがら (赤色酸 化鉄 (111))、 カドミウム赤、 群青、 紺青、 酸化クロム緑、 コバルト緑、 アンバー、 チタンブラック、 合成鉄黒、 カーボンブラック等を挙げることができる。 本発明 において色材は、 単独でまたは 2種以上を混合して使用することができる。
色材は、 光硬化性樹脂組成物中に、 通常、 4 0〜7 5重量%、 好ましくは 4 5 〜7 0重量。 /0の割合で配合する。 色材の配合割合が 4 0重量%を下回ると、 各画 素部の着色力が不十分であり、鮮明な画像の表示が困難であり、一方、 7 5重量% を超えると、 各画素部における光透過率が不十分となるなどの不都合を生じる。 光硬化性樹脂組成物に色材を配合する場合には、 色材を均一且つ安定して分散 させるために、 当該光硬化性樹脂組成物中に分散剤を配合してもよい。 分散剤と しては、 例えば、 カチオン系、 ァニオン系、 ノニオン系、 両性、 シリコーン系、 フッ素系等の界面活性剤を使用できる。 界面活性剤の中でも、 次に例示するよう な高分子界面活性剤 (高分子分散剤) が好ましい。
すなわち、 ポリオキシエチレンラウリルエーテル、 ポリオキシエチレンステア リルエーテル、 ポリォキシエチレンォレイルエーテル等のポリオキシエチレンァ ノレキノレエーテノレ類;ポリオキシエチレンォクチノレフエニノレエーテノレ、 ポリオキシ エチレンノ二ノレフエニノレエーテノレ等のポリォキシエチレンアルキノレフェニノレエ ーテノレ類;ポリエチレングリコーノレジラゥレー ト、 ポリエチレングリコーノレジス テアレート等のポリエチレンダリコールジエステル類; ソルビタン脂肪酸エス テル類;脂肪酸変性ポリエステル類; 3級アミン変性ポリウレタン類などの高 分子界面活性剤が好ましく用いられる。
本発明の光硬化性樹脂組成物には、 塗料化及び塗布適性を考慮して通常、 フマ レート系共重合体、 光硬化性化合物、 光重合開始剤等に対する溶解性の良好な溶 剤が含有される。 使用可能な溶剤としては、 例えばメチルアルコール、 ェチルァ ノレコーノレ、 N—プロピルアルコーノレ、 i—プロピノレアルコールなどのァノレコール 系溶剤; メ トキシエタノール、 ェトキシェタノールなどのセ口ソルブ系溶剤; メ トキシェトキシエタノール、 ェトキシェトキシエタノールなどのカルビトール系 溶剤;酢酸ェチル、 酢酸プチル、 メ トキシプロピオン酸メチル、 エトキシプロピ オン酸ェチル、 乳酸ェチルなどのエステル系溶剤;ァセトン、 メチルイソブチル ケトン、 シク口へキサノンなどのケトン系溶剤; メ トキシェチルァセテ.一ト、 ェ トキシェチノレアセテート、 ェチルセ口ソノレブァセテ一トなどのセロクルブァセテ ート系溶剤; メ トキシエトキシェチルアセテート、 エトキシェトキシェチルァセ テートなどのカノレビトールァセテ一ト系溶剤;ジェチノレエーテノレ、 エチレングリ コーノレジメチノレエーテノレ、 ジエチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、 テトラヒ ド 口フランなどのエーテル系溶剤; N, N—ジメチルホルムアミ ド、 N , N—ジメ チルァセトアミ ド、 N—メチルピロリ ドンなどの非プロ トン性アミ ド溶剤; 0 — ブチロラタ トンなどのラク トン系溶剤;ベンゼン、 トノレェン、 キシレン、 ナフタ レンなどの不飽和炭化水素系溶剤; N—ヘプタン、 N—へキサン、 N—オクタン などの飽和炭化水素系溶剤などの有機溶剤を例示することができる。 これらの溶 剤の中では、 メ トキシェチルァセテート、 ェトキシェチルァセテート、 ェチルセ 口ソルブァセテートなどのセロソルプアセテート系溶剤 ; メ トキシェトキシェ チルアセテート、 エトキシエトキシェチルアセテートなどのカルビトールァセテ 一ト系溶剤; エチレングリコーノレジメチノレエ一テル、 ジエチレングリコールジメ チノレエーテノレ、 プロピレングリコーノレジェチノレエーテノレなどのエーテノレ系溶斉 IJ; メ トキシプロピオン酸メチル、 エトキシプロピオン酸ェチル、 乳酸ェチルなどの エステル系溶剤が特に好適に用いられる。 特に好ましくは、 MB A (酢酸一 3— メ トキシブチル、 CH3CH (OCH3) CH2CH2OCOCH3) 、 P GMEA (プ 口ピレンダリ コールモノメチルエーテルァセテ一ト、 CH3OCH2CH (CH3) OCOCH3) 、 DMDG (ジエチレングリ コールジメチルエーテル、 H3COC2 H4OCH3) 又はこれらを混合したものを使用することができ、 これらを用いて 固形分濃度を 5〜 50重量%に調製する。
上記の光硬化性樹脂組成物を製造するには、 上記フマレート系共重合体、 光硬 化性化合物、 光重合開始剤、 及び、 その他の成分を適切な溶剤に投入し、 ペイン トシエーカー、 ビーズミ Λ^、 サンドグラインドミ Λ^、 ボーノレミノレ、 ア トライター ミル、 2本ロールミル、 3本ロールミルなどの一般的な方法で溶解、 分散させれ ばよい。 なお、 メインポリマーであるフマレート系共重合体としては、 合成反応 後に有効成分であるフマレート系共重合体を単離精製したものを用いるほか、 合 成反応により得られた反応液、 その乾燥物などをそのまま用いてもよい。
