JPH11123771A - 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法 - Google Patents
平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法Info
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- JPH11123771A JPH11123771A JP9289517A JP28951797A JPH11123771A JP H11123771 A JPH11123771 A JP H11123771A JP 9289517 A JP9289517 A JP 9289517A JP 28951797 A JP28951797 A JP 28951797A JP H11123771 A JPH11123771 A JP H11123771A
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- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 平板型マイクロレンズアレイの成形時に余分
な高屈折樹脂が食み出すことがないスタンパを提供す
る。 【解決手段】 成形面にレンズ部を成形する凹部群２を
形成するとともに全周に外端まで続く落し込み部３を形
成しこれをスタンパ１とする。次いで、離型剤４を塗布
した成形面の上に、高屈折樹脂５を塗布し、ガラス基板
６を前記高屈折樹脂５に押し付けて展開する。この操作
により、高屈折樹脂５は凹部群２内に充填されるととも
に、余分な高屈折樹脂５は落し込み部３内に収納され、
外部には食み出さない。
な高屈折樹脂が食み出すことがないスタンパを提供す
る。 【解決手段】 成形面にレンズ部を成形する凹部群２を
形成するとともに全周に外端まで続く落し込み部３を形
成しこれをスタンパ１とする。次いで、離型剤４を塗布
した成形面の上に、高屈折樹脂５を塗布し、ガラス基板
６を前記高屈折樹脂５に押し付けて展開する。この操作
により、高屈折樹脂５は凹部群２内に充填されるととも
に、余分な高屈折樹脂５は落し込み部３内に収納され、
外部には食み出さない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板の表面に
高屈折率樹脂からなる多数の凸レンズ部を成形するため
のスタンパと、このスタンパを用いた平板型マイクロレ
ンズアレイの製造方法に関する。
高屈折率樹脂からなる多数の凸レンズ部を成形するため
のスタンパと、このスタンパを用いた平板型マイクロレ
ンズアレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】平板型マイクロレンズアレイは、例え
ば、液晶表示素子の一部に組み込まれる。液晶表示素子
の構造を図７で説明すると、ガラス基板１０１，１０２
間にスペーサ１０３にて隙間を形成し、この隙間に液晶
１０４を充填し、ガラス基板１０１の液晶１０４側の面
には対向電極１０１ａを形成し、ガラス基板１０２の液
晶１０４側の面には透明画素電極１０２ａを形成し、更
に透明画素電極１０２ａ以外の部分は配線やＴＦＴ（薄
膜トランジスタ）等の照射光が透過しない部分となって
いる。
ば、液晶表示素子の一部に組み込まれる。液晶表示素子
の構造を図７で説明すると、ガラス基板１０１，１０２
間にスペーサ１０３にて隙間を形成し、この隙間に液晶
１０４を充填し、ガラス基板１０１の液晶１０４側の面
には対向電極１０１ａを形成し、ガラス基板１０２の液
晶１０４側の面には透明画素電極１０２ａを形成し、更
に透明画素電極１０２ａ以外の部分は配線やＴＦＴ（薄
膜トランジスタ）等の照射光が透過しない部分となって
いる。
【０００３】そして、ガラス基板１０１の外側面には平
板型マイクロレンズアレイ１０５を接合し、レンズ部１
０６で照射光を画素電極（画素開口部）１０２ａに集光
せしめてスクリーンに投影される像を明るくするように
している。
板型マイクロレンズアレイ１０５を接合し、レンズ部１
０６で照射光を画素電極（画素開口部）１０２ａに集光
せしめてスクリーンに投影される像を明るくするように
している。
【０００４】上記の平板型マイクロレンズアレイ１０５
を製造する方法の一例を図８に基づき説明する。先ず、
ガラス基板１１０の表面にエッチングにて凹部１１１を
形成し、次いで高屈折率樹脂１１２を塗布し、この高屈
折率樹脂１１２をスタンパ１１３でガラス基板１１０の
表面に押し広げて凹部１１１に高屈折率樹脂１１２を充
填するとともに高屈折率樹脂１１２を光硬化せしめて前
記レンズ部１０６とする。
を製造する方法の一例を図８に基づき説明する。先ず、
ガラス基板１１０の表面にエッチングにて凹部１１１を
形成し、次いで高屈折率樹脂１１２を塗布し、この高屈
折率樹脂１１２をスタンパ１１３でガラス基板１１０の
表面に押し広げて凹部１１１に高屈折率樹脂１１２を充
填するとともに高屈折率樹脂１１２を光硬化せしめて前
記レンズ部１０６とする。
【０００５】しかしながら、上記の方法にて平板型マイ
クロレンズアレイを製造する場合、余分な高屈折率樹脂
がガラス基板から食み出した状態で硬化してしまう。す
ると、平板型マイクロレンズアレイ自体の寸法が大きく
なり、他の部材に接合したり、組み付ける際の寸法が合
わなくなる不利がある。また、裏面側に高屈折率樹脂が
廻り込むと、平板型マイクロレンズアレイの性能面で問
題が生じる。更に、大寸法のガラス基板から複数個の平
板型マイクロレンズアレイを切り出す多面取りの場合に
は、高屈折率樹脂はガラス基板の一面全体に塗布され皮
膜となっているので、ガラス基板を各平板型マイクロレ
ンズアレイ毎に切断する際に、ガラス基板の表面に形成
されている高屈折率樹脂の膜が剥離したり、切断時にマ
イクロレンズアレイの表面に傷がついたりする。
クロレンズアレイを製造する場合、余分な高屈折率樹脂
がガラス基板から食み出した状態で硬化してしまう。す
ると、平板型マイクロレンズアレイ自体の寸法が大きく
なり、他の部材に接合したり、組み付ける際の寸法が合
わなくなる不利がある。また、裏面側に高屈折率樹脂が
廻り込むと、平板型マイクロレンズアレイの性能面で問
題が生じる。更に、大寸法のガラス基板から複数個の平
板型マイクロレンズアレイを切り出す多面取りの場合に
は、高屈折率樹脂はガラス基板の一面全体に塗布され皮
膜となっているので、ガラス基板を各平板型マイクロレ
ンズアレイ毎に切断する際に、ガラス基板の表面に形成
されている高屈折率樹脂の膜が剥離したり、切断時にマ
