JP2005055452A - マイクロレンズアレイ及び電気光学装置並びにそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電気光学装置に付設されるマイクロレンズアレイの熱的変形に原因したセル厚むらを発生させないことで、高品質な画像を表示する。
【解決手段】マイクロレンズアレイは、例えば石英ガラスからなるベースガラス（３００´）と、これに対して負の膨張係数を有するアルミナシリケイトガラスからなる基板（３００）、更には、該基板にその外形形状が作り込まれたマイクロレンズ（５０１）と、前記ベースガラス及び基板の間に介在させた接着剤（Ｂ）とを備えている。そして、前記基板は研磨されており、前記ベースガラスに比べて非常に薄化されている。これにより、当該マイクロレンズアレイの熱的変形は、主に、ベースガラスの挙動に支配され、基板の挙動は無視しえることになるので、セル厚（ＣＧ）のむらが発生し難くなる。
【選択図】 図１１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばアクティブマトリクス駆動の液晶装置、電子ペーパなどの電気泳動装置、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置等の電気光学装置、及び、該電気光学装置に使用されて好適なマイクロレンズアレイの技術分野に属する。また、本発明は、これら電気光学装置及びマイクロレンズアレイそれぞれの製造方法の技術分野にも属する。
【０００２】
【背景技術】
マイクロレンズないしマイクロレンズアレイは、各種の光学機器に使用されている。このような光学機器としては例えば、代表的には、マトリクス状に配列された複数の電荷結合素子（ＣＣＤ；Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）を利用して外界の景色ないし風景を撮像することの可能なＣＣＤカメラを挙げることができる。また、素子基板及び対向基板間に液晶等の電気光学物質を備えるとともに、そのうちの素子基板上にマトリクス状に配列された複数の電極及びＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のスイッチング用素子を備えた構成を具備し、前記電極及びスイッチング用素子を利用して前記電気光学物質に対する電圧の印加制御を行うことで画像を表示することの可能な液晶表示装置等の電気光学装置等がある。
【０００３】
いずれにしても、マイクロレンズアレイを構成する一つ一つのマイクロレンズが、マトリクス状に配列された複数のＣＣＤ、あるいは複数の電極の一を単位とする画素に対応するように設けられることで、当該複数の画素、あるいは複数の電極に対して入射すべき光を集光することが可能となり、光の利用効率を高めることができることになる。このようなことにより、ＣＣＤカメラ等においては、取得される画像の画質向上に貢献し、液晶表示装置等においては、表示すべき画像の画質向上に貢献することになる。下記の特許文献１においては、マイクロレンズアレイを電気光学装置に適用した例が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１２２７０９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来におけるこのようなマイクロレンズアレイについては、次のような問題点がある。すなわち、上述のように、マイクロレンズアレイは電気光学装置の一例たる液晶表示装置に用いられるが、この場合、該液晶表示装置は、例えば前記素子基板及び対向基板間に液晶が挟持された構造を有するため、一般的には、前記マイクロレンズアレイを構成するガラス基板は、前記対向基板と対向するように接着剤を介して貼り合わされる構造が採用される。かかる構造では、マイクロレンズアレイは、前記ガラス基板及び対向基板並びに前記接着剤から構成されることになる（典型的には、ガラス基板及び対向基板のうち一方又は双方にマイクロレンズの外形形状が形作られる。）。また、この場合、対向基板は、マイクロレンズアレイを構成する基板として利用される他、電気光学装置を構成する基板としても利用され、両者の兼用となっている。
【０００６】
そして、このような場合、前記素子基板の熱膨張率と前記ガラス基板の熱膨張率が異なると、パネルとして組み立てた場合に、セル厚むらを発生させるおそれがあったのである。特に、マイクロレンズアレイを構成する２つの基板（即ち、ガラス基板と対向基板）の厚さに着目した場合、単に、ガラス基板と素子基板の熱膨張率の差を合わしても、完全には解消することができない。このようなセル厚むらは、液晶表示装置を投射型表示装置（液晶プロジェクタ）のライトバルブとして用いる場合には、画像上に色むらを発生させる原因となり、画質を劣化させてしまうおそれが多分にあった。
【０００７】
また、前記マイクロレンズアレイにおいて、よりよい集光特性を得るためには、前記のガラス基板の屈折率と前記接着剤の屈折率との差を大きく保つことが好ましい。具体的には例えば、前記ガラス基板として、屈折率の比較的大きいアルミナシリケイトガラスを使用するとよい。しかし、他方で、前記素子基板としては、液晶表示装置の製造工程中の高温プロセスに耐えるための材料、例えば石英ガラスが使用されることが好ましいのである。しかしながら、このような場合、アルミナシリケイトガラスは石英ガラスとは逆の負の膨張係数をもっている、換言すると、石英ガラスが熱的に膨張するときに、アルミナシリケイトガラスは収縮するということが生じうるため、これらを組み合わせる結果、マイクロレンズアレイを含む電気光学装置全体の熱的な変形が不自然になり、それが影響して前記セル厚むらを発生させる可能性が高まるおそれがあったのである。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、好適な集光特性を備えたマイクロレンズアレイを提供することを課題とし、特に、当該マイクロレンズアレイが液晶表示装置等の電気光学装置において適用される場合において、該電気光学装置の熱的変形に原因するセル厚むらを発生させず、また該セル厚むらに原因する画像上の色むらを発生させずに、高品質な画像を表示することの可能なマイクロレンズアレイ、及び、これを具備してなる電気光学装置を提供することを課題とする。また、本発明は、これらマイクロレンズアレイ及び電気光学装置それぞれの製造方法を提供することをも課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のマイクロレンズアレイは、上記課題を解決するため、第１基板と、該第１基板とは異なる熱膨張係数を有するとともに前記第１基板に比べて厚さの小さい第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に、その外形形状が作り込まれたマイクロレンズと、前記第１基板及び前記第２基板の間に介在させた接着剤とを備えてなり、前記第２基板の厚さは、前記第１基板の厚さの１／１０以下である。
【００１０】
本発明のマイクロレンズアレイによれば、第２基板の厚さは第１基板のそれよりも小さく、即ち具体的には前者が後者の１／１０以下とされている。したがって、前述のような第１基板及び第２基板間で熱的環境に応じた挙動の差異が生じたとしても、より厚さの大きい第１基板の挙動に、第２基板の挙動が支配されることになり、該第２基板の挙動は、マイクロレンズアレイ全体からみて大きな影響を及ぼさないことになる。比喩的にいうと、第２基板の挙動は、第１基板の挙動にいわば引っぱられるようなかたちでのみ観察されるだけということになる。
【００１１】
したがって、本発明によれば、第１基板及び第２基板間の挙動の差異に原因して、集光態様に乱れが生じたり、或いは前述したセル厚むらが発生することはなく、また、常に、好適な集光性能を発揮するマイクロレンズアレイを提供することができる。
【００１２】
なお、本発明にいう「マイクロレンズ」は、基本的に、どのような形態となるものを採用してもよく、具体的には、後述する発明の実施の形態においてマイクロレンズアレイの製造方法によって得られるようなものを利用することができる。また、「マイクロレンズの外形形状」とは、例えば、第２基板の表面に形成された凸状の突起部又は凹状の窪み部等の具体的な形状をいい、マイクロレンズは、かかるマイクロレンズの外形形状に加えて、該第２基板とは屈折率の異なる樹脂（例えば、本発明にいう「接着剤」でよい。）を併せもつことなどで構成されることになる。この場合、前記の突起部又は窪み部の輪郭部分で光は屈折することになり、所定の集光特性が発揮されることになる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズアレイの一態様では、前記第２基板の厚さは、１０〜１００〔μｍ〕である。