このようにして得られる光硬化性樹脂組成物を何らかの支持体に塗布して塗 膜を形成し、 当該塗膜に紫外線、 電離放射線等の活性化エネルギー線を照射する と、 光硬化性化合物が架橋結合を形成してフマレート系共重合体を包み込むか、 又は、 フマレート系共重合体がエチレン性不飽和結合を有する場合にはそれ自体 が架橋結合を形成して硬化する。
硬化後の皮膜は、 耐熱変色性に優れており、 黄変などの変色や透明性を低下し 難い。 また、 エチレン性不飽和結合を有するフマレート系共重合体と光硬化性化 合物を組み合わせて用いる場合には、 フマレート系共重合体と光硬化性化合物の 間にも架橋結合が形成されるので、架橋の反応点密度が高くなり露光感度、及び、 皮膜の強度や硬度が向上する。
本発明においては、 次のような方法によって、 皮膜の耐熱性 (耐黄変性) を評 価することができる。 先ず、 基板上に硬化性樹脂組成物を塗布し、 必要に応じて 乾燥させて塗布膜を形成する。 ここで、 基板としては、 透明ガラス基板のように 露光、 現像等の一連のパターン形成工程に支障を来たさないものであれば、 特に 問題なく使用できる。 塗布膜の厚さも特に制限はないが、 通常は、 1〜1 0 μ ιη 程度の厚さとする。 この塗布膜を、 適切な条件で、 例えば 7 0〜1 5 0 °Cで、 1 〜1 0分間、 プリべークする。 プリべーク後、 当該塗布膜が完全に硬化する照射 強度で露光して硬化させてから、 適切な条件で、 例えば 1 8 0〜2 8 0 °Cで、 2 0〜8 0分間、 ポストベータする。
このようにして得られた硬化膜の光 (3 8 0 n m) の透過率を、 ガラス基板を リファレンスとし測定する。 この段階で測定した透過率を 「加熱試験前透過率」 とする。
次に、 ガラス基板上の硬化膜を 2 5 0 °Cで 1時間加熱し、 加熱試験硬化膜を得 る。 このようにして得られたガラス基板上の加熱試験硬化膜の光 (3 8 0 n m) の透過率を、 ガラス基板をリファレンスとし測定する。 この段階で測定した透過 率を 「加熱試験後透過率」 とする。
このようにして加熱試験前後の光線透過率を夫々算出し、 加熱試験前透過率に 対する加熱試験後透過率の比から硬化膜の耐熱性を評価することができる。 本発 明によれば、 加熱試験前後の光線透過率の比を 9 0 %以上に維持することができ る。
また、 本発明においては、 次のような方法によって、 硬化性樹脂組成物の露光 感度を評価することができる。 先ず、 基板上に硬化性樹脂組成物を塗布し、 必要 に応じて乾燥させて塗布膜を形成する。 ここで、 基板としては、 透明ガラス基板 のように露光、 現像等の一連のパターン形成工程に支障を来たさないものであれ ば、 特に問題なく使用できる。 塗布膜の厚さも特に制限はないが、 通常は、 1〜 1 0 μ πι程度の厚さとする。この塗布膜を、適切な条件で、例えば 7 0〜1 5 0 °C で、 1〜1 0分間、 プリベータする。 プリベータ後、 既知の照射強度で塗布膜を 露光し、 膜厚を測定する。 この段階で測定した膜厚を 「現像前膜厚」 とする。 次に、 プリベータした塗布膜を適切な現像剤に接触させて未露光部を溶解、 除 去し、 残った露光部を必要に応じて洗浄することによって、 塗布膜を現像する。 ここで、 現像剤の組成及び現像の条件は、 試験される硬化性樹脂組成物に合わせ て適切に選択する。現像剤としては、硬化性樹脂組成物の露光部(硬化した部分) はほとんど溶解せず、 未露光部を完全に溶解できるものが好ましいことは言うま でもない。そして、現像された塗布膜を、適切な条件で、例えば 1 8 0 ~ 2 8 0 °C で、 2 0 ~ 8 0分間、 ポストベータする。 ポストベータ後、 塗布膜の厚さを測定 し、 「最終硬化後膜厚」 とする。
このようにして測定された現像前膜厚と最終硬化後膜厚とから次式に従って、 残膜率を計算する。
残膜率 (%) = (最終硬化後膜厚 (μ πι) ÷現像前膜厚 (μ πι) ) X 1 0 0 一方、 同じ硬化性樹脂組成物を上記と同様にして基板上に塗布、 乾燥し、 プリ ベータし、 リ ファレンス用の塗布膜を形成する。 このリ ファレンス用塗布膜を、 当該塗布膜が完全に硬化する照射強度で露光し、 膜厚を測定する。 この段階で測 定した膜厚を 「完全露光膜厚」 とする。 次に、 完全露光した塗布膜を現像はせず に、 サンプルと同じ方法でポストベータした後、 得られた膜の膜厚を前述したの と同じ方法で測定し、 「現像工程無しの最終膜厚」 とする。 そして、 測定された 完全露光膜厚と現像工程無しの最終膜厚とから次式に従って、 リ ファレンス残膜 率を計算する。
