WO1999038035A1 - Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite - Google Patents

Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite Download PDF

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Kenjiro Hamanaka
Atsunori Matsuda
Satoshi Taniguchi
Daisuke Arai
Takashi Kishimoto
Naoto Hirayama
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Maikurooputo Co., Ltd.
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    • G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
    • G02B3/0068—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between arranged in a single integral body or plate, e.g. laminates or hybrid structures with other optical elements

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a flat microlens for use in a liquid crystal display device and the like, and a flat macro lens having a characteristic lens material.
  • Liquid crystal display elements are used in projector television (PTV).
  • PTV projector television
  • liquid crystal is injected into a gap formed between two glass plates, and a TFT made of amorphous silicon-polysilicon is placed on the surface of each glass plate in contact with the liquid crystal, corresponding to each pixel.
  • TFT Thin film transistor
  • irradiation light is applied to the liquid crystal display element from a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like, and is transmitted through the pixel opening of the liquid crystal display element to the emission side to be transmitted to the liquid crystal display element.
  • the formed image is projected on a screen via a projection lens.
  • the above-mentioned irradiation light is condensed on the pixel opening to increase the ratio of irradiation light transmitted through the liquid crystal display element, and to illuminate the projected image, the irradiation of the two glass substrates constituting the liquid crystal display element is performed.
  • a flat-type microphone aperture lens is bonded to a glass substrate on which light is incident so that irradiation light is focused on a pixel opening.
  • a photosensitive film is formed on the substrate surface, and then, as shown in FIG. 20 (b), the photosensitive film is irradiated with an electron beam to form a lens portion to form a micro lens array. Make a master.
  • the surface of the microlens array master was electroplated. Therefore, nickel or the like is laminated, and the laminated body is peeled off from the microlens array master to produce a stamper (inverted type) as shown in FIG.
  • the ultraviolet curing resin is poured into the recess of the stamper, and as shown in FIG. 7 (f), the resin is pressed against the transparent substrate to expand the ultraviolet curing resin.
  • the ultraviolet-curable resin is cured as shown in (g), and then the cured ultraviolet-curable resin is peeled off from the stamper together with the transparent substrate as shown in FIG.
  • a cover glass is attached to the surface of the peeled transparent substrate on which the lens portion is formed with the ultraviolet-curable resin, and a low-refractive-index adhesive resin is poured and bonded between the two to form a flat microlens.
  • the flat microlens to be incorporated in the liquid crystal display device is preferably a dense one in which a large number of lens portions are tightly packed in a plan view, but a dense microphone aperture lens array is formed by the above-described conventional manufacturing method. Difficult to manufacture.
  • the forming step is performed under heating.
  • the resin material constituting the lens portion and the adhesive layer must not cause thermal decomposition or deformation, and further, decrease in transparency, and is disclosed in JP-A-7-225303. Describes various commercially available heat-resistant resins having a temperature of 150 ° C. or higher.
  • the heat-resistant resin having a heat resistance of 150 ° C or more alone cannot be discolored (yellowing), peeled, Cracks, fogging, etc. are likely to occur and are insufficient, and heat resistance of at least 180 ° C. or more is particularly required for a high refractive index resin material constituting a lens portion. Disclosure of the invention
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the conventional technology,
  • the first objective of the method of manufacturing a flat microlens is to make a minute lens portion on the surface of a glass substrate with high accuracy, and the second objective is to provide a flat microlens with excellent heat resistance.
  • a method for manufacturing a flat-type microphone aperture lens according to claims 1 to 3 of the present application comprises: a resin material having a high refractive index in a region sandwiched between the first and second glass substrates; And a low-refractive-index resin material, and the interface between these two types of resin materials is a method of manufacturing a flat-type microphone aperture lens in which microspheres or microcylindrical surfaces are arranged one-dimensionally or two-dimensionally. Based on this premise, the method for manufacturing a flat-type microphone aperture lens according to claim 1 includes the following first to sixth steps.
  • a mold release agent is applied to the surface of a glass substrate which is formed in the second step and has fine concave portions arranged in a dense manner, and a photocurable or thermosetting high refractive index resin is applied thereon.
  • the step of applying the material is applied to the surface of a glass substrate which is formed in the second step and has fine concave portions arranged in a dense manner, and a photocurable or thermosetting high refractive index resin is applied thereon.
  • the high-refractive-index resin material cured in the fourth step and the first glass substrate are peeled off from the glass substrate serving as a mold, and a low-refractive-index resin material layer on the first glass substrate is removed.
  • Step 6 A step of stacking a second glass substrate on the low refractive index resin material applied in the fifth step, developing the low refractive index resin material, and then curing the low refractive index resin material.
  • a method of manufacturing a flat microlens according to a second aspect includes the following first to seventh steps.
  • the low-refractive-index resin material cured in the fifth step and the second glass substrate are separated from the inversion mold, and a high-refractive-index resin material is placed on the cured low-refractive-index resin material layer on the second glass substrate.
  • the step of applying is a high-refractive-index resin material placed on the cured low-refractive-index resin material layer on the second glass substrate.
  • the method for manufacturing a flat microlens according to claim 3 includes the following first step It consists of the eighth step.
  • wet etching is again performed on the surface of the glass substrate, which is a mold on which a large number of minute recesses are formed, without passing through a mask, so that the minute recesses are densely arranged.
  • the high-refractive-index resin material cured in the sixth step and the first glass substrate are separated from the second inversion mold, and the low-refractive-index resin is placed on the cured high-refractive-index resin material layer on the first glass substrate.
  • a step of applying a resin material is applied.
  • the flat plate type according to claims 4 to 12 for achieving the second object In the microlens, a high-refractive-index resin material and a low-refractive-index resin material are laminated in a region sandwiched between two glass substrates, and a boundary surface between the two types of resin materials is a minute spherical surface or a minute cylindrical surface.
  • the high refractive index resin material is a resin having a thiol bond (R--S--H) or a sulfide bond (R--S-- R ') or a resin represented by the general formula (R'-S-R-S-RSR *).
  • S is io
  • H is hydrogen
  • R is any of cyclic unsaturated hydrocarbon, cyclic saturated hydrocarbon, linear unsaturated hydrocarbon, linear saturated hydrocarbon
  • R ' is acryloyl group, methacryloyl group
  • It is any one of organic compounds having an epoxy group, an isocyanate group, an amino group, an acyl group, a carboxyl group, an alkoxyl group, and a vinyl group.
  • C The main agent constituting the high refractive index resin material is as follows. A polymer starting from a monomer having a structural formula represented by any of formulas (1) to (4) is suitable.
  • CH 2 C—C or S—CH 2 CH 2 n NCO
  • X represents a hydrogen atom or a methyl group
  • n is an integer of 0 to 2
  • Y is one R 2 — s— R 2 — or one R Hiro SR 2 Z m R 2 -S—R 2 — (where R 2 is
  • Z represents an alkylene group, and Z represents an oxygen atom or a sulfur atom.
  • m represents an integer of 0 to 3)
  • the low-refractive-index resin material to be laminated with the high-refractive-index resin material for example, any one of a fluorine-based resin, an acryl-based resin, and an epoxy-based resin is suitable.
  • the interface between any one of the glass substrate and the high-refractive-index resin material, the interface between the glass substrate and the low-refractive-index resin material, and the interface between the high-refractive-index resin material and the low-refractive-index resin material is bonded by a force coupling agent.
  • coloring (yellowing) due to intrusion of oxygen into the interface can be effectively prevented.
  • the coupling agent include ⁇ -glycidopropyltrimethoxysilane or ⁇ -mercaptopropyltrimethoxysilane.
  • the high refractive index resin material can contain a thiol-based curing agent.
  • the oxide in the main agent is reduced by the thiol, and impurities that should be oxidized to be colored are reduced in the presence of thiol. For this reason, it is possible to prevent the coloring of the high refractive index resin.
  • thiol-based curing agent examples include penyl erythritol tetrakisthiopropionate represented by the following (Chemical Formula 10) or trihydroxyxethyl isocynate / 3 mercapto represented by the following (Chemical Formula 11). And propionic acid. (Formula 10)
  • the high refractive index resin material may contain a curing accelerator in addition to the thiol-based curing agent.