【００１４】
この態様によれば、第２基板が非常に薄いため、前記の作用効果はより効果的に享受されることになる。すなわち、この態様では、第２基板の熱的挙動は殆ど無視することができるから、前記セル厚むらを発生させるようなことがない。ちなみに、この場合において、第１基板の厚さが例えば１０００〔μｍ〕程度であれば、前記の作用効果はより効果的に享受し得る。
【００１５】
本発明のマイクロレンズアレイの他の態様では、前記第１基板は石英ガラスからなり、前記第２基板はアルミナシリケイトガラスからなる。
【００１６】
この態様によれば、第１基板が石英ガラスからなり、第２基板がアルミナシリケイトガラスからなるから、両者間の挙動の差異が現れやすい状況になっている。特に、この場合、第１基板が膨張しているのに、第２基板が収縮するという現象が現れる可能性がある。
【００１７】
しかるに、本発明においては、既に述べたように、マイクロレンズアレイ全体の挙動は、第１基板の挙動に支配されており、第２基板の挙動は無視しえるから、前記セル厚むらが発生する可能性は著しく低減されている。したがって、第１基板及び第２基板が前記のような好ましくない関係にある場合であっても、セル厚むら発生という不具合を被るおそれは殆どない。逆にいうと、かかる場合において、本発明に係る作用効果は、最も効果的に享受され得るということができる。
【００１８】
本発明のマイクロレンズアレイの他の態様では、当該マイクロレンズアレイにより集光されるべき光は、前記第１基板の側に入射し、前記第２基板の側から抜ける。
【００１９】
この態様によれば、例えば、液晶表示装置等の電気光学装置等に好適に利用することができる。
【００２０】
まず、マイクロレンズアレイといっても、一般的にはマイクロレンズの配列ピッチの相違等に応じて、具体的形状は種々のものが提案されている。ここで、マイクロレンズの配列ピッチは、該マイクロレンズアレイが設けられる装置の性質如何に左右される。例えば、液晶表示装置にマイクロレンズアレイを設置する場合には、前記配列ピッチは、当該液晶表示装置における画素ピッチにほぼ一致させる必要がある。
【００２１】
ところで、ここにいう画素ピッチは、例えば前記液晶表示装置が投射型表示装置に使用される場合等においては、一般に非常に小さい。具体的には、１０〜３０〔μｍ〕程度である。したがって、マイクロレンズアレイの配列ピッチもこれと同程度にする必要があるが、この場合、当該マイクロレンズにより結ばれる焦点は浅くならざるを得ない。そうすると、当該マイクロレンズの形成されている基板が厚いと、その焦点は、当該基板内で結ばれるということになり、該マイクロレンズの性能を十分に利用しているとはいえない状況が生じることになる。
【００２２】
しかるに、本態様においては、より薄い第２基板の側から光が出射するようになっているから、一般的に、前記のような不具合は生じにくい。つまり、マイクロレンズによって集光された光は、第２基板を抜けたところで焦点を結びやすくなるのである。これにより、当該マイクロレンズアレイの設置対象となる装置、例えば前記液晶表示装置でいえば、その液晶層内等において、前記の焦点が結ばれるということになるから、マイクロレンズの性能を如何なく享受することができるのである。
【００２３】
このように、本態様によれば、最も一般的にいえば、より小型な装置に好適に対応することが可能であり、具体的には、画素ピッチの小さい液晶表示装置等の電気光学装置に好適に対応することができるのである。
【００２４】
本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために、第１基板、該第１基板とは異なる熱膨張係数を有するとともに前記第１基板に比べて厚さの小さい第２基板、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に、その外形形状が作り込まれたマイクロレンズ、並びに、前記第１基板及び前記第２基板の間に介在させた接着剤を備えてなり、前記第２基板の厚さは、前記第１基板の厚さの１／１０以下であるマイクロレンズアレイと、前記第２基板に対向配置された第３基板と、前記第２基板及び前記第３基板間に封入された電気光学物質とを備えている。
【００２５】
本発明の電気光学装置によれば、前述の本発明のマイクロレンズアレイを具備してなるから、セル厚むらを原因とした色むら等の発生のない高品質な画像を表示することの可能な電気光学装置を提供することができる。なお、本態様にいう「第３基板」上には、例えば、走査線、データ線、画素スイッチング用素子及び画素電極等々を形成し、第２基板上には前記画素電極との間で所定の電界を生じさせるための対向電極等々を形成することが可能である。
【００２６】
本発明の電気光学装置の一態様では、第１基板と第３基板の熱膨張係数が同じである。この態様によれば、第１基板及び第３基板の熱膨張係数が同じであるから、一定の熱的環境下において、第１基板及び第３基板は同じ熱的変形挙動を示すこととなり、前記セル厚むらの発生を抑制することができる。
【００２７】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１基板と前記第３基板は、石英ガラスからなり、前記第２基板はアルミナシリケイトガラスからなる。
【００２８】
この態様によれば、第１基板及び前記第３基板が石英ガラスからなり、第２基板がアルミナシリケイトガラスからなるから、両者間の挙動の差異が現れやすい状況になっている。特に、この場合、第１基板及び前記第３基板が膨張しているのに、第２基板が収縮するという現象が現れる可能性がある。
【００２９】
しかるに、本発明においては、既に述べたように、マイクロレンズアレイを含む電気光学装置全体の挙動は、第１基板の挙動に支配されており、第２基板の挙動は無視しえるから、前記セル厚むらが発生する可能性は著しく低減されている。したがって、第１基板及び第２基板が前記のような好ましくない関係にある場合であっても、セル厚むら発生という不具合を被るおそれは殆どない。逆にいうと、かかる場合において、本発明に係る作用効果は、最も効果的に享受され得るということができる。
【００３０】
また、本態様では、第１基板及び第３基板は同じ石英ガラスからなるから、同じ熱的変形挙動を示すこととなり、これによっても、前記セル厚むらの発生を抑制することができる。
【００３１】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法は、上記課題を解決するために、一方の基板及び該一方の基板とは異なる熱膨張係数を有する他方の基板を貼り合わせてなるマイクロレンズアレイの製造方法であって、前記一方の基板にマイクロレンズの外形形状を形作る工程と、該工程の後に、前記一方の基板及び前記他方の基板間に接着剤を介在させて対向させ、これらを貼り合せる貼合工程と、前記一方の基板及び前記他方の基板の一方である研磨基板を研磨する研磨工程とを含む。
【００３２】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法によれば、一方の基板の熱膨張係数と他方の基板のそれとは異なっている。したがって、まず、本発明に係る製造方法により製造されたマイクロレンズアレイでは、一定の熱的環境の下においても、一方の基板及び他方の基板間で異なる挙動がみられるおそれがある。これによると、悪い場合には、背景技術の項で述べたようなセル厚むらの発生するおそれが大きい。
【００３３】
しかるに、本発明においては、一方の基板及び他方の基板の一方である研磨基板が研磨されるようになっているのである。したがって、一方の基板及び他方の基板間で熱的環境に応じた挙動の差異が生じたとしても、十分に厚みが大きい、研磨基板でない基板（以下、「ベース基板」という。）の挙動に、研磨基板の挙動が支配されることになり、該研磨基板の挙動は、マイクロレンズアレイ全体からみて大きな影響を及ぼさないことになる。比喩的にいうと、研磨基板の挙動は、ベース基板の挙動にいわば引っぱられるようなかたちでのみ観察されるだけということになる。
【００３４】
したがって、本発明によれば、一方の基板及び他方の基板間の挙動の差異に原因して、集光態様に乱れが生じたり、或いは前述したセル厚むらが発生することはなく、常に、好適な集光性能を発揮するマイクロレンズアレイを製造することができる。
【００３５】
なお、上記においては、「一方の基板にマイクロレンズの外形形状を形作る工程」が必須とされているが、本発明では、これに加えて、「他方の基板」にもマイクロレンズの外形形状を形作る工程を加えてもよい。
