WO1991004505A1 - Procede de production d'un filtre de couleur et reserve pour film d'ecran antilumiere utilise par ce procede - Google Patents

Procede de production d'un filtre de couleur et reserve pour film d'ecran antilumiere utilise par ce procede Download PDF

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WO1991004505A1
WO1991004505A1 PCT/JP1990/001175 JP9001175W WO9104505A1 WO 1991004505 A1 WO1991004505 A1 WO 1991004505A1 JP 9001175 W JP9001175 W JP 9001175W WO 9104505 A1 WO9104505 A1 WO 9104505A1
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WO
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resist
light
black matrix
shielding film
electrode
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Application number
PCT/JP1990/001175
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Inventor
Seiichiro Yokoyama
Hideaki Kurata
Mitsuru Eida
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co., Ltd.
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Priority claimed from JP2117131A external-priority patent/JPH0413106A/ja
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
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    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a color filter having a dye by a micellar electrolysis method, and a light shielding film layer used for forming a black matrix in the method. Regarding the gist.
  • a method of manufacturing a color filter used for a liquid crystal television or a display of a personal computer includes: (1) dyeing a gelatin layer on a substrate; (2) a dispersion method in which a pigment is dispersed in a resist agent and ultraviolet curing is performed, (3) a substrate (4) Dispersion of pigment in an appropriate solvent and electrodeposition coating using electrodes formed on a substrate, etc. Electrodeposition method It has been known .
  • the dyeing method (1) has poor light fastness, and the dispersing method (2) has complicated steps and low productivity.
  • the printing method (3) has low accuracy and poor light fastness.
  • the electrodeposition method (4) has good light resistance and heat resistance, but a transparent electrode is necessary to form a dye layer.
  • the liquid crystal surface is formed on the surface of the color filter in the same manner as in the above (1) to (3). It is necessary to provide an electrode for this.
  • a transparent electrode having a desired shape is formed on an insulating substrate, and a transparent electrode is formed thereon.
  • a micelle electrolysis method for forming a conductive porous hydrophobic dye thin film by electrolysis see JP-A-63-243298.
  • light-shielding films have become indispensable for display elements such as color filters, liquid crystal display materials, electronic display materials, and color displays.
  • the display elements of the laptop, laptop, notebook, audio, in-vehicle electronics, clock, calculator, video deck, and fax It is widely used in various fields such as communication, communication equipment, game machines, and measurement equipment.
  • a light-shielding film is used as a source. This black matrix plays a role in preventing contrast and lowering of color purity due to light leakage between pixels.
  • each pixel pigmentation
  • a color filter a carbon-based photo resist or a chrome film
  • a light shielding film is often used as a light shielding film.
  • the carbon-based photoresist agent and the chromium film are conductive, it must be possible to share the liquid crystal drive electrode and the dye layer forming electrode. There's a problem .
  • the black matrix is first formed on the ITO electrode patterned for forming the dye layer, the black matrix is conducted to the left and right electrodes, and the However, even if the black matrix is formed after the pigment is formed, the left Conduction with the right electrode causes the inconvenience that the liquid crystal does not work.
  • the dye ⁇ can be formed by a method of electrodeposition or electrodeposition, which has excellent conductivity. There is a problem that is not possible.
  • the development of a resist for a light-shielding film having an insulating property has been desired, and a resist agent of an organic pigment type has been developed as an insulating photo resist agent.
  • the above-mentioned light-shielding film using the conventional organic pigment-based photoresist agent having an insulating property can be used for the red (R), green (G), and blue (B) color masks.
  • the film thickness is increased when an attempt is made to obtain a sufficient light shielding ratio.
  • the Taito invention was made in light of the above circumstances, and the transparent electrode can be used for both the formation of a dye during the production of a color filter and the driving of a liquid crystal after the production. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a color filter having a configuration that can be used. Another object of the present invention is to provide a light-shielding film register capable of forming a highly insulating light-shielding film having a high light-shielding rate.
  • the method for manufacturing the color filter of the invention is based on the following: an insulating substrate, a transparent electroplant, a black matrix, and a pigment layer are laminated in this order, and the transparent electrodes corresponding to the individual colors separated into colors are provided.
  • the electrode extraction area formed by each of the electrode extraction window openings is provided with a color filter that is located near one side of the surface, and is provided with the above-mentioned individual color.
  • an insulation layer as a window for taking out the electrode is formed with a black matrix material.
  • each electrode extraction window unit is electrically connected, and only fc is different from the other electrode extraction window unit.
  • the dye layer is formed by a micellar electrolysis method. It is configured as follows.
  • the electrode extraction window is formed in a part of the color filter simultaneously with the formation of the insulating black matrix.
  • the conductive dye layer was laminated on the transparent electrode by the micellar electrolysis method, so that the electrode for forming the dye layer can be used as the electrode for driving the liquid crystal.
  • Color filters can be manufactured simply.
  • the resist for a light-shielding film of the present invention comprises at least one or more of an insulating organic pigment dispersion resist or an insulating transparent resist, and a conductive highly light-shielding resist.
  • a black organic pigment is dispersed in a transparent transparent resist (third resist).
  • the sheet resistance of the light-shielding film is 10%. The configuration is such that it is 7 ⁇ / cm 2 or more.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the power filter of the present invention
  • FIG. 2 is a plan view showing a mask for forming a transparent electrode
  • FIG. 3 is a black mask.
  • FIG. 4 and FIG. 5 are cross-sectional views of an electrode extraction region
  • FIG. 6 is a specific example of a light shielding film manufacturing process by a photolithography method. It is a flow chart showing an example.
  • 1 is a glass substrate
  • 2 is a transparent electrode
  • 3 is a black drive
  • 4 is a dye layer
  • 5 is a coating layer
  • 6 is a direction layer.
  • each electrical outlet window unit is electrically connected.
  • Each of the electrode extraction windows is formed by forming a conductive layer so as to be electrically connected to another electrode extraction window and not electrically connected to another electrode extraction window.
  • an insulating glass substrate for example, blue plate glass, alkali-free glass
  • Quartz glass plate 1) Thoroughly clean the surface with an aqueous alkaline solution or pure water.
  • a material for transparent electrophoresis is formed by using a vapor deposition method, a sputtering method, a pyrosol method, or an ultrafine particle casting method. Form a layer. This electrode material layer is subjected to a surface oxidation treatment or a baking treatment to adjust the resistance value.
  • a resist agent for example, an ultraviolet curable resin
  • Exposure e.g., UV exposure
  • the exposed material for electrical contact is etched with a suitable etching solution
  • the resist layer is covered and washed, and the primary color is removed.
  • a transparent electrode 2 (2B, 2G, 2R) corresponding to each is formed.
  • a black matrix or a black matrix is formed on the glass substrate 1 carrying the transparent electrode 2 by using, for example, a photolithography method described in detail below.
  • a resist for a wood invention light-shielding film such as a resist agent composed of an ultraviolet-curable resin and a black pigment, is applied by a spin coater or a roll coater, and is then applied to a suitable black coat. Exposure is carried out using a mask for masking, and then rinse, develop, wash and bake as usual.
  • an electrode extraction window can be formed in a part of the color filter.
  • a transparent electrode is formed on a glass substrate using the mask 20 shown in FIG. 2, it corresponds to the three primary colors of light, blue (B), green (G), and red (R).
  • B blue
  • G green
  • R red
  • the black matrix is, for example, the mask shown in Figure 3.
  • the mask 30 has not only a black matrix forming pattern 31 but also an electrode extraction region forming pattern 32.