  • a curing accelerator examples include dibutyltin dilaurate represented by the following (Chemical formula 12).
  • the glass substrate constituting the flat microlens is not particularly limited, and examples thereof include quartz glass, low expansion crystallized glass, and borosilicate glass.
  • Examples of the low expansion crystallized glass substrate include Neoceram (registered trademark) manufactured by NEC Corporation (66Si0 2 '22Al 2 0 3 ' 4Li0 2 '2Zr0 2 ' 2Ti0 2 ); Baiko one Le (96S i0 2 '3B 2 0 3' lAl 2 0 3) can be used.
  • composition examples of the borosilicate glass those listed below are preferable.
  • Si0 2 45 wt% to 75 wt% or less
  • MO is a divalent metal other than Ba: 10% by weight or more and 30% by weight or less
  • R 20 (R is a monovalent metal): 10% by weight or less
  • Si0 2 45 wt% to 75 wt% or less
  • MO is a divalent metal other than Ba: 10% by weight or more and 30% by weight or less
  • R 20 (R is a monovalent metal): 10% by weight or less
  • Si0 2 45 wt% to 75 wt% or less
  • BaO 4.2% by weight or more and 14% by weight or less
  • MO is a divalent metal other than Ba: 10% by weight or more and 30% by weight or less
  • R 20 (R is a monovalent metal): 1% by weight or less
  • FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of a flat-type microphone aperture lens according to the present invention
  • Figure 2 is a diagram showing the manufacturing process of the flat-type microphone aperture lens
  • FIG. 3 (a) is a diagram showing the manufacturing process of the flat plate type microlens, (b) is a plan view of (a),
  • Fig. 4 is a diagram showing the manufacturing process of the flat type microphone aperture lens.
  • FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of the plate-type microlens
  • FIG. 6 is a diagram showing a manufacturing process of the flat plate type microlens
  • FIG. 7 is a diagram showing a manufacturing process of the flat plate type micro lens
  • FIG. 8 is a diagram showing a manufacturing process of the flat-type microphone aperture lens.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of a flat-type microphone aperture lens according to the present invention.
  • FIG. 10 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat microlens according to the present invention
  • FIG. 11 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat microphone lens
  • FIG. 12 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the same flat anti-micro lens.
  • FIG. 13 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type micro lens
  • FIG. 14 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type micro lens.
  • FIG. 15 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type micro lens
  • FIG. 16 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat type microphone aperture lens.
  • FIG. 17 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type micro lens.
  • FIG. 18 is a diagram showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type microphone aperture lens
  • FIG. 19 is a view showing another embodiment of the manufacturing process of the flat plate type micro lens.
  • FIG. 20 is a diagram showing a manufacturing process of a conventional flat microlens.
  • 1 is a glass substrate to be a molding die
  • 2 is a mask
  • 3 is a concave portion
  • 4 is a release agent layer
  • 5 is a high refractive index resin material
  • 6 is a first glass substrate
  • 7 is a low refractive index resin.
  • 8 is the second glass substrate
  • 11 is the inverted type (first inverted type)
  • 12 is the second inverted type.
  • FIGS. 1 to 9 are views showing a manufacturing process of the flat-type microphone aperture lens according to the first embodiment.
  • a mask 2 having a large number of small holes 2a is superimposed on the surface of a substrate 1, and the surface covered with the mask 2 is immersed in an HF (hydrogen fluoride) -based etchant to perform wet etching.
  • HF hydrogen fluoride
  • a substantially hemispherical concave portion 3 is formed one-dimensionally or two-dimensionally at a portion corresponding to the small hole 2a as shown in FIG.
  • the recess 3 may be a groove having a semicircular cross section. In this case, a lenticular lens is formed.
  • the mask 2 is removed, and the surface on which the concave portion 3 is formed is wet-etched again.
  • C This etching reduces the thickness of the glass substrate 1 serving as a mold as shown in FIG.
  • the surface including 3 is uniformly etched, and the hemispherical concave portion is flat, and as shown in FIG. 3 (b), the concave portion has a dense shape with no gaps when viewed in plan.
  • FIG. 3 (b) shows a dense state in a honeycomb shape (hexagon), it can be made dense in a quadrilateral shape by arranging the concave portions 3.
  • a release agent layer 4 made of a fluorine-based or silicone-based material is formed on the surface of the glass substrate 1 on which the concave portions are densely arranged by the above-described etching.
  • the release agent layer 4 may be formed by, for example, spin coating, diving, adsorbing the material as a vapor on the surface of the glass substrate, or immersing the material in a solution in which the material is dissolved and adsorbing the material on the surface. Is applied to the surface of the glass substrate 1 and then fired.
  • a photo-curable or thermo-curable high refractive index resin material 5 is applied to the surface on which the release agent layer 4 is formed, and further, as shown in FIG. Is pressed from above the high refractive index resin material 5 to expand the high refractive index resin material 5.
  • the high refractive index resin material 5 is cured by irradiating or heating with ultraviolet rays, and the first glass The substrate 6 and the high refractive index resin material 5 cured into a convex lens shape are separated from the glass substrate 1 as shown in FIG.
  • a photocurable or thermosetting low refractive index resin material 7 is applied on the high refractive index resin material 5 cured into a convex lens shape.
  • This low-refractive-index resin material 7 functions as an adhesive.
  • the second glass substrate 8 is pressed from above the low-refractive-index resin material ⁇ , and the low-refractive-index resin material 7 is developed and hardened. Then, the second glass substrate 8 is polished as required to obtain a predetermined thickness, thereby completing a flat plate type microlens.
  • a film of force coupling agent should be formed on the interface between the high-refractive-index resin material 5 and the low-refractive-index resin material 7 and on the interface between the low-refractive-index resin material 7 and the second glass substrate 8. Is preferred.
  • FIGS. 10 to 14 are diagrams showing the steps of manufacturing the flat microlens according to the second embodiment.
  • the steps up to forming the dense concave portion on the surface of the glass substrate 1 are the same. The description is omitted because it is the same as the first harmful example.
  • the surface shape of the glass substrate 1 in which the concave portions are densely arranged is transferred to an inverted mold 11 made of nickel or the like by an electrode or the like.
  • a release agent coating similar to that of the first embodiment is applied.
  • a photo-curable or thermo-curable low refractive index resin material 7 is applied on the inversion mold 11, and as shown in FIG.
  • a second glass substrate 8 is placed on top of the low refractive index resin material 7 after the low refractive index resin material 7 is developed, and then the cured low refractive index resin material 7 and the second glass are cured.
  • the substrate 8 was peeled off from the inverted mold 11, and a high-refractive-index resin material 5 was applied on the cured low-refractive-index resin material 7, as shown in FIG. 13, and further, as shown in FIG. 14.
  • the first glass substrate 6 may be overlaid on the high-refractive-index resin material 5, the high-refractive-index resin material 5 may be developed, and then the high-refractive-index resin material 5 may be cured.
  • FIGS. 15 to 19 show the manufacturing process of the flat-type microphone aperture lens according to the third embodiment.
  • the steps up to the formation of the dense concave portion on the surface of the glass substrate 1 are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
  • the surface shape of the first inversion mold 11 made of nickel or the like is transferred to the second inversion mold 12 made of nickel or the like as shown in FIG.
  • the same release agent coating as in the invention is applied.
  • a photocurable or thermosetting high-refractive-index resin material 5 is applied on the second inversion mold 12, and then, as shown in FIG.
  • the high refractive index resin material 6 is cured, and the first glass substrate 6 and the high refractive index resin material cured in a convex lens shape 5 is peeled off from the second reversing mold 12 as shown in FIG. 17, and then, as shown in FIG.
  • Low refractive index resin material 7 was applied, and as shown in Fig. 19, the second glass substrate 8 was pressed from above the low refractive index resin material ⁇ to develop the low refractive index resin material 7 After curing.
  • such a microphone aperture lens has an extremely fine unevenness of about 10 / m to several 10 ⁇ m, but if the release agent is applied at an appropriate concentration, it can be in the submicron order. A release agent film with a uniform thickness is possible, and the fine irregularities of the original plate to be produced can be accurately transferred by glass etching.
  • the release agent film is partially peeled off after repeated use and the release property is reduced, If necessary, the mold release agent on the mold surface can be washed away, and the mold release agent can be applied again, which is convenient.