【００３６】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の一態様では、前記研磨基板と貼り合わされる基板の表面を研磨しても良い。すなわち、ベース基板の表面を研磨しても良い。
【００３７】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の一態様では、前記研磨工程では、前記研磨基板の厚さが１０〜１００〔μｍ〕に至るまで研磨が行われる。
【００３８】
この態様によれば、研磨基板が非常に薄くなるまで研磨されるため、前記の作用効果はより効果的に享受されることになる。すなわち、この態様では、研磨基板の熱的挙動は殆ど無視することができるから、前記セル厚むらを発生させるようなことがない。ちなみに、この場合において、ベース基板の厚さが例えば１０００〔μｍ〕程度であれば、前記の作用効果はより効果的に享受し得る。
【００３９】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の他の態様では、前記研磨工程では、前記研磨基板の厚さが、前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記研磨基板でないベース基板の厚さの１／１０以下に至るまで研磨が行われる。
【００４０】
この態様によれば、研磨基板が、ベース基板に比べて非常に薄くなるまで研磨されるため、前記の作用効果はより効果的に享受されることになる。すなわち、この態様では、研磨基板の熱的挙動は殆ど無視することができるから、前記セル厚むらを発生させるようなことがない。
【００４１】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の他の態様では、前記一方の基板及び前記他方の基板は一定の熱的環境の下において、一方が膨張し他方が収縮する関係にある。
【００４２】
この態様によれば、前述したような一方の基板及び他方の基板間の挙動の差異が最も好ましくない態様で現れるということができる。換言すれば、本態様においては、前記セル厚むらが非常に発生しやすい状況にあるということができる。
【００４３】
しかるに、本発明においては、既に述べたように、マイクロレンズアレイ全体の挙動は、ベース基板の挙動に支配されており、研磨基板の挙動は無視しえるから、セル厚むらが発生する可能性は著しく低減されている。したがって、研磨基板及びベース基板が前記のような好ましくない関係にある場合であっても、セル厚むら発生という不具合を被るおそれは殆どないのである。逆にいうと、かかる場合において、本発明に係る作用効果は、最も効果的に享受され得るということができる。
【００４４】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の他の態様では、前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記研磨基板はアルミナシリケイトガラスからなり、そうでない基板は石英ガラスからなる。
【００４５】
この態様によれば、研磨基板がアルミナシリケイトガラスからなり、そうでない基板、即ちベース基板が石英ガラスからなる。つまり、前記研磨工程において研磨の対象とされ、且つ、薄化されるのは、アルミナシリケイトガラスというということになる。この事情に関連して、本態様では次のような作用効果が得られる。
【００４６】
まず、アルミナシリケイトガラスは粘りやすい性質を有しており、一般的に研磨しにくい材料であるが、本態様によれば、そのような性質にもかかわらず研磨を好適に実施することができる。というのも、この研磨基板に対向配置されるのが、石英ガラスからなるベース基板だからである。まず第一に、研磨工程では、通常、研磨基板の表面と適当なパッド等とが当接され、両者は互いに回転しあう関係に置かれるから、熱が発生する。ここで、石英ガラスは、一般的に熱的に変化し難い材料であることから、前記の研磨時に発生する熱によって変形するということが殆どない。したがって、研磨基板たるアルミナシリケイトガラスからなる基板の研磨中に、これに対向配置されている石英ガラスからなる基板が熱的に変形するということがないから、研磨基板の位置ずれが引き起こされるなどという悪影響が出る可能性が小さい。
【００４７】
また第二に、石英ガラスは、一般的に硬度等の機械的強度の点でも優れている。具体的には、石英ガラスのヌープ硬度（荷重１００ｇ）は５９０〜６２０〔ｋｇ／ｍｍ^２〕及びヤング率は０．７４〔×１０^６ｋｇｆ／ｃｍ^２〕であるのに対して、アルミナシリケイトガラスのヌープ硬度（荷重１００ｇ）は５００〔ｋｇ／ｍｍ^２〕、ヤング率は０．９〔×１０^６ｋｇｆ／ｃｍ^２〕となっている。この点からも、石英ガラスを用いれば、研磨時における研磨面の面精度変化等が生じにくく、一度作られた研磨面の変化は起き難いということがいえる。
【００４８】
要するに、本態様によれば、石英ガラスからなるベース基板が、アルミナシリケイトガラスからなる研磨基板に対する、いわば「土台」ないし「治具」等として有効に機能することになるのである。したがって、本態様によれば、一般に研磨しにくい材料であるアルミナシリケイトガラスを研磨するにも関わらず、その研磨精度を比較的高レベルに維持する（具体的には、面内における厚み分布等の見当をとりやすい等）ことができる。
【００４９】
また、研磨基板とベース基板とが、それぞれ、アルミナシリケイトガラス及び石英ガラスからなる場合においては、マイクロレンズアレイの完成後、両者間の挙動の差異が現れやすい状況になっている。特に、この場合、ベース基板が膨張しているのに、研磨基板が収縮するという現象が現れる可能性がある。
【００５０】
しかるに、本発明においては、既に述べたように、マイクロレンズアレイ全体の挙動は、ベース基板の挙動に支配されており、研磨基板の挙動は無視しえるから、前記セル厚むらが発生する可能性は著しく低減されている。したがって、研磨基板及びベース基板が前記のような好ましくない関係にある場合であっても、セル厚むら発生という不具合を被るおそれは殆どないのである。逆にいうと、かかる場合において、本発明に係る作用効果は、最も効果的に享受され得るということができる。
【００５１】
なお、本態様の記載から逆に明らかとなるように、本発明にいう「一方の基板」及び「他方の基板」としては、石英ガラス及びアルミナシリケイトガラス以外の材料を利用しても構わないが、背景技術の項で述べたように、集光特性等の観点から、マイクロレンズの外形形状が形作られる基板と接着剤との屈折率の差を大きくする方が好ましいから、研磨基板にマイクロレンズの外形形状を形作るのであれば、少なくとも当該研磨基板は、本態様のように、比較的屈折率の大きいアルミナシリケイトガラス（屈折率ｎ_ｄ＝約１．５４）からなるものとするのが好ましい。
【００５２】
この態様では、前記接着剤は光硬化性樹脂を含み、当該マイクロレンズアレイの製造方法は、前記光硬化性樹脂を含む前記接着剤を硬化させるため、当該接着剤に対し、前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記石英ガラスからなる方から光を照射する工程を更に含む。
【００５３】
このような構成によれば、比較的強力な接着力を有する光硬化性樹脂を利用するため、一方の基板及び他方の基板を比較的強固に接着することが可能となる。
【００５４】
具体的には、次のような作用効果が得られる。
【００５５】
まず、光硬化性樹脂の中でも特に、取り扱い容易性等の観点から紫外線硬化樹脂が好ましく使用されている。この場合、当該接着剤を硬化させるために使用される光は、紫外線、具体的には好ましくは波長３５０〔ｎｍ〕程度の紫外線ということになる。しかしながら、アルミナシリケイトガラスは、概ね４００〔ｎｍ〕以下の波長の光は殆ど透過しない性質を有している。そうすると、アルミナシリケイトガラスを用いたマイクロレンズアレイでは、紫外線硬化樹脂をうまく硬化させることができず、一方の基板及び他方の基板間の接着を好ましく実施することができない。
【００５６】
しかるに、本態様によれば、アルミナシリケイトガラスに加えて、石英ガラスが用いられていることにより、前記紫外線をこの石英ガラスからなる基板の方から導入するようにすれば、紫外線硬化樹脂を用いたとしても、これに好適に硬化させることが可能となる。ちなみに、石英ガラスは、紫外線の透過に関し、特に障害となるような性質を有していない。
【００５７】
このように、本態様によれば、接着剤の好適な硬化を通じて、マイクロレンズアレイの製造を好適に実施することができるのである。