イクロレンズアレイの表面に傷がついたりする。
【０００６】そこで、本出願人は特願平７−２４４２８
８号として、図９に示すように、凹部１１１の外側に凹
部を囲むように溝部１１３を形成し、余分な高屈折率樹
脂を溝部１１３で受ける提案をした。
８号として、図９に示すように、凹部１１１の外側に凹
部を囲むように溝部１１３を形成し、余分な高屈折率樹
脂を溝部１１３で受ける提案をした。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】特願平７−２４４２８
８号に開示される方法で問題となるのは、平板型レンズ
アレイとなるガラス基板自体に、エッチングを施してい
るため、高屈折率樹脂を塗布する前に毎回ガラス基板に
エッチングを施さなければならない。
８号に開示される方法で問題となるのは、平板型レンズ
アレイとなるガラス基板自体に、エッチングを施してい
るため、高屈折率樹脂を塗布する前に毎回ガラス基板に
エッチングを施さなければならない。
【０００８】また、図９にも示すように、溝部１１３は
凹部１１１の成形と同時にエッチングにて成形するた
め、その深さは凹部１１１と等しい。その結果、溝部１
１３の容積が不足し、全周ではないが部分的に余分な高
屈折率樹脂を収容しきれなくなる場合がある。
凹部１１１の成形と同時にエッチングにて成形するた
め、その深さは凹部１１１と等しい。その結果、溝部１
１３の容積が不足し、全周ではないが部分的に余分な高
屈折率樹脂を収容しきれなくなる場合がある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明に係る平板型マイクロレンズアレイ製造用スタン
パは、その成形面にはレンズ部を成形する凹部群がエッ
チングによって形成され、更にスタンパの成形面のレン
ズ部外周には前記凹部と略同一深さで少なくとも前記ガ
ラス基板が接合される領域の外側まで続く落し込み部が
エッチングによって形成された構成とした。このような
構成とすることで、落し込み部の容積を十分大きくする
ことができ、高屈折率樹脂の食み出しを有効に防止でき
る。
本発明に係る平板型マイクロレンズアレイ製造用スタン
パは、その成形面にはレンズ部を成形する凹部群がエッ
チングによって形成され、更にスタンパの成形面のレン
ズ部外周には前記凹部と略同一深さで少なくとも前記ガ
ラス基板が接合される領域の外側まで続く落し込み部が
エッチングによって形成された構成とした。このような
構成とすることで、落し込み部の容積を十分大きくする
ことができ、高屈折率樹脂の食み出しを有効に防止でき
る。
【００１０】ここで、スタンパを製造するには、マイク
ロレンズアレイ原盤の表面に電鋳法によってニッケルを
積層してこれをスタンパとするか、成形型となるガラス
基板の表面に湿式エッチングを行うことで、多数の微小
凹部を形成し、この微小凹部を形成したガラス基板の表
面に電鋳法によってニッケルを積層して反転型を形成
し、この反転型の微小凸部を形成した表面に電鋳法によ
ってニッケル等を積層してこれをスタンパとするか、或
いはガラス基板の表面に湿式エッチングを行うことで直
接形成する手段が考えられる。
ロレンズアレイ原盤の表面に電鋳法によってニッケルを
積層してこれをスタンパとするか、成形型となるガラス
基板の表面に湿式エッチングを行うことで、多数の微小
凹部を形成し、この微小凹部を形成したガラス基板の表
面に電鋳法によってニッケルを積層して反転型を形成
し、この反転型の微小凸部を形成した表面に電鋳法によ
ってニッケル等を積層してこれをスタンパとするか、或
いはガラス基板の表面に湿式エッチングを行うことで直
接形成する手段が考えられる。
【００１１】また、スタンパの成形面に複数ピース分の
マイクロレンズアレイに相当する凹部群が各ピース毎に
離れて成形された多面取り用のスタンパにあっては、各
凹部群の間に前記凹部と略同一深さの落し込み部を形成
する。
マイクロレンズアレイに相当する凹部群が各ピース毎に
離れて成形された多面取り用のスタンパにあっては、各
凹部群の間に前記凹部と略同一深さの落し込み部を形成
する。
【００１２】また、本発明に係る平板型マイクロレンズ
アレイ製造方法は、上記した落し込み部を形成したスタ
ンパを用いることを前提とし、このスタンパの離型剤を
塗布した成形面を上に向け、この成形面上に高屈折率樹
脂を塗布し、次いで、ガラス基板を高屈折率樹脂に押し
付けて展開せしめるとともに高屈折率樹脂を硬化せしめ
てレンズ部を成形し、この後、スタンパを離型して平板
型マイクロレンズアレイとし、また、離型したスタンパ
については成形面に離型剤を再度塗布し、次の成形に備
えるようにした。このような構成とすることで、高屈折
率樹脂の食み出しを防止しつつスタンパを製造するとき
にだけエッチングを施せばよいので、大幅に製造工程の
省略が可能になる。
アレイ製造方法は、上記した落し込み部を形成したスタ
ンパを用いることを前提とし、このスタンパの離型剤を
塗布した成形面を上に向け、この成形面上に高屈折率樹
脂を塗布し、次いで、ガラス基板を高屈折率樹脂に押し
付けて展開せしめるとともに高屈折率樹脂を硬化せしめ
てレンズ部を成形し、この後、スタンパを離型して平板
型マイクロレンズアレイとし、また、離型したスタンパ
については成形面に離型剤を再度塗布し、次の成形に備
えるようにした。このような構成とすることで、高屈折
率樹脂の食み出しを防止しつつスタンパを製造するとき
にだけエッチングを施せばよいので、大幅に製造工程の
省略が可能になる。
【００１３】ここで、平板型マイクロレンズアレイとな
るガラス基板としては、例えば、ソーダライムガラス、
アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリボロンシ
リケートガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラス及び
石英ガラス等が挙げられる。尚、これらガラス基板は、
スタンパの材料としても使用することができる。
るガラス基板としては、例えば、ソーダライムガラス、
アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリボロンシ
リケートガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラス及び
石英ガラス等が挙げられる。尚、これらガラス基板は、
スタンパの材料としても使用することができる。
【００１４】また、高屈折率樹脂としては、紫外線硬化
型または熱硬化性樹脂を用い、例えば、ポリエステル系
樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フォスファゼン
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。
型または熱硬化性樹脂を用い、例えば、ポリエステル系
樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フォスファゼン
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。
【００１５】スタンパの成形面に塗布する離型剤として
は、フッ素系化合物やシリコン系化合物が適当であり、
有機シリコン化合物としては、ポリシロキサン、クロル
シラン化合物、アルコキシシラン化合物、及びジシラザ
ン化合物などを主成分とし、且つ水、アルコールなどの
水溶性有機溶剤、炭化水素系有機溶剤、あるいはフッ素
系有機溶剤に溶解可能なものが望ましい。また、上記有
機シリコン化合物にフッ素を含有したものは、離型層の
表面張力が著しく低く、良好な離型性を示す。また、こ
れらは混合して用いてもよい。
は、フッ素系化合物やシリコン系化合物が適当であり、
有機シリコン化合物としては、ポリシロキサン、クロル
シラン化合物、アルコキシシラン化合物、及びジシラザ
ン化合物などを主成分とし、且つ水、アルコールなどの
水溶性有機溶剤、炭化水素系有機溶剤、あるいはフッ素
系有機溶剤に溶解可能なものが望ましい。また、上記有
機シリコン化合物にフッ素を含有したものは、離型層の
表面張力が著しく低く、良好な離型性を示す。また、こ
れらは混合して用いてもよい。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
スタンパを用いた成形方法を説明した図であり、先ず同
図（ａ）に示すように、電鋳法や湿式エッチングによっ
てスタンパ１を製造する。このスタンパ１の成形面には
レンズ部を成形する凹部群２が形成されるとともに、全
周に外端まで続く落し込み部３が形成されている。この
落し込み部３の深さは凹部群２と略等しくなっている。
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
スタンパを用いた成形方法を説明した図であり、先ず同
図（ａ）に示すように、電鋳法や湿式エッチングによっ
てスタンパ１を製造する。このスタンパ１の成形面には
レンズ部を成形する凹部群２が形成されるとともに、全
周に外端まで続く落し込み部３が形成されている。この
落し込み部３の深さは凹部群２と略等しくなっている。
【００１７】ここで、スタンパ１の製造方法の例を図２
及び図３に基づいて説明する。先ず、図２に示す方法
は、同図（ａ）に示すように基板３０表面に感光性膜３
１を形成し、次いで同図（ｂ）に示すように感光性膜に
電子ビームを照射してレンズ部３２と落し込み部３を成
形する凸部３２ａを形成してマイクロレンズアレイ原盤
を作製する。次いで同図（ｃ）に示すように、マイクロ
レンズアレイ原盤の表面に電鋳法によってニッケル３３
を積層し、更に同図（ｄ）に示すように積層体をマイク
ロレンズアレイ原盤から剥離してスタンパ１とする。
及び図３に基づいて説明する。先ず、図２に示す方法
は、同図（ａ）に示すように基板３０表面に感光性膜３
１を形成し、次いで同図（ｂ）に示すように感光性膜に
電子ビームを照射してレンズ部３２と落し込み部３を成
形する凸部３２ａを形成してマイクロレンズアレイ原盤
を作製する。次いで同図（ｃ）に示すように、マイクロ
レンズアレイ原盤の表面に電鋳法によってニッケル３３
を積層し、更に同図（ｄ）に示すように積層体をマイク
ロレンズアレイ原盤から剥離してスタンパ１とする。
【００１８】また、図３に示す方法は、同図（ａ）に示
すように、成形型となるガラス基板４０の表面にマスク
４１を介して湿式エッチングを行うことで、同図（ｂ）
に示すように、球面状または円筒面状をなす多数の微小
凹部４２と落し込み部４３を形成し、更に、同図（ｃ）
に示すように、マスクを介さずに再度湿式エッチングを
行うことで、微小凹部を稠密状に配列せしめ、次いで、
同図（ｄ）に示すように、微小凹部が稠密状に配列され
た表面に電鋳法にてニッケルを積層して反転型４４を形
成し、この反転型４４の表面に再度電鋳法にてニッケル
を積層することで、スタンパ１を得る。
すように、成形型となるガラス基板４０の表面にマスク
４１を介して湿式エッチングを行うことで、同図（ｂ）
に示すように、球面状または円筒面状をなす多数の微小
凹部４２と落し込み部４３を形成し、更に、同図（ｃ）
に示すように、マスクを介さずに再度湿式エッチングを
行うことで、微小凹部を稠密状に配列せしめ、次いで、
同図（ｄ）に示すように、微小凹部が稠密状に配列され
た表面に電鋳法にてニッケルを積層して反転型４４を形
成し、この反転型４４の表面に再度電鋳法にてニッケル
を積層することで、スタンパ１を得る。
【００１９】尚、スタンパ１としては、図３（ａ）〜
（ｃ）に示す工程にてガラス基板を材料としてスタンパ
を製造してもよい。
（ｃ）に示す工程にてガラス基板を材料としてスタンパ
を製造してもよい。
【００２０】以上の如くしてスタンパ１を用意したなら
ば、図１（ｂ）に示すように、スタンパ１の成形面に離
型剤４を塗布し、この離型剤４を塗布した成形面の上
に、同図（ｃ）に示すように、紫外線を照射することで
硬化する光硬化型の高屈折樹脂５または加熱により硬化
する高屈折樹脂５を塗布し、更に同図（ｄ）に示すよう
に、ガラス基板６を前記高屈折樹脂５に押し付けて展開
する。尚、ガラス基板６の高屈折樹脂５と接する面には
カップリング剤を予め塗布しておくことが好ましい。カ
ップリング剤としては、γ−グリシドプロピルトリメト
キシシランまたはγ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シランが挙げられる。また、高屈折率樹脂５の粘度は
０．１ポアズ〜１００ポアズが適当であり、気泡混入を
防止するには、樹脂の塗布を減圧環境下で行うのが有効
である。
ば、図１（ｂ）に示すように、スタンパ１の成形面に離
型剤４を塗布し、この離型剤４を塗布した成形面の上
に、同図（ｃ）に示すように、紫外線を照射することで
硬化する光硬化型の高屈折樹脂５または加熱により硬化
する高屈折樹脂５を塗布し、更に同図（ｄ）に示すよう
に、ガラス基板６を前記高屈折樹脂５に押し付けて展開
する。尚、ガラス基板６の高屈折樹脂５と接する面には
カップリング剤を予め塗布しておくことが好ましい。カ
ップリング剤としては、γ−グリシドプロピルトリメト