  • No. Turn 32 consists of three sets of patterns for forming an electrode extraction window. That is, a pattern 32 B for forming an electrode extraction window for the electrode wire (B) and a pattern 32 G for forming an electrode extraction window for the electrode wire (G). It consists of an electrode extraction window for electrode wire (R) and a pattern 32R for forming a band.
  • the resist for a light shielding film of the present invention.
  • FIG. 4 and FIG. Figure 4 shows the forces formed along the 17-IV line of mask 30.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the color filter
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the color filter formed on the mask 30 along the line V--V.
  • the electrode wires 2G and 2R are covered by an insulation layer 41
  • the electrode wires 2B are mutually conductive layers. It is electrically tangent according to 42.
  • the resist for a light-shielding film of the invention which is preferably used for the formation of the black matrix, will be described in detail.
  • the first register contains at least one or more resists of an insulating organic pigment dispersion resist or an insulating transparent resist, and a conductive and light-shielding resist. What is it?
  • the insulating organic pigment dispersion resist is an organic resist that is insulative to a resist such as an acrylic resist, an epoxy resist, or a polyimid resist. It is a fc that disperses the pigment.
  • Insulating organic pigments include, as red pigments, perylene pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinone pigments, azo pigments, and dia pigments. Azo pigments, quinacridone pigments, and anthracene pigments. Specifically, perylene pigments, quinacridone, naphthol AS, silicone pigments, dianthraquinone, sudan I, ⁇ , ⁇ , R, and Examples include azo and benzoviran.
  • blue pigments include phthalocyanine pigments, phthalocyanine pigments, indanthrone pigments, indophenol pigments, and phenol pigments. And nin-based pigments.
  • black copper phthalocyanine, black aluminum phthalocyanine, phthalocyanine vanadate, and magnesium Phthalocyanine metal complexes, such as phthalocyanine, zinc phthalocyanine, iron phthalocyanine, co-nut phthalocyanine, and phthalocyanine Examples include Anin, Melosianin, and Indian phenols.
  • insulative organic pigment dispersion registers include three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), as well as yellow (Y) and bicolor.
  • Organic pigment dispersal registry Organic pigment mosaic CR, CG, CB, CY, CV, etc., manufactured by Fuji Paint / Age Co., Ltd.
  • organic pigments such as oret (V) It is commercially available.
  • the insulative transparent resist includes all transparent resists having an insulating property, for example, an ultraviolet curable resist and the like. Specific examples include Acrylic-based resistonics (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and Toray Photo Nice (manufactured by Toray).
  • Acrylic resist, epoxy resist, or polyimide resist may be used as the conductive and light-shielding resist. And the like.
  • a conductive particle dispersion resist obtained by dispersing conductive particles in a resist such as the above is mentioned.
  • the conductive particles include highly light-shielding materials such as carbon, chromium oxide, and metal fine particles.
  • the first resist containing each of the above-mentioned resists is usually a mixture of the above-mentioned resists. It is prepared by the following. Further, for example, it can also be prepared by mixing and dispersing an insulating organic pigment and conductive highly light-shielding particles with one resist agent. In any of the preparation methods, it is preferable that the pigments, the conductive particles, and the like are mixed so as to be uniformly dispersed in the resist agent.
  • the sheet resistance of the feeder to have the light-shielding film is the ratio Do Let 's that Do and 1 0 7 ⁇ / cm 2 or more, in the case of using a micelle electrolytic method, or the like Is preferred. At the time of this mixing, an agent and the like may be added. Mixing using a mixer that does not generate heat is preferable from the viewpoint of preventing agglomeration of the registry.
  • the second register contains two or more kinds of insulating organic pigment dispersed resists.
  • the insulative organic pigment dispersion register is the same as the first register described above.
  • a preparation method for example, a method of mixing two types of photo resist agents each containing one color of two color pigments, or a method of mixing both color pigments in one color A method of mixing and dispersing in a resist agent is exemplified. In any of the preparation methods, it is preferable to mix the pigments so as to be uniformly dispersed in the resist agent.
  • the mixing ratio of the resist, the preferable surface resistance when the light-shielding film is used, and the like are the same as in the case of the first resist described above.
  • the third registry is a black organic pigment dispersed in an insulating transparent registry.
  • the insulating transparent resist is the same as the first resist described above.
  • black organic pigments examples include perylene black, aniline black, cyanine black and the like. The case where two or more kinds of black organic pigments are dispersed in the insulating transparent registry is also included. It is preferable that the black organic pigment is uniformly dispersed in the resist agent.
  • the third register may be either a positive type or a negative type, and may be an EB register or an X-ray register. Etc. may be 0
  • the black matrix is formed by the photolithography method using the third register. It is preferable to form
  • FIG. 6 is a flow chart showing a specific example of a process of manufacturing a light-shielding film by a photolithography method.
  • Exposure is performed after applying the light-shielding film resist. Exposure is performed by an exposure machine, and by exposing through a photo mask having a desired pattern, only the resist corresponding to the pattern is exposed. Let me do it. Exposure equipment and exposure conditions are appropriately selected and are not particularly limited.
  • the exposure is selected, for example, in the range of 20 to 200 niJ / cm 2 .
  • the light source is determined according to the photosensitive characteristics of the light-shielding film resist to be used. For example, a 2 kW high-pressure mercury lamp is used. .
  • the pre-cleaning is performed for the purpose of increasing the adhesion between the substrate and the resist for the light-shielding film before development, and suppressing the occurrence of defects during image development.
  • Prebaking is performed by heating with an oven, a boil plate or the like.
  • the heating temperature and heating time in the pre-bake are appropriately selected according to the registry used, for example, 85. C to 1Q at a temperature of 0 ° C for 5 to 10 minutes.
  • development is performed. Development can be performed on exposed (in the case of negative resist) or unexposed areas
  • the developer varies depending on the components of the resist agent used, and is appropriately selected from those capable of dissolving and removing the resist.
  • a commercially available resist agent since a developer suitable for each resist is commercially available, these commercially available products may be used, but mainly an aqueous alkali solution is used. Many c
  • the concentration of the developing solution and the developing time are appropriately selected depending on the resist to be used and the developing solution.
  • the development time is, for example, If you choose between 20 and 30 seconds.
  • a post-bake is performed.
  • the postbaking is performed for the purpose of enhancing the adhesion between the patterned light-shielding film registry and the substrate.
  • This postbaking is performed by heating with an oven, a hot plate or the like, like the prebaking.
  • the heating temperature and the heating time in Bostobake are appropriately selected, for example, at a temperature of 200 to 220 ° C. for 5 to 10 minutes.
  • a conductive porous hydrophobic dye thin film is formed on the transparent electrode by micellar electrolysis. Form a dye layer.
  • conductive porous means that the film or layer has conductivity because it is porous, that is, a transparent electrode placed under the film or layer. It means that it is conductive to such an extent that it can be used for driving a liquid crystal or the like. Therefore, it is not necessary that the material constituting the film or the film itself be conductive.
  • micellar electrolysis method In order to form a thin film of the dye by this micellar electrolysis method, The following operating procedure can be used.
  • a dye material hydrophobic dye
  • micelles having the dye material incorporated therein are formed.
  • the micelles are attracted to the positive electrode, and the phenol derivative in the micelle loses the electron e on the anode (transparent electrode).
  • Fe 2 + is in emissions is oxidized to Fe 3 +), also Mi cell Le is inside the dye material to collapse to form formed a thin film deposited on the anode to it and.
  • the oxidized fluorine derivative is damaged by the cathode, receives the electron e_, and forms micelle again.
  • the particles of the pigment material are deposited on the transparent electrode to form a thin film, and a desired dye thin film is formed.
