WO2002032659A1 - Couche barrière et procédé de fabrication - Google Patents

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barrier
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Koujiro Ohkawa
Atsuo Tsuzuki
Kuniaki Yoshikata
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Dai Nippon Printing Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a barrier film and a method for producing the same, and more particularly, to a barrier film having a higher barrier property for preventing permeation of oxygen gas, zK vapor and the like, and useful for producing various packaging containers.
  • the present invention relates to a sex filem and a method for producing the same. Background technology
  • packaging containers of various forms have been developed and proposed for filling and packaging foods and beverages, pharmaceuticals, chemicals, and others.
  • barrier materials in various forms have been used as materials for the packaging container together with plastic films. I have.
  • one surface of a base film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon film is coated with an inorganic material such as silicon oxide or aluminum oxide.
  • a transparent barrier film provided with an oxide vapor-deposited film has been developed and tested in various types of containers using the same.
  • barrier properties that prevent or permeate oxygen gas, 7 ⁇ vapor, etc. Excellent aptitude for abolition.For example, even if it is disposed of as it is, it will not be destroyed.It will be used as a barrier material that composes packaging containers. Demand is greatly expected.
  • a barrier material one side of a base film such as the above-described biaxially stretched polyethylene terephthalate film or biaxially stretched nylon film, silicon oxide,
  • a transparent barrier film provided with a deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide
  • the type of the base film, the deposition speed, the deposition gas, the deposition pressure, the deposition gas flow rate, the degree of vacuum, the deposition rate It is extremely difficult to adjust the deposition conditions such as the output, the temperature at the time of the deposition, and the like.
  • the deposited film of the inorganic oxide such as silicon oxide and aluminum oxide is simply made to be a medium, oxygen gas, water vapor, etc. Etc. 3 ⁇ 4i! It does not mean that it is possible to produce a barrier material with excellent barrier properties to sit.
  • the most important function of the barrier property which is to awaken oxygen gas, water vapor, etc., has a constant performance and the like. It is extremely difficult to adjust the conditions and the like, and there is often a problem that variations occur in manufactured products and a large number of defective products are produced.
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide was provided on one surface of a base film such as the biaxially stretched polyethylene terephthalate film or the biaxially stretched nylon film.
  • Taukappa steam SiiJt is, 1 0. O g / m 2 - day also, oxygen, 1 0. 0 cc Z m 2 ⁇ day ⁇ atm
  • a transparent barrier film which is a grain of wheat and has a steam lit of 5.0 g / m 2 ⁇ day or less and an oxygen 5. of 5.0 cc Zm 2 ⁇ day ⁇ atm or less. It is one dog that is extremely difficult.
  • a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon film is used as a base film, and an inorganic oxide such as silicon oxide is deposited thereon.
  • the reason for the age of the barrier film provided with the film is not clear, but it is a barrier film having a yellowish or yellowish brown color tone, which is caused by, for example, transparency or printing nada.
  • an object of the present invention is to provide a barrier film having a higher barrier property for preventing permeation of oxygen gas, water vapor and the like, and useful for producing various kinds of packaging containers, and a method for producing the same. Disclosure of the invention
  • the present inventor has conducted various studies on the above-mentioned transparent barrier film, and found that A transparent barrier film in which a base film such as an axially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon film is provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide on one surface thereof, By performing the annealing treatment including the addition treatment, attention is paid to the phenomenon that the base film is thermally contracted and the yellowish or yellowish brown color tone of the inorganic oxide deposited film is reduced.
  • a vapor deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is applied to form a transparent barrier. Then, a transparent film is produced, and then, for example, the temperature of the transparent barrier film is set to room temperature or higher, and the film is left in an oven for 24 hours.
  • the base film constituting the transparent barrier film shrinks, the inorganic oxide vapor-deposited film becomes tighter, and the inorganic oxide vapor-deposited film is combined.
  • the yellowish to yellowish brown color tone of the film is completed, the yellowing degree is improved from the yellowish to yellowish color tone at the time of film formation, the transparency is increased, and the inorganic oxide
  • An inorganic material such as silicon oxide or aluminum oxide represented by the formula ⁇ (wherein ⁇ represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element)
  • represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element
  • the amount of change in the X value of the oxide is slightly increased, and the surface roughness of the inorganic oxide vapor-deposited film is also changed.
  • As a barrier material constituting the packaging container the oxygen gas, water vapor, etc. 3 ⁇ 41 [The barrier property to sib is remarkably improved. And it completed the present invention have found that it is possible to SeiTsuge useful Baria film to produce a use container.
  • the present invention comprises a substrate film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide, which is further subjected to an annealing treatment, and the water vapor concentration is set to 2.O g / m 2 -day to 0.0. 0 0 0 0 1 g / m 2 ⁇ day range, also acid, 2. 0 cc / m 2 ' day' atm ⁇ 0. in the range of 0 0 0 0 1 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm
  • the invention relates to a barrier film and a method for producing the same. Brief explanation of drawings
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of each KB showing the layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic sectional view showing a layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic (5-part cross-sectional view) showing a layer configuration of an example of a barrier film according to the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic sectional view showing a layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 10 is a sectional view showing the layer structure of one example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of a row of the barrier film according to the one pot invention.
  • FIG. 12 is a sectional view showing a layer structure of one example of a barrier film according to the present invention.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing an outline of a plasma chemistry ⁇ : eye growth apparatus.
  • FIG. 14 is a diagram showing the outline of a roll-up type vacuum evaporation apparatus.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view schematically illustrating the layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIG. 16 is a sectional view showing a layer structure of an example of the barrier film according to the present invention.
  • FIGS. 1 and 2 show one to two examples of the layer structure of the barrier film according to the present invention.
  • a vapor deposition film 2 of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of a base film 1. Further, the base film 1 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is subjected to a calo heat treatment in which the calo heat treatment temperature is set to room temperature or higher and the calo heat treatment time is set to 30 minutes or more.
  • the above-mentioned inorganic oxide vapor deposition film 2 is represented by water MO, acid ⁇ 1 ⁇ , yellowish boat of color tone, and the formula MO x (in which the inorganic oxide vapor deposition film is formed)
  • MO x in which the inorganic oxide vapor deposition film is formed
  • M represents a metal element
  • the value of X varies depending on the metal element.
  • a vapor-deposited film 2 of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of a base film 1 as a barrier film according to the present invention, as shown in FIG.
  • the substrate film 1 on which the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is provided is subjected to an annealing treatment including a calorie treatment in which the calorie collision is performed at room temperature or more and the calorie treatment time is 30 minutes or more.
  • Te the vapor deposited film 2 of the silicon oxide, as indicated by the arrow, the water vapor permeability, 2. 0 g / m 2 ' day ⁇ 0.
  • a vapor-deposited film 2 of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on one surface of a base film 1 as shown in FIG.
  • An annealing treatment comprising a calo heat treatment in which the base film 1 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is subjected to a heat treatment at room temperature or more and a calo heat treatment time of 30 minutes or more.
  • the barrier film A 2 having the configuration that was modified in the deposited film 3 b of an inorganic oxide having a sex like can Rukoto.
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on one surface of the base film 1 as shown in FIG.
  • the substrate film 1 on which the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is provided is provided with a calo-heat treatment i at a nitriding temperature or more and a calo-heat treatment time of 30 minutes or more.
  • a vapor-deposited film 2 of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on one surface of a base film 1 as shown in FIG. Further, the substrate film 1 on which the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is provided is subjected to an annealing treatment including a heating treatment in which the heating is performed at room temperature or higher and the heat treatment time is 30 minutes or longer. subjected to, for deposited film 2 of the silicon oxide, as indicated by an arrow P 4, the yellowing factor, deposited one 0.3 to 1 2. inorganic oxide having with improved properties in the range of 0 It can be force mentioned barrier film a 4 having the configuration which is modified in membrane 3 d.
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is deposited on one surface of the base film 1 as shown in FIG.
  • the base film 1 provided with the film 2 and further provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 2 is subjected to a calo heat treatment in which the heat treatment is performed at room temperature or more and the calo heat treatment time is set to 3 ° minutes or more.
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of the base film 1.
  • the substrate film 1 provided with the deposited film 2 of the product, and further provided with the deposited film 2 of the inorganic oxide, is subjected to a heat treatment at a room temperature or higher and a heat treatment time of 30 minutes or longer.
  • the deposited film 2 of the above oxide silicofluoride iodine as shown by the arrow P 6, the surface roughness of the deposited ⁇ the inorganic oxide were changed in the range of 3 to 3 0 nm mention may be made of a barrier film a B having the configuration that was modified in the deposited film 3 f of an inorganic oxide having a characteristic.
  • one surface of a base film 1 may be made of silicon oxide or aluminum oxide or the like.
  • the key difference value and the Rms value of the surface unevenness are key.
  • one surface of the base film 1 is coated with an inorganic material such as silicon oxide or silicon oxide aluminum.
  • the vapor-deposited oxide film 2 is provided, and the calo-heat treatment is performed on the base film 1 on which the oxide-deposited film 2 is formed, by setting the calo heat treatment to room temperature or higher and the calo heat treatment time to 30 minutes or more.
  • the deposited film 2 of the silicon oxide as indicated by an arrow [rho kappa, the flow direction of the shrinkage film ⁇ of the substrate film, and also the least in the width direction In one direction, the shrinkage in the range of 0.001 to 1.0% and the denseness of the inorganic oxide vapor-deposited film are reduced.
  • OA 5 to 100 nm
  • Can be exemplified evaporated film 3 h ing from the reforming was constructed Roh 'Ria film A 8 oxide.
  • the ⁇ of the evaporated film of hydride is compared with its mellowness before the annealing treatment,
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on one surface of the base film 1.
  • Annealing on the substrate film 1 on which the vapor deposition film 2 is provided, and the calo heat treatment is performed at room temperature or higher for a calo heat treatment time of 30 minutes or more.
  • a fiber oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of the base film 1.
  • Annealing on the substrate film 1 on which the vapor-deposited film 2 is provided and the calo-heat treatment is performed at room temperature or higher and the calo-heat treatment time is 30 minutes or longer.
  • the ⁇ -rate of the base film of the silicon oxide vapor-deposited film 2 is compared with that before the annealing treatment, and the flow direction and width of the film are determined. At least one of the directions is shrunk in the range of 0.001 to 1.1% and the inorganic oxide vapor deposited film is tightly closed.
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on one surface of the base film 1 as shown in FIG.
  • An annealing process including a calo heat treatment in which the calo heat treatment is performed at room temperature or higher and the calo heat treatment time is set to 30 minutes or more is applied to the silicon oxide vapor-deposited film 2 as shown by an arrow Ptl.
  • the steam ⁇ , 2. 0 g / m 2 - day ⁇ 0. 0 0 0 0 0 1 g Roh m 2 - range of the day, also, the oxygen i3 ⁇ 4 degree, 2.
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of a substrate film.
  • Annealing temperature of 30 minutes or more and annealing treatment for 30 minutes or more thereby improving the KT of the above-mentioned deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide. It relates to a barrier film made of Sffl.
  • the material constituting the barrier film according to the present invention and the production method thereof will be described.
  • the base film constituting the barrier film according to the present invention Providing a deposited film of an inorganic oxide such as silicon or aluminum oxide has excellent properties in terms of strength, physical properties, physical properties, etc. And a resin film or sheet having properties can be used.
  • examples of the base film include polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, fluorine resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), Polyesters such as acrylonitrile rubutadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.
  • Polyamide shelves such as resin, various nylons, etc.
  • Resin polyamide imide resin, polyaryl phthalate resin, silicone resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, polyurethane resin, acetal resin, cellulose resin, It can apply various kinds of resin films or sheets.
  • a film or sheet of a polypropylene resin, a polyester resin, or a polyamide resin it is particularly preferable to form a film or sheet of a polypropylene resin, a polyester resin, or a polyamide resin.
  • the film or sheet of the above-mentioned various resins for example, one or more of the above-mentioned various kinds of shelves are used, and are extruded, cast-formed, ⁇ -die-cutting, cutting, inflation.
  • the above-mentioned various leaks are produced independently using the consolidation method
  • J5 Dentalization method or multi-layering method using two or more types of resins, and furthermore, make two or more types of translations and mix them before they are approved According to the method, films or sheets of various resins are manufactured.
  • a film or sheet of various resins is produced by uniaxially or biaxially stretching using a uniaxial stretching method or a biaxial stretching restraint for stretching in a uniaxial direction.
  • the uniaxial stretching method is, for example, a longitudinal uniaxial stretching method in which a film extruded from a T-die is stretched in a longitudinal direction by a roll or a stretching machine called a tentering machine called Tenyuichi.
  • a stretching machine called a tentering machine called Tenyuichi.
  • Tenyuichi a stretching machine in which a film extruded from a T-die is stretched in a longitudinal direction by a roll or a stretching machine called a tentering machine called Tenyuichi.
  • the ability to convert a uniaxially stretched horizontal body to a new one is, for example, a longitudinal uniaxial stretching method in which a film extruded from a T-die is stretched in a longitudinal direction by a roll or a stretching machine called a tentering machine called Tenyuichi. The ability to convert a uniaxially stretched horizontal body to a new one.
  • a tube-like film extruded from a ring-shaped die is further blown with air to expand the film, and at the same time, is pulled in the ⁇ direction to form a yellow film in two directions.
  • the film extruded from the ⁇ die is solidified with a cooling roll, and the film is extruded until the stretching temperature (80 to 140 ° C), and the film is extruded under heat.
  • a simultaneous biaxial stretching method that stretches in the horizontal direction and simultaneously stretches in the vertical direction while increasing the clip interval at a constant pitch, or stretching in the vertical direction and then in the horizontal direction «Type ⁇ ;” or stretching in the direction and then stretching in the direction » Sequential, etc .:
  • the stretching process can be performed by drawing “stretching”.
  • the various resin films or sheets subjected to the above-mentioned drawing force are used to improve their physical properties such as dimensional stability, Wen Peng Zhang rate, wet Jtl Peng Zhang rate, smoothness, etc. Depends on everyone's filimum or sheet, etc.
  • the thickness of the film or sheet of the above various resins is preferably 6 to: about L00m, more preferably about 9 to 50zm.
  • the residual stress or residual strain of the films or sheets of the above-mentioned various resins can be determined by using, for example, Oyama ⁇ Zhu Jikan, a model name, glass scale DL-301, etc. 2 3 18 It is possible to measure S with ⁇ ;
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide is provided on one surface of the above-described substrate film, and further, a calorific film is provided on the substrate film provided with the vapor-deposited film of the inorganic oxide.
  • the shrinkage ratio of the base film is reduced to at least one of the flow direction at the time of the film male and the width direction at least in one direction. It shrinks to a range of 1 to 1.0% and tightly squeezes the deposited film of the inorganic oxide.
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide is provided on one surface of the base film as described above, and a vapor-deposited film of the inorganic oxide is further provided.
  • the substrate film By subjecting the substrate film to an annealing process including a heat treatment or a heat treatment, the substrate film has a content of 1% or less, specifically, within a range of 0.1 to 1%.
  • the base film By correcting the residual stress or residual strain to the range of about 0.01 to 0.999%, the base film can be moved in at least one of one or two directions by 0.1.
  • the vapor-deposited film of the inorganic oxide also shrinks with the contraction of the base film, and the particles of the inorganic oxide constituting the vapor-deposited film of the inorganic oxide themselves are shrunk. This makes the oxygen conversion or ⁇ 3 ⁇ 4steam ⁇ S3 ⁇ 4 etc. gas remarkable. It is to improve.
  • various resins when one or more of the above-mentioned various resins are added and converted into a resin, for example, processing of the film, raw material, removability, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, anti-oxidation property
  • processing of the film raw material, removability, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, anti-oxidation property
  • various plastic compounding agents and additives for the purpose of improving or modifying the properties such as slipperiness, mold release, flame retardancy, mold resistance, electrical properties, bow, etc.
  • the addition amount can be arbitrarily ⁇ from a very small amount to several tens% depending on the purpose.
  • general additives include, for example, lubricants, KAGAJI, antioxidants, ultraviolet rays p-absorbing agents, light stabilizers, fillers, antistatic agents, lubricants, anti-blocking agents, dyes, pigments, etc. And others can be used, and furthermore, a reforming tree can be used.
  • the surface of the various resin films or sheets described above may be provided with a desired surface in advance, if necessary, in order to improve, for example, the tight adhesion with a key silicon oxide deposited film. It is possible to provide a surface treatment layer.
  • the surface treatment layer for example, a corona furnace treatment, an ozone treatment, a low-temperature plasma treatment using an oxygen gas or a nitrogen gas, a glow discharge treatment, a treatment using an iridaku chemical, or the like is used.
  • Pretreatments such as an oxidation treatment and other treatments are optionally performed, and for example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, and the like are formed and provided.
  • the above-mentioned surface pretreatment is performed as a method for improving the tight adhesion between various resin films or sheets and the later-described oxide film of oxide I, and the like.
  • a primer coat layer, an undercoat agent layer, an anchor coat agent layer, an adhesive layer, or a vapor-deposited anchor coat agent may be previously formed on the surface of various resin films or sheets.
  • a layer or the like may be arbitrarily formed to form a surface treatment layer.
  • the coating agent layer for the above pretreatment examples include polyester resin, polyamide resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, (meth) acryl resin, and polyvinyl resin. It is capable of removing resin exfoliated substances using a resin, a polyolefin-based resin such as polyethylene or polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose-based resin, or the like as a vehicle.
  • an inorganic film such as silicon oxide or aluminum oxide constituting the barrier layer according to the present invention
  • an inorganic film such as silicon oxide or aluminum oxide can be used, for example, a chemical growth method, a physical vapor growth method, or a combination of both. It is capable of forming and manufacturing a single layer film composed of one layer of an oxide deposited film or a multilayer film or a composite film composed of two or more layers.
  • the silicon oxide vapor deposition film formed by the above-mentioned chemical vapor deposition method will be further described.
  • the silicon oxide vapor deposition film formed by the chemical vapor deposition method for example, plasma chemical vapor deposition, It is possible to form a deposited silicon oxide film by using a growth method, a chemical vapor deposition method of photochemical eye growth (Chemical Vapor Deposition method, CVD method), or the like.
  • a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas.
  • an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas.
  • the low-temperature plasma generator for example, a generator such as a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, or a microwave plasma can be used.
  • a highly active and stable plasma is used. In order to achieve this, it is necessary to use a high-frequency plasma generator.
  • FIG. 1 is an outline B ⁇ 0 configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method of forming a deposited film.
  • the substrate film 1 is unwound from an unwinding roll 13 disposed in a vacuum chamber 11 of a plasma chemical growth apparatus 11, and further, The base film 1 is cooled at a predetermined speed via an auxiliary roll 14 and is placed on the peripheral surface of the electrode drum 15.
  • oxygen gas, tongue gas, monomer gas for vapor deposition such as organosilicon compounds, and the like are supplied from the gas supply devices 16 and 17 and the nuclear fuel supply device 18 and the like. Then, while adjusting the vapor-deposited mixed gas thread Ii, the vapor-deposited mixed gas spoil is introduced into the vacuum chamber 12 through the raw material supply nozzle 19 while adjusting the cooling electrode. Plasma generated by glow discharge plasma 20 on substrate film 1 conveyed on drum 15 Is generated, and this is irradiated to rid the deposited film of oxidized oxide.
  • the cooling electrode drum 15 is supplied with a predetermined electric power from the grapes 21 arranged outside the vacuum chamber 12, A magnet 22 is arranged near the drum 15 to promote the generation of plasma.
  • the base film 1 on which the silicon oxide vapor-deposited film is formed is wound around a winding roll 24 via an auxiliary roll 23, and the silicon oxide vapor deposition is performed by the plasma chemical growth method according to the present invention.
  • a film can be formed.
  • 25 represents a vacuum pump.
  • the deposited film of the inorganic oxide is not limited to one layer of the deposited film of the inorganic oxide, but may be a multilayer film in which two or more layers are stacked.
  • the material to be used may be one kind or a mixture of two or more kinds, and a vapor-deposited film of an inorganic oxide mixed with the above materials may be used.
  • the vacuum chamber one 1 in 2 and E by the vacuum pump 2 5 the degree of vacuum 1 X 1 0- ' ⁇ 1 ⁇ 1 0- 8 T orr position, preferably, vacuum IX 1 0- 3 ⁇ ix 1 those mosquitoes ⁇ Masui be prepared to 0- 7 T orr position.
  • the organic silicon compound as a raw material is volatilized and mixed with oxygen gas, an inert gas or the like supplied from the gas supply devices 16 and 17, and this mixed gas is used as the raw material. Introduced into the vacuum chamber 112 via the ISK common supply nozzle 19.
  • the content of the organic silicon compound in the mixed gas is about 1 to 40%
  • the content of the oxygen gas is about 10 to 70%
  • the content of the inert gas is 10 to 60%. %,
  • the mixing ratio of an organic silicon compound, oxygen gas, and an inert gas is 1: 6: 5 to 1: 17: 1.
  • the opening of the material supply nozzle 19 in the vacuum chamber 12 and the cooling electrode drum 15 A plasma 20 is generated in the vicinity of the plasma, and this glow discharge plasma 20 is derived from one or more gas components in the mixed gas.
  • the base film 1 is kept constant. It is transported at a high speed, and is cooled by a grove 20. On the film 1, a deposited film of silicon oxide can be formed.
  • the vacuum chamber at this time - the degree of vacuum in the, IX 10- 1 ⁇ IX 10- 4 To rr position, preferably, vacuum IX 10- 1 ⁇ IX 10- 2 To rr position to force the wall to prepare
  • the base film 1 is prepared to have a carrier temperature of about 10 to 300 mZ, preferably about 50 to 150 mZ.
  • the formed silicon oxide vapor-deposited film is a dense, small-gap, highly flexible layer, and thus has a barrier property of the silicon oxide vapor-deposited film. Is much higher than a silicon oxide deposited film formed by a vacuum deposition method or the like, and a sufficient barrier property can be obtained with a thin layer Iff.
  • the surface of the base film 1 is cleaned by the plasma, and a polar group, free radicals, and the like are generated on the surface of the base film 1.
  • a polar group, free radicals, and the like are generated on the surface of the base film 1.
  • the vacuum degree during formation of the deposited film of silicon oxide as described above, 1 X 10- 1 ⁇ 1 X 10- 4 ⁇ or r -position, preferably, IX 10- 1 ⁇ 1X 10- 2 Tor r -position from be prepared, is I £ 3 ⁇ 4 empty degree compared by vacuum deposition of «degree of vacuum when forming the deposited film of silicon oxide, in 1 X 10- 4 ⁇ 1 X 10- 5 to rr position Therefore, it is possible to shorten the time required to set the vacuum state when exchanging the base film 1 and to stabilize the degree of vacuum.
  • a deposited silicon oxide film formed by using a vaporized monomer gas such as an organic silicon compound is chemically reacted with a vaporized monomer gas such as an organic silicon compound and oxygen gas, and a reaction product thereof is formed.
  • a vaporized monomer gas such as an organic silicon compound
  • oxygen gas such as an organic silicon compound and oxygen gas
  • the thin film is mainly composed of a deposited silicon oxide film represented by the following formula.
  • the value of X changes depending on the molar ratio of the vaporized monomer gas to oxygen gas, the energy of the plasma, and the like. In general, the smaller the value of X, the smaller the gas inversion, but the film Auto ⁇ 'yellow I' raw ⁇ , transparency becomes less.
  • the above-described silicon oxide vapor-deposited film is mainly composed of silicon oxide, and further includes at least one page of carbon, hydrogen, silicon, or oxygen, or a compound containing two or more elements.
  • the number of trees is defined as the amount of vapor deposition included by chemical bonding.
  • an organic silicon compound as a raw material is used.
  • an organic silicon compound as a raw material is used.
  • chemicals that include these invitations include hydrated carbon having a CH 3 site, hydrated silica such as SiH ;) silyl and Si silylene, and hydroxyl group derivatives such as SiH 2 OH silanol.
  • the content of the above compound in the deposited silicon oxide film is about 0.1 to 50%, preferably about 5 to 20%.
  • the deposited silicon oxide film has insufficient impact resistance, m-property, flexibility, and the like, and easily bends, scratches, cracks, and the like due to bending. It is difficult to stably maintain a high barrier property, and if it exceeds 50%, the nori force s decreases, which is not preferable.
  • the content of the above compound in the silicon oxide vapor-deposited film is reduced in the depth direction from the surface of the silicon oxide vapor-deposited film.
  • the impact resistance and the like can be enhanced by the above-mentioned compounds and the like.
  • the content of the above-mentioned compounds is small, so that the base film and the oxidized film are not oxidized.
  • the above-mentioned deposited silicon oxide film may be, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (X ray Photoelectron Spectroscopy, XPS), (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS) and other methods for analyzing by ion etching in the depth direction etc.
  • XPS X ray Photoelectron Spectroscopy
  • SIMS Secondary Ion Mass Spectroscopy
  • J ⁇ of the silicon oxide vapor-deposited film is in the order of about 50 A to about 400 OA, and specifically, the enzyme is 50 to 1 Therefore, in the above, if the thickness is more than 100, and if the thickness is more than 400 OA, cracks or the like are likely to be generated in the film, which is not preferable. If it is less than OA, it is not preferable because it is difficult to exhibit the barrier effect.
  • the film thickness can be measured by, for example, a fundamental parameter method using a fluorescent X-ray analyzer (model name: R1X200OS) manufactured by Rigaku Corporation. .
  • the size of the deposited film is increased, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or a method of delaying the deposition. 3 ⁇ 4 ⁇ can do it.
  • the vapor-deposition monomer gas such as an organic silicon compound forming a vapor-deposited film of silicon oxide, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyl Trimethylsilane, Hexamethyldisilane, Phenylsilane, Vinyltriethoxysilane, Vinyli
  • 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane can be used as a raw material, its handling property, and the number of formed It is a particularly preferable raw material because of its characteristics and the like.
  • examples of the inert gas include argon gas, helium gas, and the like.
  • the vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide by the above-mentioned physical grain growth method will be described in more detail.
  • the inorganic oxide deposited film include a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and an ion cluster beam method (Physica 1 Vapor Deposition method, PVD method).
  • a metal oxide is used as a material, which is heated to form a base film.
  • a vacuum evaporation method in which a metal or a metal oxide is used as a raw material, and an oxidation reaction deposition method in which oxygen is introduced and oxidized to be deposited on a substrate film, and further, an oxidation reaction is performed.
  • An amorphous thin film of an inorganic oxide can be formed by using a plasma-assisted oxidation reaction deposition method or the like of a plasma assisted method.
  • the calorific heat of the vapor deposition material it is possible to use, for example, a low-temperature heat method, high-frequency induction heating, electron beam heating: ⁇ (EB), or the like.
  • any thin film obtained by depositing a metal oxide can be used as the inorganic oxide deposited film.
  • silicon (Si), aluminum ( A 1), magnesium (Mg), potassium (Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium ( Zr), yttrium (Y) and other metal oxides can be deposited.
  • a preferable example is a deposited film of an oxide of a metal such as silicon (Si) or aluminum (A1).
  • the deposited film of the above metal oxide can be referred to as a metal oxide, such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc.
  • the notation is, for example, S iOx , A 1 ⁇ , MgO x, etc., where M ⁇ x (where M represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element; the $ s range is different).
  • the range of the above-mentioned value of X is as follows: silicon (Si) is 0 to 2, aluminum (A1) is 0 to 1.5, magnesium (Mg) is 0 to 1, and calcaretium (Ca) Is 0 to 1, potassium (K) is 0 to 0.5, tin (Sn) is 0 to 2, sodium (Na) is 0 to 0.5, and boron (B) is 0 to 1. , 5, Titanium (Ti), 0-2, Lead (Pb), 0-1, Zirconium (Zr), 0-2, Yttrium (Y), 0-1.5 You can take it.
  • gay element (S i) and aluminum (A 1) ⁇ are rarely used, and gay element (S i) is 1.0 to 2.0, aluminum (A 1) ) Is 0.5 ⁇
  • the metal used, or the metal used for the deposition of the inorganic oxide, such as the above, may be used. Although it differs depending on the size of the metal oxide, for example, the shape can be freely selected within the range of 50 to 400, preferably in the range of 50 to 100 A. T-power is good.
  • the metal used as the inorganic oxide deposited film or the metal oxide is used as one kind or a mixture of two or more kinds, and the inorganic acid mixed with the ⁇ @ material is used. It is also possible to form a vapor deposition film of a dani 'product.
  • FIG. 14 is a configuration diagram of a rolled-up vacuum vapor deposition apparatus showing " ⁇ ". .
  • the base film 1 unwound from the unwind roll 33 is passed through the guide rolls 34, 35. It is guided to the cooled coating drum 36.
  • the evaporation source 39 heated by the crucible 37 for example, metal aluminum or aluminum oxide
  • the evaporation source 39 blow out oxygen gas or the like from the oxygen gas outlet 39, and supply it through the masks 40 and 40, for example, an inorganic acid such as aluminum oxide. This is for forming a vapor deposition film of a compound.
  • the base film 1 on which a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed is wound around a winding hole 43 via a guide roll 41, 42 or the like.
  • the resin film 1 having the inorganic oxide vapor-deposited film according to the present invention is produced.
  • a first layer of an inorganic oxide vapor-deposited film is formed by using the above-described roll-up vacuum vapor deposition apparatus, and then, similarly, the inorganic oxide vapor-deposited film is formed.