キシシランまたはγ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シランが挙げられる。また、高屈折率樹脂５の粘度は
０．１ポアズ〜１００ポアズが適当であり、気泡混入を
防止するには、樹脂の塗布を減圧環境下で行うのが有効
である。
【００２１】上記の操作により、高屈折樹脂５は凹部群
２内に充填されるとともに、余分な高屈折樹脂５は落し
込み部３内に収納され、外部には食み出さない。
２内に充填されるとともに、余分な高屈折樹脂５は落し
込み部３内に収納され、外部には食み出さない。
【００２２】そして、高屈折樹脂５を凹部群２内に充填
したならば、紫外線を照射し、高屈折樹脂５を硬化せし
めレンズ部７を成形する。スタンパ１の成形面には離型
剤が塗布され、ガラス基板６の高屈折樹脂５と接する面
にはカップリング剤が塗布されているので、レンズ部７
はガラス基板６に接合する。したがって、同図（ｅ）に
示すように、スタンパ１を離型すると、レンズ部７とガ
ラス基板６とが一体化した平板型マイクロレンズアレイ
１０が得られる。
したならば、紫外線を照射し、高屈折樹脂５を硬化せし
めレンズ部７を成形する。スタンパ１の成形面には離型
剤が塗布され、ガラス基板６の高屈折樹脂５と接する面
にはカップリング剤が塗布されているので、レンズ部７
はガラス基板６に接合する。したがって、同図（ｅ）に
示すように、スタンパ１を離型すると、レンズ部７とガ
ラス基板６とが一体化した平板型マイクロレンズアレイ
１０が得られる。
【００２３】一方、成形が終了したスタンパ１について
は、同図（ｆ）に示すように、成形面を洗浄した後、成
形面に再び離型剤を塗布し、次の成形を行う。このよう
に、スタンパ１を繰り返し使用することで、エッチング
は最初のスタンパ１を作製する時だけに必要となり、作
業工程が大幅に少なくなる。
は、同図（ｆ）に示すように、成形面を洗浄した後、成
形面に再び離型剤を塗布し、次の成形を行う。このよう
に、スタンパ１を繰り返し使用することで、エッチング
は最初のスタンパ１を作製する時だけに必要となり、作
業工程が大幅に少なくなる。
【００２４】図４（ａ）〜（ｃ）は本発明にて得られる
平板型マイクロレンズアレイの平面図であり、（ａ）は
稠密状六角形状タイプのレンズ、（ｂ）は稠密状四角形
状タイプのレンズ、（ｃ）はレンチキュラータイプのレ
ンズである。
平板型マイクロレンズアレイの平面図であり、（ａ）は
稠密状六角形状タイプのレンズ、（ｂ）は稠密状四角形
状タイプのレンズ、（ｃ）はレンチキュラータイプのレ
ンズである。
【００２５】図５は１枚のスタンパで複数枚の平板型マ
イクロレンズアレイを成形する実施例を説明した図であ
り、スタンパ１の各凹部群２の上に高屈折樹脂５を塗布
し、この高屈折樹脂５の上にガラス基板６を１枚づつ載
置して成形を行う。尚、図示はしないが、大寸法の１枚
のガラス基板６を切断して複数の平板型マイクロレンズ
アレイを製造する多面取りを図５に示したスタンパで実
施することもできる。
イクロレンズアレイを成形する実施例を説明した図であ
り、スタンパ１の各凹部群２の上に高屈折樹脂５を塗布
し、この高屈折樹脂５の上にガラス基板６を１枚づつ載
置して成形を行う。尚、図示はしないが、大寸法の１枚
のガラス基板６を切断して複数の平板型マイクロレンズ
アレイを製造する多面取りを図５に示したスタンパで実
施することもできる。
【００２６】以上の如くして得られた平板型マイクロレ
ンズアレイ１０を適用したのが、図６に示す液晶表示素
子である。液晶表示素子２０はガラス基板２１とガラス
基板２２とを間にスペーサ２３を介して接合することで
セルを作製し、このセルを構成するガラス基板２２に、
フッ素系樹脂、アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂等
からなる低屈折率樹脂２４を介して前記平板型マイクロ
レンズアレイ１０のレンズ形成面を接合し、この後、ガ
ラス基板２１とガラス基板２２との間の空間に液晶２５
を充填することで液晶表示素子２０が完成する。尚、ガ
ラス基板２１または２２の液晶２５側面には対向電極２
６が、ガラス基板２１の液晶２５側面には画素電極２７
が予め形成されている。
ンズアレイ１０を適用したのが、図６に示す液晶表示素
子である。液晶表示素子２０はガラス基板２１とガラス
基板２２とを間にスペーサ２３を介して接合することで
セルを作製し、このセルを構成するガラス基板２２に、
フッ素系樹脂、アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂等
からなる低屈折率樹脂２４を介して前記平板型マイクロ
レンズアレイ１０のレンズ形成面を接合し、この後、ガ
ラス基板２１とガラス基板２２との間の空間に液晶２５
を充填することで液晶表示素子２０が完成する。尚、ガ
ラス基板２１または２２の液晶２５側面には対向電極２
６が、ガラス基板２１の液晶２５側面には画素電極２７
が予め形成されている。
【００２７】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
成形毎にマイクロレンズアレイとなるガラス基板をエッ
チングする必要がなく、製造工程の大幅な簡略化が図れ
る。
成形毎にマイクロレンズアレイとなるガラス基板をエッ
チングする必要がなく、製造工程の大幅な簡略化が図れ
る。
【００２８】また、スタンパの全周に外端部まで続く落
し込み部を設けたので、成形時に余分な高屈折樹脂が食
み出すことがない。そして、余分な高屈折樹脂が食み出
すことがないので、多面取りの場合には、ガラス基板の
切断時に高屈折樹脂の被膜を同時に切断することがな
く、また１枚取りの場合には、ガラス基板とスタンパと
の間に治具の先端を挿入しやすいので、作業が楽にな
り、ガラス基板やスタンパを傷つける虞れがない。
し込み部を設けたので、成形時に余分な高屈折樹脂が食
み出すことがない。そして、余分な高屈折樹脂が食み出
すことがないので、多面取りの場合には、ガラス基板の
切断時に高屈折樹脂の被膜を同時に切断することがな
く、また１枚取りの場合には、ガラス基板とスタンパと
の間に治具の先端を挿入しやすいので、作業が楽にな
り、ガラス基板やスタンパを傷つける虞れがない。
【図１】（ａ）〜（ｅ）は本発明に係るスタンパを用い
た成形方法を説明した図
た成形方法を説明した図
【図２】スタンパ自体の製造法を説明した図
【図３】スタンパ自体の製造法の別例を説明した図
【図４】（ａ）〜（ｃ）は本発明にて得られる平板型マ
イクロレンズアレイの平面図
イクロレンズアレイの平面図
【図５】１枚のスタンパで複数枚の平板型マイクロレン