  • the dye thin film thus formed generally has a thickness of 0.1 to 10.0 / m, particularly 0.1 to 2.0 m, and has high conductivity since it is porous. .
  • the film thickness is less than 0.1 / tm, the hue of the dye layer cannot be sufficiently displayed, and when the film thickness exceeds 10.0 m, the conductivity becomes low, which is not preferable. No.
  • the misting agent used in the micellar electrolysis method is It consists of seven bodies.
  • phenocene derivatives for example, the general formula [I]
  • R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 6 or less carbon atoms, an alkoxy group having 6 or less carbon atoms, an amino group, a dimethylamino group, a hydroxyl group, or an acetyl group.
  • R 3 represents hydrogen or C 4 , which represents a mino group, a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, an acetate group, an aldehyde group, or a nitrogen atom.
  • R 4 and R 5 each represent hydrogen or a methyl group
  • Y represents oxygen or o-methyl.
  • A represents an integer from 0 to 4
  • b represents an integer from 0 to 4
  • m represents an integer from 1 to 18
  • n represents an integer from 2.0 to 7; Indicates a real number of 0.0.
  • the sensu derivative represented by the formula [1] can be given as a typical example. These compounds are disclosed, for example, in PCT International Publication Nos. WO 88/07538 and WO 89/01939. And Japanese Patent Application No. 63-233797.
  • the alkyl group having 6 or less carbon atoms of R 1 and R 2 is, for example, a methyl group (CH 3 ) or an ethyl group (C 2 H S ), and the alkoxy group is For example, a methoxy group (0CH 3 ) or an ethoxy group (0C 2 H 5 ), and a halogen is, for example, chlorine, bromine, fluorine or fluorine. It is iodine.
  • R 1 and R 2 may be the same or different, and even if R 1 and R 2 are each present in the five-membered ring of a plurality of phenolic hydrogens, However, the plurality of substituents may be the same or different.
  • n indicates the number of repetitions of the above oxyalkylene group, and is not limited to an integer of 2.0 to 70.0. Means the real number including, and indicates the average value of the number of repetitions of the oxalkylene group.
  • the fluorine-containing derivatives used in the micellar electrolysis method of the present invention include, in addition to those represented by the general formula [I], various types. In addition to the nipple type and the virgin type (PCT International Publication No. WO 88/07538), Japanese Patent Application Nos. 63-233797 and 63-233798 No. 63-248600, No. 63-248601, Japanese Patent Application No. 1-445370, No. 1-54956, No. 1-70680, No. 70681, No. Mention may be made of fehsen derivatives described in the specifications of JP-A 1-76498 and JP-A 1-76499.
  • phenocene derivatives can very efficiently disperse or disperse hydrophobic substances in aqueous media without dissolving them.
  • micellar electrolysis method used in the present invention first, a miscellating agent consisting of the above phenocene derivative, a supporting salt, and a coloring material are placed in an aqueous medium, and the mixture is subjected to ultrasonic wave and homogenization. Or a stirrer to sufficiently disperse the mixture to form micelles, and then, if necessary, remove excess dye material. The dispersion is left standing or subjected to electrolytic treatment using a transparent electrode with slight stirring.
  • the above-mentioned coloring material may be replenished to the micelle solution (dispersion solution) during the electrolytic treatment, or the coloring material may be added near the anode.
  • micellar solution is drawn out of the system, the dye material is added to the extracted micellar solution (dispersion), and the mixture is thoroughly mixed and agitated.
  • a recirculation circuit may be provided.
  • the concentration of the missellating agent may be not less than the limit micelle concentration, specifically, about 0.1 lmM or more.
  • the concentration of the dye material may be higher than the saturation concentration.
  • the electrolysis conditions may be appropriately selected according to various situations.
  • the solution is 0 to 70. C.
  • the temperature is preferably 5 to 40 ° C, and the voltage is higher than the oxidation-reduction potential of the phenol derivative which is a micellizing agent and lower than the hydrogen generation potential, specifically 0. 0 3 to: I.0.0 V preferably 0.15 to 0.7 V, current density 10 mAZ cn 2 or less, preferably 50 to 300 / t A Let it be ci 2 .
  • the supporting salt (supporting electrolyte) used in the micelle electrolysis method is added as needed to adjust the electric conductivity of the aqueous medium.
  • the amount of the supporting salt to be added should be within a range that does not hinder the precipitation of the solubilized or dispersed dye material, and is usually 0 to 3 of the above-mentioned miscellating agent. A concentration of about 100 times, preferably about 50 to 200 times is used as a guide.
  • Electrolysis can be performed without adding the supporting salt, but in this case, a high-purity thin film containing no supporting salt can be obtained.
  • the type of the supporting salt can adjust the electric conductivity of the icy medium without causing the formation of micelles or the precipitation of the coloring material on the electrode. There is no particular restriction.
  • sulfates lithium, potassium, sodium, sodium, rubidium, aluminum, etc.
  • Salt acetate (lithium, potassium, sodium, rubidium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, no Salts such as lithium and aluminum), halide salts (lithium, potassium, sodium, rubidium, rubidium, magnesium, calcium, aluminum) Salts), water-soluble oxide salts (lithium, potassium, sodium, rubidium, magnesium, etc.) , Calcium, and aluminum salts) are preferred.
  • the material of the transparent electrode used in the micellar electrolysis method may be a metal that is more noble than the oxidation potential (+0.15 to 0.30 V vs. saturated sweet copper wire) of the phenol derivative. Or a conductor. Specific examples include ITO (mixed oxide of indium oxide and tin oxide), tin oxide, and conductive polymer film.
  • the color material forming the dye film is a color material exhibiting three principles of light, that is, a color material exhibiting various colors including red, green, and blue water-based dyes.
  • a color material exhibiting various colors including red, green, and blue water-based dyes can be For red, berylen pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments or anthracene pigments
  • quinone sudan I, ⁇ , ⁇ , R, disazo, benzoviran, cadmium sulfide pigments, Fe ( ⁇ ) oxide pigments and the like.
  • Pigments and lake pigments are preferred.
  • a halogen-substituted phthalocyanine pigment a halogen-substituted copper phthalocyanine pigment, or a triphenylmethane-based basic pigment may be used.
  • dyes etc.
  • the blue pigment there are copper phthalocyanine pigments, indonelone pigments, indolephenol pigments, and cyanine pigments.
  • copper mouth copper phthalocyanine, black aluminum phthalocyanine, sodium phthalate cyanine, Phthalosia, such as magnesium phthalocyanine, zinc phthalocyanine, iron phthalocyanine, and salt phthalocyanine examples include nin metal complexes, phthalocyanine, melocyanin, and indophenol blue.
  • any one of red, green, and blue hydrophobic dyes is added to an aqueous medium, and the above-described micellar electrolysis method is performed.
  • the three primary colors (red, blue) are formed by first forming a thin film of the desired color tone and then repeating the micelle electrolysis method by changing the type of hydrophobic dye. This hydrophobic dye can be formed on each transparent electrode.
  • a similar color can be obtained by simultaneously presenting a red, blue or blue hydrophobic dye in an aqueous medium and applying the micellar electrolysis method thereto. It is possible to produce ruta.
  • a top coat agent such as an acrylic resin, a polyether resin, a polyester resin, a polyrefin resin, or a phosphorous resin.
  • Coating resin and polysulfide resin are applied with a spin coater or a roll coater, and then 80 to 150. It can be dried with C for 5 to 60 minutes to form a conductive coating.
