WO1999023530A1 - Dispositif electro-optique et appareil electronique - Google Patents

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Masao Murade
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Definitions

  • an electro-optical device such as a liquid crystal device of an active matrix drive system using a TFT drive
  • a large number of scanning lines and data lines arranged vertically and horizontally, and a large number of pixel electrodes corresponding to their intersections are provided by a TFT. It is provided on an array substrate.
  • a data signal supply means including a data line driving circuit and a sampling circuit for supplying a data signal to the data lines, and a scanning signal including a scanning line driving circuit and supplying a scanning signal to the scanning lines
  • the scanning signal supply means is provided on such a TFT array substrate.
  • the scanning line driving circuit supplies the scanning signals to the scanning lines line-sequentially at a timing based on the scanning line side reference clock.
  • the data signal supply means For example, a sampling circuit for sampling an input image signal is sequentially driven by a data line driving circuit at a timing based on a data line reference clock, and a data signal is output from the sampling circuit to the data line. Supplied to As a result, each TFT connected to the scan line is turned on in response to the supply of the scanning signal, and the data signal is supplied to the pixel electrode via the TFT, and the image display at each pixel is performed. An indication is made.
  • a serial image signal of a very high frequency has been input with an increase in resolution of a display image.
  • the dot frequency of the image signal is about 65 MHz and about 135 MHz in the XGA display mode and SXGA display mode used in recent high-resolution personal computer screens, respectively. ⁇ Far above the frequency (about 30MHz).
  • the frequency of the data line reference clock supplied to the data signal supply means is also becoming very high. Disclosure of the invention
  • a minute noise of about 1 OmV may appear as visible noise in the display image even if it just jumps into the image signal. .
  • This is more intermediate than when displaying the white or black level corresponding to the highest or lowest LCD drive voltage (eg, a voltage between 0 and 5V). This is because the change in the transmittance of the liquid crystal with respect to the change in the liquid crystal driving voltage at the level is sharp. To realize such high-precision multi-tone display, the problem of high-frequency clock noise is serious.
  • the frequency of the image signal supplied to the sampling circuit can be reduced by increasing the number of serial-to-parallel conversions.
  • the number of external input terminals for inputting the image signal that must be provided on the substrate of the liquid crystal device is —The number of parallel conversions must be increased in response to the increase. That is, for example, in the case of serial-to-parallel conversion to six phases, six external input terminals for inputting image signals are required, and in the case of 12 serial-parallel conversions, 12 are required. Further, the number of wirings from these external input terminals for inputting image signals to the sampling circuit is also required by the number of serial-to-parallel conversions.
  • the proportion of the image signal wiring occupying the substrate surface of the liquid crystal device increases, and the area for forming the data signal supply means including the sampling circuit and the data line driving circuit is secured on the substrate.
  • the wiring for the control signal such as a clock signal is routed to one side of the data line driving circuit, as seen from the edge of the substrate provided with the external input terminals, and the other side of the data line driving circuit, as in the conventional case. If a large number of wirings for image signals are routed to the side, the number of wirings routed to each side is significantly different, and the wiring arrangement balance around the data line driving circuit becomes very poor (ie, However, the wiring is biased to one side). In this case, it is possible to increase the size of the substrate of the liquid crystal device to secure the wiring region and the region for forming the data line driving circuit. However, this requires a large screen with a limited substrate size. Contrary to the basic requirements in the technical field.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and can reduce the occurrence of high-frequency clock noise in an input image signal and a data signal generated based on the image signal, and can perform high-quality image display.
  • An object is to provide an electronic device including an electro-optical device.
  • An object of the present invention is to provide a liquid crystal device which can reduce adverse effects such as knock noise and can display high-quality images, and an electronic device including the liquid crystal device.
  • one embodiment of the present invention is a semiconductor device including: a plurality of scanning lines on a substrate; a plurality of data lines intersecting the plurality of scanning lines; and a plurality of scanning lines and a data line.
  • a plurality of switching elements connected thereto, a plurality of pixel electrodes connected to the plurality of switching elements, and a data supply for supplying a data signal corresponding to an image signal to the plurality of data lines based on a clock signal.
  • the image signal input from the first external input terminal is supplied to the data signal supply unit via the image signal line wired on the substrate.
  • the clock signal input from the second external input terminal is supplied to the data signal supply means via the clock signal line wired on the substrate.
  • the data signal corresponding to the image signal is generated based on the clock signal by the data signal supply means provided on the first substrate and including, for example, a data line driving circuit and a sampling circuit. Is supplied to a plurality of data lines.
  • the image signal line is electrically shielded from the clock signal line by a constant potential conductive line arranged on the substrate. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, it is possible to reduce the jump of high-frequency clock noise from the clock signal line to the image signal line.
  • a scanning signal is supplied to the switching element via a scanning line by a scanning signal supply unit including a scanning line driving circuit or the like formed on the substrate or connected to the substrate.
  • a data signal corresponding to the image signal in which the high-frequency clock noise has been reduced as described above is supplied to the switching element via the data line, and further supplied to the data element via the switching element.
  • the voltage applied to the pixel electrode changes according to the signal, and the liquid crystal facing the pixel electrode is driven.
  • the high-frequency clock signal is The image quality is hardly or never degraded due to the occurrence of clock noise, and high-quality image display is possible.
  • the conductive line includes a portion formed of a constant potential line for supplying a constant potential power to the data signal supply unit.
  • the conductive line since the conductive line includes a portion composed of a constant potential line for supplying a constant potential power to the data signal supply means, the conductive line can share the external input terminal and the wiring itself.
  • the constant potential line by extending the constant potential line to be a conductive line, it is possible to simplify the configuration and save space, and it is particularly easy to make the conductive line a constant potential.
  • the image signal line is surrounded on the substrate by a conductive line portion composed of, for example, the first constant potential line for supplying a negative power supply of the ground potential.
  • the clock signal line is surrounded on the substrate by, for example, a conductive line portion composed of a second constant potential line for supplying a positive power supply. Accordingly, a configuration is obtained in which the image signal lines are doubly shielded from the clock signal lines on the first substrate.
  • the data signal supply unit includes: a sampling circuit that samples the image signal; and a power supply that is supplied from the constant potential line and drives the sampling circuit based on the clock signal. And a data line driving circuit, wherein the image signal line and the clock signal line are preferably routed on the substrate from the opposite direction to the data line driving circuit.
  • the image signal is sampled by the sampling circuit.
  • the sampling circuit is driven based on the clock signal by the data line driving circuit which receives power supply from the constant potential line, and the sampled image signal is supplied to the data line as a data signal.
  • the image signal line and the clock signal line are the data lines on the board.
  • the electromagnetic wave Although it is routed from the opposite direction to the drive circuit, the electromagnetic wave generally decreases according to the distance and the presence of obstacles, so the electromagnetic wave applied from the clock signal line to the image signal line is the distance between the two signal lines. And decreases in accordance with the presence of the data line driving circuit. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, the jump of high-frequency clock noise from the clock signal line to the image signal line can be further reduced.
  • the first and second external input terminals are arranged at a predetermined distance from each other in a peripheral portion of the substrate with the third external input terminal interposed therebetween, and preferably, In an area where external input terminals can be formed in the peripheral portion of the substrate, they are arranged as far apart from each other as possible. Therefore, for example, compared to a case where the image signal line and the clock signal line are arranged adjacent to each other, it is possible to reduce the jump of high-frequency clock noise from the clock signal line to the image signal line.
  • the conductive lines extend so as to surround an image display area defined by the plurality of pixel electrodes and the plurality of data lines on the substrate.
  • the image display region and the plurality of data lines are surrounded by the conductive lines on the substrate, the image display region and the plurality of data lines are also shielded from the clock signal line. Will be. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of high-frequency clock noise in the data signal output from the data signal supply means, the data signal reaching the switching element and the pixel electrode, and the like.
  • an electro-optical material is sandwiched between the substrate and the opposing substrate, and further includes a light-shielding peripheral parting formed on at least one of the substrate and the opposing substrate.
  • the conductive line includes a portion provided on the substrate along the peripheral parting at a position facing the peripheral parting.
  • the conductive line is provided below the periphery of the counter substrate.
  • space can be saved on the TFT array substrate.
  • scanning line driving circuits and data line driving circuits can be formed with a margin around the substrate, and electro-optics can be formed by forming conductive lines. There is little or no reduction in the effective display area of the device.
  • the conductive line and the data line are formed of the same low-resistance metal material.
  • the conductive line is formed of the same low-resistance metal material as that of the aluminum wire, for example, A1 (aluminum), the length of the wiring region of the conductive line is long.
  • the resistance of the conductive wire is sufficiently low for practical use. In other words, without reducing the shielding effect due to the increase in resistance, for example, zigzag long conductive lines by sewing gaps in other wiring or circuits, or long conductive lines in a wide area including the image display area Since wiring becomes possible, the effect of the shield can be further enhanced as a whole with a relatively simple configuration.
  • the conductive line and the data line can be formed from the same low-resistance metal material by the same process. That is, an increase in the number of manufacturing processes due to the formation of the conductive wire can be suppressed to a minimum.
  • the conductive line portion interposed between the image signal line and the mouth signal line and the image signal line and the mouth signal line are on the same plane parallel to the substrate. It is preferable that the low resistance metal layer is formed of the same low resistance metal layer.
  • the conductive line portion interposed between the image signal line and the clock signal line is formed on the same plane parallel to the substrate as the image signal line and the clock signal line, The effect of the shield is exhibited more efficiently.
  • these may be wired directly on the substrate, or may be formed on an insulating layer which is a base formed on the substrate or on a semiconductor layer of a switching element such as a TFT. This means that these may be wired on the interlayer insulating layer.
  • the conductive line, the image signal line, and the clock signal line can be collectively formed from the same low-resistance metal layer such as an A1 layer. Can minimize the increase in manufacturing processes. You.
  • a plurality of data lines, a plurality of scanning lines crossing the plurality of data lines, and a plurality of data lines and a plurality of scanning lines connected to the plurality of data lines are provided on a substrate.
  • the image signal and the control signal are input via the image signal line and the control signal line, respectively, and data for supplying a data signal corresponding to the image signal to the plurality of data lines based on the control signal.
  • a first image signal line group among the plurality of image signal lines is routed to one side of the data signal supply unit on the substrate, and the plurality of image signal lines are provided.
  • the second image signal of the line A line group is routed to the other side of the data signal supply means on the substrate, and at least one line for electrically shielding the first and second image signal line groups from the plurality of control signal lines, respectively.
  • the conductive line is further provided on the substrate.
  • the image signal is supplied to the overnight signal supply means via the image signal line.
  • a control signal including a clock signal, an enable signal and the like is supplied to the data signal supply means via a control signal line.
  • a data signal corresponding to the image signal is supplied to the plurality of data lines based on the control signal by a data signal supply unit including, for example, a data line driving circuit and a sampling circuit.
  • a data signal supply unit including, for example, a data line driving circuit and a sampling circuit.
  • the image signal lines are electrically shielded from control signal lines such as a clock signal line and an enable signal line. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, it is possible to reduce the jump of a high-frequency clock noise from the control signal line such as the clock signal line to the image signal line.
  • a scanning signal is supplied to the switching element via a scanning line by a scanning signal supply unit including a scanning line driving circuit or the like formed on the substrate or connected to the substrate.
  • a data signal corresponding to an image signal in which high-frequency clock noise or the like has been reduced as described above is supplied to the switching element via the data line, and further supplied via the switching element.
  • the voltage applied to the pixel electrode changes according to the data signal, and the liquid crystal facing the pixel electrode is driven.
  • the first image signal line group is routed to one side of the data signal supply means on the substrate, and the second image signal line group is routed to the other side of the data signal supply means on the substrate.
  • the frequency of the image signal supplied to the data signal supply means can be increased.
  • the conductive line is a high-frequency control signal line that supplies a high-frequency control signal having a period shorter than at least a horizontal scanning period of the image signal among the plurality of control signal lines. It is preferable to shield the first and second image signal line groups.
  • the image signal line provides the high-frequency control signal (for example, a clock signal, an enable signal, etc.) among the plurality of control signal lines by the conductive line. It is electrically shielded from the supplied high frequency control signal line. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, it is possible to reduce the jump of high frequency clock noise from the high frequency control signal line to the image signal line.
  • low-frequency control signals for example, a start signal for a shift register in the evening line drive circuit
  • the low-frequency control signal line to be used may or may not be shielded by a conductive line.
  • At least one of the plurality of control signal lines of the plurality of control signal lines is provided together with the conductive line. It is preferable that a low-frequency control signal line for supplying a low-frequency control signal having a cycle not shorter than the horizontal scanning period is wired.
  • At least the image signal line located on the side closer to the high-frequency control signal line in the first and second image signal line groups is the sum of the low-frequency control signal line and the conductive line. Due to the presence of the two wirings, they are separated from the high-frequency control signal line and are electrically shielded. That is, a low-frequency control signal line that supplies a low-frequency control signal that does not cause high-frequency noise in an image signal or a data signal (for example, a start signal for a shift register in a data line driving circuit) is provided.
  • the adverse effect of the high-frequency control signal line on the image signal line can be further reduced.
  • high-frequency control is achieved by arranging as many conductive lines and low-frequency control signal lines as possible between control signal lines and image signal lines. Electromagnetic waves applied from the signal line to the image signal line decrease.
  • interposing a low-frequency control signal line between the high-frequency control signal line and the image signal line other than the conductive line is advantageous from the viewpoint of effective use of space on the substrate and reduction of noise.
  • a plurality of first external input terminals connected to the first image signal line group and each of which receives the image signal from an external image signal source, and the second image signal line group A plurality of second external input terminals respectively connected to the external image signal source and receiving the image signals from the external image signal source; andthe control signals are connected to the control signal line and input from the external control signal source, respectively.
  • a plurality of fourth external input terminals connected to the conductive lines, respectively, on a peripheral portion of the substrate, wherein a third external input terminal is provided between the first and second external input terminals. It is preferable that the fourth external input terminal is disposed between the first and third external input terminals and between the third and second external input terminals, respectively.
  • the control signal line is connected between the plurality of first and second external input terminals respectively connected to the first and second image signal line groups on the peripheral portion of the substrate.
  • a plurality of third external input terminals That is, a plurality of third external input terminals connected to the control signal line are centrally arranged on the peripheral portion of the board provided with the first to fourth external input terminals, and the first and second external input terminals are arranged on both sides thereof. And a plurality of first and second external input terminals respectively connected to the second image signal line group.
  • a fourth external input terminal connected to the conductive line is disposed between them.
  • the present invention it is possible to reduce the jump of high-frequency clock noise from the clock signal line to the image signal line before and after input to the electro-optical device. More preferably, in a region where an external input terminal can be formed in a peripheral portion of the substrate, the first and second external input terminals are arranged as close to both sides as possible and a second external input terminal is arranged between the two. (3) The fourth external input terminal connected to the conductive wire is placed as far as possible from the external input terminal, and the interval is as large as possible.
  • the conductive line transmits a high-frequency control signal having a cycle shorter than at least a horizontal scanning period of the image signal among the plurality of control signal lines.
  • the first and second image signal line groups are shielded from the supplied high-frequency control signal line, and a terminal of the third external input terminal adjacent to the fourth external input terminal is connected to the plurality of control signal lines.
  • it is characterized by being connected to a low-frequency control signal line for supplying a low-frequency control signal having at least a period not shorter than the horizontal scanning period of the image signal.
  • the image signal line is electrically shielded from the high-frequency control signal line by the conductive line.
  • the terminal adjacent to the fourth external input terminal connected to the conductive line is connected to the low-frequency control signal line. Is separated from the high-frequency control signal line and electrically shielded by the presence of at least two wirings, a low-frequency control signal line and a conductive line.
  • the conductive line includes a portion constituted by a data line driving constant potential line for supplying a constant potential data line driving power source to the data signal supply means.
  • the conductive line includes a portion constituted by a data line driving constant potential line for supplying a constant potential data line driving power source to the data signal supplying means,
  • the configuration can be simplified and space saving can be achieved. Also becomes extremely easy.
  • the data line driving constant potential line includes first and second constant potential lines for supplying power of different constant potentials to the data signal supply means,
  • the conductive line portion composed of a line surrounds first and second image signal line groups on the substrate, and the conductive line portion composed of the second constant potential line is formed on the substrate. It is preferable that the control signal line is surrounded on one substrate.
  • the first and second image signal line groups are surrounded on the substrate by a conductive line portion formed of, for example, the first constant potential line for supplying a negative potential of the ground potential.
  • the control signal line is surrounded on the substrate by a conductive line portion constituted by, for example, a second constant potential line for supplying a positive power supply. Therefore, a configuration is obtained in which the image signal lines are doubly shielded from the control signal lines on the first substrate.
  • the conductive line extends so as to surround an image display area defined by the plurality of pixel electrodes and the plurality of data lines on the substrate.
  • a counter substrate is provided so as to face the substrate, and a light-shielding peripheral partition formed on at least one of the substrate and the counter substrate along a contour of the image display area. It is preferable that the conductive wire further includes a portion provided on the substrate along the peripheral part at a position facing the peripheral part.
  • the conductive lines are provided below the periphery of the substrate, space can be saved on the TFT array substrate.
  • the scanning line driving circuit and the data line driving circuit can be mounted on the substrate.
  • the effective display area of the liquid crystal device is hardly or completely reduced by forming conductive lines.
  • the conductive line and the data line are formed of the same low-resistance metal material.
  • the conductive line is formed of the same low-resistance metal material as that of the aluminum wire, for example, A1 (aluminum), the length of the wiring region of the conductive line is long.
  • the resistance of the conductive wire is sufficiently low for practical use.
  • the conductive line and the data line are It can be formed from a resistance metal material by the same process. That is, an increase in the number of manufacturing processes due to the formation of the conductive wire can be suppressed to a minimum.
  • the semiconductor device further includes a capacitance line for giving a predetermined amount of capacitance to the pixel electrode, and the capacitance line is preferably connected to the conductive line.
  • the capacitance line is connected to the conductive line. Therefore, adverse effects on the switching element and the pixel electrode due to the fluctuation in the potential of the capacitor line are prevented.
  • the conductive line can also be used as the wiring for setting the capacitance line to a constant potential.
  • the external input terminal necessary for setting the capacitance line to the constant potential is, for example, the third external input terminal or the conductive line described above. Dedicated external input terminal can be shared.
  • the apparatus further comprises a scan signal supply unit for sequentially supplying a scan signal to the plurality of scan lines on the substrate, wherein the conductive line scans the scan signal supply unit with a constant potential. It is preferable to include a portion composed of a scanning line driving constant potential line for supplying a line driving power supply.
  • the image signal line is electrically shielded from the control signal line by the conductive line portion constituted by the scanning line driving constant potential line. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, it is possible to reduce the jump of high-frequency clock noise from the control signal line to the image signal line.
  • the scanning signal supply unit is provided on both sides of an image display area defined by the plurality of pixel electrodes, and the conductive line constituted by the scanning line driving constant potential line
  • the portion is extended so as to surround the image display area and the plurality of data lines on the substrate and to redundantly supply the scanning line driving power supply to the scanning line supply means. Is preferred.
  • the image display region and the plurality of data lines are surrounded on the substrate by the conductive line portion formed from the scanning line driving constant potential line, the image display region and the plurality of data lines are arranged.
  • Data lines are also shielded from control signal lines such as clock signal lines. Therefore, the high-frequency signal in the data signal output from the data signal supply means, the data signal reaching the switching element or the pixel electrode, etc. It is possible to reduce the occurrence of wave clock noise and the like.
  • the conductive line portion composed of the scanning line driving constant potential line is extended so as to redundantly supply the scanning line driving power to the scanning line supply means provided on both sides of the image display area. Therefore, even if a disconnection occurs in the conductive line portion formed of the scanning line driving constant potential line or in the other portion of the scanning line driving constant potential line, it is advantageous because it is unlikely to cause a device defect.
  • the data signal supply unit includes: a sampling circuit that samples the image signal; and a data line driving circuit that drives the sampling circuit based on the control signal.
  • the image signal lines included in one image signal line group and the image signal lines included in the second image signal line group have at least one image signal between the data line driving circuit and the sampling circuit. It is preferable that the image signal lines are alternately arranged in a comb shape from both sides of the data line driving circuit.
  • image signal lines included in the first image signal line group for example, image signal lines VID 1, 3, 5, 7,... Corresponding to odd-numbered data lines
  • at least one image signal line included in the second image signal line group for example, image signal lines VID 2, 4, 6, 8,... Corresponding to even-numbered data lines.
  • the image signal lines are alternately laid out in a comb shape from both sides of the data line drive circuit. Therefore, the image signal line and the data line can be regularly and well-balanced around the data line driving circuit.
  • the data signal supply unit inverts a voltage polarity of the data signal for each data line, and includes an image signal line and a second image signal line included in the first image signal line group.
  • the image signal lines included in the group are defined as a pair of two image signal lines corresponding to two adjacent data lines and alternately routed in a comb-like shape from both sides of the data line driving circuit. It is preferred that
  • the data signal supply means inverts the voltage polarity of the data signal for each data line, performs inversion driving such as so-called 1S inversion / dot inversion, and displays the data on the display screen.
  • the image signal lines included in the first image signal line group for example, every other image signal line corresponding to two adjacent data lines VID 1, 2, 5, 6,
  • 2 Image signals included in the image signal line group Signal lines (for example, every other image signal line VID 3, 4, 7, 8 ... corresponding to two adjacent data lines) correspond to two adjacent data lines
  • Two image signal lines are paired and alternately laid out in a comb shape from both sides of the data line drive circuit. Therefore, image signals of opposite polarities are supplied to adjacent image signal lines, and noise components originating from the same noise source have an effect of canceling out these two components. This is advantageous for reduction.
  • the electro-optical device according to the first and second aspects of the present invention can be used for electronic equipment.
  • the electronic device includes the above-described electro-optical device of the present invention, reduces high-frequency clock noise and the like, and enables high-quality image display.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of various wirings including a shield line formed on a TFT array substrate and peripheral circuits in the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic plan view showing the two-dimensional layout of the shield line of the first embodiment in more detail.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the shield line, image signal line, and clock signal line AA ′ formed on the TFT array substrate of FIG.
  • FIG. 4 is a schematic plan view of various wirings including a shield line formed on a TFT array substrate and peripheral circuits in the second embodiment.
  • FIG. 5 is a schematic plan view showing the two-dimensional layout of the shielded wire of the second embodiment in more detail.
  • FIG. 6 is a circuit diagram (a) and a timing chart (b) of the shift register circuit of the second embodiment.
  • FIG. 7 shows CC, cross-sectional view (a) and BB, cross-sectional view (b) of the shield line, image signal line, and clock signal line formed on the TFT array substrate of FIG.
  • FIG. 8 is a schematic plan view (a) showing an example of a two-dimensional layout of the image signal lines (wirings VID 1 to 12) of FIG. 4 and a schematic plan view (b) showing another example.
  • FIG. 9 is an enlarged plan view of an edge of an image display area such as a pixel electrode, a scanning line, and a pixel formed on a TFT array substrate according to the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a TFT section provided in an image display area of the liquid crystal device of the present invention.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of a shield wiring portion provided in a peripheral parting region of the liquid crystal device of the present invention.