  • the effect of the invention described in claim 1 is that the step of transferring to the Ni stamper becomes unnecessary, there is no risk of shape change or defect addition in the stamper manufacturing process, and the glass original plate is more effective than the Ni stamper. It is cheap.
  • a high-refractive-index resin material and a low-refractive-index resin material are laminated in a region sandwiched between two glass substrates, and a boundary between these two types of resin materials is provided.
  • the surface is a high temperature of 180 ° C or higher by using a specific material as the high refractive index resin material of the flat-type microphone aperture lens in which microspheres or microcylindrical surfaces are arranged one-dimensionally or two-dimensionally.
  • the lens portion can be prevented from being deformed even when exposed to the lens, and a flat-type microphone aperture lens maintaining transparency can be obtained.
  • the flat microlens manufacturing method and the flat microlens according to the present invention can contribute to the manufacture of a liquid crystal display device incorporated in a projector television (PTV).
  • PTV projector television

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Description

明 細 書
平板型マイクロレンズの製造方法及び平板型マイクロレンズ
本発明は液晶表示素子等に利用する平板型マイクロレンズの製造方法と、 レン ズ材料に特徴をもたせた平板型マ技イク口レンズに関する。 背 景 技 術
プロジヱクタテレビジョン （P T V ) に液晶表示素子が用いられている。 こ の液晶表示素子は 2枚のガラス板間に形成した一隙間に液晶を注入し、 また各ガラ ス板の液晶と接する面には各画素に対応して、 アモルファスシリコンゃポリシリ コンからなる T F T (薄膜トランジスタ） を形成している。
そして、 透過型の液晶表示素子を用いた P T Vでは、 液晶表示素子にキセノン ランプやメタルハライ ドランプ等から照射光を当て、 液晶表示素子の画素開口部 を介して出射側に透過させ、 液晶表示素子に形成された画像を投影レンズを介し てスクリ一ンに投影するようにしている。
上記の照射光を画素開口部に集光して液晶表示素子を透過する照射光の割合を 高め上記の投影画像を明るくするために、 液晶表示素子を構成する 2枚のガラス 基板のうちの照射光が入射する側のガラス基板に平板型マイク口レンズを接合し、 照射光を画素開口部に集光せしめるようにしており、 斯かる平板型マイクロレン ズの製造方法として、 特開平 7— 2 2 5 3 0 3号公報に開示されるものが知られ ている。 また、 この他にも特開平 2— 4 2 4 0 1号公報、 特開平 2— 1 1 6 8 0 9号公報、 米国特許第 5 5 1 3 2 8 9号公報に開示される方法がある。
特開平 7— 2 2 5 3 0 3号公報に開示される平板型マイク口レンズの製造方法 を図 2 0に基づいて説明すると以下の通りである。
先ず、 図 2 0 ( a ) に示すように基板表面に感光性膜を形成し、 次いで同図 ( b ) に示すように感光性膜に電子ビームを照射してレンズ部を形成してマイク ロレンズァレイ原盤を作製する。
次いで同図 （c ) に示すように、 マイクロレンズアレイ原盤の表面に電铸法に よってニッケル等を積層し、 更に同図 （d ) に示すように積層体をマイクロレン ズアレイ原盤から剥離してスタンパ （反転型） を作製する。
そして同図 （e ) に示すように、 スタンパの凹部に紫外線硬化型樹脂を流し込 み、 同図 （f ) に示すように、 透明基板で押し付けて紫外線硬化型樹脂を展開し、 更に同図 （g ) に示すように、 紫外線硬化型樹脂を硬化せしめ、 この後同図 （h ) に示すように、 スタンパから硬化した紫外線硬化型樹脂を透明基板とともに剥離 する。
そして、 剥離した透明基板の紫外線硬化型樹脂にてレンズ部を形成した面に、 カバーガラスを合せ、 これらの間に低屈折率の接着剤樹脂を流し込んで接着し、 平板型マイクロレンズとする。
上記した従来方法にあつては、 レジストに電子ビームを照射してレンズ部を形 成するようにしている力、 この方法では微小なレンズ形状を高精度に作ること力 困難である。
また、 液晶表示装置に組み込む平板型マイクロレンズとしては、 平面視で多数 のレンズ部が隙間なく詰った稠密状のものが好ましいが、 上記した従来の製造方 法で稠密状のマイク口レンズアレイを製造するのは難しい。
また、 液晶表 装置とするためには、 前記カバ一ガラスの液晶側の面に、 透明 電極、 配向膜、 ブラックマトリックス等を形成することが必要となる力、 この形 成工程は加熱下で行うため、 レンズ部及び接着剤層を構成する樹脂材料は熱分解 や変形、 更には透明度の低下を招く ものであってはならないとされ、 特開平 7— 2 2 5 3 0 3号公報にあっては、 1 5 0 °C以上の耐熱性樹脂として市販のものを 種々挙げている。 しかしながら、 実際には、 透明電極や配向膜をスパッタリング 等で形成する際の温度を考慮すると、 耐熱性樹脂として 1 5 0 °C以上の耐熱性が あるだけでは、 変色 （黄変） 、 剥離、 クラック、 曇り等が生じやすく不十分であ り、 少なくとも 1 8 0 °C以上の耐熱性が特にレンズ部を構成する高屈折率樹脂材 料には要求される。 発 明 の 開 示
本発明は、 上述の従来の技術が有する問題点を解消すべくなされたものであり、 平板型マイクロレンズの製造法として、 ガラス基板の表面に微小なレンズ部を高 精度に作ることを第 1の目的とし、 また耐熱性に優れた平板型マイクロレンズを 提供することを第 2の目的とする。
第 1の目的を達成すべく、 本願の請求項 1乃至請求項 3に係る平板型マイク口 レンズの製造方法は、 第 1及び第 2のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率 樹脂材料と低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は 微小球面または微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイク口 レンズの製造方法であることを前提とし、 この前提の基、 請求項 1に係る平板型 マイク口レンズの製造方法は、 以下の第 1工程〜第 6工程からなる。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスクを介して湿式エッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマスクを介 さずに再度湿式ェッチングを行うことで、 多数の微小凹部を稠密状に配列せしめ る 王。
(第 3工程）
第 2工程で形成された稠密状に配列された微小凹部を有する成形型となるガラ ス基板の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性或いは熱硬化性の高屈折率樹 脂材料を塗布する工程。
(第 4工程）
第 3工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 5工程）
第 4工程で硬化せしめた高屈折率樹脂材料と第 1のガラス基板とを成形型とな るガラス基板から剥離し、 第 1のガラス基板上の硬化した高屈折率樹脂材料層の 上に低屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 6工程） 第 5工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
また、 請求項 2に係る平板型マイクロレンズの製造方法は、 以下の第 1工程〜 第 7工程からなる。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスクを介して湿式ェッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマスクを介 さずに再度温式エッチングを行うことで、 多数の微小凹部を稠密状に配列せしめ る 1禾王。
(第 3工程）
第 2工程で形成された成形型となるガラス基板の稠密状に配列された多数の微 小凹部を有する表面形状を二ッケル等からなる反転型に転写する工程。
(第 4工程）
第 3工程で作 した反転型の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性或いは 熱硬化性の低屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 5工程）
第 4工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 6工程）
第 5工程で硬化せしめた低屈折率樹脂材料と第 2のガラス基板とを反転型から 剥離し、 第 2のガラス基板上の硬化した低屈折率樹脂材料層の上に高屈折率樹脂 材料を塗布する工程。
(第 Ί工程）
第 6工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
また、 請求項 3に係る平板型マイクロレンズの製造方法は、 以下の第 1工程〜 第 8工程からなる。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスクを介して湿式エッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で多数の微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマス クを介さずに再度湿式エッチングを行うことで、 微小凹部を稠密状に配列せしめ るェ饪。
(第 3工程）
第 2工程で形成された成形型となるガラス基板の稠密状に配列された多数の微 小凹部を有する表面形状をニッケル等からなる第 1の反転型に転写する工程。
(第 4工程）
第 3工程で作製した第 1の反転型の表面形状を二ッケル等からなる第 2の反転 型に転写する工程。
(第 5工程）