  • the coating layer By providing the coating layer, the contact surface with the liquid crystal can be smoothed. If the coating layer is made of a conductive material, it is possible to prevent a voltage drop due to the coating layer. Also, transparent conductive particles such as ITO particles may be added to these coating agents.
  • a polyamic acid monomer, a polyimid-based wedge oil oligomer, or the like is added to a subbing coater or a roll coater. And polymerized at 200 to 300 ° C for 30 minutes to 2 hours, washed with pure water, etc., and dried (30 to 100 ° C for 30 minutes to 2 hours) Is irradiated with ultraviolet rays, etc.) to form a facing layer as the uppermost layer. The liquid crystal is aligned by this alignment layer.
  • the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but this does not limit the scope of the present invention.
  • the glass substrate (NA45: made by HOYA: size 320 x 300 x 0.5 mm) with 0.1 N NaOH, cleaning with pure water and draining liquid resistance of that or in the Ri repeat play Do to 1 0 7 QZ cni.
  • This glass substrate was placed in a vacuum sputter device, and ITO was snow-covered. Further, the surface of the formed ITO layer was oxidized at 100 in air to adjust the surface resistance to 100 ⁇ cm 2 . Then, a resist agent (FH-213: manufactured by Fujinon Electronics Co., Ltd.) was applied with a roller coater, and the mixture was applied at 80 ° C for 5 minutes. After the break, a 500 W high-pressure mercury lamp was used to perform ultraviolet light exposure (60 seconds) through the strive mask shown in Fig. 2. The width of each line of the mask shown in FIG. 2 is 90 m, and the interval between the lines is 20 itm.
  • a color resist agent containing a UV-curable polymer and a black pigment (color register CK: Fuji Electric Electronics Co., Ltd.) (Registered trademark) was spin-coated at 3,000 rpa to form a resist film. 8 0.
  • boryl alcohol was added as an oxygen resist agent at a temperature of 400 ° C.
  • ultraviolet exposure was carried out using a 500 W high-pressure mercury lamp through a black drive mask shown in Fig. 3. Was. In the mask shown in Fig.
  • the pattern for the black drive has an inner dimension of 90 x 310 tm and a line width of 20 m, and the pattern for the electrode extraction window is shown. Has an inner dimension of 90 mx 5 mm.
  • development was carried out using Color Resist Developer CD (manufactured by Fuji Hand Electronics Co., Ltd.).
  • postbaking was performed at 230 ° C for 10 minutes. In this way, at the same time as forming a blackstrip, the electrode wires corresponding to each of the three primary colors are formed.
  • An electrode extraction window was formed.
  • a conductive silver paste is applied in a strip shape so that the electrode wires of the same color are electrically connected but are not electrically connected to the electrode wires of the other colors.
  • An electrode extraction window was formed.
  • a red pigment (Lithol Scarlet K 3700: BASF) and a blue pigment (He 1 iogen) are added to a 2 aM aqueous solution of a compound represented by the formula (FPEG).
  • Green L 9361: BASF or a blue pigment (He 1 iogen Blue B 7080: BASF) is added and dispersed in l to 2 g each, and then 0.1 M of lithium bromide (supporting salt) is added. The mixture was dispersed for 30 minutes with a sonic homogenizer, and further stirred for 3 days with a stirrer to prepare a dye dispersion.
  • the substrate obtained in the above step is immersed in a red pigment dispersion liquid.
  • a green dye layer 4G and a blue dye layer 4B were sequentially formed.
  • the average thickness of each dye layer was 0.5 ⁇ (red color layer), 0.4 ⁇ m (green color layer) and 0.6 / im (blue color layer), respectively.
  • Top coat agent (Opto-Mah JHR: made of Japanese synthetic rubber) was spin-coated at 3,000 rp «and pre-baked at 80 ° C. Was. Further, a solution of polyamic acid in N-methylbirolidone was similarly spin-coated, and polymerized at 250 ° C. for 1 hour in a vacuum. After washing with pure water, the film was dried at 80 ° C. for 1 hour to obtain a thick invention having a conductive coating layer 5 (0.2 ⁇ m) and an orientation layer 6 (0.1 ⁇ m). I got a power filter.
  • the ITO was further subjected to the same test as described above to determine the resistance value between the sputtering and the ITO inside the color filter. in 'was Tsu Oh in this filtrate 1 0 5 ⁇ / ca 2 and was measured. Also, the insulation resistance between the ITO Ri Ah in 1 0 1 3 Q / CB 2 , conductive Color Camera off I filter has been Tsu This and GaWaka that is formed.
  • the mask shall be a stripe turn line having a line width of 100 m, a gap of 20 ⁇ , and a line length of 155 tm.
  • a 2Kw high-pressure mercury lamp is used as the light source (exposure capacity: 10nw / cBs). Take a proxy gap of 70 m, expose for 60 seconds, and develop with a developer. After development and rinsing in pure water, 180. Postbake with C. Then, as the error pitch in g solution, 1M FeC 13, IN HC1, 0. IN HN0 3, 0. IN Ce ( ⁇ 0 3) Prepare 4 or et ing solution, et a iota T Omicron Tsu Ching. The end point of the etching was measured by electrical resistance. The etching required about 40 minutes. After etching, rinse with pure water, and stir the resist with IN NaOH.
  • a striped ITO electrode is formed on the glass substrate.
  • Conductive and light-shielding resist (CK, manufactured by Fuji Technology Co., Ltd.) and insulative transparent resist (acrylic resin, cellulose acetate 103; solution: manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) ) Is mixed at a ratio of 3: 1 parts by weight as a resist for a light-shielding film (a resist for forming a black matrix).
  • the ITO substrate pattern garlic 'glass substrate prepared above is rotated with lOrpin, and 30 cc of the light-shielding film resist is sprayed thereon. Next, spin coating is performed at 2500 rpm to form a uniform film on the substrate. Pre-bake this substrate at 80 ° C for 15 minutes. Through the transfer mask of the black matrix pattern, the alignment is performed with an aligner with an alignment function having a 2 k * high-pressure mercury lamp. Expose. Then, develop for 30 seconds using a developing solution (Fujianto Techno-Q CD diluted 4 times). Then rinse with pure water and add 200. Postbake with C for 100 minutes. In this way, the black matrix is formed, and at the same time, the electrode outlets for each electrode wire corresponding to each of the three primary colors are formed.
  • the blue dye layer is used as a blue dye
  • Heliogen Blue K7080 is used as a blue dye.
  • a blue dye layer is sequentially formed using a color dye (manufactured by BASF).
  • the thickness of the RGB filter is in the range of 0.6 to 1.0 m, and it becomes a color filter with very little unevenness, and a thin film is formed on electrodes other than the current-carrying electrode. As a result, it was possible to manufacture force filters.
  • the resistance of mosquitoes La-safe I filter has a Oh Ru child 10 5 ⁇ / cm 2 and Do Ri conductivity of mosquitoes La-safe I filter was Tsu determine.
  • the physical properties of the black matrix were extremely high, with a film thickness of 1.9 m, a light blocking ratio of 93%, and a sheet resistance of 10 1 .
  • mosquitoes La first resistor value of the full I-le data has and Oh Ru child 10 5 ⁇ / cm 2 and Do Ri conductivity of mosquitoes La-safe I filter ⁇ ! One was.
  • the resist for the light-shielding film is a conductive highly light-shielding resist (CK, manufactured by FUJI TECHNO TECHNO CORPORATION) and an insulating transparent resist (acrylic-based resist aronite).
  • Black matrix using a mixture of 1% by weight of xcellulose acetate 10% solution: manufactured by Toagosei Co., Ltd. A color filter was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the spin coat rotation speed at the time of forming the spin coat was changed to lOOOOrpB.