  • FIG. 13 is a sectional view taken along the line H—H ′ of FIG.
  • FIG. 14 is a block diagram illustrating a schematic configuration of an electronic device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view showing a liquid crystal projector as an example of an electronic device.
  • FIG. 16 is a front view showing a personal convenience store as another example of the electronic apparatus.
  • FIG. 17 is an exploded perspective view showing a pager as an example of the electronic apparatus.
  • FIG. 18 is a perspective view showing a liquid crystal device using TCP as an example of an electronic device.
  • FIG. 1 is a plan view showing the configuration of various wirings including conductive lines (hereinafter, referred to as shield lines) provided on a TFT array substrate and peripheral circuits in the embodiment of the liquid crystal device
  • FIG. FIG. 3 is a plan view showing a more detailed two-dimensional layout of the shield line of FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram of wiring such as a shield line, an image signal line, and a clock signal line.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
  • a liquid crystal device 200 includes a TFT array substrate 1 made of, for example, a quartz substrate, hard glass, or the like.
  • a plurality of pixel electrodes 11 provided in a matrix, a plurality of pixel lines 11 arranged in the X direction, each extending in the Y direction, and a plurality of The scanning lines 31 that are arranged and each extend in the X direction, and are interposed between each data line 35 and the pixel electrode 11, respectively, and the conductive state and the non-conductive state between the scanning lines 31 are shown through the scanning line 31.
  • a plurality of TFTs 30 are formed as an example of a switching element that controls each according to the supplied scanning signal.
  • capacitance lines 31, storage capacitance electrodes
  • a sampling circuit 301, a data line driving circuit 101, and a scanning line driving circuit 104 which constitute an example of a data signal supply unit, are further formed.
  • the upper side of the image display area defined by the plurality of pixel electrodes 11 (that is, the area of the liquid crystal device where an image is actually displayed by the change in the alignment state of the liquid crystal) has scanning lines provided on both sides of the image display area.
  • a plurality of wirings 105 for connecting the line drive circuits 104 are provided.
  • a vertical path for establishing electrical continuity between the TFT array substrate 1 and the counter substrate is provided.
  • the scanning line driving circuit 104 uses a negative power supply VSSY and a positive power supply VDDY for the scanning line driving circuit, which are supplied from an external control circuit via the external input terminal 102 and the wirings VS SY and VDD Y, as a power supply. Start of built-in shift register circuit by input of start signal DY for line drive circuit.
  • the data line driving circuit 101 uses a negative power supply VS SX and a positive power supply VDDX for the data line driving circuit, which are supplied from an external control circuit via an external input terminal 102 and signal wirings VS SX and VDDX as power supplies. Starts the built-in shift register circuit in response to the DX input signal for the data line drive circuit.
  • the sampling circuit 301 includes a TFT 302 for each data line 35, wirings VID1 to VID6 are connected to the source electrode of the TFT 302, and a sampling circuit drive signal line 306 is connected to the gate of the TFT 302. Connected to electrodes. Then, for example, image signals VID 1 to VID 6 which are supplied through the external input terminal 102 and the wirings VID 1 to VID 6 and which are converted from serial to parallel into six phases are transmitted through a sampling circuit drive signal line 306 to The image signals VID1 to VID6 sampled and sampled by the sampling circuit 301 in accordance with the sampling circuit drive signal supplied from the line drive circuit 101 are divided into groups of six adjacent data lines 35. Apply sequentially.
  • the delay line driving circuit 101 starts the sequential generation of transfer signals based on the reference clock signal CLX and its inverted clock signal CLK ′. a, and a waveform control circuit 101 b and a buffer circuit 101 c which supply the sampling signal via the sampling circuit drive signal line 306 after shaping and buffering the transfer signal from the shift register circuit 101 a.
  • the sampling circuit 301 is connected to each sampling circuit drive signal line 306 in parallel with six TFTs 302 corresponding to the image signals VID1 to VID6 that have been converted from serial to parallel into six phases.
  • switches S1 to S6 composed of the TFT 302 are connected to the first sampling circuit drive signal line 306 from the left, and switches S7 to S12 are connected to the second sampling circuit drive signal line 3 from the left. 06, and switches Sn-5 to Sn are connected to the sampling circuit drive signal line 306 at the right end.
  • the frequency of the scanning line driving clock signal CLY (and its inverted clock signal CLY ′) is much higher than the frequency of the data line driving clock signal CLX (and its inverted clock signal CLX,). Low. Therefore, high frequency clock noise rarely causes a problem for the clock signals CLY and CLY '.
  • the wirings VID1 to VID6 are also shielded from the wirings CLY and CLY 'by the shield lines 80 and 82. Have been. That is, it extends from the external input terminal 102 and also serves as the negative power supply VS SX of the data line drive circuit 101.
  • the wiring VS SX and VDDX are respectively extended and used as the shield wires 80 and 82, so that the external input terminal and the wiring can be shared, thereby simplifying the device configuration and saving space. Can be achieved.
  • the potentials of the shield lines 80 and 82 are easily set to a constant potential by sharing with the constant potential line as described above.
  • the power supply wiring and the shield wire may be separately wired. If the power supply voltages for driving the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 are the same, the potentials of the positive power supply (positive potential) VDDX and VDDY, and the potential of the negative power supply (Negative potential) VS SX and VS SY may be shared. Adopting such a configuration is advantageous because the number of external input terminals and wiring extending therefrom can be reduced.
  • two external input terminals 102 to which the negative power supply VS SX is input are provided, and two wirings VS SX are provided correspondingly.
  • the wirings V ID1 to V ID6 are surrounded on the TFT array substrate 1 by a shield line 80 set to the potential (negative potential) of the negative power supply VSSX.
  • a shield line 80 formed of a metal layer such as A1 same as the data line 35 also extends between the shift register circuit 101a and the waveform control circuit 10lb.
  • the distal end of the extended shield line 80 is connected to a conductive layer such as a polysilicon, which is the same as the scanning line 31, below the metal layer such as A 1 via the first interlayer insulating layer as described later. It is connected to a shield line 80 so as to surround the waveform control circuit 101 b and the buffer circuit 101 c via a shield line connecting portion 81 formed of a layer.
  • the wirings VID1 to VID6 are configured to be doubly shielded from the wirings CLX and CLX, on the TFT array substrate 1, and the shift register circuit 101a, the waveform control circuit 101b, and the buffer
  • the shield for circuit 101c is also considered to be highly reliable.
  • this configuration is not adopted, if at least one shield wire 80 or 82 is interposed between the wiring CLX and CLX 'and the wiring VID1 to VID6, the shield The effect can be obtained to some extent.
  • the wirings VID1 to VID6 and the wirings CLX and CLX ' are opposite to the data line driving circuit 101 on the TFT array substrate 1. It is turned around (that is, the former is clockwise and the latter is counterclockwise). Therefore, the distance between these wirings becomes large as a whole, and the electromagnetic wave transmitted between these wirings decreases in accordance with the interposition of the data line driving circuit 101 between these wirings. Even when the frequency of CLX 'is high, the jump of high-frequency clock noise from the wirings CLX and CLX' to the wirings 101 to 106 can be further reduced.
  • the wirings CLX and CLX 'and the wirings VID1 to VID6 are switched. That is, the wirings CLX and CLX 'may be shielded by the negative power supply VSSX, and the wirings VID1 to VID6 may be shielded by the positive power supply VDDX.
  • at least one shield wire 80 or 82 should be interposed between the wires CLX and CLX 'and the wires VID1 to VID6. If you do, you will get some shielding.
  • the image display area and the plurality of data lines 35 are surrounded on the TFT array substrate 1 by the shield lines 80. Therefore, the image display area and the plurality of data lines 35 are also shielded from the wirings CLX and CLX. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of high frequency clock noise in the sampling circuit drive signal output from the data line drive circuit 101, the data signal reaching the TFT 30 and the pixel electrode 11, and the like.
  • the shielding can be obtained at all.
  • various wirings DY, VSSY, "', and VDDX connected to the external input terminal 102 including the shielded wires 80 and 82 are, for example, A1 (alarm). And the same low-resistance metal material as the wire 35. Therefore, even if the routing area of the shielded wires 80 and 82 is long, the resistance of the shielded wires 80 and 82 is sufficiently low for practical use. That is, as shown in Fig. 2, the shield wire 82 can be wired long in a zigzag manner by sewing the gaps between the other various wirings, the shift register circuit 101a, the waveform control circuit 10lb, and the buffer circuit 101c.
  • the shield line 80 can be extended in a wide area including the image display area, and the effect of the shield can be enhanced as a whole with such a relatively simple configuration.
  • Lines 80 and 82 No external input terminal 102 connected to the various wires DY, VSSY, ⁇ ⁇ ⁇ , VDD X is on the first interlayer insulating layer 42 formed on the TFT array substrate 1, i.e. same layer Is formed on. Therefore, the effect of the shield is exhibited more efficiently.
  • various wirings DY, VSSY,..., VDDX are formed collectively from the same low-resistance metal layer such as the A1 layer by the same process. Because it is possible, it is advantageous in manufacturing.
  • a signal LCCOMM input from the external input terminal 102 shown in FIGS. 1 to 3 is a power signal of the common electrode, and is connected to a later-described facing Supplied to the common electrode (see Fig. 10) provided on the substrate
  • the second embodiment has the same configuration as the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. Only different points from the first embodiment will be described.
  • FIG. 4 is a plan view showing the configuration of various wirings including a shield line provided on a TFT array substrate and peripheral circuits in the embodiment of the liquid crystal device
  • FIG. 5 is a shield line of FIG. 6A and 6B are a circuit diagram (a) and a timing chart (b) of the shift register circuit shown in FIG. 5, respectively.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 6 and a sectional view taken along the line BB of FIG. 6 showing wiring such as a shield line, an image signal line, and a clock signal line formed on the TFT array substrate.
  • FIG. 8 is a schematic plan view (FIG.
  • the sampling circuit 301 includes a TFT 302 for each data line 35, wirings VID1 to VID12 are connected to the source electrode of the TFT 302, and a sampling circuit drive signal line 306 is connected to the gate electrode of the TFT 302. It is connected.
  • image signals VID 1 to VID 12 which are supplied through the external input terminal 102 and the wirings VID 1 to VID 12 and which are serial-parallel-converted into 12 phases are supplied to the data line Drive circuit Sampling circuit 30 according to the sampling circuit drive signal supplied from 01 30
  • the image signals VID 1 to VID 12 sampled at 1 are sequentially applied to each group of 12 adjacent data lines 35.
  • the data line drive circuit 101 and the sampling circuit 301 are configured to supply the image signals VID 1 to VID 12 serially / parallel-converted into one or two phases to the data lines 35 as data signals. .
  • the configuration is such that image signals are supplied by grouping every 12 lines, but is not limited to 12 as in the first embodiment.
  • this number (the number of serial-parallel conversions) is at most TFT. Wiring can be balanced on the array substrate 1.
  • the number of serial-parallel conversions of image signals and the number of simultaneous selections of the sampling circuit 301 may be configured to be equal, or the former may be configured to be larger than the latter.
  • the data line drive circuit 101 starts the sequential generation of transfer signals based on the reference clock signal CLX and its inverted clock signal CLK ′. After waveform-shaping and buffering the transfer signal from the shift register circuit 101a, the waveform control circuit 101b and the buffer circuit 101c to be supplied to the sampling circuit 301 via the sampling circuit drive signal line 306 are provided. Have.
  • the sampling circuit 301 is connected to each sampling circuit drive signal line 306 in parallel with 12 TFTs 302 corresponding to the image signals VID 1 to VID 12 which have been converted from serial to parallel into 12 phases. That is, switches S1 to S12 composed of the TFT 302 are connected to the first sampling circuit drive signal line 306 from the left, and switches S13 to S24 are driven for the second sampling circuit from the left. The switches are connected to a signal line 306, and the switches Sn-11 to Sn are connected to a sampling circuit drive signal line 306 on the right end.
  • the enable signals (control signals) ENB1 and ENB2 shown in FIG. 5 are input to an enable circuit provided in the waveform control circuit 101b.
  • the selection period of the sampling circuit 301 is controlled by limiting the width of pulses sequentially output from the shift register circuit 101a to the pulse width of the enable signals ENB1 and ENB2. I do. This prevents the occurrence of a ghost between the data lines 35 receiving image signals from the same wiring (VID1 to VID12) separated by 12 data lines. Therefore, the enable signals ENB 1 and ENB 2 belong to a high-frequency control signal having a cycle shorter than the horizontal scanning period, like the clock signals CLX and CLX ′.
  • the start signal DX input to the shift register circuit 101a is not shorter than the horizontal scanning period, like the clock signals CLY and CLY 'and the start signal DY input to the shift register circuit on the scanning line driving circuit side. It belongs to a low-frequency control signal with a period.
  • FIG. 6A is a circuit diagram showing a shift register circuit including an enable circuit
  • FIG. 6B is a timing chart of various signals in the shift register circuit.
  • enable circuits 112 are provided corresponding to the outputs of the respective stages of the shift register circuit 101a.
  • Each stage of the shift register circuit 10 la is provided with a reference clock signal CLX having a predetermined period and its inversion so that transfer signals are sequentially output from each stage in a transfer direction corresponding to a right direction (a direction from left to right).
  • CLX reference clock signal
  • the enable circuit 112 limits the pulse width of the transfer signal output from the odd-numbered stage of the shift register circuit 101a to the pulse width of the first enable signal ENB1 and transfers the signal output from the even-numbered stage.
  • a NAND circuit that takes the exclusive AND of the transfer signal and the enable signal ENB1 or ENB2 so that the pulse width of the signal is limited to the pulse width of the second enable signal ENB2, and an inverter that inverts the result. —It consists of the evening circuit.
  • a signal DX for starting transfer of a transfer signal is input to the shift register circuit 101a from the left side in the figure.
  • the TFT array substrate 1 has a constant potential shield line 84 also serving as a wiring VS SX for the negative power supply VS SX, and a wiring VS SY for the negative power supply VS SX.
  • the wirings VID1 to VID12 which are image signal lines, are electrically shielded from the wirings CLX and CLX 'and the wirings ENB1 and ENB2. Therefore, even when the frequency of the clock signal CLX is high, it is possible to reduce the jump of high-frequency clock noise and the like from the wirings CLX and CLX ', which are high-frequency control signal lines, and the wirings ENB1 and ENB2, to the wirings VID1 to VID12.
  • the odd-numbered image signal lines VID 1, 3, 5, 7, 9 and 11 which constitute an example of the first image signal line group are the TFT array substrate 1
  • the even-numbered image signal lines VID 2, 4, 6, 8, 10 and 10, which are routed in the X direction side of the above-mentioned data line driving circuit 101 and constitute an example of the second image signal line group.
  • Reference numeral 12 is routed in the direction opposite to the X direction of the data line driving circuit 101 on the TFT array substrate 1.
  • the frequency of the image signals VID 1 to 12 supplied to the sampling circuit 301 can be reduced,
  • the wiring VIDs 1 to 12 can be arranged on both sides of the data line driving circuit 101 with good balance.
  • an area for forming the data signal supply means including the sampling circuit 301 and the data line driving circuit 101 can be easily secured on the TFT array substrate 1. Therefore, large screens with limited board size Is achieved.
  • the wiring VIDs 1 to 12 serving as image signal lines are connected to the clock signals C LX and It is electrically shielded from wirings CLX and CLX ', which are high frequency control signal lines for supplying CLX' and enable signals ENB1 and ENB2, and wirings ENB1 and ENB2. Therefore, even when the frequency of the clock signal is high, the jump of high frequency clock noise or the like from these high frequency control signal lines into the wirings VID 1 to 12 can be reduced.
  • the start signals DX and DY and the clock signals CL ⁇ and CL ⁇ which belong to the low-frequency control signal, are connected to the image signals on the wirings VID1 to VID12 and the data lines 35 supplied based on the image signals. It does not cause high frequency noise in the signal. For this reason, the wirings DX, DY, CLY, and CLY, which are low-frequency control signal lines, may or may not be shielded by a constant potential shield line.
  • the wirings VID 1, 3,..., 11 are connected to the wirings DY, CLY and CLY 'by the shield line 87 made of the constant potential wiring VDDY.
  • the wirings VID2, 4,..., 12 are shielded from the wiring DY by a shield line 85 consisting of a wiring VS SY of a constant potential. Further, from the wiring DX, the wirings VID 1 to 12 are shielded by a shield wire 84.
  • the wiring VID 11 located on the side close to the wirings CLX and CLX ′, which are the high-frequency control signal lines is the wiring VS SX Due to the presence of two shield lines 84 and 86, respectively, from VDDX and VDDX, they are separated from these wirings CLX and CLX 'and are electrically shielded.
  • the wiring VID 12 located on the side close to the wiring CLX and CLX ′, which are high-frequency control signal lines is a single shield composed of the wiring VS SX.
  • the line 84 and the line DX which is a low-frequency control signal line Due to the existence of the line 84 and the line DX which is a low-frequency control signal line, the line is separated from these lines CLX and CLX 'and is electrically shielded. That is, the wiring DX belonging to the low-frequency control signal line which does not cause high-frequency noise in the image signal and the data signal.
  • the wiring CLX and CLX 'together with the shield line 84 between the wirings CLX and CLX, which are high-frequency control signal lines, and the wiring VID 12 it is possible to further reduce the adverse effect of the wiring CLX and CLX' on the VID 12 such as clock noise.
  • electromagnetic waves decrease with distance and the presence of obstacles.
  • shielded wires (wiring 84, 85, 86, 87) between wiring CLX and CLX 'and wiring ENB 1 and ENB 2 and wiring VID 1 to 12 Clock noise is generated by using as many lines as possible of constant-potential wiring such as, and low-frequency control signal lines (wirings that supply low-frequency control signals such as wiring DX, DY, CLY, and CL ⁇ '). Electromagnetic waves to be generated are reduced, and clock noise and the like are reduced. Thus, interposing a low-frequency control signal line between the high-frequency control signal line and the image signal line other than the shield line is advantageous from the viewpoint of effective use of the space on the TF / substrate 1 and noise reduction. .
  • the external input terminals 102 respectively connected to the wirings V ID 1-12 are arranged on both sides, and between them.
  • the external input terminals 102 connected to the wirings ENB1, ENB2, CLX 'and CLX are concentrated.
  • the external input terminal 102 connected to the shield wire 84 (wiring VSSX) is arranged between the external input terminal 102 connected to the wiring VID 12 and the external input terminal 102 connected to the wiring ENB 1. ing.
  • the external input terminal 102 connected to the shielded wire 84 (Torumi line VSSX) is arranged.
  • the shield line 84 is wired between the wirings VID1 to VID12 and the wirings ENB1, ENB2, CLX 'and CLX.
  • the clock signal CLX or the like is applied to the image signals VID 1 to 12. It is possible to effectively prevent a situation where clock noise or the like is generated.
  • the area outside the wiring VI The input terminals 102 are arranged as close to both sides as possible (in the X direction and on the side opposite to the X direction) and between the external input terminals 102 for wiring CLX 'etc.
  • the external input terminal 102 for the shielded wire 80 and the like is arranged at this interval as far as possible.
  • the wiring VSSX, VSSY, VDDX, and VSSY are respectively extended to form the shield lines 84, 85, 86, and 87, so that the external input terminals and the wiring can be shared.
  • the structure can be simplified and space can be saved.
  • the potential of the shield wires 84, 85, 86, and 87 can be easily set to a constant potential by thus sharing with the constant potential line.
  • the power supply wiring and the shielded wire may be separately wired.
  • the wirings VID1 to VID12 are connected to the wiring CLX on the TFT array substrate 1.
  • the shields for the shift register circuit 101a, the waveform control circuit 101b, and the buffer circuit 101c are also highly reliable. It is assumed. However, even if the surrounding configuration is not adopted, at least one shielded wire 84, 85, 86, and 87 is required between the wiring CLX, CLX ', ENB1, and ENB2 and the wiring VID1 to VID12. If configured to intervene, the effect of the shield can be obtained at least.
  • the image display area and the plurality of data lines 35 are surrounded on the TFT array substrate 1 by the shield lines 85. Therefore, the image display area and the plurality of data lines 35 are also shielded from the wirings CLX, CLX, ENB1 and ENB2. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of high-frequency clock noise in the sampling circuit drive signal output from the data line drive circuit 101, the data signal that has reached the TFT 30 and the pixel electrode 11, and the like.
  • the wirings VID 1 to VID 12 leading to the sampling circuit 301 should be shielded by the shield wires 84, 85, 86 or 87.
  • the shield line 85 extends from the wiring line VS SY, and the power supply signal VS SY is redundantly supplied to the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area. It is extended to supply. Therefore, even if the shield line 85 or the wiring VS SY is broken, it is advantageous because the device hardly becomes defective.
  • various wirings DY, VSSY,..., VDDX connected to the external input terminal 102 are, for example, A1 (aluminum) or the like.
  • the data line 35 is made of the same low-resistance metal material. Therefore, even if the routing area of the shield wires, 84 (wiring VSSX), 85 (wiring VSSY), 86 (wiring VDDX), and 87 (wiring VDDY) is long, the shield wires 84, 85, 86, and 87 Is practically sufficiently low. That is, as shown in FIG.
  • a zigzag stitch is formed by sewing other clearances, the shift register circuit 101a, the gap between the waveform control circuit 10lb and the buffer circuit 101c.
  • the shielded wires 84 and 86 can be wired long, and the shielded wire 85 can be long wired over a wide area including the image display area. With such a relatively simple configuration, the effect of the shield can be enhanced as a whole. Also, as shown in FIGS. 7 (&) and (13), the various wirings DY, VSSY,..., VDDX are formed on the first interlayer insulating layer 42 formed on the TFT array substrate 1, that is, on the same layer. Is formed. Therefore, the effect of the shield is exhibited more efficiently.
  • various wirings DY, VSSY,..., VDDX are collectively formed from the same low-resistance metal layer such as the A1 layer by the same process. Since it can be formed, it is advantageous in manufacturing.
  • FIG. 8A is an enlarged view of a wiring method of the wirings VID 1 to 12 between the scanning line driving circuit 101 and the sampling circuit 301 shown in FIGS.
  • the odd-numbered image signal lines VID 1,..., 11 and the even-numbered image signal lines VID 2,..., 12 are comb-shaped from both sides for each line. It is alternated. Therefore, the wirings VID 1 to 12 and the sampling circuit driving signal line 306 are arranged very regularly and well-balanced around the data line driving circuit 101.
  • Each pair is routed from every other side (for example, from the right side) every two wires, and the other two wires V ID 3, 4, 7, 8 and so on corresponding to the two adjacent data lines 35
  • the wires are routed from the opposite side (for example, the left side) every two wires as a pair, and that the two wires are paired between the data line driving circuit 101 and the sampling circuit 301 and that the wires are formed in a comb shape from both sides.
  • the image signals supplied from the adjacent pairs of wirings 1 and 2, 3 and 4,... On the TFT array substrate 1 are supplied to the data line 35 with the opposite polarities.
  • noise components caused by the same noise source present in these signals have an effect of canceling each other out of each pair, which is useful for reducing noise.