第 4工程で作 した第 2の反転型の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性 或いは熱硬化性の高屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 6工程）
第 5工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 Ί工程）
第 6工程で硬化せしめた高屈折率樹脂材料と第 1のガラス基板とを第 2の反転 型から剥離し、 第 1のガラス基板上の硬化した高屈折率樹脂材料層の上に低屈折 率樹脂材料を塗布する工程。
(第 8工程）
第 7工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
一方、 第 2の目的を達成するための請求項 4乃至請求項 1 2に記載した平板型 マイクロレンズは、 2枚のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率樹脂材料と 低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は微小球面ま たは微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイクロレンズであ つて、 前記高屈折率樹脂材料としては、 チオール結合 （R— S— H) を有する樹 脂、 スルフィ ド結合 （R— S— R' ) を有する樹脂または一般式 （R' -S -R -S -R-S-R* ) で表わされる樹脂を主剤とした。
ただし、 Sはィォゥ、 Hは水素、 Rは環状不飽和炭化水素、 環状飽和炭化水素、 直鎖状不飽和炭化水素、 直鎖状飽和炭化水素のいずれか、 R' はァクリロイル基、 メタクリロイル基、 エポキシ基、 イソシァネート基、 アミノ基、 ァシル基、 カル ボキシル基、 アルコキシリル基、 ビニル基を有する有機化合物のいずれかである c 前記高屈折率樹脂材料を構成する主剤としては、 以下の （化 1) 〜 （化 9) で 示す構造式のモノマーを出発原料とする重合体が適当である。
(化 1)
Figure imgf000008_0001
ビス [4 -(2,3—エポキシプロピルチオ）フヱニル]スルフィ ド
(化 2)
HaC CH3
H2C = C-C-S- s , VS-C-C = CH2
O 0 (硬化後の屈折率 = 1.659) 7
(化 3)
X
CH2= C— Cや S— CH2CH2 nNCO
II
0
(Xは水素原子またはメチル基を表わし、 nは 0〜2の整数）
(化 4)
— 0— C一 Y— C一 0— R'
II II
0 0
式中 F 、 CH2=CH一 @一 CH2—, CH2=CHCOOCH2CH广または
Figure imgf000009_0001
し、 Yは、 一 R2— s— R2— または一 R广 S-R2Z mR2- S一 R2— (但し R2は、
アルキレン基を示し、 Zは、 酸素原子または硫黄原子を示す。 また mは 0〜3の整数を表わす）
(化 5)
CH2 CH- CH2-)v,S-CH = CH2 CH2= CH— S CH2+nCH CH2
、z
(nは 1、 2または 3)
(化 6)
Figure imgf000009_0002
(式中1¾は、ー0 ー，ーじ1"12じ ー.ー（：^1((：^13)( 1^—を示す） (化 7)
CHa CH3
CH2 C一 C- S— CH2CH2 S-C -C CH2
II II
0 O
(化 8)
CH3
CH2= CCOOSCH2CH2SC6H5
(化 9)
CH2 = H2
Figure imgf000010_0001
また、 高屈折率樹脂材料と積層される低屈折率樹脂材料としては、 例えばフッ 素系樹脂、 ァクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂のいずれかが適当である。
また、 前記ガラス基板と高屈折率樹脂材料、 ガラス基板と低屈折率樹脂材料、 高屈折率樹脂材料と低屈折率樹脂材料のいづれかの境界面を力ップリング剤にて 結合することで、 付着力を高め、 界面への酸素の侵入による着色 （黄変） を有効 に阻止することができる。 尚、 カップリング剤としては、 例えば、 γ—グリシド プロビルトリメ トキシシランまたは γ—メルカプトプロビルトリメ 卜キシシラン が挙げられる。 また、 前記高屈折率樹脂材料にはチオール系硬化剤を含有せしめることが可能 である。 チオール系硬化剤を含有せしめると、 主剤中の酸化物がチオールにより 還元され、 また酸化されて着色するはずの不純物がチォールの存在で還元され、 更にはチオールの付加により着色共鳴構造がとれない等の理由により高屈折率樹 脂の着色防止を図ることができる。
チオール系硬化剤としては、 例えば、 以下の （化 10) で示されるペン夕エリ スリ トールテトラキスチォプロピオネート、 または以下の （化 1 1) で示される トリヒ ドロキシェチルイソシァネート / 3メルカプトプロピオン酸が挙げられる。 (化 10)
(HSCH2CH2COOCH2)4C
(化 1 1)
0
II
/
HSCH,CH2COCH2CH2- N, XN一 C H2C H2OC C H2C H2S π
SI I I »
O 0=C\ ノ c=o o
ヽ N乙 c H2C H20 CCH2CH2SH
II
o また、 前記高屈折率樹脂材料にはチオール系硬化剤の他に硬化促進剤を含有せ しめることが可能である。 硬化促進剤としては、 例えば、 以下の （化 12) で示 されるジブチルチンジラウレ一トが挙げられる。
(化 1 2)
[ C H2 ( C H2)3 ]2Sn[OOC(CH2 )10CH31 また、 平板型マイクロレンズを構成するガラス基板としては、 特に限定される ものではないが、 石英ガラス、 低膨張結晶化ガラス或いは硼珪酸ガラスが挙げら れる。
低膨張結晶化ガラス基板としては、 日本電気ガラス （株） 社製のネオセラ厶 (登録商標） （66Si02'22Al203'4Li02'2Zr02'2Ti02) 、 コ一二ング社 製のバイコ一ル （96S i02'3B 203'lAl203) を用いることができる。
また、 硼珪酸ガラスとしては組成例としては、 以下に挙げるものが好ましい。 (組成 1 )
Si02： 45重量％以上 75重量％以下
B 203： 8. 0重量％以上 19. 0重量％以下
BaO ： 4. 2重量％以上 14重量％以下
MO (Mは B a以外の 2価金属） ： 10重量％以上 30重量％以下
R20 (Rは 1価金属） ： 10重量％以下
(組成 2 )
Si02： 45重量％以上 75重量％以下
B 203： 9. 5重量％以上 12. 5重量％以下
BaO ： 4. .2重量％以上 14重量％以下
MO (Mは B a以外の 2価金属） ： 10重量％以上 30重量％以下
R20 (Rは 1価金属） ： 10重量％以下
(組成 3)
Si02： 45重量％以上 75重量％以下
B 203： 8. 0重量％以上: 19. 0重量％以下
BaO : 4. 2重量％以上 14重量％以下
MO (Mは Ba以外の 2価金属） ： 10重量％以上 30重量％以下
R20 (Rは 1価金属） ： 1重量％以下
(組成 4 )
Si02 45重量％以上 75重量％以下
B203 8. 0重量％以上 19. 0重量％以下
BaO 4. 2重量％以上 10重量％以下 M O (Mは B a以外の 2価金属） ： 1 0重量％以上 3 0重量％以下 R 2 0 ( Rは 1価金属） ： 1 0重量％以下 図面の簡単な説明
図 1は本発明に係る平板型マイク口レンズの製造工程を示す図、
図 2は同平板型マイク口レンズの製造工程を示す図、
図 3 ( a ) は同平板型マイクロレンズの製造工程を示す図、 （b ) は （a ) の 平面図、
図 4は同平板型マイク口レンズの製造工程を示す図、
図 5は同平板型マイクロレンズの製造工程を示す図、
図 6は同平板型マイクロレンズの製造工程を示す図、
図 7は同平板型マイクロレンズの製造工程を示す図、
図 8は同平板型マイク口レンズの製造工程を示す図、
図 9は本発明に係る平板型マイク口レンズの断面図、
図 1 0は本発明に係る平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、 図 1 1は同平板型マイク口レンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 2は同平ネ反型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 3は同平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 4は同平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 5は同平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 6は同平板型マイク口レンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 7は同平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 8は同平板型マイク口レンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 1 9は同平板型マイクロレンズの製造工程の別実施例を示す図、
図 2 0は従来の平板型マイクロレンズの製造工程を示す図である。
尚、 図中 1は成形型となるガラス基板、 2はマスク、 3は凹部、 4は離型剤層、 5は高屈折率樹脂材料、 6は第 1のガラス基板、 7は低屈折率樹脂材料、 8は第 2のガラス基板、 1 1は反転型 （第 1の反転型） 、 1 2は第 2の反転型。 発明を実施するための最良の形態
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。 ここで、 図 1乃至 図 9は第 1実施例に係る平板型マイク口レンズの製造工程を示す図であり、 本発 明にあっては、 先ず図 1に示すように、 成形型となるガラス基板 1の表面に多数 の小孔 2 aを形成したマスク 2を重ね、 次いでマスク 2で被覆した面を H F (フ ッ化水素） 系のエツチャントに浸漬し、 湿式エッチングを行う。
湿式エッチングは等方性のエッチングとなるので、 図 2に示すように、 小孔 2 aに対応した部分に、 略半球状の凹部 3が 1次元または 2次元的に形成される。 尚、 凹部 3としては断面半円形の溝であってもよい。 この場合にはレンチキユラ —レンズが形成される。
次いで、 マスク 2を除去し、 凹部 3が形成された面を再度湿式エッチングする c このエッチングにより図 3 ( a ) に示すように、 成形型となるガラス基板 1の厚 みが薄くなるとともに、 凹部 3を含めて表面が満遍なくエッチングされ、 半球状 の凹部は偏平で、 且つ図 3 ( b ) に示すように、 平面視で凹部が隙間なく詰った 稠密状となる。
尚、 図 3 ( b ) にあってはハニカム状 （6角形） に稠密になった状態を示して いるが、 凹部 3の配列により 4角形状に稠密にすることもできる。
上記のエッチングにて稠密状に凹部が配列されたガラス基板 1の表面に、 図 4 に示すように、 フッ素系またはシリコーン系材料からなる離型剤層 4を形成する。 離型剤層 4の形成方法としては、 例えば、 スピンコート、 ディ ッビング、 材料を 蒸気としてガラス基板表面に吸着させる方法、 或いは材料が溶解した液に浸漬せ しめて表面に吸着させる方法等によって、 材料をガラス基板 1の表面に塗布した 後に焼成する。