  • the physical properties of the black matrix were 2.3 JLL m in film thickness, 99% light-shielding ratio, and 10 9 ⁇ / cm 2 sheet resistance.
  • a color filter could be manufactured without being formed.
  • the resistance of mosquitoes La-safe I filter has a Oh Ru child 10 5 ⁇ / cni 2 and Do Ri conductivity of mosquitoes La-safe I filter was Tsu determine.
  • the resist for the light shielding film includes a conductive particle dispersion resist (containing chromium oxide as the conductive particles), an insulating transparent resist (an acrylic resist store). Nixcell cellosolve acetate 103 ⁇ 4 solution: Toa Gosei Co., Ltd.), insulating organic pigment (red) Dispersion resist (CR, manufactured by Fuji Pent Techno Pi, Inc.), insulating organic pigment (blue) When forming black matrices, use a mixture of dispersed resist (Fuji Hunt Techno ⁇ 5?-CB) in a ratio of 1: 1.5: 5: 5 parts by weight, respectively. A color filter was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the rotation speed of the spin coat was set to 2000 rpai.
  • the physical properties of the black matrix were 1.9 Hm film thickness, 97% light blocking ratio, sheet resistance of 10 13 Q / cm 2, and a thin film was formed on electrodes other than the current-carrying electrode. Instead, it was possible to produce a color filter.
  • the resistance of the color filter is 10 5 ⁇ / cm 2, which is a conductive color filter. I understood that.
  • a color filter was manufactured in the same manner as in the case of Jiro 2 except that the number was set to 2000 rpm.
  • a black organic pigment ( ⁇ Rilrenblatak; manufactured by BASF: K0084) is used as an insulating transparent resist (acrylic resist resin).
  • Lube acetate 10 solution Using a resist dispersed in Toa Gosei Co., Ltd., at a ratio of 1: 1.4 parts by weight, the amount of spin coat at the time of forming the black matrix is increased.
  • a color filter was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the number of rotations was set to 2000 rpin.
  • the physical properties of the black matrix are as follows: the film thickness is 1-9 ⁇ m, the light blocking ratio is 99%, the sheet resistance is 10 13 Q / cm 2 , It was possible to produce a color filter without forming a thin film on the Gehn.
  • the resistance of mosquitoes La-safe I Lumpur data has and Oh Ru child 10 5 ⁇ / cm 2 and Do Ri conductivity of force La-safe I filter was Tsu determine.
  • a black organic pigment ( ⁇ Rillenf Latak; manufactured by BASF: K0084) was added to an insulating transparent resist (Toray Photo Nice NMP 33 ⁇ 4 solution: manufactured by Toray). : Using a resist dispersed so as to have a ratio of 1.5 parts by weight, and the rotation speed of the spin coat at the time of forming the black matrix was set to 2000 mm. A color filter was manufactured in the same manner as in Example 2 except for the above.
  • the physical properties of the black matrix were 1.9 ⁇ m in thickness, 97% in light-shielding rate, and 10 13 Q / cm 2 in sheet resistance.
  • the thin film is not formed and the color We were able to produce filters.
  • the resistance of mosquitoes La monounsaturated I filter has a Oh Ru child 10 5 ⁇ / cm 2 and Do Ri conductivity of mosquitoes La monounsaturated I filter was Tsu determine.
  • Insulating organic pigment (red) dispersion resist (CR manufactured by Fuji Paint Techno Co., Ltd.), insulating organic pigment (green) dispersed resist (CG manufactured by Fuji Paint Tech-Co., Ltd.) ), Insulating organic pigment (blue) dispersed resist (manufactured by Fuji Cent Techno Co., Ltd.)
  • the resistance of mosquitoes La-safe I Lumpur data has and Oh Ru child 10 5 ⁇ / c ⁇ 2 and Do Ri conductivity of mosquitoes La-safe I filter was Tsu determine.
  • a color filter was manufactured in the same manner as in Example 2 except that a conductive transparent resist (CK, manufactured by Fuji Hunt Techno Co., Ltd.) was used as the light-shielding film resist.
  • CK conductive transparent resist
  • a thin film was formed on the electrodes other than the current-carrying electrode, and a color filter could not be manufactured.
  • the color electrode for forming the dye film can be used as the transparent electrode for driving the liquid crystal.
  • Filters can be easily manufactured. That is, since the dye obtained by the micellar electrolysis method is extremely thin and porous, the potential resistance drop of the electrode disposed therebelow becomes small, and the liquid crystal is driven directly by the liquid crystal. It can be used as a filter. In addition, since there is no need to provide a transparent electrode on the top layer, complicated positioning with the electrode is required.
  • the dye layer in the present invention is superior in conductivity, heat resistance, chemical resistance, light resistance, and the like as compared with those formed by a conventional method.
  • the dye layer can be easily controlled in thickness by controlling the amount of current, so that leveling is easy.
  • the color filter of the present invention includes, for example, a liquid crystal display element, an electoric aperture chromic display element, a gradation adjustment display element, a plasma display panel, Spectroscopy equipment, solid-state imaging It can be used for various filters such as image elements and dimmers.
  • a liquid crystal display element an electoric aperture chromic display element, a gradation adjustment display element, a plasma display panel, Spectroscopy equipment, solid-state imaging It can be used for various filters such as image elements and dimmers.
  • laptop type personal computers, word processors, LCD color televisions (portable or wall-mounted), aurora vision, video cameras It is effectively used in fields such as finder viewers, clocks, surveying instrument panels, automobile interior panels, liquid crystal color filters, liquid crystal projectors, and color tone glass.
  • the light-shielding resist of the invention has excellent characteristics of high insulation and high light-shielding properties. Therefore, according to the light-shielding film resist of the present invention, the same film thickness as the conventional light-shielding film resist of a three-color (R, G, B) mixed resist is used. In this method, a light-shielding film having a light-shielding rate as high as about 50% can be manufactured. In addition, it is possible to create an RGB color filter by the micellar electrolysis method. After the color filter is formed, the color filter forming electrode is driven by a liquid crystal. It can be used as electricity S. Furthermore, not only does the light-shielding film resist hinder the formation of the color filter, but also a fine region can be separated by the light-shielding film resist wall. It is possible to produce a color filter that is stable and free of spots.