  • the scanning line driving circuit 104 applies a scanning signal to the scanning line 31 in a pulsed line-sequential manner at a predetermined timing.
  • the sampling circuit 301 samples these image signals.
  • the data line driving circuit 101 supplies a sampling circuit driving signal for each data line for each of the 12 wirings VID 1 to VID 12 in accordance with the timing at which the scanning line driving circuit 104 applies a gate voltage.
  • the TFT 302 of the sampling circuit 301 is turned on.
  • the sampled data signals are sequentially applied to the sampling circuit 301 to the twelve adjacent data lines 35. That is, the 12-phase serial-parallel converted parallel image signals VID 1 to VID 12 input from the wirings VID 1 to VID 12 are supplied to the data line 35 by the data line driving circuit 101 and the sampling circuit 301.
  • the voltage is applied to the pixel electrode 11 via the TFT 30 to which both the scanning signal and the data signal are applied.
  • the voltage of the pixel electrode 11 is held by the storage capacitor (described later) for a time that is, for example, three digits longer than the time during which the source voltage is applied.
  • the wires VID1 to VID12 are shielded from the wires CLX and CLX 'and the wires ENB1 and ENB2 by the shield wires 84, 85, 86 and 87, the frequency of the clock signal CLX is Even if high, reduce the jump of high frequency clock noise from wiring CLX and CLX 'and wiring ENB 1 and ENB 2 to wiring VID 1 to VID 12 it can.
  • the alignment state of the liquid crystal in a portion of the liquid crystal layer 50 between the pixel electrode 11 and a common electrode changes.
  • the incident light cannot pass through the liquid crystal portion according to the applied voltage
  • the normally black mode the incident light passes through the liquid crystal portion according to the applied voltage.
  • Light having a contrast according to the image signal is emitted from the liquid crystal device 200 as a whole.
  • the capacitance line 31 ′ is formed on the TFT array substrate 1 in parallel with the scanning line 31 (gate electrode), for example, the same conductive polyline as the scanning line 31. It is formed of a silicon layer or the like, and is connected to the shield wire 80 via a contact hole 80a.
  • the shield line 80 can also serve as the wiring for setting the capacitance line 3 1 ′ to a constant potential, and the external input terminal required for setting the capacitance line 3 1 ′ to the constant potential is also shielded. 80 can be shared with external input terminal 102.
  • the liquid crystal device 200 includes a TFT 3 provided in each pixel.
  • the TFT array substrate 1 and the semiconductor layer 32, the gate insulating layer 33, the scanning line 31 (gate electrode), the first interlayer insulating layer 42, the data line 35 (source electrode), the second interlayer An insulating layer 43, a pixel electrode 11, and an alignment film 12 are provided.
  • the liquid crystal device 200 also includes, for example, a counter substrate 2 made of a glass substrate, and a common electrode 21, an alignment film 22, and a light shielding film 23 laminated thereon.
  • the liquid crystal device 200 further includes a liquid crystal layer 50 sandwiched between these two substrates.
  • the first and second interlayer insulating layers 42 and 43 each have a thickness of about 5000 to 15000 A.
  • NSG non-silicate glass
  • PSG phosphorous glass
  • BSG boron glass
  • BPSG boron glass
  • silicon nitride film silicon oxide film, etc.
  • an interlayer insulating layer serving as a base of the TFT 30 may be formed of a silica glass film, a silicon nitride film, a silicon oxide film, or the like.
  • the pixel electrode 11 is made of, for example, a transparent conductive thin film such as an ITO film (indium tin oxide film).
  • the alignment film 12 is made of, for example, an organic thin film such as a polyimide thin film. Such an alignment film 12 is formed, for example, by applying a polyimide-based coating solution and then performing a rubbing process in a predetermined direction so as to have a predetermined pretilt angle.
  • the common electrode 21 is formed over the entire surface of the counter substrate 2. Such a common electrode 21 is formed, for example, by depositing an ITO film or the like to a thickness of about 50 to 200 nm by a sputtering process or the like, and then performing an etching process such as photolithography.
  • the alignment film 22 is made of, for example, an organic thin film such as a polyimide thin film. like this
  • the alignment film 22 is formed, for example, by applying a polyimide-based coating solution and then performing a rubbing process in a predetermined direction so as to have a predetermined pretilt angle.
  • the light-shielding film 23 is provided in a predetermined region facing the TFT 30.
  • a light-shielding film 23 is formed by sputtering, photolithography, and etching using a metal material such as Cr or Ni, as in the case of the above-described peripheral parting 53, or is formed by applying carbon or Ti. It is formed from a material such as resin black dispersed in a resist.
  • the light-shielding film 23 not only shields the TFT 30 semiconductor layer (polysilicon film) 32 but also has a function of improving contrast and preventing color mixture of color materials.
  • the liquid crystal layer 50 is formed by a sealing material 52 (see FIGS.
  • the liquid crystal layer 50 adopts a predetermined alignment state by the alignment films 12 and 22 when no electric field is applied from the pixel electrode 11.
  • the liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several kinds of nematic liquid crystals are mixed.
  • the sealing material 52 is an adhesive made of, for example, a photo-curing resin or a thermosetting resin for bonding the two substrates 1 and 2 around them, and a distance between the two substrates is set to a predetermined value. Is mixed in.
  • the TFT 30 has a scanning line 31 (gate electrode), a semiconductor layer 32 on which a channel is formed by an electric field from the scanning line 31, and a gate insulation for insulating the scanning line 31 from the semiconductor layer 32.
  • the semiconductor device includes a layer 33, a source region 34 formed in the semiconductor layer 32, a data line 35 (source electrode), and a drain region 36 formed in the semiconductor layer 32.
  • the drain region 36 is connected to a corresponding one of the plurality of pixel electrodes 11.
  • the source region 34 and the drain region 36 are doped with a predetermined concentration of n-type or p-type dopant to the semiconductor layer 32 depending on whether an n-type or p-type channel is formed, as described later. It is formed by pressing.
  • An n-type channel TFT has the advantage of a high operating speed, and is often used as a TFT 30 as a pixel switching element.
  • the semiconductor layer 32 constituting the TFT 30 may be formed, for example, by forming an a-Si (amorphous silicon) film on the TFT array substrate 1 and then subjecting the film to anneal treatment to grow the solid phase to a thickness of about 50 to 200 nm. Is formed.
  • doping may be performed by ion implantation using a dopant of a Group V element such as Sb (antimony), As (arsenic), or P (phosphorus).
  • a p-channel type TFT 30 doping is performed by ion implantation using a group III element dopant such as B (boron), Ga (gallium), and In (indium).
  • group III element dopant such as B (boron), Ga (gallium), and In (indium).
  • the TFT 30 is an n-channel TFT having an LDD (Lighlight 1 y Doped Drain) structure, the p-type semiconductor layer 32 and the source region 34 and the drain region 36 on the channel side, respectively.
  • a low-concentration doped region is formed in an adjacent part with a dopant of a V group element such as P, and a heavily doped region is similarly formed with a dopant of a V group element such as P.
  • a source region 34 and a drain region 36 are formed in the n-type semiconductor layer 32 by using a dopant of a group III element such as B.
  • the use of the LDD structure has an advantage that the short channel effect can be reduced.
  • the TFT 30 may be an offset type TFT in which ions are implanted into a low concentration doped region in the LDD structure, or may be self-aligned by doping high concentration impurity ions using the gate electrode as a mask. Alternatively, a self-aligned TFT that forms high-concentration source and drain regions may be used.
  • two gate electrodes 31 may be provided in series to form a dual gate structure, or three or more gate electrodes 31 may be provided in series. With such a configuration, a leakage current when the TFT 30 is off can be reduced and occurrence of crosstalk or the like can be suppressed, so that a high-quality liquid crystal device can be provided.
  • the gate insulating layer 33 can be obtained by forming a relatively thin thermal oxide film of about 30 to 150 nm by thermally oxidizing the semiconductor layer 32 at a temperature of about 900 to 1300 ° C. Thereby, a high-quality insulating film having an excellent interface state between the semiconductor layer 32 and the gate insulating layer 33 can be formed.
  • the scanning line 31 is formed by depositing a polysilicon film by a low pressure CVD method or the like, and then performing a photolithography process, an etching process, or the like. Some May be formed from a metal film such as A1 or a metal silicide film.
  • the scanning line 31 (gate electrode) is arranged as a light-shielding film corresponding to part or all of the area covered by the light-shielding film 23, the light-shielding property of the metal film or the metal silicide film allows the light-shielding. It is also possible to omit part or all of the film 23. In this case, in particular, there is an advantage that the pixel aperture ratio can be prevented from lowering due to misalignment between the opposing substrate 2 and the TFT array substrate 1.
  • the data line 35 may be formed of a transparent conductive thin film such as an ITO film similarly to the pixel electrode 11. Alternatively, it may be formed from a low-resistance metal such as A1 or a metal silicide deposited to a thickness of about 100 to 50 Onm by a sputtering process or the like.
  • a contact hole 37 leading to the source region 34 and a contact hole 38 leading to the drain region 36 are formed, respectively.
  • the data line 35 (source electrode) is electrically connected to the source region 34 via the contact hole 37 to the source region 34.
  • a contact hole 38 to the drain region 36 is formed in the second interlayer insulating layer 43.
  • the pixel electrode 11 is electrically connected to the drain region 36 via a contact hole 38 to the drain region 36.
  • the above-described pixel electrode 11 is provided on the upper surface of the second interlayer insulating layer 43 configured as described above. If each contact hole is formed by, for example, dry etching such as reactive etching or reactive ion beam etching, the aperture size can be reduced, and a high aperture ratio of the pixel can be realized.
  • the semiconductor layer 32 in which a channel is formed when light enters, the semiconductor layer 32 in which a channel is formed generates a photocurrent due to the photoelectric conversion effect of p-Si, which deteriorates the transistor characteristics of the TFT 30.
  • the light-shielding film 23 is formed on the opposing substrate 2 at a position facing each TFT 30, incident light is prevented from entering the semiconductor layer 32.
  • the data line 35 is formed of an opaque metal thin film such as A1 so as to cover the gate electrode from above, the semiconductor layer 32 may be formed together with the light shielding film 23 or alone. Incident light (that is, light from above in FIG. 7) can be effectively prevented.
  • the pixel electrodes 11 are provided with storage capacitors 70, respectively.
  • the storage capacitor 70 includes a first storage capacitor electrode layer 32 ′ formed in the same step as the semiconductor layer 32, an insulating layer 33 ′ formed in the same step as the gate insulating layer 33, and a scanning line.
  • the capacitance line 31 5 (second storage capacitance electrode) formed by the same process as that of the first and second interlayer insulating layers 42 and 43, and the capacitance via the first and second interlayer insulating layers 42 and 43. It is composed of a part of the pixel electrode 11 facing the line 31 ′. Since the storage capacitor 70 is provided in this manner, a high-definition display can be performed even when the duty ratio is small.
  • the TFT 30 is a polysilicon type TFT
  • the sampling circuit 301, the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, etc. This is advantageous in manufacturing since a peripheral circuit composed of a TFT 302 of a polysilicon TFT type can be formed.
  • these peripheral circuits are formed in a peripheral portion on the TFT array substrate 1 from a plurality of TFTs having a complementary structure composed of an n-channel polysilicon TFT and a p-channel polysilicon TFT.
  • the side where the projection light of the opposite substrate 2 is incident and the side where the projection light of the TFT array substrate 1 emits are, for example, Depending on the operation mode, such as TN (Piste-Donematic) mode, STN (Super-TN) mode, D-STN (Double-STN) mode, and Normal-White mode / Nomal-Black mode, the polarization An film, a retardation film, a polarizing plate and the like are arranged in a predetermined direction.
  • FIG. 12 is a plan view showing the entire configuration of the liquid crystal device of the present invention
  • FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line HH of FIG.
  • the sampling circuit 301 is provided with a light shielding formed on the opposing substrate 2 as shown by the hatched areas in FIGS. 1 and 4 and as shown in FIGS. 12 and 13.
  • the scanning line driving circuit 104 are provided on the TFT array substrate 1 at a position facing the peripheral partition 53, and the TFT array not facing the liquid crystal layer 50. It is provided on a narrow and elongated peripheral portion of the substrate 1.
  • a sealing material 52 made of a photocurable resin as an example of a sealing member that surrounds the liquid crystal layer 50 by bonding the two substrates together around the image display area is provided for image display. It is provided along the area. Further, a light-shielding peripheral partition 53 is provided between the image display area on the counter substrate 2 and the sealing material 52.
  • Such a light-shielding peripheral partition 53 is formed by, for example, a sputtering process using a metal material such as Cr (chromium), Ni (nickel), and A1 (aluminum), a photolithography process, an etching process, and the like. It is formed on the opposite substrate 2. Alternatively, it is formed from a material such as resin black in which carbon or Ti (titanium) is dispersed in a photoresist. Further, a light-shielding peripheral partition 53 may be provided on the TFT array substrate 1. If the peripheral partition 53 is built on the precise substrate 1, the aperture area of the pixel is not affected by variations in accuracy in the bonding process between the TFT array substrate 1 and the counter substrate 2. Thus, the transmittance of the liquid crystal device can be maintained with high accuracy.
  • a data line driving circuit 101 and an external input terminal (mounting terminal) 102 are provided along the lower side of the image display area in an area outside the sealing material 52.
  • Scan line drive circuits 104 are provided on both sides of the image display area along the sides. Then, the opposing substrate 2 having substantially the same contour as the seal material 52 is formed. Is fixed to the TFT array substrate 1 by a sealing material 52.
  • the shield line 80 and the sampling circuit 301 are provided below the peripheral partition 53 on the TFT array substrate 1, space can be saved on the TFT array substrate 1,
  • the scanning line driving circuit 104 and the data line driving circuit 101 can be formed with a margin around the TFT array substrate 1, and the liquid crystal device 200 can be formed by forming the shield lines 80. There is little or no decrease in the effective display area at.
  • liquid crystal device 200 since the liquid crystal device 200 described above is applied to a color liquid crystal projector, three liquid crystal devices 2000 are used as light valves for RGB, respectively, and each panel is used for RGB color separation. The light of each color decomposed through the dichroic mirror is incident as incident light. Therefore, in each embodiment, the opposite substrate 2 is not provided with a color filter. However, in the liquid crystal device 200, an RGB color filter may be formed on the opposing substrate 2 together with the protective film in a predetermined region opposing the pixel electrode 11 where the light shielding layer 23 is not formed. Alternatively, a color fill layer may be built in with a color resist of RGB so as to correspond to each pixel on the TFT array substrate 1.
  • a flattening film may be further applied on the second interlayer insulating layer 43 by spin coating or the like in order to suppress the alignment defect of the liquid crystal molecules on the TFT array substrate 1 side. , Or a CMP process may be performed. Alternatively, the second interlayer insulating layer 43 may be formed of a flattening film.
  • the switching element of the liquid crystal device 200 is a regular or coplanar type Although this embodiment has been described as being a silicon TFT, the present embodiment is also effective for other types of TFs such as an inverted silicon TF TF and an amorphous silicon TF ⁇ .
  • the liquid crystal layer 50 is made of a nematic liquid crystal. However, if a polymer dispersed liquid crystal in which the liquid crystal is dispersed as fine particles in a polymer is used, the alignment film 12 And 22 and the above-mentioned polarizing film, polarizing plate, etc. are not required, and the advantage of higher brightness and lower power consumption of the liquid crystal device due to the higher light use efficiency can be obtained.
  • liquid crystal device 200 when the liquid crystal device 200 is applied to a reflective liquid crystal device by forming the pixel electrode 11 from a metal film having a high reflectivity such as A1, the liquid crystal molecules are almost completely removed when no voltage is applied.
  • a vertically aligned SH (super home port pick) type liquid crystal may be used.
  • the common electrode 21 is provided on the counter substrate 2 side so as to apply a vertical electric field (vertical electric field) to the liquid crystal layer 50.
  • Each pixel electrode 11 is composed of a pair of electrodes for generating a horizontal electric field so as to apply a parallel electric field (horizontal electric field) (that is, without providing an electrode for generating a vertical electric field on the side of the counter substrate 2, It is also possible to provide an electrode for generating a lateral electric field on the side of the TFT array substrate 1).
  • the use of the horizontal electric field is advantageous in widening the viewing angle as compared with the case of using the vertical electric field.
  • the present embodiment can be applied to various liquid crystal materials (liquid crystal layers), operation modes, liquid crystal arrangements, driving methods, and the like.
  • a well-known peripheral circuit such as a precharge circuit, an inspection circuit, or the like may be further provided in the peripheral portion of the peripheral parting board 53.
  • the precharge circuit drives the data line 35 to the data line for the purpose of improving the contrast ratio, stabilizing the potential level of the data line 35, and reducing line unevenness on the display screen.
  • the precharge circuit is a circuit for inspecting the quality, defects, and the like of the liquid crystal device during manufacturing or at the time of shipment under the peripheral partition 53 or the peripheral portion of the TFT array substrate.
  • TFD Thin
  • the switching element may be composed of a two-terminal non-linear element such as a film diode. Further, the switching elements may be formed on a silicon substrate instead of a quartz substrate, hard glass, or the like. In this case, one of the data line and the scanning line is arranged on the opposite substrate to function as an opposite electrode, and the switching element is arranged between the other line provided on the TFT array substrate and the pixel electrode. And drive the liquid crystal. Even with such a configuration, the effect of preventing high-frequency clock noise from jumping into the image signal and the overnight signal can be exhibited by shielding the pixel signal line and the data line from the close signal line. .
  • the present invention is not limited to a liquid crystal device, but can be applied to various electro-optical devices such as an electroluminescent device and a plasma display.
  • FIG. 14 shows a schematic configuration of an electronic apparatus including the liquid crystal device 200 as described above.
  • the electronic equipment includes a display information output source 100, a display information processing circuit 1002, a driving circuit 1004, a liquid crystal device 200, a clock generation circuit 1008, and a power supply. It is configured to include a circuit 110.
  • the display information output source 100 00 includes a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), a memory such as an optical disk device, a tuning circuit for tuning and outputting a TV signal, and the like. Based on the clock signal from 08, display information such as an image signal in a predetermined format is output to the display information processing circuit 102.
  • the display information processing circuit 1002 includes various known processing circuits such as an amplification and polarity inversion circuit, a serial-to-parallel conversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit.
  • a digital signal is sequentially generated from display information input based on the signal, and is output to the driving circuit 104 together with the clock signal CLK.
  • the drive circuit 100 4 drives the liquid crystal device 200.
  • the power supply circuit 110 supplies a predetermined power supply to each of the above circuits.
  • a driving circuit 104 may be mounted on the TFT array substrate 1 constituting the liquid crystal device 200.
  • a circuit 1002 may be mounted.
  • FIGS. 15 to 18 show specific examples of the electronic device configured as described above.
  • a liquid crystal projector 110 which is an example of an electronic device, has three liquid crystal modules including a liquid crystal device 200 in which the above-described drive circuit 104 is mounted on a TFT array substrate.
  • the projectors are configured as light bulbs 200 R, 200 G, and 200 B for RGB, respectively.
  • the LCD project 110 when the projection light is emitted from the lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, three mirrors 1106 and two dike openings 1 1 According to 08, light components R, G, and B corresponding to the three primary colors of RGB are separated, and guided to light valves 200R, 20000, and 2008 corresponding to the respective colors.
  • B light is guided through a relay lens system 1 1 2 1 consisting of an entrance lens 1 1 2 2, a relay lens 1 1 2 3, and an exit lens 1 1 2 4 in order to prevent light loss due to a long optical path.
  • a relay lens system 1 1 2 1 consisting of an entrance lens 1 1 2 2, a relay lens 1 1 2 3, and an exit lens 1 1 2 4 in order to prevent light loss due to a long optical path.
  • the light components corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 200 R, 200 G, and 200 B, respectively are recombined by the dichroic prism 111, and then projected onto the projection lens 1.
  • the image is projected as a color image on the screen 1120 via 1114.
  • the light-shielding layer is also provided below the TFT as described above, the light reflected by the projection optical system in the liquid crystal projector based on the incident light from the liquid crystal device 200 can be used.
  • the reflected light from the surface of the TFT array substrate when the incident light passes, and a part of the incident light that passes through the dichroic prism 111 after exiting from another liquid crystal device (R light and G light) can be used.
  • R light and G light a part of the incident light that passes through the dichroic prism 111 after exiting from another liquid crystal device.
  • an AR film for preventing return light is attached between the TFT array substrate and the prism of each liquid crystal device, or an AR coating is applied to the polarizing plate. Since there is no need to perform processing, it is very advantageous in reducing the size and simplifying the configuration.
  • the 200 is a light guide 1306 including a backlight 130a, a circuit board 1308, a first and a second shield plate 1310 and 1312, two It is housed together with the elastic conductors 13 14 and 13 16 and the film carrier tape 13 18.
  • the above-described display information processing circuit 1002 may be mounted on a circuit board 1308, or mounted on a TFT array substrate of a liquid crystal device 200. Is also good.
  • the above-described drive circuit 104 can be mounted on a circuit board 1308.
  • the liquid crystal device 200 which forms the liquid crystal module by mounting the drive circuit 1004 and the display information processing circuit 1002
  • the liquid crystal device 200 is mounted in the metal frame 1302.
  • the fixed device can be produced, sold, used, or the like as a liquid crystal device, or as a backlight type liquid crystal device incorporating the light guide 1306 in addition thereto.
  • the driving circuit 1004 and the display information processing circuit 100 Anisotropic conductive film placed on the periphery of TFT array substrate 1 on TCP (Tape Carrier Package) 1 32 on which IC 1 3 2 4 including IC 2 is mounted on polyimide tape 1 3 2 2 It is also possible to physically, electrically connect, and to produce, sell, use, etc. as a liquid crystal device.
  • the image signal line is shielded from the control signal line such as the clock signal line by the constant potential conductive line wired on the substrate, the image signal line is switched from the clock signal line to the image signal line. High-frequency clock noise and the like can be reduced, and a high-quality image can be displayed in accordance with a high-frequency image signal for displaying a high-resolution image.
  • the image signal lines are routed to both sides of the data signal supply means, even when a large number of image signal lines corresponding to multi-phase serial-to-parallel conversion are wired, both sides of the data signal supply means can be connected.
  • Wiring can be performed in a well-balanced manner, and the screen can be enlarged with a limited board size. Also, by shielding the image display area and the plurality of data lines, it is possible to reduce the occurrence of high-frequency clock noise in the data signal and the like on the data lines, thereby enabling higher-quality image display.
  • a high frequency clock noise is reduced, and a liquid crystal projector, a personal computer, a pager, etc., capable of displaying a high-quality image having a large image display area compared to the substrate size.
  • Various electronic devices can be realized.