この後、 図 5に示すように離型剤層 4を形成した表面に光硬化性或いは熱硬化 性の高屈折率樹脂材料 5を塗布し、 更に図 6に示すように第 1のガラス基板 6を 高屈折率樹脂材料 5の上から押し付け、 高屈折率樹脂材料 5を展開せしめる。 尚、 第 1のガラス基板 6の高屈折率樹脂材料 5と接する面にはカップリング剤の膜を 形成しておく力、、 離型時に高屈折率樹脂材料 5の表面にわずかに移行する離型剤 を溶媒等で洗浄除去しておくことが好ましい。 上記の如く して、 高屈折率樹脂材料 5の上に第 1のガラス基板 6を重ねた状態 で、 紫外線を照射するか加熱することで高屈折率樹脂材料 5を硬化せしめ、 第 1 のガラス基板 6と凸レンズ状に硬化した高屈折率樹脂材料 5を図 7に示すように ガラス基板 1から剥離する。
次いで、 図 8に示すように、 凸レンズ状に硬化した高屈折率樹脂材料 5の上に 光硬化性或いは熱硬化性の低屈折率樹脂材料 7を塗布する。 この低屈折率樹脂材 料 7は接着剤としての作用を有する。
そして更に、 図 9に示すように第 2のガラス基板 8を低屈折率樹脂材料 Ίの上 から押し付け、 低屈折率樹脂材料 7を展開せしめた後、 硬化させ、 最後に第 1の ガラス基板 6と第 2のガラス基板 8を必要に応じて研磨して所定の厚みにして平 板型マイクロレンズが完成する。
尚、 高屈折率樹脂材料 5と低屈折率樹脂材料 7との境界面、 低屈折率樹脂材料 7と第 2のガラス基板 8との境界面には力ップリング剤の膜を形成しておくこと が好ましい。
図 1 0乃至図 1 4は第 2実施例に係る平板型マイクロレンズの製造工程を示す 図であり、 第 2実施例においてもガラス基板 1の表面に稠密状凹部を形成するま での工程は第 1害施例と同一であるので省略する。
第 2実施例にあっては、 図 1 0に示すように、 稠密状に凹部が配列されたガラ ス基板 1の表面形状を、 ニッケル等からなる反転型 1 1に電铸等によって転写し、 第 1実施例と同様の離型剤コ一ティ ングを施す。
次いで図 1 1に示すように、 反転型 1 1の上に光硬化性或いは熱硬化性の低屈 折率樹脂材料 7を塗布し、 更に図 1 2に示すように、 低屈折率樹脂材料 7の上に 第 2のガラス基板 8を重ね、 低屈折率樹脂材料 7を展開せしめた後、 低屈折率樹 脂材料 7を硬化せしめ、 次いで、 硬化した低屈折率樹脂材料 7と第 2のガラス基 板 8とを反転型 1 1から剥離し、 図 1 3に示すように、 硬化した低屈折率樹脂材 料 7の上に高屈折率樹脂材料 5を塗布し、 更に図 1 4に示すように高屈折率樹脂 材料 5の上に第 1のガラス基板 6を重ね、 高屈折率樹脂材料を 5展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料 5を硬化せしめるようにしてもよい。
図 1 5乃至図 1 9は第 3実施例に係る平板型マイク口レンズの製造工程を示す 図であり、 第 3実施例においてもガラス基板 1の表面に稠密状凹部を形成するま での工程は第 1実施例と同一であるので省略する。
第 3実施例にあっては、 ニッケル等からなる第 1の反転型 1 1の表面形状を、 図 1 5に示すように、 ニッケル等からなる第 2の反転型 1 2に転写し、 第 1発明 と同様の離型剤コ一ティ ングを施す。 次いで、 この第 2の反転型 1 2の上に光硬 化性或いは熱硬化性の高屈折率樹脂材料 5を塗布し、 次いで図 1 6に示すように 高屈折率樹脂材料 5の上に第 1のガラス基板 6を重ね、 高屈折率樹脂材料 6を展 開せしめた後、 高屈折率樹脂材料 6を硬化せしめ、 第 1のガラス基板 6と凸レン ズ状に硬化した高屈折率樹脂材料 5を図 1 7に示すように第 2の反転型 1 2から 剥離し、 次いで、 図 1 8に示すように、 凸レンズ状に硬化した高屈折率樹脂材料 5の上に光硬化性或いは熱硬化性の低屈折率樹脂材料 7を塗布し、 更に、 図 1 9 に示すように第 2のガラス基板 8を低屈折率樹脂材料 Ίの上から押し付け、 低屈 折率樹脂材料 7を展開せしめた後に硬化させる。
以上に説明したように、 本願に係る平板型マイク口レンズの製造方法によれば、 平面視で多数のレンズ部が隙間なく詰つた稠密状のマイク口レンズァレイを製造 することができる。
更に、 液晶表 装置を製造する工程を考慮すると、 約 1 8 0 °Cの高温処理に耐 える特殊な高屈折率樹脂、 低屈折率樹脂を使用する必要があるが、 これら樹脂は 一般的に型との離型性が低い。 そのため剥離ができなかったり剥離時に型にダメ ージを与えることになり、 良好な成形ができないが本発明によれば、 型に離型剤 を塗布しているので、 簡単に剥離でき、 型にもダメージを与えない。
また、 このようなマイク口レンズは凹凸が 1 0 / m〜数 1 0〃m程度と極めて 微細な凹凸形状になっているが、 離型剤を適当な濃度で塗布すれば、 サブミクロ ンオーダ一の均一厚みの離型剤膜が可能であり、 ガラスエッチングによって、 作 製される原版の微細凹凸形状を正確に転写できる。
特に、 フッ素系の離型剤はイソクタン等の有機溶媒に可溶であり、 繰り返し型 を使用した後、 離型剤膜が部分的に剥離して離型性が低下するような場合には、 必要に応じて型表面の離型剤を洗浄除去して、 離型剤を再塗布することができ、 好都合である。 また、 請求項 1に記載の発明の効果としては、 N iスタンパに転写する工程が 不要となり、 スタンパ作製工程での形状変化や欠陥付与のおそれがなく、 且つガ ラス原版は N iスタンパよりも安価である。
また、 請求項 2に記載の発明固有の効果としては、 本願で示した高屈折樹脂材 料の多くは、 光硬化性にするのが困難で、 熱硬化性の場合が多い。 このような場 合、 請求項 2に記載のように N i等からなる反転型を用いることが有効である。 更に、 請求項 3に記載の発明固有の効果としては、 樹脂によっては離型剤を用 いても剥離時の抵抗が大きいものがあるので、 ガラスを型として用いると、 離型 時に微細凹凸のガラスがわずかに欠けてしまうことがある力、 ガラス原版と雄雌 同一のスタンパを用いることによって、 ス夕ンパの欠けを抑えることができる。 また本発明に係る平板型マイク口レンズによれば、 2枚のガラス基板にて挟ま れる領域に、 高屈折率樹脂材料と低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類 の樹脂材料の境界面は微小球面または微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列 された平板型マイク口レンズの前記高屈折率樹脂材料として、 特定のものを用い たことで、 1 8 0 °C以上の高温に晒されてもレンズ部の変形を防止でき、 透明度 を維持した平板型マイク口レンズとすることができる。 産業上の利用可能性
本発明に係る平板型マイクロレンズの製造方法及び平板型マイクロレンズは、 プロジュクタテレビジョン （P T V ) に組み込まれる液晶表示素子の製造に寄与 し得る。

Claims

1 . 第 1及び第 2のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率樹脂材 料と低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は微小球 面または微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイク口レンズ の製造方法であって、 この製造方法は以下の第 1工程〜第 6工程からなることを 特徴とする平板型マイクロレン π青ズの製造方法。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスのクを介して湿式エッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 荦
板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマスクを介 さずに再度湿式ェッチングを行うことで、 多数の微小凹部を稠密状に配列せしめ J 禾王 o
(第 3工程）
第 2工程で形成された稠密状に配列された微小凹部を有する成形型となるガラ ス基板の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性或いは熱硬化性の高屈折率樹 脂材料を塗布する工程。
(第 4工程）
第 3工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 5工程）
第 4工程で硬化せしめた高屈折率樹脂材料と第 1のガラス基板とを成形型とな るガラス基板から剥離し、 第 1のガラス基板上の硬化した高屈折率樹脂材料層の 上に低屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 6工程）
第 5工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
2 . 第 1及び第 2のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率樹脂材 料と低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は多数の 微小球面または微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイク口 レンズの製造方法であつて、 この製造方法は以下の第 1工程〜第 7工程からなる ことを特徴とする平板型マイク口レンズの製造方法。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスクを介して湿式エッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマスクを介 さずに再度湿式エッチングを行うことで、 多数の微小凹部を稠密状に配列せしめ 禾王 o
(第 3工程）
第 2工程で形成された成形型となるガラス基板の稠密状に配列された多数の微 小凹部を有する表面形状をニッケル等からなる反転型に転写する工程。
(第 4工程）
第 3工程で作製した反転型の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性或いは 熱硬化性の低屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 5工程）
第 4工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 6工程）
第 5工程で硬化せしめた低屈折率樹脂材料と第 2のガラス基板とを反転型から 剥離し、 第 2のガラス基板上の硬化した低屈折率樹脂材料層の上に高屈折率樹脂 材料を塗布する工程。
(第 Ί工程）
第 6工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
3 . 第 1及び第 2のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率樹脂材料 と低屈折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は多数の微 小球面または微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイクロレ ンズの製造方法であつて、 この製造方法は以下の第 1工程〜第 8工程からなるこ とを特徴とする平板型マイクロレンズの製造方法。
(第 1工程）