  • an inorganic oxide vapor deposition film is further formed, or this is connected in series using a roll-up type vacuum vapor deposition device as described above, and the inorganic oxide film is continuously formed.
  • the base film provided with the above-mentioned vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide has a heating temperature of room temperature or higher, and a heat treatment time of 30 minutes or longer.
  • the caro heat treatment process will be described first.
  • an SJ-adjustable room was prepared, and in that room, the amount of SiC was adjusted to a predetermined value above room temperature, and a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum banide was provided.
  • the base film In order for the base film to be piled up in a wisteria shape for each sheet, or to be left in a state of being wound up on a roll, etc.
  • the caro conversion process depends on the force and the process time, but is, for example, in the range of room temperature or higher to about 200 ° C.
  • the temperature is in the range of about 55 ° C to about 150 ° C.
  • the calo heat treatment time depends on the caro contention and the like, but is, for example, in a range of 30 minutes or more to about 5 days, and more preferably. However, it is desirable that the range is from 1 hour to 3 days.
  • the heat treatment time i is in the range of about 55 ° C. to 150 ° C. It is preferable that the heat treatment is performed within a range of about 12 hours to 36 hours.
  • the caro heat treatment more specifically, the caro heat treatment ⁇ it is set to about 55 ° C, and the caro treatment time is processed at about 24 hours ⁇ , Set the caro temperature to about 70 ° C and heat-process the caro heat for about 24 hours ⁇ ; or set the heating temperature to about 90 ° C and heat-treated The heat treatment can be performed for about 24 hours.
  • the above-described annealing corresponds to an annealing process of the base film in which the base film is raised to a certain level, left for a while, and then cooled to room temperature. is there.
  • the base film 1 on which a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed as shown in FIG. Uniaxially or biaxially stretched as described above, and further subjected to thermal stabilization treatment such as treatment to have residual stress or residual strain. Further, the residual stress or residual strain is 1% or less.
  • various resin films or sheets 1a in the range of 0.1% to 1% are used as the base film.
  • silicon oxide or metal aluminum or aluminum is used as a vapor deposition source, and this is heated. Evaporate and deposit, if necessary, inorganic oxide particles 4 such as silicon oxide or aluminum oxide while supplying oxygen gas, etc., to form a deposited film 2 of the accumulated inorganic oxide. .
  • the substrate particles on which the oxide particles 4 such as silicon oxide or aluminum oxide are deposited and the deposited inorganic oxide deposited film 2 is formed as described above.
  • the film 1 (la) By subjecting the film 1 (la) to a heat treatment or an annealing treatment consisting of a heat treatment, first, as shown by an arrow X, the base film 1 (la) itself or its surface layer is subjected to heat shrinkage. And the contraction rate of the base film shrinks in a range of -0.001 to 1.1% in at least one of the flow direction and the width direction during film formation. At the same time, the deposited film of the anatomized substance is made tighter.
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide is provided on one surface of the substrate film as described above, and the substrate film provided with the vapor-deposited film of the inorganic oxide is further provided.
  • the residual stress of the base film 1 (1) is 1% or less, specifically, 0.1 to 1%.
  • remove the residual strain correct the residual stress or residual strain to within the range of 0.1% to 0.99%, and move the base film in one direction or at least one direction. It shrinks to the range of 0.001 to 11.0% to form a base film lb which has its dimensional stability, eliminates defects, and has improved physical properties.
  • a silicon oxide or aluminum oxide such as tt ⁇ aluminide provided thereon.
  • Particles 4 are deposited, and a vaporized film 2 of the compound is also generated.
  • particles of the inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide constituting the vapor-deposited film 2 of the inorganic oxide. 4 also becomes close to each other in some form, closes the gaps and closes it, and closes it to form a dense, continuous thin film of inorganic oxide 2a consisting of a thin film that is continuous.
  • the residual stress or residual strain within the range of 1% or less having the substrate film force S, specifically, 0.1 to 1% is removed, and the residual stress or residual strain is reduced to 0, 0 1
  • Correction within the range of about 9% to about 9% means that the residual stress or strain within 1% or less of the base film thickness, specifically within the range of 0.1 to 1%, is reduced to 0%. This corresponds to correcting the residual stress or residual strain of the base film at a rate of about 0.1 to 95%.
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide may be formed on a base film provided with a deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide. It is not preferable because the film quality of the deposited film does not change and its effect is not recognized, and when the temperature is 200 ° C. or more, furthermore, 150 ° C. or more, the base film This is not preferred because it becomes impossible to maintain its shape and the like due to melting of S and the like. Further, it is not preferable because its ⁇ g property is inferior.
  • the heat treatment time is 30 minutes or less, as described above, in a base film provided with a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide. It is not preferable because there is no change in the thickness of the deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, and it is not possible to bear the power to create the effect, and more than 5 and more than 3 This is undesirable because of its poor 4 properties.
  • a deposited film of a fiber oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided, and further, silicon oxide or aluminum oxide or the like is provided.
  • an annealing treatment comprising a heating treatment at a heating temperature of room temperature or higher and a calorific treatment time of 30 minutes or more
  • the film thickness of the inorganic oxide such as silicon oxide or silicon oxide provided on the film is determined by the steam degree, oxygen permeability, yellowing degree of the color tone, and the formula S i Ox which constitutes the deposited film.
  • Change in X value of silicon oxide, surface roughness of deposited film, substrate fill It can form a vapor-deposited film of a compound such as silicon oxide or aluminum oxide, which has properties such as the fineness of the film, the thickness of the vapor-deposited film of the inorganic oxide, and the like.
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of the base film.
  • the base film provided with a vapor-deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is subjected to a calo-heat treatment.
  • the vapor-deposited film of inorganic oxide such as aluminum oxide or silicon oxide provided on the material film its water vapor ⁇ Jt, 2.0 g / m 2 'day to 0.0000000 g / m "
  • the range of d ay and oxygen 3 ⁇ 4U should be in the range of 2.0 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm to 0.000 001 c cZm 2 ⁇ d ay ⁇ a tm. 0.3 to 2.0, and «constitutes an oxide deposited film ⁇ (where, ⁇ represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element.
  • the amount of change in the X value of the inorganic oxide represented by the formula (1) is increased to the range of +0.01 to +0.50, and the surface roughness of the deposition layer of the inorganic oxide is It is preferable to form a barrier film composed of a modified inorganic oxide film having a characteristic adjusted in the range of 3 to 30.
  • an evaporated film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided on one surface of the base film, and an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is further provided.
  • the base film provided with the deposited film of the oxidized product is subjected to an annealing treatment including a caro heat treatment in which the heat treatment is performed at room temperature or more and the force D heat treatment time is 30 minutes or more.
  • the base film has a shrinkage ratio in the range of 0.001 to 1.0% with respect to at least one of the flow direction and the width direction when the film is male.
  • the deposited oxide film has a thickness in the range of 50 to 100 OA (5 to: LO Onm).
  • the base film provided with a deposited film of a male oxide such as silicon oxide or aluminum oxide after the annealing treatment as described above has a higher water vapor permeability than that before the annealing treatment.
  • the base film provided with a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or depleted aluminum after the annealing treatment as described above may have a surface roughness of the deposited film of the inorganic oxide.
  • the difference between the reference box and the Rms value of the surface irregularities are improved by 1.01 to 100 times compared to before annealing.
  • the surface difference value and Rms function of the above surface irregularities are as follows.
  • a deposited film of a metal oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided, and further, a base film provided with the deposited film of the inorganic oxide is provided.
  • Lum is subjected to an annealing treatment including a heat treatment in which the heat treatment S is set to room temperature or higher and the heat treatment time is set to 30 minutes or more.
  • the surface roughness of the deposited film of the inorganic oxide, the standard deviation value of surface irregularities, and the Rms value are increased from 1.01 to L00 times, and the water vapor transmission is further improved. the degree, 2. Og / m 2 ⁇ day ⁇ 0 .
  • a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or silicon oxide is provided on one surface of the base film, and a base film provided with the vapor-deposited film of the inorganic oxide is further provided.
  • the material film is subjected to an annealing treatment including a calo heat treatment in which the Caro heat treatment is performed at room temperature or higher and a heat treatment time is set to 30 minutes or more, so that the silicon oxide vapor-deposited film is subjected to annealing before the annealing treatment.
  • the shrinkage of the base film is shrunk in the range of -0.001 to -1.0% with respect to at least one of the flow direction and the width direction of the film / spout.
  • the water vapor is in the range of 2. Og / m 2 -day to 0.0000000 g / m 2 -day, and the oxygen 3 ⁇ 41 ⁇ is 2.0 cc / m 2 'day' atn! It is possible to produce a barrier film having a structure modified to a deposited film of an inorganic oxide having a characteristic in the range of 0.001 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm.
  • the film quality of a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide provided on the base film changes, The reason for the modification is not clear, but as mentioned above, A vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide provided on one surface of the film by vapor deposition or the like forms a silicon oxide or aluminum oxide vapor and deposits the particles to form silicon oxide or silicon oxide. A deposited film of an inorganic oxide composed of aluminum oxide or the like is formed. In the deposited film of an inorganic oxide composed of silicon oxide or aluminum oxide, a large number of fine holes or the like are formed.
  • the gaps formed and forming the micropores are shrunk by the substrate film itself or its surface layer, etc., by annealing treatment such as heat treatment or heat treatment, as well as silicon oxide or aluminum oxide.
  • the deposited film of the inorganic oxide, such as silicon oxide and aluminum oxide also cooperates, so that the particles such as silicon oxide or aluminum oxide constituting the deposited film of the oxidized product become tighter in some form, and the gap is formed. It is understood that this is due to the formation of a dense, continuous thin film by sealing and closing the space.
  • the barrier film according to the present invention produced above is used as a barrier material, and is used in combination with another plastic film, material, metal foil or metal plate, cellophane, Laminates are arbitrarily laminated with one or more of various substrates such as woven or nonwoven fabrics, glass plates, etc. to produce laminated materials of various forms, and the laminated materials are used for packaging.
  • a primer layer is provided on the surface of the above-mentioned barrier film according to the present invention on the surface of the deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide. Then, a layer for laminating is formed on the surface of the primer agent layer. Thereafter, a substrate such as a plastic film is formed via the primer agent layer and the laminating layer.
  • a primer agent layer is formed on the surface of a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide of the barrier film according to the present invention.
  • An anchor coat agent layer is formed on the surface of the layer, and after squeezing, various resins are melt-extruded through the primer agent layer and the anchor coat agent layer to form a desired base material.
  • the extruded laminating method 1) it is possible to produce raw materials having various forms.
  • the desired other base materials may be arbitrarily laminated in the same manner as described above, and laminated materials having various forms may be used.
  • other base materials are arbitrarily laminated and designed and manufactured in various forms. It is powerful.
  • the present invention will be described by taking a packaging container as an example using the above-described laminated material.
  • the packaging container for example, the above-mentioned materials are specifically described.
  • the heat seal I green resin layer which is located at the innermost layer, is overlapped with the surfaces facing each other, and then the three sides of the outer peripheral edge are heat-sealed to form a seal I ⁇
  • An opening is provided at the end to allow the three-sided sealable flexible container to be woven.
  • the opening of the three-side seal type soft packaging container manufactured as described above is filled with contents such as food and drink and the like, and then the upper opening is opened.
  • Heat sealing the part to form an upper seal, etc., and further, if necessary, for example, boil treatment, retort treatment, etc., can produce packaged products of various forms It is.
  • the present invention is not limited to the packaging containers illustrated in the above-described examples, and the soft enclosure bag, the liquid container, the paper container, and the like may be used depending on the purpose and application. It goes without saying that various types of packaging containers such as, and others can be manufactured.
  • the primer layer constituting the above-described base material
  • a polyurethane-based resin or a polyester-based resin is used as a main component of a vehicle
  • the silane coupling agent is about 0.05 to 10% by weight, preferably about 0.1% to 5% by weight
  • the filler is 0.1 to 30% by weight of the resin or polyester resin. 20% by weight, preferably about 1 to 10% by weight, and if necessary, additives such as stabilizers, curing agents, cross-linking agents, lubricants, ultraviolet absorbers, etc. are optional.
  • a solvent 3 ⁇ 4i3 ⁇ 4 etc.
  • a polyurethane or polyester resin are added and mixed well to prepare a polyurethane or polyester resin, and the polyurethane or polyester resin is used.
  • a polyurethane or polyester resin is used.
  • Mouth - Turkey one Bok gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, by any other coating method or the like, a silicon oxide of the above-mentioned Or coated on a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide.
  • the coating film is referred to, and the solvent, f ⁇ j, etc. are added, and if necessary, aging treatment, etc.
  • the primer layer according to the present invention.
  • the primer agent layer preferably has a thickness of, for example, 0.1 IgZm 2 to 1.0 O g / m 2 (energy).
  • the above-mentioned primer agent layer improves the close adhesion I between the deposited film of a male oxide such as silicon oxide or aluminum oxide and the heat seal I green resin layer I and the like.
  • a male oxide such as silicon oxide or aluminum oxide
  • the heat seal I green resin layer I and the like improves the close adhesion I between the deposited film of a male oxide such as silicon oxide or aluminum oxide and the heat seal I green resin layer I and the like.
  • the primer agent layer improves the close adhesion I between the deposited film of a male oxide such as silicon oxide or aluminum oxide and the heat seal I green resin layer I and the like.
  • the polyurethane resin constituting the polyurethane resin composition for example, a polyurethane resin obtained by a reaction between a polyfunctional isocyanate and a hydroxyl group-containing compound can be used. .
  • aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, or hexamethylene diisocyanate
  • polyfunctional isocyanate such as fatty polyisocyanate such as styrene, xylylene diisocyanate, etc.
  • hydroxyl group-containing compounds such as polyether polyol, polyester polyol, polyacrylate polyol, etc.
  • the use of the polyurethane resin as described above improves the close adhesion between the vapor-deposited film of silicon oxide and the heat seal I 'green resin layer I and the like, and provides a primer agent.
  • the purpose of the present invention is to improve the elongation of the layer, improve the suitability for post-processing such as laminating or bag-forming, and prevent the occurrence of cracks and the like in the deposited film of silicon oxide at a few moments.
  • the polyester-based resin constituting the polyester-based resin is, for example, one or more of aromatic carboxylic acids having a benzene nucleus as a skeleton such as "terefuyu"! ⁇ .
  • a thermoplastic polyester resin produced by polycondensation with one or more types of hydroxy divalent alcohols can be used.
  • examples of the aromatic rhodicarboxylic acid having a benzene nucleus as a skeleton include, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, diphenyl ether 1-4, 4-dicarboxylic acid, Others can be displayed.
  • the peronihydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and hexamethylene glycol.
  • Fatty acid such as dodecamethylene glycol, neopentyl dalicol, etc.
  • Fine glycol, ⁇ glycol such as cyclohexanedimethanol, 2.2-bis (4'-1; 6-hydroxyethoxyphenyl) propane, naphthalene diol , Other good
  • the polyester resin specifically, for example, a thermoplastic polyethylene terephthalate resin formed by the polycondensation of terephthalic acid and ethylene glycol, or a polymer of terephthalic acid and tetramethylene glycol Thermoplastic polybutylene terephthalate resin formed by condensation; thermoplastic polycyclohexane dimethylene terephthalate resin formed by polycondensation of terephthalic acid with 1,4-cyclohexane dimethanol; terephthalic acid and isophthalic acid Thermoplastic poly (ethylene terephthalate) resin produced by copolycondensation of acid and ethylene glycol ⁇ -polypropylene, thermoplastic polyethylene terephthalate resin produced by copolycondensation of terephthalic acid and ethylene glycol with 1,4-cyclohexanedimethanol , Terephthaly Isophthalic! ⁇ And thermoplastic polyethylene terephthalate resin produced by
  • the above-mentioned benzene nucleus is used as a basic skeleton! ⁇ ! Aromatic dicarbonic acid, as well as, for example, fats such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanoic acid] ⁇ one or more of rhodicarboxylic acids Can also be added for copolycondensation.
  • the amount of the benzene nucleus used is from 1 to about 10% by weight based on the amount of the aromatic fragrance] ⁇ losicarboxylic acid. Power preferred.
  • the polyester resin as described above, its close adhesion and the like are improved, and the elongation of the primer agent layer is improved.
  • laminating Alternatively, it is intended to improve the operability of bag making and the like, and to prevent the occurrence of cracks and the like in the deposited film of the inorganic oxide at the time of the effect.
  • silane coupling U constituting the cured polyurethane or polyester resin
  • an organic functional silane monomer having dual reactivity can be used as the silane coupling U constituting the cured polyurethane or polyester resin.
  • the silane cup link IJ as described above has a functional group at one end of it, usually a black hole, an alkoxy, or an acetoxin, which forms a silanol group (SiOH), which is a silicon oxide.
  • a metal constituting an inorganic oxide vapor-deposited film such as aluminum, or an active group on the surface of an inorganic oxide vapor-deposited film such as silicon oxide or aluminum oxide for example, a functional group such as a hydroxyl group.
  • a reaction such as a dehydration condensation reaction is caused by a certain action on the surface of the deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide to be modified with a silane coupling agent and a silanol group.
  • a strong supply is formed on the surface of the deposited film of an oxide such as silicon oxide or aluminum oxide itself with the use of an oxide.
  • an organic functional group such as vinyl, methylacryloxy, amino, epoxy, or mercapto on the silane coupling agent is formed on a thin film of the silane coupling agent. Reacts with the substances constituting the adhesive layer for lamination, anchor coating agent layer, other layers, etc. to form a strong bond.
  • the high rigid structure of the laminated bow boat Can be formed.
  • the organic and organic properties of the silane cup link are reversed, and the silicon oxide deposited film and the hard-to-print layer, the ⁇ 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ layer, or the anchor coating agent layer are used to form a heat sink.
  • fillers constituting the above-mentioned cured polyurethane or polyester resin include, for example, calcium carbonate, barium sulfate, alumina white, silica, talc, glass frit, tree Sg ⁇ powder, You can read other things.
  • the above-mentioned charge ij is prepared by adjusting the viscosity and the like of a polyurethane-based or polyester-based quenching solution, improving the coating suitability and, at the same time, using a polyurethane-based or polyester-based resin as a binder resin. And a silane coupling agent to improve the »force of the coating film.
  • the laminating layer constituting the laminated material will be described.
  • the adhesive constituting the laminating agent layer for example, a polyvinyl acetate adhesive, ethyl acrylate, butyl, acrylic acid, etc.
  • Homopolymers such as 2-ethylhexyl ester, or polyacrylic ester adhesives, copolymers of these with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene and acetic acid Ethylene copolymer adhesives, such as copolymers with monomers such as vinyl, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, etc., cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide i polyimide urea resin or melamine Amino resin based m phenolic resin ⁇ » ⁇ 3 ⁇ 4 Epoxy ⁇ 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ ”, polyurethane-based» ⁇ , reactive (meth) acrylic-based ⁇ rubber-based lj composed of chloroprene rubber, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, etc., silicone-based 3 ⁇ 43 ⁇ 43 ⁇ 4 alkali metal silicate, transflector glass,
  • the above-mentioned quenching system may be in any form of a composition such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, a dispersion type, etc., and its properties are any of film, sheet, powder, solid, etc.
  • the return mechanism may be a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a hot-melt type, a hot-pressure type or the like.
  • the above adhesive can be applied by a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, or the like, or a printing method. Is from 0.1 to: L 0 g / m 2 (state of recitation) is desirable.
  • the anchor coating agent layer constituting the laminated material for example, alkyl titane Water- or oil-based various types of organic coating agents such as organic titanium-based, isocyanate-based, polyethyleneimine-based, polybutadiene-based, etc.
  • the above-mentioned anchor coating agent can be coated by using a coating method such as roll coating, gravure roll coating, kiss coating, etc., and the coating amount is 0.1- 5 g / m 2 (preferably J position)
  • Examples of the melted resin layer in the above melt extrusion include polyethylene resin, polypropylene resin, acid-modified polyethylene resin, acid-modified polypropylene resin, ethylene-acrylic or methacrylic copolymer, and saline.
  • Thermoplastic resin such as ethylene resin, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl acetate resin, ethylene-ester acrylate or methacrylate copolymer, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, etc. It is capable of seeding two or more species.
  • melt extrusion in order to obtain a stronger return jewel, for example, it can be applied via an anchor coating agent layer such as the above-mentioned anchor coating agent.
  • heat seal 1 resin which can be melted by heat and fused to each other is used.
  • Films or sheets can be used.
  • low-density polyethylene low-density polyethylene
  • medium-density polyethylene high-density polyethylene
  • linear (linear) low-density polyethylene linear low-density polyethylene
  • ⁇ -olefin copolymer polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer , Ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene
  • Modified polyolefin resin obtained by modifying polyolefin resin such as polyethylene polymer or polypropylene with unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, etc.
  • Films or sheets of resin such as vinyl resin
  • the above-mentioned film or sheet can be thinned in the form of a coating film made of a waste containing the resin.
  • the thickness of the film or film or sheet is 5 im to 300 m More preferably, it is in the order of 10 m to 100 / im.
  • a base material of a plastic film or the like constituting the above-mentioned laminated material for example, as a material of the laminated material, there may be used a machine TO, a physical material, a territorial material, etc. It has excellent properties, in particular, it is tough with a bow girl, and can use a resin film or sheet that has a scalp property.
  • polyester Based resin Polyamide resin, Polyaramide resin, Polyolefin resin, Polycarbonate resin, Polystyrene resin, Polyacetal resin, Fluorine resin, Other strong resin film or sheet, etc. Can be obtained.
  • any one of an unstretched film and a stretched film stretched in a uniaxial direction or a tt-axis direction can be used.
  • the thickness of the film is preferably about 5 m to 100 m, and more preferably about 5 m to about 50 m.
  • the base film as described above may be, for example, printed with a desired printing pattern such as a character, a figure, a symbol, a pattern, or a difficulty by a normal printing method. It may be applied.
  • the base material constituting the above-mentioned ornamental material for example, various cat materials constituting the paper layer can be used.
  • the material is provided with moldability, bending resistance, rigidity, etc., for example, strong size bleached or unbleached thread material, or Ichiraku Ichirachi paper, kraft paper, plate paper, karoe You can ⁇ ffl thighs, etc.
  • a fiber material having a basis weight of about 80 to 600 gZm 2 and preferably having a flatness of about 100 to 450 g / m 2 is used as the fiber material constituting the knitting. It is desirable.
  • low-density polyethylene for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, polypropylene having a barrier property of 7
  • Film or sheet of resin such as ethylene-propylene copolymer, or resin such as saponified product of polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer having barrier properties against oxygen, 7K vapor, etc.
  • Films or sheets of various kinds of fats or oils that can be made into films by adding kneaded additives such as sensitizers to resin or other additives and kneading with desired additives. Can be used. These materials can be used alone or in combination.
  • the thickness of the above-mentioned film or sheet is arbitrary, but usually, it is preferably about 5 m to 300 m, more preferably about 10 m to 100 m.
  • the above laminated material when applied to various uses, it is usually subjected to severe physical and chemical conditions. Various requirements are required, such as deformation prevention bow girls, falling impact bow boats, pinhole resistance, metal removal, sealing, quality maintenance, workability, hygiene, etc.
  • the materials that are related to the above-mentioned crane specifically, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, and linear low-density.
  • Polyethylene Polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer Coalescence, Methylpentene polymer, Polybutene resin, Polyvinyl chloride resin, Polyvinyl acetate resin, Polyvinylidene chloride resin, Biel chloride-vinylidene chloride copolymer, Poly (meth) acrylic resin, Polyacrylonitrile System outline, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, Films or sheets of known resins such as polyvinylyl alcohol-based resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluor
  • any of the above-mentioned films or sheets that are unstretched, stretched in a uniaxial or biaxial direction, or the like can be ffl.
  • the thickness is arbitrary, but it can be selected from the range of about 30 Cm from the numerical value.
  • any type of film such as a coating film may be used.
  • a pretreatment such as a corona treatment or an ozone treatment may be applied to the film.
  • a pretreatment such as a corona treatment or an ozone treatment may be applied to the film.
  • the known pretreatment, anchor coating agent, etc. can be performed.
  • a desired hard-to-print layer can be formed between any of the layers constituting the laminated material.
  • the above-mentioned printing layer mainly contains one or more kinds of ordinary ink vehicles, and, if necessary, includes visible IJs, stabilizers, antioxidants, 1 ⁇
  • One or more additives such as ultraviolet absorbers, curing agents, cross-linking agents, lubricants, antistatic agents, fillers, etc. are optionally added, and dyes such as pigments are added. Knead well with a solvent, ⁇ etc. to adjust the ink material, and then use the ink material, for example, gravure printing, offset printing, letterpress printing, screen printing, transfer printing, flexo printing, etc.
  • desired printing difficulties including characters, figures, symbols, Nada, etc. can be printed on the above-mentioned coating film to form the printing difficult layer according to the present invention. .
  • the primer agent layer provided on the surface of the above-mentioned vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is the same as the above-mentioned primer agent layer made of polyurethane or polyester resin.
  • polyolefin resins such as polyamide resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl vinyl resins, and polyethylene polypropylene, or copolymers thereof.
  • a primer one-component layer may be formed by using a volatile resin, a cellulosic resin, or another substance whose main component is a vehicle.
  • a primer coating agent layer can be formed by coating using a coating method such as a roll coat, a gravure mouth coat, a kiss coat, or the like.
  • the coating amount is 0.1 to 10 g / m 2 (viewing state).
  • the packaging container is a soft packaging bag made of a plastic film or the like
  • the laminated material manufactured by the above method is used, and the surface of the heat-sealing film of the inner layer is used. Facing each other, fold them up, or put the two sheets together, and heat seal the surrounding area to provide a sheet and construct the book.
  • the bag making method the above-mentioned laminated material is bent in such a manner that its inner layer faces each other, or two of them are overlapped.
  • a self-supporting packaging bag (standing voucher) can be manufactured.
  • a tube container or the like can be manufactured using the above materials.
  • a spout of one-piece type, woofer type, others, or a zipper for opening and closing can be attached to the packaging container as described above.
  • a liquid-filled paper container containing a paper base material as a packaging container for example, as a laminate material
  • a laminated material in which a ⁇ material is laminated is produced, and a blank plate for producing a desired paper container is produced therefrom.
  • the blank plate is used to form the body, bottom, head, etc., for example, to produce a brick-type, flat-type, or guerrilla-top-type liquid paper container, etc. I can do it.
  • any shape such as a rectangular container such as a rectangular container and a round shape.
  • the packaging container manufactured as described above is filled with various foods and beverages, chemicals such as J ⁇ j, viscous ⁇ , cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers, and other articles. It is used for packaging.
  • chemicals such as J ⁇ j, viscous ⁇ , cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers, and other articles.
  • It is used for packaging.
  • sachets for liquids for filling and packaging soy sauce, soups, soups, etc. bags for soft packaging for filling and packaging raw confectionery, or boiled or retorted foods, etc. It is useful as a container for filling and packaging liquid foods and drinks such as flexible packaging bags and foods and drinks containing water.
  • water vapor, oxygen 3 ⁇ 4ut, degree of yellowing, the amount of change in the X value of silicon oxide represented by the formula SiO x constituting the deposited film, and the surface roughness of the deposited film was measured by the following rule.
  • the surface roughness of the deposited film was measured using an atomic force microscopic fiber (Atomic Microscope, AFM).
  • Nanoscope Ilia manufactured by Digital Instruments (USA, Digital Instrument), and a probe.
  • monocrystalline silicon Nanosensors, USA, product name, NCH-10T was used.
  • the number of data points measured at 256 x 256 points is "N"
  • the height value of each data is "Zi”
  • the average value is "Zavg” ⁇
  • the standard deviation of the Z value of all data was determined and measured.
  • the surface roughness was measured on a sample with a surface step of 1 ⁇ 0, which was previously subjected to 3 ⁇ 4 ⁇ .
  • the surface roughness of the deposited film was separately measured using an electron microscope (Scanning Electron Microscopy, SEM).
  • the provided base film was cut, and a photograph of the cut surface was taken at a magnification of 50,000 or more to confirm the undulation of the deposited film.
  • the base film provided with the inorganic oxide vapor-deposited film first, another resin film is laminated on the inorganic oxide vapor-deposited film to form a laminated material (product state).
  • the crane material was cut with a diamond knife in the same manner as above, and the cut surface was photographed at a magnification of 50,000 or more, and the undulation of the deposited film only in the product form consisting of the crane material was observed. It is also possible to check the state of the surface.
  • the measurement area is smaller than that of the atomic force microscope, and the atomic force calculator calculates the surface irregularities from the entire surface. Since the microscope can only obtain information on the cross-section and cannot obtain a large number of measurements, the result of the electron microscope (SEM) was the Range value, which is the ⁇ - ⁇ IN difference of the unevenness.
  • the calculation method is as follows.
  • test specimen was suspended vertically in a thermostatic chamber maintained at the set temperature of ⁇ 3 ° C or less, heated and removed for a set time, allowed to stand at room temperature for 30 minutes, and measured for the gap between the gauges. Then, calculate using the following formula, and calculate the average value.
  • Caro heat recovery rate (%) C (L, one L 2 ) / L,) X100
  • L represents the force [I between the gauges before heating (S) (mm)
  • L represents the gauge between the gauges of warp fiber (mm).