リ ファレンス残膜率 (%) = (現像工程無しの最終膜厚 (μ πι) ÷完全露光 膜厚 ( μ m) ) X 1 0 0
このようにして残膜率とリファレンス残膜率を算出し、 残膜率が誤差範囲 1 % としてリファレンス残膜率と等しくなった最も小さい露光量を、 硬化性樹脂組成 物の最低露光量と決定する。 この最低露光量が小さいほど感度が高いと評価でき る。
本発明によれば、 このようにして決定される最低露光量が 1 0 O mjZ c m2以 下の硬化性樹脂組成物を得ることが可能である。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの細部、 例えば、 画素部や ブラックマトリ ックス層などの着色層、 当該着色層を被覆する保護層、 及び、 液 晶パネルのセルギヤップを維持するための柱状スぺーサーを形成するのに適し ている。 また、 本発明の光硬化性樹脂組成物は、 液晶表示装置以外の他方式の表 示装置にも利用可能であり、 例えば、 有機 E L表示素子のカラーフィルターの保 護膜、 画素部、 その他の細部を形成するのにも好適に用いられる。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの保護膜や画素部として使 用した時に、 液晶パネル組み立て途中での加熱プロセスによっても黄変を来たし 難く、 透明性に非常に優れている。 さらに、 この光硬化性樹脂組成物中にェチレ ン性不飽和結合を有するフマレート共重合体と第三成分としての硬化性化合物 を組み合わせて配合する場合には、 組成物中における架橋反応の反応点密度が高 くなり、硬化後において塗膜強度、耐熱性、耐薬品性等の諸物性にも優れている。 カラーフィルタ一は、 透明基板に所定のパターンで形成されたブラックマトリ ッタスと、 当該ブラックマトリックス上に所定のパターンで形成した画素部と、 当該画素部を覆うように形成された保護膜を備えている。 保護膜上に必要に応じ て液晶駆動用の透明電極が形成される場合もある。 また、 ブラックマトリ ックス 層が形成された領域に合わせて、 透明電極板上若しくは画素部上若しくは保護膜 上に柱状スぺーサ一が形成される場合もある。
画素部は赤色パターン、 緑色パターン及び青色パターンがモザイク型、 ストラ イブ型、 トライアングル型、 4画素配置型等の所望の形態で配列されてなり、 ブ ラックマトリックス層は各画素パターンの間及び画素部形成領域の外側の所定 領域に設けられている。 画素部やブラックマトリ ックス層などの着色層は、 様々 な方法で形成でき、 例えば、 染色法、 顔料分散法、 印刷法、 電着法のいずれを用 いても形成することができる。 ブラックマトリックス層は、 クロム蒸着等により 形成してもよい。 しかしながら、 これらの着色層は、 上記した光硬化性樹脂組成 物を用いて顔料分散法により形成するのが好ましい。 すなわち、 上記した光硬化 性樹脂組成物に有色の又は黒色の着色顔料を分散させて塗工材料を調製し、 透明 基板の一面側に塗布し、 フォトマスクを介して紫外線、 電離放射線等の活性化工 ネルギ一線を照射することにより露光し、 アルカリ現像後、 クリーンオープン等 で加熱硬化することにより着色層を形成できる。 着色層は、 通常、 1 . 5 / m程 度の厚さに形成する。
保護膜は、 上記した光硬化性樹脂組成物の塗工液を、 スピンコーター、 ロール コーター、 スプレイ、 印刷等の方法により塗布して形成することができる。 保護 膜は、 例えば、 2 μ πι程度の厚さに形成する。 スピンコーターを使用する場合、 回転数は 5 0 0〜1 5 0 0回転 Z分の範囲内で設定する。 光硬化性樹脂組成物の 塗工膜は、 フォトマスクを介して活性化エネルギー線を照射することにより露光 され、 アルカリ現像後、 クリーンオーブン等で加熱硬化されて保護膜となる。 保護膜上の透明電極は、酸化インジウムスズ ( I T〇) 、酸化亜鉛(Ζ η Ο ) 、 酸化スズ (S n O ) 等、 およびそれらの合金等を用いて、 スパッタリング法、 真 空蒸着法、 C V D法等の一般的な方法により形成され、 必要に応じてフォ トレジ ストを用いたエッチング又は治具の使用により所定のパターンとしたものであ る。 この透明電極の厚みは、 通常 2 0〜5 0 0 n m程度、 好ましくは 1 0 0〜3 0 0 n m程度である。
透明電極上の柱状スぺーサーも、 上記した光硬化性樹脂組成物の塗工液を、 ス ビンコ一ター、 ロールコーター、 スプレイ、 印刷等の方法により塗布し、 フォト マスクを介する活性化エネルギー線照射により露光し、 アル力リ現像後、 タリー ンォーブン等で加熱硬化することにより形成できる。柱状スぺーサ一は、例えば、
5 ^u m程度の高さに形成される。 スピンコーターの回転数も保護膜を形成する場 合と同様に、 5 0 0〜1 5 0 0回転/分の範囲内で設定すればよい。