成形型となるガラス基板の表面にマスクを介して湿式エッチングを行うことで、 球面状または円筒面状をなす多数の微小凹部を 1次元または 2次元的にガラス基 板の表面に形成する工程。
(第 2工程）
第 1工程で多数の微小凹部が形成された成形型となるガラス基板の表面にマス クを介さずに再度湿式エッチングを行うことで、 微小凹部を稠密状に配列せしめ
Oェ饪
(第 3工程）
第 2工程で形成された成形型となるガラス基板の稠密状に配列された多数の微 小凹部を有する表面形状をニッケル等からなる第 1の反転型に転写する工程。
(第 4工程）
第 3工程で作製した第 1の反転型の表面形状を二ッケル等からなる第 2の反転 型に転写する工程。
(第 5工程）
第 4工程で作製した第 2の反転型の表面に離型剤を塗布し、 その上に光硬化性 或 、は熱硬化性の高屈折率樹脂材料を塗布する工程。
(第 6工程）
第 5工程で塗布した高屈折率樹脂材料の上に第 1のガラス基板を重ね、 高屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 高屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
(第 7工程）
第 6工程で硬化せしめた高屈折率樹脂材料と第 1のガラス基板とを第 2の反転 型から剥離し、 第 1のガラス基板上の硬化した高屈折率樹脂材料層の上に低屈折 率樹脂材料を塗布する土程。
(第 8工程） 第 Ί工程で塗布した低屈折率樹脂材料の上に第 2のガラス基板を重ね、 低屈折 率樹脂材料を展開せしめた後、 低屈折率樹脂材料を硬化せしめる工程。
4. 2枚のガラス基板にて挟まれる領域に、 高屈折率樹脂材料と低屈 折率樹脂材料とが積層され、 これら 2種類の樹脂材料の境界面は微小球面または 微小円筒面が 1次元または 2次元的に配列された平板型マイクロレンズにおいて、 前記高屈折率樹脂材料は、 チオール結合 （R— S— Η) を有する樹脂、 スルフィ ド結合 （R— S—R' ) を有する樹脂または一般式 （R' -S -R-S -R-S -R' ) で表わされる樹脂を主剤とすることを特徴とする平板型マイクロレンズ c ただし、 Sはィォゥ、 Ηは水素、 Rは環状不飽和炭化水素、 環状飽和炭化水素、 直鎖状不飽和炭化水素、 直鎖状飽和炭化水素のいずれか、 R' はァクリロイル基、 メタクリロイル基、 エポキシ基、 ィソシァネ一卜基、 ァミノ基、 ァシル基、 カル ボキシル基、 アルコキシリル基、 ビニル基を有する有機化合物のいずれかである c
5. 請求項 4に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記高屈折率 樹脂材料を構成する主剤は、 以下の （化 1) 〜 （化 9) で示す構造式のモノマー を出発原料とする重合体であることを特徴とする平板型マイクロレンズ。
(化 1)
排
ビス [4一（2,3—エポキシプロピルチオ）フヱニル]スルフィ ド
(化 2)
H3C
H2C = C一 C一 S CH2
o
Figure imgf000021_0001
(硬化後の屈折率 = 1.659) 20
(化 3)
X
C H2= C— C S— C H2 C H2+nN C 0
II
0
(Xは水素原子またはメチル基を表わし、 nは 0〜2の整数）
(化 4)
Rr~0— C一 Y— C一 0— R，
II II
0 0
式中 R,は、 CH2 = CH— @一 CH2—, CHz-CHCOOCHsCH "または CH2=C(CH3)COOCH2CH?—を示し、 Yは、 一 R2— S— R2— または一 R广 Sや R2ZW¾— S一 R2— (但し R2は、
アルキレン基を示し、 Zは、 酸素原子または硫黄原子を示す。
また mは 0~3の整数を表わす）
(化 5)
CH2 CfHCH2"nS— CH = CH2
CH2= CH~S-fCH2^„CH CH2
(nは 1、 2または 3)
(化 6)
0
(CH2= CH II
一 CH2OC— R - S - +2S
(式中 Rは、一 C H2—，一 C H2 C H2— .一 C H ( C H3 ) C H2—を示す） 2
(化 7)
CH,
CH2= C— C一 S— CH2CH2— S— C一 C CH,
II II
0 O
(化 8)
CH3
CH?= CCOOSCH2CH2SC6HB
(化 9)
CH3 CHA
CH2= C--C— S— X— S-C-C = CH
II II
O 0
6. 請求項 4に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記低屈折率 樹脂材料はフッ素系樹脂、 ァクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂のいずれかであ ることを特徴とする平板型マイクロレンズ。
7. 請求項 4または請求項 5に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記ガラス基板と高屈折率樹脂材料、 ガラス基板と低屈折率樹脂材料、 高屈折率 樹脂材料と低屈折率樹脂材料のいずれかの境界面は力ップリング剤にて結合して いることを特徴とする平板型マイクロレンズ。
8. 請求項 7に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記カツプリ ング剤は、 ァーグリシドプロピル卜リメ トキシシランまたはァ一メルカプトプロ ピルトリメ トキシシランであることを特徴とする平板型マイク口レンズ。
9. 請求項 4または請求項 5に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記高屈折率樹脂材料はチォール系硬化剤を含有することを特徴とする平板型マ イクロレンズ。
10. 請求項 9に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記チオール 系硬化剤は、 以下の （ィ匕 10) で示されるペンタエリスリ トールテトラキスチォ プロピオネート、 または以下の （ィ匕 11) で示される トリヒ ドロキシェチルイソ シァネ一卜 /3メルカプトプロピオン酸であることを特徴とする平板型マイクロレ ンズ。
(化 10)
( HSCH2CH2COOCH2)4C
(化 1 1)
0
!1
HSCH2CH2 2CH2SH SH
Figure imgf000024_0001
1 1. 請求項 9または請求項 10に記載の平板型マイクロレンズにおい て、 前記チオール系硬化剤の他に硬化促進剤を含有することを特徴とする平板型 マイクロレンズ。
12. 請求項 11に記載の平板型マイクロレンズにおいて、 前記硬化促 進剤は、 以下の （化 12) で示されるジブチルチンジラウレ一卜であることを特 徴とする平板型マイクロレンズ。
(化 12)
[CH2(CH2)3]2Sn[OOC(CH2)10CH3]2
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001166167A (ja) * 1999-12-10 2001-06-22 Toppan Printing Co Ltd 光配線層及びその製造方法並びに光・電気配線基板及びその製造法並びに実装基板
WO2003050573A1 (en) * 2001-12-06 2003-06-19 Ball Semiconductor, Inc. Microlens array fabrication
EP1151796A3 (en) * 2000-04-27 2004-03-31 Sony Corporation Immersion lens, optical system incorporating same, method of production of same, and mold for production of same
WO2008090640A1 (ja) 2007-01-23 2008-07-31 Fujifilm Corporation オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子
WO2008138732A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2402315A1 (en) 2007-05-11 2012-01-04 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
WO2013083505A1 (en) 2011-12-07 2013-06-13 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2013167515A1 (en) 2012-05-09 2013-11-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2015004565A1 (en) 2013-07-08 2015-01-15 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2015036910A1 (en) 2013-09-10 2015-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
TWI666470B (zh) * 2017-07-06 2019-07-21 奇景光電股份有限公司 用於製造高垂度透鏡陣列的方法
WO2020152120A1 (en) 2019-01-23 2020-07-30 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
WO2021175855A1 (en) 2020-03-04 2021-09-10 Basf Se Oxime ester photoinitiators

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7092165B2 (en) * 2000-07-31 2006-08-15 Corning Incorporated Microlens arrays having high focusing efficiency
JP2002062818A (ja) * 2000-08-16 2002-02-28 Sony Corp マイクロレンズおよび画像表示装置の製造方法
ATE408850T1 (de) 2001-04-10 2008-10-15 Harvard College Mikrolinse zur projektionslithographie und ihr herstellungsverfahren
US6825985B2 (en) 2001-07-13 2004-11-30 Mems Optical, Inc. Autostereoscopic display with rotated microlens and method of displaying multidimensional images, especially color images
JP2003287604A (ja) 2002-03-27 2003-10-10 Japan Science & Technology Corp 光学レンズの製造方法および光ファイバコネクタの製造方法
US7329611B2 (en) * 2002-04-11 2008-02-12 Nec Corporation Method for forming finely-structured parts, finely-structured parts formed thereby, and product using such finely-structured part