  • the caloric heat shrinkage rate was also calculated in both the flow direction and the flow direction.
  • Hexamethyldisiloxane oxygen gas: helium 1.0: 3.0: 3.0 (unit: s 1m)
  • Cooling ⁇ mm drum supply 10 kW
  • a 12 m-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 OA on which a silicon oxide vapor-deposited film is formed is wound around a take-up roll, and then the take-up roll is heated. Put it in a room where it can be prepared (heating oven), and perform annealing treatment consisting of mouth heat treatment Jt and calo heat treatment time according to the calo heat treatment time shown in Table 1 below.
  • the barrier film according to the present invention which has the characteristics shown in FIG.
  • the barrier film according to the present invention is obtained by oxidizing the base film by calorie heat treatment.
  • the quality of the deposited silicon film is improved,
  • low-density polyethylene resin was used for the corona treated surface, and this was extrusion-coated.
  • a low-density polyethylene resin layer having a thickness of 30 was formed.
  • the barrier film is formed on the anchor coating layer.
  • an ethylene-methacrylic acid copolymer Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name, Nuclell NO908C, extrusion? Jt: 290 ° C
  • the extruded film was subjected to extrusion lamination, and the above-mentioned #cat material and a barrier film were laminated and subjected to a first extrusion lamination step.
  • Coat amount igZm 2 m] with a gravure coater, and after passing through a furnace, the surface of the coating layer of the anchor is coated with a meta-mouth.
  • a copolymer film (Dainichi: «Fat Co., Ltd., trade name, JME-12 2, film, 40 m) is opposed to the other, and a low-density polyethylene resin (Mitsui Oil Petrochemical Co., Ltd. M16P, extrusion ⁇ : 320 ° C, extrusion: 20 m), and while extruding it, both were polyethylene sanded to obtain $ 3 ⁇ 4g of wood material.
  • a 'olefin copolymer film is melted, and the other end of the blank plate is superimposed on the melted surface, and the two are stuck together to form a body-sealed seal.
  • the inner surface of the bottom of the tubular sleeve produced above was roasted with hot air, and the ethylene-a; olefin copolymer film polymerized using a certain meta-square angle of the inner surface was melted. Press seal to form the bottom seal part, fill it, fill it with juice from the other opening, burn the inside of the top with hot air, and use the meta mouth angle of the inside!
  • the polymerized ethylene monoolefin copolymer film was melted and press-sealed to form a gobel top seal, and the sealed liquid paper container according to the present invention in which the contents were filled and packaged was manufactured. .
  • the sealed liquid paper container produced above does not show any occurrence of roasting pinholes, etc., and also has excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., and has excellent fragrance retention properties, and its contents are not deteriorated. It was not recognized, was excellent in laminating bow titer, etc., was excellent in distribution in the market, and was excellent in storage and preservation.
  • Example 2 the barrier film manufactured by performing the processing under the other conditions: In the same manner as above, substantially the same results were obtained.
  • Male example 2 the barrier film manufactured by performing the processing under the other conditions: In the same manner as above, substantially the same results were obtained.
  • a 15-meter-thick biaxially stretched nylon 6 film was used as a base material, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical grain growth device, and oxidized to a thickness of 15 OA under the following conditions.
  • An evaporated silicon film was formed on one surface of the biaxially stretched nylon 6 film.
  • Deposition surface Corona treated surface
  • the vapor-deposited film of silicon oxide provided on the base film was obtained by the calo-heat treatment, and the water vapor ⁇ 3 ⁇ 4U3 ⁇ 4, oxygen Characteristics such as the degree of yellowing of the color tone, the change in the X value of the silicon oxide represented by the formula S i ⁇ constituting the vapor-deposited film, the surface roughness of the vapor-deposited film, and the thermal fineness of the base film are reduced.
  • the ability to form a deposited film of high quality silicon oxide was recognized.
  • Example 2 (2) Next, using a barrier film manufactured by processing under the conditions of 90 ° C. and a time period of 24 hours in Example 2 described above, A plasma-treated surface was formed in exactly the same manner as in Example 1.
  • an initial condensate of a polyurethane-based resin, an epoxy-based silane coupling agent (8.0% by weight) and an anti-blocking agent were added. (1.0% by weight) to obtain a primer composition which is sufficiently kneaded, and coated by a gravure roll coating method so as to obtain a)? 0 .g / m 2 ( ⁇ state).
  • a primer layer was formed.
  • Soy sauce is filled and packaged from the opening in the three-sided seal-type soft packaging pouch produced above, and then the opening is heat-sealed to form an upper seal
  • the liquid sachet packaging product produced above has excellent barrier properties against oxygen gas, vapor, etc., and is excellent for laminate bow girls, etc., withstands distribution in the market, and is excellent in storage and storage. Was something. .
  • Example 2 Similar results were obtained in the same manner as described above for the barrier film manufactured by performing processing under other conditions.
  • the barrier film according to the present invention was characterized in that the silicon oxide vapor-deposited film provided on the base film was formed by the calo-heat treatment, and the water vapor, oxygen 3 ⁇ 4t, The degree of yellowing of the color tone, the amount of change in the X value of silicon oxide represented by the formula S i Ox constituting the deposited film, the surface roughness of the deposited film, the thermal shrinkage of the base film, and other characteristics are reduced.
  • the modified silicon oxide It has been found that a deposited film can be formed.
  • a barrier film produced in Example 3 above under the conditions of 90 ° C. and a time of 24 hours is defined, and a glow-like plasma is generated on the surface of the deposited silicon oxide film.
  • a polyurethane-based laminating layer was applied, and this was rubbed by a gravure roll coating method in the same manner as described above.
  • Soy sauce is filled and packaged from the opening in the soft seal type sachet prepared above, and then the opening is heat-sealed to form an upper seal, thereby producing a liquid sachet packaging product.
  • the liquid sachet packaging product produced above has excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., excellent laminating properties, etc., withstands distribution in the market, and has excellent storage and storage properties.
  • Example 3 above a similar result was obtained in the same manner as described above for the barrier film manufactured by performing the heat treatment under other conditions.
  • high-frequency ⁇ 3 ⁇ 4 heating method i 99. 9% of silicon monoxide ( The SiO) was calothermally evaporated to form a 20 OA silicon oxide deposited film.
  • the barrier film according to the present invention is characterized in that the deposited film of silicon oxide provided on the base film is subjected to a calo-heat treatment so that the vaporized film of the silicon oxide is 3 ⁇ 4 [water vapor ⁇ S3 ⁇ 4, m, Characteristics such as the yellowing degree of the silicon oxide, the change in the ⁇ value of the silicon oxide represented by the formula s ⁇ x constituting the vapor-deposited film, the surface roughness of the vapor-deposited film, and the heat rate of the base film are reduced. Kabato was found to be able to form a deposited film of quality silicon oxide.
  • a two-part curable urethane anchor coating agent is used on the surface of one layer of the primer formed as described above, and this is adjusted to O.lg / m 2 (bone state) by a gravure roll coating method. And then dried to form an anchor coat agent layer.
  • the resin layer was extruded and the laminate was observed to produce an observation material.
  • soy sauce is filled and packed through the opening, and after sealing, the opening is heat-sealed to form an upper sealing part and the liquid pouch-packed.
  • the product was manufactured.
  • the liquid sachet packaging product produced above has excellent barrier properties against oxygen gas, 7 vapor, etc., and is excellent in laminate bow girls, etc., withstands problems in the market, and is excellent in storage and storage. Was.
  • Example 4 the same results were obtained in the same manner as above for the barrier property filem manufactured by processing under other conditions.
  • a 12-zm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film is used as the base film.
  • the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is sent out by a take-up type vacuum evaporator. The film is then unwound and then unwound.
  • the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film is irradiated with an electron beam (Si ⁇ ) as an evaporation source while supplying oxygen gas using an oxygen gas.
  • Si ⁇ electron beam
  • EB A vacuum deposition method of H) -3 O nm was formed by a vacuum deposition method using a heat source under the following deposition conditions. ⁇ Yanba vacuum degree; 1. 3 3 X 1 0 one 2 P a (1 X 1 0 "4 T orr) winding chamber - inner Shin Si; 1. 3 3 X 1 0- 2 P a
  • Electron beam power 25 kw
  • the barrier film according to the present invention was characterized in that, by heat treatment, the deposited silicon oxide film provided on the base film was treated with water vapor, oxygen 3 ⁇ 4u, and color tone. Characteristics such as the degree of yellowing of the silicon oxide, the change in the X value of the silicon oxide represented by the formula S i i that constitutes the deposited film, the surface roughness of the deposited film, and the thermal shrinkage of the base film. It has been recognized that a deposited film of quality silicon oxide can be formed.
  • a polyester-based resin (glass point: 67) was formed on the surface of the silicon oxide vapor-deposited film of the barrier film produced by heat treatment at a temperature of 90 ° C. and a time period of 24 hours in Example 5 above.
  • a two-component curing type adhesive for polyurethane-based lamination is used on the entire surface including the print ⁇ t. Then, it is coated by a gravure roll coating method so that S ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ 4.O gZm 2 (ti ⁇ M), and then dried to form a laminating layer. Thereafter, the laminating contact layer is formed.
  • a 15-meter-thick biaxially stretched nylon 6 film was overlaid on the surface with the corona-treated surface facing the surface, and then both were dry-laminated.
  • an adhesive for a two-component curable polyurethane urethane laminate is applied to the corona treated surface in the same manner as described above.
  • the resultant was coated by a gravure mouth coating method so as to have a thickness of 13 ⁇ 44.0 g / m 2 (in a solid state) to form an adhesive layer for laminating.
  • a non-stretched polypropylene film having a thickness of 60 m was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer formed above to produce a base material.
  • the packaging bag is made of metal powder, pressure resistance, ⁇ resistance, barrier properties, heat sealability, pinhole resistance I 'raw, piercing property, transparency, etc. Also excellent in barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., no breakage of the bag or leakage of contents, etc., function as a food container, eg, suitability for wi inside packaging, im, storage suitability, etc. Was excellent.
  • the acid content was 0.56 cc / m 2 Zday ⁇ 23, while C ⁇ 90% RH.
  • Example 5 a similar result was obtained in the same manner as described above for the barrier film manufactured by performing processing under other conditions.
  • a 3 ⁇ 4 stretched nylon 6 film having a thickness of 15 is used as a base film.
  • the above-mentioned biaxially stretched nylon 6 film is attached to a delivery port of a winding type vacuum evaporation apparatus, and then, This is fed out, and the following vapor deposition method is performed by electron beam (EB) heating while supplying oxygen gas to the corona-treated surface of the biaxially stretched nylon 6 film using aluminum as a vapor deposition source.
  • EB electron beam
  • Electron beam power 25kW
  • Deposition surface Corona treated surface
  • the barrier film according to the present invention is characterized in that the deposited film of silicon oxide provided on the base film is treated by a calo-heat treatment, and the vapor of 7 ⁇ steam, the oxygen is 1 degree,
  • the properties such as the degree of yellowing of the color tone, the change in the X value of the silicon oxide represented by the formula S i ⁇ ⁇ constituting the vapor-deposited film, the surface roughness of the vapor-deposited film, and the heat shrinkage of the substrate film are degraded. It was recognized that a modified silicon oxide deposited film could be formed.
  • a normal gravure ink key is placed on one side of a stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 m, and characters, figures, symbols, patterns, etc. are printed by gravure printing ⁇ : A predetermined printing difficulty was printed to form a printing layer.
  • a barrier film manufactured by processing under the conditions of 90 ° C. and a time of 24 hours in Example 6 described above The vapor-deposited films were superposed with their surfaces facing each other, and then both were dry-laminated.
  • the surface of the biaxially stretched nylon 6 film of the barrier film dry-laminated above is subjected to roller treatment, and then, on the corona-treated surface, a two-component curing type polyurethane laminating film is used. This was coated by a gravure roll coating method so as to be 4.0 g / m 2 m to form an adhesive layer for lamination.
  • a non-stretched polypropylene film having a thickness of 60 m was dry-laminated on the contact surface for lamination formed as described above to obtain a base material.
  • the retort treatment was performed under the retort treatment conditions of G, time, and 30 minutes, and the retort food according to the present invention was obtained.
  • the retort foods produced above have excellent packaging, such as Bl raw, pressure resistance, swimwear, barrier properties, heat seal I raw, pinhole resistant I 'raw, piercing property, transparency, etc. Excellent barrier against oxygen gas, 7j ⁇ steam, etc., no breakage of bags or leakage of contents, etc., function as a food container, for example, male with inclines, ⁇ , suitability, storage suitability, etc. It was excellent.
  • the above barrier properties before retorting the oxygen permeability, 0. 50 cc / m '/ ⁇ ay ⁇ 23 ° C ⁇ 90% RH, zR steam ⁇ SiiJt, 0. 26 g / m 2 / day ⁇ 40 ° C 90% RH, after retort treatment, oxygen permeability, 0.56 cc / m 2 Zd ay 23 ° C 90% RH, water vapor ⁇ 0.38 g / m 2 Zday ⁇ 40 ° C ⁇ 90% RH.
  • Example 6 Similar results were obtained in the same manner as described above for the barrier film manufactured by processing under other conditions.
  • a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 m to which a polyester polyol was previously coated with 0.1 to 0.3 g / m (dry state) was used as a base film.
  • the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate filem was mounted on a delivery roll of a wind-up type vacuum evaporator, and then unwound.
  • silicon (S iO) silicon
  • EB electron beam
  • a glow discharge plasma generator was used on the surface of the silicon oxide vapor deposition film.
  • argon gas 7 0: 2.5 (unit; s lm) using the force becomes mixed gas, subjected to oxygen / argon mixed gas plasma treatment with a mixed gas pressure 6 X 10- 5 to rr, forming a plasma-treated surface did.
  • the barrier film according to the present invention is obtained by heating the oxidized film provided on the base film by heat treatment.
  • the quality of the deposited silicon film is
  • Characteristics such as oxygen 3 ⁇ 4J, degree of yellowing of color tone, amount of change in X value of silicon oxide represented by the formula S i ⁇ constituting the deposited film, surface roughness of the deposited film, heat shrinkage of the base film, etc. The ability to form a vapor-deposited film of modified silicon oxide was rejected.
  • a polyester resin (glass point: 67) was applied to the surface of the silicon oxide deposited film of the barrier film produced by heat-treating at a temperature of 90 ° C. and a time period of 24 hours in Example 7 above. ° C, molecular weight: 180 000) as the main component of the vehicle, and a primer agent using ethyl acetate as a diluent solvent, which was coated by a gravure roll coating method. Then, the mixture was processed at 80 ° C for 1 minute to form a single layer of a transparent resin primer having a strength of 0.70.8 g Zm 2 (boating state).