【００５８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記課題を解決するために、前述の本発明のマイクロレンズアレイの製造方法（但し、その各種態様を含む。）を含み、前記研磨工程の後に、前記研磨基板と第３基板との間に接着剤を介在させて対向させ、これら研磨基板及び第３基板を貼り合せる工程と、前記接着剤を硬化させる工程と、前記研磨基板と第３基板との間に電気光学物質を封入する工程とを含む。
【００５９】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、前述の本発明のマイクロレンズアレイの製造方法を含んで当該マイクロレンズアレイ付きの電気光学装置を製造することができるから、セル厚むらを原因とした色むら等の発生のない高品質な画像を表示することの可能な電気光学装置を製造することができる。なお、本態様にいう「第３基板」上には、例えば、走査線、データ線、画素スイッチング用素子及び画素電極等々を形成し、研磨基板には前記画素電極との間で所定の電界を生じさせるための対向電極等々を形成することが可能である。
【００６０】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【００６１】
【発明の実施の形態】
以下では、本発明の実施の形態について図を参照しつつ説明する。
【００６２】
（第１実施形態）
以下では、本発明の第１実施形態におけるマイクロレンズの製造方法について、図１ないし図３を参照して説明する。ここに図１及び図２は、第１実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法を、その順を追って示す製造工程断面図である。また、図３は、図１の工程（２）及び工程（３）において成膜されるレジスト膜に形成される開口部の態様を示す平面図である。なお、以下で参照する図面においては、各要素（例えば、図１の工程（３）における各レジスト膜（の配置間隔）と基板（の厚さ）等々）が各図面上で認識可能となるように、あるいはよりわかり易くなるように等ということを目的として、該各要素ごとに縮尺を異ならしめているため、各図面間で要素の大きさ、あるいは要素間の相対的な大きさが異なっている場合がある。
【００６３】
まず、図１の工程（１）に示すように、アルミナシリケイトガラスの透明材料からなる基板３００（本発明にいう「第２基板」の一例に該当する。）上に、レジスト膜３０２を形成する。ここで基板３００を構成するアルミナシリケイトガラスとしては、具体的にはリチウムアルミシリケート結晶化ガラスなどを使用するとよい。また、レジスト膜３０２としては、例えば、有機樹脂材料等からなる等熱変形性を有するものを利用するとよい。
【００６４】
次に、図１の工程（２）に示すように、このレジスト膜３０２の一部をパターニング処理（フォトリソグラフィ及びエッチング工程）により除去する（符号３０２ａ参照）。この除去は、図３に示すように、残存するレジスト膜３００Ｚが最終的に形成されるべきマイクロレンズの形成位置に合致するように行う（図１の工程（３）から工程（４）も参照）。第１実施形態では、レジスト膜３００Ｚは、略四辺形状のレジスト膜が縦横・マトリクス状に配列された状態で残存させられることになる。第１実施形態においては、このレジスト膜３００Ｚが、後の説明から明らかとなるように、マイクロレンズ形成の上で重要な役割を果たす。
【００６５】
次に、図１の工程（３）に示すように、前記レジスト膜３００Ｚの外形形状を凸状部３００Ｚｂに成形する。より具体的には、該レジスト膜３００Ｚに対する加熱を実施することによりこれを溶融させることで、その表面張力によって自然に略半球状、ないしは略ドーム状を含む凸状部３００Ｚｂを成形する、等の手段を採用すると有効である。これにより、図３に示すように、前述までにおいて略四辺形状であったレジスト膜３００Ｚは、略円形状のレジスト膜３００Ｚｂとして、縦横・マトリクス状に配列された状態になる。
【００６６】
次に、図１の工程（４）に示すように、前記凸状部３００Ｚｂ及び基板３００をともにエッチングする。これにより、基板３００は、該凸状部３００Ｚｂの外形形状が転写されつつエッチングされることになり、図１の工程（３）に示したような略半球状を有する凸状部３００Ｚｂが形成されている第１実施形態では、図１の工程（４）に示すように、基板３００の表面上に、やはり略半球状を有するマイクロレンズ外形形状５０１Ｐが形成されることになる。このマイクロレンズ外形形状５０１Ｐの配列は、図３に示したレジスト膜３００Ｚｂの配列に一致する。
【００６７】
次に、図２の工程（５）に示すように、マイクロレンズ外形形状５０１Ｐの上に、紫外線硬化性の接着剤Ｂを塗布した上で、石英ガラスからなるベースガラス３００´（本発明にいう「第１基板」の一例に該当する。）を押し付けて接着する。この際、紫外線硬化性樹脂を硬化させるために、該接着剤Ｂに対して、紫外線、好ましくは波長３５０〔ｎｍ〕程度の紫外線を照射する必要があるが、第１実施形態では、該紫外線は、基板３００の方からではなく、ベースガラス３００´の方から入射させるようにする。これによると、接着剤Ｂに対する紫外線照射を好適に実施することができる。
【００６８】
以上の工程を経ることで、基板３００をレンズ媒質とし、接着剤Ｂ及び基板３００間の屈折率差に基づいて機能するマイクロレンズ５０１が形成されることになる。そして、第１実施形態においては特に、基板３００が屈折率ｎ_ｄ＝１．５４程度と比較的大きな屈折率を有するアルミナシリケイトガラスからなることにより、該基板３００及び接着剤Ｂ間において両者の屈折率差を比較的大きくとることができ、集光特性の優れたマイクロレンズ５０１を形成することができる。
【００６９】
他方、基板３００をアルミナシリケイトガラスからなるものとすると、該アルミナシリケイトガラスは概ね４００〔ｎｍ〕以下の波長の光は殆ど透過しない性質を有していることから、前記接着剤Ｂに対する紫外線照射をうまく行うことができず、基板３００及びベースガラス３００´間の接着を好ましく実施できないという欠点を抱えることになる。しかしながら、第１実施形態では、基板３００に対向させるベースガラス３００´を石英ガラスからなるものとすることにより、既に述べたように、接着剤Ｂを硬化するための紫外線は当該ベースガラス３００´の方から入射させるようにすればよく、上述の不具合を被らなくて済むのである。
【００７０】
以上のように、第１実施形態では、比較的容易にマイクロレンズアレイの製造を行うことができるにもかかわらず、完成後のマイクロレンズの集光特性は比較的優れているという二つの作用効果を同時に享受することができる。
【００７１】
さて、以上のように接着剤Ｂの硬化が完了したら次に、図２の工程（６）に示すように、前記の基板３００の裏面（図中下面）を研磨することにより、該基板３００の薄化工程を実施する。この薄化工程ないしは研磨工程は、好ましくは当該基板３００の厚さが１０〜１００〔μｍ〕程度に至るまで、或いは当該基板３００の厚さが、ベースガラス３００´の厚さとの対比において１／１０以下程度に至るまで実行することが好ましい。
【００７２】
これにより、マイクロレンズ５０１の焦点距離調整が行えることになる（後述の「電気光学装置の実施形態」参照。）。
【００７３】
この際、第１実施形態においては次のような作用効果を得ることができる。すなわち、第１実施形態では、上述のように、ベースガラス３００´の方ではなく基板３００の方を研磨する（これにより、ベースガラス３００´は、本発明にいう「ベース基板」でもあり、基板３００は、本発明にいう「研磨基板」でもある。）。しかしながら、基板３００はアルミナシリケイトガラスからなり、該アルミナシリケイトガラスは粘りやすい性質を有している。したがって、第１実施形態において、基板３００は一般的に研磨しにくいということがいえるのである。
【００７４】
しかるに、第１実施形態によれば、そのような性質にもかかわらず前記の研磨工程を好適に実施することができるのである。というのも、基板３００に対向配置されるのが、石英ガラスからなるベースガラス３００´だからである。すなわち、第一に、第１実施形態に係る研磨工程では、基板３００の裏面（図中下面）と適当なパッド等とが当接され、両者は互いに回転しあう関係に置かれるから、熱が発生する。ここで、石英ガラスは、一般的に熱的に変化し難い材料であることから、前記の研磨時に発生する熱によって変形するということが殆どない。したがって、アルミナシリケイトガラスからなる基板３００の研磨中に、これに対向配置されている石英ガラスからなるベースガラス３００´が熱的に変形するということがないから、基板３００の位置ずれが引き起こされるなどという悪影響が出る可能性が小さい。
