JPH0317252A - バリアーフィルムの製造方法 - Google Patents

バリアーフィルムの製造方法

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JPH0317252A
JPH0317252A JP31573089A JP31573089A JPH0317252A JP H0317252 A JPH0317252 A JP H0317252A JP 31573089 A JP31573089 A JP 31573089A JP 31573089 A JP31573089 A JP 31573089A JP H0317252 A JPH0317252 A JP H0317252A
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JP
Japan
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film
oxygen
transparent
polymer film
vacuum system
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Application number
JP31573089A
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English (en)
Inventor
Mamoru Sekiguchi
守 関口
Naoyuki Akiyama
直之 秋山
Nobuhiko Imai
伸彦 今井
Takashi Miyamoto
隆司 宮本
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は、透明高分子基村上に金属酸化物薄膜を形威し
たバリアーフィルムの製造方法に関し、ガス遮断性、防
湿性、透明性の優れ、特に医薬、食品包装材料等に用い
られるバリアーフィルムの製造方法に関する。
く従来の技術〉 医薬、食品等の包装分野において、内容物の保護性を高
めるために、包装に用いる材料には種々の物性が要求さ
れ、これらの要求される物性は増々高いものが望まれる
ようになってきている。
特に内容物の保護のうち、内容物の変質、酸化防止の点
から、酸素バリアー性、防湿性は、包装材料には欠くこ
とのできない事項で、今日これらのバリアー性を付与す
ることは一般的になりつつあり、その観点から包装材料
の設計が行われている. また、最近の、薄膜化技術の進歩はめざましく、耐熱性
のない、かつフレキシビリティーな高分子フィルム上へ
、金属、金属酸化物などの薄膜を連続的に威膜する技i
41は、装置、方法の両面から活発に行われている. 一方、ガスバリアー、防湿性という機能をこのような技
術を利用して付与するためにいくつかの金属酸化物yI
膜を高分子フィルム上に設けた機能性フィルムが提案さ
れ、一部上市されている.例えば、酸化珪素、酸化アル
ミニウム蒸着フィルムは特公昭53− 12953公報
、特開昭62− 179935公報他に示されている. しかし、上記の蒸着フィルムには、それぞれ問題点を残
しており、特にそのガスバリアー性のバラツキがあり、
その原因は、渾着腹組成に大きく関係していると考えら
れる。
この落着lllJ組或は、蒸着時のわずかな真空度の変
動、残留酸素分圧、蒸着材料の種類等、蒸着加工条件に
より非常に大きく影響し、その結果、機能として得られ
る透明性、ガスバリアー性、防湿性についてもバラッキ
が大きく、実用段階で問題点を残していた. く発明が解決しようとする課題〉 本発明は、上記従来の欠点を解決するものであり、その
目的とすることは、金属酸化物’iii膜の戒分組成を
特定することでガスバリアー性、防湿性が極めて安定し
、かつ、透明性の優れたバリアー性フィルムの製造方法
を提供するものである。
<ts.題を解決するための手段〉 本発明は、真空系内で高分子フィルム上にアルξニウム
または錫酸化物を酸素アシストしながら真空蒸着するバ
リアーフィルムの製造方法である。
ここで酸素アシストする手段としては、酸素ガスを導入
して得られる酸素プラズマを発生させ、またはイオンビ
ームによりフィルム上の酸素a度を高くすることにより
、それぞれ反応性を高める以下具体的に説明する。
まず、第1図に示した装置を用い、10−4〜10−5
Torr以下の真空系内で、ポリカーボネート、ポリエ
チレンテレフタレー1・、ボリアミド、ポリエチレン等
の高分子フィルムの巻出しロール(8)から連続的に一
定速度で送り出し、この高分子フィルムカタンサーロー
ル(5)、エススパングーロ−ル(6)を経て、冷却ロ
ール(9)の位置で、冷却されながら、蒸着材料(50
0)から蒸発した金属酸化分子(200)を第2図に示
した高純度ガス(700)をマスク口コントローラー(
600)により、一定量真空槽内に供給すると共に13
.56MIIZ高周波電i1I (400) 、マノチ
ングボックス(300)高周波コイル(201)を設け
、酸素プラズマ状態を生威し、この酸素プラズマアシス
トしながら成膜する。
そして、この蒸着した高分子フィルムをエキスパンダー
ロール〈6)、ダンサーロール(5)を経て巻取りロー
ル(3)により連続的に巻取る。
高周波電1 (400)としては、13.56MHZの
ものでな< 、2450MHzのマイクロ波を利用した
ものであってもよい。
ここで、高分子フィルム上に或膜する金属酸化物は、酸
化錫、酸化アルミニウムが好適であって、酸化錫、酸化
アル〕ニウムは、SnO SSnug及び水酸化物の混
合物、Altos と水酸化物の混合系からなる。
本発明の透明高分子フィルム上に或膜した金属酸化物薄
膜厚は300〜3000人であり、好ましくは700〜
1500人である。300人以下であるとガスバリアー
性等の機能が十分でな< 、3000人以上になると膜
厚が厚すぎるためプラスチックフィルムのもつフレキシ
ビリティーが損なわれかつ、膜にクラック等が生じ、結
果としてガスバリアー性のバラツキ、劣化につながって
しまう。
そして、前記透明バリアー性フィルムを包装材料として