  • a corona treatment is applied to the surface of the biaxially stretched nylon 6 film that has been craneed above, and then a diagonalized polyurethane-based lamination ij is used on the corona treated surface in the same manner as described above. Then, this was coated by a gravure roll coating method so as to have a wisteria of 4.0 g / m- (in a solid state) to form an adhesive layer for laminating.
  • the adhesive layer for lamination formed above was coated with a non-stretched polypropylene having a thickness of 6 O ⁇ m.
  • the retort packaged food manufactured as described above has a packaging bag that is made of, for example, flexible, pressure-resistant, ice-free, barrier-resistant, 1 heat-sealed, 1 pinhole-resistant, pierced, and transparent. It has excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., has no breakage of bags or leakage of contents, etc., and functions as a food container, for example, suitability for internal working, suitability for storage, suitability for storage And so on.
  • the present invention provides a method for forming a substrate on one side of a base film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon film by using an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide.
  • a base film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon film
  • an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide.
  • the transparent barrier film provided with the deposited film of the material is subjected to an annealing process including a heating process, whereby the base film film s is thermally compressed and the inorganic oxide deposited film has a yellowish or yellow-brown color tone.
  • a transparent barrier film by transforming the film into a transparent barrier film; For example, when the heat treatment is set at room temperature or higher, and a ringing process consisting of a heating process that is left open during the day and night is performed.
  • the inorganic oxide vapor deposited film becomes tight, and furthermore, the yellow or yellowish color tone when the inorganic oxide vapor deposited film is formed, and the yellowish to yellowish color tone when submerged.
  • the degree of yellowing is improved and its transparency is increased, and the formula ⁇ ⁇ ′ (where M represents a metal element and the value of X
  • M represents a metal element and the value of X
  • the roughness also changes, and as a barrier material that composes packaging containers, The barrier property of reversing oxygen gas, water vapor and the like is remarkably improved, and a barrier fililem useful for manufacturing various packaging containers can be produced.

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Description

明 細 書 バリァ性フィルムおよびその製造法 技 術 分 野
本発明は、 バリア性フィルムおよびその製造法に関し、 更に詳しくは、 酸素ガス、 zK蒸 気等の透過を阻止するより高度のバリァ性を有し、 各種の包装用容器を製造するに有用な バリァ性フィリレムおよびその製造法に関するものである。 背 景 技 術
従来、 飲食品、 医薬品、 化学品、 その他等を充填包装するために、 種々の形態からなる 包装用容器が、 開発され、 提案されているが、 そのような包装用容器においては、 通常、 内容物の変質等を防止し、 更には、 その保存性、 貯蔵性等を高めるために、 包装用容器を 構成する素材として、 プラスチックフィルム等と共に種々の形態からなるバリァ性素材が ί®¾されている。
而して、 近年、 バリア性素材の一つとして、 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフィ ルム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素、 酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルムカ牲目され こ れを使用した種々の形態からなる继用容器が、 開発され、 驗されている。
このものは、 «のポリ塩化ビニリデン系樹脂、 あるいは、 ポリビニルアルコ—ル系樹 月誇のプラスチックフィルムからなるバリア性素材、 あるいは、 アルミニウム箔またはそ の蒸着膜を設けた樹脂フィルム等の金属層からなるバリア性素材等と比較し、 酸素ガス、 7Κ蒸気等の透過を阻止するバリァ性おいて、 それらと同等ないしそれ以上のバリァ性の機 能を^ ると共に、 特に、 容 装ゴミ等としての廃 理適性に優れ 例えば、 そのま ま'脑処理等の廃棄処理しても、 破壊等を起こさないという環傲ォ応に優れ 包装用 容器等を構成するバリア性素材として、 今後、 その使用、 需要等が大いに期待されている ものである。
しかしながら、 バリァ性素材として、 上記の 2軸延伸ポリエチレンテレフ夕レートフィ ルム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素、 酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルムにおいては、 例 えば、 基材フィルムの種類、 蒸着スピ—ド、 蒸着ガスの誠、 蒸着圧力、 蒸着ガス流量、 真空度、 蒸着出力、 蒸着時の温度、 その他等からなる蒸着条件を調製することが極めて困 難であり、 単に、 酸化珪素、 酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を讕奠化すれば、 酸素ガス、 水蒸気等の ¾iを! Sitするバリァ性に優れたバリァ性素材を製造し得るという ものではないものである。
例えば、 バリア性素材として、 最も重要な機能である酸素ガス、 水蒸気等の醒を a するバリア性等について、 その性能等が、 一定で、 安定したバリア性フィルムを製造する ためには、 その蒸着条件等を調製すること力極めて困難であり、 しばしば、 製造品 に バラつきを生じ、 大量の不良品を するという問題点がある。
また、 上記の 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフイルム、 あるいは、 2軸延伸ナイ ロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素、 酸化アルミニウム等の無機酸ィ匕 物の蒸着膜を設けた透明バリァ性フィルムにおいては、 そのバリァ性の性能において、 概 ね、 τΚ蒸気 SiiJtが、 1 0. O g/m2 - d a y, また、 酸素 が、 1 0. 0 c c Z m2 · d a y · a t m謝麦であり、水蒸^ litが、 5. 0 g/m2 · d a y以下、 また、 酸素 ¾¾¾が、 5. 0 c c Zm2 · d a y · a t m以下である透明バリア性フィルムを製 造することは極めて困難であるというのが 1犬である。
更に、 上記の透明バリア性フィルムにおいて、 基材フィルムとして、 透明な 2軸延伸ポ リエチレンテレフタレ一トフイルム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等を使用し、 これに酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を設けたバリァ性フィルムの齢には、 その理由 は、 詳らかではないが、 黄色味ないし黄褐色状の色調を帯びたバリア性フィルムとなり、 これが、 例えば、 透明性、 あるいは、 印刷灘等による装飾性等を阻害し、 十分に満足し 得る包翻材料、 包装用容 を する際に支障をきたすという問題点もある。
そこで本発明は、 酸素ガス、 水蒸気等の透過を阻止するより高度のバリア性を有し、 各 種の包装用容器を製造するに有用なバリァ性フィルムおよびその製造法を提供することで ある。 発 明 の 開 示
本発明者は、 上記の透明バリア性フィルムについて種々検討していたところ、 上記の 2 軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等の 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるい讀化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜 を設けた透明バリア性フィルムが、 これに加讓理からなるァニ—リング処理を施すこと により、 基材フィルムが熱収縮すると共に無機酸化物の蒸着膜の黄色味ないし黄褐色状の 色調カ壞化する現象に着目し、 まず、 上記の 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフィル ム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素ある いは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を謹化して透明バリァ性フィルムを製造 し、 次いで、 該透明バリア性フィルムに、 例えば、 加讓理 を室温以上に設定し、 一 昼夜オーブン中に放置する力 Π»理からなるァニーリング処理を行ったところ、 その透明 バリァ性フィルムを構成する基材フィルムが収縮すると共にその無機酸化物の蒸着膜が緊 密化し、 更に、 無機酸化物の蒸着膜の纏時の黄色味ないし黄褐色状の色調カ竣ィ匕し、 製 膜時の黄色味ないし黄掲色状の色調からその黄変度が向上してその透明性を増大し、かつ、 無機酸化物の蒸着膜を構成する式 ΜΟχ (ただし、 式中、 Μは、 金属元素を表し、 Xの値 は、 金属元素によってそれぞ鴻囲が異なる。 ) で表される酸化珪素あるいは酸化アルミ ニゥム等の無機酸化物の X値の変化量がやや増大し、 更に、 その無機酸化物の蒸着膜の表 面粗さも変ィ匕し、 包装用容器を構 るバリア性素材として、 その酸素ガス、 水蒸気等の ¾1を [Sibするバリァ性が著しく向上し、 各種の包装用容器を製造するに有用なバリァ性 フィルムを製告し得ることを見出して本発明を完成したものである。
すなわち、 本発明は、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それ にアニーリング処理を施して、 その水蒸気 ¾ 度を、 2. O g/m2 - d a y~ 0. 0 0 0 0 0 1 g/m2 · d a yの範囲、 また、 酸 を、 2. 0 c c /m2 ' d a y ' a t m〜0 . 0 0 0 0 0 1 c c /m2 · d a y · a t mの範囲に構成したことを; ^教とする バリァ性フィルムおよびその製造法に関するものである。 図 面 の 簡 単 な 説 明
図 1は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示すKB各的断面図 である。
図 2は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概咖勺断面図 である。 図 3は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概 [^勺断面図 である。
図 4 発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概 (5納断面図 である。
図 5は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概略的断面図 である。
図 6は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概 0 勺断面図 である。
図 7は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概 0納断面図 である。
図 8は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概 勺断面図 である。
図 9は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す概赚勺断面図 である。
図 1 0は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す擁各的断面 図である。
図 1 1鉢発明にかかるバリア性フィルムについてその 列の層構成を示す謹的断面 図である。
図 1 2は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す柳各的断面 図である。
図 1 3はプラズマ化学^ :目成長装置についてその概要を示す概! 構成図である。 図 1 4は巻き取り式真空蒸着装置についてその概要を示す 勺構成図である。
図 1 5は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す卿各的断面 図である。
図 1 6は本発明にかかるバリァ性フィルムについてその一例の層構成を示す ¾B各的断面 図である。 発明を実施する為の最良の形態
上記の本発明について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。 まず、 本発明にかかるバリァ性フィルムについてその層構成の一例を例示して図面を用 いて説明すると、 図 1および図 2は、 本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構 成の 1〜 2例を示すWi勺断面図である。
まず、 本発明において、 本発明にかかるバリア性フィルム Aとしては、 図 1に示すよう に、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の 蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱処理温 度を室温以上とし、 かつ、 カロ »理時間を 30分間以上とするカロ熱処理からなるァニ一リ ング処理を施して、 上記の無機酸化物の蒸着膜 2について、 矢印 Pで示すように、 その水 mm ,酸¾1¾、 色調の黄艘、 無機酸化物の蒸着膜を構成する式 MOx (ただ し、 式中、 Mは、 金属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞ 囲が異なる。 ) で表される無機酸化物の X値の変化量、 無機酸化物の蒸着膜の表面粗さ、 基材フィルムの その他等の特性を改質した無機酸化物の蒸着膜 3を形成することを 造とする ものである。
具体的には、 本発明にかかるバリア性フィルムとして、 図 2に示すように、 基材フィル ム 1の一方の面に、酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜 2を設け、 更に、該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、カロ纏衝 を室温以上とし、 かつ、 カロ»理時間を 30分間以上とするカロ «理からなるァニ一リング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 に示すように、 その水蒸気透過度を、 2. 0 g/m2 ' day〜0. 000001 gZm2 ' dayの範囲、 また、 酸素 を、 2. 0 c c /m1 - day - at m~ 0. 000001 c c/m2 ' day ' atmの範 囲に構成した特性を^ る無機酸化物の蒸着腠 3 aに改質した構成からなるバリァ性フィ ルム A, を挙げることが^?きる。
更に、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 別の例を例示すると、 図 3に示すよ うに、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニゥム等の無機酸化物 の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 加^ 理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 30分間以上とするカロ熱処理からなるァニ一 リング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 P2 に示すように、 ァニ ーリング処理前に比して、 その水蒸気 ¾i度の良化率を、 1Z100〜99Z100の範 囲、 また、 その酸素透過率の良ィ匕率を、 1/100〜99/100の範囲に向上させた特 性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 bに改質した構成からなるバリア性フィルム A2 を挙げ ることができる。
上記において、 水蒸気 の良化率とは、 〔良化率 = (ァ二—リング処理後の水蒸気 ァニ—リング処理前の水蒸^ ¾1率)〕 を意味し、酸素 ¾ ^の良化率とは、 〔良 化率 = (アニーリング処理後の酸素 ァニ—リング処理前の酸素翻率) 〕 を意味 する。
また、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 4に示 すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸ィ匕アルミニウム等の無機酸 化物の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱 処理 i を窒温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0分間以上とするカロ熱処理からなるァ ニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着腠 2について、 矢印 P 3 に示すように、 ァニ—リング処理前に比して、その水蒸気 β度の ί氐下量を、 一 0 . 1〜一 3 0 g/m- · d a yの範囲、 また、その酸 の低下量を、 一 0 . 1〜一 1 0 c c /m2 ' d a y ' a t mの範囲に向上させた特性を る無機酸化物の蒸着膜 3 cに改質した構成からなる バリァ性フィルム A3 を挙げることが きる。
更に、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 別の例を例示すると、 図 5に示すよ うに、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物 の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 加讓理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0分間以上とする加熱処理からなるァニー リング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 P 4 に示すように、 その 黄変度を、 一0 . 3〜一 2 . 0の範囲に向上させた特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 d に改質した構成からなるバリア性フィルム A4 を挙げること力できる。
また、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 6に示 すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニゥム等の無機酸 化物の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 加熱 処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3◦分間以上とするカロ熱処理からなるァ 二—リング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 Ρ π に示すように、 その無機酸化物の蒸着膜を構成する式 Μ〇χ (ただし、 式中、 Μは、 金属元素を表し、 X の値は、 金属元素によってそれぞれ範囲が異なる。 ) で表される無機酸化物の X値の変化 量を、 - 0 . 0 1〜+ 0. 5 0の範囲に増大させた特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 eに改質した構成からなるバリァ性フィルム A5 を挙げることができる。
次にまた、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示する と、 図 7に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化ァ ルミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を 設けた基材フィルム 1に、 加熱処理温度を室温以上とし、 かつ、 加熱処理時間を 3 0分間以上とする加熱処理からなるアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪 素の蒸着膜 2について、 矢印 P 6 に示すように、 その無機酸化物の蒸着腠の表面 粗さを、 3〜3 0 n mの範囲内に変化した特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 f に改質した構成からなるバリア性フィルム AB を挙げることができる。
次にまた、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 8 に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるい « ^ィ匕アルミニウム等の無 機酸化物の蒸着膜 2を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0分間以上とするカロ熱処理からな るアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 P 7 に示すよう に、その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さとして、表面凹凸の標 差値、 Rm s値を、 1. 0 1〜1 0 0倍に向上させた特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 gに改質した構成からな るバリァ性フィルム A7 を挙げることが きる。
上記において、 表面凹凸の標^ ΐ差値、 Rm s値については、 鍵するとおりである。 次にまた、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 9 に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸ィ匕アルミニウム等の無 機酸化物の蒸着膜 2を設け、 更に、 該謹酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0分間以上とするカロ熱処理からな るアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 Ρ κ に示すよう に、 その基材フィルムの収縮率をフィルム劍麟の流れ方向、 および、 幅方向の少なくと もどちらかの一方向に、 一 0. 0 0 1〜一 1. 0 %の範囲に収縮させると共に無機酸化物 の蒸着膜を緊密化させて、 その無機酸化物の蒸着膜の を 5 0 Α〜1 0 0 O A ( 5〜1 0 0 nm) の範囲に構成した特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 hに改質した構成からな るノ 'リァ性フィルム A8 を挙げることができる。 上記において、 «化物の蒸着膜の麵は、ァニ—リング処理前のその醇と比して、
0. 01 %〜 10 %位、 更には、 0. 01 %〜 5 %位薄膜化するものである。
次にまた、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 1 0に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の 無機酸化物の蒸着膜 2を設け、更に、該鍾酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 30分間以上とするカロ熱処理からな るアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 Ρ9 に示すよう に、 アニーリング処理前に比して、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さとし、 表面凹凸の 標^ Ϊ差値、 Rms値を、 1. 01〜; L 00倍に向上させ、 更に、 その水蒸気 を、 2. OgZm2 - day〜0. 000001 g/m2 ' dayの範囲、 また、 酸素 ¾i度 を、 2. 0 c cノ m2 · d ay · a t m〜 0. O O O O O l c cノ m2 · d a y · a t m の範囲に構成した特性を Tる無機酸化物の蒸着膜 3 iに改質した構成からなるバリア性 フイノレム A9 を挙げること力 きる。
上記において、 表面凹凸の標 差値、 Rms値については、 前述と同じである。
次にまた、 本発明にかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 1 1に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の 纖酸化物の蒸着膜 2を設け、更に、該纖酸化物の蒸着膜 2を設けた基材フィルム 1に、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 30分間以上とするカロ熱処理からな るアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 P,„に示すよう に、ァニ—リング処理前に比してその基材フィルムの β率をフィルム の流れ方向、 および、 幅方向の少なくともどちらかの一方向に対し、 一0. 001〜一 1. 0%の範囲 に収縮させると共に無機酸化物の蒸着膜を緊密ィ匕させて、 その水蒸^ 1¾を、 2. 0g /m2 ' day〜0. 000001 g/m2 ' d ayの範囲、 また、 酸素 を、 2. O c cZm2 ' day ^ a tn ^O. 000001 c c/m2 ' d ay - a tmの範囲に 構成した特性を有する無機酸化物の蒸着膜 3 jに改質した構成からなるバリア性フィルム Απ>を挙げることが きる。
なおまた、 本発哪こかかるバリア性フィルムとしては、 更に別の例を例示すると、 図 1 2に示すように、 基材フィルム 1の一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の 無機酸化物の蒸着膜 2を設け、更に、該 β酸化物の蒸着膜 2を設けた基材: カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0分間以上とするカロ熱処理からな るアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜 2について、 矢印 P t lに示すよう に、 その水蒸^ を、 2. 0 g/m2 - d a y~ 0. 0 0 0 0 0 1 gノ m2 - d a y の範囲、 また、 酸素 i¾ 度を、 2. O c c /m2 · d a y · a t m~ 0. 0 0 0 0 0 1 c c /m" - d a y a t mの範囲に構成し、 更に、 その黄変度を、 一0. 3〜一 2. 0の 範囲に向上させ、 かつ、 無機酸化物の蒸着膜を構) ¾Tる式 ΜΟχ (ただし、 式中、 Μは、 金属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞ mas力 なる。 ) で表される無機 酸化物の蒸着膜の X値の変化量を、 + 0. 0 1〜+ 0. 5 0の範囲に増大させ、 また、 無 機酸化物の蒸着膜の表面粗さを、 3〜3 0 nmの範囲内に変化した特性を ¾ る無機酸ィ匕 物の蒸着膜 3 kに賴した構成からなるバリァ性フィルム ,を挙げることが きる。 上記の例示は、 本発明にかかるバリァ性フィルムについてその数例を例示したものであ り、 これによつて本発明は!^されるものではない。
本発明は、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸 化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムを、 カロ熱処理温 度を室温以上にし、 かつ、 加熱処理時間を 3 0分間以上とする加熱処理からなるァニーリ ング処理を施すことにより、 上記の酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の 蒸着膜を改 KTることを Sffl造とするバリァ性フィルムに関するものである。
次に、 本発明において、 上記の本発明にかかるバリア性フィルムを構成する材料、 製造 ¾ ^について説明すると、 まず、 本発明にかかるバリア性フィルムを構成する基材フィル ムとしては、 これに酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設ける こと力ゝら、 機柳勺、 物理的、 ィ匕学的、 その他等において優れた性質を有し、 特に、 弓嫉を 有して強 ¾であり、 かつ、 性を有する樹脂のフィルムないしシートを使用することが できる。
具体的には、 本発明において、 基材フィルムとしては、 例えば、 ポリエチレン系榭脂、 ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフイン系樹脂、 フッ素系樹脂、ポリスチレン系樹脂、 アクリロニトリル一スチレン共重合体 (A S樹脂) 、 アクリロニトリルルーブタジエン一 スチレン共重合体 (AB S樹脂) 、 ポリ塩化ビニル系樹脂、 フッ素系樹脂、 ポリ (メタ) アクリル系樹脂、 ポリカーボネート系樹脂、 ポリエチレンテレフタレ一ト、 ポリエチレン ナフタレ—ト等のポリエステル系樹脂、 各種のナイロン等のポリアミド系棚旨、 ボリイミ ド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレ一ト系樹脂、シリコーン系樹脂、 ポリスルホン系樹脂、 ポリフエ二レンスルフイド系樹脂、 ポリエーテルスルホン系樹脂、 ポリウレタン系樹脂、 ァセタール系樹脂、 セルロース系樹脂、 その他等の各種の樹脂のフ イルムないしシートを^ i¾すること力 きる。
なお、本発明においては、特に、 ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、 または、 ポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを ί趟すること力 s好ましい
ものである。
本発明において、 上記の各種の樹脂のフィルムないしシートとしては、 例えば、 上記の 各種の棚旨の 1種ないしそれ以上を使用し、 押し出し法、 キャスト成形法、 τダイ法、 切 削法、 インフレーション法、 その他等の纏化法を用いて、 上記の各種の漏旨を単独で製
J5奠化する方法、 あるいは、 2種以上の各種の樹脂を使用して多層 し出し 化する方 法、更には、 2種以上の翻旨を し、謹化する前に混合して謹化する方 ¾ ^により、 各種の樹脂のフィルムないしシ一トを製造する。
次に、上記で $ ^した各種の樹脂のフィルムないしシ―トにつレゝて、その而嫩性、 ¾J 、 強靱性、 引っ張り強さ、 耐衝摯 I生、 耐藤性、 破断 I'生、 その他等の機姆勺、 物理的、 ィ匕学 的、 その他等の 3娘を向上させるベく、 例えば、 テン夕—;^、 あるいは、 チューブラ— 等を禾拥して一方向に延伸する一軸延伸法あるい 方向に延伸する二軸延伸縛を 禾 IJ用して一軸ないし二軸方向に延伸加工してなる各種の樹脂のフィルムないしシートを製 造する。
上記の延#加工において、 上記の一軸延伸法としては、 例えば、 Tダイから押し出され たフィルムをロールで縦方向に延伸する縦一軸延伸法あるいはテン夕一と呼ばれる幅出機 で勸向に延伸する横一軸延伸體を禾翻して行うこと力 ?きる。
また、 上記の二軸延伸法としては、 例えば、 リング状のダイから押し出されたチュ—ブ 状のフィルムに、 更に空気を吹き込んで膨張させ、 同時に、 ^向に引っ張ることにより¾黄の二方向に同時に延伸するチューブ法、 あるいは、 τダイから押し出されたフィルム を冷却ロールで固化させ、 延伸温度 (8 0〜1 4 0°C) まで加謝麦、 力 [I熱下でフイルムの 両端をテン夕一のクリップで ί 寺し、 横方向の延伸と同時に、 一定ピッチでクリップ間隔 を拡大して縦方向に同時延伸する同時二軸延伸法、 もしくは、 縦方向に延伸してから横方 向への延伸を行う«型^;、 または、 向へ延伸してから»向への延伸を行う横縦 等の逐次: ¾延伸 ¾ ^を禾拥して延伸加工を行うことができる。
更に、 上記で延伸力ロェした各種の樹脂のフィルムないしシ―トは、 その寸法安定性、 温 彭張率、 湿 Jtl彭張率、 平滑性、 その他等の物性を改良すべく、 その樹 β皆のフイリレムない しシートの觀等により異なるが、 例えば、 7 0〜: 1 5 0 ° 1〜 7 6時間位加熱する熱 処理等の熱安定化処理を施して、 縦 2. 5〜 6倍、 横 2. 5〜1 0倍位に延伸加工し、 更 に、 残留応力あるいは残留歪みを有し、 而して、 その残留応力あるいは残留歪みが、 1 % 以下、 具体的には、 0. 1〜; 1 %の範囲内である各種の樹脂のフィルムないしシートを製 造し、 而して、 本発明においては、 上記の各種の樹脂のフィルムないしシートを基材フィ ルムとして するものである。
なお、 本発明において、 上記の各種の樹脂のフィルムないしシートの膜厚としては、 6 〜: L 0 0 m位、 より好ましくは、 9〜5 0 zm位が望ましい。
なお、 上記の各種の樹脂のフィルムないしシートの残留応力あるいは残留歪みについて は、 例えば、 大山^^朱式会觀、 機種名、 ガラススケ—ル DL— 3 0 1等の装置を使 用し、 J I S : C 2 3 1 8電細ポリエステルフィルム等の^;で測 ¾Tること力 Sできる。 而して、 本発明においては、 上記のような基材フィルムの一方の面に、 無機酸化物の蒸 着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムに、 カロ熱処理あるいは加 »理からなるァニーリング処理等を行うことにより、 その基材フィルムの収縮率をフィ ルム雄時の流れ方向、 および、 幅方向の少なくともどちらかの一方向に対し、 - 0. 0 0 1〜一 1. 0 %の範囲に収縮させると共に無機酸化物の蒸着膜を緊密ィ匕させるものであ る。