ズアレイを成形する実施例を説明した図
ズアレイを成形する実施例を説明した図
【図６】本発明に係る平板型マイクロレンズアレイを組
み込んだ液晶表示素子の断面図
み込んだ液晶表示素子の断面図
【図７】従来の液晶表示素子の断面図
【図８】従来の平板型マイクロレンズアレイの製造方法
を説明した図
を説明した図
【図９】従来の平板型マイクロレンズアレイの断面図
１…スタンパ、２…凹部群、３…落し込み部、４…離型
剤、５…高屈折樹脂、６…ガラス基板、１０…平板型マ
イクロレンズアレイ、２０…液晶表示素子。
剤、５…高屈折樹脂、６…ガラス基板、１０…平板型マ
イクロレンズアレイ、２０…液晶表示素子。
Claims (7)
- 【請求項１】 多数の凹部群に高屈折率樹脂を塗布した
後、その上に平板状のガラス基板を接合し、樹脂を凹部
群とガラス基板間に展開して硬化せしめるとともに剥離
することによって、ガラス基板表面に塗布した高屈折樹
脂材料を多数の凸部群に成形せしめる平板型マイクロレ
ンズアレイ製造用スタンパにおいて、このスタンパの成
形面にはレンズ部を成形する凹部群が転写若しくはエッ
チングによって形成され、更にスタンパの成形面のレン
ズ部外周には前記凹部と略同一深さで少なくとも前記ガ
ラス基板が接合される領域の外側まで続く落し込み部が
転写若しくはエッチングによって形成されていることを
特徴とする平板型マイクロレンズアレイ製造用スタン
パ。 - 【請求項２】 請求項１に記載の平板型マイクロレンズ
アレイ製造用スタンパにおいて、このスタンパは、マイ
クロレンズアレイ原盤の表面に電鋳法によってニッケル
等を積層して形成されることを特徴とする平板型マイク
ロレンズアレイ製造用スタンパ。 - 【請求項３】 請求項１に記載の平板型マイクロレンズ
アレイ製造用スタンパにおいて、このスタンパは、成形
型となるガラス基板の表面に湿式エッチングを行うこと
で、多数の微小凹部を形成し、この微小凹部を形成した
ガラス基板の表面に電鋳法によってニッケル等を積層し
て反転型を形成し、この反転型の微小凸部を形成した表
面に電鋳法によってニッケル等を積層再反転して形成さ
れることを特徴とする平板型マイクロレンズアレイ製造
用スタンパ。 - 【請求項４】 請求項１に記載の平板型マイクロレンズ
アレイ製造用スタンパにおいて、このスタンパは、ガラ
ス基板の表面に湿式エッチングを行うことで形成される
ことを特徴とする平板型マイクロレンズアレイ製造用ス
タンパ。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４に記載の平板型マ
イクロレンズアレイ製造用スタンパにおいて、このスタ
ンパの成形面には複数ピース分のマイクロレンズアレイ
に相当する凹部群が各ピース毎に離れて成形され、また
各凹部群の各レンズ部外周に前記凹部と略同一深さの落
し込み部が形成されていることを特徴とする平板型マイ
クロレンズアレイ製造用スタンパ。 - 【請求項６】 請求項１乃至請求項５に記載のスタンパ
を用いた平板型マイクロレンズアレイの製造方法におい
て、この製造方法は、離型剤を塗布したスタンパの成形
面を上に向け、この成形面上に高屈折率樹脂を塗布し、
次いで、ガラス基板を高屈折率樹脂に押し付けて展開せ
しめるとともに高屈折率樹脂を硬化せしめてレンズ部を
成形し、この後、スタンパを離型して平板型マイクロレ
ンズアレイとし、また、離型したスタンパについては成
形面に離型剤を再度塗布し、次の成形に備えることを特
徴とする平板型マイクロレンズアレイの製造方法。 - 【請求項７】 請求項５に記載のスタンパを用いた平板
型マイクロレンズアレイの製造方法において、この製造
方法は、各ピースの凹部群毎にガラス基板を１枚づつ用
意することを特徴とする平板型マイクロレンズアレイの
製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289517A JPH11123771A (ja) | 1997-10-22 | 1997-10-22 | 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法 |
| US09/176,191 US6129866A (en) | 1997-10-22 | 1998-10-21 | Stamper for use in forming planar micro-lens array and method for forming thereof |
| EP98308646A EP0911144A3 (en) | 1997-10-22 | 1998-10-22 | Stamper for use in forming planar micro-lens array and method of forming thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289517A JPH11123771A (ja) | 1997-10-22 | 1997-10-22 | 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11123771A true JPH11123771A (ja) | 1999-05-11 |
Family
ID=17744296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9289517A Pending JPH11123771A (ja) | 1997-10-22 | 1997-10-22 | 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6129866A (ja) |
| EP (1) | EP0911144A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11123771A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001042105A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| US6437918B1 (en) * | 1996-07-22 | 2002-08-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing flat plate microlens and flat plate microlens |