JP4231702B2 (ja) * 2003-01-17 2009-03-04 日東電工株式会社 マイクロレンズアレイ
JP2005062692A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> カラー表示装置、光学素子、およびカラー表示装置の製造方法
EP1671173A4 (en) * 2003-09-22 2009-12-30 Gene Dolgoff OMNIDIRECTIONAL LENS AND BARRIER GRAPHIC IMAGE DISPLAY
US7094304B2 (en) 2003-10-31 2006-08-22 Agilent Technologies, Inc. Method for selective area stamping of optical elements on a substrate
US7189591B2 (en) * 2003-12-19 2007-03-13 Nitto Denko Corporation Process for producing light-emitting semiconductor device
CN1638585A (zh) * 2003-12-26 2005-07-13 日东电工株式会社 电致发光装置，平面光源和使用该平面光源的显示器
JP3788800B2 (ja) * 2003-12-26 2006-06-21 セイコーエプソン株式会社 エッチング方法
US20050208432A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-22 Sharp Laboratories Of America, Inc. Methods of forming a microlens array over a substrate
US20050211665A1 (en) * 2004-03-26 2005-09-29 Sharp Laboratories Of America, Inc. Methods of forming a microlens array
US7029944B1 (en) * 2004-09-30 2006-04-18 Sharp Laboratories Of America, Inc. Methods of forming a microlens array over a substrate employing a CMP stop
US7829965B2 (en) * 2005-05-18 2010-11-09 International Business Machines Corporation Touching microlens structure for a pixel sensor and method of fabrication
DE102005046570B4 (de) * 2005-10-01 2010-01-21 Schott Ag Unterseitig beschichtete Glaskeramikplatte
JP4835165B2 (ja) * 2006-01-18 2011-12-14 日立化成工業株式会社 金属反射膜を有する拡散反射層の開口部形成方法
JP5352956B2 (ja) * 2006-02-14 2013-11-27 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、液晶装置の製造方法、プロジェクタ及び電子機器
US7612319B2 (en) * 2006-06-09 2009-11-03 Aptina Imaging Corporation Method and apparatus providing a microlens for an image sensor
JP5176204B2 (ja) * 2008-04-07 2013-04-03 Ｎｌｔテクノロジー株式会社 液晶パネル及びその製造方法
JP2009292089A (ja) * 2008-06-06 2009-12-17 Nitto Denko Corp 成形型及びそれを用いて成形したマイクロレンズ
JP2012529069A (ja) * 2009-06-02 2012-11-15 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト・ツール・フェルデルング・デル・アンゲヴァンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェライン レンズ及びその製造方法
TWM405579U (en) * 2010-12-13 2011-06-11 Everphoton Energy Corp lens
JP2012230289A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Seiko Epson Corp アレイ基板の製造方法及びアレイ基板並びにスクリーンの製造方法及びスクリーン
JP6044936B2 (ja) 2013-04-24 2016-12-14 Ｓｈマテリアル株式会社 半導体素子搭載用基板の製造方法
JP6588263B2 (ja) * 2015-07-16 2019-10-09 デクセリアルズ株式会社 拡散板、表示装置、投影装置及び照明装置
US20210197506A1 (en) * 2019-12-31 2021-07-01 Semiconductor Components Industries, Llc Microlens device and related methods
KR20210121357A (ko) * 2020-03-27 2021-10-08 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치와 그의 제조 방법

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01167802A (ja) * 1987-12-24 1989-07-03 Hitachi Chem Co Ltd マイクロレンズアレーの製造方法
JPH03214101A (ja) * 1990-01-18 1991-09-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd 稠密充填レンズアレイ
JPH04323011A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Victor Co Of Japan Ltd 蠅の目レンズ板のスタンパの製作方法
JPH05228946A (ja) * 1992-02-21 1993-09-07 Kuraray Co Ltd 光学部品の製造法および光学部品複製用母型
JPH06256459A (ja) * 1993-03-02 1994-09-13 Hoya Corp 光学材料用重合体及びその製造方法
JPH06300902A (ja) * 1993-04-14 1994-10-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型レンズアレイ及びそれを用いた光学表示パネル
JPH0743502A (ja) * 1993-07-29 1995-02-14 Toray Ind Inc マイクロレンズアレイシートおよびそれを用いた液晶ディスプレイ
JPH07225303A (ja) * 1993-12-16 1995-08-22 Sharp Corp マイクロレンズ基板及びそれを用いた液晶表示素子ならびに液晶プロジェクタ装置
JPH07235075A (ja) * 1994-02-23 1995-09-05 Dainippon Printing Co Ltd 光ヘッド用回折格子とその作製方法
JPH08179299A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子
JPH08274359A (ja) * 1995-03-30 1996-10-18 Washi Kosan Kk 太陽電池
JPH08327986A (ja) * 1995-05-31 1996-12-13 Sharp Corp マイクロレンズ基板の製造方法及びマイクロレンズ基板を用いた液晶表示素子
JPH0925321A (ja) * 1995-05-31 1997-01-28 Essilor Internatl (Cie Gen Opt) チオ（メタ）アクリレート モノマーを主体とする重合性組成物、得られた透明なポリマー組成物およびその光学素子への応用
JPH0938998A (ja) * 1986-12-15 1997-02-10 Mitsui Toatsu Chem Inc 含硫ウレタン樹脂製レンズの注型重合方法
JPH0943404A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 微小凹部付きガラス基板及びこのガラス基板を用いた平板型マイクロレンズアレイ
JPH0943587A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 液晶表示装置
JPH09152510A (ja) * 1995-09-25 1997-06-10 Mitsubishi Chem Corp 低複屈折光学部材及びその製造方法
JPH09292502A (ja) * 1996-04-24 1997-11-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズ
JPH1039111A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズ
JPH1039112A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズの製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0777733B2 (ja) 1986-12-15 1995-08-23 三井東圧化学株式会社 含硫ウレタン樹脂製レンズの注型重合方法
JP3035851B2 (ja) 1988-08-02 2000-04-24 オムロン株式会社 光学装置
US5114513A (en) 1988-10-27 1992-05-19 Omron Tateisi Electronics Co. Optical device and manufacturing method thereof
JPH02116809A (ja) 1988-10-27 1990-05-01 Omron Tateisi Electron Co 光結合器
US5225935A (en) * 1989-10-30 1993-07-06 Sharp Kabushiki Kaisha Optical device having a microlens and a process for making microlenses
US5230990A (en) * 1990-10-09 1993-07-27 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Method for producing an optical waveguide array using a resist master
JP3214101B2 (ja) 1992-10-16 2001-10-02 日本ケミコン株式会社 ローラ組立体の測定方法および装置
CO4520280A1 (es) 1993-10-26 1997-10-15 Boehringer Ingelheim Pharma Derivados de pirrolidina, inhibidores de la bioscientesis de leucotrienos