更に詳述すると、 本発明においては、 碰するように、 上記のような基材フィルムの一 方の面に、 無機酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィル ムに、 加^ 理あるいは加熱処理からなるァニ一リング処理等を行うことにより、 基材フ イルムが有する 1 %以下、 具体的には、 0. 1〜1 %の範囲内の残留応力あるいは残留歪 み等を 0. 0 1〜0. 9 9 9 %位の範囲に修正するすることにより、 該基材フィルムを一 方向あるいは二方向の少なくともいずれかの一方向に一 0. 0 0 1〜一 1 . 0 %の範囲に 収縮させると共にその基材フィルムの収縮に伴い無機酸化物の蒸着膜も収縮し、 その無機 酸化物の蒸着膜を構成する無機酸化物の粒子自体を緊密ィ匕させ、 これによりその酸素翻 度あるい ί¾蒸^ S¾等のガスノ リァ性を著しく向上させるものである。 なお、上記の各種の樹脂の l種ないしそ ¾上を删し、その讓化に際して、例えば、 フィルムの加工' 1生、 而撤性、 耐候性、 機械的性質、 寸法安定性、 抗酸化性、 滑り性、 離形 性、 難燃性、 抗カビ性、 電気的特性、 弓她、 その他等を改良、 改質する目的で、 種々のプ ラスチック配合剤や添加剤等を添加すること力 sでき、 その添加量としては、 極く微量から 数十%まで、 その目的に応じて、 任意に添力 πτることができる。
上記において、 一般的な添加剤としては、 例えば、 滑剤、 架嶽 ij、 酸化防止剤、 紫外線 p及収剤、 光安定剤、 充填剤、 帯電防止剤、 滑剤、 アンチブロッキング剤、 染料、 顔料等の iその他等を^ ^することができ、更には、改質用樹^^も使用することがてきる。 また、 本発明において、 上記の各種の樹脂のフィルムないしシートの表面には、 鍵す る酸化珪素の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、 必要に応じて、 予め、 所望の表 面処理層を設けることが^ =きるものである。
本発明において、 上記の表面処理層としては、 例えば、 コロナ方爐処理、 オゾン処理、 酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、 グロ一放電処理、 ィ匕学薬品等を 用いて処理する酸化処理、 その他等の前処理を任意に施し、 例えば、 コロナ処理層、 ォゾ ン処理層、 プラズマ処理層、 酸化処理層、 その他等を形成して設けること力 ?きる。
上記の表面前処理は、 各種の樹脂のフィルムないしシートと後述する酸化逢素の蒸着膜 との密接着 I生等を改善するための方法として実施するものである力 上記の密¾¾性を改 善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面に、予め、 プライマ一コート剤層、 アンダーコート剤層、 アンカーコート剤層、接 ¾ ^層、 あるいは、 蒸着アンカーコ一ト剤層等を任意に形成して、 表面処理層とすることもできる。
上記の前処理のコー卜剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系榭脂、 ポリウレタン系樹脂、 エポキシ系樹脂、 フエノール系樹脂、 メラミン系樹脂、 (メタ) ァ クリル系樹脂、 ポリ ビニル系樹脂、 ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオ レフイン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、 セルロース系樹脂、 その他等をビ ヒクルの 分とする樹脂糸滅物をィ©¾すること力 ?きる。
次に、 本発明において、 本発明にかかるバリア性層を構成する酸化珪素あるいは酸化ァ ルミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜について説明すると、 力かる酸化珪素あるいは酸化ァ ルミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜としては、 例えば、 化学 目成長法、 または、 物理気 相成長法、 あるいは、 その両者を併用して、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機 酸化物の蒸着膜の 1層からなる単層膜あるいは 2層以上からなる多層膜または複合膜を形 成して製造すること力 きるものである。
本発明において、 上記の化学^ ¾成長法による酸化珪素の蒸着膜について更に説明する と、 カゝかる化学 目成長法による酸化珪素の蒸着膜としては、 例えば、 プラズマ化学気相 成長法、謝匕学細成長法、光化学 目成長 の化学 目成長法(C h em i c a l V a p o r D e p o s i t i o n法、 CVD法) 等を用いて酸化珪素の蒸着膜を形成する こと力 きる。
本発明においては、 具体的には、 基材フィルムの一方の面に、 有機珪素化合物等の蒸着 用モノマーガスを原料とし、 キヤリヤーガスとして、 アルゴンガス、 ヘリウムガス等の不 活性ガスを使用し、 更に、 酸素供給ガスとして、 酸素ガス等を使用し、 低温プラズマ発生 装置等を禾翻する低温プラズマ化学 目成長法を用いて酸化珪素の蒸着膜を形成すること 力 ?きる。
上記において、 低温プラズマ発生装置としては、 例えば、 高周波プラズマ、 パルス波プ ラズマ、 マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することができ、 而して、 本発明におい ては、 高活性の安定したプラズマを得るためには、 高周波プラズマ方式による発生装置を すること力壁ましい。
具体的に、 上記の低温プラズマ化学気相成長法による酸化珪素の蒸着膜の形成法につい てその一例を例示して説明すると、 図 1 3は、 上記のプラズマ化学気相成長法による酸化 珪素の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概 B§0勺構 成図である。
上記の図 1 3に示すように、 本発明においては、 プラズマ化学^目成長装置 1 1の真空 チャンバ一 1 2内に配置された卷き出しロール 1 3から基材フイルム 1を繰り出し、更に、 該基材フィルム 1を、 補助ロール 1 4を介して所定の で冷却 ·電極ドラム 1 5周面上 に腿する。
而して、 本発明においては、 ガス供給装置 1 6、 1 7および、 原^?発供給装置 1 8等 から酸素ガス、 舌性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガス、その他等を供給し、 それらからなる蒸着用混合ガス糸 Ii¾物を調整しなから原料供給ノズル 1 9を通して真空チ ヤンバ— 1 2内に該蒸着用混合ガス糸賊物を導入し、 そして、 上記の冷却'電極ドラム 1 5周面上に搬送された基材フィルム 1の上に、 グロ—放電プラズマ 2 0によってプラズマ を発生させ、 これを照射して、 酸化赫の蒸着膜を贿匕する。
本発明においては、 その際に、 冷却 '電極ドラム 1 5は、 真空チヤンバ— 1 2の外に配 置されている葡原 2 1から所定の電力が印カロされており、 また、 冷却-電極ドラム 1 5の 近傍には、 マグネット 2 2を配置してプラズマの発生が促進されている。
次いで、 上記で酸化珪素の蒸着膜を形成した基材フィルム 1は、 補助ロール 2 3を介し て巻き取り口—ル 2 4に巻き取って、 本発明にかかるプラズマ化学 目成長法による酸化 珪素の蒸着膜を形成することができるものである。 なお、 図中、 2 5は、 真空ポンプを表 す。
上記の例示は、 その一例を例示するものであり、 これによつて本発明は限定されるもの ではないことは言うまでもないことである。
図示しないが、 本発明においては、 無機酸化物の蒸着膜としては、 無機酸化物の蒸着膜 の 1層だけではなく、 2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、 また、 使 用する材料も 1種または 2種以上の混合物で し、 また、 の材質で混合した無機酸 ィ匕物の蒸着膜を構 ることもできる。
上記において、真空チャンバ一 1 2内を真空ポンプ 2 5により E し、真空度 1 X 1 0— '〜1 Χ 1 0— 8T o r r位、好ましくは、真空度 I X 1 0— 3〜i x 1 0— 7 T o r r位に調製 することカ璧ましいものである。
また、 原嘛発供給装置 1 8においては、 原料である有機珪素化合物を揮発させ、 ガス 供給装置 1 6、 1 7から供給される酸素ガス、 不活性ガス等と混合させ、 この混合ガスを 原; ISK共給ノズル 1 9を介して真空チャンバ一 1 2内に導入されるものである。
この場合、 混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、 1〜4 0 %位、 酸素ガスの含有量 は、 1 0〜 7 0 %位、 不活性ガスの含有量は、 1 0〜 6 0 %位の範囲とすること力 Sでき、 例えば、 有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を 1 : 6 : 5〜1 : 1 7 : 1
4@i芰とすること力 ?きる。
一方、 冷却'電極ドラム 1 5には、 葡原 2 1力ら所定の が印加されているため、 真 空チャンバ— 1 2内の原料供給ノズル 1 9の開口部と冷却'電極ドラム 1 5との近傍でグ 口一方 プラズマ 2 0が生成され、 このグロ一放電プラズマ 2 0は、 混合ガスなかの 1つ 以上のガス成分から導出されるものであり、 この状態において、 基材フイルム 1を一定速 度で搬送させ、 グロ一 ¾€プラブマ 2 0によって、 冷却 · ドラム 1 5周面上の基材フ ィルム 1の上に、 酸化珪素の蒸着膜を形成することが きるものである。
なお、 このときの真空チャンバ—内の真空度は、 IX 10―1〜 IX 10— 4To r r位、 好ましくは、真空度 IX 10―1〜 IX 10— 2To r r位に調製すること力壁ましぐまた、 基材フィルム 1の搬3¾度は、 10〜 300 mZ分位、 $子ましくは、 50〜 150 mZ分 位に調製することが望ましいものである。
また、 上記のプラズマ化学気相成長装置 1 1において、 酸化珪素の蒸着膜の形成は、 基 材フィルム 1の上に、 プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながら式 S i〇x の形 で薄膜状に形成されるので、当該形成される酸化珪素の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、 可撓性に富む膽層となるものであり、 従って、 酸化珪素の蒸着膜のバリア性は、 «の 真空蒸着法等によって形成される酸化珪素の蒸着膜と比較してはるかに高いものとなり、 薄レ^ Iffで十分なバリァ性を得ることが きるものである。
また、 本発明においては、 プラズマにより基材フィルム 1の表面が、 清浄化され、 基材 フィルム 1の表面に、 極性基やフリ—ラジカル等が発生するので、 形成される酸化珪素の 蒸着膜と基材フィルム 1との密 ί»性が いものとなるといぅ禾 ij点を ¾ るものである。 更に、 上記のように酸化珪素の蒸着膜の形成時の真空度は、 1 X 10―1〜 1 X 10— 4 Τ or r位、 好ましくは、 IX 10―1〜 1X 10— 2Tor r位に調製することから、 «の 真空蒸着法により酸化珪素の蒸着膜を形成する時の真空度、 1 X 10— 4〜1 X 10— 5To r r位に比較して ί£¾空度であることから、 基材フィルム 1を原反交換時の真空状態設定 時間を短くすること力でき、真空度を安定しやすぐ謹プロセス; ^安 ¾ るものである。 本発明において、 有機珪素化合物等の蒸着モノマーガスを使用して形成される酸化珪素 の蒸着膜は、 有機珪素化合物等の蒸着モノマ—ガスと酸素ガス等とが化学反応し、 その反 応生成物が、 基材フィルムの一方の面に密歸し、 緻密な、 柔軟性等に富む薄膜を形成す るものであり、 通常、 -fe¾S i Οχ (ただし、 Xは、 0〜 2の数を表す) で表される酸 化珪素を主体とする違 1犬の薄 ある。
而して、 上記の酸化珪素の蒸着膜としては、 透明性、 ノ リア性等の点から、 一 «S i Ox (ただし、 Xは、 1. 3〜; 1. 9の数を表す。 ) で表される酸化珪素の蒸着膜を主体 とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、 Xの値は、 蒸着モノマ—ガスと酸素ガスのモル比、 プラズマのエネルギ 一等により変化するが、 一般的に、 Xの値が小さくなればガス翻度は小さくなるが、 膜 自 ^'黄色 I'生を^、 透明性が くなる。
また、 上記の酸化珪素の蒸着膜は、 酸化珪素を主体とし、 これに、 更に、 炭素、 水素、 珪素または酸素の 1¾頁、 または、 その 2種類以上の元素からなる化合物を少なくとも 1 纏頁を化学結^^により含 る蒸着脇ゝらなることを樹数とするものである。
例えば、 C—H結合を有する化合物、 S i— H結合を有する化合物、 または、 炭素単位 がグラフアイト状、 ダイヤモンド状、 フラ—レン状等になっている場合、 更に、 原料の有 機珪素化合物やそれらの誘 本を化学^^によって含 る¾ ^があるものである。 具体例を挙げると、 CH3 部位を持つハイド口カーボン、 S i H;) シリル、 S i シ リレン等のハイド口シリカ、 S iH2 OHシラノール等の水酸基誘導体等を挙げることが できる。
上記 でも、 蒸 ¾ii程の条件等を変化させることにより、 酸化珪素の蒸着膜中に含有 される化合物の觀、 難を変化させること力 ?きる。
而して、 上記の化合物が、 酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、 0. 1〜5 0 %位、 好ましくは、 5〜 20 %位が望ましいものである。
上記において、 含有率が、 0. 1%未満であると、 酸化珪素の蒸着膜の耐衝耕生、 m 性、 柔軟性等が不十分となり、 曲げなとにより、 擦り傷、 クラック等が発生し易ぐ 高い バリア性を安定して糸麟することが困難になり、 また、 50%を越えると、 ノ リア性力 s低 下して好ましくないものである。
更に、 本発明においては、 酸化珪素の蒸着膜において、 上記の化合物の含有量が、 酸ィ匕 珪素の蒸着膜の表面から深さ方向に向力 て減少させることが好ましく、 これにより、 酸 化珪素の蒸着膜の表面においては、 上記の化合物等により耐衝搫性等を高められ、 他方、 樹脂フィルムとの界面においては、 上記の化合物の含有量が少ないために、 基材フイルム と酸化 ¾ ^の蒸着膜との密 ¾¾t生が 固なものとなるといぅ禾 |J点を ¾ るものである。 而して、 本発明において、 上記の酸化珪素の蒸着膜について、 例えば、 X線光電子分光 装置 (X r a y Pho t oe l ec t ron Spec t ro s c opy、 XPS) 、 二次イオン質散析装置 (Se c ondary I on Ma s s Spec t r os c opy、 S IMS) 等の表面分析装置を用い、 深さ方向にイオンエッチングする等して分 析する方法を禾棚して、 酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、 上記のような物性 を確認、することができる。 また、 本発明において、 上記の酸化珪素の蒸着膜の J¥としては、 藤 5 0 A〜4 0 0 O A位であることが ましく、 具体的には、 その酵としては、 5 0〜1 0 0 O A位力壁 ましく、 而して、 上記において、 1 0 0 0人、 更には、 4 0 0 O Aより厚くなると、 その 膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、 また、 5 O A未満であると、 バリア 性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、 その膜厚は、 例えば、 株式会社理学製の蛍光 X線分析装置 (機種名、 R 1 X 2 0 0 OS) を用いて、 ファンダメンタルパラメ一夕一法で測定することができる。 また、 上記において、 上記の酸化珪素の蒸着膜の を変更する手段としては、 蒸着膜 の体 を大きくすること、 すなわち、 モノマ—ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸 着する を遅くする方 ¾ ^によって行うことができる。
次に、 上記において、 酸化珪素の蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマー ガスとしては、 例えば、 1. 1. 3. 3—テトラメチルジシロキサン、 へキサメチルジシ ロキサン、 ビニルトリメチルシラン、 メチルトリメチルシラン、 へキサメチルジシラン、 フエニルシラン、 ビニルトリエトキシシラン、 ビニリ
シシラン、 テトラエトキシシラン、 フエニルトリメトキシシラン、 メチルトリエトキシシ ラン、 ォクタメチルシクロテトラシロキサン、 その他等を ί®¾すること力 ?きる。
本発明において、 上記のような有機珪素化合物の中でも、 1 . 1. 3. 3—テトラメチ ルジシロキサン、 または、 へキサメチルジシロキサンを原料として使用すること力、 その 取り扱い性、 形成された連碰の特性等から、 特に、 好ましい原料である。
また、 上記において、 不活性ガスとしては、 例えば、 アルゴンガス、 ヘリウムガス等を すること力できる。
次に、 本発明において、 上記の物理 目成長法による酸化珪素あるいは酸化アルミニゥ ム等の無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明すると、 カゝかる物理気相成長法による 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜としては、 例えば、 真空蒸着 法、 スパッタリング法、 イオンプレーティング法、 イオンクラスタービ―ム法等の物理気 相成長法 (P h y s i c a 1 V a p o r D e p o s i t i o n法、 P VD法) を用い て酸化 の蒸着膜を形成すること力 r'きる。
本発明において、 具体的には、 金属の酸化物を]^料とし、 これを加熱して基材フィルム の上に蒸着する真空蒸着法、 または、 原料として金属または金属の酸化物を使用し、 酸素 を導入して酸ィ匕させて基材フィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、 更に酸化反応をブラ ズマで助 i¾Tるブラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用レ ^て無機酸化物の非結晶の薄膜を 形成することができる。
上記において、 蒸着材料のカロ熱^;としては、 例えば、 抵 t¾口熱方式、 高周波誘導加熱 、 エレクトロンビーム加熱:^ (EB) 等にて行うこと力 ?きる。
而して、 本発明において、 無機酸化物の蒸着膜としては、 ¾*的には、 金属の酸化物を 蒸着した薄膜であれば使用可能であり、 例えば、 ケィ素(S i) 、 アルミニウム (A 1) 、 マグネシウム (Mg) 、 カリレシゥム (Ca) 、 カリウム (K) 、 スズ (Sn) 、 ナ卜リウ ム (Na) 、 ホウ素 (B) 、 チタン (T i) 、 鉛 (Pb) 、 ジルコニウム (Z r) 、 イツ トリウム (Y) 等の金属の酸化物の蒸着膜を麵すること力 ?きる。
而して、 好ましいものとしては、 ケィ素 (S i) 、 アルミニウム (A1) 等の金属の酸 ィ匕物の蒸着膜を挙げることが きる。
而して、 上記の金属の酸化物の蒸着膜は、 ケィ素酸化物、 アルミニウム酸化物、 マグネ シゥム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶこと力 Sでき、 その表記は、 例えば、 S iOx 、 A 1 Οχ , MgOx 等のように M〇x (ただし、 式中、 Mは、 金属元素を表し、 Xの値 は、 金属元素によってそれぞ; $s囲が異なる。 ) で表される。
また、 上記の Xの値の範囲としては、 ケィ素 (S i) は、 0〜2、 アルミニウム (A1) は、 0〜1. 5、 マグネシウム (Mg) は、 0〜1、 カリレシゥム (Ca) は、 0〜1、 力 リウム (K) は、 0〜0. 5、 スズ(Sn) は、 0〜2、 ナトリウム (Na) は、 0〜0. 5、 ホウ素 (B) は、 0〜1、 5、 チタン (T i) は、 0〜2、 鉛 (Pb) は、 0〜1、 ジルコニウム (Z r) は 0〜2、 イットリウム (Y) は、 0〜1. 5の範囲の値をとるこ とがでさる。
上記において、 X=0の場合、 完全な金属であり、 透明ではなく全く使用することがで きない、 また、 Xの範囲の上限は、 に酸化した ίήτ'ある。
本発明において、 HIS的に、 ゲイ素 (S i) 、 アルミニウム (A 1) ^は、 使用され る例に乏しく、 ゲイ素 (S i) は、 1. 0~2. 0、 アルミニウム (A 1 ) は、 0. 5〜
1. 5の範固の値のものを すること力 ?きる。
本発明において、 上 ΐ己のような無機酸化物の蒸着膜の辦としては、 使用する金属、 ま たは、 金属の酸化物の麵等によって異なるが、 例えば、 5 0〜4 0 0 0人位、 好ましく は、 5 0〜 1 0 0 0 A位の範囲内で任意に選択して形/^ Tること力壁ましい。
また、 本発明においては、 無機酸化物の蒸着膜としては、 使用する金属、 または、 金属 の酸化物としては、 1種または 2種以上の混合物で使用し、 ¾@の材質で混合した無機酸 ィ匕'物の蒸着膜を構成することもできる。
次に、 本発明において、 上記の無機酸化物の蒸着膜を形成する方法についてその具体例 を挙げると、 図 1 4は、 巻き取り式真空蒸着装置の "^を示す卿铀勺構成図である。
図 1 4に示すように、 巻き取り式真空蒸着装置 3 1の真空チヤンバ— 3 2の中で、 巻き 出しロール 3 3から繰り出す基材フィルム 1は、 ガイドロール 3 4、 3 5を介して、 冷却 したコ一ティングドラム 3 6に案内される。
而して、上記の冷却したコ一ティングドラム 3 6上に案内された基材フィルム 1の上に、 るつぼ 3 7で熱せられた蒸着源 3 9、 例えば、 金属アルミニウム、 あるいは、 酸化アルミ 二ゥム等を蒸発させ、 更に、 必要ならば、 酸素ガス吹出口 3 9より酸素ガス等を噴出し、 これを供給しながら、 マスク 4 0、 4 0を介して、 例えば、 酸化アルミニウム等の無機酸 化物の蒸着膜を成膜化するものである。
次いで、 本発明においては、 上記において、 例えば、 酸化アルミニウム等の無機酸化物 の蒸着膜を形成した基材フィルム 1をガイドロール 4 1、 4 2等を介して巻き取り口一ル 4 3等に巻き取つて、 本発明にかかる無機酸化物の蒸着膜を有する樹脂フィルム 1を製造 することが きる。
上記の例示は、 その一例を例示するものであり、 これによつて本発明は限定されるもの ではないことは言うまでもないことである。
なお、 本発明においては、 上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、 まず、 第 1 層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、 次いで、 同様にして、 該無機酸化物の蒸着膜の上に、 更に、 無機酸化物の蒸着膜を形成するか、 あるいは、 上記のような卷き取り式真空蒸着装 置を用いて、 これを 2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、 2層以上の多層動ゝらなる無 «化物の蒸着膜を形 ることが きる。
次に、 本発明において、 上記で酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸 着膜を設けた基材フィルムに す、 力 理温度を室温以上とし、 また、 加熱処理時間を 3 0分間以上とするカロ熱処理工程について説明すると、 まず、 カロ熱処理方法としては、 例 えば、 SJ 調節可能な部屋を用意し、 その部屋の中に、 カロ讓理 Si を室温以上の所定の に調節して、 酸化珪素あるい潘化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基 材フィルムを、 一枚毎に藤状に積み重ねた忧態、 あるいは、 ロール等に巻き取った状態 にて放置し、 又は、 ait調節が W能な ¾ ^を効率良く温調するために、 回転ファンのよ うな空気循環装置等を持った恒温槽内に、 酸化珪素あるい 化アルミニウム等の無機酸 化物の蒸着膜を設けた基材フィルムを、 一枚毎に機状に積み重ねた状態、 あるいは、 口 ール等に巻き取った状態にて放置してカロ熱処理を行う方法、 その他等の方法でカロ熱処理を 行うこと力できる。
上記において、 加讓理 について更に説明すると、 本発明において、 カロ讓理^ ¾ としては、 力 Π讓理時間等にもよるが、 例えば、 室温以上〜 2 0 0 °C位の範囲内、 更に好 ましくは、 5 5°C〜1 5 0°C位の範囲内であることが望ましいものである。
また、 上記において、 カロ熱処理時間について更に説明すると、 本発明において、 カロ熱処 理時間としては、 カロ謹衝 等にもよるが、 例えば、 3 0分間以上〜 5日間位の範囲、 更に好ましくは、 1 時間以上〜 3日間位の範囲であることが望ましいものである。
而して、本発明において、カロ讓理 ¾¾、および、カロ讓理時間としては、具体的には、 加熱処理? i が、 5 5 °C〜1 5 0 °C位の範囲、 かつ、 カロ熱処理時間が、 1 2時間〜 3 6時 間位の範囲で加 »理することが'好ましいものである。
本発明において、 カロ熱処理としては、 更に具体的には、 カロ熱処理^ itを 5 5 °C位に設定 し、かつ、カロ讓理時間を 2 4時間位で加^ 理する^ ¾、更には、カロ顯理 を 7 0 °C 位に設定し、 かつ、 カロ熱処理時間を 2 4時間位で加熱処理する^;、 あるいは、 加 理 温度を 9 0 °C位に設定し、 かつ、 加熱処理時間を 2 4時間位で加熱処理する方式等で行う こともできる。
上記のカロ熱処理において、 圧力、 あるいは、 湿度、 その他等の条件を、 特に、 調製する 必要は認められなかったものである。
而して、 本発明において、 上記のような加讓理は、 基材フィルムをある まで上げ て、 その にしばらく置いてから室温まで?^すという基材フィルムのアニーリング処 理に相当するものである。
すなわち、 本発明においては、 獻的に図示すれば、 図 1 5に示すように、 酸化珪素あ るいは酸ィ匕アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設ける基材フィルム 1としは、 前述の ように一軸あるいは二軸延伸カロェし、 更に、 麵理等の熱安定化処理を施し、 残留応力あ るいは残留歪みを有し、更に、その残留応力あるいは残留歪みが、 1 %以下、具体的には、 0. 1 %〜1 %の範囲内である各種の樹脂のフィルムないしシート 1 aを基材フィルムと して使用するものである。
而して、 本発明においては、 例えば、 基材フィルム 1 ( l a) の片面に、 例えば、 酸ィ匕 珪素あるいは金属アルミニウムもしく ¾¾ィ匕アルミニウム等を蒸着源として使用し、 これ を加熱して蒸発させて、 必要ならば、 酸素ガス等を供給しながら、 酸化珪素あるい W¾化 アルミニゥ等の無機酸化物の粒子 4を堆積し、 蓄積した無機酸化物の蒸着膜 2を形成する ものである。
次いで、 本発明においては、 図 1 6に示すように、 上記で酸化珪素あるいは酸化アルミ ニゥ等の «酸化物の粒子 4が堆積し、 蓄積した無機酸化物の蒸着膜 2を形成した基材フ イルム 1 ( l a) に加熱処理あるいは加熱処理からなるァニ—リング処理を行うことによ り、 まず、 矢印 Xで示すように、 基材フィルム 1 ( l a) 自身あるいはその表層等が熱収 縮を起こし、 その基材フィルムの収縮率をフィルム成膜時の流れ方向、 および、 幅方向の 少なくともどちらかの一方向に対し、 - 0. 0 0 1〜一 1. 0 %の範固に収縮させると共 に嫌鍵化物の蒸着膜を緊密化させるものである。
更に詳述すると、 本発明においては、 上記のように基材フィルムの一方の面に、 無機酸 ィ匕物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムに、 加熱処理あ るいは加顯理からなるアニーリング処理等を行うことにより該基材フィルム 1 ( 1 ) が有する 1 %以下、 具体的には、 0. 1〜1 %の範囲内にある残留応力あるいは残留歪み を取り除いて、 残留応力あるいは残留歪みを 0 · 0 1 %〜 0. 9 9 %位の範囲までに修正 し、 基材フィルムを一方向あるいは二方向の少なくともいずれかの一方向に一 0. 0 0 1 〜一 1 . 0 %の範囲に収縮させて、 その寸法安定性をもたせたり、 欠陥をなくしたり、 物 理的特性を改善した基材フィルム l bを形成すると共に、 それに伴って、 その上に設けた 酸化珪素あるい tt^化アルミニゥ等の靜«化物の粒子 4が堆積し、 髓した 化物 の蒸着膜 2も を起こし、 それにより、 矢印 Yで示すように、 無機酸化物の蒸着膜 2 を構成する酸化珪素あるいは酸化アルミニゥ等の無機酸化物の粒子 4も何らかの形で相互 に近接して緊密化し、 その隙間等を密閉し、 それを塞いで、 緻密な、 連続状の薄膜化した 薄膜からなる無機酸化物の蒸着膜 2 aを形成することにより、 その水蒸気薩度、 酸素透 、 色調の黄 、 無機酸化物の蒸着膜を構成する式 ΜΟχ (ただし、 式中、 Μは、 金 属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞれ範囲力異なる。 ) で表される無機酸 化物の X値の変化量、 無機酸化物の蒸着膜の表面粗さ、 その他等の特性を改質した無機酸 ィ匕物の蒸着膜 (前述の図示の 3〜 3 kに示す «酸化物の蒸着膨 を形成することができ るものである。
なお、 上記において、 基材フィルム力 S有する 1 %以下、 具体的には、 0. 1〜1 %の範 囲内にある残留応力あるいは残留歪みを取り除いて、 残留応力あるいは残留歪みを 0 , 0 1 %〜◦ . 9 9 %位の範囲までに修正することは、 基材フィルムカ审する 1 %以下、 具体 的には、 0. 1〜1 %の範囲内にある残留応力あるいは残留歪みを 0. 0 1〜9 5 %程度 の率で基材フィルムが有する残留応力あるいは残留歪みを修正することに相当するもので ある。
本発明において、 上記の加變理 が、 室温以下であると、 酸化珪素あるいは酸化ァ ルミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムにおいて、 酸化珪素あるいは酸 化アルミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜の膜質に変化がなく、 その効果を創出することが 認められないことから好ましくなく、 また、 2 0 0°C以上、 更には、 1 5 0°C以上である と、 基材フィルムカ S溶融等を起こしてその形状等を保持し得なくなることからから好まし く、 更に、 その^ g性等においても劣ることから好ましくないものである。
また、 本発明において、 上記の加熱処理時間が、 3 0分間以下であると、 酸化珪素ある いは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムにおいて、 前述と同 様に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜の麟に変化がなく、 その効果を創出すること力 忍められないことから好ましくなく、 また、 5曰以上、更には、 3曰以上であると、 その 4¾性等に劣ることから好ましくないものである。
以上の説明で明らかなように、 本発明においては、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪 素あるい 化アルミニウム等の繊酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 麵化珪素あるいは 酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムを、 加熱処理 を室温 以上とし、 かつ、 カロ»理時間を 3 0分間以上とする加熱処理からなるアニーリング処理 を行うことにより、 上記の基材フィルムに設けた酸化珪素あるいは酸ィ匕アルミニウム等の 無機酸化物の蒸着膜力聰され、 その水蒸気 度、 酸素通度、 色調の黄変度、 蒸着膜 を構成する式 S i Ox で表される酸化珪素の X値の変化量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィル ムの繊性、 無機酸化物の蒸着膜の^?、 その他等の特性カ壞ィ匕した酸化珪素あるいは酸 化アルミニゥム等の 化物の蒸着膜を形 ることが きるものである。
而して、 本発明において、 包装用容器等を構成するバリア性素材としては、 基材フィル ムの一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設け、 更 に、 難化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルム を、 カロ熱処理? a¾を室温以上とし、 かつ、 カロ讓理時間を 30分間以上としてカロ熱処理し て、 上記の基材フィルムに設けた酸化珪素あるレ 化アルミニゥム等の無機酸化物の蒸 着膜の麟を、 その水蒸^ »Jtを、 2. 0 g/m2 'day〜0. 000001 g/m"
• d ayの範囲、 また、酸素 ¾U を、 2. 0 c c/m2 · d a y · a t m~ 0. 000 001 c cZm2 · d ay · a tmの範囲に構成し、更に、その黄 ¾ 、 一 0. 3〜一 2. 0の範囲に向上させ、かつ、 «酸化物の蒸着膜を構成する ΗΜΜΟχ (ただし、式中、 Μは、 金属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞれ範囲が異なる。 ) で表され る無機酸化物の X値の変ィ匕量を、 +0. 01〜+0. 50の範囲に増大させ、 また、 無機 酸化物の蒸着腹の表面粗さを、 3〜 30の範囲に調整した特性を有する無機酸化物の蒸着 膜に改質した構成からなるバリア性フィルムを S ^することが好ましいものである。
更に、 本発明においては、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるい ί識化アルミ二 ゥム等の無機酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 碰化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無 機酸ィ匕物の蒸着膜を設けた基材フイ レムを、 加熱処理 を室温以上とし、 かつ、 力 D熱処 理時間を 30分間以上とするカロ熱処理からなるァニ一リング処理を行うことにより、 ァニ 一リング処理後、 基材フィルムは、 その収縮率をフィルム雄時の流れ方向、 および、 幅 方向の少なくともどちらかの一方向に対し、 一 0. 001〜一 1. 0 %の範囲内に収縮さ せているものであり、 また、 謹酸化物の蒸着膜は、 その醇が 50人〜 100 OA (5 〜: L O Onm) の範囲内の厚みを有するものである。
また、 本発明において、 上記のようなァニ一リング処理後、 酸化珪素あるいは酸化アル ミニゥム等の雄酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムは、アニーリング処理前に比して、 その水蒸気通率の良化率 〔良化率 = (処理後 ÷処理前) 〕 力 s 1Z100〜99/10 0の範囲内であり、 また、 その酸素 ¾ 率の良化率 〔良化率 = (処理後 ÷処理前) ) 力 l l 00〜99ノ: I 00の範囲内にあるものであり、 更に又、 そのその水蒸気透過率の 低下量が、 一 0. 1〜一 30gZm2 ' dayの範囲内にあり、 、 また、 酸素透過度の低 下量が、 一 0. 1〜一 l Oc cZm2 · d ay · a tmの範囲内にあるものである。
更に、 本発明において、 上記のようなアニーリング処理後、 酸化珪素あるい【滅化アル ミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムは、 その無機酸化物の蒸着膜の表 面粗さとして、 表面凹凸の標箱差値、 Rms値が、 アニーリング処理前に比して、 1. 01〜100倍に向上しているものである。
上記の表面凹凸の標嘿差値、 Rms働ま、 碰するとおりである。
次にまた、 本発明においては、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アル ミニゥム等の謹酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィ ルムに、 カロ熱処理 Sを室温以上とし、 かつ、 カロ »理時間を 30分間以上とする加熱処 理からなるァニ—リング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜について、 ァニ—リング 処理前に比して、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さとし、 表面凹凸の標' ¾ΐ差値、 Rm s値を、 1. 01〜; L 00倍に向上させ、 更に、 その水蒸気透過度を、 2. Og/m2 · day〜0. O O O O O lgZm2 · d a yの範固、 また、 酸素 ¾U を、 2. 0 c cノ m2 ' day ' a tm〜0. OOO OO l c cZm2 · d a y · a t mの範囲に構成した 特性を有する無機酸化物の蒸着膜に改質した構成からなるバリァ性フィルムを製造し得る ものである。
次にまた、 本発明においては、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるいは酸ィ匕アル ミニゥム等の無機酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィ ルムに、 カロ熱処理 ® を室温以上とし、 かつ、 カロ «理時間を 30分間以上とするカロ熱処 理からなるアニーリング処理を施して、 上記の酸化珪素の蒸着膜について、 アニーリング 処理前に比して、 その基材フィルムの収縮率をフィルム/ ¾寺の流れ方向、 および、 幅方 向の少なくともどちらかの一方向に対し、 —0. 001〜—1. 0%の範囲に収縮させ、 更に、 その水蒸気 を、 2. Og/m2 - d ay~0. 000001 g/m2 - d a yの範囲、 また、 酸素 ¾1 ^を、 2. 0 c c /m2 ' day ' a tn!〜 0. 000001 cc/m2 · day · a t mの範囲に構成した特性を有する無機酸化物の蒸着膜に改質し た構成からなるバリア性フィルムを製造し得るものである。