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Description

明 細 書 電気光学装置及び電子機器 技術分野
本発明は、 薄膜トランジスタ (以下、 T F Tと称す) 駆動等によるァクティ ブマトリクス駆動方式の液晶装置等の電気光学装置及びこれを用いた電子機器 の技術分野に属し、 特に T F Tアレイ基板上に設けられたデ一夕線駆動回路に よりクロック信号等の制御信号に基づいてデータ線を高周波で駆動する形式の 電気光学装置及び"これを用いた電子機器の技術分野に属する。 背景技術
従来、 T F T駆動によるアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置等の電気 光学装置においては、 縦横に夫々配列された多数の走査線及びデ一夕線並びに これらの各交点に対応して多数の画素電極が T F Tアレイ基板上に設けられて いる。 そして、 これらに加えて、 デ一夕線駆動回路、 サンプリング回路等を含 みデータ線にデ一夕信号を供給するデータ信号供給手段や、 走査線駆動回路等 を含み走査線に走査信号を供給する走査信号供給手段が、 このような T F Tァ レイ基板上に設けられる場合がある。
この場合、 デ一夕信号供給手段には、 データ信号の供給タイミングの基準と なるデ一夕線駆動回路を動作させるためのデ一夕線側基準クロックなどの制御 信号、 表示すべき画像の内容に対応しておりデ一夕信号の基となる画像信号、 正や負の定電位電源等が、 T F Tアレイ基板に設けられた外部入力端子及び配 線を介して夫々供給される。 他方、 走査信号供給手段には、 走査信号の供給夕 ィミングの基準となる走査線駆動回路を動作させるための走査線側基準クロッ ク、 正や負の定電位電源等が、 やはり T F Tアレイ基板に設けられた外部入力 端子及び配線を介して供給される。 そして走査信号供給手段においては、 例え ば走査線駆動回路により、 走査線側基準クロックに基づくタイミングで走査信 号を走査線に線順次で供給する。 これに対応してデータ信号供給手段において は、 例えば入力された画像信号をサンプリングするサンプリング回路を、 デ一 夕線駆動回路がデ一夕線側基準クロックに基づくタイミングで順次駆動して、 サンプリング回路からデ一夕信号がデ一夕線に供給される。 これらの結果、 走 査線にゲ一ト接続された各 T FTは、 走査信号の供給に応じて導通状態とされ、 データ信号が当該 T F Tを介して画素電極に供給されて各画素における画像表 示が行われる。
近年特に、 液晶プロジェクタ用の液晶装置等では、 表示画像の高解像度化に 伴って、 非常に高い周波数のシリアルな画像信号が入力されるようになってき ている。 例えば、 画像信号のドッ ト周波数は、 近時の高解像度のパソコン画面 において使用される XGA表示モードや SXGA表示モードになると、 夫々約 65MH zと約 135MH zであり、 従来の VGA表示モードにおけるドヅ ト 周波数 (約 30MH z) を遥かに上回る。 これに対応すべく、 特にデ一夕信号 供給手段に供給されるデ一夕線側基準クロックの周波数も非常に高くなつてき ている。 発明の開示
しかしながら、 近年の表示画像の高品位化の要請の下では、 このように基準 クロックの周波数を高くすることによる、 高周波のクロックノイズの発生が無 視し得ないようになる。 即ち、 例えば従来の比較的周波数の低いデ一夕線側基 準クロックをデータ線駆動回路に供給してサンプリング回路を駆動する構成に おいて、 そのままクロック信号の周波数を上げたのでは、 サンプリング回路に 入力される画像信号中やサンプリング回路から出力されるデ一夕信号中に高周 波のクロックノィズが発生して、 デ一夕線に供給すべきデータ信号が劣化して しまう。 このように劣化したデータ信号が各画素に供給されると、 各画素によ り表示される画像もやはり劣化してしまうという問題点がある。 例えば、 各画 素において中間レベルの階調表示を行う時に、 1 OmV程度の微少なノイズが 画像信号中に飛び込んだだけでも、 表示画像中には視認可能な程度のノイズと して現れてしまう。 これは、 最高又は最低の液晶駆動電圧 (例えば、 0〜5V 間の電圧) に対応する白又は黒レベルの表示を行っている場合と比べて、 中間 レベルにおける液晶駆動電圧の変化に対する液晶の透過率の変化が急峻だから である。 このように高精度の多階調表示を実現するためには、 高周波のクロッ クノィズの問題は重大である。
他方で、 シリアル一パラレル変換数を増やすことによりサンプリング回路に 供給される画像信号の周波数を下げることはできるが、 液晶装置の基板に設け ねばならない画像信号入力用の外部入力端子の数は、 シリアル—パラレル変換 数の増加に対応して増やさねばならない。 即ち、 例えば 6相にシリアル一パラ レル変換する場合には、 画像信号入力用の外部入力端子は 6個必要となり、 1 2個のシリアル—パラレル変換の場合には、 1 2個必要となる。 更に、 これら の画像信号入力用の外部入力端子からサンプリング回路まで引き回す配線の数 も同様にシリアル一パラレル変換数だけ必要となる。 これらの結果、 画像信号 用の配線が液晶装置の基板面上を占める割合が増加して、 サンプリング回路、 データ線駆動回路等からなるデータ信号供給手段を形成する領域を基板上に確 保するのが困難となる。 ここで仮に従来のように、 外部入力端子が設けられた 基板の縁から見て、 データ線駆動回路の一方の側へクロック信号等の制御信号 用の配線を引き回し、 データ線駆動回路の他方の側へ多数の画像信号用の配線 を引き回したのでは、 各側に引き回される配線数が顕著に異なるため、 デ一夕 線駆動回路の周囲における配線の配置バランスが非常に悪くなる (即ち、 配線 が片側に偏る) という問題点が生じる。 この場合、 液晶装置の基板を大きく し て配線領域やデータ線駆動回路を形成する領域を確保することは可能であるが、 これでは、 限られた基板サイズでの画面の大型化という液晶装置の技術分野に おける基本的要請に反してしまう。
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、 入力された画像信号中や これに基づいて生成されるデータ信号中の高周波のクロックノィズの発生を低 減でき、 高品位の画像表示を行える電気光学装置を備えた電子機器を提供する ことを課題とする。
また、 画像信号のシリアル—パラレル変換数の増加に伴って配線数や外部入 力端子数が増加してもこれらをバランス良く配線や配置することができ、 しか も画像信号に対して高周波のクロック信号等の制御信号が及ぼす高周波のクロ ックノィズ等の悪影響を低減でき、 高品位の画像表示を行える液晶装置及び当 該液晶装置を備えた電子機器を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために、 本発明の一の態様は、 基板上には複数の走査線 と、 前記複数の走査線に交差する複数のデータ線と、 前記複数の走査線とデー 夕線に接続された複数のスイッチング素子と、 前記複数のスイッチング素子に 接続された複数の画素電極と、 クロック信号に基づいて画像信号に対応するデ —夕信号を前記複数のデータ線に供給するデ一夕信号供給手段と、 第 1外部入 力端子から入力される前記画像信号を前記データ信号供給手段に供給する画像 信号線と、 第 2外部入力端子から入力される前記クロック信号を前記データ信 号供給手段に供給するクロック信号線と、 前記画像信号線を前記クロック信号 線から電気的にシールドする定電位の導電線とを備えたことを特徴とする。 本発明のかかる構成によれば、 第 1外部入力端子から入力される画像信号は、 基板に配線された画像信号線を介して、 データ信号供給手段に供給される。 こ れと並行して、 第 2外部入力端子から入力されるクロック信号は、 基板に配線 されたクロック信号線を介して、 データ信号供給手段に供給される。 すると、 第 1基板に設けられた、 例えばデ一夕線駆動回路、 サンプリング回路等を含ん で構成されるデ一夕信号供給手段により、 クロック信号に基づいて画像信号に 対応するデ一夕信号が、 複数のデータ線に供給される。 ここで特に、 基板に配 線された定電位の導電線により、 画像信号線は、 クロック信号線から電気的に シールドされている。 従って、 クロック信号の周波数が高い場合でも、 クロッ ク信号線から画像信号線への高周波のクロックノィズの飛び込みを低減できる。 他方で、 基板に形成されるか又は基板に接続された走査線駆動回路等を含む 走査信号供給手段により、 走査信号が走査線を介してスィツチング素子に供給 される。 これと並行して、 上述のように高周波のクロックノイズが低減された 画像信号に対応するデータ信号が、 デ一夕線を介してスイッチング素子に供給 され、 更にスィツチング素子を介して供給されるデータ信号により画素電極に 印加される電圧が変化し、 当該画素電極に対向する液晶が駆動される。 以上の 結果、 表示すべき画像の解像度が高く、 高周波のシリアルな画像信号が入力さ れる場合にも、 これに対応して周波数が高いクロック信号を用いつつ、 高周波 のクロックノイズの発生により画質が劣化することは殆ど又は全く無くなり、 高品位の画像表示が可能とされる。
本発明の一の態様において、 前記導電線は、 前記データ信号供給手段に定電 位の電源を供給する定電位線から構成された部分を含むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は、 前記データ信号供給手段に定電位 の電源を供給する定電位線から構成された部分を含むので、 外部入力端子や配 線そのものを共用することにより、 言い換えれば定電位線を延設して導電線と することにより、 構成の簡略化と省スペース化を図ることが出来、 特に導電線 を定電位とすることも極めて容易となる。
本発明の一の態様において、 前記定電位線は、 相異なる定電位の電源を前記 データ信号供給手段に供給する第 1及び第 2定電位線からなり、 該第 1定電位 線から構成された前記導電線部分は、 前記第 1基板上で前記画像信号線を囲み、 前記第 2定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で前記クロッ ク信号線を囲むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 画像信号線は、 例えば接地電位の負電源を供 給するための第 1定電位線から構成された導電線部分により、 基板上で囲まれ ている。 クロック信号線は、 例えば正電源を供給するための第 2定電位線から 構成された導電線部分により、 基板上で囲まれている。 従って、 画像信号線は、 第 1基板上でクロック信号線から 2重にシールドされた構成が得られる。
本発明の一の態様において、 前記データ信号供給手段は、 前記画像信号をサ ンプリングするサンプリング回路と、 前記定電位線からの電源供給を受けて前 記クロック信号に基づいて該サンプリング回路を駆動するデータ線駆動回路と を備えており、 前記画像信号線と前記クロック信号線とは、 前記基板上で前記 デ一夕線駆動回路に対して反対方向から引き回されていることが好ましい。 本発明のかかる構成によれば、 走査信号供給手段において、 画像信号は、 サ ンプリング回路によりサンプリングされる。 そして、 定電位線からの電源供給 を受けるデ一夕線駆動回路により、 クロック信号に基づいてサンプリング回路 が駆動されて、 サンプリングされた画像信号がデータ信号としてデータ線に供 給される。 ここで特に、 画像信号線とクロック信号線とは、 基板上でデータ線 駆動回路に対して反対方向から引き回されているが、 一般に距離及び障害物の 介在に応じて電磁波は減少するので、 クロック信号線から画像信号線に印加さ れる電磁波が両信号線間の距離に応じて且つデ一夕線駆動回路の存在に応じて 減少する。 従って、 クロック信号の周波数が高い場合でも、 クロック信号線か ら画像信号線への高周波のクロックノィズの飛び込みを更に低減できる。
本発明の一の態様において、 前記第 1及び第 2外部入力端子は、 前記基板の 周辺部において相互に所定間隔を隔てて配置されており、 前記第 1及び第 2外 部入力端子の間には、 前記定電位の電源を前記定電位線に入力するための第 3 外部入力端子が配置されていることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 第 1及び第 2外部入力端子は、 第 3外部入力 端子を間に介して、 基板の周辺部において相互に所定間隔を隔てて配置されて おり、 好ましくは、 基板の周辺部において外部入力端子を形成可能な領域にお いて可能な限り相互に離して配置される。 従って、 例えば画像信号線とクロッ ク信号線とを隣接配置した場合と比較して、 クロック信号線から画像信号線へ の高周波のクロックノイズの飛び込みを低減できる。
本発明の一の態様において、 前記導電線は、 前記複数の画素電極により規定 される画像表示領域及び前記複数のデータ線を前記基板上で囲むように延設さ れたことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線により、 画像表示領域及び複数のデー 夕線は、 基板上で囲まれているので、 当該画像表示領域及び複数のデータ線も、 クロック信号線からシールドされることになる。 従って、 データ信号供給手段 から出力されたデ一夕信号、 スィツチング素子や画素電極に到達したデ一夕信 号等における、 高周波のクロックノイズの発生を低減できる。
本発明の一の態様において、 前記基板と対向基板との間に電気光学物質が挟 持されてなり、 前記基板と前記対向基板のうち少なくとも一方に形成された遮 光性の周辺見切りを更に備えており、 前記導電線は前記周辺見切りに対向する 位置において前記周辺見切りに沿って前記基板に設けられた部分を含むことが 好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は、 対向基板の周辺見切り下に設けら れているので、 T F Tアレイ基板上の省スペース化が図られ、 例えば、 走査線 駆動回路やデータ線駆動回路を基板の周辺部分に余裕を持って形成することが でき、 導電線形成により電気光学装置における有効表示面積が減少することも 殆ど又は全くない。
本発明の一の態様において、 前記導電線及び前記データ線は、 同一の低抵抗 金属材料から形成されたことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は例えば、 A 1 (アルミニウム) 等の、 デ一夕線と同一の低抵抗金属材料から形成されているので、 導電線の引き回し 領域が、 たとえ長くても、 導電線の抵抗は実用上十分に低く抑えられる。 即ち、 抵抗増加によりシールドの効果を下げることなく、 例えば他の配線や回路等の 隙間を縫ってジグザグに導電線を長く配線したり、 画像表示領域等までも含め た広い領域に導電線を長く配線することが可能となるので、 比較的簡単な構成 により、 当該シ一ルドの効果を全体として、 より高めることが出来る。 更に、 当該電気光学装置の製造プロセスにおいて、 導電線及びデータ線を、 同一の低 抵抗金属材料から同一工程により形成できる。 即ち、 導電線を形成することに よる製造プロセスの増加を最低限に抑えることができる。
本発明の一の態様において、 前記画像信号線及びク口ック信号線の間に介在 する前記導電線部分並びに前記画像信号線及びク口ック信号線は、 前記基板に 平行な同一平面上に形成された同一の低抵抗金属層から構成されたことが好ま しい。
本発明のかかる構成によれば、 画像信号線及びクロック信号線の間に介在す る導電線部分は、 画像信号線やクロック信号線と、 基板に平行な同一平面上に 形成されているので、 シールドの効果がより効率良く発揮される。 ここで、 同 一平面上とは、 基板の上に直接これらを配線してもよく、 或いは基板上に形成 された下地となる絶縁層上や T F T等のスィツチング素子の半導体層上に形成 された層間絶縁層上にこれらを配線してもよいという意味である。 更に、 当該 電気光学装置の製造プロセスにおいて、 導電線、 画像信号線及びクロック信号 線を、 例えば、 A 1層等の同一の低抵抗金属層から一括して形成できるので、 導電線を形成することによる製造プロセスの増加を最低限に抑えることができ る。
本発明の一の態様において、 前記画素電極に所定量の容量を付与する容量線 を更に備えており、 該容量線が前記導電線に接続されたことを特徴とする。 本発明のかかる構成によれば、 容量線により画素電極に所定量の容量が付与 されているので、 デューティー比が小さくても高精細な表示が可能とされる。 そして、 容量線は導電線に接続されている。 従って、 容量線の電位変動による スイッチング素子や画素電極への悪影響は防止されている。 しかも、 容量線を 定電位とするための配線を導電線で兼用でき、 更に、 容量線を定電位にするた めに必要な外部入力端子も、 例えば、 前述の第 3外部入力端子或いは導電線専 用の外部入力端子で兼用できる。
本発明の二の態様は、 基板上に複数のデ一夕線と、 該複数のデ一夕線に交 差する複数の走査線と、 前記複数のデータ線及び走査線に接続された複数のス ィツチング素子と、 前記複数のスィツチング素子に接続された複数の画素電極 と、 画像信号が供給される複数の画像信号線と、 クロック信号を含む制御信号 が供給される複数の制御信号線と、 前記画像信号線及び前記制御信号線を夫々 介して前記画像信号及び前記制御信号が入力され、 前記画像信号に対応するデ —夕信号を前記制御信号に基づいて前記複数のデータ線に供給するデータ信号 供給手段とを備えており、 前記複数の画像信号線のうち第 1画像信号線群は前 記基板上で前記データ信号供給手段の一方の側へ引き回されており、 前記複数 の画像信号線のうち第 2画像信号線群は前記基板上で前記データ信号供給手段 の他方の側へ引き回されており、 前記第 1及び第 2画像信号線群を前記複数の 制御信号線から夫々電気的にシールドする少なくとも 1本の導電線を前記基板 上に更に備えたことを特徴とする。
本発明のかかる構成によれば、 画像信号は、 画像信号線を介して、 デ一夕信 号供給手段に供給される。 これと並行して、 クロック信号、 イネ一ブル信号等 を含む制御信号は、 制御信号線を介して、 データ信号供給手段に供給される。 すると、 例えばデータ線駆動回路、 サンプリング回路等を含んで構成されるデ 一夕信号供給手段により、 制御信号に基づいて画像信号に対応するデータ信号 が、 複数のデータ線に供給される。 ここで特に、 基板に配線された導電線によ り、画像信号線は、クロック信号線、イネ一ブル信号線等の制御信号線から夫々 電気的にシールドされている。 従って、 クロック信号の周波数が高い場合でも、 クロック信号線等の制御信号線から画像信号線への高周波のクロックノィズ等 の飛び込みを低減できる。
他方で、 基板に形成されるか又は基板に接続された走査線駆動回路等を含む 走査信号供給手段により、 走査信号が走査線を介してスィツチング素子に供給 される。 これと並行して、 上述のように高周波のクロックノイズ等が低減され た画像信号に対応するデータ信号が、 デ一夕線を介してスィツチング素子に供 給され、 更にスィツチング素子を介して供給されるデ一夕信号により画素電極 に印加される電圧が変化し、 当該画素電極に対向する液晶が駆動される。
以上の結果、 表示すべき画像の解像度が高く、 例えば複数にシリアル—パラ レル変換された画像信号が入力される場合にも、 高周波のクロックノイズ等の 発生により画質が劣化することは殆ど又は全く無くなり、 高品位の画像表示が 可能とされる。 しかも、 第 1画像信号線群は、 基板上でデータ信号供給手段の 一方の側へ引き回されており、 第 2画像信号線群は基板上でデータ信号供給手 段の他方の側へ引き回されている。 従って、 例えば 1 2相のシリアルーパラレ ル変換、 2 4相のシリアル一パラレル変換、 …というようにシリアル—パラレ ル変換数を増やすことによりデータ信号供給手段に供給される画像信号の周波 数を下げつつ、 多相のシリアル—パラレル変換に対応する多数の画像信号線に ついては、 デ一夕信号供給手段の両側にバランス良く配置できる。 この結果、 サンプリング回路或いはサンプリング回路、 デ一夕線駆動回路等からなるデー 夕信号供給手段を形成する領域を基板上に容易に確保することができる。 従つ て、 限られた基板サイズでの画面の大型化を図ることも可能となる。
本発明の二の態様において、 前記導電線は、 前記複数の制御信号線のうち少 なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を 供給する高周波制御信号線から、 前記第 1及び第 2画像信号線群をシールドす ることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線により、 画像信号線は、 複数の制御信 号線のうち高周波制御信号 (例えば、 クロック信号、 ィネーブル信号等) を供 給する高周波制御信号線から電気的にシールドされている。 従って、 クロック 信号の周波数が高い場合でも、 高周波制御信号線から画像信号線への高周波の クロックノイズ等の飛び込みを低減できる。 尚、 低周波制御信号 (例えば、 デ —夕線駆動回路内のシフトレジスタ用のスタート信号等) については、 画像信 号ゃデ一夕信号中の高周波ノイズの原因とはならないため、 これを供給する低 周波制御信号線を導電線によりシールドしてもよく、 シールドしなくてもよい。 本発明の二の態様において、 前記第 1及び第 2画像信号線群と前記高周波制 御信号線との間には、 前記導電線と共に前記複数の制御信号線のうち少なくと も前記画像信号の水平走査期間よりも短くない周期を持つ低周波制御信号を供 給する低周波制御信号線が配線されていることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 第 1及び第 2画像信号線群の中で高周波制御 信号線に近い側に位置する画像信号線は、 低周波制御信号線と導電線との少な くとも合計 2本の配線の存在により、 高周波制御信号線から離間され且つ電気 的にシールドされている。 即ち、 画像信号やデータ信号中の高周波ノイズの原 因とはならない低周波制御信号 (例えば、 デ一夕線駆動回路内のシフトレジス 夕用のスタート信号等) を供給する低周波制御信号線を、 高周波制御信号線と 画像信号線との間に導電線と共に配置することにより、 高周波制御信号線の画 像信号線に対するクロックノイズ等の悪影響を更に低減できる。 特に、 一般に 距離及び障害物の介在に応じて電磁波は減少するので、 制御信号線と画像信号 線との間に導電線や低周波制御信号線をなるベく多く配線する構成により、 高 周波制御信号線から画像信号線に印加される電磁波が減少する。 このように、 導電線以外に低周波制御信号線を高周波制御信号線と画像信号線との間に介在 させることは基板上スペースの有効利用及びノィズ低減の観点から見て有利で ある。
本発明の二の態様において、 前記第 1画像信号線群に接続されており外部画 像信号源から前記画像信号が夫々入力される複数の第 1外部入力端子と、 前記 第 2画像信号線群に接続されており前記外部画像信号源から前記画像信号が 夫々入力される複数の第 2外部入力端子と、 前記制御信号線に接続されており 外部制御信号源から前記制御信号が夫々入力される複数の第 3外部入力端子と、 前記導電線に夫々接続された複数の第 4外部入力端子とを前記基板の周辺部上 に更に備えており、 前記第 1及び第 2外部入力端子の間には、 前記第 3外部入 力端子が配置されており、 前記第 1及び第 3外部入力端子の間並びに前記第 3 及び第 2外部入力端子の間には、 前記第 4外部入力端子が夫々配置されている ことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 基板の周辺部上において、 第 1及び第 2画像 信号線群に夫々接続された複数の第 1及び第 2外部入力端子の間には、 制御信 号線に接続された複数の第 3外部入力端子が配置されている。 即ち、 第 1から 第 4外部入力端子が設けられた基板の周辺部上において、 中央に制御信号線に 接続された複数の第 3外部入力端子が集中配置されており、 その両側に第 1及 び第 2画像信号線群に夫々接続された複数の第 1及び第 2外部入力端子が配置 されている。 そして、 これらの間に、 導電線に接続された第 4外部入力端子が 配置されている。 従って、 第 1及び第 2画像信号線群と制御信号線との間に基 板上で距離を置くと共に、 これらの間に導電線を配線する構成を容易に得るこ とができる。 特に、 当該電気光学装置に入力される前段階で、 クロック信号等 の制御信号が、 画像信号に対しクロックノィズ等を発生させてしまう事態を効 果的に阻止し得る。 仮に、 画像信号線に接続された複数の外部入力端子と制御 信号線に接続された複数の外部入力端子とが混在していたり、 隣接していたり すれば、 当該電気光学装置に入力される前段階で、 画像信号線と制御信号線と が隣接或いは近接する配線部分が不可避となり、 画像信号中にクロックノイズ 等が飛び込んでしまうのである。 このように本発明によれば、 電気光学装置に 入力される前後において、 クロック信号線から画像信号線への高周波のクロッ クノイズの飛び込みを低減できる。 尚、 より好ましくは、 基板の周辺部におい て外部入力端子を形成可能な領域において、 第 1及び第 2外部入力端子を可能 な限り両側に寄せて配置すると共に、 両者の間に配置される第 3外部入力端子 との間に可能な限り間隔を空けて、 この間隔に導電線に接続された第 4外部入 力端子を配置する。
