CN102681241A

CN102681241A - 彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法

Info

Publication number: CN102681241A
Application number: CN2011101392891A
Authority: CN
Inventors: 陆金波; 杨久霞
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2011-05-26
Filing date: 2011-05-26
Publication date: 2012-09-19

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法，涉及液晶显示领域，解决了在曝光工艺中，稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。本发明实施例提供的彩膜基板，包括透明基板，还包括设于所述透明基板上的像素树脂以及设于所述像素树脂上的黑矩阵，所述像素树脂由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂彼此之间紧密相连，所述黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖。本发明实施例提供的彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法，能够应用于具有液晶显示装置的设备中。

Description

彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板液晶显示装置及其制造方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器由彩膜基板和阵列基板对盒而成，其中彩膜基板主要为薄膜晶体管液晶显示器提供色彩，如图1和2所示，包括透明基板11、设置在透明基板11上的黑矩阵12以及设置在由黑矩阵12形成的像素区域中的像素树脂13，像素树脂13由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成。

在制造彩膜基板的过程中，在透明基板上先形成黑矩阵后形成像素树脂，形成像素树脂的过程包括在设有黑矩阵的透明基板上铺设一层像素树脂层，通过曝光工艺形成像素树脂，像素树脂设置在由黑矩阵形成的像素区域中。

在实现本发明实施例的过程中，发明人发现，现有技术至少存在以下问题：在曝光工艺中，稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象，从而影响了产品的良品率。

发明内容

本发明实施例提供一种彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法，以解决在曝光工艺中，稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。

为达到上述目的，本发明实施例采用如下技术方案：

一种彩膜基板，包括透明基板，还包括设于所述透明基板上的像素树脂以及设于所述像素树脂上的黑矩阵，所述像素树脂由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂彼此之间紧密相连，所述黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖。

进一步的，为了保护像素树脂，所述彩膜基板还包括保护层，所述保护层设置在设有像素树脂和黑矩阵的透明基板上。

进一步的，为了满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的液晶显示器需求，所述彩膜基板还包括透明导电层；

所述透明导电层设置在所述保护层上，使得透明导电层起到公共电极的作用。或者

所述透明导电层设置在设有像素树脂和黑矩阵的透明基板上，使得透明导电层起到公共电极的作用。

进一步的，为了使得彩膜基板能够与阵列基板对盒以形成液晶显示装置，所述彩膜基板还包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在黑矩阵或者保护层或者透明导电层上。

一种液晶显示装置，其特征在于，包括上述的彩膜基板。

一种彩膜基板的制造方法，包括：

在透明基板上涂覆像素树脂层，通过曝光并显影形成像素树脂，所述像素树脂由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂彼此之间紧密相连；在形成有像素树脂的透明基板上涂覆黑矩阵用光阻剂，通过曝光并显影形成黑矩阵，所述黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖。

进一步的，为了保护像素树脂，所述彩膜基板的制造方法，还包括：在形成有像素树和黑矩阵的透明基板上涂覆保护层并进行固化处理。

进一步的，为了满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的液晶显示器需求，所述彩膜基板的制造方法，还包括：

在所述保护层上溅镀一层透明导电层；或者

在形成有像素树脂和黑矩阵的基板上溅镀一层透明导电层。

进一步的，为了使得彩膜基板能够与阵列基板对盒以形成液晶显示装置，所述彩膜基板的制造方法，还包括：涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述黑矩阵或者保护层或者透明导电层上的隔垫物。

本发明实施例提供的彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法，由于黑矩阵设置在像素树脂上，且像素树脂中各个子像素树脂彼此之间紧密相连，黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖，使得进黑矩阵形成的像素区域由像素树脂完全对应，避免了现有技术中稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。

附图说明

图1为现有技术中彩膜基板的剖面示意图；

图2为现有技术中彩膜基板的俯视示意图；

图3为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图一；

图4为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图二；

图5为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图三；

图6为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图四；

图7为本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法的流程图一；

图8为图7所示的彩膜基板的制造方法中步骤701的流程图；

图9为本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法的流程图二；

图10为本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法的流程图三；

图11为本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法的流程图四。

具体实施方式

为了解决在曝光工艺中，稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题，本发明实施例提供一种彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法。