なお、 本発明において、 加 理あるいは加熱処理からなるァニ一リング処理を行うこ とにより、 基材フィルムに設けた酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸 着膜の膜質力変化し、 改質される理由は、 詳らかではないが、 前述のように、 基材フィル ムの一方の面に蒸着等により設けた酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の 蒸着膜は、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の蒸気が堆積し、 その粒子カ瀋積した酸 ィ匕珪素あるい ィ匕アルミニウム等からなる無機酸化物の蒸着膜が形成されるものである こと力ゝら、 その酸ィ匕珪素あるいは酸化アルミニウム等からなる無機酸化物の蒸着膜には、 多数の微細孔等が形成され、 その微細孔を構成する隙間が、 カロ^!理あるいは加熱処理か らなるァニ一リング処理等により、 基材フィルム自身あるいはその表層等が収縮すると共 に酸化珪素あるいは酸化アルミ二ゥム等からなる無機酸化物の蒸着膜も協働し、 該謹酸 ィ匕物の蒸着膜を構成する酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の粒子が何らかの形で緊密 化し、 その隙間等を密閉し、 それを塞いで、 緻密な、 連続状の薄膜を形成することによる ものであると解されるものである。
次に、 本発明において、 上記で製造される本発明にかかるバリア性フィルムは、 これを バリア性素材として使用し、 これと、 他のプラスチックフィルム、 材、 金属箔ないし 金属板、 セロ八ン、 織布ないし不織布、 ガラス板、 その他等の種々の基材の 1種ないし 2 種以上と任意に積層して、 種々の形態からなる積層材を製造し、 而して、 該積層材を包装 用材料、 音财、 太陽電池モジュール用保護シート、 有機 E Lディスプレイ用保護フィ ルム、 フィルム液晶ディスプレイ用保護フィルム、 ポリマーバッテリ-用包材、 または、 アルミ包装材料、 その他等の種々の用途に細し得るものである。
上記の翻材の製造法について例示すれば、 例えば、 前述の本発明にかかるバリア性フ イルムの酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜の面に、 まず、 ブラ イマ—剤層を形成し、次いで、該プライマー剤層の面に、 ラミネ一ト用! ^幢を形成し、 しかる後、 該プライマ一剤層およびラミネート用 ^層等を介して、 プラスチックチフ イルム等の基材をドライラミネ—ト積層法を用いて積層することにより、 種々の形態から なる觀材を製造すること力 きる。
あるいは、 本発明においては、 例えば、 本発明かかるバリア性フィルムの酸化珪素ある いは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜の面に、 まず、 プライマ—剤層を形成し、 次いで、 該プライマー剤層の面に、 アンカーコート剤層を形成し、 し力る後、 該プライマ 一剤層およびアンカ一コート剤層等を介して、 各種の樹脂等を溶融押出して所望の基材を ¾®する押出ラミネ一ト¾)1法を用いて積層することにより、 各種の形態からなる ¾ 材 を製造することが、できる。 なお、 本発明においては、 本発明にかかるバリア性フィルムを構成する基材フィルムの 面にも、 上記と同様にして所望の他の基材を任意に積層して種々の形態からなる積層材を 製造し得るものであり、 本発明においては、 その使用目的、 使用形態、 用途、 その他等に よって、 他の基材を任意に積層して、 種々の形態の麵材を設計して製造すること力 き るものである。
次に、 本発明において、 上記のような積層材を使用例として、 包装用容器を例にして説 明すると、本発明においては、包装用容器としては、例えば、上記の 材を 2細意し、 その最内層に位置するヒ—トシ—ル I生樹脂層の面を対向させて重ね合わせ、 しかる後、 そ の外周周辺の端部の三方をヒートシールしてシ I ^を形成すると共に上方に開口部を設 けて、 三方シール型の軟 用容器を纖すること力 きる。
而して、 本発明においては、 図示しないが、 上記で製造した三方シール型の軟包装用容 器の開口部から、 例えば、 飲食品、 その他等の内容物を充填し、 次いで、 上方の開口部を ヒ—トシ—ルして上方のシー 等を形成し、更に、必要に応じて、例えば、ボイル処理、 レトルト処理等を施して、 種々の形態からなる包装製品を製造することができるものであ る。
なお、 本発明においては、 上記に図示した例示の包装用容器に限定されるものでないこ とは言うまでもないことであり、 その目的、 用途等により、 軟包接用袋、 液体讓容器、 紙击、 その他等の種々の形態の包装用容器を製造することができることは言うまでもない ことである。
次に、 本発明において、 上記の ¾ϋ材を構成するプライマー剤層について説明すると、 かかるプライマ-剤層としては、 まず、 ポリウレタン系 f脂あるいはポリエステル系樹脂 等をビヒクルの主成分とし、 該ポリゥレタン系樹脂あるいはポリエステル系樹 1〜 3 0重量%に対し、 シランカップリング剤 0. 0 5〜1 0重量%位、 好ましくは、 0. 1重 量%〜 5重量%位、 充填剤 0. 1〜 2 0重量%位、 好ましくは、 1〜 1 0重量%位の割合 で添加し、 更に、 必要ならば、 安定剤、 硬化剤、 架橋剤、 滑剤、 紫外線吸収剤、 その他等 の添加剤を任意に添加し、 溶媒、 ¾ ¾i」等を加えて充分に混合してポリウレタン系あるい はポリエステル系樹脂賊物を調整し、 而して、 該ポリウレタン系あるいはポリエステゾレ 系樹脂 «物を使用し、 これを、例えば、 口—ルコ一卜、 グラビアコート、ナイフコート、 デップコート、 スプレイコート、 その他のコーティング法等により、 前述の酸化珪素ある いは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜の上にコーティングし、 しかる後、 コ一テ イング膜を誦させて溶媒、 f^j等を^ ¾し、 更に、 要すれば、 エージング処理等を行 つて、 本発明にかかるプライマー剤層を形^ることができる。
なお、本発明において、 プライマ-剤層の娜としては、例えば、 0. I gZm2 〜1. O g/m2 (享^^ ¾g) 位が望ましい。
而して、 本発明においては、 上記のようなプライマ-剤層により、 酸化珪素あるいは酸 化アルミニウム等の雄酸化物の蒸着膜とヒ—トシール I生樹脂層との密接着 I生等を向上さ せると共にプライマー剤層の伸長度を向上させ、 例えば、 ラミネート加工、 あるいは、 製 劍ロェ等の微ロェ適性を向上させ、 勸ロェ時における酸化珪素あるい【識化アルミニウム 等の^ «化物の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。
上記において、 ポリウレタン系榭脂組成物を構成するポリウレタン系榭脂としては、 例 えば、 多官能ィソシァネ一トとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリゥ レ夕ン系樹脂を翻することが きる。
具体的には、例えば、 トリレンジイソシアナ一卜、ジフエニルメタンジイソシアナ一ト、 ポリメチレンポリフエ二レンポリイソシアナート等の芳香族ポリイソシアナ一ト、 あるい は、 へキサメチレンジイソシアナート、 キシリレンジイソシアナ一卜等の脂 ポリイソ シアナ—ト等の多官能イソシァネ—トと、 ポリエ—テルポリオール、 ポリエステルポリオ —ル、 ポリアクリレ—トポリオール、 その他等のヒドロキシル基含有化合物との反応によ り得られる一液なレ し二!^化型のポリゥレタン系樹脂を删することができる。
而して、 本発明において、 上記のようなポリウレタン系榭脂を使用することにより、 酸 化珪素の蒸着膜とヒートシール I'生樹脂層との密接着 I生等を向上させると共にプライマ一剤 層の伸長度を向上させ、 例えば、 ラミネート加工、 あるいは、 製袋加工等の後加工適性を 向上させ、 ί数 Πェ時における酸化珪素の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。 また、 上記において、 上記のポリエステル系樹脂誠物を構成するポリエステル系樹脂 としては、 例えば、 例えば、 テレフ夕」!^等のベンゼン核を 骨格とする芳香族赫ロジ カルボン酸の一種またはそれ以上と、 赫ロ二価アルコ—ルの一種またはそれ以上との重縮 合により生 る熱可塑性のポリエステル系樹脂を細することができる。
上記において、ベンゼン核を 骨格とする芳香 ロジカルボン酸としては、例えば、 テレフタリ 、 イソフタ 、 フタレ酸、 ジフエニルェ一テル一 4、 4ージカルボン酸、 その他等を飾することが きる。
また、 上記において、 颇ロニ価アルコールとしては、 エチレングリコール、 プロピレン グリコール、 トリメチレングリコール、 テトラメチレングリコーリレ、 ジエチレングリコー ル、 ポリエチレングリコ一リレ、 ポリプロピレングリコール、 ポリテ卜ラメチレングリコー ル、 へキサメチレングリコール、 ドデカメチレングリコール、 ネオペンチルダリコール等 の脂 S細グリコ—ル、 シクロへキサンジメタノール等の^^グリコール、 2. 2—ビス (4 ' 一; 6—ヒドロキシエトキシフエニル) プロパン、 ナフタレンジオール、 その他の芳
¾ジォ一等を ^fflすること力 きる。
本発明において、 上記のポリエステル系樹脂としては、 具体的には、 例えば、 テレフ夕 ル酸とエチレングリコールとの重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレー ト樹脂、 テレフタル酸とテトラメチレングリコールとの重縮合により生成する熱可塑性ポ リブチレンテレフタレート樹脂、 テレフタル酸と 1、 4——ンクロへキサンジメタノールと の重縮合により生成する熱可塑性ポリシクロへキサンジメチレンテレフタレ一ト樹脂、 テ レフタル酸とイソフタル酸とエチレングリコールとの共重縮合により生成する熱可塑性ポ リエチレンテレフタレート樹 β旨、 テレフタル酸とエチレングリコールと 1、 4—シクロへ キサンジメタノールとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレート樹 脂、 テレフタリ とイソフタ !^とエチレングリコールとプロピレングリコ一ルとの共重 縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレート樹脂、 ポリエステリレポリオ一ル 樹月旨、 その他等を することが きる。
なお、 本発明においては、 上記のようなベンゼン核を基本骨格とする!^!芳香族ジカル ボン酸に、 更に、 例えば、 マロン酸、 コハク酸、 グルタル酸、 アジピン酸、 ピメリン酸、 スベリン酸、 ァゼライン酸、 セバシン酸、 ドデカン酸等の脂肪] ^ロジカルボン酸の一種 ないしそれ以上を添加して共重縮合することもでき、 その使用量としては、 ベンゼン核を ¾Φ骨格とする芳香]^ロジカルボン酸に対し、 1〜: I 0重量%位を添加して使用するこ と力好ましい。
而して、 本発明において、 上記のようなポリエステル系榭脂を使用することにより、 そ の密接着性等を向上させると共にプライマ—剤層の伸長度を向上させ、 例えば、 ラミネ一 卜加工、 あるいは、 製袋加工等の働旺適性を向上させ、 ί効 [Iェ時における無機酸化物の 蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。 次にまた、 上記において、 ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂滅物を構成す るシランカツプリンク Uとしては、 二元反応性を有する有機官能性シランモノマー類を使 用することができ、 例えば、 アークロロプロピルトリメトキシシラン、 ピニルトリクロ口 シラン、 ビニルトリエトキシシラン、 ビニリレートリス (i3—メトキシェトキシ) シラン、 ァ一メタクリルォキシプロピルトリメトキシシラン、 3— ( 3、 4一エポキシシクロへキ シ Jレ) ェチルトリメトキシシラン、 ァーグリシドキシプロピルトリメ卜キシシラン、 ビニ ルトリァセトキシシラン、 ァーメリレカプトプロビルトリメトキシシラン、 N - 5 (ァミノ ェチリレ) 一ァーァミノプロピリレ卜リメトキシシラン、 Ν _ β (アミノエチル) ーァーアミ ーヒドロキシェチル) _ァ一ァミノプロピルトリエトキシシラン、 ァ一ァミノプロビルシ リコーンの水溶液等の 1種ないしそ tl¾上を棚すること力 きる。
上記のようなシランカップリンク IJは、 その の一端にある官能基、 通常、 クロ口、 アルコキシ、 または、 ァセトキシ藤が加水^^し、 シラノール基 (S i OH) を形成し、 これが、 酸化珪素あるい【纖ィ匕アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を構成する金属、 あ るい 化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜表面上の活性な基、 例 えば、 水酸基等の官能基と何らかの作用により、 例えば、 脱水縮合反応等の反応を起こし て、 酸化珪素あるい〖鍵化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜表面上にシランカツプリ ンク カ^^結合等で修飾され 更に、 シラノール基自体の酸化珪素あるいは酸化アルミ ニゥム等の «化物の蒸着膜表面に吸 素^^により強固な給を形 る。 他方、 シランカップリング剤の «にあるビニル、 メ夕クリロキシ、 ァミノ、 エポキシ、 あるいは、 メルカプト等の有機官能基が、 そのシランカップリング剤の薄膜の上に形成さ れる、 例えば、 印刷衡第層、 ラミネート用接 層、 アンカ—コート剤層、 その他の層等 を構成する物質と反応して強固な結合を形成し、 更に、 上記の印刷衡叢層、 ラミネート用 J ^帽、 アンカーコ—ト剤層等を介して、 ヒ—トシ—ル性樹脂層カ襁固に密據して、 そのラミネ一ト弓娘を高め、 このようにして、 本発明においては、 ラミネート弓艘の高い 強固な 構造を形成可能とするものである。
本発明においては、 シランカップリンク^が する «性と有機性とを禾翻し、 酸化珪 素の蒸着膜と、 印刷難層、 ί¾¾ ^層あるいはアンカ—コート剤層を介して、 ヒ—トシ一
Μ生樹脂層との密接着 I'生を向上させ、 これにより、 そのラミネート弓嫉等を高めるもので ある。
次に、 本発明において、 上記のポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂滅物を構 成する充填剤としては、 例えば、 炭酸カルシウム、 硫酸バリウム、 アルミナホワイト、 シ リカ、 タルク、 ガラスフリット、 樹 Sg^末、 その他等のものを麵すること力できる。 而して、 上記の充嶽 ijは、 ポリウレタン系あるいはポリエステル系翻旨糸滅物液の粘度 等を調製し、 そのコ一ティング適性を向上させると共にバインダ一樹脂としてのポリウレ タン系あるいはポリエステル系樹脂とシランカツプリング剤を介して結合し、 コ一ティン グ膜の »力を向上させるものである。
次に、 本発明において、 積層材を構成するラミネ—ト用 層について説明すると、 かかるラミネート用 剤層を構成する接着剤としては、 例えば、 ポリ酢酸ビニル系接着 剤、 アクリル酸のェチル、 プチル、 2—ェチルへキシルエステル等のホモポリマー、 ある いは、 これらとメタクリル酸メチル、 アクリロニトリル、 スチレン等との共重合体等から なるポリァクリル酸エステル系接着剤、 シァノアクリレ一卜系接着剤、 エチレンと酢酸ビ ニル、 アクリル酸ェチル、 アクリル酸、 メタクリル酸等のモノマ一との共重合体等からな るエチレン共重合体系接着剤、 セルロース系接着剤、 ポリエステル系接着剤、 ポリアミド i ポリイミド系 尿素樹脂またはメラミン觀 からなるァミノ樹脂系接 m フエノール樹脂系 ί¾»¾ エポキシ系 ίδ¾¾ι」、 ポリウレタン系»^、 反応型 (メ タ) アクリル系 ^ クロロプレンゴム、 二トリルゴム、 スチレン一ブタジエンゴム等 からなるゴム系接翁 lj、 シリコーン系 ¾¾¾ アルカリ金属シリケ一ト、 翻虫点ガラス等 からなる «系 その他等の を^ fflすることが きる。
上記の ¾¾¾の糸滅系は、 水性型、 溶液型、 ェマルジヨン型、 分散型等のいずれの組成 物形態でもよく、 また、 その性状は、 フィルム ·シート状、 粉末状、 固形状等のいずれの 形態でもよく、 更に、 歸機構については、 化学反応型、 溶剤揮発型、 熱溶融型、 熱圧型 等のレゝずれの形 ¾旨でもよいものである。
而して、 上記の接着剤は、 例えば、 ロールコート法、 グラビアロールコート法、 キスコ —ト法、 その他等のコート法、 あるいは、 印刷法等によって施すことができ、 そのコ一テ イング量としては、 0 . 1〜: L 0 g/m2 (誦 態) 位が望ましい。
次に、 本発明において、 積層材を構成するアンカ一コート剤層について説明すると、 か かるアンカ一コート剤層を構成するアンカーコート剤としては、 例えば、 アルキルチタネ —ト等の有機チタン系、 イソシァネート系、 ポリエチレンイミン系、 ポリブタジエン系、 その他等の水性ないし油性の各種のァンカーコ一ト剤を細することが きる。
上記のアンカ—コート剤は、 例えば、 ロールコ—ト、 グラビアロールコ—ト、 キスコ— ト、 その他等のコーティング法を用いてコ一ティングすることができ、 そのコーティング 量としては、 0. 1 - 5 g/m2 (¾ ^え態 J 位が望ましい。
また、 上記の溶融押出觀 における溶 出樹脂層としては、 例えば、 ポリエチレ ン系樹脂、 ポリプロピレン系樹脂、 酸変性ポリエチレン系樹脂、 酸変性ポリプロピレン系 樹脂、 エチレン一ァクリ またはメタクリフ 共重合体、 サ一リン系樹脂、 エチレン一 酉髓ビニル共重合体、 ポリ酢酸ビニル系樹脂、 エチレン一アクリル酸エステリレまたはメタ クリリ エステル共重合体、 ポリスチレン系榭脂、 ポリ塩化ビニル系樹脂、 その他等の熱 可塑性樹脂の 1種ないし 2種以上を™すること力 きる。
なお、 上記の溶融押出觀^;において、 より強固な歸弓嫉を得るために、 例えば、 上記のアンカ一コート剤等のアンカ—コ一ト剤層を介して、 麵することができる。
次に、 本発明において、 積層材の最内層、 あるいは、 : 層を形成するプラスチックフ イルム等の基材としては、 例えば、 熱によって溶融し相互に融着し得るヒ―トシール 1生榭 脂のフィルムないしシートを使用することができ、 具体的には、 例えば、 低密度ポリェチ レン、 中密度ポリエチレン、 高密度ポリエチレン、 直鎖状 (線状) 低密度ポリエチレン、 メタ口セン角勉某を使用して重合したェチレン一 α ·ォレフィン共重合体、ポリプロピレン、 エチレン一酢酸ビニル共重合体、 アイオノマー樹脂、 エチレン—アクリル酸共重合体、 ェ チレン一アクリル酸ェチル共重合体、 エチレン一メタクリル酸共重合体、 エチレン一メタ クリル酸メチル共重合体、 エチレン一プロピレン共重合体、 メチルペンテンポリマー、 ポ リブテンポリマー、 ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂をァク リル酸、 メ夕クリリレ酸、 マレイン酸、 無水マレイン酸、 フマール酸、 ィタコン酸等の不飽 和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフイン樹脂、 ポリ酉撤ビニル系樹脂、 ポリ (メタ) アクリル系樹脂、 ポリ塩化ビニル系榭脂、 その他等の樹脂のフィルムないしシートを使用 することができる。
而して、 上記のフィルムないしシートは、 その樹脂を含む滅物によるコ—ティング膜 の 態で ί細することが きる。
その膜もしくはフィルムないしシートの厚さとしては、 5 imないし 3 0 0 m位力 子 ましくは、 更には、 1 0 mないし 1 0 0 /im位が望ましい。
更にまた、 本発明において、 上記の積層材を構成するプラスチックフィルム等の基材と しては、 例えば、 積層材の 素材となるものとして、 機 TO、 物理的、 ィ匕学的、 その他 等において優れた性質を有し、 特に、 弓娘を有して強靱であり、 カゝっ而撫性を^る樹脂 のフィルムないしシ―トを使用すること力でき、 具体的には、 例えば、 ポリエステル系樹 ポリアミド系樹脂、 ポリアラミド系樹脂、 ポリオレフイン系樹月旨、 ポリカーボネート 系樹脂、 ポリスチレン系樹脂、 ポリアセタール系樹脂、 フッ素系樹脂、 その他等の強靱な 樹脂のフィルムないしシ一ト、 その他等を することが きる。
而して、 上記の樹脂のフィルムないしシートとしては、 未延伸フィルム、 あるいは一軸 方向また tt 軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。 そのフィルムの厚さとしては、 5 mないし 1 0 0 m位、 好ましくは、 Ι Ο ΓΠない し 5 O ^m位が望ましい。
なお、本発明においては、上記のような基材フィルムには、例えば、文字、図形、記号、 絵柄、 難等の所望の印刷絵柄を通常の印刷法で 1」り印刷あるいは裏刷り印刷等が施さ れていてもよい。
次にまた、 本発明において、 上記の觀材を構成する基材としては、 例えば、 紙層を構 成する各種の猫材を使用すること力でき、 具体的には、 本発明において、 ,鶴材として は、 賦型性、 耐屈曲性、 剛性等を持たせるものであり、 例えば、 強サイズ性の晒または未 晒の糸 材、 あるい 白口一レ紙、 クラフト紙、 板衹、 カロェ の糸腿材、 その他等を ^fflすることができる。
上記において、編を構 る纖材としては、坪 約 8 0〜6 0 0 gZm2 位のもの、 好ましくは、 ±平量钓 1 0 0〜4 5 0 g/m2位のものを麵することが望ましい。
勿論、 本発明においては、 編を構成する醒材と、 上記に挙げた基材フィルムとして の各種の樹脂のフィルムないしシート等を併用して使用すること力 きる。
更に、 本発明において、 上記の麵材を構成する材料として、 例えば、 7|蒸気、 水等の バリア—性を有する低密度ポリエチレン、 中密度ポリエチレン、 高密度ポリエチレン、 直 鎖状低密度ポリエチレン、 ポリプロピレン、 エチレン一プロピレン共重合体等の樹脂のフ イルムないしシート、 あるいは、 酸素、 7K蒸気等に対するバリアー性を有するポリ塩化ビ ニリデン、 ポリビニルアルコール、 エチレン一酢酸ビニル共重合体ケン化物等の樹脂のフ イルムないしシ一ト、 樹脂に敏料等の着 β ^を、 その他、 所望の添加剤を加えて混練して フィルム化してなる 性を る各種の着^ t脂のフィルムないしシ一ト等を使用する ことができる。 これらの材料は、 一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができ る。
上記のフィルムないしシ—トの厚さとしては、 任意であるが、 通常、 5 mないし 3 0 0 位、 更には、 1 0 mないし 1 0 0 m位が望ましい。
なお、 本発明においては、 通常、 上記の積層材は各種の用途に適用される場合、 物理的 にも化学的にも過酷な条件におかれることから、 上記の積層材には、 厳しい条件が要求さ れ 変形防止弓娘、 落下衝搫弓艘、 耐ピンホール性、 而撤性、 密封性、 品質保全性、 作業 性、 衛生性、 その他等の種々の条件が要求され このために、 本発明においては、 上記の ような鶴件を舰する材料を任意に選択して翻すること力 ?き、具体的には、例えば、 低密度ポリエチレン、 中密度ポリエチレン、 高密度ポリエチレン、 線状低密度ポリエチレ ン、 ポリプロピレン、 エチレン一プロピレン共重合体、 エチレン一酢酸ビニル共重合体、 アイオノマー樹脂、 エチレン一アクリル酸ェチル共重合体、 エチレン一アクリル酸または メタクリリ離共重合体、 メチルペンテンポリマ一、 ポリブテン系樹脂、 ポリ塩化ビニル系 樹脂、 ポリ酢酸ビニル系樹脂、 ポリ塩化ビニリデン系樹脂、 塩化ビエル—塩化ビニリデン 共重合体、 ポリ (メタ) アクリル系樹脂、 ポリアクリル二トリル系測旨、 ポリスチレン系 樹脂、 アクリロニトリル一スチレン共重合体 (AS系樹脂) 、 アクリロニトリル—ブタジ ェンースチレン共重合体 (AB S系樹脂) 、 ポリエステル系樹脂、 ポリアミド系樹脂、 ポ リカ—ボネート系觀旨、 ポリビニリレアルコール系樹脂、 エチレン—酢酸ビニル共重合体の ケン化物、 フッ素系樹脂、 ジェン系樹脂、 ポリアセ夕一ル系樹脂、 ポリウレタン系樹脂、 ニトロセルロース、 その他等の公知の樹脂のフィルムないしシートから任意に選択して使 用することができる。 その他、 例えば、 セロハン等のフィルム、 合成!^も使用すること ができる。
本発明において、 上記のフィルムないしシートは、 未延伸、 一軸ないし二軸方向に延伸 されたもの等のいずれのものでも^ fflすることが"!?きる。
また、 その厚さは、 任意であるが、 数 から 3 0 C m位の範囲から選択して使用す ること力 r 'きる。
更に、 本発明においては、 フィルムないしシ一トとしては、 押し出し «、 インフレ一 シヨン成歉 コ一ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
而して、本発明においては、上記の漏を行う際に、必要ならば、例えば、 コロナ処理、 オゾン処理等の前処理をフィルムに ½ こと力 き、 また、例えば、イソシァネート系(ゥ レタン系) 、 ポリエチレンイミン系、 ポリブタジエン系、 有機チタン系等のアンカーコー ティング剤、 あるいはポリウレタン系、 ポリアクリル系、 ポリエステル系、 エポキシ系、 ポリ酉體ビニル系、 セルロース系、 その他等のラミネート用接 ij等の公知の前処理、 ァ ンカ一コート剤、 等を TOすること力 きる。
なお、 本発明においては、 上記の積層材を構成するいずれかの層間に所望の印刷難層 を形成することが、できるものである。
而して、 上記の印刷画層としては、 通常のインキビヒクルの 1種ないし 2種以上を主 成分とし、 これに、 必要ならば、 可觀 IJ、安定剤、酸化防止剤、 1 ^定剤、紫外線吸収剤、 硬化剤、 架橋剤、 滑剤、 帯電防止剤、 充填剤、 その他等の添加剤の 1種ないし 2種以上を 任意に添加し、 更に、 染料 '顔料等の着 ϋを添加し、 溶媒、 ^等で充分に混練して インキ誠物を調整し、 次いで、 該インキ誠物を使用し、 例えば、 グラビア印刷、 オフ セット印刷、 凸版印刷、 スクリーン印刷、 転写印刷、 フレキソ印刷、 その他等の印刷方式 を使用し、 前述のコ一ティンク 膜の上に、 文字、 図形、 記号、 灘等からなる所望の印 刷難を印刷して、 本発明にかかる印刷難層を形 ることが きる。
なお、 本発明においては、 前述の酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の 蒸着膜の面に設けるプライマ-剤層としては、 前述のポリウレタン系あるいはポリエステ ル系樹脂賊物によるプライマ-剤層の他に、 更に、 例えば、 ポリアミド系樹脂、 ェポキ シ系樹脂、 フエノール系樹脂、 (メタ) アクリル系樹脂、 ポリ酉體ビニル系樹脂、 ポリエ チレンアルィハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変 性榭脂、 セルロース系樹脂、 その他等をビヒクルの主成分とする棚 滅物を使用してプ ライマ一剤層を形 ることが さる。
なお、本発明においては、例えば、 ロールコート、 グラビア口—ルコート、キスコート、 その他等のコ一ティング法を用いてコーティングしてプライマーコ一ト剤層を形成するこ とができ、 而して、 そのコ一ティング量としては、 0. l〜1 0 g/m2 (観状態) 位 カ璧ましい。
次に、 本発明において、 上記のような積層材を使用して包装用容器を製造する製袋ない し製面する方法について説明すると、 例えば、 包装用容器がプラスチックフィルム等から なる軟包装袋の場合、 上記のような方法で製造した積層材を使用し、 その内層のヒートシ ール性フィルムの面を対向させて、 それを折り重ねるか、 或いはその二枚を重ね合わせ、 更にその周辺 をヒートシールしてシー を設けて 本を構]»ることが きる。 而して、 その製袋方法としては、 上記の積層材を、 その内層の面を対向させて折り曲げ るカゝ、 あるいはその二枚を重ね合わせ、 更にその外周の周辺端部を、 例えば、 側面シール 型、 二方シール型、 三方シール型、 四方シール型、 纖貼りシール型、 合掌貼りシール型 (ピロ—シ―ル型) 、 ひだ付シ―ル型、 平底シール型、 角底シール型、 その他等のヒート シール形態によりヒ—トシ—ルして、 本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造する ことができる。
その他、 例えば、 自立性包装袋 (スタンディングバウチ) 等も製造することが 能であ り、 更に、 本発明においては、 上記の ,材を使用してチューブ容器等も製造することが できる。
上記において、 ヒートシ—ルの方法としては、例えば、バ—シール、回転口—ルシール、 ベリレトシール、 インパルスシ—ル、 高周波シ—ル、 超音波シール等の^ Πの方法で行うこ と 7^'でさる。
なお、 本発明においては、 上記のような包装用容器には、 例えば、 ワンピースタイプ、 ッウーピ一スタイプ、 その他等の注出口、 あるいは開閉用ジッパー等を任意に取り付ける こと力 Sできる。
次にまた、 包装用容器として、 紙基材を含む液体充填用紙容器の場合、 例えば、 積層材 として、 β材を積層した積層材を製造し、 これから所望の紙容器を製造するブランク板 を製造し、 しかる後該ブランク板を使用して胴部、 底部、 頭部等を製函して、 例えば、 ブ リックタイプ、 フラットタイプあるいはゲ一べリレトップタイプの液体用紙容器等を製造す ること力できる。
また、 その形状は、 角形容器、 丸形等の円筒状のs 等のいずれのものでも製造するこ と力 さる。
本発明において、 上記のようにして製造した包装用容器は、 種々の飲食品、 J ^j、 粘 ¾ ^等の化学品、 化粧品、 医薬品、 ケミカルカイロ等の雑貨品、 その他等の物品の充填包 装に使用されるものである。 而して、 本発明においては、 特に、 例えば、 醤油、 ソ—ス、 ス—プ等を充填包装する液 体用小袋、 生菓子等を充填包装する軟包装用袋、 あるいは、 ボイルあるいはレトルト食品 等を充填包装する軟包装用袋等の液体飲食物あるいは水分等を含む飲食物等を充填包装す る包 ^容器として有用なものである。 実 施 例
上記の本発明について以下に 例を挙げて更に具体的に説明する。
なお、 下記の実施例において、 水蒸^ ¾u、 酸素 ¾ut、 黄変度、 蒸着膜を構成する 式 S iOxで 表される酸化珪素の X値の変化量、 および、 蒸着膜表面粗さについては、 下記に示 則定法により'測定した。
(1) 水蒸^ S¾の測定
これは、 バリア性フィルムについて、 &¾40° 90%RHの条件で、 米国、 モ コン (MOCON) ネ; の測定機 〔機種名、 パーマトラン (PERMATRAN) 〕 にて 測定した。
(2) 酸 の測定
これは、 ノ リア性フィルムについて、 23°C、 體 90%RHの条件で、 米国、 モ コン (MOCON) ネ: hSSの測定機 〔機種名、 オクストラン (OXTRAN) 〕 にて測定し た。
(3) 黄 の測定
これは、 バリア性フイリレムについて、 J I S-K7103の規定に基づいて測定し、 加 熱前に黄^^ (Υ Γ 0 ) の測定を行い、更に、カロ謝麦に再度黄 (YI)の測定を行い、 而して、 その簡緩を^ t (ΔΥΙ) とした。
(4) 蒸着膜を構^る式 S i Οχで 表される酸化義の X値の変化量の測定 これは、 バリア性フィルムについて、 X線光電 光装置 (Xr ay P h o t o e 1 e c t r on Spe c t r os c opy: XPS) を用いて、 酸化珪素の蒸着膜表面の 元素分析を行い、 その際に検出された表面の珪素と酸素の比率を求め、 珪素 1に対する酸 素の比率を X値とし、 実施例に記載された条件にて加熱される前後の X値の変化量を算出 した測定した。
(5) 蒸着膜表面粗さの測定 まず、本発明においては、蒸着膜表面粗さについて、原子間カ顕纖(Atomi c F orce Mi c ros c ope、 AFM) を用いて測定した。
これは、 バリア性フィルムについて、 原子間カ顕纖 〔米国、 デジタル インストルメ ント (D i g i t a l I ns t r ume n t s) 社製、 機種名、 ナノスコープ(Nan oScope) I l i a を用い、 また、 探針は、 単結晶シリコン 〔米国、 ナノセンサ一 ズ (Nanos ens or s) ネ ±S、 製品名、 NCH— 10 T〕 を用いた。
測定ェリア 5 X 5 mエリァにて、 256X 256点にて測定したデータボイント数を 『N』 、 各データの高さの値を 『Z i』、 その平均値を『Z avg』 とした^、 表面 凹凸の大きさを求めるために、 全データの Z値の標準偏差値、 『Rms値』を求めて測定 した。
標準偏差を求めた理由としては、 測定エリアにおける Max—Mi n差を求めただけで は特異点が した の凹凸しカゝ測定できないために、 標'^ ΐ差値としての測定を行つ た。 計算式としては、 下記の数式 1のとおりである。
RmS値
Figure imgf000039_0001
原子間カ顕纖にて得られた Rms値に関しては、 事前に表面段差が、 1^0のサンプル にて ¾ΙΕを行った物にて、 表面粗さの測定を実施した。
また、 本発明においては、 蒸着膜表面粗さについて、 別に電子顕鍵 (Sc ann i g E l ec t ron Mi c ros cope、 S EM) を用いて測定した。
これは、バリア性フィルムについて、 まず、蒸着膜を保護するために、蒸着膜の表面に、 シァノアクリレート系 剤を塗布し、 乾燥し、 次いで、 ダイヤモンドナイフにて、 無機 酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムを切断し、 その切断面について 5万倍以上の倍率で 写真を撮影し、 蒸着膜のうねり (波打ち状態 J の状態を確認した。
更に、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムについて、 まず、 その無機酸化物の蒸 着膜の上に他の樹脂フィルムを貼り合わせて積層材(製品状態) を形成し、 次いで、 その 鶴材について、 上記と同様に、 ダイヤモンドナイフにて切断し、 その切断面について 5 万倍以上の倍率で写真を し、その鶴材からなる製品形態での蒸着膜のみのうねり(波 打ちえ態、 凹凸) の 態を確認することも可能である。
次に、 表面のうねり (波打ち状態、 凹凸) を した写真から各凹凸の高さをノギスに て測定した。
また、 電子顕碰写真上に示された、 予め KIEされているスケールから各凹凸の高さの 実際の値を算出した。
上記の電子顕裸驢から判定された凹凸に関しては、 測定エリァが原子間力顕微鏡と比較 して小さく、 また、 原子間カ顕謹が面全体からの表面の凹凸を算出するのに対し、 電子 顕 ί謹では、 断面での情報を得ることしかできず、 測定数が多数得られないことから、 電 子顕微鏡 (SEM) の結果は、 凹凸の ΜΑΧ—Μ IN差である Range値とした。
その算出法は以下のとおりである。
Range値 - MAX ― MIN
その結果、 電子顕難の MAX— MI N差は、 原子間カ顕纖から得られた MAX— M I N差とほぼ同じ値となり、 力 Π熱処理あるいは加變理からなるァニ一リング処理による 表面凹凸へ及ぼ ^果も確認することが きた。
この点からも、 原子間力顕 驗、 電子顕微鏡どちらの手法にて測定しても、 ほぼ同じ結 果が得られることがわかった。
(6) 基材フィルムの熱輔率の測定
これは、 バリア性フィルムについて、 「 J I S: C 2318電^ fflポリエステソレフィル ム」 中の 6. 3. 5加熱雄率の測定に基づき測定を難した。
幅約 20mm、 長さ 150 mmの試,^ i を、 基材フィルムの流れ方向及 Ό ^方向共に 5 枚を取り、 それぞれの中央部に約 100 mmの距離において標点としてナイフでの傷をつ ける。
温度を設定温度 ± 3 °C以下に保持された恒温箱中に試験片を垂直につるし、 設定された 時間加熱したのち取り出し、 室温にて 30分放置してから標点間 S隱を測定して、 次の式 により算出し、 その平均値を求める。
カロ熱輔率 (%) = C (L, 一 L2 ) /L, ) X100
ただし、上記の式において、 L, は、力 [I熱前の標点間 S隱 (mm)を表し、また、 L, は、 加纖の標点間賺 (mm) を表す。
カロ熱収縮率は、 流れ方向及 方向にっレ ^ても算出することとした。
難例 1
(1) 厚さ 12 mの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムを使用し、 これをプ ラズマ化学^:目成長装置の送り出しロールに装着し、 次いで、 下記に示す条件で、 上記の 二軸延伸ポリエチレンテレフ夕レートフィルムのコロナ処理面に、 厚さ 200人の酸化珪 素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
蒸着面;コロナ処理面
導入ガス量;へキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリゥム 1. 0: 3. 0 : 3. 0 (単位: s 1m)
真空チャンバ一内の真 ¾ ; 2〜6 X 10一6 mB a r
蒸着チャンバ—内の真空度; 2〜5X10-3mBar
冷却 · mmドラム供^力; 10 kW
ライン艇; 10 Om/m i n
(2) 次に、 上記で厚さ 20 OAの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 12 mの二軸延伸 ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き取 りロールを加熱 を調製できる部屋 (加熱ォ—ブン) に入れて、 下記の表 1に示 ]口熱 処衝 Jt、 および、 カロ熱処理時間によるカロ熱処理からなるァニ一リング処理を行って、 下 記の表 1に示す特性を ¾τる本発明にカゝかるバリァ性フィルムを $mした。