Description

明 細 書
カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法
及び該方法に用 い る遮光膜用 レジス ト
[ 技術分野 ]
本発明 は 、 ミ セ ル電解法に よ る 色素曆を有す る カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法、 並びに該方法において ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成に用い られる 遮光膜用 レ ジス ト に関す る 。
[ 背景技術 ]
従来か ら 、 液晶テ レ ビやパ ソ コ ン のデ ィ スプ レイ 等に 用いる カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法 と して は、 ( 1 ) 基板 上のゼ ラ チ ン層を染色 してか ら フ ォ ト レ ジス ト 及び紫外 線硬化を行な う 染色法、 ( 2 ) レ ジス 卜剤中 に顔料を分 散させ、 そ して紫外線硬化を行な う 分散法、 ( 3 ) 基板 に色素膜パタ ー ン等を直接印刷する 印刷法、 ( 4 ) 適当 な溶媒に顔料を分散さ せ、 基板上に形成された電極を利 用 して電着塗装を行な う 電着法等が知 られて いる 。
しか し 、 前記 ( 1 ) の染色法は、 耐光性が悪 く 、 前記 ( 2 ) の分散法は工程が複雑で生産性が低い。 ま た、 前 記 ( 3 ) の印刷法は精度が低 く 、 耐光性も悪い。 こ れ ら の方法に対 して 、 前記 ( 4 ) の電着法は耐光性や耐熱性 が良好で あ る が、 色素層を形成する ため に透明電極が必 要で あ る だけで な く 、 形成さ れる色素層が絶縁膜 と な る ので 、 前記 ( 1 ) 〜 ( 3 ) の方法 と 同様に、 カ ラ ー フ ィ ル タ の 表面 に 液 晶 ¾動 の た め の電極を設け る 必要があ る 。
こ れに対 し 、 導電性の色素曆を形成で き る カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法 と して 、 絶縁性の基板上に所望形状の透 明電極を形成 し 、 その上に ミ セ ル電解に よ っ て導電性多 孔質の疎水性色素薄膜を形成する ミ セ ル電解法が提案さ れて いる (特開昭 63-243298 号公報参照 ) 。
一方 、 近年遮光膜 は 、 カ ラ 一 フ ィ ル タ , 液晶表示材 料 , 電子表示材料 , カ ラ ーデ ィ スプ レイ 等の表示素子に 欠かせぬもの と な っ てお り 、 こ れ ら の表示素子は、 ラ ッ プ ト ツ ブノヽ ' ソ コ ン 、 ノ ー ト ノ ソ コ ン 、 オーデ ィ オ , 車載 用イ ンノヽ · ネ , 時計 , 電卓 , ビデオデ ッ キ , フ ァ ッ ク ス , 通信機 , ゲーム機お よ び測定機器等の各種分野において 広 く 利用されて い る 。
例 え ば 、 カ ラ ー フ ィ ル タ に お い て は 、 赤 ( R) , . (G) , 青 (B) 等の 各固 素間 に形成 さ れる ブ ラ ッ ク マ 卜 リ ッ ク ス と して遮光膜が用い られて レヽる 。 こ のブラ ッ ク マ ト リ ッ クスは、 画素間の洩れ光に よ る コ ン ト ラ ス ト お よ び色純度の低下を防止する 役割を果た して いる 。
従来 、 印 刷法 , 分散法 あ る い は染色法等に よ っ て 力 ラ ー フ ィ ル タ 等の各画素 ( 色素屠 ) を形成す る場合、 遮 光膜 と して は、 多 く の場合カ ーボン系 フ ォ ト レ ジス ト 剤 や ク ロム膜が用い られて いる 。
しか し なが ら 、 カ ーボン系 フ ォ ト レ ジス 卜剤やク ロム 膜は導電性があ る ため、 液晶駆動電極 と 色素層形成電極 を共有す る こ と が で き な い と レヽ ぅ 問題が あ る 。 す なわ ち 、 色素層形成用 にパタ ー ンユング し た I T O電極上に先 に ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスを形成する と 、 左右の電極 と 導 通 して し ま い、 ミ セ ル電解法等に よ っ て色素曆が形成で き な い と い う 不都合が生 じ 、 逆に 、 色素屠を形成 し た後 に ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスを形成 して も 、 液晶駆動時に左 右の電極 と 導通 して し ま い、 液晶が作動 し ない と い う 不 都合が生 じ る 。 こ の よ う に 、 カーボン系 フ ォ ト レジス ト 剤を用いた場合に は、 導電性に優れた ミ セ ル電解法あ る い は電着法に よ っ て色素曆を形成す る こ と がで き な い と い う 問題があ る 。
こ のため、 絶縁性のあ る 遮光膜用 レ ジス ト の開発が望 まれてお り 、 絶縁性の フ ォ ト レ ジス 卜剤 と して有機顔料 系の レ ジス ト 剤が開発されて いる 。 しか し なが ら 、 上 述 し た従来の絶縁性を有する 有機顔料系 フ ォ ト レ ジス ト 剤を用いた遮光膜は、 赤 (R ) , 綠 (G ) , 青(B ) の各色顔 料を含む三種類の フ ォ ト レ ジス ト を混合す る か 、 あ る レ、 は赤 (R ) , 青 (B ) の顔料を含む二種類の フ ォ ト レ ジ ス ト を混合 し 、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法に よ り 形成されて レ、 る ため、 遮光率が低 く 、 し たが っ て 、 十分な遮光率を得よ う と する と 膜厚が厚 く な る と い う 問題があ っ た。
太発明 は 、 上記事情 に か ん が み て な された も ので あ り 、 透明電極をカ ラ 一 フ ィ ル タ製造時の色素の形成 と 製 造後の液晶駆動 と の両方に共用する こ と がで き る構成を 有す る カ ラ一 フ ィ ルタ の製造方法を提供する こ と を 目 的 と する 。 ま た、 本発明 は、 高い遮光率を有する高絶縁性 の遮光膜を形成する こ と ので き る 遮光膜用 レ ジス ト を提 供する こ と を 目 的 と す る 。
発明の開示
太発明のカ ラー フ ィ ルタ の製造方法は、 絶縁性基板、 透明電植、 ブラ ッ クマ ト リ ッ ク ス及び色素層の順に積層 され、 かつ色分解された個別の色に相当する透明電極の 各々 の電棰取出窓 口帯か ら な る 電極取出領域を、 表面の あ る 一辺の近 く に 有 す る カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法で あ っ て 、 前記の個別の色に相当す る透 ¾電極以外の電極 上に ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスの形成 と 同時に 、 ブラ ッ ク マ 卜 リ ッ ク ス材にて電極取出窓 口 帯 と しての絶縁曆を形成 し 、 続いて その上か ら 各 々 の電極取出窓 口 帯単位内は電 気的に接続され、 しか fc別の電極取出窓 口 帯 と は電気的 に接続されな い よ う に導電層を形成す る こ と に よ っ て電 極取出窓 口帯の各 々 を形成 し た後、 前記色素層を ミ セ ル 電解法に よ っ て形成する よ う に構成 して あ る 。
本発明 の カ ラ 一 フ ィ ル タ の 製造方法 は 、 絶縁性の ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ クスの形成 と 同時に カ ラ ー フ ィ ルタ の一 部に電極取出窓 口 帯を形成 し た後、 透明電極上に ミ セ ル 電解法に よ っ て導電性の色素層を積層す る よ う に し たの で 、 色素層形成用の電極を液晶駆動用電極 と して使用で き る カ ラ ー フ ィ ルタ を箇単に製造する こ と がで き る 。