如图3所示，本发明实施例提供的彩膜基板，包括透明基板31，还包括设于所述透明基板31上的像素树脂32以及设于所述像素树脂32上的黑矩阵33，所述像素树脂32由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂321构成，各个子像素树脂321彼此之间紧密相连，所述黑矩阵33将每两个子像素321的交接处322覆盖。

在本实施例中，所述透明基板是由透明材质制成的基板，可以是玻璃基板也可以是树脂基板。

本发明实施例提供的彩膜基板，由于黑矩阵设置在像素树脂上，且像素树脂中各个子像素树脂彼此之间紧密相连，黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖，使得进黑矩阵形成的像素区域由像素树脂完全对应，避免了现有技术中稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。

进一步的，如图4所示，为了保护像素树脂，所述彩膜基板还包括保护层41，所述保护层41设置在设有像素树脂32和黑矩阵33的透明基板31上。

值得说明的是，在彩膜基板应用于FFS型液晶显示器时，所述保护层还给液晶显示器中取向层的平整度提供了保障。

进一步的，如图4所示，为了满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的液晶显示器需求，所述彩膜基板还包括透明导电层42，所述透明导电层42设置在所述保护层41上，使得透明导电层42起到公共电极的作用。

值得说明的是，在所述彩膜基板满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的需求时，该彩膜基板可以不存在用保护层，如图5所示，所述透明导电层42可以直接设置在设有像素树脂32和黑矩阵33的透明基板31上。

进一步的，如图6所示，为了使得彩膜基板能够与阵列基板对盒以形成液晶显示装置，所述彩膜基板还包括柱状隔垫物61，所述柱状隔垫物61对应于所述黑矩阵设置在黑矩阵33之上。

具体的，在所述彩膜基板包括透明基板、像素树脂以及黑矩阵时，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在黑矩阵上。

在所述彩膜基板包括透明基板、像素树脂、黑矩阵以及保护层时，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在保护层上。

在所述彩膜基板包括透明基板、像素树脂、黑矩阵、保护层以及透明导电层时，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在透明导电层上。

在所述彩膜基板包括透明基板、像素树脂、黑矩阵以及透明导电层时，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在透明导电层上。

当然，不管所述柱状隔垫物设置在黑矩阵上、保护层上还是透明导电层上，所述柱状隔垫物均设置在所述黑矩阵之上。

本发明实施例提供的液晶显示装置，包括图3-图6所示的彩膜基板和阵列基板，所述阵列基板与彩膜基板对盒形成液晶显示装置。

本发明实施例提供的液晶显示装置，由于液晶显示装置的彩膜基板中黑矩阵设置在像素树脂上，且像素树脂中各个子像素树脂彼此之间紧密相连，黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖，使得进黑矩阵形成的像素区域由像素树脂完全对应，避免了现有技术中稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。

如图7所示，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，包括：

步骤701，在透明基板71上涂覆像素树脂层，通过曝光并显影形成像素树脂72，所述像素树脂72由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂721彼此之间紧密相连。