本発明の二の態様において、 前記導電線は、 前記複数の制御信号線のうち少 なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を 供給する高周波制御信号線から、 前記第 1及び第 2画像信号線群をシールドし、 前記第 3外部入力端子のうち前記第 4外部入力端子に隣接する端子は、 前記複 数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短くない 周期を持つ低周波制御信号を供給する低周波制御信号線に接続されていること を特徴とする。
本発明のかかる構成によれば、 導電線により、 画像信号線は、 高周波制御信 号線から電気的にシールドされている。 ここで特に、 制御信号線に接続された 第 3外部入力端子のうち導電線に接続された第 4外部入力端子に隣接する端子 は、 低周波制御信号線に接続されているので、 画像信号線は、 低周波制御信号 線と導電線との少なくとも合計 2本の配線の存在により、 高周波制御信号線か ら離間され且つ電気的にシールドされる。
本発明の二の態様において、 前記導電線は、 前記データ信号供給手段に定電 位のデータ線駆動用電源を供給するデータ線駆動用定電位線から構成された部 分を含むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は、 前記データ信号供給手段に定電位 のデ一夕線駆動用電源を供給するデータ線駆動用定電位線から構成された部分 を含むので、 外部入力端子や配線そのものを共用することにより、 言い換えれ ば定電位線を延設して導電線とすることにより、 構成の簡略化と省スペース化 を図ることが出来、 特に導電線を定電位とすることも極めて容易となる。
本発明の二の態様において、 前記データ線駆動用定電位線は、 相異なる定電 位の電源を前記データ信号供給手段に供給する第 1及び第 2定電位線からなり、 該第 1定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で第 1及び第 2 画像信号線群を囲み、 前記第 2定電位線から構成された前記導電線部分は、 前 記基板上で前記第 1基板上で前記制御信号線を囲むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 第 1及び第 2画像信号線群は、 例えば接地電 位の負電源を供給するための第 1定電位線から構成された導電線部分により、 基板上で囲まれている。 制御信号線は、 例えば正電源を供給するための第 2定 電位線から構成された導電線部分により、 基板上で囲まれている。 従って、 画 像信号線は、 第 1基板上で制御信号線から 2重にシールドされた構成が得られ る。
本発明の二の態様において、 前記導電線は、 前記複数の画素電極により規定 される画像表示領域及び前記複数のデータ線を前記基板上で囲むように延設さ れたことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線により、 画像表示領域及び複数のデー 夕線は、 基板上で囲まれているので、 当該画像表示領域及び複数のデータ線も、 クロック信号線等の制御信号線からシールドされることになる。 従って、 デー 夕信号供給手段から出力されたデ一夕信号、 スィツチング素子や画素電極に到 達したデ一夕信号等における、 高周波のクロックノィズ等の発生を低減できる。 本発明の二の態様において、 前記基板に対向して対向基板が設けられており、 前記画像表示領域の輪郭に沿って前記基板及び対向基板のうち少なくとも一方 に形成された遮光性の周辺見切りを更に備えており、 前記導電線は前記周辺見 切りに対向する位置において前記周辺見切りに沿って前記基板に設けられた部 分を含むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は、 基板の周辺見切り下に設けられて いるので、 T F Tアレイ基板上の省スペース化が図られ、 例えば、 走査線駆動 回路やデータ線駆動回路を基板の周辺部分に余裕を持って形成することができ、 導電線形成により液晶装置における有効表示面積の減少することも殆ど又は全 くない。
本発明の二の態様において、 前記導電線及び前記デ一夕線は、 同一の低抵抗 金属材料から形成されることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 導電線は例えば、 A 1 (アルミニウム) 等の、 デ一夕線と同一の低抵抗金属材料から形成されているので、 導電線の引き回し 領域が、 たとえ長くても、 導電線の抵抗は実用上十分に低く抑えられる。 即ち、 抵抗増加によりシールドの効果を下げることなく、 例えば他の配線や回路等の 隙間を縫ってジグザグに導電線を長く配線したり、 画像表示領域等までも含め た広い領域に導電線を長く配線することが可能となるので、 比較的簡単な構成 により、 当該シ一ルドの効果を全体として、 より高めることが出来る。 更に、 当該電気光学装置の製造プロセスにおいて、 導電線及びデータ線を、 同一の低 抵抗金属材料から同一工程により形成できる。 即ち、 導電線を形成することに よる製造プロセスの増加を最低限に抑えることができる。
本発明の二の態様において、 前記画素電極に所定量の容量を付与する容量線 を更に備えており、 該容量線が前記導電線に接続されたことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 容量線により画素電極に所定量の容量が付与 されているので、 デューティー比が小さくても高精細な表示が可能とされる。 そして、 容量線は導電線に接続されている。 従って、 容量線の電位変動による スイッチング素子や画素電極への悪影響は防止されている。 しかも、 容量線を 定電位とするための配線を導電線で兼用でき、 更に、 容量線を定電位にするた めに必要な外部入力端子も、 例えば、 前述の第 3外部入力端子或いは導電線専 用の外部入力端子で兼用できる。
本発明の二の態様において、 走査信号を前記複数の走査線に順次供給する走 査信号供給手段を前記基板上に更に備えており、 前記導電線は、 前記走査信号 供給手段に定電位の走査線駆動用電源を供給する走査線駆動用定電位線から構 成された部分を含むことが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 走査線駆動用定電位線から構成された導電線 部分により、 画像信号線は、 制御信号線から電気的にシールドされている。 従 つて、 クロック信号の周波数が高い場合でも、 制御信号線から画像信号線への 高周波のクロックノィズ等の飛び込みを低減できる。
本発明の二の態様において、 前記走査信号供給手段は、 前記複数の画素電極 により規定される画像表示領域の両側に設けられており、 前記走査線駆動用定 電位線から構成された前記導電線部分は、 前記画像表示領域及び前記複数のデ 一夕線を前記基板上で囲むように且つ前記走査線供給手段に前記走査線駆動用 電源を冗長的に供給するように延設されていることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 走査線駆動用定電位線から構成された導電線 部分により、 画像表示領域及び複数のデータ線は、 基板上で囲まれているので、 当該画像表示領域及び複数のデータ線も、 クロック信号線等の制御信号線から シ一ルドされることになる。 従って、 データ信号供給手段から出力されたデ一 夕信号、 スイッチング素子や画素電極に到達したデータ信号等における、 高周 波のクロックノイズ等の発生を低減できる。 更に、 走査線駆動用定電位線から 構成された導電線部分は、 画像表示領域の両側に設けられた走査線供給手段に 走査線駆動用電源を冗長的に供給するように延設されているので、 たとえ、 走 査線駆動用定電位線から構成された導電線部分や、 それ以外の部分で走査線駆 動用定電位線に断線が生じても、 装置欠陥になり難いので有利である。
本発明の二の態様において、 前記データ信号供給手段は、 前記画像信号をサ ンプリングするサンプリング回路と、 前記制御信号に基づいて該サンプリング 回路を駆動するデータ線駆動回路とを備えており、 前記第 1画像信号線群に含 まれる画像信号線と前記第 2画像信号線群に含まれる画像信号線とは、 前記デ 一夕線駆動回路と前記サンプリング回路との間において、 少なくとも 1本の画 像信号線毎に前記デ一夕線駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回されてい ることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 第 1画像信号線群に含まれる画像信号線 (例 えば、 奇数番目のデ一夕線に対応する画像信号線 V I D 1、 3、 5、 7、 ···) と第 2画像信号線群に含まれる画像信号線 (例えば、 偶数番目のデ一夕線に対 応する画像信号線 V I D 2、 4、 6、 8、 ···) とは、 少なくとも 1本の画像信 号線毎にデータ線駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回されている。 従つ て、 データ線駆動回路の周囲で画像信号線ゃデ一夕線を規則正しく且つバラン ス良く配線することができる。
本発明の二の態様において、 前記データ信号供給手段は、 前記データ線毎に 前記データ信号の電圧極性を反転し、 前記第 1画像信号線群に含まれる画像信 号線と前記第 2画像信号線群に含まれる画像信号線とは、 相隣接する 2本のデ 一夕線に対応する 2本の画像信号線を対にして前記データ線駆動回路の両側か ら櫛歯状に交互に引き回されていることが好ましい。
本発明のかかる構成によれば、 データ信号供給手段により、 デ一夕線毎にデ 一夕信号の電圧極性が反転され、 所謂 1 S反転ゃドッ ト反転といった反転駆動 が行われ、 表示画面上のフリツ力が低減される。 ここで、 第 1画像信号線群に 含まれる画像信号線 (例えば、 相隣接する 2本のデータ線に対応する 2本おき の画像信号線 V I D 1、 2、 5、 6 ···) と第 2画像信号線群に含まれる画像信 号線 (例えば、 相隣接する 2本のデ一夕線に対応する 2本おきの画像信号線 V I D 3、 4、 7、 8 ···) とは、 相隣接する 2本のデータ線に対応する 2本の画 像信号線を対にしてデータ線駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回されて いる。 従って、 相隣接する画像信号線には逆極性の画像信号が供給されること になり、 同一のノイズ源に起因したノイズ成分については、 これら両者間で打 ち消し合う効果が働くので、 ノィズを低減する上で有利である。
本発明の一及び二の態様における電気光学装置を電子機器に用いることがで きる。
本発明のかかる構成によれば、 電子機器は、 上述した本願発明の電気光学装 置を備えており、 高周波のクロックノイズ等が低減されており、 高品位の画像 表示が可能となる。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らか にする。 図面の簡単な説明
図 1は、 第 1実施形態において T F Tアレイ基板上に形成されたシールド線 を含む各種配線、 周辺回路等の概略平面図である。
図 2は、 第 1実施形態のシールド線の 2次元的レイァゥトをより詳細に示す 概略平面図である。
図 3は、 図 2の T F Tアレイ基板上に形成されたシールド線、 画像信号線、 クロック信号線の A— A ' 断面図である。
図 4は、 第 2実施形態において T F Tアレイ基板上に形成されたシールド線 を含む各種配線、 周辺回路等の概略平面図である。
図 5は、 第 2実施形態のシールド線の 2次元的レイァゥトをより詳細に示す 概略平面図である。
図 6は、 第 2実施形態のシフ トレジス夕回路における回路図 (a ) 及びタイ ミングチヤ一ト (b ) である。
図 7は、 図 5の T F Tアレイ基板上に形成されたシールド線、 画像信号線、 クロック信号線の C— C, 断面図 (a ) 及び B— B, 断面図 (b ) である。 図 8は、 図 4の画像信号線 (配線 V I D 1〜 1 2 ) の 2次元的レイァゥ卜の 一例を示す概略平面図 (a ) 及び他の例を示す概略平面図 (b ) である。 図 9は、 本発明の T F Tアレイ基板上に形成された画素電極、 走査線、 デ一 夕等の画像表示領域端部における拡大平面図である。
図 1 0は、 本発明の液晶装置の画像表示領域に設けられた T F T部分におけ る断面図である。
図 1 1は、 本発明の液晶装置の周辺見切り領域に設けられたシールド配線部 分における断面図である。
図 1 2は、 本発明の液晶装置の全体構成を示す平面図である。
図 1 3は、 図 1 2の H— H ' 断面図である。
図 1 4は、 本発明による電子機器の実施の形態の概略構成を示すブロック図 である。
図 1 5は、 電子機器の一例としての液晶プロジェクタを示す断面図である。 図 1 6は、 電子機器の他の例としてのパーソナルコンビュ一夕を示す正面図 である。
図 1 7は、 電子機器の一例としてのページャを示す分解斜視図である。 図 1 8は、 電子機器の一例としての T C Pを用いた液晶装置を示す斜視図で ある。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。 電気光学装置の一例 として液晶装置を用いて本実施の形態を説明する。
—第 1実施形態—
(液晶装置の構成)
本発明の第 1実施形態の構成について図 1から図 3に基づいて説明する。 図 1は、 液晶装置の実施の形態における T F Tアレイ基板上に設けられた導電線 (以下、 シールド線と称す。 ) を含む各種配線、 周辺回路等の構成を示す平面 図であり、 図 2は、 図 1のシ一ルド線のより詳細な 2次元的レイアウトを示す 平面図であり、 図 3は、 シールド線、 画像信号線及びクロック信号線等の配線 を示す図 2の A— A' 断面図である。
図 1において、 液晶装置 200は、 例えば石英基板、 ハードガラス等からな る T FTアレイ基板 1を備えている。 T FTアレイ基板 1上には、 マトリクス 状に設けられた複数の画素電極 1 1と、 X方向に複数配列されており夫々が Y 方向に沿って伸びるデ一夕線 35と、 Y方向に複数配列されており夫々が X方 向に沿って伸びる走査線 31と、 各データ線 35と画素電極 11との間に夫々 介在すると共に該間における導通状態及び非導通状態を、 走査線 31を介して 夫々供給される走査信号に応じて夫々制御するスィツチング素子の一例として の複数の T F T 30とが形成されている。 また TFTアレイ基板 1上には、 後 述の蓄積容量 (図 9参照) のための配線である容量線 31, (蓄積容量電極) が、 走査線 31と平行に形成されている。
T F Tアレイ基板 1上には更に、 データ信号供給手段の一例を構成するサン プリング回路 301及びデ一夕線駆動回路 101と、 走査線駆動回路 104と が形成されている。 また、 複数の画素電極 11により規定される画像表示領域 (即ち、 実際に液晶の配向状態変化により画像が表示される液晶装置の領域) の上辺には、 画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路 104間をつな ぐための複数の配線 105が設けられており、 画像表示領域の四隅には、 TF Tアレイ基板 1と対向基板との間で電気的導通をとるための上下道通材 106 が設けられている。 以下図 1から図 3の説明において、 T FTアレイ基板 1の 下辺に沿って複数設けられた外部入力端子 102を介して入力される信号名称 と、 その信号配線とは、 説明の容易化のために同一のアルファベッ ト記号を信 号及び配線の後に夫々付加して参照する (例えば、 信号名称である "クロック 信号 CLX"に対し、 その信号配線を "配線 CLX" と呼ぶ) ことにする。 走査線駆動回路 104は、 外部制御回路から外部入力端子 102並びに配線 VS S Y及び VDD Yを介して供給される、 走査線駆動回路用の負電源 V S S Y及び正電源 VDD Yを電源として用いて、 走査線駆動回路用のスタート信号 DYの入力により内蔵シフトレジス夕回路をスタートさせる。 そして、 外部入 力端子 102並びに配線 CLY及び CL Y, を介して供給される、 走査線駆動 回路用の基準クロック信号 CLY及びその反転クロック信号 CLY' に基づく 所定タイミングで、 走査線 31に走査信号をパルス的に線順次で印加する。 データ線駆動回路 101は、 外部制御回路から外部入力端子 102並びに信 号配線 VS SX及び VDDXを介して供給される、 データ線駆動回路用の負電 源 VS SX及び正電源 VDDXを電源として用いて、 デ一夕線駆動回路用のス 夕一ト信号 DXの入力により内蔵シフ トレジス夕回路をスタートさせる。 そし て、 外部入力端子 102並びに配線 CLX及び CLX' を介して供給されるデ —夕線駆動回路用の基準クロック信号 C LX及びその反転ク口ック信号 C L X, に基づきサンプリング回路駆動信号線 306にサンプリング回路駆動信号 が供給される。
サンプリング回路 301は、 TFT 302を各デ一夕線 35毎に備えており、 配線 V I D 1〜V I D 6が T F T 302のソース電極に接続されており、 サン プリング回路駆動信号線 306が TFT 302のゲート電極に接続されている。 そして、 外部入力端子 102及び配線 V I D 1〜V I D 6を介して供給される 例えば 6相にシリアルーパラレル変換された画像信号 VID 1〜VID6は、 サンプリング回路駆動信号線 306を介して、 デ一夕線駆動回路 101から供 給されるサンプリング回路駆動信号に応じてサンプリング回路 301でサンプ リングされ、 サンプリングされた画像信号 VI D 1〜VI D 6は、 6つの隣接 するデータ線 35からなるグループ毎に順次印加する。
以上のように、 デ一夕線駆動回路 101とサンプリング回路 301とは、 6 相にシリアル—パラレル変換された画像信号 V I D 1 ~V I D 6をデータ線 3 5にデ一夕信号として供給するように構成されている。 本実施の形態では隣接 する 6つのデ一夕線 35に接続されるサンプリング回路 301を同時に選択し、 6つのデ一夕線 35からなるグループ毎に順次転送していく方式を述べたが、 デ一夕線 35を 1本毎に選択してもよいし、 隣接する 2、 3、 ···、 5本或いは 7本以上を同時に選択してもよい。 また、 データ線 35に供給される画像信号 のシリアル—パラレル変換数は 6相のみならず、 サンプリング回路 301を構 成する TFT 302の書き込み特性が良ければ、 5相以下でもよいし、 画像信 号の周波数が高ければ、 7相以上に増やしてもよい。 この際、 少なくとも画像 信号のシリアル—パラレル変換数だけ、 画像信号用の外部入力端子 102及び 画像信号線が必要なことは言うまでもない。
図 2に示すように、 デ一夕線駆動回路 101は、 スタート信号 DXが入力さ れると、 基準クロック信号 CLX及びその反転クロック信号 CLK' に基づく 転送信号の順次生成を開始するシフトレジス夕回路 101 aと、 シフトレジス 夕回路 101 aからの転送信号を波形整形しバッファリングした後、 サンプリ ング回路駆動信号線 306を介してサンプリング回路 301に供給する波形制 御回路 101 b及びバッファ回路 101 cとを備えている。 また、 サンプリン グ回路 301は、 6相にシリアル—パラレル変換された画像信号 V I D 1〜V ID 6に対応して TFT 302が 6個ずつパラレルに各サンプリング回路駆動 信号線 306に接続されている。 即ち、 TFT 302から構成されるスィッチ S 1〜S 6が左から 1本目のサンプリング回路駆動信号線 306に接続されて おり、 スィッチ S 7〜S 12が左から 2本目のサンプリング回路駆動信号線 3 06に接続されており、 スィツチ S n— 5〜S nが右端のサンプリング回路駆 動信号線 306に接続されている。
本実施の形態では特に、 図 1及び図 2に示すように、 T FTアレイ基板 1に は、 負電源 VS SX用の配線 VS SXを兼ねた定電位のシールド線 80及び正 電源 VDDX用の配線 VDDXを兼ねた定電位のシールド線 82が配線されて いる。 これらのシールド線 80及び 82により、 配線 V I D 1〜V I D 6は、 配線 CLX及び CLX, から電気的にシールドされている。 従って、 クロック 信号 CLXの周波数が高い場合でも、 配線 CLX及び CLX' から配線 V I D 1〜V I D 6への高周波のクロックノイズの飛び込みを低減できる。
尚、走査線駆動用のクロック信号 C L Y (及びその反転クロック信号 C L Y ' ) の周波数は、 データ線駆動用の上述のクロック信号 CLX (及びその反転クロ ック信号 CLX, ) の周波数に比べて遥かに低い。 従って、 クロック信号 CL Y及び CLY' については、 高周波のクロックノイズが問題となることは少な い。 しかしながら、 本実施の形態においては、 図 1及び図 2に示したように、 シ一ルド線 80及び 82により、 配線 CLY及び CLY' からも、 配線 V I D 1〜VID6は、 シールドされるように配線されている。 すなわち、 外部入力 端子 102から延設され、 データ線駆動回路 101の負電源 VS SXを兼ねた シールド線 80は、 対向基板 2に設けられた遮光性の周辺見切り 53下に沿つ て、 画像表示領域を囲むように配線される。 従って、 画像信号用の配線 V I D 1〜V I D 6ばかりではなく、 サンプリング回路 30 1の TFT 302を介し てデータ信号が書き込まれるデータ線 3 5への周辺回路からのノイズの飛び込 みをも低減できる。
特に本実施の形態では、 配線 VS SX及び VDDXを夫々延設してシールド 線 80及び 82とすることにより、 外部入力端子や配線を共用することが可能 となり、 装置構成の簡略化と省スペース化を図ることが出来る。 また、 シール ド線 80及び 82の電位は、 このように定電位線との共用化により、 容易に定 電位とされる。 但し、 電源用の配線とシールド線を別個に配線してもよい。 また、 デ一夕線駆動回路 1 0 1及び走査線駆動回路 1 04を駆動するための 電源電圧が互いに同じであれば、 正電源の電位 (正電位) である VDDX及び VDDY、 負電源の電位 (負電位) である VS SX及び VS S Yはそれぞれ共 用させてもよい。 このような構成を採れば、 外部入力端子及びそれから延設さ れる配線が削減できるので有利である。
本実施の形態では、 図 2に示すように、 負電源 VS SXが入力される外部入 力端子 1 02が 2つ設けられており、 配線 VS SXもこれに対応して 2本設け られている。 そして、 配線 V I D 1〜V I D 6は、 負電源 VS SXの電位 (負 電位) とされたシールド線 80により、 T F Tアレイ基板 1上で囲まれている。 特に、 シフトレジス夕回路 1 0 1 aと波形制御回路 1 0 l bとの間にも、 デー 夕線 35と同じ A 1等の金属層から形成されたシールド線 80は延設されてい る。 そして、 延設されたシールド線 80の先端部は、 後述のように第 1層間絶 縁層を介して A 1等の金属層の下方において、 例えば走査線 3 1と同じポリシ リコン等の導電性層から形成されたシールド線接続部 8 1を介して、 波形制御 回路 1 0 1 b及びバッファ回路 1 0 1 cを囲むようにしてシールド線 80に接 続されている。