ま た、 本発明の遮光膜用 レジス ト は、 絶縁性有機顔料 分散 レジス ト あ る いは絶縁性透明 レジス ト の少な く と も 一種以上の レジス ト と 、 導電性高遮光性 レジス ト と を合 有 し た構成 ( 第一の レジス 卜 ) 、 あ る いは、 二種以上の 絶縁性有機顔料分散 レ ジス ト を含有 し た構成 ( 第二の レ ジス ト ) 、 あ る いは、 絶縁性透明 レ ジス ト に黒色有機顔 料を分散さ せた構成 ( 第三の レジス ト ) と して あ り 、 好 ま し く は 、 遮光膜 と し た と き の面抵抗値がそれぞれ 1 0 7 Ω / c m 2以上 と な る よ う な構成 と して あ る 。
図面の簡単な説明
第 1 図は术発明の力 ラ一フ ィ ルタ の一実施態様を模式 的に示す断面図、 第 2 図は透明電極形成用のマス ク を示 す平面図、 第 3 図は ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス及び電極取出 領域形成用のマス ク を示す平面図、 ¾ 4 図及び第 5 図は 電極取出領域の断面図、 第 6 図は フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法 に よ る 遮光膜の製造工程の一具体例を示す フ ロー図で あ る 。
図中、 1 はガ ラ ス基板、 2 は透明電柽、 3 はブラ ッ ク ス ト ラ イ ブ、 4 は色素層、 5 は コーテ ィ ング層、 6 は配 向曆を示す。
発明 を実施する ための最良の形態
以下、 太発明を詳細に説 ¾する 。
本発明 の カ ラ ー フ ィ ル タ の製造方法 に おいて は 、 ま ず、 色分解された個別の色に相当する透明電極以外の電 極上にブラ ッ ク マ ト リ ッ クスの形成と 同時に、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス材にて電 S取出窓 口 帯 と しての絶縁層を形 成 し、 統いてその上か ら 各 々 の電桎取出窓 口帯単位内は 電気的に接続され、 しかも別の電極取出窓 口帯 と は電気 的に接続されな い よ う に導電層を形成する こ と に よ っ て 電極取出窓 口帯の各 々 を形成する 。
その一実 ¾態様を第 1 図を参照して具体的に示す と 、 カ ラ 一 フ ィ ルタ 1 0 を製造する に は、 最初に絶縁性ガラ ス基板 ( 例えば、 青板ガラス、 無アルカ リ ガラス、 石英 ガ ラ ス製の板 ) 1 の表面をア ルカ リ 水溶液 ま たは純水等 で充分に洗浄す る 。 次 に 、 ガ ラ ス基板 1 の 一 方の 表面上 に 、 蒸着法 、 ス パ ッ タ法、 パイ ォ ゾル法 ま た は超微粒子キ ャ ス ト法等を 利用 して透明電槿用材料の層を形成す る 。 こ の電極用材 料層に表面酸化処理ま たはべ一キ ン グ処理を行 っ て 、 抵 抗値 を調整す る 。 更 に 、 そ の 層の上か ら 、 レ ジス ト 剤 ( 例えば紫外線硬化性樹脂 ) をス ピ ン コ ー ト 、 デ ィ ッ プ ま たはキ ャ ス ト法に よ っ て塗布 し 、 適当なマス ク を用い て露光 ( 例えば紫外線露光 ) し 、 未硬化 レジス ト 剤の部 分を現像後、 洗浄除去す る 。 残留 し た レ ジス 卜剤を硬化 してか ら 、 露出 し た電棧用材料を適当なエ ッ チ ング液で エ ッ チ ング し 、 レジス ト 層を剝雜 し 、 洗浄 して 、 原色の 各 々 に相当する透明電極 2 ( 2 B , 2 G , 2 R ) を形成 する 。 次に 、 透明電極 2 を担持 し たガラ ス基板 1 上に例 えば後に詳述する フ ォ ト リ ソ マ ト グラ フ ィ 一法を利用 し て 、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クス ま たはス ト ラ イ ブ 3 を形成す る 。 例えば、 紫外線硬化性樹脂 と 黒色顔料 と か ら な る レ ジス ト剤等の木発明遮光膜用 レジス ト をス ビン コー タ ま たはロールコ ー タ に よ っ て塗布 し 、 適当な ブ ラ ッ クス ト ラ イ プ用 マ ス ク を用 い て 露光 し 、 铳いて 常法 どお り 水 洗、 現像、 洗浄及びべ一キ ン グを行う 。
透明電極用のマス ク 及びブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス用マス ク を適当に選択する と 、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成 と 同時にカ ラ ー フ ィ ル タ の一部に電極取出窓 口 帯を形成す る こ と がで き る 。 例えば、 第 2 図に示すマスク 2 0 を用 いて透明電極をガラス基板上に形成する と 、 光の三原色 で あ る 青色 ( B ) 、 綠色 ( G ) 及び赤色 ( R ) に相当す る よ う に形成 した三本の線 2 1 B , 2 1 G , 2 1 Rに各 々 対応 して 、 最も短い電 S線 2 B と 中間的長さ の電極線
2 G と 最も長い電極線 2 R と が三 *一組を繰返 し単位 と して 1 0 単位形成される 。
ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スは、 例えば第 3 図に示すマスク
3 0 を用いて形成する 。 マス ク 3 0 はブラ ッ ク マ ト リ ツ ク ス形成用パタ ー ン 3 1 だけで な く 、 電極取出領域形成 用パ ター ン 3 2 をも有 している 。 ノ《タ ー ン 3 2 は 3 組の 電極取出窓 口帯を形成する ためのパ ター ンか ら な る 。 す なわ ち 、 電極線 ( B ) 用の電槿取出窓 口 帯形成用パタ ー ン 3 2 B と 、 電極線 ( G ) 用の電極取出窓 口帯形成用パ タ ー ン 3 2 G と 、 電極線 ( R ) 用の電極取出窓 口帯形成 用パタ ー ン 3 2 R と か ら な る 。 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クス と 絶縁層 と を同時に形成する に は、 术発明の遮光膜用 レ ジ ス 卜 を用 いる のが好ま しレヽ。
マ ス ク 2 0 及 びマ ス ク 3 0 を 用 い て 調製 し たカ ラ ー フ ィ ル タ の電極取出領域を第 4 図及び第 5 図に示す。 第 4 図 は 、 マ ス ク 3 0 の 17 — IV 線 に 沿 っ て形成される 力 ラ 一 フ ィ ルタ の断面図で あ り 、 第 5 図は、 マス ク 3 0 の V — V 線に ¾ つ て形成される カ ラ ー フ ィ ルタ の断面図で あ る 。 第 4 図及 び第 5 図 に 示 す よ う に 、 電極線 2 G と 2 R と は絶縁曆 4 1 に よ っ て被覆されて いる のに対 し 、 電極線 2 B は相互に導電層 4 2 に よ っ て電気的に接線さ れて いる 。
こ こ で 、 上記ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成に好適に用 い られる *発明の遮光膜用 レジス ト に つ いて詳述す る 。
第一の レ ジス ト は、 絶縁性有機顔料分散 レジス ト あ る い は絶縁性透明 レ ジス 卜 の少な く と も一種以上の レ ジス ト と 、 導電性高遮光性 レジス ト と を含有 して な る もので あ る 。
こ こ で 、 絶縁性有機顔料分散 レジス ト は 、 ア ク リ ル系 レジス ト 、 エポキ シ系 レ ジス ト あ る いはポ リ イ ミ ド 系 レ ジス ト等の レ ジス 卜 に絶縁性の有機顔料を分散さ せて な る fc ので あ る 。