このようにして製造されたカラーフィルターの內面側に配向膜を形成し、 電極 基板と対向させ、 間隙部に液晶を満たして密封することにより、 液晶パネルが得 られる。 実施例 実施例 1
(共重合樹脂溶液 1の合成)
下記分量のモノマー
<共重合組成 >
, ジシクロへキシノレフマレート (DCHF) : 529 g
- ァクリル酸 (AA) : 1 7 1 g
を、 パーブチル O (商品名、 日本油脂 (株) 製の有機過酸化物) 14 gと共に、 300 gのジエチレングリコールジメチルエーテル (DMDG) に溶解した溶液 を、 80°Cに温度調整した 1000 gの DMDGを入れた窒素雰囲気の重合槽中 に 6時間かけて滴下した後、 同温度で 4時間熟成して重合させ、 共重合樹脂溶液 1を得た。
(光硬化性樹脂組成物 1の調製)
下記分量の下記材料を室温で攪拌、 混合し、 光硬化性樹脂組成物 1を得た。
<光硬化性樹脂組成物 1の組成 >
-上記共重合樹脂溶液 1 (固形分 35%) : 6 9. 0重量部
-ジペンタエリスリ トールペンタァクリ レート (S R 399、サートマ一社製) : 1 1. 0重量部
■ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂 (商品名工ピコ一ト 180 S 70、 ジャパンエポキシレジン社製) : 1 5. 0重量部
• 2—メチノレー 1一 (4ーメチノレチォフエ二ノレ) 一 2—モノレホリノプロパノン一
• 2, 2 ' 一ビス (〇_クロ口フエ二ノレ) 一 4 5, 4 ' , 5, 一テトラフェニ ルー 1 , 2, 一ビイミダゾーノレ : 1.
- DMDG : 66. 0重量部
実施例 2
(原料重合体の合成)
下記分量のモノマー
く共重合組成 > . ジシクロへキシノレフマレート (DCHF) : 46 9 g
•ァクリル酸 (AA) : 1 32 g
を、 パープチル O (商品名、 曰本油脂 (株) 製の有機過酸化物) 1 2 gと共に、 258 gのジエチレングリコールジメチルエーテル (DMDG) に溶解した溶液 を、 80°Cに温度調整した 859 gの DMDGを入れた窒素雰囲気の重合槽中に 6時間かけて滴下した後、 同温度で 4時間熟成して重合させ、 原料重合体の溶液 (共重合樹脂溶液 2の前駆体) を得た。
(共重合樹脂溶液 2の合成)
前記の合成で得られた原料重合体の溶液 1 730 g ダリシジルメタクリレ ート (GMA) 9 9 g、 ピリジン 5 g、 ハイドロキノン 0. 5 gを仕込み、 均一 に溶解させた。 次に、 攪拌下の反応液中に空気をバブリングしながら 80°Cまで 昇温し、 80でで 5時間反応して共重合樹脂溶液 2を得た。
(光硬化性樹脂組成物 2の調製)
用いた樹脂を共重合樹脂溶液 2に変更した以外は実施例 1と同様に組成物の 調製を行い、 光硬化性樹脂組成物 2を得た。
実施例 3
(原料重合体の合成)
下記分量のモノマー
く共重合組成 >
·ジシクロへキシルフマレート (D CHF) : 55 7 g
•ァクリル酸 (AA) : 1 1 3 g
を、 パーブチル O (商品名、 日本油脂 (株) 製の有機過酸化物) 1 3. 4 gと共 に、 287 gのジエチレングリコールジメチル テ DMDG) に溶解した 溶液を、 80°Cに温度調整した 95 7 gの DMDGを入れた窒素雰囲気の重合槽 中に 6時間かけて滴下した後、 同温度で 4時間熟成して重合させ、 原料重合体の 溶液 (共重合樹脂溶液 3の前駆体) を得た。
(共重合樹脂溶液 3の合成)
前記の合成で得られた原料重合体の溶液 1 9 14 g グリシジルメタタリレ 一ト (GMA) 3◦ g、 ピリジン 1. 5 g、 ハイ ドロキノン 0. 1 5 gを仕込み、 均一に溶解させた。 次に、 攪拌下の反応液中に空気をバプリングしながら 80°C まで昇温し、 80 °Cで 5時間反応して共重合樹脂溶液 3を得た。
(光硬化性樹脂組成物 3の調製)
用いた樹脂を共重合樹脂溶液 3に変更した以外は実施例 1と同様に組成物の 調製を行い、 光硬化性樹脂組成物 3を得た。
比較例 1
(共重合樹脂溶液 4の合成)
下記分量のモノマー
ぐ共重合組成 >
■ メタアタリル酸メチル (MMA) : 35 7 g
' メタタリル酸 (MA A) : 1 8 1 g
を、 ァゾビスイソプチ口-トリル (A I BN) 3 gと共に、 65 O gのジェチレ ングリコールジメチルエーテル (DMDG) に溶解した溶液を、 1 000 gの D MDGを入れた重合槽中に 100°Cで 6時間かけて滴下し、 重合させ、 共重合榭 脂溶液 4を得た。
(光硬化性樹脂組成物 4の調製)
用いた樹脂を共重合樹脂溶液 4に変更した以外は実施例 1と同様に組成物の 調製を行い、 光硬化性樹脂組成物 4を得た。
得られた共重合体の物性を第 1表に示した。
第 1表
Figure imgf000042_0001
MMA : メタク リノレ酸メチノレ