他方、 図 2に示すように、 配線 CLX及び CLX' は、 デ一夕線駆動回路 1 0 1に隣接する部分においては、 正電源 VDDXの電位 (正電位) とされたシ —ルド線 82により、 T FTアレイ基板 1上で囲まれている。 特に、 波形制御 回路 101 bとバッファ回路 101 cとの間にも、 デ一夕線 35と同じ A 1等 の金属層から形成されたシールド線 82は延設されており、 その先端部は、 例 えば走査線 31と同じポリシリコン等の導電層から形成されたシールド線接続 部 83を介して波形制御回路 101 b及びシフ トレジス夕回路 101 aを囲む ようにしてシ一ルド線 82に接続されている。
従って、 配線 V I D 1〜V I D 6は、 TFTアレイ基板 1上で配線 CLX及 び CLX, から 2重にシールドされた構成が採られており、 シフトレジス夕回 路 101 a並びに波形制御回路 101 b及びバッファ回路 101 cに対するシ 一ルドも信頼性が高いものとされている。 但し、 このように囲む構成を採らな くても、 配線 CLX及び CLX' と配線 V I D 1〜V I D 6との間にシールド 線 80又は 82が少なくとも一本介在するように構成すれば、 シ一ルドの効果 は多少なりとも得られる。
本実施の形態では、 図 1及び図 2に示したように、 配線 VID 1〜VID 6 と配線 CLX及び CLX' とは、 TFTアレイ基板 1上でデ一夕線駆動回路 1 01に対して反対向きに (即ち、 前者は時計周りに、 後者は反時計周りに) 引 き回されている。 従って、 これらの配線間の距離が全体として大きくなるため、 且つこれらの配線間にあるデータ線駆動回路 101の介在に応じてこれらの配 線間を伝達する電磁波は減少するので、 クロック信号 CLX及び CLX' の周 波数が高い場合でも、 配線 CLX及び CLX' から、 配線 101〜¥106 への高周波のクロックノイズの飛び込みを更に低減できる。 また、 配線 CLX 及び CLX' と配線 V I D 1〜V I D 6の引き回しは、 その方向が入れ替わつ ても何ら問題はない。 すなわち、 配線 CLX及び CLX' を負電源 VSSXで シ一ルドし、 配線 V I D 1〜V I D 6を正電源 VDDXでシールドしてもよい。 但し、 このように反対方向に引き回す構成を採らなくても、 配線 CLX及び C LX' と配線 V I D 1〜V I D 6との間にシールド線 80又は 82が少なくと も一本介在するように構成すれば、 シールドの効果は多少なりとも得られる。 本実施の形態では、 クロック信号 CLX及び CLX' 用の外部入力端子 10 2と、 画像信号 V ID 1-VID 6用の外部入力端子 102とは、 負電源 VS SX用、 正電源 VDDX用及びスタート信号 DX用の 3つの外部入力端子 10 2を間に介して、 相互に所定間隔を隔てて配置されている。 そして好ましくは、 T F Tアレイ基板 1の周辺部において外部入力端子 102を形成可能な領域に おいて、 可能な限りクロック信号 CLX及び CLX' 用の外部入力端子 102 と、 画像信号 VI D 1〜 106用の外部入カ端子102とは、 相互に離して 配置され、 少なくとも一個以上の外部入力端子 102が両者間に配置される。 このように構成すれば、 例えば画像信号線とクロック信号線とを隣接配置した 場合と比較して、 クロック用の配線から画像信号用の配線への高周波のクロッ クノィズの飛び込みを低減できる。
本実施の形態では図 1及び図 2に示したように、 シールド線 80により、 画 像表示領域及び複数のデ一夕線 35は、 TFTアレイ基板 1上で囲まれている。 このため、 当該画像表示領域及び複数のデ一夕線 35も、 配線 CLX及び CL X, からシールドされている。 従って、 デ一夕線駆動回路 101から出力され たサンプリング回路駆動信号、 T FT 30や画素電極 11に到達したデータ信 号等における、 高周波のクロックノイズの発生を低減できる。 但し、 このよう に画像表示領域までも囲む構成を採らなくても、 サンプリング回路 301に至 るまでの配線 V I D 1〜V I D 6をシールド線 80又は 82によりシールドす るように構成すれば、 シールドの効果は多少なりとも得られる。
図 3に断面図で示すように、 シールド線 80及び 82を含む外部入力端子 1 02に接続された各種配線 D Y、 VSSY、 "'、 VDDXは、例えば、 A1 (ァ ルミ二ゥム) 等の、 デ一夕線 35と同一の低抵抗金属材料から形成されている。 従って、 シールド線 80及び 82の引き回し領域が、 たとえ長くても、 シール ド線 80及び 82の抵抗は実用上十分に低く抑えられる。 即ち、 図 2に示した ように、 他の各種配線ゃシフトレジス夕回路 101 a並びに波形制御回路 10 lb及びバッファ回路 101 cの隙間を縫ってジグザグにシールド線 82を長 く配線でき、 更に画像表示領域までも含めた広い領域にシールド線 80を長く 配線できる。 このように比較的簡単な構成により、 当該シールドの効果を全体 として高めることが出来る。 また図 3に示すように、 シールド線 80及び 82 を含む外部入力端子 102に接続された各種配線 DY、 VSSY、 ···、 VDD Xは、 TFTアレイ基板 1に形成された第 1層間絶縁層 42上に、 即ち同一層 上に形成されている。 従って、 シールドの効果がより効率良く発揮される。 更 に、 このように構成すると、 液晶装置 200の製造プロセスにおいて、 各種配 線 DY、 VSSY、 …、 VDDXを、 例えば、 A 1層等の同一の低抵抗金属層 から同一工程により一括して形成できるので、 製造上有利である。
尚、 図 1から図 3に示した外部入力端子 102から入力される信号 LCCO Mは、 共通電極の電源信号であり、 配線 LC COM及び前述の上下道通材 10 6を介して、 後述の対向基板に設けられた共通電極 (図 10参照) に供給され る
一第 2実施形態一
次に第 2実施形態について説明する。 第 2実施形態は第 1実施形態と同様な 構成を有するものであり、 同様な構成要素には同様な符号を付し、 その説明を 省略する。 第 1実施形態とは異なる点のみを説明する。
(液晶装置の構成)
本実施の形態の構成について図 4から図 8に基づいて説明する。 図 4は、 液 晶装置の実施の形態における T FTアレイ基板上に設けられたシールド線を含 む各種配線、 周辺回路等の構成を示す平面図であり、 図 5は、 図 4のシールド 線のより詳細な 2次元的レイァゥトを示す平面図であり、 図 6 (a)及び(b) は図 5に示したシフトレジス夕回路における回路図 (a) 及びタイミングチヤ ート (b) であり、 図 7は TFTアレイ基板上に形成されたシールド線、 画像 信号線及びクロック信号線等の配線を示す図 6の A— A ' 断面図及び B— B, 断面図であり、 図 8は、 図 1の画像信号線の 2次元的レイアウトの一例を示す 概略平面図 (図 8 (a) ) 及び他の例を示す概略平面図 (図 8 (b) ) である。 サンプリング回路 301は、 TFT 302を各データ線 35毎に備えており、 配線 V I D 1〜V I D 12が T F T 302のソース電極に接続されており、 サ ンプリング回路駆動信号線 306が TFT 302のゲート電極に接続されてい る。 そして、 外部入力端子 102及び配線 VID 1〜VID 12を介して供給 される例えば 12相にシリアル—パラレル変換された画像信号 V I D 1〜V I D 12は、 サンプリング回路駆動信号線 306を介して、 データ線駆動回路 1 01から供給されるサンプリング回路駆動信号に応じてサンプリング回路 30 1でサンプリングされ、 サンプリングされた画像信号 V I D 1〜VID 12は、 12の隣接するデータ線 35からなるグループ毎に順次印加する。
以上のように、 データ線駆動回路 101とサンプリング回路 301とは、 1 2相にシリアル一パラレル変換された画像信号 V I D 1〜V I D 12をデータ 線 35にデータ信号として供給するように構成されている。 本実施の形態にお いては 12本毎にグループ化して画像信号を供給する構成としているが、 上述 の第 1実施形態と同様に 12本に限るものではない。 実施の形態では特に、 以 下に述べるようにデータ線駆動回路 101の両側から配線 VI D 1〜VID 1 2が引き回されているので、 この本数 (シリアル—パラレル変換数) は多くて も TFTアレイ基板 1上にバランス良く配線できる。 尚、 画像信号のシリアル —パラレル変換数とサンプリング回路 301を同時に選択する数が相等しくな るように構成してもよいし、 前者が後者よりも多くなるように構成してもよい。 図 5に示すように、 データ線駆動回路 101は、 スタート信号 DXが入力さ れると、 基準クロック信号 CLX及びその反転クロック信号 CLK' に基づく 転送信号の順次生成を開始するシフ トレジス夕回路 101 aと、 シフ トレジス 夕回路 101 aからの転送信号を波形整形しバッファリングした後、 サンプリ ング回路駆動信号線 306を介してサンプリング回路 301に供給する波形制 御回路 101 b及びバッファ回路 101 cとを備えている。 また、 サンプリン グ回路 301は、 12相にシリアル—パラレル変換された画像信号 V I D 1〜 V I D 12に対応して T F T 302が 12個ずつパラレルに各サンプリング回 路駆動信号線 306に接続されている。 即ち、 TFT 302から構成されるス イッチ S 1〜S 12が左から 1本目のサンプリング回路駆動信号線 306に接 続されており、 スィッチ S 13〜S 24が左から 2本目のサンプリング回路駆 動信号線 306に接続されており、スィツチ S n- 11〜S nが右端のサンプリン グ回路駆動信号線 306に接続されている。 図 5で示したイネ一ブル信号 (制 御信号) ENB 1及び ENB2は、 波形制御回路 101 b内に設けられたイネ —ブル回路に入力される。 このイネ一ブル回路では、 シフトレジス夕回路 10 1 aから順次出力されるパルスの幅を、 イネ一ブル信号 ENB 1及び ENB 2 のパルス幅に制限することにより、 サンプリング回路 301の選択期間を制御 する。 これにより、 データ線 12本分ずつ離れて同一の配線 (V I D 1 ~V I D 12) から画像信号を受けるデータ線 35間におけるゴ一ストの発生を防止 する。 従って、 イネ一ブル信号 ENB 1及び ENB 2は、 クロック信号 CLX 及び CLX' と同じく、 水平走査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号に 属する。 他方、 シフ トレジス夕回路 101 aに入力されるスタート信号 DXは、 クロック信号 C L Y及び C L Y ' や走査線駆動回路側のシフ トレジス夕に入力 されるスタート信号 DYと同じく、 水平走査期間よりも短くない周期を持つ低 周波制御信号に属する。
ここで、 シフトレジス夕回路 101 aの具体的な回路構成及び動作について 図 6を参照して説明する。 尚、 図 6 (a) は、 イネ一ブル回路を含むシフトレ ジス夕回路を示す回路図であり、 図 6 (b) は、 このシフトレジス夕回路にお ける各種信号のタイミングチャートである。
先ず、 図 6 (a) において、 シフ トレジス夕回路 101 aの各段の出力に対 応してイネ一ブル回路 1 12が夫々設けられている。 シフトレジス夕回路 10 l aの各段は、 右方向 (左から右へ向かう方向) に対応する転送方向で各段か ら転送信号が順次出力されるように、 所定周期の基準クロック信号 CLX及び その反転信号 C LX, の 2値レベルが変化する毎に転送信号に帰還をかけて次 段に転送する 2つのクロックドインバー夕を夫々含んで構成されている。 また、 イネ一ブル回路 1 12は、 シフトレジス夕回路 101 aの奇数段目から出力さ れる転送信号のパルス幅を第 1ィネーブル信号 ENB 1のパルス幅に制限する と共に偶数段目から出力される転送信号のパルス幅を第 2ィネーブル信号 EN B 2のパルス幅に制限するように、 転送信号とィネーブル信号 ENB 1又は E NB 2との排他的論理積をとる NAND回路と、 その結果を反転させるィンバ —夕回路とから構成されている。 シフ トレジス夕回路 101 aには、 転送信号 の転送をスタートさせるための信号 DXが図中左側から入力される。
図 6 (b) のタイミングチャートに示すタイミングで、 この信号 DX、 クロ ック信号 CLX及びその反転信号 CLX, と、 第 1及び第 2ィネーブル信号 E NB 1及び ENB 2とが入力されると、 上述のように構成されたシフトレジス 夕回路 10 l aからは、 クロック信号 CLXの半周期だけ順次遅れる転送信号 が順次出力される。 すると、 イネ一プル回路 112により、 この転送信号のパ ルス幅が信号 ENB 1及び ENB 2のパルス幅に制限されて、 クロック信号 C LXのパルス幅よりも幅の狭いパルスから夫々なるサンプリング回路駆動信号 Q l、 Q2、 Q3、 ···、 Qm (但し、 mは奇数) が、 図 2に示した波形制御回 路 101 b及びバッファ回路 101 cを介してサンプリング回路 301に順次 供給される。
本実施の形態では特に、 図 4及び図 5に示すように、 T FTアレイ基板 1に は、 負電源 VS SX用の配線 VS SXを兼ねた定電位のシールド線 84、 負電 源 VS S Y用の配線 VS S Yを兼ねた定電位のシールド線 85、 正電源 VDD X用の配線 VDDXを兼ねた定電位のシールド線 86、 及び正電源 VDDY用 の配線 VDDYを兼ねた定電位のシールド線 87が配線されている。 これらの シールド線 84、 85、 86及び 87により、 画像信号線である配線 V I D 1 〜V I D 12は、 配線 CLX及び CLX' 並びに配線 ENB 1及び ENB 2か ら電気的にシールドされている。 従って、 クロック信号 CLXの周波数が高い 場合でも、 高周波制御信号線である配線 CLX及び CLX' 並びに配線 ENB 1及び ENB 2から配線 V I D 1〜V I D 12への高周波のクロックノイズ等 の飛び込みを低減できる。
しかも、 図 4及び図 5に示したように、 第 1画像信号線群の一例を構成する 奇数番目の画像信号線 V I D 1、 3、 5、 7、 9及び 1 1は、 TFTアレイ基 板 1上のデ一夕線駆動回路 101の X方向側へ引き回されており、 第 2画像信 号線群の一例を構成する偶数番目の画像信号線 VI D 2、 4、 6、 8、 10及 び 12は、 TFTアレイ基板 1上のデ一夕線駆動回路 101の X方向と反対側 へ引き回されている。 従って、 例えば 12相のシリアル一パラレル変換という ように比較的多相のシリアル—パラレル変換数を行うことにより、 サンプリン グ回路 301に供給される画像信号 VI D 1〜12の周波数を下げつつ、 多数 の配線 V I D 1〜 12については、 デ一夕線駆動回路 101の両側にバランス 良く配置できる。 この結果、 サンプリング回路 301及びデ一夕線駆動回路 1 01からなるデータ信号供給手段を形成する領域を T F Tアレイ基板 1上に容 易に確保することができる。 従って、 限られた基板サイズにおける画面の大型 化が図られる。
本実施の形態では特に、 図 5に示したように、 定電位のシールド線 84によ り、 画像信号線たる配線 VI D 1〜12は、 前述の高周波制御信号に属するク ロック信号 C LX及び C LX' 並びにイネ一ブル信号 ENB 1及び ENB 2を 供給する高周波制御信号線たる配線 CLX及び CLX' 並びに配線 ENB 1及 び E NB 2から電気的にシ一ルドされている。 従って、 クロック信号の周波数 が高い場合でも、 これらの高周波制御信号線から配線 V I D 1〜12への高周 波のクロックノイズ等の飛び込みを低減できる。 他方、 前述の低周波制御信号 に属するスタート信号 DX及び D Y、 並びにクロック信号 C L Υ及び CL Υ, については、 配線 V I D 1〜 12上の画像信号や、 これに基づいて供給された データ線 35上のデ一夕信号中の高周波ノイズの原因とはならない。 このため、 低周波制御信号線たる配線 DX、 DY、 CLY及び CLY, は、 定電位のシー ルド線によりシールドしてもよく、 シールドしなくてもよい。 本実施の形態で は、 図 5に示したように、 右側では配線 VID 1、 3、 ···、 1 1は、 定電位の 配線 VDDYからなるシールド線 87により配線 DY、 CLY及び CLY' か らシールドされており、 左側では配線 VID2、 4、 ···、 12は定電位の配線 VS S Yからなるシールド線 85により配線 DYからシールドされている。 ま た、 配線 DXからは、 シールド線 84により配線 V I D 1〜 12はシールドさ れている。
更に本実施の形態では特に、 X方向側 (奇数番目) の画像信号線群の中で高 周波制御信号線たる配線 CLX及び CLX' に近い側に位置する配線 VI D 1 1は、 配線 VS SX及び VDDXから夫々なる 2本のシールド線 84及び 86 の存在により、 これらの配線 CLX及び CLX' から離間されており、 且つ電 気的にシールドされている。 また、 X方向と反対側 (偶数番目) の画像信号線 群の中で高周波制御信号線たる配線 C L X及び C L X ' に近い側に位置する配 線 V I D 12は、 配線 VS SXからなる 1本のシールド線 84及び低周波制御 信号線たる配線 DXの存在により、 これらの配線 CLX及び CLX' から離間 されており、 且つ電気的にシールドされている。 即ち、 画像信号やデータ信号 中の高周波ノイズの原因とはならない低周波制御信号線に属する配線 DXを、 高周波制御信号線たる配線 CLX及び CLX, と配線 V I D 12との間に、 シ —ルド線 84と共に配置することにより、 配線 CLX及び CLX' の VID 1 2に対するクロックノィズ等の悪影響を更に低減できる。 一般に距離及び障害 物の介在に応じて電磁波は減少するので、 配線 CLX及び CLX' や配線 EN B 1及び ENB 2と配線 V I D 1〜 12との間にシールド線 (配線 84、 85、 86、 87等の定電位の配線) や低周波制御信号線 (配線 DX、 DY、 CLY、 CL Υ' 等の低周波制御信号が供給される配線) をなるベく多く配線する構成 により、 クロックノイズを発生させる電磁波が減少して、 クロックノイズ等が 低減する。 このように、 シールド線以外に低周波制御信号線を高周波制御信号 線と画像信号線との間に介在させることは T F Τ基板 1上スペースの有効利用 及びノイズ低減の観点から見て有利である。
また図 5に示したように本実施の形態では、 T F Τアレイ基板 1の周辺部上 において、 配線 V ID 1-12に夫々接続された外部入力端子 102は両側に 配置されており、 その間に配線 ENB 1、 ENB 2、 CLX' 及び CLXに接 続された外部入力端子 102が集中配置されている。 そして、 配線 VID 12 に接続された外部入力端子 102と配線 ENB 1に接続された外部入力端子 1 02との間に、 シールド線 84 (配線 VSSX) に接続された外部入力端子 1 02が配置されている。 また、 配線 V I D 1 1に接続された外部入力端子 10 2と配線 CLXに接続された外部入力端子 102との間に、シールド線 84(酉己 線 VSSX) に接続された外部入力端子 102が配置されている。 従って、 配 線 V I D 1〜 12と配線 ENB 1、 ENB 2、 CLX' 及び CLXとの間にシ —ルド線 84を配線する構成を容易に得ることができる。 特に、 液晶装置 20 0に入力される前段階で、 例えば、 表示情報処理回路等の外部回路から液晶装 置 200への配線中で、 クロック信号 CLX等が、 画像信号 VI D 1〜12に 対しクロックノイズ等を発生させてしまう事態を効果的に阻止し得る。 このよ うに本実施の形態によれば、 液晶装置 200に入力される前後において、 クロ ック信号用の配線から画像信号用の配線への高周波のクロックノィズの飛び込 み等を低減できる。 尚、 より好ましくは、 TFTアレイ基板 1の周辺部におい て外部入力端子 102を形成可能な領域において、 配線 VI D l〜 12用の外 部入力端子 102を可能な限り両側 (X方向側及び X方向と反対側) に寄せて 配置すると共に、 中央に集中配置される配線 CLX' 等用の外部入力端子 10 2との間に可能な限り間隔を空けて、 この間隔にシールド線 80等用の外部入 力端子 102を配置する。
本実施の形態では、 配線 VSSX、 VSSY、 VDDX及び VS S Yを夫々 延設してシールド線 84、 85、 86及び 87とすることにより、 外部入力端 子や配線を共用することが可能となり、 装置構成の簡略化と省スペース化を図 ることが出来る。 また、 シールド線 84、 85、 86及び 87の電位は、 この ように定電位線との共用化により、 容易に定電位とされる。 但し、 電源用の配 線とシールド線を別個に配線してもよい。
本実施の形態では、 図 5に示すように、 負電源 VS SXが入力される外部入 力端子 102が 2つ設けられている。 そして、 配線 V I D 1〜V I D 12は、 負電源 VS SXの電位 (負電位) とされたシールド線 84により、 TFTァレ ィ基板 1上で囲まれている。 特に、 シフトレジス夕回路 101 aと波形制御回 路 10 l bとの間にも、 デ一夕線 35と同じ A 1等の金属層から形成されたシ —ルド線 84は延設されている。 そして、 延設されたシールド線 84の先端部 は、 後述のように第 1層間絶縁層を介して A 1等の金属層の下方において、 例 えば走査線 31と同じポリシリコン等の導電性層から形成されたシールド線接 続部 81を介して、 波形制御回路 101 b及びバッファ回路 101 cを囲むよ うにしてシ一ルド線 84に接続されている。
他方、 図 5に示すように、 配線 CLX及び CLX, は、 データ線駆動回路 1 01に隣接する部分においては、 正電源 VDDXの電位 (正電位) とされたシ —ルド線 86により、 T FTアレイ基板 1上で囲まれている。 特に、 波形制御 回路 101 bとバッファ回路 101 cとの間にも、 データ線 35と同じ A 1等 の金属層から形成されたシールド線 86は延設されており、 その先端部は、 例 えば走査線 31と同じポリシリコン等の導電性層から形成されたシールド線接 続部 83を介して波形制御回路 101 b及びシフトレジス夕回路 101 aを囲 むようにしてシールド線 86に接続されている。
従って、 配線 VID 1~VID 12は、 TFTアレイ基板 1上で配線 CLX 及び CLX, 並びに配線 ENB 1及び ENB 2から 2重にシールドされた構成 が採られており、 シフトレジス夕回路 101 a並びに波形制御回路 101 b及 びバッファ回路 101 cに対するシ一ルドも信頼性が高いものとされている。 但し、 このように囲む構成を採らなくても、 配線 CLX、 C LX' 、 ENB 1 及び ENB 2と配線 V I D 1〜V I D 12との間にシールド線 84、 85、 8 6及び 87が少なくとも一本介在するように構成すれば、 シ一ルドの効果は多 少なりとも得られる。
本実施の形態では図 4及び図 5に示したように、 シールド線 85により、 画 像表示領域及び複数のデータ線 35は、 TFTアレイ基板 1上で囲まれている。 このため、 当該画像表示領域及び複数のデ一夕線 35も、配線 CLX、 CLX,、 ENB 1及び ENB 2からシールドされている。 従って、 データ線駆動回路 1 01から出力されたサンプリング回路駆動信号、 T F T 30や画素電極 1 1に 到達したデータ信号等における、 高周波のクロックノィズの発生等を低減でき る。 但し、 このように画像表示領域までも囲む構成を採らなくても、 サンプリ ング回路 301に至るまでの配線 V I D 1〜V I D 12をシールド線 84、 8 5、 86又は 87によりシ一ルドするように構成すれば、 シ一ルドの効果は多 少なりとも得られる。 この場合図 4から分かるように、 シ一ルド線 85は、 配 線 VS S Yから延設されており、 画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動 回路 104に電源信号 VS SYを冗長的に供給するように延設されている。 こ のため、 たとえ、 シールド線 85或いは配線 VS SYに断線が生じても、 装置 欠陥になり難いので有利である。