在本实施例中，所述像素树脂层的厚度为1-5μm。

具体的，如图8所示，所述步骤701，包括：

步骤801，在所述透明基板71上涂覆红色像素树脂722。

步骤802，通过刻画有图形的掩模板对涂覆有红色像素树脂722的透明基板71曝光显影得到R子像素树脂。

步骤803，在形成有R子像素树脂的透明基板71上涂覆绿色像素树脂723。

步骤804，通过刻画有图形的掩模板对涂覆有绿色像素树脂723的透明基板71曝光显影得到G子像素树脂。

步骤805，在形成有R子像素树脂和G子像素树脂的透明基板71上涂覆蓝色像素树脂724。

步骤806，通过刻画有图形的掩模板对涂覆有蓝色像素树脂724的透明基板71曝光显影得到B子像素树脂。

值得说明的是，R、G、B子像素树脂的成形顺序并不限于上述的步骤801-步骤806，也可以先形成G子像素树脂，然后依次形成R、B子像素树脂，此处不做限定。

步骤702，在形成有像素树脂72的透明基板71上涂覆黑矩阵用光阻剂，通过曝光并显影形成黑矩阵73，所述黑矩阵73将每两个子像素721的交接处724覆盖。

在本实施例中，光阻剂的厚度为1-5μm。

本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，由于液晶显示装置的彩膜基板中黑矩阵设置在像素树脂上，且像素树脂中各个子像素树脂彼此之间紧密相连，黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖，使得进黑矩阵形成的像素区域由像素树脂完全对应，避免了现有技术中稍有偏差就会导致像素树脂无法填满黑矩阵所形成的像素区域，导致漏光的现象的问题。

进一步的，如9所示，为了保护像素树脂，彩膜基板的制造方法，还包括：

步骤703，在形成有像素树72和黑矩阵73的透明基板71上涂覆保护层74并进行固化处理。

进一步的，如图10所示，为了满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的液晶显示器需求，彩膜基板的制造方法，还包括：

步骤704，在所述保护层74上溅镀一层透明导电层75。

所述透明导电层75起到公共电极的作用。

值得说明的是，在所述彩膜基板满足TN型液晶显示器、VA型液晶显示器等的需求时，该彩膜基板可以不存在保护层，即可以省略步骤703，在形成有像素树脂和黑矩阵的基板上溅镀一层透明导电层。

进一步的，如图11所示，为了使得彩膜基板能够与阵列基板对盒以形成液晶显示装置，所述彩膜基板的制造方法，还包括：

步骤705，涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述黑矩阵72之上的隔垫物76。

具体的，在形成有像素树脂以及黑矩阵的透明基板上涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述黑矩阵上的隔垫物。

在形成有像素树脂、黑矩阵和保护层的透明基板上涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述保护层上的隔垫物。

在形成有像素树脂、黑矩阵、保护层和透明导电层的透明基板上涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述透明导电层上的隔垫物。

在形成有像素树脂、黑矩阵和透明导电层的透明基板上涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述透明导电层上的隔垫物。

当然，不管所述柱状隔垫物位于所述黑矩阵上、保护层上还是透明导电层上，所述柱状隔垫物均设置在所述黑矩阵之上。

在本实施例中，所述隔垫物用树脂的厚度为1-8μm。该隔垫物朝向所述黑矩阵的横截面直径为10-15μm，隔垫物反向所述黑矩阵的横截面直径为5-10μm。

本发明实施例提供的彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法，能够应用于具有液晶显示装置的设备中。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一计算机可读存储介质中，如ROM/RAM、磁碟或光盘等。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种彩膜基板，包括透明基板，其特征在于，还包括设于所述透明基板上的像素树脂以及设于所述像素树脂上的黑矩阵，所述像素树脂由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂彼此之间紧密相连，所述黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括保护层，所述保护层设置在设有像素树脂和黑矩阵的透明基板上。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括透明导电层，所述透明导电层设置在所述保护层上。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括透明导电层，所述透明导电层设置在设有像素树脂和黑矩阵的透明基板上。

5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物对应于所述黑矩阵设置在所述黑矩阵或者保护层或者透明导电层上。

6.一种液晶显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的彩膜基板。

7.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

在透明基板上涂覆像素树脂层，通过曝光并显影形成像素树脂，所述像素树脂由多个平行设置的R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素树脂构成，各个子像素树脂彼此之间紧密相连；

在形成有像素树脂的透明基板上涂覆黑矩阵用光阻剂，通过曝光并显影形成黑矩阵，所述黑矩阵将每两个子像素的交接处覆盖。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括：

在形成有像素树脂和黑矩阵的基板上涂覆保护层并进行固化处理。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述保护层上溅镀一层透明导电层。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括：

在形成有像素树脂和黑矩阵的基板上溅镀一层透明导电层。

11.根据权利要求7-10任一项所述的方法，其特征在于，还包括：

涂覆一层隔垫物用树脂，通过曝光和显影在对应于所述黑矩阵的位置上形成位于所述黑矩阵或者保护层或者透明导电层上的隔垫物。