D C H F : ジシク口へキシノレフマレート
MAA : メタクリル酸
A A: ァクリル酸
GMA : グリシジルメタクリ レート
実施例 4
( 1 ) ブラックマトリ ックスの形成
先ず、 下記分量の各成分を混合し、 サンドミルにて十分に分散し、 黒色顔料分 散液を調製した。
<黒色顔料分散液の組成 >
·黒色顔料: 2 3部
-高分子分散剤 (商品名 D i s p e r b y k 1 1 1、 ビヅタケミー ' ジャパン (株) 製) : 2重量部
-溶剤 (D MD G) : 7 5重量部
次に下記分量の各成分を十分混合して、 光硬化性ブラックマトリックス用樹脂 組成物を得た。
<光硬化性ブラックマトリックス用榭脂組成物の組成〉 •上記の黒色顔料分散液: 6 1重量部
-実施例 1の光硬化性樹脂組成物 1 : 20重量部
•溶剤 (DMDG) : 30重量部
そして、 厚み 1. 1mmのガラス基板 (旭硝子 (株) 製 AL材) 上に上記光硬 化性ブラックマトリ ックス用樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、 100°Cで 3分間乾燥させ、 膜厚約 1 μ mの光硬化性ブラックマトリツタス層を形成した。 当該光硬化性ブラックマトリックス層を、 超高圧水銀ランプで遮光パターンに露 光した後、 0. 05%水酸化カリウム水溶液で現像し、 その後、 基板を 1 80°C の雰囲気中に 30分間放置することにより加熱処理を施して遮光部を形成すベ き領域にブラックマトリックスを形成した。
(2) 着色層の形成
上記のようにしてブラックマトリ ックスを形成した基板上に、 下記組成の赤色 (R用) 光硬化性樹脂インクをスピンコーティング法により塗布 (塗布厚み 1. 5 μ m) し、 その後、 70°Cのオーブン中で 30分間乾燥した。
次いで、 赤色 (R用) 光硬化性インクの塗布膜から 1 00 //mの距離にフォト マスクを配置してプロキシ'ミティアライナにより 2. 0 kWの超高圧水銀ランプ を用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を 10秒間照射した。 次 いで、 0. 05 w t %水酸化力リゥム水溶液 (液温 23 °C) 中に 1分間浸漬して アルカリ現像し、 赤色 (R用) 光硬化性樹脂インクの塗布膜の未硬化部分のみを 除去した。 その後、 基板を 1 80°Cの雰囲気中に 30分間放置することにより加 熱処理を施して赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成し た。
次に、 下記組成の緑色 (G用) 光硬化性樹脂インクを用いて、 赤色のレリーフ パターン形成と同様の工程で、 緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフバタ ーンを形成した。
さらに、 下記組成の青色 (B用) 光硬化性樹脂インクを用いて、 赤色のレリー フパターン形成と同様の工程で、 青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパ ターンを形成し、 赤 (R) 、 緑 (G) 、 青 (B) の 3色からなる着色層を形成し た。
く赤色 (R用) 光硬化性樹脂インクの組成 >
• C . I . ビグメントレッ ド 1 77 : 10重量部
■ ポリスルホン酸型高分子分散剤: 3重量部
·実施例 1の光硬化性樹脂組成物 1 : 5重量部
■酢酸一 3—メ トキシブチル: 82重量部
<緑色 (G用) 光硬化性樹脂インクの組成 >
• C. I . ビグメントグリーン 36 : 10重量部
- ポリスルホン酸型高分子分散剤: 3重量部
·実施例 1の光硬化性樹脂組成物 1 : 5重量部
-酢酸一 3—メ トキシプチル: 82重量部
く青色 (B用) 光硬化性樹脂インクの組成 >
■ C. I . ビグメントプル一 1 5 : 6 : 1 0重量部
• ポリスルホン酸型高分子分散剤: 3重量部
·実施例 1の光硬化性樹脂組成物 1 : 5重量部
■酢酸一 3—メ トキシブチル: 82重量部
実施例 5 :保護膜の形成
実施例 4において着色層を形成したガラス基板上に、 実施例 1の光硬化性樹脂 組成物 1をスピンコーティング法により塗布、 乾燥し、 乾燥膜厚 2 //mの塗布膜 を形成した。
光硬化性樹脂組成物 1の塗布膜から 1 00 μΐηの距離にフォトマスクを配置 してプロキシミティアライナにより 2. 0 kWの超高圧水銀ランプを用いて着色 層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を 1 0秒間照射した。 次いで、 0. 0 5 w t %水酸化力リゥム水溶液 (液温 23 °C) 中に 1分間浸漬してアル力リ現像 し、 光硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。 その後、 基板を 200°Cの雰囲気中に 30分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を 形成し、 本発明のカラーフィルターを得た。