図 7 (a) 及び (b) の断面図に夫々示すように、 外部入力端子 102に接 続された各種配線 DY、 VSSY、 ···、 VDDXは、 例えば、 A1 (アルミ二 ゥム) 等の、 データ線 35と同一の低抵抗金属材料から形成されている。 従つ て、 シールド線、 84 (配線 VSSX) 、 85 (配線 VSSY) 、 86 (配線 VDDX) 及び 87 (配線 VDDY) の引き回し領域が、 たとえ長くても、 各 シールド線 84、 85、 86及び 87の抵抗は実用上十分に低く抑えられる。 即ち、 図 5に示したように、 他の各種配線やシフトレジス夕回路 101 a並び に波形制御回路 10 lb及びバッファ回路 101 cの隙間を縫ってジグザグに シールド線 84や 86を長く配線でき、 更に画像表示領域までも含めた広い領 域にシールド線 85を長く配線できる。 このように比較的簡単な構成により、 当該シールドの効果を全体として高めることが出来る。また図 7 (&)及び(13) に示すように、 各種配線 DY、 VSSY、 ···、 VDDXは、 TFTアレイ基板 1に形成された第 1層間絶縁層 42上に、 即ち同一層上に形成されている。 従 つて、 シールドの効果がより効率良く発揮される。 更に、 このように構成する と、 液晶装置 200の製造プロセスにおいて、 各種配線 DY、 VSSY、 ···、 VDDXを、 例えば、 A 1層等の同一の低抵抗金属層から同一工程により一括 して形成できるので、 製造上有利である。
図 8 (a) に、 図 4及び図 5に示した走査線駆動回路 101とサンプリング 回路 301との間における配線 VID 1〜12の引き回し方式を拡大して示す。 同図において、 奇数番目の画像信号線たる配線 VI D 1、 ···、 11と偶数番目 の画像信号たる配線 V I D 2、 ···、 12とは、 各配線毎に両側から櫛歯状に交 互に引き回されている。 従って、 デ一夕線駆動回路 101の周囲において、 配 線 V I D 1〜 12及びサンプリング回路駆動信号線 306は、 大変規則性良く 且つバランス良く配線さている。
ところで、 本実施の形態では、 液晶を直流駆動により劣化させないためや表 示画面上のフリッカを防止するため等に、 液晶駆動電圧を反転させる各種の方 式、 例えば、 フィールド又はフレーム反転駆動、 走査線反転駆動 (所謂 1H反 転駆動) 、 データ線反転駆動 (所謂 1 S反転駆動) 、 ドッ ト反転駆動などを採 用可能である。 ここで特に、 1 S反転やドッ ト反転といった相隣接するデ一夕 線間で電圧極性を反転させて液晶駆動を行う場合には、 図 8 (a) に示したよ うに一本の配線 V I D 1〜 12毎に櫛歯状にするよりも、 図 8 (b) に示すよ うに、 相隣接する 2本のデ一夕線 35に対応する 2本の配線 V I D 1及び 2、 5及び 6等を夫々一対として 2本おきに一方の側 (例えば右側) から引き回す と共に、 それら以外の相隣接する 2本のデ一夕線 35に対応する 2本の配線 V ID 3及び 4、 7及び 8等を夫々一対として 2本おきに逆側 (例えば左側) か ら引き回すと共に、 デ一夕線駆動回路 101とサンプリング回路 301の間で 2本の配線を一対として夫々両側から櫛歯状にするのがより好ましい。 このよ うに配線すれば、 TFTアレイ基板 1上で相隣接する各対の配線 1及び 2、 3 及び 4、 …から供給される画像信号は夫々逆極性とされてデ一夕線 35に供給 されるので、 これらの信号中に存在する同一のノイズ源に起因したノイズ成分 については、 これら各対をなす両者間で打ち消し合う効果が働くので、 ノイズ を低減するのに役立つ。
(液晶装置の動作)
次に、 以上のように構成された液晶装置 200の動作について図 1を参照し て説明する。
先ず、 走査線駆動回路 104は、 所定タイミングで走査線 31に走査信号を パルス的に線順次で印加する。
これと並行して、 12本の配線 V I D 1〜V I D 12からパラレルな画像信 号を受けると、 サンプリング回路 301は、 これらの画像信号をサンプリング する。 デ一夕線駆動回路 101は、 走査線駆動回路 104がゲート電圧を印加 するタイミングに合わせて、 12本の配線 V I D 1〜V I D 12夫々について 一つのデ一夕線毎にサンプリング回路駆動信号を供給して、 サンプリング回路 301の T F T 302をオン状態とする。 これにより、 隣接する 12本のデ一 夕線 35に対して、 サンプリング回路 301にサンプリングされたデ一夕信号 を順次印加する。 即ち、 データ線駆動回路 101とサンプリング回路 301に より、 配線 VID 1〜VID 12から入力された 12相のシリアル—パラレル 変換されたパラレルな画像信号 VID 1〜VID 12は、 データ線 35に供給 される。
このように、 走査信号及びデータ信号の両方が印加された TFT 30を介し て画素電極 1 1に電圧が印加される。 そして、 この画素電極 11の電圧は、 ソ ース電圧が印加された時間よりも例えば 3桁も長い時間だけ蓄積容量 (後述す る) により保持される。 ここで特に、 シールド線 84、 85、 86及び 87に より、 配線 VID 1〜VID 12は、 配線 CLX及び CLX' 並びに配線 EN B 1及び ENB 2からシールドされているので、 クロック信号 CLXの周波数 が高い場合でも、 配線 CLX及び CLX' 並びに配線 ENB 1及び ENB 2か ら配線 VI D 1〜VID 12への高周波のクロックノイズ等の飛び込みを低減 できる。
以上のように、 画素電極 1 1に電圧が印加されると、 液晶層 5 0におけるこ の画素電極 1 1と共通電極 (後述する) とに挟まれた部分における液晶の配向 状態が変化し、 ノーマリ一ホワイ トモードであれば、 印加された電圧に応じて 入射光がこの液晶部分を通過不可能とされ、 ノーマリーブラックモードであれ ば、 印加された電圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過可能とされ、 全体と して液晶装置 2 0 0からは画像信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。 以上の結果、 表示すべき画像の解像度が高く、 高周波のシリアルな画像信号 V I D 1〜V I D 1 2が入力される場合にも、 これに対応して周波数が高いク ロック信号 C L Xを用いつつ、 高周波のクロックノイズの発生により画質が劣 化することは殆ど又は全く無くなり、 高品位の画像表示が可能とされる。 しか も、 1 2相のシリアル—パラレル変換という比較的多数の相にシリアル—パラ レル変換した結果、 画像信号の周波数を落とすことにより、 通常性能のサンプ リング回路によりサンプリングを行うことが可能とされている。
(液晶装置全体構成について)
次に、 第 1及び第 2実施形態の液晶装置 2 0 0の具体的構成について図 9、 図 1 0及び図 1 1を参照して説明する。 図 9は液晶装置 2 0 0の画素部の平面 図であり、 図 1 0は図 9における B— B ' に沿った断面図であり、 図 1 1は額 縁 (周辺見切り) に対向配置された液晶装置のシールド線 8 0に沿った断面図 である。 尚、 図 1 0、 図 1 1においては、 各層や各部材を図面上で認識可能な 程度の大きさとするため、 各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
ここで、 図 9の平面図に示すように、 容量線 3 1 ' は、 T F Tアレイ基板 1 上において走査線 3 1 (ゲート電極) と平行に、 例えば走査線 3 1と同じく導 電性のポリシリコン層等から形成されており、 シールド線 8 0にコンタク トホ —ル 8 0 aを介して接続されている。 このように構成すれば、 容量線 3 1 ' を 定電位とするための配線をシールド線 8 0で兼用でき、 容量線 3 1 ' を定電位 にするために必要な外部入力端子も、 シールド線 8 0用の外部入力端子 1 0 2 で兼用できる。
図 1 0の断面図において、 液晶装置 2 0 0は、 各画素に設けられる T F T 3 0部分において、 T F Tアレイ基板 1並びにその上に積層された半導体層 32、 ゲート絶縁層 33、 走査線 31 (ゲート電極) 、 第 1層間絶縁層 42、 データ 線 35 (ソース電極) 、 第 2層間絶縁層 43、 画素電極 11及び配向膜 12を 備えている。 液晶装置 200はまた、 例えばガラス基板から成る対向基板 2並 びにその上に積層された共通電極 21、 配向膜 22及び遮光膜 23を備えてい る。 液晶装置 200は更に、 これらの両基板間に挟持された液晶層 50を備え ている。
ここでは先ず、 これらの層のうち、 T FT 30を除く各層の構成について順 に説明する。
第 1及び第 2層間絶縁層 42及び 43は夫々、 5000〜 15000 A程度 の層みを持つ NSG (ノンシリケートガラス) 、 PSG (リンシリケ一トガラ ス) 、 BSG (ボロンシリケ一トガラス) 、 : BPSG (ボロンリンシリケ一ト ガラス) などのシリケ一トガラス膜、 窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等から なる。 尚、 TFTアレイ基板 1上に、 TFT30の下地となる層間絶縁層をシ リケ一トガラス膜、 窒化シリコン膜ゃ酸化シリコン膜等から形成してもよい。 画素電極 1 1は例えば、 I TO膜 (ィンジゥム 'ティン 'ォキサイ ド膜) な どの透明導電性薄膜からなる。 このような画素電極 1 1は、 スパッタリング処 理等により I TO膜等を約 50〜200 nmの厚さに堆積した後、 フォトリソ グラフイエ程、 エッチング工程を施すこと等により形成される。 尚、 当該液晶 装置 200を反射型の液晶装置に用いる場合には、 A1等の反射率の高い不透 明な材料から画素電極 1 1を形成してもよい。
配向膜 12は例えば、 ポリイミ ド薄膜などの有機薄膜からなる。 このような 配向膜 12は、 例えばポリイミ ド系の塗布液を塗布した後、 所定のプレティル ト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施すこと等により形成される。 共通電極 21は、 対向基板 2の全面に渡って形成されている。 このような共 通電極 21は、 例えばスパッタリング処理等により I TO膜等を約 50〜20 0 nmの厚さに堆積した後、 フォトリソグラフイエ程、 エッチング工程を施す こと等により形成される。
配向膜 22は、 例えば、 ポリイミ ド薄膜などの有機薄膜からなる。 このよう な配向膜 2 2は、 例えばポリイミ ド系の塗布液を塗布した後、 所定のプレティ ルト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施すこと等により形成され る。
遮光膜 2 3は、 T F T 3 0に対向する所定領域に設けられている。 このよう な遮光膜 2 3は、 前述の周辺見切り 5 3同様に、 C rや N iなどの金属材料を 用いたスパッ夕リング、 フォトリソグラフィ及びエッチングにより形成された り、 カーボンや T iをフォトレジストに分散した樹脂ブラックなどの材料から 形成される。 遮光膜 2 3は、 T F T 3 0の半導体層 (ポリシリコン膜) 3 2に 対する遮光の他に、 コントラストの向上、 色材の混色防止などの機能を有する。 液晶層 5 0は、 画素電極 1 1と共通電極 2 1とが対面するように配置された T F Tアレイ基板 1と対向基板 2との間において、 シール材 5 2 (図 5及び図 6参照) により囲まれた空間に液晶が真空吸引等により封入されることにより 形成される。 液晶層 5 0は、 画素電極 1 1からの電界が印加されていない状態 で配向膜 1 2及び 2 2により所定の配向状態を採る。 液晶層 5 0は、 例えば一 種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなる。 シ一ル材 5 2は、 二つの基板 1及び 2をそれらの周辺で貼り合わせるための、 例えば光硬化性樹 脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、 両基板間の距離を所定値とするため のスぺーサが混入されている。
次に、 T F T 3 0に係る各層の構成について順に説明する。
T F T 3 0は、 走査線 3 1 (ゲート電極) 、 走査線 3 1からの電界によりチ ャネルが形成される半導体層 3 2、 走査線 3 1と半導体層 3 2とを絶縁するゲ —ト絶縁層 3 3、半導体層 3 2に形成されたソース領域 3 4、データ線 3 5 (ソ ース電極) 、 及び半導体層 3 2に形成されたドレイン領域 3 6を備えている。 ドレイン領域 3 6には、 複数の画素電極 1 1のうちの対応する一つが接続され ている。 ソース領域 3 4及びドレイン領域 3 6は後述のように、 半導体層 3 2 に対し、 n型又は p型のチャネルを形成するかに応じて所定濃度の n型用又は P型用のドーパントをド一プすることにより形成されている。 n型チャネルの T F Tは、 動作速度が速いという利点があり、 画素のスイッチング素子である T F T 3 0として用いられることが多い。 TFT 30を構成する半導体層 32は、 例えば、 TFTアレイ基板 1上に a — S i (アモルファスシリコン) 膜を形成後、 ァニール処理を施して約 50〜 200 nmの厚さに固相成長させることにより形成する。 この際、 nチャネル 型の TFT 30の場合には、 Sb (アンチモン) 、 As (砒素) 、 P (リン) などの V族元素のドーパントを用いたイオン注入等により ドープしてもよい。 また、 pチャネル型の T F T 30の場合には、 B (ボロン)、 Ga (ガリゥム)、 In (インジウム) などの III族元素のドーパントを用いたイオン注入等によ り ド一プする。 特に T F T 30を LDD (L i gh t 1 y Doped D r a in)構造を持つ nチャネル型の TFTとする場合、 p型の半導体層 32に、 ソース領域 34及びドレイン領域 36のうちチャネル側に夫々隣接する一部に Pなどの V族元素のドーパントにより低濃度ドープ領域を形成し、 同じく Pな どの V族元素のドーパントにより高濃度ドープ領域を形成する。 また、 pチヤ ネル型の TFT 30とする場合、 n型の半導体層 32に、 Bなどの III族元素 のド一パントを用いてソース領域 34及びドレイン領域 36を形成する。 この ように LDD構造とした場合、 ショートチャネル効果を低減できる利点が得ら れる。 尚、 TFT30は、 LDD構造における低濃度ド一プ領域にイオン注入 したオフセッ ト構造の T FTとしてもよいし、 ゲート電極をマスクとして高濃 度の不純物イオンをド一プすることにより自己整合的に高濃度なソース及びド レイン領域を形成するセルファライン型の T F Tとしてもよい。 また、 ゲート 電極 31を 2個直列に設けデュアルゲート構造としてもよいし、 ゲート電極 3 1を 3個以上直列に設けてもよいことは言うまでもない。 このような構成を採 れば、 T F T 30のオフ時におけるリーク電流が低減され、 クロストーク等の 発生を抑制できるため、 高品位な液晶装置を提供することができる。
ゲート絶縁層 33は、 半導体層 32を約 900〜 1300°Cの温度により熱 酸化することにより、 30〜 150 nm程度の比較的薄い厚さの熱酸化膜を形 成して得ることができる。 これにより半導体層 32とゲート絶縁層 33の界面 状態の優れた良質の絶縁膜を形成することができる。
走査線 31 (ゲート電極) は、 減圧 CVD法等によりポリシリコン膜を堆積 した後、 フォトリソグラフイエ程、 エッチング工程等により形成される。 或い は、 A 1等の金属膜又は金属シリサイ ド膜から形成されてもよい。 この場合、 走査線 3 1 (ゲート電極) を、 遮光膜 2 3が覆う領域の一部又は全部に対応す る遮光膜として配置すれば、 金属膜や金属シリサイ ド膜の持つ遮光性により、 遮光膜 2 3の一部又は全部を省略することも可能となる。 この場合特に、 対向 基板 2と T F Tアレイ基板 1との貼り合わせずれによる画素開口率の低下を防 ぐことが出来る利点がある。
データ線 3 5 (ソース電極) は、 画素電極 1 1と同様に I T O膜等の透明導 電性薄膜から形成してもよい。 或いは、 スパッタリング処理等により、 約 1 0 0〜5 0 O n mの厚さに堆積された A 1等の低抵抗金属や金属シリサイ ド等か ら形成してもよい。
また、 第 1層間絶縁層 4 2には、 ソース領域 3 4へ通じるコンタクトホール 3 7及びドレイン領域 3 6へ通じるコンタク トホール 3 8が夫々形成されてい る。このソ一ス領域 3 4へのコンタクトホール 3 7を介して、デ一夕線 3 5 (ソ —ス電極) はソース領域 3 4に電気的接続される。 更に、 第 2層間絶縁層 4 3 には、 ドレイン領域 3 6へのコンタク トホール 3 8が形成されている。 このド レイン領域 3 6へのコンタクトホール 3 8を介して、 画素電極 1 1はドレイン 領域 3 6に電気的接続される。 前述の画素電極 1 1は、 このように構成された 第 2層間絶縁層 4 3の上面に設けられている。 各コンタク トホールは、 例えば、 反応性ェヅチング、 反応性ィオンビームェヅチング等のドライエツチングによ り形成すれば、 開口サイズの微細化が可能となり、 画素の高開口率化が実現で きる。
尚、 一般にはチャネルが形成される半導体層 3 2は、 光が入射すると p— S iが有する光電変換効果により光電流が発生してしまい T F T 3 0のトランジ ス夕特性が劣化するが、本実施の形態では、対向基板 2には各 T F T 3 0に夫々 対向する位置に遮光膜 2 3が形成されているので、 入射光が半導体層 3 2に入 射することが防止される。 更にこれに加えて又は代えて、 ゲート電極を上側か ら覆うようにデータ線 3 5を A 1等の不透明な金属薄膜から形成すれば、 遮光 膜 2 3と共に又は単独で、 半導体層 3 2への入射光 (即ち、 図 7で上側からの 光) の入射を効果的に防ぐことが出来る。 図 10において、 画素電極 1 1には蓄積容量 70が夫々設けられている。 こ の蓄積容量 70は、 より具体的には、 半導体層 32と同一工程により形成され る第 1蓄積容量電極層 32' 、 ゲート絶縁層 33と同一工程により形成される 絶縁層 33' 、 走査線 31と同一工程により形成される容量線 315 (第 2蓄 積容量電極) 、 第 1及び第 2層間絶縁層 42及び 43、 並びに第 1及び第 2層 間絶縁層 42及び 43を介して容量線 31 ' に対向する画素電極 11の一部か ら構成されている。 このように蓄積容量 70が設けられているため、 デューテ ィー比が小さくても高精細な表示が可能とされる。
図 11の断面図に示すように、 周辺見切り 53に対向し且つ複数の走査線 3 1の上方の位置において第 1層間絶縁層 42上をシールド線 80は通過する。 そして、 このシールド線 80は、 その殆どの部分が、 前述したデ一夕線 35と 同一工程で形成された A 1等の金属薄膜からなる低抵抗な配線である。 このよ うに液晶装置 200の製造プロセスにおいて、 シールド線 80とデ一夕線 35 とを一括して形成できるので、 製造上有利である。
本実施の形態では特に、 TFT 30はポリシリコンタイプの TFTであるの で、 T FT 30の形成時に同一薄膜形成工程で、 サンプリング回路 301、 デ 一夕線駆動回路 101、 走査線駆動回路 104等の同じくポリシリコン TFT タイプの TFT 302等から構成された周辺回路を形成できるので製造上有利 である。 例えば、 これらの周辺回路は、 nチャネル型ポリシリコン TFT及び pチヤネル型ポリシリコン T F Tから構成される相補構造の複数の T F Tから T F Tアレイ基板 1上の周辺部分に形成される。
尚、 図 10及び図 1 1には示されていないが、 液晶装置 200においては、 対向基板 2の投射光が入射する側及び T F Tアレイ基板 1の投射光が出射する 側には夫々、 例えば、 TN (ヅイステツ ドネマティック) モード、 STN (ス —パー TN) モード、 D— STN (ダブル— STN) モード等の動作モードや、 ノーマリ一ホワイ トモード/ノ一マリ一ブラックモードの別に応じて、 偏光フ イルム、 位相差フィルム、 偏光板などが所定の方向で配置される。
(本発明の液晶装置の全体構成)
第 1及び第 2実施形態の液晶装置の全体構成について説明する。 図 1 2は本発明の液晶装置の全体構成を示す平面図であり、 図 1 3は図 1 2 の H— H, 断面図である。 図 1 2に示されるように、 サンプリング回路 3 0 1 は、 図 1及び図 4の斜線領域で示すように、 且つ図 1 2及び図 1 3に示すよう に、 対向基板 2に形成された遮光性の周辺見切り 5 3に対向する位置において T F Tアレイ基板 1上に設けられており、 デ一夕線駆動回路 1 0 1及び走査線 駆動回路 1 0 4は、 液晶層 5 0に面しない T F Tアレイ基板 1の狭く細長い周 辺部分上に設けられている。 T F Tアレイ基板 1の上には、 画像表示領域の周 囲において両基板を貼り合わせて液晶層 5 0を包囲するシール部材の一例とし ての光硬化性樹脂からなるシール材 5 2が、 画像表示領域に沿って設けられて いる。 そして、 対向基板 2上における画像表示領域とシール材 5 2との間には、 遮光性の周辺見切り 5 3が設けられている。
周辺見切り 5 3は、 後に画像表示領域に対応して開口部が設けられた遮光性 のケースに T F Tアレイ基板 1が入れられた場合に、 当該画像表示領域が製造 誤差等により当該ケースの開口の縁に隠れてしまわないように、 即ち、 例えば T F Tアレイ基板 1のケースに対する数百/ z m程度のずれを許容するように、 画像表示領域の周囲に少なくとも 5 0 0〃m以上の幅を持つ帯状の遮光性材料 から形成されたものである。 このような遮光性の周辺見切り 5 3は、 例えば、 C r (クロム) 、 N i (ニッケル) 、 A 1 (アルミニウム) 等の金属材料を用 いたスパッ夕リング、 フォトリソグラフィ工程及びェヅチング工程等により対 向基板 2に形成される。 或いは、 力一ボンや T i (チタン) をフォトレジスト に分散した樹脂ブラックなどの材料から形成される。 また、 T F Tアレイ基板 1上に遮光性の周辺見切り 5 3を設けてもよい。 周辺見切り 5 3を丁 丁ァレ ィ基板 1上に内蔵すれば、 T F Tアレイ基板 1と対向基板 2との貼り合わせェ 程での精度のばらつきで画素の開口領域が影響を受けることがないため、 液晶 装置の透過率を高精度に維持することができる。
シール材 5 2の外側の領域には、 画像表示領域の下辺に沿ってデータ線駆動 回路 1 0 1及び外部入力端子 (実装端子) 1 0 2が設けられており、 画像表示 領域の左右の 2辺に沿って走査線駆動回路 1 0 4が画像表示領域の両側に設け られている。 そして、 シ一ル材 5 2とほぼ同じ輪郭を持つ対向基板 2が当該シ ール材 5 2により T F Tアレイ基板 1に固着されている。
以上のようにシ一ルド線 8 0及びサンプリング回路 3 0 1は、 T F Tアレイ 基板 1上の周辺見切り 5 3の下に設けられているので、 T F Tアレイ基板 1上 の省スペース化が図られ、 例えば、 走査線駆動回路 1 0 4やデータ線駆動回路 1 0 1を T F Tアレイ基板 1の周辺部分に余裕を持って形成することができ、 シ一ルド線 8 0の形成により液晶装置 2 0 0における有効表示面積が減少する ことも殆ど又は全くない。