【００７５】
また第二に、石英ガラスは、一般的に硬度等の機械的強度の点でも優れている。具体的には、石英ガラスのヌープ硬度（荷重１００ｇ）は５９０〜６２０〔ｋｇ／ｍｍ^２〕及びヤング率は０．７４〔×１０^６ｋｇｆ／ｃｍ^２〕であるのに対して、アルミナシリケイトガラスのヌープ硬度（荷重１００ｇ）は５００〔ｋｇ／ｍｍ^２〕、ヤング率は０．９〔×１０^６ｋｇｆ／ｃｍ^２〕となっている。この点からも、石英ガラスを用いれば、研磨時における研磨面の面精度変化等が生じにくく、一度作られた研磨面の変化は起き難いということがいえる。
【００７６】
要するに、第１実施形態によれば、石英ガラスからなるベースガラス３００´が、アルミナシリケイトガラスからなる基板３００に対する、いわば「土台」ないし「治具」等として有効に機能することになるのである。したがって、第１実施形態によれば、一般に研磨しにくい材料であるアルミナシリケイトガラスを研磨するにも関わらず、その研磨精度を比較的高レベルに維持する（具体的には、面内における厚み分布等の見当をとりやすい等）ことができる。
【００７７】
以上のようにして、第１実施形態に係るマイクロレンズアレイは完成する（なお、図２の工程（７）に関してはすぐ後に述べる。）。そして、このマイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズ５０１は、前述のように、基板３００と接着剤Ｂとの比較的大きな屈折率差により、優れた集光特性を発揮することになる。
【００７８】
また、第１実施形態に係るマイクロレンズアレイおいては特に、基板３００について薄化が行われていることから、次のような作用効果が得られることになる。すなわち、第１実施形態においては、上述のように、マイクロレンズアレイを構成する基板３００及びベースガラス３００´がそれぞれアルミナシリケイトガラス及び石英ガラスからなるため、両者間の熱膨張係数に無視し難い相違が存在する。具体的には、一定の熱的環境の下において、石英ガラスは膨張するのに対して、アルミナシリケイトガラスは収縮する関係にあるのである（即ち、アルミナシリケイトガラスは負の線膨張係数を有する。）。そうすると、第１実施形態におけるマイクロレンズアレイにおいては、ベースガラス３００´が膨張しているのに、基板３００が収縮するなどということが生じうることになる。このようになると、基板３００の向こう側（図２でいえば、該基板３００の更に下側）に存在し、マイクロレンズ５０１によって集光された光を利用すべき何らかの装置（例えば、後述する液晶表示装置等の電気光学装置。図１１参照）と、個々のマイクロレンズ５０１との配置関係にずれが生じたり、或いは該マイクロレンズ５０１の集光性能自体に悪影響を及ぼす可能性が生じることになる。
【００７９】
しかるに、第１実施形態においては、前述のようにアルミナシリケイトガラスからなる基板３００の方は薄化されているのである。しかも、この薄化は、基板３００の厚さが１０〜１００〔μｍ〕に至るまで、或いは該基板３００の厚さが、ベースガラス３００´の厚さの１／１０以下に至るまで実施される。このようであれば、図２の工程（６）からもわかるように、当該マイクロレンズアレイが、一定の熱的環境下に曝される結果、前述のような基板３００及びベースガラス３００´間の挙動の差異が生じたとしても、より厚さの大きいベースガラス３００´の挙動に、基板３００の挙動が支配されることになり、該基板３００の挙動は、マイクロレンズアレイ全体からみて大きな影響を及ぼさないことになる。比喩的にいうと、基板３００の挙動は、ベースガラス３００´の挙動にいわば引っぱられるようなかたちでのみ観察されるだけということになる。
【００８０】
したがって、第１実施形態によれば、基板３００及びベースガラス３００´間の挙動の差異に原因して、集光性能に悪影響が及ぶなどといった不具合を被らなくて済むのである。
【００８１】
以上、各所で述べた作用効果をまとめると、第１実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法、或いはこれにより製造されたマイクロレンズアレイによれば、まず、接着剤Ｂとの比較的大きな屈折率差を享受することが可能なアルミナシリケイトガラスからなる基板３００を用いることにより、集光特性を向上させることができるという主要な効果が得られることに加えて、該基板３００に対向する基板として石英ガラスからなるベースガラス３００´を利用すること、或いは該基板３００を研磨基板とすること（図２の工程（６）参照）によって、アルミナシリケイトガラスを用いることにより被り得る欠点（紫外線透過性に劣る、研磨しにくい、負の線膨張係数を有する等）を巧みに回避することが可能となり、全体として、極めて優れた特性を有するマイクロレンズを製造すること、或いは提供することが可能となるのである。
【００８２】
なお、上記第１実施形態においては、マイクロレンズ外形形状５０１Ｐが形成された基板３００に対して研磨工程が実施されていたが、本発明は、このような形態に限定されるものではない。例えば、図４に示すような形態を採用してもよい。この図におけるマイクロレンズアレイは、図２の工程（６）とちょうど逆の関係にあるかのような態様となっている。すなわち、該マイクロレンズアレイは、マイクロレンズ外形形状５０１´Ｐが作り込まれた、石英ガラスからなるレンズ形成基板３０１と、研磨工程を受けたアルミナシリケイトガラスからなるカバーガラス３０１´とからなる。このような形態であっても、前記の第１実施形態と略同様な作用効果が得られるのは明白である。ちなみに、この場合にいうレンズ形成基板３０１は、本発明にいう「第１基板」ないしは「ベース基板」の一例に該当するとともに、カバーガラス３０１´は、本発明にいう「第２基板」ないしは「研磨基板」の一例に該当する。
【００８３】
また、図１の工程（１）から図２の工程（６）を経て製造されたマイクロレンズアレイは、例えば、液晶装置等の電気光学装置で使用されて好適である。この場合においては、図２の工程（６）に続く図２の工程（７）として示すように、基板３００の裏面（図中下面）に対して、例えばクロム又は黒色の樹脂材料等からなる遮光膜２３を形成した後、該遮光膜２３上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料からなる対向電極２１を形成することにより、該基板３００を電気光学装置を構成する一対の基板のうちの一方たる対向基板として兼用可能に構成することが可能である。
【００８４】
このうち上記の遮光膜２３は、マイクロレンズ５０１が縦横に整列されたマトリクス状に形成されることに対応して、該マイクロレンズ５０１間の隙間を埋めるように、平面的にみて格子状に形成される（図３参照）。これにより、ベースガラス３００´側から入射した光は、マイクロレンズ５０１で集光されて、図２の工程（７）中矢印で示すように遮光膜２３間を抜けるように出射することになる。また、対向電極２１は、基板３００に対向する素子基板の構成如何にもよるが、該素子基板が走査線、データ線、ＴＦＴ及び画素電極等を備える場合等においては、基板３００の全面にベタ状に形成される。なお、この点については、後述する「電気光学装置の実施形態」において、改めて触れる。
【００８５】
（第２実施形態）
以下では、本発明の第２の実施の形態について、図５及び図６を参照しながら説明する。ここに、図５及び図６は、第２実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図である。また、図７は、図５の工程（２）において成膜されるレジスト膜に形成される開口部の態様を示す平面図である。なお、第２実施形態において参照する図面において、上記第１実施形態において参照した図面中に使用した符号が指示する要素と、実質的に同一の要素を指示する場合においては、その符号と同じ符号を用いて説明を行うこととする。
【００８６】
まず、図５の工程（１）に示すように、石英ガラスの透明材料からなる基板２００（本発明にいう「第１基板」の一例に該当する。）上に、レジスト膜２０２を形成する。ここでレジスト膜２０２としては、例えば、クロム又は金の少なくとも一方を含む合金膜、アモルファスシリコン膜、ポリシリコン膜及び窒化シリコン膜の少なくとも一つからなるものを利用するとよい。これらの材料を用いれば、該レジスト膜２０２と基板２００との密着性等が優れていることにより、該レジスト膜２０２を介する後述のエッチング工程は、好適に実施されることになる。また、これにより、後述で説明する凹状部２０８の形状制御、すなわちマイクロレンズの外形形状制御等を正確に行うことができる。
【００８７】