| JP2004504415A (ja) * | 2000-07-19 | 2004-02-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Ｕｖ光で開始するカチオン重合を実行することにより得られる複製品及び複製品の製造方法 |
| JP2005514484A (ja) * | 2002-01-11 | 2005-05-19 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 複製を製造する方法及び紫外線により開始される陽イオン重合を実行することによって得られる複製 |
| US6984436B2 (en) | 2000-07-18 | 2006-01-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Graded material and method for synthesis thereof and method for processing thereof |
| JP2007173806A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Asml Netherlands Bv | インプリントリソグラフィ |
| JP2010243548A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Seiko Epson Corp | レンズアレイとその製造方法、及びラインヘッド |
| KR101437532B1 (ko) * | 2012-10-17 | 2014-09-04 | 주식회사 엔엔피 | 마이크로 렌즈 어레이 제조 방법 |
| KR20170058923A (ko) * | 2014-09-24 | 2017-05-29 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 광학 유리요소를 생산하기 위한 방법 |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11326603A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-26 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに表示装置 |
| US6404555B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-06-11 | Seiko Epson Corporation | Micro lens array, method of fabricating the same and display |
| US6618201B2 (en) * | 1998-08-27 | 2003-09-09 | Seiko Epson Corporation | Micro lens array, method of fabricating the same, and display device |
| US6297911B1 (en) * | 1998-08-27 | 2001-10-02 | Seiko Epson Corporation | Micro lens array, method of fabricating the same, and display device |
| JP2000131506A (ja) * | 1998-10-26 | 2000-05-12 | Toshiba Corp | マイクロレンズアレイシート |
| JP3307364B2 (ja) * | 1999-05-11 | 2002-07-24 | 日本電気株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
| US6680900B1 (en) * | 1999-06-04 | 2004-01-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical-pickup slider, manufacturing method thereof, probe and manufacturing method thereof, and probe array and manufacturing method thereof |
| JP2001188107A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| JP2001201609A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-07-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板状マイクロレンズの製造方法及びこの方法で製造された平板状マイクロレンズ |
| JP3826720B2 (ja) * | 2000-04-25 | 2006-09-27 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズ基板の製造方法およびマイクロレンズ基板 |
| US6476971B1 (en) * | 2000-10-31 | 2002-11-05 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing a microlens array mold and a microlens array |
| WO2002060666A1 (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing article with specified surface shape |
| US6597510B2 (en) | 2001-11-02 | 2003-07-22 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for making optical devices including microlens arrays |
| EP1329432A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-07-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for producing aspherical structure, and aspherical lens array molding tool and aspherical lens array produced by the same method |