また、 以上説明した液晶装置 2 0 0は、 カラー液晶プロジェクタに適用され るため、 3つの液晶装置 2 0 0 0が R G B用のライ トバルブとして夫々用いら れ、 各パネルには夫々 R G B色分解用のダイクロイツクミラ一を介して分解さ れた各色の光が入射光として夫々入射されることになる。 従って、 各実施の形 態では、 対向基板 2に、 カラ一フィル夕は設けられていない。 しかしながら、 液晶装置 2 0 0においても遮光層 2 3の形成されていない画素電極 1 1に対向 する所定領域に R G Bのカラーフィル夕をその保護膜と共に、 対向基板 2上に 形成してもよい。 あるいは T F Tアレイ基板 1上の各画素に対応するように、 R G Bのカラ一レジストによりカラ一フィル夕層を内蔵してもよい。 このよう にすれば、 液晶プロジェクタ以外の直視型や反射型のカラ一液晶テレビなどの カラー液晶装置に本実施の形態の液晶装置を適用できる。 更に、 対向基板 2上 に 1画素 1個対応するようにマイクロレンズを形成してもよい。 このようにす れば、 入射光の集光効率を向上することで、 明るい液晶装置が実現できる。 更 にまた、 対向基板 2上に、 何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積することで、 光の干渉を利用して、 R G B色を作り出すダイクロイックフィル夕を形成して もよい。 このダイクロイツクフィル夕付き対向基板によれば、 より明るいカラ —液晶装置が実現できる。
液晶装置 2 0 0において、 T F Tアレイ基板 1側における液晶分子の配向不 良を抑制するために、 第 2層間絶縁層 4 3の上に更に平坦化膜をスピンコ一ト 等で塗布してもよく、 又は C M P処理を施してもよい。 或いは、 第 2層間絶縁 層 4 3を平坦化膜で形成してもよい。
液晶装置 2 0 0のスイッチング素子は、 正ス夕ガ型又はコプラナ一型のポリ シリコン T F Tであるとして説明したが、 逆ス夕ガ型の T F Τやアモルファス シリコン T F Τ等の他の形式の T F Τに対しても、 本実施の形態は有効である。 液晶装置 2 0 0においては、 一例として液晶層 5 0をネマティ ック液晶から 構成したが、 液晶を高分子中に微小粒として分散させた高分子分散型液晶を用 いれば、 配向膜 1 2及び 2 2、 並びに前述の偏光フィルム、 偏光板等が不要と なり、 光利用効率が高まることによる液晶装置の高輝度化や低消費電力化の利 点が得られる。 更に、 画素電極 1 1を A 1等の反射率の高い金属膜から構成す ることにより、 液晶装置 2 0 0を反射型液晶装置に適用する場合には、 電圧無 印加状態で液晶分子がほぼ垂直配向された S H (スーパ一ホメオト口ピック) 型液晶などを用いても良い。 更にまた、 液晶装置 2 0 0においては、 液晶層 5 0に対し垂直な電界 (縦電界) を印加するように対向基板 2の側に共通電極 2 1を設けているが、 液晶層 5 0に平行な電界 (横電界) を印加するように一対 の横電界発生用の電極から画素電極 1 1を夫々構成する (即ち、 対向基板 2の 側には縦電界発生用の電極を設けることなく、 T F Tアレイ基板 1の側に横電 界発生用の電極を設ける) ことも可能である。 このように横電界を用いると、 縦電界を用いた場合よりも視野角を広げる上で有利である。 その他、 各種の液 晶材料 (液晶層) 、 動作モード、 液晶配列、 駆動方法等に本実施の形態を適用 することが可能である。
以上説明した実施の形態において更に、 周辺見切り 5 3下ゃ丁 丁ァレィ基 板 1の周辺部に、 プリチャージ回路、 検査回路等の周知の周辺回路を設けても よい。 プリチャージ回路は、 コントラスト比の向上、 デ一夕線 3 5の電位レべ ルの安定、 表示画面上のラインむらの低減等を目的として、 データ線 3 5に対 し、 デ一夕線駆動回路 1 0 1から供給されるデ一夕信号に先行するタイミング で、 プリチャージ信号を供給することにより、 デ一夕信号をデータ線 3 5に書 き込む際の負荷を軽減する回路である。 例えば、 特開平 7— 2 9 5 5 2 0号公 報に、 このようなプリチャージ回路の一例が開示されている。 他方、 検査回路 は、 周辺見切り 5 3下や T F Tアレイ基板の周辺部に、 製造途中や出荷時の当 該液晶装置の品質、 欠陥等を検査するための回路である。
更にまた、 以上の実施の形態において、 T F T 3 0に代えて T F D (Thin Fi lm Diode)等の 2端子型非線形素子等からスィツチング素子を構成してもよ い。 また、 石英基板、 ハードガラス等の代わりにシリコン基板にスイッチング 素子を構成してもよい。 この場合、 デ一夕線及び走査線のうち一方の線を対向 基板に配置して対向電極として機能させ、 T F Tアレイ基板に設けられた他方 の線と画素電極との間にスイッチング素子を夫々配置して液晶駆動する。 この ように構成しても、 画素信号線やデータ線をク口ック信号線からシールドする ことにより、 高周波のクロックノイズの画像信号ゃデ一夕信号への飛び込みを 防止する効果は発揮される。 上述の実施形態は液晶装置を一例として説明した が、 液晶装置に限るものではなく、 エレク ト口ルミネッセンス、 プラズマディ スプレイ等の各種電気光学装置にも適用可能である。
(電子機器)
次に、 以上詳細に説明した液晶装置 2 0 0を備えた電子機器の実施の形態に ついて図 1 4から図 1 8を参照して説明する。
先ず図 1 4に、 このように液晶装置 2 0 0を備えた電子機器の概略構成を示 す。
図 1 4において、 電子機器は、 表示情報出力源 1 0 0 0、 表示情報処理回路 1 0 0 2、 駆動回路 1 0 0 4、 液晶装置 2 0 0、 クロック発生回路 1 0 0 8並 びに電源回路 1 0 1 0を備えて構成されている。 表示情報出力源 1 0 0 0は、 R O M (Read Only Memory) 、 R A M (Random Access Memory) 、 光ディスク 装置などのメモリ、 テレビ信号を同調して出力する同調回路等を含み、 クロッ ク発生回路 1 0 0 8からのクロック信号に基づいて、 所定フォーマツトの画像 信号などの表示情報を表示情報処理回路 1 0 0 2に出力する。 表示情報処理回 路 1 0 0 2は、 増幅 ·極性反転回路、 シリアル一パラレル変換回路、 ローテ一 シヨン回路、 ガンマ補正回路、 クランプ回路等の周知の各種処理回路を含んで 構成されており、 クロック信号に基づいて入力された表示情報からデジタル信 号を順次生成し、 クロック信号 C L Kと共に駆動回路 1 0 0 4に出力する。 駆 動回路 1 0 0 4は、 液晶装置 2 0 0を駆動する。 電源回路 1 0 1 0は、 上述の 各回路に所定電源を供給する。 尚、 液晶装置 2 0 0を構成する T F Tアレイ基 板 1の上に、 駆動回路 1 0 0 4を搭載してもよく、 これに加えて表示情報処理 回路 1 0 0 2を搭載してもよい。
次に図 1 5から図 1 8に、 このように構成された電子機器の具体例を夫々示 す。
図 1 5において、 電子機器の一例たる液晶プロジェクタ 1 1 0 0は、 上述し た駆動回路 1 0 0 4が T F Tアレイ基板上に搭載された液晶装置 2 0 0を含む 液晶モジュールを 3個用意し、 夫々 R G B用のライ トバルブ 2 0 0 R、 2 0 0 G及び 2 0 0 Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。 液晶プロジ ェク夕 1 1 0 0では、 メタルハラィ ドランプ等の白色光源のランプュニッ ト 1 1 0 2から投射光が発せられると、 3枚のミラ一 1 1 0 6及び 2枚のダイク口 イツクミラー 1 1 0 8によって、 R G Bの 3原色に対応する光成分 R、 G、 B に分けられ、 各色に対応するライ トバルブ 2 0 0 R、 2 0 0 0及び2 0 0 8に 夫々導かれる。 この際特に B光は、 長い光路による光損失を防ぐために、 入射 レンズ 1 1 2 2、 リレーレンズ 1 1 2 3及び出射レンズ 1 1 2 4からなるリレ 一レンズ系 1 1 2 1を介して導かれる。 そして、 ライ トバルブ 2 0 0 R、 2 0 0 G及び 2 0 0 Bにより夫々変調された 3原色に対応する光成分は、 ダイク口 ィックプリズム 1 1 1 2により再度合成された後、 投射レンズ 1 1 1 4を介し てスクリーン 1 1 2 0にカラー画像として投射される。
本実施の形態においては特に、 前述のように遮光層を T F Tの下側にも設け ておけば、 当該液晶装置 2 0 0からの入射光に基づく液晶プロジヱク夕内の投 射光学系による反射光、 入射光が通過する際の T F Tアレイ基板の表面からの 反射光、 他の液晶装置から出射した後にダイクロイックプリズム 1 1 1 2を突 き抜けてくる入射光の一部 (R光及び G光の一部) 等が、 戻り光として T F T アレイ基板の側から入射しても、 画素電極のスィツチング用の T F T等のチヤ ネルに対する遮光を十分に行うことができる。 この場合、 小型化に適したプリ ズムを投射光学系に用いても、 各液晶装置の T F Tアレイ基板とプリズムとの 間において、 戻り光防止用の A Rフィルムを貼り付けたり、 偏光板に A R被膜 処理を施したりすることが不要となるので、 構成を小型且つ簡易化する上で大 変有利である。
図 1 6において、 電子機器の他の例たるマルチメディア対応のラップトップ 型のパーソナルコンビュ一夕 (P C ) 1 2 0 0は、 上述した液晶装置 2 0 0が トップカバ一ケース内に備えられており、 更に C P U、 メモリ、 モデム等を収 容すると共にキ一ボード 1 2 0 2が組み込まれた本体 1 2 0 4を備えている。 図 1 7において、 電子機器の他の例たるページャ 1 3 0 0は、 金属フレーム 1 3 0 2内に前述の駆動回路 1 0 0 4が T F Tアレイ基板上に搭載されて液晶 モジュールをなす液晶装置 2 0 0が、 バヅクライ ト 1 3 0 6 aを含むライ トガ イ ド 1 3 0 6、 回路基板 1 3 0 8、 第 1及び第 2のシールド板 1 3 1 0及び 1 3 1 2、 二つの弾性導電体 1 3 1 4及び 1 3 1 6、 並びにフィルムキヤリアテ ープ 1 3 1 8と共に収容されている。 この例の場合、 前述の表示情報処理回路 1 0 0 2 (図 1 1参照) は、 回路基板 1 3 0 8に搭載してもよく、 液晶装置 2 0 0の T F Tアレイ基板上に搭載してもよい。 更に、 前述の駆動回路 1 0 0 4 を回路基板 1 3 0 8上に搭載することも可能である。
尚、 図 1 7に示す例はページャであるので、 回路基板 1 3 0 8等が設けられ ている。 しかしながら、 駆動回路 1 0 0 4や更に表示情報処理回路 1 0 0 2を 搭載して液晶モジュールをなす液晶装置 2 0 0の場合には、 金属フレーム 1 3 0 2内に液晶装置 2 0 0を固定したものを液晶装置として、 或いはこれに加え てライ トガイ ド 1 3 0 6を組み込んだバックライ ト式の液晶装置として、 生産、 販売、 使用等することも可能である。
また図 1 8に示すように、 駆動回路 1 0 0 4や表示情報処理回路 1 0 0 2を 搭載しない液晶装置 2 0 0の場合には、 駆動回路 1 0 0 4や表示情報処理回路 1 0 0 2を含む I C 1 3 2 4がポリイミ ドテープ 1 3 2 2上に実装された T C P (Tape Carrier Package) 1 3 2 0に、 T F Tアレイ基板 1の周辺部に設 けられた異方性導電フィルムを介して物理的且つ電気的に接続して、 液晶装置 として、 生産、 販売、 使用等することも可能である。
以上図 1 5から図 1 8を参照して説明した電子機器の他にも、 液晶テレビ、 ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、 カーナビゲ一 シヨン装置、 電子手帳、 電卓、 ワードプロセッサ、 エンジニアリング ' ワーク ステーション (E W S ) 、 携帯電話、 テレビ電話、 P O S端末、 夕ツチパネル を備えた装置等などが図 1 4に示した電子機器の例として挙げられる。 以上説明したように、 本実施の形態によれば、 高周波のクロックノイズの発 生が低減されており、 高品位の画像表示が可能であり、 しかも基板サイズに比 ベて画像表示領域が大きい液晶装置 2 0 0を備えた各種の電子機器を実現でき る o 産業上の利用分野
本発明の電気光学装置によれば、 基板に配線された定電位の導電線により、 画像信号線は、 クロック信号線等の制御信号線からシールドされているので、 クロック信号線から画像信号線への高周波のクロックノイズ等の飛び込みを低 減でき、 高解像度の画像を表示するための高周波数の画像信号に応じて高品位 の画像表示を行える。 しかも、 画像信号線をデ一夕信号供給手段の両側へ引き 回わす構成により、 多相のシリアル一パラレル変換に対応する多数の画像信号 線を配線する場合にも、 データ信号供給手段の両側にバランス良く配線でき、 限られた基板サイズでの画面の大型化を図ることも可能となる。 また、 画像表 示領域及び複数のデータ線をもシールドすることにより、 データ線上のデ一夕 信号等における、 高周波のクロックノイズの発生を低減でき、 より高品位の画 像表示が可能となる。
また、 本発明の電子機器によれば、 高周波のクロックノイズが低減されてお り、 基板サイズに比べて画像表示領域が大きい高品位の画像表示が可能な、 液 晶プロジェクタ、 パーソナルコンピュータ、 ページャ等の様々な電子機器を実 現可能となる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 基板上には複数の走査線と、 前記複数の走査線に交差する複数のデータ線 と、 前記複数の走査線とデータ線に接続された複数のスイッチング素子と、 前 記複数のスイッチング素子に接続された複数の画素電極と、 クロック信号に基 づいて画像信号に対応するデータ信号を前記複数のデ一夕線に供給するデータ 信号供給手段と、 第 1外部入力端子から入力される前記画像信号を前記デ一夕 信号供給手段に供給する画像信号線と、 第 2外部入力端子から入力される前記 クロック信号を前記データ信号供給手段に供給するク口ック信号線と、 前記画 像信号線を前記クロック信号線から電気的にシールドする定電位の導電線とを 備えたことを特徴とする電気光学装置。
2 . 前記導電線は、 前記データ信号供給手段に定電位の電源を供給する定電位 線から構成された部分を含むことを特徴とする請求項 1に記載の電気光学装置。
3 . 前記定電位線は、 相異なる定電位の電源を前記データ信号供給手段に供給 する第 1及び第 2定電位線からなり、
該第 1定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で前記画像信 号線を囲み、
前記第 2定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で前記クロ ック信号線を囲むことを特徴とする請求項 2に記載の電気光学装置。
4 . 前記デ一夕信号供給手段は、 前記画像信号をサンプリングするサンプリン グ回路と、 前記定電位線からの電源供給を受けて前記クロック信号に基づいて 該サンプリング回路を駆動するデータ線駆動回路とを備えており、
前記画像信号線と前記クロック信号線とは、 前記基板上で前記データ線駆動 回路に対して反対方向から引き回されていることを特徴とする請求項 2又は 3 に記載の電気光学装置。
5 . 前記第 1及び第 2外部入力端子は、 前記基板の周辺部において相互に所 定間隔を隔てて配置されており、 前記第 1及び第 2外部入力端子の間には、 前 記定電位の電源を前記定電位線に入力するための第 3外部入力端子が配置され ていることを特徴とする請求項 2から 4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6 . 前記導電線は、 前記複数の画素電極により規定される画像表示領域及び前 記複数のデータ線を前記基板上で囲むように延設されたこと特徴とする請求項 1から 5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7 . 前記基板に対向して対向基板が設けられてなり、 前記画像表示領域の輪郭 に沿って前記基板及び前記対向基板のうち少なくとも一方に形成された遮光性 の周辺見切りを更に備えており、
前記導電線は前記周辺見切りに対向する位置において前記周辺見切りに沿つ て前記基板に設けられた部分を含むことを特徴とする請求項 6に記載の電気光 8 . 前記導電線及び前記データ線は、 同一の低抵抗金属材料から形成されたこ とを特徴とする請求項 1から 7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
9 . 前記画像信号線及びク口ック信号線の間に介在する前記導電線部分並びに 前記画像信号線及びク口ック信号線は、 前記基板に平行な同一平面上に形成さ れた同一の低抵抗金属層から構成されたことを特徴とする請求項 1から 8のい ずれか一項に記載の電気光学装置。
1 0 . 前記画素電極に所定量の容量を付与する容量線を更に備えており、 該容 量線が前記導電線に接続されたことを特徴とする請求項 1から 9のいずれか一 項に記載の電気光学装置。
1 1 . 基板上に複数のデータ線と、 該複数のデータ線に交差する複数の走査線 と、 前記複数のデータ線及び走査線に接続された複数のスイッチング素子と、 前記複数のスィツチング素子に接続された複数の画素電極と、 画像信号が供給 される複数の画像信号線と、 クロック信号を含む制御信号が供給される複数の 制御信号線と、 前記画像信号線及び前記制御信号線を夫々介して前記画像信号 及び前記制御信号が入力され、 前記画像信号に対応するデータ信号を前記制御 信号に基づいて前記複数のデータ線に供給するデータ信号供給手段とを備えて おり、
前記複数の画像信号線のうち第 1画像信号線群は前記基板上で前記データ信 号供給手段の一方の側へ引き回されており、 前記複数の画像信号線のうち第 2 画像信号線群は前記第 1基板上で前記データ信号供給手段の他方の側へ引き回 されており、 前記第 1及び第 2画像信号線群を前記複数の制御信号線から夫々 電気的にシールドする少なくとも 1本の導電線を前記基板上に更に備えたこと を特徴とする電気光学装置。
1 2 . 前記導電線は、 前記複数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の 水平走査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を供給する高周波制御信号 線から、 前記第 1及び第 2画像信号線群をシールドすることを特徴とする請求 項 1 1に記載の電気光学装置。
1 3 . 前記第 1及び第 2画像信号線群と前記高周波制御信号線との間には、 前 記導電線と共に前記複数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走 査期間よりも短くない周期を持つ低周波制御信号を供給する低周波制御信号線 が配線されていることを特徴とする請求項 1 2に記載の電気光学装置。
1 4 . 前記第 1画像信号線群に接続されており外部画像信号源から前記画像信 号が夫々入力される複数の第 1外部入力端子と、 前記第 2画像信号線群に接続 されており前記外部画像信号源から前記画像信号が夫々入力される複数の第 2 外部入力端子と、 前記制御信号線に接続されており外部制御信号源から前記制 御信号が夫々入力される複数の第 3外部入力端子と、 前記導電線に夫々接続さ れた複数の第 4外部入力端子とを前記基板の周辺部上に更に備えており、 前記 第 1及び第 2外部入力端子の間には、 前記第 3外部入力端子が配置されており、 前記第 1及び第 3外部入力端子の間並びに前記第 3及び第 2外部入力端子の間 には、 前記第 4外部入力端子が夫々配置されていることを特徴とする請求項 1 1に記載の電気光学装置。
1 5 . 前記導電線は、 前記複数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の 水平走査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を供給する高周波制御信号 線から、 前記第 1及び第 2画像信号線群をシールドし、
前記第 3外部入力端子のうち前記第 4外部入力端子に隣接する端子は、 前記 複数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短くな い周期を持つ低周波制御信号を供給する低周波制御信号線に接続されているこ とを特徴とする請求項 1 4に記載の電気光学装置。
1 6 . 前記導電線は、 前記データ信号供給手段に定電位のデータ線駆動用電源 を供給するデータ線駆動用定電位線から構成された部分を含むことを特徴とす る請求項 1 1から 1 5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
1 7 . 前記データ線駆動用定電位線は、 相異なる定電位の電源を前記デ一夕信 号供給手段に供給する第 1及び第 2定電位線からなり、
該第 1定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で前記第 1及 び第 2画像信号線群を囲み、
前記第 2定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記基板上で前記制御 信号線を囲むことを特徴とする請求項 1 6に記載の電気光学装置。
1 8 . 前記導電線は、 前記複数の画素電極により規定される画像表示領域及び 前記複数のデータ線を前記基板上で囲むように延設されたこと特徴とする請求 項 1 1から 1 7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
1 9 . 前記基板に対向して対向基板が設けられており、 前記画像表示領域の輪 郭に沿つて前記基板及び対向基板のうち少なくとも一方に形成された遮光性の 周辺見切りを更に備えており、
前記導電線は前記周辺見切りに対向する位置において前記周辺見切りに沿つ て前記基板に設けられた部分を含むことを特徴とする請求項 1 8に記載の電気 光学装置。
2 0 . 前記導電線及び前記デ一夕線は、 同一の低抵抗金属材料から形成された ことを特徴とする請求項 1 1から 1 9のいずれか一項に記載の電気光学装置。
2 1 . 前記画素電極に所定量の容量を付与する容量線を前記基板上に更に備え ており、 該容量線が前記導電線に接続されたことを特徴とする請求項 1 1から 2 0のいずれか一項に記載の電気光学装置。
2 2 . 走査信号を前記複数の走査線に供給する走査信号供給手段を前記基板上 に更に備えており、
前記導電線は、 前記走査信号供給手段に定電位の走査線駆動用電源を供給す る走査線駆動用定電位線から構成ざれた部分を含むことを特徴とする請求項 1 1から 2 1のいずれか一項に記載の電気光学装置。
2 3 . 前記走査信号供給手段は、 前記複数の画素電極により規定される画像表 示領域の両側に設けられており、 前記走査線駆動用定電位線から構成された前記導電線部分は、 前記画像表示 領域及び前記複数のデ一夕線を前記第 1基板上で囲むように且つ前記走査線供 給手段に前記走査線駆動用電源を冗長的に供給するように延設されていること を特徴とする請求項 2 2に記載の電気光学装置。
2 4 . 前記データ信号供給手段は、 前記画像信号をサンプリングするサンプリ ング回路と、 前記制御信号に基づいて該サンプリング回路を駆動するデータ線 駆動回路とを備えており、
前記第 1画像信号線群に含まれる画像信号線と前記第 2画像信号線群に含ま れる画像信号線とは、 前記データ線駆動回路と前記サンプリング回路との間に おいて、 少なくとも 1本の画像信号線毎に前記デ一夕線駆動回路の両側から櫛 歯状に交互に引き回されていることを特徴とする請求項 2 1から 2 3のいずれ か一項に記載の電気光学装置。
2 5 . 前記デ一夕信号供給手段は、 前記データ線毎に前記データ信号の電圧極 性を反転し、
前記第 1画像信号線群に含まれる画像信号線と前記第 2画像信号線群に含ま れる画像信号線とは、 相隣接する 2本のデ一夕線に対応する 2本の画像信号線 を対にして前記デ一夕線駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回されている ことを特徴とする請求項 2 4に記載の電気光学装置。
2 6 . 請求項 1から 2 5に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子 機器。
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