実施例 6 : スぺーサ一の形成 実施例 4において着色層を形成したガラス基板上に、 実施例 1で得られた光硬 化性樹脂組成物 1をスピンコーティング法により塗布、 乾燥し、 乾燥膜厚 5 π の塗布膜を形成した。
光硬化性樹脂組成物 1の塗布膜から 1 0 0 / mの距離にフォトマスクを配置 してプロキシミティアライナにより 2 . 0 k Wの超高圧水銀ランプを用いて、 ブ ラックマトリックス上のスぺーサ一の形成領域のみに紫外線を 1 0秒間照射し た。 次いで、 0 . 0 5 w t %水酸化力リゥム水溶液 (液温 2 3 °C) 中に 1分間浸 漬してアル力リ現像し、 光硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去し た。 その後、 基板を 2 0 0 °Cの雰囲気中に 3 0分間放置することにより加熱処理 を施して固定スぺーサーを形成し、 本発明のカラーフィルターを得た。
得られたカラーフィルターの固定スぺーサーを含む表面に、 基板温度 2 0 0 °C でアルゴンと酸素を放電ガスとし、 D Cマグネトロンスパッタリング法によって I T Oをターゲットとして透明電極膜を形成した。 その後、 更に透明電極膜上に ポリイミ ドょりなる配向膜を形成した。
次いで、 上記カラーフィルターと、 T F Tを形成したガラス基板とを、 ェポキ シ榭脂をシール材として用い、 1 5 0 °〇で0 . 3 k g Z c m2の圧力をかけて接合 してセル組みし、 T N液晶を封入して液晶表示装置を作製した。 '
実施例 7
実施例 4において着色層を形成したガラス基板の当該着色層上に、 実施例 5に おいて着色層と保護膜を形成したカラーフィルターの当該保護膜上に、 それぞれ、 基板温度 2 0 0 °Cでアルゴンと酸素を放電ガスとし、 D Cマグネトロンスパッタ リング法によって I T〇をターゲットとして透明電極膜を形成した。 その後、 更 に透明電極膜上にポリィミ ドよりなる配向膜を形成してカラーフィルターを得 た。
(耐熱性の評価)
1 0 c m画のガラス基板上に、 実施例 1で得られた光硬化性樹脂組成物 1をス ビンコ一ター (形式 1 H— D X 2、 M I K A S A製) により、 塗布、 乾燥し、 乾 燥膜厚 2 . 2 の塗布膜を形成した。 この塗布膜をホットプレート上で 9 0 °C、 3分間加熱した。 加熱後、 塗布膜に 2. 0 kWの超高圧水銀ランプを装着した U Vアライ^ "一 (形式 MA 1 200、 大日本スクリーン製) によって、 1 00m j/cm2の強度 (405 nm照度換算) で紫外線を照射した。
紫外線の照射後、塗布膜をクリーンオープン(S COV—250 Hy— S o、 忍足研究所 (株) 製) により、 200°Cで 30分間乾燥し、 膜厚 2. O / mの硬 化膜を得た。 このようにして得られたガラス基板上の硬化膜の光 (380 nm) の透過率を、 ガラス基板をリファレンスとし、 吸光計 (島津 (株) 製、 UV- 3 100 PC) を用いて測定した。
次いで、 硬化膜付きのガラス基板をクリーンオープン (SCOV— 250 H y— S o、 忍足研究所 (株) 製) により、 250 °Cで 1時間加熱し、 加熱試験硬 化膜を得た。 このようにして得られたガラス基板上の加熱試験硬化膜の可視光 (380〜780 nm)の透過率を、ガラス基板をリファレンスとし、吸光計(U V - 3 100 PC、 島津 (株) 製) を用いて測定した。
上記加熱試験前後での光 (3 80 nm) の透過率の変化から硬化膜の耐熱性を 評価した。 さらに、 上述したのと同じ方法により、 実施例 2で得られた光硬化性 樹脂組成物 2、 実施例 3で得られた光硬化性樹脂組成物 3、 及び、 比較例 1で得 られた光硬化性樹脂組成物 4の塗布膜を形成し、 加熱試験前後の光の透過率の変 化から硬化膜の耐熱性を評価した。
このようにして各光硬化性樹脂組成物 1乃至 4から形成された硬化膜の耐熱 性を評価した結果を第 2表に示す。
第 2表
実施例 1 実施例 2 比較例 3 比較例 1
加熱後の 380 m
92 90 9 1 75
での透過率 (%) (感度の評価)
10 c m画のガラス基板上に、 実施例 1で得られた光硬化性樹脂組成物 1をス ビンコ一ター (形式 1H— DX2、 MI KASA製) により、 塗布、 乾燥し、 乾 燥膜厚 2 /imの塗布膜を形成した。 この塗布膜をホッ トプレート上で 90°C、 3 分間加熱した。 加熱後、 塗布膜から 1 00 //mの距離にフォトマスクを配置して 2. 0 kWの超高圧水銀ランプを装着した UVァライナー(形式 MA 1 200、 大日本スクリーン製) によって、 同一塗膜を 4等分した各領域のそれぞれに、 5 0、 100、 1 50、 200、 m j/c m2の強度 (405 n m照度換算) で紫外 線を照射した。