但し、 表中、 A:カロ熱 (単位 °C) 、 B:カロ熱時間 (単位 時間) 、 C:水蒸気透 M (単位 g/m2 /day · 40°C · 90%RH) 、 D: τ蒸気 の良化率 (単 位 %) 、 E:酸素 ¾1度 (単位、 c c/m2 /day · 23°C · 90 %RH) 、 F:酸 素 M の良化率 (単位 黄変度測定 (1 :黄倾、 2:黄変度) 、 H: X値 測定 (1 :測定値、 :変化 *) 、 I :蒸着膜表面粗さ (1 : AFM値 (単位 醒) 、 2: Rms値向上倍率、 3: SEM価)及び J :基材フィルムの加讓理後の熱収縮率(単 位 %、 1 流れ方向、 2:幅方向) を夫々表示する。
(表 1)
加熱条 C D E F G H I J 件
A B 1 2 1 2 1 2 3 1 2
11.0 10.5 1.83 1.34 2.2 2.5 0 0
30 1 9.9 90 10.2 97 1.81 0.02 1.38 0.04 2,4 1.09 3 -0.01 0
40 12 8.4 76 8.9 85 1.49 0.34 1.40 0.06 2.5 1.14 4 -0.01 0
55 24 6.5 59 6.7 64 1.39 0.44 1.43 0.09 2.7 1.23 3 -0.03 0
48 1.7 15 1.9 18 1.12 0.71 1.38 0.04 3.3 1.50 4 -0.05 0
72 1.7 15 1.8 17 1.06 0.77 1.40 0,06 4.6 2.09 7 - 0.05 +0.01 120 1.8 16 1.6 15 1.02 0.81 1.44 0.10 6.2 2.82 9 -0.07 0
75 24 1.7 15 1.3 12 0.98 0.85 1.46 0.12 7.2 3.27 11 -0.08 +0.01
48 1.7 15 1.5 14 0.95 0.88 1.42 0.08 7.1 3.23 11 -0.10 +0.01
72 1.6 14 1.4 13 0.92 0.81 1.45 0.11 8.6 3.91 13 -0.12 0
120 1.7 15 1.3 12 0.95 0.88 1.47 0.13 8.5 3.86 14 -0.12 0
90 24 1.4 12 1.3 12 0.98 0.85 1.49 0.15 8.8 4.00 23 -0.15 +0.01
48 1.5 14 1.5 14 0.90 0.93 1.47 0.13 9.1 4.14 28 -0.16 +0.01
72 1.4 13 1.4 13 0.85 0.98 1.42 0.08 8.9 4.05 25 -0.16 0
150 24 1.7 15 1.4 13 0.88 0.95 1.50 0.16 11.1 5.05 29 -0.75 +0.16
48 1.6 15 1.4 13 0.87 0.96 1.47 0.13 10.9 4.95 30 -0.83 +0.18
72 1.6 15 1.5 14 0.88 0.95 1.46 0.12 10.8 4.91 32 -0.84 +0.16 上記の表 1に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 カロ熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され、 水蒸気 »¾、
, 色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 s i〇x で表される酸化珪素の χ値の変 化量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱収縮率等の特性が 化し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ることカ膽認された。
例 1
( 1 ) 次に、 上記の実施例 1で 9 o°c、 時間 2 4時間の条件で加^ a理を行って製造 したバリア性フィルムについて、 その酸化珪素の蒸着膜面に、 グロ—放電プラズマ発生装 置を使用し、 ノ ヮー 9 kw、 酸素ガス (02 ) :アルゴンガス (A r ) = 7. 0 : 2. 5
(単位: s l m) 力 なる混合ガスを使用し、 混合ガス圧 6 X 1 0— 5 T o r r、 処理 4 2 O m/m i nで酸素 Zアルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、 酸化珪素の蒸着膜面 の表面張力を 5 4 d y n e Zc m以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
他方、 材 〔坪量 4 2 5 g/m2 〕 の一方の面に、 コロナ放電処理を施した後、 該コ ロナ; ¾m処理面に、 低密度ポリエチレン樹脂を使用し、 これを押出コートして厚さ 3 0 の低密度ポリエチレン樹脂層を形成した。
次に、 タンデム押出ラミネート機を用いて、 上記の, f¾材の非コ―ト面に、 ポリエチレ ンィミン系アンカ一コート剤層を形成した後、 そのアンカ一コート剤層に、 上記のバリア 性フィルムのプラズマ処理面を対向させ、その層間をエチレン一メ夕クリル酸共重合体(三 井デュポン 'ポリケミカル株式会欄、 商品名、 ニュクレル N O 9 0 8 C、 押出? Jt : 2 9 0 °C、 押出膜享 2 0 m) を使用し、 これを押出ラミネートして、 上記の #猫材とバリ ァ性フィルムとを貼り合わせ第 1の押出ラミネ一ション工程を経た。
次いで、 第 2の押出ラミネーシヨン工程にて、 上記のバリア性フィルムを構成する厚さ 1 2 mの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフイルムの面に、 2 化型アンカーコ 一卜剤 〔武田薬品ェ 朱式会ネ懷、 商品名、 タケラック A 3 2 1 0 /タケネ—卜 A 3 0 7
5、 コート量: i gZm2 m 〕 をグラビアコーターにて塗布し、 麵炉を通し た後、 そのアンカ一コート剤層の面に、 メタ口セン ¾某を用いて重合したエチレン一 α · ォレフィン共重合体フィルム (大日: «脂株式会社製、 商品名、 J ME— 1 2 Ν、 フィル ム ,4 0 m) を対向させ、 その層間に、 低密度ポリエチレン樹脂 (三井石油化 朱式 会社製、 商品名、 M 1 6 P、 押出^^: 3 2 0°C、 押出 : 2 0 m) を使用し、 これ を押出ながらその両者をポリエチレンサンドして、 ¾ 材を $¾gした。
( 2 ) 次いで、 上記で製造した觀材を使用し、 ゲーベルトツフ の液体紙容器の形状に 合わせて、 縦あるいは横または斜め等に折り雾を刻設すると共に打ち抜き加工して、 糊代 部を; るブランク板を製造し、 次いで、 上記で製造したブランク板の端面に、 内容物の 、腿、液漏れ等を防止するために、スカイブ'ヘミング処理を施して端面処理を行った後、 糊代部にホッ卜エアー処理を行い、 該糊代部のメタ口セン触媒を用いて重合したエチレン
— a 'ォレフイン共重合体フィルムを溶融し、 その溶融面に、 上記のブランク板の他方の 端部を重ね合わせてその両者を貼り合わせて胴貼りシーリ |5を形成して筒状のスリ一ブを 猶した。
次に、 上記で製造した筒状のスリーブのボトムの内面をホットエアーにより炙り、 その 内面のメタ口セン角 某を用いて重合したエチレン一 a; ·ォレフィン共重合体フィルムを溶 融させて、 プレスシールを行って底シール部を形成し、 しカゝる後、 他方の開口部から果汁 ジュースを充填した後、 トップの内面をホットエアーで炙り、 その内面のメタ口セン角!^ を用いて重合したエチレン一ひ 'ォレフイン共重合体フィルムを溶融させて、 プレスシ一 ルを行ってゲーベルトップシール部を形成して、 内容物を充填包装した本発明にかかる密 閉液体紙容器を製造した。
上記で製造した密閉液体紙容器は、 炙りピンホール等の発生は認められず、 更に、 、 酸 素ガス、 水蒸気等に対するバリア性に優れ、 かつ、 保香性に優れ、 その内容物の変質は認 められず、 また、 ラミネ一ト弓 tit等に優れ、 市場における流通に而え、 かつ、 貯蔵保存等 に優れているものであつた。
なお、 上記の実施例 1において、 その他の条件で加麵理を行って製造したバリア性フ :、 上記と同様にして概ね同様な結果を得た。 雄例 2
( 1 ) 基材として、 厚さ 1 5 mの 2軸延伸ナイロン 6フィルムを使用し、 これをプラズ マ化学 目成長装置の送り出しロールに装着し、 下記に示す条件で厚さ 1 5 O Aの酸化珪 素の蒸着膜を上記 2軸延伸ナイロン 6フィルムの一方の面に形成した。 反応ガス混合比:へキサメチルジシロキサン:酸酸素素ガガスス::ヘヘリリウゥムム == 11:: 1 1 : 1 0 (単 ίΜ : s 1 m)
真空チヤンバ—内の真 Si : 5. 2 X 1 0 mb a r
蒸着チヤンバ—内の真空度: 5. 1 X 1 0 ' mb a r
冷却 · βドラム供^力: 1 8 kW
フィルムの : 7 OmZ分
蒸着面:コロナ処理面
( 2 ) 次に、 上記で厚さ 1 5 O Aの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 1 5 mの 2軸延伸 ナイロン 6フィルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き取り口一ルをカロ熱温 度を調製できる部屋(加熱オーブン)に入れて、下記の表 2に示 T¾口謹理^ S、および、 カロ熱処理時間にて加讓理を行って、 下記の表 2に示す特性を有する本発明にかかるバリ ァ性フィルムを製造した。 表中の記号、 単位については表 1と同じである。
(表 2)
加熱条 C D E F G H I J 件
A B 1 2 1 2 1 2 3 1 2
11.2 11.2 1.83 1.34 2.3 2.5 0 0
30 1 10.0 89 10.8 96 1.82 0.01 1.39 0.05 2.4 1.04 3 - 0.01 0
40 12 8.5 76 9.5 85 1.50 0.33 1.41 0.07 2.4 1.04 4 -0.01 0
55 24 6.4 57 7.0 63 1.41 0.42 1.42 0.08 2.6 1.13 3 -0.01 +0.01
48 1.6 14 1.9 17 1.14 0.69 1.39 0.05 3.0 1.30 4 -0.06 0
72 1.7 15 1.9 17 1.08 0.75 1.41 0.07 4.5 1.96 6 -0.08 +0.01
120 1.6 14 1.7 15 1.03 0.80 1.46 0.12 6.5 2.83 13 -0.08 0
75 24 1.8 16 1.5 13 0.99 0.84 1.48 0.14 7.3 3.17 12 -0.10 0
48 1.8 16 1.4 13 0.96 0.87 1.43 0.09 6.8 2.96 11 -0.12 0
72 1.5 13 1.4 13 0.94 0.89 1.47 0.13 8.3 3.61 13 -0.13 +0.01
120 1.5 13 1.3 12 0.92 0.91 1.49 0.15 8.5 3.70 14 -0.12 +0.02
90 24 1.4 13 1.5 13 0.96 0.87 1.50 0.16 8.6 3.74 24 -0.16 +0.01
48 1.4 13 1.4 13 0.88 0.95 1.45 0.11 9.1 3.96 26 -0.19 +0.01
72 1.5 13 1.4 13 0.84 0.99 1.44 0.10 9.0 3.91 24 -0.15 +0.02
150 24 1.6 14 1.6 14 0.87 0.96 1.49 0.15 10.8 4.70 26 -0.80 +0.17
48 1.7 15 1.4 13 0.86 0.97 1.46 0.12 10.8 4.70 27 -0.86 +0.15
72 1.5 13 1.5 13 0.87 0.96 1.43 0.09 10.7 4.65 27 -0.85 +0.16 上記の表 2に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 カロ熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され、 水蒸気 ^¾U¾、 酸素 ¾«、 色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 S i Οχ で表される酸化珪素の X値の変 ィ匕量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱繊率等の特性が 化し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ること力 ¾|認された。
例 2
( 1 ) 次に、 上記の実施例 2で 9 0 °C、 時間 2 4時間の条件で加讓理して製造した バリア性フィルムを使用し、 その酸化珪素の蒸着膜の画こ、 上記の実施例 1と全く同様に してプラズマ処理面を形成した。
次に、 上記で製造したバリア性フィルムの酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、 ポリ ウレタン系樹脂の初期縮合物に、 エポキシ系のシランカップリング剤 ( 8 . 0重量%) と ブロッキング防止剤 ( 1 . 0重量%) を添加し、 十分に混練してなるプライマー剤組成物 を し、 これをグラビアロールコート法により、 )? 0 . g/m2 (麵状態) にな るようにコーティングしてプライマー剤層を形成した。
更に、 上記で形成したプライマ—層の面に、 2液硬化型のポリウレタン系ラミネート用 i¾¾^Jを し、 これを、 上記と同様に、 グラビア口一ルコート法により、 0 g
/m2 mm) になるようにコーティングしてラミネート用接 層を形成した。 次に、 上記で形成したラミネート用 帽面に、 厚さ 5 0 mの直鎖状低密度ポリエ チレンフィルムを、 そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、 し力る後、 その両者をド ライラミネ一ト積層して、 材を製造した。
( 2 ) 次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その直鎖状低密度ポリエチレンフ イルムの面を対向して重ね合わせ、 しカゝる後、 その外周周辺の端部を三方ヒ一トシ一ルし てシ一 J1 ^を形成すると共に上方に開口部を ¾ る三方シール型の軟包装用小袋を製造し た。
上記で製造した三方シール型の軟包装用小袋内に、 その開口部から醤油を充填包装し、 しかる後、 その開口部をヒートシールして上方シーリ |5を形成して液体小袋包装製品を製 造した。
上記で製造した液体小袋包装製品は、 酸素ガス、 蒸気等に対するバリア性に優れ、 ま た、 ラミネート弓娘等に優れ 市場における流通に耐え、 かつ、 貯蔵保存等に優れている ものであった。 。
なお、 上記の実施例 2において、 その他の条件で加 理を行って製造したバリア性フ ィルムについて、 上記と同様にして 同様な結果を得た。
実施例 3
( 1 ) 厚さ 1 2 mの 2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、 そのコロ ナ処理面に、 1 X 1 0— 4 T o r rの真空下、 高周波 M加熱方式で!^ 9 9. 9 %の一酸 化珪素 (S i 0) を加熱蒸発させ、 2 0 O Aの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
( 2 ) . 次に、 上記で厚さ 2 0 0 Aの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 1 2 ΠΊのニ軸延 伸ポリエチレンテレフタレ一トフイルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き 取り口—ルをカロ熱 を調製できる部屋 (加熱オーブン) に入れて、 下記の表 3に示す加 讓理 、 および、 カロ 理時間にて加熱処理を行って、 下記の表 3に示す特性を有す る本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。 表中の記号、 単位については表 1と同じ である。
(表 3)
Figure imgf000046_0001
上記の表 3に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フイルムは、 カロ熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され 水蒸^ ¾¾、 酸素 ¾ t、 色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 S i Ox で表される酸化珪素の X値の変 ィ匕量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱収縮率等の特性カ壞ィ匕し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ることカ爐認された。
例 3
(1) 次に、 上記の実施例 3で 90°C、 時間 24時間の条件で加謹理して製造した バリア性フィルムを義し、 その酸化珪素の蒸着膜面に、 グロ—方 プラズマ発生装置を 使用し、 パワー 9kw、 酸素ガス (〇2 ) :アルゴンガス (Ar) =7. 0 : 2. 5 (単 位: s 1 m) からなる混合ガスを使用し、 混合ガス圧 6 X 1 O-'mba r,処理越 42 OmZm i nで酸素 Zアルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、 酸化珪素の蒸着膜面の表 丽長カを 54dyneZc m以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
次に、 上記で製造したバリア性フィルムの酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、 ポリ ウレタン系樹脂の初期縮合物に、 エポキシ系のシランカップリング剤 (8. 0重量%) と ブロッキング防止剤 (1. 0重量%) を添加し、 十分に混練してなるプライマー剤組成物 を使用し、 これをグラビアロールコ一ト法により、 膜厚 0. 4g/m2 状態) にな るようにコーティングしてプライマ一斉』層を形成した。
更に、 上記で形成したプライマー層の面に、 2 «化型のポリウレタン系ラミネート用 を删し、 これを、 上記と同様に、 グラビアロールコート法により、 觸 4. Og
/m2 ( - になるようにコ一ティングしてラミネート用 ί¾¾ ^漏を形成した。 次に、 上記で形成したラミネート用 ί ^搪面に、 厚さ 50 mの直鎖状低密度ポリエ チレンフィルムを、 そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、 しかる後、 その両者をド ライラミネ—ト觀して、 鶴材を纖した。
(2)次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その直鎖状低密度ポリエチレンフ イルムの面を対向して重ね合わせ、 しかる後、 その外周周辺の端部を三方ヒ一トシールし てシ を形成すると共に上方に開口部を るミ方シール型の軟包装用小袋を製造し た。
上記で製造したミ方シール型の軟包装用小袋内に、 その開口部から醤油を充填包装し、 しかる後、 その開口部をヒートシールして上方シール部を形成して液体小袋包装製品を製 造した。
上記で製造した液体小袋包装製品は、 酸素ガス、 水蒸気等に対するバリア性に優れ ま た、 ラミネ一ト¾ ^等に優れ、 市場における流通に耐え、 かつ、 貯蔵保存等に優れている ものであった。 なお、 上記の実施例 3において、 その他の条件で加熱処理を行って製造したバリア性フ ィルムについて、 上記と同様にして »同様な結果を得た。
難例 4
(1) 厚さ 15 mの 2軸延伸ナイロン 6フィルムを使用し、 そのコロナ処理面に、 IX 10— 4To r rの真空下、 高周波^ ¾加熱方式で i 99. 9%の一酸化珪素 (S i O) をカロ熱蒸発させ、 20 OAの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(2) 次に、 上記で厚さ 200人の酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 15 mの二軸延伸 ナイロン 6フィルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き取りロールをカロ熱温 度を調製できる部屋(加熱ォ—ブン)に入れて、下記の表 4に示 Τ¾Π讓理 、および、 加熱処理時間にて加讓理を行って、 下記の表 4に示す特性を る本発明にかかるバリ ァ性フィルムを纖した。 表中の記号、 単位について〖錢 1と同じである。
(表 4)
Figure imgf000048_0001
上記の表 4に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 カロ熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が ¾ [質され 水蒸気^ S¾、 m ,色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 s ι〇xで表される酸化珪素の χ値の変 化量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱 率等の特性が ィ匕し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ることカ鳩認された。
誇例 4 ( 1 ) 上記の詩例 3と同様にして、 上記の実施例 4で SJ 9 0°C、 時間 2 4時間の条件 で加讓理して製造したバリァ性フィルムの酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、 上記 の参考例 3と全く同様に、 プライマ一剤層を形成した。
次いで、 上記で形成したプライマ一層の面に、 2液硬化型のウレタン系アンカーコート 剤を使用し、 これを、 グラビアロールコ―ト法により、 O. l g/m2 (髓状態) になるようにコーティングし、 次いで、 乾燥してアンカーコート剤層を形成した。
次に、 上記で形成したアンカ—コート剤層面に、 直鎖状低密度ポリエチレン榭脂を使用 し、 これを押出機を用いて溶最卿し出しして、 厚さ 5 0 /imの直鎖状低密度7
樹脂層を押し出しラミネ一ト觀して、 觀材を製造した。
( 2 ) 次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その直鎖状低密度ポ' イルムの面を対向して重ね合わせ、 しかる後、 その外周周辺の を三方ヒートシールし てシーリ i/¾を形成すると共に上方に開口部を る三方シール型の軟包装用小袋を製造し た。
上記で製造した三方シール型の軟包装用小袋内に、 その開口部から醤油を充填包装し、 しカゝる後、 その開口部をヒートシ—ルして上方シール部を形成して液体小袋包装製品を製 造した。
上記で製造した液体小袋包装製品は、 酸素ガス、 7蒸気等に対するバリア性に優れ、 ま た、 ラミネート弓娘等に優れ、 市場における颜に耐え、 かつ、 貯蔵保存等に優れている ものであった。
なお、 上記の実施例 4において、 その他の条件で加讓理を行って製造したバリア性フ イリレムについて、 上記と同様にして ¾¾¾同様な結果を得た。
難例 5
( 1 ) 基材フイ レムとして、 厚さ 1 2 zmの 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフィル ムを使用し、 まず、 上記の 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフイルムを巻き取り式の 真空蒸着機の送り出しロールに装着し、 次いで、 これを繰り出し、 その 2軸延伸ポリェチ レンテレフタレ一トフイルムのコロナ処理面に、一酸化珪素 (S i〇)を蒸着源に用いて、 酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム(E B)力口熱^による真空蒸着法により、 下記の蒸着条件により、 H)? 3 O nmの酸化珪素の蒸着膜を形成した。 蒸舒ヤンバー内真空度; 1. 3 3 X 1 0一2 P a ( 1 X 1 0"4T o r r) 巻き取りチャンバ—内真 Si ; 1. 3 3 X 1 0— 2 P a
電子ビーム電力; 2 5 kw
フイノレム ; 4 0 OmZ分
蒸着面;コロナ処理面
次に、 上記で酵 3 O nmの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、 その酸化珪素の蒸着 膜の面に、 グロー¾¾プラズマ発生装置を使用し、 更に、 パワー 9 kw、 酸素ガス:アル ゴンガス = 7. 0 : 2. 5 (単位; s l m) 力 なる混合ガスを使用し、 混合ガス圧 6 x 1 0— 5 T o r rで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、 プラズマ処理面を形成 した。
( 2 ) 次に、 上記で藤 3 0 nmの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 1 2 mの二軸延伸 ポリエチレンテレフタレ—トフイルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き取 りロールを加熱温度を調製できる部屋 (加熱オーブン) に入れて、 下記の表 5に示す加熱 処理 ¾ 、 および、 カロ熱処理時間にてカロ熱処理を行って、 下記の表 5に示す特性を ¾ る 本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。 表中の記号、 単位について と同じで ある。
(表 5 )
カロ熱条 C D E F G H I J 件
A B 1 2 1 2 1 2 3 1 2
10.0 1.8 1.75 1.35 2.4 2.5 0 0
30 1 9.5 95 1.7 94 1.75 0.00 1.35 0 2.6 1.08 3 -0.01 0
40 12 7.5 75 1.6 89 1.45 0.30 1.37 0.02 2.7 1.13 4 - 0.02 0
55 24 6.0 60 1.4 78 1.40 0.35 1.37 0.02 3.8 1.58 5 -0.02 0
48 2.0 20 1.4 78 1.15 0.60 1.36 0.01 4.2 1.75 5 -0.04 0
72 0.8 8 1.4 78 1.00 0.75 1.37 0.02 4.5 1.88 7 -0.05 +0.01
120 0.5 5 1.3 72 1.00 0.75 1.38 0.03 5.9 2.46 11 -0.07 0
75 24 0.4 4 1.0 55 0.99 0.76 1.38 0.03 8.7 3.63 12 -0.10 0
48 0.3 3 0.9 50 0.96 0.79 1.39 0.04 8.8 3.67 13 - 0.11 +0.01
72 0.2 2 0.7 39 0.90 0.85 1.39 0.04 8.8 3.67 13 -0.13 +0.01
120 0.2 2 0.6 33 0.89 0.86 1.39 0.04 9.0 3.75 16 -0.13 0
90 24 0.2 2 0.5 28 0.88 0.82 1.40 0.05 9.5 3.96 27 -0.15 0
48 0.2 2 0.6 33 0.87 0.83 1.41 0.06 9.8 4.08 27 -0.37 +0.01 フ 2 0.2 2 0.6 33 0.85 0.90 1.41 0.06 9.7 4.04 28 -0.16 +0.02
150 24 0.2 2 0.6 33 0.85 0.90 1.41 0.06 14.0 5.83 29 -0.81 +0.18
48 0.2 2 0.7 39 0.85 0.90 1.42 0.07 13.8 5.75 30 -0.80 +0.J 8
72 0.2 2 0.5 28 0.86 0.89 1.42 0.07 13.9 5.79 29 -0.81 +0.18 上記の表 5に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 加熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され 水蒸^ ¾、 酸素 ¾u 、 色調の黄変度、 蒸着膜を構 る式 S i Οχで表される酸化珪素の X値の変 化量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱収縮率等の特性が ィ匕し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ることカ雜認された。
例 5
( 1 ) 上記の実施例 5で温度 9 0 °C、 時間 2 4時間の条件で加熱処理して製造したバリア 性フィルムの酸化珪素の蒸着膜の面に、 ポリエステル系樹脂 (ガラス 点: 6 7 °C 分 子量: 1 8 0 0 0 ) をビヒクルの主成分とし、 更に、 纖溶剤として薩ェチルを使用し たプライマー剤を使用し、 これを、 グラビアロールコート法によりコ—ティングし、 次い で、 8 0 °C 1分間加醒理して、 麵 0 . 7〜0 . 8 gZm2 (繊状態) からなる透明 棚旨プライマ-剤層を形成した。
次いで、上記で形成した透明樹脂プライマー剤層の面に、所望の印刷麵を形成した後、 その印刷^ tを含む全面に、 2液硬化型のポリゥレタン系ラミネート用接着剤を使用し、 これを、 グラビアロールコート法により、 S¾¥4. O gZm2 (t i^M) になるように コーティングし、 次いで、 乾燥してラミネート用 層を形成し、 しかる後、 該ラミネ 一ト用接 ¾ ^層の面に、 厚さ 1 5 mの二軸延伸ナイロン 6フィルムを、 そのコロナ処理 面の面を対向させて重ね合わせ、 次いで、 その両者をドライラミネート積層した。
次に、 上記で積層した二軸延伸ナイロン 6フィルムの面にコロナ放電処理を施した後、 そのコロナ処理面に、 上記と同様に、 2液硬化型のボリウレタン系ラミネ—ト用接着剤を 使用し、 これを、 グラビア口—ルコート法により、 1¾?4. 0 g/m2 (纏状態) にな るようにコーティングしてラミネ一ト用接着剤層を形成した。
次いで、 上記で形成したラミネ—ト用接着剤層面に、 厚さ 6 0 mの無延伸ポリプロピ レンフィルムをドライラミネ一卜して麵して、 ¾ 材を製造した。
( 2 ) 次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その無延伸ポリプロピレンフィル ムの面を対向して重ね合わせ、 しかる後、 その外周周辺の端部を三方ヒートシールしてシ —ノ! ^を形^ "ると共に上方に開口部を る三方シール型の軟包装用袋を S¾tした。 上記で製造した三方シール型の軟包装用袋内に、 その開口部から水を充填包装し、 しか る後、 その開口部をヒ—トシ-ルして上方シール部を形成して包装半製品を製造し、 次い で、 その包装半製品をレトルト釜に入れて、 温度、 120°C、 圧力、 2. 1 kg f/cm2 • G、 時間、 30分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、 レトルト包装食 品を製造した。
上記で製造したレトルト包装食品は、 その包装用袋が、 而撒性、 耐圧性、 ΒτΚ性、 バリ ァ性、 ヒ—トシ—ル性、耐ピンホ―ル I'生、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、 水蒸気等に対するバリア性に優れ、 破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、 食品容器と しての機能、 例えば、 内 w iの 包装適性、 im ,保存適性等に優れていた。
上記のバリア性について、 レトルト処理嫌ま、 酸素¾¾、 0. 38 c c/m2' /d a y · 23。C · 90%RH、 7K蒸^ Si¾、 0. 22 g/m2 Zd a y · 40。C · 90 %R Hであったのに対し、 レトルト処理後は、 酸 0. 56c c/m2 Zday · 2 3。C · 90%RH、 zK蒸^ 0. 76 gZm2 Zd a y · 40°C · 90 %RHであ つた。
なお、 上記の実施例 5において、 その他の条件で加讓理を行って製造したバリア性フ ィルムについて、 上記と同様にして »同様な結果を得た。
実施例 6
(1)基材フィルムとして、厚さ 15 の ¾延伸ナイロン 6フィルムを使用し、まず、 上記の二軸延伸ナイロン 6フィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出し口一ルに装着 し、 次いで、 これを繰り出し、 その二軸延伸ナイロン 6フィルムのコロナ処理面に、 アル ミニゥムを蒸着源に用いて、 酸素ガスを供給しながら、 エレクトロンピ―ム (EB) 加熱 による真空蒸着法により、 下記の蒸着条件により、 廳20 OAの酸化アルミニウム の蒸着膜を形成した。 蒸着チャンバ一内の真^ : 2X 10~4mb a r
巻き取りチャンバ—内の真空度: 2X 10— 2mb a r
電子ビーム電力: 25kW
フィルムの H¾iiS度: 2 OmZ分
蒸着面:コロナ処理面
(2) 次に、 上記で廳 200人の酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した厚さ 15 mの 二軸延伸ナイロン 6フィルムを巻き取り口—ルに卷き取り、 次いで、 その巻き取りロール をカロ熱、 J を調製できる部屋(加熱ォ一ブン)に入れて、下記の表 6に示 ~¾ロ»理^^、 および、 カロ熱処理時間にて加變理を行って、 下記の表 6に示す特性を有する本発明にか かるバリア性フィルムを製造した。 表中の記号、 単位については表 1と同じである。
(表 6)
Figure imgf000053_0001
上記の表 6に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 カロ熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され 7Κ蒸気 ^¾ϋί、 酸素 ¾1度、 色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 S i Οχで表される酸化珪素の X値の変 ィ匕量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱収縮率等の特性が ィ匕し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ること力键認された。
銬例 6
( 1 ) まず、 厚さ 1 2 mの ¾延伸ポリエチレンテレフタレ—トフイルムの片面に、 通 常のグラビアインキ鍵物を麵し、 グラビア印刷^:により、文字、 図形、記号、絵柄、 その他等からなる所定の印刷難を印刷して印刷 «層を形成した。
次に、 上記で形成した印刷 β層を含む全面に、 2液硬化型のポリウレ夕ン系ラミネ一 ト用接觀 |Jを使用し、 これを、 グラビア口—ルコ—ト法により、 廳 0 g/m2 (乾 燥状 SI) になるようにコ一ティングしてラミネート用接 «¾層を形成した。
次いで、 上記で形成したラミネート用接載帽の面に、 上記の実施例 6で 9 0°C、 時間 2 4時間の条件で加麵理して製造したバリァ性フィルムを、 その酸ィ匕アルミニゥム の蒸着膜の面を対向させて重ね合わせ、 しかる後、 その両者をドライラミネートした。 次に、 上記でドライラミネ—卜したバリア性フィルムの二軸延伸ナイロン 6フィルムの 面にころなお 処理を施し、 次いで、 そのコロナ処理面に、 2液硬化型のポリウレタン系 ラミネート用 ¾¾¾を使用し、 これを、 グラビアロールコート法により、 廳 4. 0 g/ m2 m になるようにコーティングしてラミネート用接着剤層を形成した。
次いで、 上記で形成したラミネート用接 嘱面に、 厚さ 60 mの無延伸ポリプロピ レンフィルムをドライラミネートして麵して、 麵材を した。
(2) 次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その無延伸ポリプロピレンフィル ムの面を対向して重ね合わせ、 しかる後、 その外周周辺の端部を三方ヒートシールしてシ —Jl^を形 ると共に上方に開口部を る三方シール型の軟包装用袋を製造した。 上記で製造した三方シール型の軟包装用袋内に、 その開口部から水を充填包装し、 しか る後、 その開口部をヒ—トシ—ルして上方シーリ ¾を形成して包装半製品を製造し、 次い で、 その包装半製品をレトルト釜に入れて、 、 120°C、 圧力、 2. l g f/cra"
• G、 時間、 30分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、本発明にかかる レトルト食品を i ^した。
上記で製造したレトルト食品は、その包装用袋が、 B l生、耐圧性、而泳性、バリア性、 ヒートシール I生、 耐ピンホール I'生、 突き刺し性、 透明性等に優れ 更に、 酸素ガス、 7j<蒸 気等に対するバリア性に優れ、 破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、 食品容器として の機能、 例えば、 内斜勿の雄 ^^適性、 ¾Κ¾Ε、 保存適性等に優れていた。
上記のバリア性について、 レトルト処理前は、 酸素透過度、 0. 50 c c/m' /ά a y · 23°C · 90%RH、 zR蒸^ SiiJt、 0. 26 g/m2 /d a y · 40°C · 90 %R Hであったのに対し、 レトルト処理後は、 酸素透 ¾¾、 0. 56 c c/m2 Zd a y · 2 3°C · 90%RH、 水蒸^ ¾¾、 0. 38 g/m2 Zd ay · 40°C · 90%RHであ つた。
なお、 上記の実施例 6において、 その他の条件で加讓理を行って製造したバリア性フ ィルムについて、 上記と同様にして 同様な結果を得た。
難例 7 .