次に、図５の工程（２）に示すように、前記のレジスト膜２０２に、所定パターンの開口部２０２ａをパターニング処理（フォトリソグラフィ及びエッチング工程）により形成する。この所定パターンは、例えば図７に示すように一つ一つの開口部２０２ａが縦横に整列して配列されるマトリクス状などとすればよい。
【００８８】
次に、図５の工程（３）に示すように、レジスト膜２０２の開口部２０２ａから基板２００の表面をエッチング処理し、凹状部２０８を形成する。このエッチング処理は、例えば、フッ酸を主体とするエッチング液を用いたウェットエッチングで行う。ここで、このウェットエッチングを採用することにより、基板２００に対する侵食は等方的に進行することになる。したがって、この開口部２０２ａを通じたウェットエッチングによれば、前記凹状部２０８は、該開口部２０２ａの周囲に位置するレジスト膜２０２及び基板２００間の界面を抉るようにしつつ、該開口部２０２ａ中心に同心の略半球状となるように形作られることになる。そして、このような形状は、レンズの形状としては好適であるから、第２実施形態によれば、当該マイクロレンズの外形形状を自然且つ容易に、そして好適に製造することができる。
【００８９】
次に、図５の工程（４）に示すように、レジスト膜２０２をエッチング処理によって除去する。この段階において、基板２００上には、凹状部２０８としてのマイクロレンズの外形形状が形作られることとなる。
【００９０】
次に、図６の工程（５）に示すように、前記の基板２００とは別に、アルミナシリケイトガラスからなる透明なカバーガラス２００´を用意し、凹状部２０８の上に、紫外線硬化性の接着剤Ｂを塗布した上で、前記カバーガラス２００´（本発明にいう「第２基板」の一例に該当する。）を押し付けて接着する。この際、紫外線硬化性樹脂を硬化させるために、該接着剤Ｂに対して、紫外線、好ましくは波長３５０〔ｎｍ〕程度の紫外線を照射する必要があるが、第２実施形態では、該紫外線は、カバーガラス２００´の方からではなく、基板２００の方から入射させるようにする。これによると、接着剤Ｂに対する紫外線照射を好適に実施することができる。以上の工程を経ることで、接着剤Ｂをレンズ媒質とし、接着剤Ｂ及び基板２００間の屈折率差に基づいて機能するマイクロレンズ５００が形成されることになる。
【００９１】
最後に、図６の工程（６）に示すように、カバーガラス２００´の裏面（図中上面）を研磨することにより、マイクロレンズアレイの完成をみる。ちなみに、この研磨の程度は、上記第１実施形態と同様、該カバーガラス２００´の厚さが、１０〜１００〔μｍ〕程度に至るまで、或いは当該カバーガラス２００´の厚さが、基板２００の厚さとの対比において１／１０以下程度に至るまで実行することが好ましい。
【００９２】
このようなマイクロレンズアレイの製造方法によっても、前記の第１実施形態と略同様な作用効果が得られることが明白である。すなわち、第２実施形態において、研磨の対象とされる基板は、図５及び図６におけるカバーガラス２００´の方であり、該カバーガラス２００´はアルミナシリケイトガラスからなるから、その研磨は一般的に困難を伴うが、第２実施形態では、「土台」として有効に機能する基板２００が存在するから、前記研磨を容易に行うことができる、或いはカバーガラス２００´の熱的な変形が、より厚い基板２００に支配されることから、両者の挙動の齟齬が生じることによって集光特性等に影響が与えられるということを極力防止可能である。
【００９３】
なお、第２実施形態においても、基板２００及びカバーガラス２００´からなるマイクロレンズアレイを、電気光学装置に使用する形態としてもよい。したがって、この場合においては、上記第１実施形態において図２の工程（７）として説明したのと略同様な工程を経ること、すなわち、カバーガラス２００´上（図中上面側）に遮光膜及び対向電極を形成し、該カバーガラス２００´を電気光学装置を構成する一対の基板の一方たる対向基板と兼用可能に構成するようにしてよい。
【００９４】
また、上記第２実施形態においては、基板２００に対してのみマイクロレンズ外形形状５０１Ｐが形成されていたが、本発明は、このような形態に限定されるものでもない。例えば、上述の基板２００に加えて、マイクロレンズ外形形状を、前記にいうカバーガラス２００´に対しても同様に形成するような形態を採用してもよい。この場合には、最終的に、図８に示すような、両側に凸部を含むマイクロレンズアレイが製造されることになる（なお、マイクロレンズ外形形状が形成されたカバーガラスについて符号「２００Ａ」を付した。）。
【００９５】
（第３実施形態）
以下では、本発明の第３の実施の形態について、図９及び図１０を参照しながら説明する。ここに、図９及び図１０は、第３実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図である。なお、第３実施形態において参照する図面において、上記第１及び第２実施形態において参照した図面中に使用した符号が指示する要素と、実質的に同一の要素を指示する場合においては、その符号と同じ符号を用いて説明を行うこととする。
【００９６】
第３実施形態では、まず、図９の工程（１）に示すように、石英ガラスからなる基板４００（本発明にいう「第１基板」の一例に該当する。）上に光硬化性樹脂Ｃを塗布する。次に、図９の工程（２）に示すように、光硬化性樹脂Ｃを凹状部が形成された型Ｍ内に埋め込む。なお、型Ｍとしては、これを電鋳により成型しておくとよい。
【００９７】
次に、図９の工程（３）に示すように、光硬化性樹脂Ｃが型Ｍ内に埋め込まれた状態で、該光硬化性樹脂Ｃに対して光照射を実施することで、これを硬化させる。なお、この際には、基板４００と光硬化性樹脂Ｃとの接合も図られる。また、光硬化性樹脂としては、具体的には紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましく、その場合には、図９の工程（３）において照射すべきは紫外線（ＵＶ光）ということになる。
【００９８】
次に、図１０の工程（４）に示すように離型する。すなわち、光硬化性樹脂Ｃが型Ｍから剥離されるように基板４００を移動させる。これにより、第３実施形態では、前記型Ｍの凹状部が光硬化性樹脂Ｃに転写されることで、該光硬化性樹脂Ｃに凸状部が付与されることになる。
【００９９】
次に、図１０の工程（５）に示すように、前記凸状部の上に、光硬化性樹脂Ｃとは異なる屈折率を有する光硬化性の接着剤Ｂ１を塗布してアルミナシリケイトガラスからなるカバーガラス４００´（本発明にいう「第２基板」の一例に該当する。）を押し付けて接着する。これにより、光硬化性樹脂Ｃをレンズ媒質とし、該光硬化性樹脂Ｃ及び接着剤Ｂ１間の屈折率差に基づいて機能するマイクロレンズ５０２が形成されることになる。
【０１００】
最後に、図１０の工程（６）に示すように、前記のカバーガラス４００´の裏面（図中上面）を研磨することにより、該カバーガラス４００´の薄化工程を実施する。これにより、マイクロレンズ５０２の焦点距離調整が行えることになる。以上のようにして、第３実施形態に係るマイクロレンズアレイは完成する。ちなみに、この研磨の程度は、上記第１実施形態と同様、該カバーガラス４００´の厚さが、１０〜１００〔μｍ〕程度に至るまで、或いは当該カバーガラス４００´の厚さが、基板４００の厚さとの対比において１／１０以下程度に至るまで実行することが好ましい。
【０１０１】
そして、このような第３実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法によっても、上記の第１及び第２実施形態に係るマイクロレンズアレイの製造方法で得られた効果と略同様な効果が得られることは明白である。すなわち、第３実施形態において、研磨の対象とされる基板は、図９及び図１０におけるカバーガラス４００´の方であり、該カバーガラス４００´はアルミナシリケイトガラスからなるから、その研磨は一般的に困難を伴うが、第３実施形態では、「土台」として有効に機能する基板４００が存在するから、前記研磨を容易に行うことができる、或いはカバーガラス４００´の熱的な変形が、より厚い基板４００に支配されることから、両者の挙動の齟齬が生じることによって集光特性等に影響が与えられるということを極力防止可能である。
【０１０２】
なお、上記第３実施形態では、凹状部が形成された型Ｍを利用して、マイクロレンズ５０２を形成するようになっていたが、本発明においては、これとは逆に、凸状部が形成された型（不図示）を利用して、光硬化性樹脂Ｃに凹状部を形成することでマイクロレンズを形成するような態様を採用してもよい。
【０１０３】