紫外線の照射後、 これら 4つの各領域から、 寸法が約 lmmX 3 mmの矩形状 に塗布膜を削り取ってガラス基板を部分的に露出させ、 触針式表面粗度測定装置 (D e k t a k 1 600、 日本ァネルバ (株) 製) により各照射領域の膜厚を 測定し、 現像前膜厚とした。 - 次いで、 塗布膜の露光部に 0. 05 w t %の水酸化力リゥム水溶液をスピン現 像機 (I NK:、 MODEL : 9 1 5、 Ap p l i e d P r o c e s s T e c h n o 1 o g y社製) にて 60秒間散布し、 未露光部を溶解、 除去し、 残った露 光部を純水で 60秒間水洗することにより現像した。 現像後、 露光部の膜をクリ ーンオープン (S COV—2 50 Hy— S o、 忍足研究所 (株) 製) により、 200°Cで 30分間加熱した。 そして、 得られた膜の各領域の膜厚を、 前述した のと同じ方法で測定し、 最終硬化後膜厚とした。
このようにして測定された現像前膜厚と最終硬化後膜厚とから次式に従つて、 残膜率を計算した。
残膜率 (%) = (最終硬化後膜厚 (/xm) ÷現像前膜厚 ( um) ) X I 00 一方、 リファレンス残膜率を、 次のようにして決定した。 先ず、 塗布膜の全面 に 100 m J/c m2の強度で露光したこと以外はサンプルと同じ方法で、光硬化 性樹脂組成物 1の完全露光膜厚を測定した。 次に、 10 OmjZcm2露光した塗 布膜を現像はせずに、 サンプルと同じ方法で加熱だけした後、 得られた膜の膜厚 を前述したのと同じ方法で測定し、 現像工程無しの最終膜厚とした。 そして、 測 定された完全露光膜厚と現像工程無しの最終膜厚とから次式に従って、 リファレ ンス残膜率を計算した。
リファレンス残膜率 (°/0) - (現像工程無しの最終膜厚 (μ πι) ÷完全露光 膜厚 ( μ m) ) X 1 0 0
このようにして算出された残膜率が誤差範囲 1 %としてリファレンス残膜率 と等しくなつた最も小さい露光量を、 光硬化性樹脂組成物 1の最低露光量と決定 した。
さらに、 上述したのと同じ方法により、 実施例 2で得られた光硬化性樹脂組成 物 2、 実施例 3で得られた光硬化性樹脂組成物 3、 及び、 比較例 1で得られた光 硬化性樹脂組成物 4の塗布膜を形成し、 現像前膜厚、 最終硬化後膜厚、 完全露光 膜厚、 及び現像工程無しの最終膜厚を測定し、 各光硬化性榭脂組成物 2乃至 4の 最低露光量を決定した。
このようにして、 各光硬化性樹脂組成物 1乃至 4について最低露光量を決定し た。 結果を第 3表に示す。
Figure imgf000048_0001
産業上の利用可能性 以上説明したように、 本発明においてバインダー成分として用いられるフマレ 一ト系共重合体は、 耐熱変色性に寄与する式 1の構成単位と、 酸性やアルカリ可 溶性に寄与する酸性官能基含有単位とが連結し、 さらに必要に応じて、 反応硬化 性に寄与するエチレン性不飽和結合含有単位や、 塗膜^に寄与する芳香族炭素環 含有単位や、 アルカリ現像性を抑制するエステル基含有単位が連結してなるもの である。
このフマレート系共重合体は優れた耐熱変色性を備えるだけでなく、 各構成単 位の含有割合を変更することによって、 反応硬化性、 アルカリ可溶性、 塗工性な どを適宜に調節できる。 従って、 この共重合体は、 光硬化性、 熱硬化性等の反応 硬化性樹脂組成物のバインダ一成分として好適に用いることができ、 当該反応硬 化性樹脂組成物により、 さまざまな微細構造、 特にカラーフィルターの細部を形 成することが可能である。
本発明により提供されるカラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラック マトリックス又はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂組成物は、 前記フマ レート系共重合体をバインダー成分として含有するものである。
この光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの細部、 例えば、 画素部やブラ ックマトリ ックス層などの着色層、 当該着色層を被覆する保護層、 及び、 液晶パ ネルのセルギヤップを維持するための柱状スぺーサーを形成するのに適してい る。
本発明のカラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリックス又 はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂組成物は、 カラーフィルターの保護 膜や画素部として使用した時の黄変が生じにくく、 透明性に優れている。