使用する場合、金属酸化物側にヒートシール性樹脂層を
設けた積層材料とすればよい。
?のヒートシール樹脂層としては、ポリエチレン、ボリ
ブロビレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体等の一般に
用いられているポリオレフィンで、積層方法としては、
フィルムを接着剤を介して積層してもよいし、押出しコ
ーティングにより積層してもよい。
く作用〉 本発明のフィルムの金属酸化物の或膜は、酸化錫の場合
SnO, SnO■及び水酸化物の混合系、酸素アルミ
ニウムの場合AIz03及び水酸化吻からなりSnO,
AIの金属戊分を含まないので、透明性が優れたバリア
ー性フィルムである。
これは、戒膜の状態が、酸素により処理をすることによ
り、酸化が三次元的に促進され、見かけ上の或膜の緻密
性が向上し、2.4 人程度の酸素分子や水蒸気分子郡
に対する高いバリアー性を程する. 一方、金属戒分や低級酸化物戊分が含有すると、成膜全
体としての十分な緻密性が得られず、この結果、酸素や
水蒸気に対するバリアー性が部分的に異なってしまい、
結果的にバリアー性を低下させてしまった。
〈実施例1〉 第1図に示した蔽着装置を用い巻出しロールに厚さ12
μのポリエチレンテレフタレートフィルムをセノトし、
また蒸着材料としてAIto,を入れ、槽内を9 X 
10−6Torrまで排気した。
次に、高純度ガスをマスフロコントローラーで調整しな
がら導入し、かつ高周波電力を印加し、酸素プラズマ雰
囲気をつくりながら、酸化アルミニウムを電子ビーム加
熱により蒸発させ、フィルム上に蒸着膜厚が1000人
になるように連続的に戊膜した。
(蒸着条件) 高周波電力(13.56MHz)  lKw真空度  
     3 X 10−’Torrになるように酸素
ガスでコントロール 蒸着速度      30λ/sec (水晶発振式モニターによりモ ニタリング) 得られたフィルムは透明性が優れ、 酸素透過1  3.0〜3.5cc / m ”  ・
24hrs  − atm(25℃, IOOXR}l
) 水蒸気透iM IF   2.5〜2.7 g / m
 ”  ・24hrsであった. 〈比較例1〉 酸素を導入しない以外は、実施例1と同様に1000人
の酸化アルミニウム蒸着威膜を形威したフィルムを得た
ここで真空度は経時で少しずつ変化し、安定しなかった
が、蒸着速度は、30入/secで安定していた。
得られたフィルムは、透明性が優れたものの、酸素透過
量が、9.0 〜10.0cc/ m”  ・24hr
sate   (25゜C.  IOOXIIFI)水
蒸気透過!  3.0 〜5.1 g / m ”  
・24hrsであった. く実施例2〉 蒸着材料として酸化錫を用いた以外は、実施例lと同様
の条件で蒸着を行いフィルムを得た。
得られたフィルムは、透明性が実施例lのフィルムに比
較してやや劣り、また酸素透i!11が、2.0 〜2
.1cc/m”  24hrs  ・atm  (25
’C. IOOXRH)水草気透過量が1.3 〜1.
5 g / m”  ・24hrsであった。
〈比較例〉 酸素ガスを導入しない以外は、実施例2と同様の条件で
蒸着を行い、フィルムを得た。
得られたフィルムは、透明性が実施例3と同様で 酸素i3過it   5.1〜9.5cc  / m 
”  ・24hrs  ・atll(25゜C,  I
OOXR}I) 水蒸気透過量が2.9〜4.5 g / m ”  ・
24hrsであった。
く実施例3〉 実施例1と同様の材料を用い、槽内を9XIO−’To
rrまで排気し、次に、高純度ガスをマスフロコントロ
ーラーで調整しながら導入し、かつイオンビームとして
フィルムに当てながら、酸化アノレミニウムを電子ビー
ム加熱により蒸発させ、フィルム上に蒸着膜厚がioo
oλになるように連続的に或膜した. (蒸着条件) イオンソース出力     400V  350mAイ
オン電流密度      30μA/cm”真空槽圧力
        3.2×10−’Torr蒸着速度 
        30人/sec(水晶発振式モニター
によりモ ニタリング) 得られたフィルムの表面形状をSEM写真により観察し
たところ、イオンソースによりアシストした蒸着膜は、
アシストしない蒸着膜より緻密であった. また、酸素透過量2.0〜2.5cc / m ”  
・24hrsat+w  (25゜C. 100Xl?
H) 、水蒸気透i(4景2.1〜2.5g / m”
  ・24hrsであった.く効果〉 以上のように透明高分子フィルム上の酸化アルごニウム
、酸化錫等の薄膜組成として実質的にそれらの金属また
は低級酸化物成分を含有しないで、金属酸化物とする、
すなわち、酸化アルミニウム、酸化錫の、薄膜戒分が十
分緻密になり、酸素バリアー、防湿性の場所によるパラ
ツキが極めて小さくなり安定した透明バリアーフィルム
が得られた.
【図面の簡単な説明】
第l図は、本発明のフィルムを得る、または方法を実施
する装置の一例を示す説明図、第2図は、第l図の蒸着
源部分を示す説明図である.l・・・高分子フィルム 
 2・・・真空系内3・・・巻取りロール   4・・
・制御ロール5・・・ダンサーロール 6・・・エキス
パンダーロール8・・・S出L,ロール   9・・・
冷却ロール10・・・蒸着源      11・・・蒸
着源パワー200・・・金属酸化分子  201・・・
高周波コイル300・・・マッチングボックス 400
・・・高周波1[500・・・N’4材料600・・・
マスフロコントローラー700・・・酸素ガス

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 真空系内で高分子フィルム上にアルミニウムま
    たは錫酸化物を酸素アシストしながら真空蒸着する透明
    バリアーフィルムの製造方法。
JP31573089A 1989-12-05 1989-12-05 バリアーフィルムの製造方法 Pending JPH0317252A (ja)

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