| US6700708B2 (en) | 2002-05-30 | 2004-03-02 | Agere Systems, Inc. | Micro-lens array and method of making micro-lens array |
| US20050041215A1 (en) * | 2003-07-04 | 2005-02-24 | Seiko Epson Corporation | Lens array, manufacturing method of lens array, illumination optical device, and projector |
| US7094304B2 (en) | 2003-10-31 | 2006-08-22 | Agilent Technologies, Inc. | Method for selective area stamping of optical elements on a substrate |
| US6950239B2 (en) * | 2004-01-08 | 2005-09-27 | Tang Yin S | Method for making micro-lens array |
| JP4503024B2 (ja) * | 2004-01-08 | 2010-07-14 | イン エス． タン | マイクロレンズアレイ |
| US20060131767A1 (en) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Eastman Kodak Company | Method for producing a microlens array |
| JP2006216456A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Seiko Instruments Inc | 有機電子デバイスの製造方法 |
| WO2006087744A1 (en) * | 2005-02-21 | 2006-08-24 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche - Infm Istituto Nazionale Per La Fisica Della Materia | A method of fabricating tridimensional micro- and nanostructures as well as optical element assembly having a tridimensional convex structure obtained by the method |
| US20070217019A1 (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-20 | Wen-Kuei Huang | Optical components array device, microlens array and process of fabricating thereof |
| US8141384B2 (en) * | 2006-05-03 | 2012-03-27 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making LED extractor arrays |
| JP4351229B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2009-10-28 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | 超音波探触子の製造方法 |
| US7963217B2 (en) * | 2007-07-10 | 2011-06-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for producing display panel |
| US7794633B2 (en) * | 2008-11-26 | 2010-09-14 | Aptina Imaging Corporation | Method and apparatus for fabricating lens masters |
| WO2010148573A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | Ether Precision, Inc. | Two-part glass lens |
| US8387230B2 (en) * | 2010-08-27 | 2013-03-05 | Transducerworks, Llc | Method of making an ultrasonic transducer system |
| US8997832B1 (en) | 2010-11-23 | 2015-04-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of fabricating micrometer scale components |
| JP2012230289A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-22 | Seiko Epson Corp | アレイ基板の製造方法及びアレイ基板並びにスクリーンの製造方法及びスクリーン |
| DE102011102350A1 (de) | 2011-05-24 | 2012-11-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optisches Element, optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung dieser |
| GB202019796D0 (en) * | 2020-12-15 | 2021-01-27 | Ams Sensors Singapore Pte Ltd | Manufacturing optical elements |