特に、 前記フマレート系共重合体をバインダー成分として含有し、 必要に応じ て 2個以上のエチレン性不飽和結合を有する多官能重合性化合物を組み合わせ て配合する場合には、 組成物中における架橋反応の反応点密度が高くなり、 露光 感度、 及び、 硬化後においての塗膜強度、 耐熱性、 耐薬品性等の諸物性に優れて いる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . バインダー成分として、 少なくとも下記式 1で表される構成単位と酸性官能 基を備えた構成単位とが連結した分子構造を有する共重合体を含有することを 特徴とする、 カラーフィルターの保護膜、 R G B用画素、 ブラックマトリ ックス 又はスぺーサーを形成するための光硬化性樹脂組成物。 式
の分岐アルキル基若し ルキル基若しくは置換
れる構成単位である請
Figure imgf000050_0001
(式中、 R3は水素原子、 メチル基又はカルボキシメチル基である。 )
3 . 前記共重合体がエチレン性不飽和結合を備えた構成単位をさらに有する請求
COCCIII
の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
o 4 . 前記エチレン性不飽和結合を備えた構成単位が、 下記式 3で表される構成単 位又は下記式 4で表される構成単位である請求の範囲第 3項に記載の光硬化性 樹脂組成物。 式 3
R4
GH
R5
HO-CH-CH -0-C-C=CH9
2 II 2
0
(式中、 R4及び R5は水素原子又はメチル基である。 )
式 4
Figure imgf000052_0001
(式中、 R6及び R9は水素原子又はメチル基であり、 R7は炭素数2乃至4のァ ルキレン基であり、 R8はアルキレン基である。 また、 hは 0又は 1の数である。)
5. 前記共重合体の酸価が 40〜200111§1:0^1 ^でぁる請求の範囲第1項 に記載の光硬化性樹脂組成物。
6. 前記共重合体は酸価が 40〜20 OmgKOHZgで且つエチレン性不飽和 結合の含有量が 0. 5〜2. Ommo 1 /gである請求の範囲第 3項に記載の光 硬化性樹脂組成物。
7. 前記共重合体の重量平均分子量が 5000〜 100000である請求の範囲 第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
8. 前記共重合体が固形分比で 5〜80重量%含まれる請求の範囲第 1項に記載 の光硬化性樹脂組成物。
9. 光硬化性化合物をさらに含有する請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組 成物。
1 0 . 光重合開始剤をさらに含有する請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組 成物。 1 1 . エポキシ基を分子内に 2個以上有する化合物をさらに含有する請求の範囲 第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
1 2 . 色材をさらに含有する請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物。 1 3 . 前記光硬化性樹脂組成物の硬化膜を 2 5 0でで 1時間加熱した時に、 加熱 前の 3 8 0 n mにおける光線透過率に対する加熱後の同波長における光線透過 率の比が 9 0 %以上である請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
1 4 . カラーフィルターの製造に用いられる請求の範囲第 1項に記載の光硬化性 樹脂組成物。
1 5 . 透明基板と、 当該透明基板上に形成された着色層とを備え、 当該着色層が 前記請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂組成物を硬化させて形成した R G B用画素又はブラックマトリックスであるカラーフィルター。
1 6 . 透明基板と、 当該透明基板上に形成された着色層と、 当該着色層を被覆す る保護膜とを備え、 前記の保護膜が前記請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂 組成物を硬化させて形成したものであるカラーフィルター。
1 7 . 透明基板と、 当該透明基板上に形成された着色層と、 対向させるべき電極 基板との間隔を維持するために非表示部と重なり合う位置に設けられたスぺー サーとを備え、 前記のスぺーサ一が前記請求の範囲第 1項に記載の光硬化性樹脂 組成物を硬化させて形成したものであるカラーフィルター。
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