(1)基材フィルムとして、予め、 ポリエステルポリオ—ルを 0. 1~0. 3 g/m (乾 燥状態)塗布した厚さ 12 mの 2軸延伸ポリエチレンテレフタレ一トフイルムを使用し、 まず、 上記の 2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイリレムを卷き取り式の真空蒸着機の 送り出しロールに装着し、 次いで、 これを繰り出し、 その 2軸延#ポリエチレンテレフ夕 レートフィルムの塗布面に、 一酸化珪素 (S iO) を蒸着源に用いて、 酸素ガスを供給し ながら、 エレクトロンビーム (EB)カロ熱方式による真空蒸着法により、 下記の蒸着条件 により、 III? 3 Onmの酸化 ¾ ^の蒸着膜を形成した。 蒸着チャンバ—内真空度; 1. 33X10~2Pa (1X 10" To r r)
巻き取りチヤンバ一内真空度; 1. 33X10一2 Pa
電子ビ一ム電力; 25 kw
フィソレム養 ; 40 OmZ分
蒸着面;コロナ処理面
次に、 上記で Siff 3 Onmの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、 その酸化珪素の蒸着 膜の面に、 グロ一放電プラズマ発生装置を使用し、 更に、 パヮ一 9kw、 酸素ガス:アル ゴンガス =7. 0 : 2. 5 (単位; s lm) 力 なる混合ガスを使用し、 混合ガス圧 6 X 10— 5To r rで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、 プラズマ処理面を形成 した。
(2) 次に、 上記で^? 30 nmの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ 12 mの二軸延伸 ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き取りロールに巻き取り、 次いで、 その巻き取 りロールをカロ熱 を調製できる部屋 (加熱ォ一ブン) に入れて、 下記の表 7に示 ¾口熱 処理 &S、 および、 カロ熱処理時間にてカロ熱処理を行って、 下記の表 7に示す特性を^ る 本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。 表中の記号、 単位について域 1と同じで ある。
(表 7)
加熱条 C D E F G H I J 件
A B 1 2 1 2 1 2 3 1 2
10.0 1.8 1.75 1.35 2.3 2.5 0 0
30 1 9.2 92 1.7 94 3.75 0.00 1.35 0.00 2.6 1.13 3 -0.01 0
40 12 フ.3 73 1.7 94 1.42 0.33 1.38 0.03 2.9 1.26 4 -0.01 0
55 24 6.0 60 1.5 83 1.40 0.35 1.37 0.02 3.9 1.70 5 -0.03 0
48 2.0 20 1.4 78 1.15 0.60 1.38 0.03 4.4 1.91 5 -0.04 +0.01
72 0.9 9 1.5 83 1.02 0.73 1.37 0.02 4.6 2.00 8 -0.04 +0.01
120 0.5 5 1.4 78 1.00 0.75 1.39 0.04 5.9 2.57 11 - 0.06 0
75 24 0.5 5 1.0 56 0.99 0.76 1.38 0.03 8.6 3.74 13 -0.10 0 1
5U U.oU U.U4 o.o 3 - U. 2 つ つ つ
U.2 39 u.yu U 1.4 4 5 +U.U
U.3 U.7 39 U.o7 1.40 U.OD lo -U.12 on Qつ
\ Z U. U Zo U.oo .41! U.UJ y 4.U4 /0 Π 1 υ
48 0.2 2 0.7 39 0.87 0.83 1.42 0.07 9.7 4.22 28 -0.16 +0.01
72 0.3 3 0.6 33 0.85 0.90 1.42 0.07 9.8 4.26 28 -0.16 4-0.02
150 24 0.2 2 0.5 28 0.86 0.89 1.41 0.06 14.2 6.17 28 -0.75 +0.18
48 0.3 3 0.6 33 0.85 0.90 1.42 0.07 14.0 6.09 30 -0.72 +0.19
72 0.2 2 0.6 33 0.86 0.89 1.42 0.07 14.5 6.30 29 -0.80 +0.20 上記の表 7に示す測定結果より明らかなように、 本発明にかかるバリァ性フィルムは、 加熱処理により、 基材フィルムに設けた酸化珪素の蒸着膜が 質され、 水蒸気
酸素 ¾ J 、 色調の黄変度、 蒸着膜を構成する式 S i Οχ で表される酸化珪素の X値の変 ィ匕量、 蒸着膜表面粗さ、 基材フィルムの熱収縮率等の特性がず化し、 改質した酸化珪素の 蒸着膜を形成し得ること力 崔忍された。
mm
( 1 ) 上記の実施例 7で温度 9 0 °C、 時間 2 4時間の条件で加熱処理して製造したバリア 性フィルムの酸化珪素の蒸着膜の面に、 ポリエステル系樹脂 (ガラス 点: 6 7 °C、 分 子量: 1 8 0 0 0 ) をビヒクルの主成分とし、 更に、 希釈溶剤として酢酸ェチルを使用し たプライマ—剤を使用し、 これを、 グラビアロールコート法によりコーティングし、 次い で、 8 0 °C 1分間加讓理して、 艇 0 . 7 0 . 8 g Zm2 (讓状態) 力 なる透明 樹脂プライマ一剤層を形成した。
次いで、上記で形成した透明翻旨プライマー剤層の面に、所望の印刷観を形成した後、 その印刷模様を含む全面に、 2液硬化型のポリウレタン系ラミネ一ト用接着剤を使用し、 これを、 グラビアロールコート法により、 1¾¥4. 0 g /m2 (麵状態) になるように コーティングし、 次いで、 章纖してラミネート用 ¾ ^層を形成し、 し力、る後、 該ラミネ 一ト用接着剤層の面に、 厚さ 1 5 mの二軸延伸ナイロン 6フィルムを、 そのコロナ処理 面の面を対向させて重ね合わせ、 次いで、 その両者をドライラミネート積層した。
次に、 上記で鶴した二軸延伸ナイロン 6フイルムの面にコロナ方檔処理を施した後、 そのコロナ処理面に、 上記と同様に、 2麵化型のポリウレタン系ラミネート用接翁 ijを 使用し、 これを、 グラビアロールコート法により、 藤 4. 0 g /m- (纏状態) にな るようにコーティングしてラミネ一ト用接着剤層を形成した。
次いで、 上記で形成したラミネート用接着剤層丽こ、 厚さ 6 O ^ mの無延伸ポリプロピ
-トして ¾1罾して、 材を製造した。 ( 2 ) 次いで、 上記で製造した積層材の 2枚を用意し、 その無延伸ポリプロピレンフィル ムの面を対向して重ね合わせ、 しカゝる後、 その外周周辺の を三方ヒートシールしてシ ーリ! ^を形) ¾τると共に上方に開口部を^ る三方シール型の軟^^用袋を した。 上記で製造した三方シール型の軟包装用袋内に、 その開口部から水を充填包装し、 しか る後、 その開口部をヒ—トシ—ルして上方シール部を形成して包装半製品を製造し、 次い で、 その包装半製品をレトルト釜に入れて、 温度、 1 2 0°C、 圧力、 2. l k g f /c m2 • G、 時間、 3 0分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、 レトルト包装食 品を製造した。
上記で製造したレトルト包装食品は、 その包装用袋が、 而擻性、 耐圧性、 而冰性、 バリ ァ性、 ヒ—トシ—ル 1生、耐ピンホール 1生、突き刺し性、透明性等に優れ、 更に、酸素ガス、 水蒸気等に対するバリア性に優れ、 破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、 食品容器と しての機能、 例えば、 内働の ¾¾继適性、 Μ¾Ε、 保存適性等に優れていた。
上記のバリア性について、 レトルト処理前は、 酸 0. 4 1 c c /m" /ά a y · 2 3°C · 9 0 %RH、 水蒸^ S¾ 0. 2 3 g/m2 /d a y · 4 0°C · 9 0 %R Hであったのに対し、 レトルト処理後は、 酸 ¾¾ii 、 0. 5 8 c c Zm2 /d a y · 2 3°C · 9 0 %RH、 z蒸^ ¾¾、 0. 6 5 gZm2 /d a y · 4 0°C · 9 0 %RHであ つた。
なお、 上記の実施例 7において、 その他の条件で加纏理を行って製造したバリア性フ ィルムについて、 上記と同様にして»同様な結果を得た。 産 業 上 の 利 用 性
以上の説明で明らかなように、 本発明は、 2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル ム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素ある いは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリァ性フィルムが、 これに 加熱処理からなるァニーリング処理を ことにより、 基材フィルム力 s熱 縮すると共に 無機酸化物の蒸着膜の黄色味ないし黄褐色状の色調カ雙化する現象に着目し、 まず、 上記 の 2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、 あるいは、 2軸延伸ナイロンフィルム 等の基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸 着膜を翻奠化して透明バリア性フィルムを製造し、 次いで、 該透明バリア性フィルムに、 例えば、 力 Π熱処理 を室温以上に設定し、 一昼夜オープン中に放置する加熱処理からな るァ二一リング処理を行ったところ、 その透明バリア性フィルムを構成する基材フィルム が収 Tると共にその無機酸化物の蒸着膜が緊密ィ匕し、 更に、 無機酸化物の蒸着膜の製膜 時の黄色味ないし黄楊色状の色調カ壞ィ匕し、 讓時の黄色味ないし黄褐色状の色調からそ の黄変度が向上してその透明性を増大し、 かつ、 «酸化物の蒸着膜を構成する式 Μ〇λ' (ただし、 式中、 Mは、 金属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞ liS囲が異 なる。 ) で表される酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の無機酸化物の X値の変化量が やや増大し、 更に、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さも変化し、 包装用容器を構成する バリァ性素材として、その酸素ガス、水蒸気等の翻を するバリァ性が著しく向上し、 各種の包装用容器を製造するに有用なバリァ性フィリレムを製造し得ることができるという ものである。

Claims

請 求 の 範 囲
1、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 その水蒸気 ¾i度を、 2. 0 g/m2 ' day〜0. 000001 g/m1' · dayの範囲、 また、 酸 ¾¾¾¾を、 2. 0 c c/m2 ■ d ay · a tm~0. 0000 01 c cZm2 · d ay · a tmの範囲に構 ることを碰とするバリア性フィルム。
2、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 アニーリング処理前に比して、 その水蒸気 度の良化率を、 1ノ 100〜 99/100の範囲、 また、 その酸素透過率の良化率を、 1ノ100〜99/100の範 囲に向上させることを特徴とするバリア性フィルム。
3、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 ァニ—リング処理前に比して、 その水蒸^ S¾の低下量を、 —0. 1〜― 30 g/m2 · d a yの範囲、 また、 その酸¾1¾の低下量を、 一 0. 1〜一 10c c /ml · day · a tmの範囲に向上させることを難とするバリア性フィルム。
4、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 その黄変度を、 一0. 3〜一 2. 0の範囲に向上させることを特徴とするバ リァ性フィルム。
5、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 無機酸化物の蒸着膜を構成する式 MOx (ただし、 式中、 Mは、 金属元素を 表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞれ範囲が異なる。 ) で表される無機酸化物の X 値の変化量を、 +0 . 01〜+0. 50の範囲に増大させることを tとするバリア性 フィルム。
6、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 その無機酸化物の蒸着 膜の表面粗さを、 3〜 30 nmの範囲に調 することを 1酸とするバリァ†生フイ レム。
7、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さを、 3〜3 Onmの範囲に調 すること を 1毁とするノ リァ '性フイリレム。
8、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング処 理を施して、 アニーリング処理前に比して、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さとして、 表面凹凸の標^ I差値、 Rm s値を、 1. 01〜 100倍に向上させて構成することを特 徴とするバリア性フィルム。
9、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにァニ—リング処 理を施して、 アニーリング処理前に比して、 その基材フィルムの収縮率をフィルム劍莫時 の流れ方向、および、幅方向の少なくともどちらかの一方向に、 -0. 001〜一 1. 0% の範囲に纖させ、 また、 その無機酸化物の蒸着膜の酵を 50入〜 1000A (5〜1 00 n m) の範囲に構^ることを ί ^とするノ リァ' 1'生フィルム。
10、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにァニーリング 処理を施して、 ァニ一リング処理前に比して、 その無機酸化物の蒸着膜の表面粗さとし、 表面凹凸の標 差値、 Rms値を、 1. 0:!〜 100倍に向上させ、 更に、 その水蒸気 ¾U を、 2. 0 g/m2 - d ay~0. 000001 g/m2 ' dayの範囲、 また、 酸素 を、 2. 0 c c /m2 ' day - a trrr^O. 000001 c cZm2 ' d a y · a tmの範囲に構 ることを體とするバリア性フィルム。
11、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング 処理を施して、 アニーリング処理前に比して、 その基材フィルムの収縮率をフィルム! ^奠 時の流れ方向、 および、 幅方向の少なくともどちらかの一方向に対し、 —0. 001〜一 1. 0%の範囲に収縮させ、 更に、 その水蒸気 ¾ii度を、 2. 0 g/m2 ' day〜0.
000001 g/m" · d a yの範囲、 また、酸 ¾¾¾を、 2. 0 c cZm2 - day - a tm〜0. O O O O O l c cZm2 · d a y · a tmの範囲に構成することを とす るバリア性フィルム。
12、 無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、 更に、 それにアニーリング 処理を施して、 その水蒸気 Sii度を、 2. 0 g/m2 ' day〜0. 000001 g/m'
• d ayの範囲、 また、 酸素 ¾U を、 2. 0 c c/m2 · d ay · a tm〜0. 000 001 c cZm2 · d ay · a tmの範囲に構成し、 更に、 その黄変度を、 一0. 3〜一 2. 0の範囲に向上させ、かつ、謹酸化物の蒸着膜を構成する式 ΜΟχ (ただし、式中、
Μは、 金属元素を表し、 Xの値は、 金属元素によってそれぞれ範囲力 なる。 ) で表され る無機酸化物の蒸着膜の X値の変化量を、 +0 . 01〜+0. 50の範囲に増大させ、 また、 無機酸化物の蒸着膜の表面粗さを、 3〜3 Onmの範囲に調^ Tることを鎌とす るバリア性フィルム。
13、 無機酸化物の蒸着膜が、 酸化珪素の蒸着膜または酸化アルミニウムの蒸着膜から なることを とする待,求の範囲 1〜; I 2のいずれか 1項に記載するバリァ性フィル ム。
1 4、 基材フィルムが、 ポリエステル系樹脂フィルム、 ポリアミド系樹脂フィルムまた はポリプロピレン系榭脂フィルムからなることを とする特 求の範囲 1〜: L 3のい ずれか 1項に記載するバリァ性フィルム。
1 5、 アニーリング処理が、 カロ讓衝 を室温以上とし、 かつ、 カロ熱処理時間を 3 0 分間以上とするカロ熱処理からなることを とする特 求の範囲 1〜 1 4のいずれ力、 1 項に記載するバリァ性フイリレム。
1 6、 ァニーリング処理が、 加 »理&¾を、 室温以上〜 2 0 0。Cの範囲とすることを 赚とする特舗求の範囲 1〜: L 5のいずれか 1項に記 tr るバリァ性フィルム。
1 7、 ァニ一リング処理が、 カロ!^理時間を、 3 0分以上〜 5日間の範囲とすることを i とする特言 ΐΐι求の範囲 1〜 16のいずれか 1項に記 t るバリァ性フィルム。
1 8、 基材フィルムの一方の面に、 謹酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の 蒸着膜を設けた基材フィルムに、 ァ二一リング処理を;»ことを特徴とするバリァ性フィ ルムの請去。
1 9、 基材フィルムの一方の面に、 無機酸化物の蒸着膜を設け、 更に、 該無機酸化物の 蒸着膜を設けた基材フィルムに、 ァニーリング処理を施して無機酸化物の蒸着膜を設けた 基材フィルムを構成する基材フィルムを熱収縮させる共にその無機酸化物の蒸着膜を緊密 化させることを特徴とするバリァ性フィルムの製造法。
2 0、 纖酸化物の蒸着膜が、 酸化珪素の蒸着膜または酸化アルミ二ゥムの蒸着膜から なることを特徴とする特許請求の範囲 1 8または 1 9のいずれか 1項に記載するバリア性 フィルムの製造法。
2 1、 アニーリング処理が、 カロ麵理 を室温以上とし、 かつ、 加熱処理時間を 3 0 分間以上とする加熱処理からなることを ift とする特 Ff青求の範囲 1 8〜2 0のいずれか 1項に記載するバリァ性フィルムの製造法。
2 2、 アニーリング処理が、 力ロ»理 を室温以上〜 2 0 0°Cの範囲とすることを特 徴とする特許請求の範囲 1 8〜2 1のいずれか 1項に記載するバリア性フィルムの製造法。
2 3、 アニーリング処理が、 加熱処理時間を 3 0分間以上〜 5日間の範囲とすることを ^とする特許請求の範囲 1 8- 2 2のいずれか 1項に記載するバリァ性フィルムの製造 法。
24、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素の蒸着膜を設け、 更に、 化珪素の蒸着 膜を設けた基材フィルムを、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ »理時間を 1時間 以上として加熱処理して、 その水蒸気 ¾ 度を、 2. 0 g/m2 ' day〜0. 0000 O lgZm2 · d ayの範囲、 また、 酸素 を、 2. 0 c c /ml · d ay · a tm 〜0. 000001 c cZm2 · d ay · a tmの範囲に構成し、 更に、 その黄変度を、 -0. 3〜一 2. 0の範囲に向上させ、 かつ、 蒸着膜を構成する式 S iOx で表される酸 ィ匕珪素の X値の変化量を +0 . 01〜+0. 50の範囲に増大させることを とする バリア性フィルム。
25、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素の蒸着膜を設け、 更に、 化珪素の蒸着 膜を設けた基材フィルムを、 カロ熱処理 を室温以上とし、 かつ、 カロ 理時間を 1時間 以上として加熱処理して、 その水蒸気 ¾ii度を、 2. 0 g/m2 - d ay~0. 0000 01 g/m2 · d ayの範囲、 また、 酸素 を、 2. 0 c cZm2 · d ay · a tm 〜0. 00000 l ccZm2 · d ay · a tmの範囲に構成することを ^とするバリ ァ性フィルム。
26、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素の蒸着膜を設け、 更に、 言爐化珪素の蒸着 膜を設けた基材フィルムを、 ft]熱処理^ i を室温以上とし、 かつ、 加»理時間を 1時間 以上として加 理して、 黄変度を、 -0. 3〜一 2. 0の範囲に向上させることを特徴 とするノ リア' I生フイリレム。
27、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素の蒸着膜を設け、 更に、 薩化珪素の蒸着 膜を設けた基材フィルムを、 カロ熱処理 ¾を室温以上とし、 かつ、 カロ L理時間を 1時間 以上としてカロ熱処理して、 蒸着膜を構成する式 S iOxで表される酸化珪素の X値の変ィ匕 量を +0. 01〜+0. 50の範囲に増大させることを とするバリア性フィルム。
28、 基材フィルムの一方の面に、 酸化珪素の蒸着膜を設け、 更に、 §纖化珪素の蒸着 膜を設けた基材フィルムを、 カロ熱処理 を室温以上にし、 かつ、 カロ 理時間を 1時間 以上に加讓理することを f とするバリァ性フィルムの 法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003072355A1 (fr) * 2002-02-28 2003-09-04 Mitsubishi Plastics, Inc. Matériau imperméable au gaz

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060263531A1 (en) * 2003-12-18 2006-11-23 Lichtenhan Joseph D Polyhedral oligomeric silsesquioxanes as glass forming coatings
US20060127583A1 (en) * 2003-12-18 2006-06-15 Lichtenhan Joseph D Polyhedral oligomeric silsesquioxanes and polyhedral oligomeric silicates barrier materials for packaging
DE10218955B4 (de) * 2002-04-27 2004-09-09 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Schicht auf einem Halbleitersubstrat
JP4953408B2 (ja) * 2003-02-28 2012-06-13 日本テトラパック株式会社 積層材料、積層材料の製造方法、積層材料のヒートシール方法および包装容器
JP4036452B2 (ja) * 2003-04-18 2008-01-23 日本テトラパック株式会社 包装積層材料の製造方法
US20100129548A1 (en) * 2003-06-27 2010-05-27 Sundew Technologies, Llc Ald apparatus and method
EP1649076B1 (en) * 2003-06-27 2010-05-19 Sundew Technologies, LLC Apparatus and method for chemical source vapor pressure control
US7052772B2 (en) * 2003-08-14 2006-05-30 3M Innovative Properties Company Material for packaging electronic components
US7727588B2 (en) * 2003-09-05 2010-06-01 Yield Engineering Systems, Inc. Apparatus for the efficient coating of substrates
WO2005051525A1 (en) * 2003-11-25 2005-06-09 Polyvalor, Limited Partnership Permeation barrier coating or layer with modulated properties and methods of making the same
JP4701610B2 (ja) * 2003-12-24 2011-06-15 凸版印刷株式会社 高密着性を有する薄膜層を備えた積層体の製造方法
DE102004001603B4 (de) * 2004-01-09 2009-03-05 Schott Ag Behälter mit Innendekor
JP4583954B2 (ja) * 2005-02-07 2010-11-17 麒麟麦酒株式会社 プラスチック容器のガスバリア性向上方法
US7566655B2 (en) * 2005-05-26 2009-07-28 Applied Materials, Inc. Integration process for fabricating stressed transistor structure
US8138104B2 (en) * 2005-05-26 2012-03-20 Applied Materials, Inc. Method to increase silicon nitride tensile stress using nitrogen plasma in-situ treatment and ex-situ UV cure
US7732342B2 (en) * 2005-05-26 2010-06-08 Applied Materials, Inc. Method to increase the compressive stress of PECVD silicon nitride films
US8129290B2 (en) * 2005-05-26 2012-03-06 Applied Materials, Inc. Method to increase tensile stress of silicon nitride films using a post PECVD deposition UV cure
US20070040501A1 (en) 2005-08-18 2007-02-22 Aitken Bruce G Method for inhibiting oxygen and moisture degradation of a device and the resulting device
US20080206589A1 (en) 2007-02-28 2008-08-28 Bruce Gardiner Aitken Low tempertature sintering using Sn2+ containing inorganic materials to hermetically seal a device
US7829147B2 (en) * 2005-08-18 2010-11-09 Corning Incorporated Hermetically sealing a device without a heat treating step and the resulting hermetically sealed device
US7722929B2 (en) * 2005-08-18 2010-05-25 Corning Incorporated Sealing technique for decreasing the time it takes to hermetically seal a device and the resulting hermetically sealed device
US7713890B2 (en) * 2005-08-23 2010-05-11 Milliken & Company Flexible sheet-like composites
JP4667173B2 (ja) * 2005-08-31 2011-04-06 花王株式会社 発熱具
EP1764425A1 (en) * 2005-09-15 2007-03-21 Semico S.r.l. Apparatus and method for producing a flexible tape for packages provided with a transparent coating
US20080048178A1 (en) * 2006-08-24 2008-02-28 Bruce Gardiner Aitken Tin phosphate barrier film, method, and apparatus
TWI275658B (en) * 2006-09-13 2007-03-11 Ind Tech Res Inst Method of improving surface frame resistance of a substrate
US8115326B2 (en) 2006-11-30 2012-02-14 Corning Incorporated Flexible substrates having a thin-film barrier
US20110217558A1 (en) * 2007-01-05 2011-09-08 Brogan Paul H Chemical composition and method of applying same to enhance the adhesive bonding of glass laminates
US20080206454A1 (en) * 2007-02-27 2008-08-28 Insight Equity A.P.X., L.P. (Dba Vision-Ease Lens) Composition Of Primer Solution For Use With An Optical Article And Method Of Priming An Optical Article
US7878054B2 (en) * 2007-02-28 2011-02-01 The Boeing Company Barrier coatings for polymeric substrates
CN101641400B (zh) * 2007-04-04 2014-09-10 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 包装层压板,制造该包装层压板的方法和由其生产的包装容器
DE602008002592D1 (de) * 2007-05-21 2010-10-28 Lubrizol Advanced Mat Inc Harte, aliphatische thermoplastische Polyurethane
WO2009005947A1 (en) 2007-07-03 2009-01-08 Newpage Wisconsin System, Inc. Biodegradable and compostable high-barrier packaging material
WO2009017964A1 (en) * 2007-07-30 2009-02-05 Dow Global Technologies Inc. Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process
JP5312295B2 (ja) * 2008-11-05 2013-10-09 グンゼ株式会社 バリア性多層延伸フィルム
JP5517446B2 (ja) * 2008-12-19 2014-06-11 東洋製罐株式会社 パウチの製造方法及びパウチ
DE102009018518A1 (de) 2009-04-24 2010-10-28 Tesa Se Transparente Barrierelaminate
JP5201073B2 (ja) * 2009-04-28 2013-06-05 大日本印刷株式会社 透明ガスバリア性フィルム
JP5201072B2 (ja) * 2009-04-28 2013-06-05 大日本印刷株式会社 透明ガスバリア性フィルム
JP5201074B2 (ja) * 2009-04-28 2013-06-05 大日本印刷株式会社 透明ガスバリア性フィルム
US20100294363A1 (en) * 2009-05-22 2010-11-25 Mitsubishi Polyester Film, Inc. Coated Polyester Film For Lamination to Ethylene-Vinyl Acetate Layers
US8652225B2 (en) * 2009-07-27 2014-02-18 Joseph H. MacKay Flexible coated abrasive finishing article and method of manufacturing the same
CN101863173B (zh) * 2010-06-16 2012-01-11 海南赛诺实业有限公司 一种印刷用改性聚乙烯醇涂布薄膜及其制造方法
EP2608955B1 (en) * 2010-08-25 2017-01-11 Dixie Consumer Products LLC Improved paper cup seal
CN103298610A (zh) * 2010-12-28 2013-09-11 三菱树脂株式会社 叠层防湿膜
JP5720315B2 (ja) * 2011-03-08 2015-05-20 凸版印刷株式会社 蒸着フィルムの評価方法
TWI408085B (zh) * 2011-03-23 2013-09-11 China Steel Corp 金屬材之包裝結構
EP2647660A1 (de) * 2012-04-02 2013-10-09 Sika Technology AG PVC-Membran mit verringerter Weichmachermigration
CN104302569B (zh) * 2012-05-16 2017-10-13 奥的斯电梯公司 用于电梯系统的滑轮
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films
WO2014129387A1 (ja) * 2013-02-20 2014-08-28 東洋紡株式会社 ガスバリア性フィルム
US9339770B2 (en) * 2013-11-19 2016-05-17 Applied Membrane Technologies, Inc. Organosiloxane films for gas separations
US9725802B2 (en) * 2014-11-11 2017-08-08 Graham Packaging Company, L.P. Method for making pet containers with enhanced silicon dioxide barrier coating
EP3260292A1 (en) * 2016-06-23 2017-12-27 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. A method of producing a packaging material for a retortable package
US10450119B2 (en) * 2017-06-22 2019-10-22 The Procter & Gamble Company Films including a water-soluble layer and a vapor-deposited inorganic coating
CN110709174A (zh) 2017-06-22 2020-01-17 宝洁公司 包括水溶性层和气相沉积有机涂层的膜
US20200039886A1 (en) * 2018-07-31 2020-02-06 General Electric Company Silicon Bond Coat with Amorphous Structure and Methods of Its Formation
WO2020080136A1 (ja) 2018-10-18 2020-04-23 東レ株式会社 積層体
JP7355958B1 (ja) * 2022-09-27 2023-10-03 大日本印刷株式会社 バリアフィルム

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63223163A (ja) * 1987-03-13 1988-09-16 Toray Ind Inc 透明ガスバリアフイルムの製造方法
JPH02129924A (ja) * 1988-11-09 1990-05-18 Hitachi Ltd 配線部材及びその製造方法
JPH02299862A (ja) * 1989-05-13 1990-12-12 Kyocera Corp サーマルヘッド、それを用いた記録装置および記録濃度補正データ作成装置
JPH0317252A (ja) * 1989-12-05 1991-01-25 Toppan Printing Co Ltd バリアーフィルムの製造方法
JPH04168041A (ja) * 1990-10-31 1992-06-16 Mitsubishi Kasei Polytec Co 蒸着フィルム及びその製造方法並びに前記蒸着フィルムを用いた透明ガスバリヤ性積層フィルム
JPH09123338A (ja) * 1995-08-29 1997-05-13 Toray Ind Inc ガスバリア性フィルム
JP2000085049A (ja) * 1998-09-08 2000-03-28 Dainippon Printing Co Ltd 積層材
JP2000318081A (ja) * 1999-05-07 2000-11-21 Kureha Chem Ind Co Ltd 防湿性多層フィルム
JP2000355071A (ja) * 1999-04-16 2000-12-26 Dainippon Printing Co Ltd バリア性フィルム及びそれを使用した積層材、並びにバリア性フィルムの製造方法及び装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5401716A (en) * 1987-04-15 1995-03-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing superconducting patterns
US4904526A (en) * 1988-08-29 1990-02-27 3M Company Electrically conductive metal oxide coatings
JP2745584B2 (ja) 1988-11-02 1998-04-28 凸版印刷株式会社 透明バリアーフィルムの製造方法
US5156720A (en) * 1989-02-02 1992-10-20 Alcan International Limited Process for producing released vapor deposited films and product produced thereby
JP2674827B2 (ja) 1989-05-15 1997-11-12 三菱化学株式会社 透明ガスバリヤフィルムの製造方法
US5902638A (en) * 1993-03-01 1999-05-11 General Electric Company Method for producing spallation-resistant protective layer on high performance alloys
US5770301A (en) * 1995-03-14 1998-06-23 Daicel Chemical Industries, Ltd. Barrier composite films and a method for producing the same
US5820994A (en) * 1996-02-16 1998-10-13 Mitsui Chemicals, Inc. Laminate and method for preparing same
US5939205A (en) * 1996-04-16 1999-08-17 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Gas barrier resin film
JP3082688B2 (ja) * 1996-11-05 2000-08-28 ヤマハ株式会社 配線形成法
US6013363A (en) * 1997-03-17 2000-01-11 Oji-Yuka Synthetic Paper Co., Ltd. Packaging material
US6492215B1 (en) * 1997-08-13 2002-12-10 Citizen Watch Co., Ltd. Semiconductor device and fabricating the same
DE19741877A1 (de) * 1997-09-23 1999-03-25 Hoechst Diafoil Gmbh Biaxial orientierte Polyesterfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US6335479B1 (en) * 1998-10-13 2002-01-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module
WO2000026973A1 (en) * 1998-11-02 2000-05-11 Presstek, Inc. Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
JP2000327417A (ja) * 1999-05-25 2000-11-28 Tosoh Corp 蒸着材
JP2002025979A (ja) * 2000-07-03 2002-01-25 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置の製造方法
US6770176B2 (en) * 2002-08-02 2004-08-03 Itn Energy Systems. Inc. Apparatus and method for fracture absorption layer

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63223163A (ja) * 1987-03-13 1988-09-16 Toray Ind Inc 透明ガスバリアフイルムの製造方法
JPH02129924A (ja) * 1988-11-09 1990-05-18 Hitachi Ltd 配線部材及びその製造方法
JPH02299862A (ja) * 1989-05-13 1990-12-12 Kyocera Corp サーマルヘッド、それを用いた記録装置および記録濃度補正データ作成装置
JPH0317252A (ja) * 1989-12-05 1991-01-25 Toppan Printing Co Ltd バリアーフィルムの製造方法
JPH04168041A (ja) * 1990-10-31 1992-06-16 Mitsubishi Kasei Polytec Co 蒸着フィルム及びその製造方法並びに前記蒸着フィルムを用いた透明ガスバリヤ性積層フィルム
JPH09123338A (ja) * 1995-08-29 1997-05-13 Toray Ind Inc ガスバリア性フィルム
JP2000085049A (ja) * 1998-09-08 2000-03-28 Dainippon Printing Co Ltd 積層材
JP2000355071A (ja) * 1999-04-16 2000-12-26 Dainippon Printing Co Ltd バリア性フィルム及びそれを使用した積層材、並びにバリア性フィルムの製造方法及び装置
JP2000318081A (ja) * 1999-05-07 2000-11-21 Kureha Chem Ind Co Ltd 防湿性多層フィルム

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003072355A1 (fr) * 2002-02-28 2003-09-04 Mitsubishi Plastics, Inc. Matériau imperméable au gaz
US7166353B2 (en) 2002-02-28 2007-01-23 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas-barrier material
US7288315B2 (en) 2002-02-28 2007-10-30 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas-barrier material

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