また、第３実施形態においても、基板４００及びカバーガラス４００´からなるマイクロレンズアレイを、電気光学装置に使用する形態としてもよい。したがって、この場合においては、上記第１実施形態において図２の工程（７）として説明したのと略同様な工程を経ること、すなわち、カバーガラス４００´上（図中上面側）に遮光膜及び対向電極を形成し、該カバーガラス４００´を電気光学装置を構成する一対の基板の一方たる対向基板と兼用可能に構成するようにしてよい。
【０１０４】
（電気光学装置の実施形態）
以下では、上記第１実施形態のマイクロレンズアレイ（図２参照）を、液晶装置等の電気光学装置を構成する一対の基板の一方たる対向基板に兼用可能に構成した例について、図１１を参照しながら説明する。ここに図１１は、本実施形態に係る電気光学装置におけるデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板（本発明にいう「第３基板」の一例に該当する。）を含む電気光学装置の全体的な構成を概略的に示す斜視図である。
【０１０５】
図１１において、電気光学装置は、マトリクス状に配列された画素電極９ａ、該画素電極９ａに接続されたＴＦＴ３０、並びに、該ＴＦＴ３０に接続された走査線３ａ及びデータ線６ａが形成されたＴＦＴアレイ基板１０を備えている。なお、画素電極９ａ及びＴＦＴ３０は、走査線３ａ及びデータ線６ａの交差領域に対向するように形成されている。
【０１０６】
より具体的に、図１１に示す電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０上に、層間絶縁膜４２を備えることにより、前記の画素電極９ａ、ＴＦＴ３０、走査線３ａ及びデータ線６ａ等は積層構造をなして構築されている。
【０１０７】
まず第一に、ＴＦＴアレイ基板１０上には、ＴＦＴ３０の半導体層１ａが形成されており、該半導体層１ａのチャネル領域１ａ´に対向する部分には、例えば導電性のポリシリコン等からなる走査線３ａが形成されている。この走査線３ａは、ＴＦＴ３０におけるゲート電極として機能する。第二に、走査線３ａ上には、層間絶縁膜４２を挟んで適当な金属材料からなるデータ線６ａが形成されている。このデータ線６ａは、コンタクトホールＣ１を介して前記半導体層１ａのソース領域と電気的に接続されている。以上のように、走査線３ａ及びデータ線６ａは互いに異なる層として形成されているものの、走査線３ａは図中横方向、データ線６ａは図中奥行き方向に形成されることにより、両者は全体的に格子状を形作ることになる。
【０１０８】
第三に、前記層間絶縁膜４２上には、例えばＩＴＯ等の画素電極９ａがマトリクス状に配列されるように形成されている。この画素電極９ａは、コンタクトホールＣ２を介して半導体層１ａのドレイン領域に電気的に接続されている。これにより、データ線６ａに供給される画像信号は、ＴＦＴ３０のスイッチング動作に応じて（即ち、該ＴＦＴ３０のＯＮ・ＯＦＦに応じて）、画素電極９ａに供給される。
【０１０９】
以上のような構成の他、ＴＦＴアレイ基板１０上には、走査線３ａに接続される図走査線駆動回路（不図示）が設けられ、データ線６ａに接続されるデータ線駆動回路（不図示）が設けられる。走査線駆動回路は、走査線３ａに対して、例えば線順次に走査信号を供給し、データ線駆動回路は、データ線６ａに対して前記走査信号の供給タイミング等を計った上で、所定のタイミングで画像信号を供給する。
【０１１０】
他方、この電気光学装置には、図１１に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０に対向配置されその全面に例えばＩＴＯ等の透明導電性材料からなる対向電極２１が形成された対向基板が備えられている。そして、本実施形態では特に、この対向基板が、前述の第１実施形態として説明したマイクロレンズアレイを構成する薄化された基板、すなわちアルミナシリケイトガラスからなる基板３００で兼用されている。すなわち、図１１では、図２の工程（７）を参照して説明したように、薄化された基板３００上に格子状に形成された遮光膜２３及び該遮光膜２３上に形成された対向電極２１が形成されたものが、対向基板として使用されているのである（但し、図１１では遮光膜２３は図示していない。）。
【０１１１】
以上のような構成となるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板間には、電気光学物質の一例たる液晶層５０が挟持されている。この液晶層５０は、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶等からなる。また、この液晶層５０内の液晶分子を所定の配向状態に維持するための配向膜（不図示）が、画素電極９ａ上及び対向電極２１上それぞれに形成される。
【０１１２】
このような電気光学装置においては、走査線３ａを通じた走査信号の供給により、ＴＦＴ３０のＯＮ・ＯＦＦを制御するとともに、該ＴＦＴ３０がＯＮとされている状態において、データ線６ａを通じて供給されてくる画像信号を画素電極９ａに印加することが可能である（アクティブマトリクス駆動）。このように画像信号が画素電極９ａに印加されると、当該画像信号に対応した所定の電位差が、該画素電極９ａと対向電極２１間に生じる（つまり、画素毎に所定の電位差が生じる）こととなり、これによって、前記液晶層５０中の液晶の配向状態の変化、それに起因する光透過率の変化が生じることとなるので、画像を表示することが可能となる。ここで、液晶に対する光の入射は、例えば、当該電気光学装置の内部に設けられた光源や、当該電気光学装置の外部に存在する蛍光灯等の光源等を考えることができる。なお、本実施形態においては、画素電極９ａ及び対向電極２１のいずれも、透明導電性材料からなるから、いわゆる「透過型」として使用可能である。図に即して言えば、例えば、図１１中上側に図示しない内部光源を設置することにより、該上側から図中下側に抜けるように光を進行させることが可能である。
【０１１３】
そして、本実施形態に係る電気光学装置では特に、上述のように、対向基板を兼ねるマイクロレンズアレイが備えられている。したがって、このマイクロレンズアレイによれば、図１１に示すように、入射光を集光することによって、光の利用効率をより高めることが可能となる。これにより、従来に比べて、より明るい画像の表示等が可能となる。
【０１１４】
また、本実施形態においては、マイクロレンズアレイが、前述のように、アルミナシリケイトガラスからなる基板３００と、石英ガラスからなるベースガラス３００´とから構成されているため、一定の熱的環境下においては、後者が膨張すると前者が収縮するという現象が現れ得る。この場合、当該マイクロレンズアレイを含む電気光学装置が全体的に不自然に変形することによって、それが液晶層５０の厚さ、即ちセル厚（図１１における符号ＣＧ参照）に影響を及ぼす可能性があり、例えば場所場所に応じてセル厚が異なる（即ち、セル厚むらが発生する）などということが生じることになる。こうなると、画像上に色むらを生じさせるおそれが出てくることになる。
【０１１５】
しかるに、本実施形態においては、前述のように、アルミナシリケイトガラスからなる基板３００は、図２の工程（７）を参照して説明したように研磨され且つ薄化されているから、当該マイクロレンズアレイを含む電気光学装置全体としての熱的な変形は、研磨されていないベースガラス３００´に支配されるようなかたちとなり、前記のような不具合が生じないのである。したがって、本実施形態に係る電気光学装置によれば、より高品質な画像を表示することが可能である。
【０１１６】
さらに、本実施形態では、マイクロレンズアレイを構成する一方の基板３００が薄化されていることから、マイクロレンズアレイ５０１の焦点距離が好適に設定されている。すなわち、図１１に示すように、電気光学装置にマイクロレンズアレイを装着する場合には、そのマイクロレンズ５０１の配列ピッチは、画素電極９ａの配列ピッチ、即ち画素ピッチ（図１１における符号ＰＰ参照）にほぼ一致させる必要がある。ここに画素ピッチは、具体的には例えば１０〜３０〔μｍ〕程度である。したがって、マイクロレンズ５０１の配列ピッチもこれと同程度にする必要があるが、この場合、当該マイクロレンズにより結ばれる焦点は浅くならざるを得ない。そうすると、当該マイクロレンズの形成されている基板が厚いと、その焦点は、当該基板内で結ばれるということになり、該マイクロレンズ５０１の性能を十分に利用しているとはいえない状況が生じることになる。
【０１１７】
しかるに、本実施形態においては、薄化された基板３００の側から光が出射するようになっているから、一般的に、前記のような不具合は生じにくい。つまり、マイクロレンズ５０１によって集光された光は、基板３００を抜けたところで焦点を結びやすくなるのである。図１１では特に、ＴＦＴアレイ基板１０下で、焦点Ｆが結ばれていることが示されている。このように、本実施形態によれば、マイクロレンズ５０１の性能を如何なく享受することができるのである。