| US11587362B2 (en) | 2020-12-16 | 2023-02-21 | Lenovo (Singapore) Pte. Ltd. | Techniques for determining sign language gesture partially shown in image(s) |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3594457A (en) * | 1967-06-12 | 1971-07-20 | Polaroid Corp | Method of press forming birefringent transparent polyethylene terephthalate sheets |
| EP0426441B1 (en) * | 1989-10-30 | 1996-12-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | An optical device having a microlens and a process for making microlenses |
| US5225935A (en) * | 1989-10-30 | 1993-07-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical device having a microlens and a process for making microlenses |
| US5298366A (en) * | 1990-10-09 | 1994-03-29 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing a microlens array |
| US5300263A (en) * | 1992-10-28 | 1994-04-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making a microlens array and mold |
| US5439621A (en) * | 1993-04-12 | 1995-08-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making an array of variable focal length microlenses |
| JPH07225303A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-08-22 | Sharp Corp | マイクロレンズ基板及びそれを用いた液晶表示素子ならびに液晶プロジェクタ装置 |
| JPH07244288A (ja) * | 1994-03-03 | 1995-09-19 | Yazaki Corp | 液晶素子とその製法 |
| US5630902A (en) * | 1994-12-30 | 1997-05-20 | Honeywell Inc. | Apparatus for use in high fidelty replication of diffractive optical elements |
| JPH0990360A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-04-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板型マイクロレンズアレイの製造方法及びこの平板型マイクロレンズアレイを用いた液晶表示素子の製造方法 |
-
1997
- 1997-10-22 JP JP9289517A patent/JPH11123771A/ja active Pending
-
1998
- 1998-10-21 US US09/176,191 patent/US6129866A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-22 EP EP98308646A patent/EP0911144A3/en not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6437918B1 (en) * | 1996-07-22 | 2002-08-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing flat plate microlens and flat plate microlens |
| JP2001042105A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| US6984436B2 (en) | 2000-07-18 | 2006-01-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Graded material and method for synthesis thereof and method for processing thereof |
| JP2004504415A (ja) * | 2000-07-19 | 2004-02-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Ｕｖ光で開始するカチオン重合を実行することにより得られる複製品及び複製品の製造方法 |
| JP2005514484A (ja) * | 2002-01-11 | 2005-05-19 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 複製を製造する方法及び紫外線により開始される陽イオン重合を実行することによって得られる複製 |
| JP2007173806A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Asml Netherlands Bv | インプリントリソグラフィ |
| JP2010243548A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Seiko Epson Corp | レンズアレイとその製造方法、及びラインヘッド |
| KR101437532B1 (ko) * | 2012-10-17 | 2014-09-04 | 주식회사 엔엔피 | 마이크로 렌즈 어레이 제조 방법 |
| KR20170058923A (ko) * | 2014-09-24 | 2017-05-29 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 광학 유리요소를 생산하기 위한 방법 |
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