JPH08134064A (ja) 1994-11-10 1996-05-28 Takasago Internatl Corp 新規クラウンチオエーテルおよびその遷移金属錯体並びにこれを用いる不斉ヒドロシリル化方法
JPH08221828A (ja) 1995-02-17 1996-08-30 Washi Kosan Kk 低反射面を有する光記録担体
JPH09211842A (ja) 1996-02-08 1997-08-15 Washi Kosan Kk 光学的手段を用いた電子回路形成における光反射防止方法及びその装置とその製品
JP4030601B2 (ja) 1995-08-31 2008-01-09 ワシ興産株式会社 眼鏡用樹脂レンズの成形用スタンパ
WO1996025677A1 (fr) 1995-02-17 1996-08-22 Washi Kosan Co., Ltd. Structure de surface convexe d'un grain ultra-fin
US5990992A (en) * 1997-03-18 1999-11-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Image display device with plural planar microlens arrays
JPH11123771A (ja) * 1997-10-22 1999-05-11 Micro Opt:Kk 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法
JP3932690B2 (ja) * 1998-09-17 2007-06-20 オムロン株式会社 レンズアレイ基板の製造方法
JP2001155201A (ja) * 1999-11-25 2001-06-08 Yazaki Corp 運行記録計用記録紙
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2001088148A (ja) * 2000-08-24 2001-04-03 Omron Corp スタンパ及びそれを用いたマイクロレンズアレイの製造方法

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0938998A (ja) * 1986-12-15 1997-02-10 Mitsui Toatsu Chem Inc 含硫ウレタン樹脂製レンズの注型重合方法
JPH01167802A (ja) * 1987-12-24 1989-07-03 Hitachi Chem Co Ltd マイクロレンズアレーの製造方法
JPH03214101A (ja) * 1990-01-18 1991-09-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd 稠密充填レンズアレイ
JPH04323011A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Victor Co Of Japan Ltd 蠅の目レンズ板のスタンパの製作方法
JPH05228946A (ja) * 1992-02-21 1993-09-07 Kuraray Co Ltd 光学部品の製造法および光学部品複製用母型
JPH06256459A (ja) * 1993-03-02 1994-09-13 Hoya Corp 光学材料用重合体及びその製造方法
JPH06300902A (ja) * 1993-04-14 1994-10-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型レンズアレイ及びそれを用いた光学表示パネル
JPH0743502A (ja) * 1993-07-29 1995-02-14 Toray Ind Inc マイクロレンズアレイシートおよびそれを用いた液晶ディスプレイ
JPH07225303A (ja) * 1993-12-16 1995-08-22 Sharp Corp マイクロレンズ基板及びそれを用いた液晶表示素子ならびに液晶プロジェクタ装置
JPH07235075A (ja) * 1994-02-23 1995-09-05 Dainippon Printing Co Ltd 光ヘッド用回折格子とその作製方法
JPH08179299A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子
JPH08274359A (ja) * 1995-03-30 1996-10-18 Washi Kosan Kk 太陽電池
JPH0925321A (ja) * 1995-05-31 1997-01-28 Essilor Internatl (Cie Gen Opt) チオ（メタ）アクリレート モノマーを主体とする重合性組成物、得られた透明なポリマー組成物およびその光学素子への応用
JPH08327986A (ja) * 1995-05-31 1996-12-13 Sharp Corp マイクロレンズ基板の製造方法及びマイクロレンズ基板を用いた液晶表示素子
JPH0943404A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 微小凹部付きガラス基板及びこのガラス基板を用いた平板型マイクロレンズアレイ
JPH0943587A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 液晶表示装置
JPH09152510A (ja) * 1995-09-25 1997-06-10 Mitsubishi Chem Corp 低複屈折光学部材及びその製造方法
JPH09292502A (ja) * 1996-04-24 1997-11-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズ
JPH1039111A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズ
JPH1039112A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型マイクロレンズの製造方法

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4677651B2 (ja) * 1999-12-10 2011-04-27 凸版印刷株式会社 光配線層の製造方法、及び光・電気配線基板とその製造法、並びに実装基板
JP2001166167A (ja) * 1999-12-10 2001-06-22 Toppan Printing Co Ltd 光配線層及びその製造方法並びに光・電気配線基板及びその製造法並びに実装基板
EP1151796A3 (en) * 2000-04-27 2004-03-31 Sony Corporation Immersion lens, optical system incorporating same, method of production of same, and mold for production of same
WO2003050573A1 (en) * 2001-12-06 2003-06-19 Ball Semiconductor, Inc. Microlens array fabrication
WO2008090640A1 (ja) 2007-01-23 2008-07-31 Fujifilm Corporation オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子
WO2008138732A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2402315A1 (en) 2007-05-11 2012-01-04 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
WO2013083505A1 (en) 2011-12-07 2013-06-13 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2963016A1 (en) 2012-05-09 2016-01-06 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US10488756B2 (en) 2012-05-09 2019-11-26 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2963015A1 (en) 2012-05-09 2016-01-06 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11209733B2 (en) 2012-05-09 2021-12-28 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2963014A1 (en) 2012-05-09 2016-01-06 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2013167515A1 (en) 2012-05-09 2013-11-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9864273B2 (en) 2012-05-09 2018-01-09 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11209734B2 (en) 2012-05-09 2021-12-28 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP3354641A1 (en) 2012-05-09 2018-08-01 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11204554B2 (en) 2012-05-09 2021-12-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2015004565A1 (en) 2013-07-08 2015-01-15 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2015036910A1 (en) 2013-09-10 2015-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9957258B2 (en) 2013-09-10 2018-05-01 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US10793555B2 (en) 2013-09-10 2020-10-06 Basf Se Oxime ester photoinitiators
TWI666470B (zh) * 2017-07-06 2019-07-21 奇景光電股份有限公司 用於製造高垂度透鏡陣列的方法
WO2020152120A1 (en) 2019-01-23 2020-07-30 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
WO2021175855A1 (en) 2020-03-04 2021-09-10 Basf Se Oxime ester photoinitiators

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