【０１１８】
なお、前記の焦点Ｆの位置は、単なる一例に過ぎない。本発明においては、上記の他、画素電極９ａ上、あるいはＴＦＴアレイ基板１０ないしは層間絶縁膜４２内で、焦点が結ばれるように構成してもよい。これは、図２の工程（７）における研磨工程において、基板３００をどの程度の厚さ（図１１中の符号Ｔ参照）とするかを主要因として決まることになる。
【０１１９】
なお、上述においては、画素スイッチング用素子としてＴＦＴが用いられたアクティブ・マトリクス駆動可能な電気光学装置が例示されていたが、本発明は、このような形態に限定されるものではない。例えば、画素スイッチング用素子としてＴＦＤを用いる電気光学装置や、また場合により、パッシブ・マトリクス駆動可能な電気光学装置に対しても、本発明は適用可能である。更に言えば、本発明に係るマイクロレンズアレイは、ＣＣＤ装置等に対しても適用することが可能である。
【０１２０】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うマイクロレンズアレイ及び電気光学装置並びにそれらの製造方法もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その１）である。
【図２】本発明の第１実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その２）である。
【図３】図１の工程（２）及び工程（３）において成膜されるレジスト膜に形成される開口部の態様を示す平面図である。
【図４】第１実施形態の変形形態に係るマイクロレンズアレイの断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その１）である。
【図６】本発明の第２実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その２）である。
【図７】図５の工程（２）において成膜されるレジスト膜に形成される開口部の態様を示す平面図である。
【図８】第２実施形態の変形形態に係るマイクロレンズアレイの断面図である。
【図９】本発明の第３実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その１）である。
【図１０】本発明の第３実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法を、順を追って示す製造工程断面図（その２）である。
【図１１】本実施形態に係る電気光学装置におけるデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板を含む電気光学装置の全体的な構成を概略的に示す斜視図である。
【符号の説明】
３００、２００、４００…基板
３００´…ベースガラス ２００´、４００´…カバーガラス
Ｂ…接着剤
５０１、５００、５０２…マイクロレンズ
１０…ＴＦＴアレイ基板

Claims (16)

1. 付箋
2. 第１基板と、
   該第１基板とは異なる熱膨張係数を有するとともに前記第１基板に比べて厚さの小さい第２基板と、
   前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に、その外形形状が作り込まれたマイクロレンズと、
   前記第１基板及び前記第２基板の間に介在させた接着剤と、
   を備えてなり、
   前記第２基板の厚さは、前記第１基板の厚さの１／１０以下であることを特徴とするマイクロレンズアレイ。
3. 前記第２基板の厚さは、１０〜１００〔μｍ〕であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロレンズアレイ。
4. 前記第１基板は石英ガラスからなり、
   前記第２基板はアルミナシリケイトガラスからなることを特徴とする請求項１又は２に記載のマイクロレンズアレイ。
5. 当該マイクロレンズアレイにより集光されるべき光は、
   前記第１基板の側に入射し、前記第２基板の側から抜けることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマイクロレンズアレイ。
6. 第１基板、該第１基板とは異なる熱膨張係数を有するとともに前記第１基板に比べて厚さの小さい第２基板、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に、その外形形状が作り込まれたマイクロレンズ、並びに、前記第１基板及び前記第２基板の間に介在させた接着剤を備えてなり、前記第２基板の厚さは、前記第１基板の厚さの１／１０以下であるマイクロレンズアレイと、
   前記第２基板に対向配置された第３基板と、
   前記第２基板及び前記第３基板間に封入された電気光学物質と
   を備えたこと特徴とする電気光学装置。
7. 前記第１基板と前記第３基板の熱膨張係数が同じであることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
8. 前記第１基板と前記第３基板は、石英ガラスからなり、前記第２基板はアルミナシリケイトガラスからなることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
9. 一方の基板及び該一方の基板とは異なる熱膨張係数を有する他方の基板を貼り合わせてなるマイクロレンズアレイの製造方法であって、
   前記一方の基板にマイクロレンズの外形形状を形作る工程と、
   該工程の後に、前記一方の基板及び前記他方の基板間に接着剤を介在させて対向させ、これらを貼り合せる貼合工程と、
   前記一方の基板及び前記他方の基板の一方である研磨基板を研磨する研磨工程と
   を含むことを特徴とするマイクロレンズアレイの製造方法。
10. 前記研磨基板と貼り合わされる基板の表面を研磨することを特徴とする請求項８に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
11. 前記研磨工程では、前記研磨基板の厚さが１０〜１００〔μｍ〕に至るまで研磨が行われることを特徴とする請求項８又は９に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
12. 前記研磨工程では、前記研磨基板の厚さが、前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記研磨基板でないベース基板の厚さの１／１０以下に至るまで研磨が行われることを特徴とする請求項８乃至１０に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
13. 前記一方の基板及び前記他方の基板は一定の熱的環境の下において、一方が膨張し他方が収縮する関係にあることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
14. 前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記研磨基板はアルミナシリケイトガラスからなり、
    そうでない基板は石英ガラスからなることを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか一項に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
15. 前記接着剤は光硬化性樹脂を含み、
    当該マイクロレンズアレイの製造方法は、
    前記光硬化性樹脂を含む前記接着剤を硬化させるため、当該接着剤に対し、前記一方の基板及び前記他方の基板のうち前記石英ガラスからなる方から光を照射する工程
    を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
16. 請求項８乃至１４のいずれか一項に記載のマイクロレンズアレイの製造方法を含み、
    前記研磨工程の後に、
    前記研磨基板と第３基板との間に接着剤を介在させて対向させ、これら研磨基板及び第３基板を貼り合せる工程と、
    前記接着剤を硬化させる工程と、
    前記研磨基板と第３基板との間に電気光学物質を封入する工程と
    を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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