絶縁性の有機顔料 と して は、 赤色系顔料 と して 、 ペ リ レ ン系顔料、 ア ン ト ラ キノ ン系顔料、 ジア ン ト ラ キ ノ ン 系顔料、 ァ ゾ系顔料、 ジァ ゾ系顔料、 キナク リ ド ン系顔 料、 ア ン ト ラ セ ン系顔料等が挙げ られる 。 具体的に は、 ペ リ レ ン顔料、 キナ ク リ ド ン 、 ナ フ ト ー ル A S 、 シ コ ミ ン顔料、 ジア ン ト ラ キ ノ ン 、 ズダン I , Π , ΙΠ , R 、 ビ ス ァ ゾ、 ベ ン ゾビ ラ ン な どが挙げ ら れる 。
青色系顔料 と し て は 、 フ タ ロ シ アニ ン系顔料、 钥 フ タ ロ シ アニ ン系顔料、 イ ン ダ ン ス ロ ン系顔料、 イ ン ド フ エ ノ ール系顔料、 シ ァニ ン系顔料等が挙げ ら れる 。 具体的 に は、 ク ロ 口銅 フ タ ロ シ アニ ン 、 ク ロ 口 ア ル ミ ニ ウ ム フ タ ロ シ アニ ン 、 バ ナ ジ ン酸 フ タ ロ シ ア ニ ン 、 マ グネ シ ゥ ム フ タ ロ シ アニ ン 、 亜鉛 フ タ ロ シ アニ ン 、 鉄 フ タ ロ シ ア ニ ン 、 コ ノズル 卜 フ タ ロ シ ア ニ ン な どの フ タ ロ シ アニ ン 金 属錯体 、 フ タ ロ シ ア ニ ン 、 メ ロ シ ア ニ ン 、 イ ン ド フ エ ノ ー ルブル一 な どが挙げ ら れる 。
ま た 、 市販 の 絶縁性 の 有 機顔料分散 レ ジ ス 卜 と し て は 、 赤 (R) , 綠 (G) , 青 (B) の三原色の ほか 、 イ ェロ ー (Y) 、 バ イ オ レ ッ ト (V) 等の有機顔料を合有 し た有機顔 料分散 レ ジ ス 卜 ( 富士 Λントテク/ Πジ一 社製 カラ一モザイク CR, CG , CB,CY,CV等 ) 等が市販さ れて い る 。
絶縁性透明 レ ジス ト は 、 透明 レ ジス ト の う ち 絶縁性を 有す る も のがすべて 含 ま れ、 例 え ば、 紫外線硬化型 レ ジ ス ト 等が挙げ ら れる 。 具体的に は 、 ア ク リ ル系 レ ジス ト ァ ロ ニ ッ ク ス ( 東亜合成 ( 株 ) 社製 ) や東 レ フ オ ト ニー ス ( 東 レ製 ) な どが挙げ ら れる 。
導電性高遮光性 レ ジス ト と し て は 、 ア ク リ ル系 レ ジ ス ト 、 エポキ シ系 レ ジス ト あ る い はポ リ イ ミ ド 系 レ ジス ト 等の レ ジス 卜 中 に導電性粒子を分散さ せて な る 導電性粒 子分散 レジス ト が挙げ られる 。 こ の場合、 導電性粒子 と して は、 カ ーボ ン 、 酸化ク ロ ム 、 金属微粒子等の高遮光 性材料が挙げ られる 。
上記各 レジス ト ( 絶縁性有機顔料分散 レ ジス 卜 、 絶縁 性透明 レジス ト 、 導電性高遮光性 レ ジス ト ) を含有 し て な る第一の レジス 卜 は、 通常、 上記各 レジス 卜 を混合す る こ と に よ っ て調製さ れ る 。 ま た、 例 え ば、 一の レ ジ ス ト 剤に絶縁性有機顔料お よ び導電性高遮光性粒子を混合 し 、 分散さ せる こ と に よ つ て も調製で き る 。 いずれの調 製方法において も 、 各顔料や導電性粒子等が レジス ト剤 中 に均一に分散する よ う に混合する こ と が好ま し い。
混合割合は適宜選択される が、 遮光膜 と し た と き の面 抵抗値が 1 0 7 Ω / c m 2以上 と な る よ う な割合 と する のが、 ミ セル電解法等を用いる場合に は好ま しい。 こ の混合の 際に瑢剤等を加えて も よ い。 混合は発熱 しな い混合機を 用いて行な う こ と が レ ジス 卜 の凝集を防 ぐ と い う 観点 よ り 好 ま しい 。
第二の レ ジス ト は、 二種以上の絶縁性有機顔料分散 レ ジス 卜 を含有 して な る もので あ る 。
こ こ で 、 絶縁性有機顔料分散 レ ジス ト に 関 して は、 上 述 し た第一の レ ジス ト と 同様で あ る 。 調製方法 と して は、 例えば、 二色の顔料をそれぞれ一 色ずつ含有する 二種類の フ ォ ト レ ジス ト剤を混合する方 法、 あ る いは、 二色の顔料の双方を一の レ ジス ト剤に混 合 し 、 分散さ せる 方法等が挙げ られる 。 いずれの調製方 法において も 、 各顔料が レ ジス 卜剤中に均一に分散する よ う に混合する こ と が好ま し い 。
レジス ト の混合割合、 遮光膜 と した と き の好ま しい面 抵抗値等に関 して は、 上述 し た第一の レジス 卜 の場合 と 同様で あ る 。
第三の レジス 卜 は、 絶縁性透明 レジス 卜 に黒色有機顔 料を分散 して な る もので あ る 。
こ こ で 、 絶縁性透明 レジス 卜 に関 して は、 上記第一の レジス ト と 同様で あ る 。
黒色有機顔料 と して は、 ペ リ レ ン ブラ ッ ク 、 ァニ リ ン ブラ ッ ク 、 シァニン ブラ ッ ク等が挙げ られる 。 なお、 二 種以上の黒色有機顔料を絶縁性透明 レジス 卜 に分散する 場合も含まれる 。 黒色有機顔料は レジス ト剤中に均一に 分散さ せる こ と が好ま しい。
なお、 上記第 第三の レジス ト は、 ポジタ イ プお よ びネ ガ タ イ プの紫外線 レ ジ ス 卜 の いずれで あ っ て も よ く 、 ま た E B レ ジス ト 、 X 線 レ ジス ト 等で あ っ て も よ い 0 本発明のカ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法おいて は、 上記第 第三の レジス ト を用いて 、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法に よ り ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス を形成す る こ と が好ま し い 。
第 6 図は フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ る 遮光膜の製造ェ 程の一具体例を示す フ ロ ー図で あ る 。
① ま ず、 ガラス等の基板上に 、 上記第 第三の レジ ス ト の う ち い ずれか一を塗布 す る 。 塗布の方法 と し て は 、 ス ビ ン コ一タ ー あ る い は ロ ー ル コ ー タ ー を用 い た コーテ ィ ング方法や、 コ ン プ レ ッ サーを用いた噴霧塗布 等が挙 げ ら れ る 。 ス ビ ン コ一タ ー あ る い は ロ ー ル コ ー タ ーの回転数は、 レジス ト の粘度、 所望する膜厚等に よ り 適宜選択され、 例えば、 500〜 3000 rpB の回転数で行な われる 。
②遮光膜用 レジス ト の塗布後、 露光を行な う 。 露光は 露光機に よ っ て行なわれ、 所望のパ タ ー ン を有する フ ォ ト マス ク を介 して露光する こ と に よ り 、 パタ ー ン に対応 し た部分の レジス ト のみを感光さ せる 。 露光機お よ び露 光条件等は適宜選択され、 特に制限される こ と はな い。
露光量 は 、 例 え ば 20〜 200niJ/cm2 の範囲で選択 さ れ る 。
ま た、 光源は使用す る 遮光膜用 レ ジス 卜 の感光特性に 応 じ て 決定 さ れ 、 例 え ば 2Kw の 高圧水銀灯が用 い ら れ る 。
③露光後、 プ リ べ一 ク が行なわれる 。 プ リ べ一 ク は、 現像前 に基板 と 遮光膜用 レジス ト と の密着性を高め、 現 像時における 欠陷発生等を抑制する 等の 目 的で行なわれ る 。
プ リ べー ク はオー ブ ン 、 ホ ウ ト プ レー ト等に よ り 加熱 する こ と に よ っ て行なわれる 。 プ リ べー ク における加熱 温度お よ び加熱時間は使用す る レ ジス 卜 に応 じて適宜選 択され、 例えば 8 5。C〜 1 Q 0 °Cの温度で 5〜 1 0分間行なわ れる 。
④プ リ べー ク後、 現像が行なわれる 。 現像は、 露光さ れ た 部分 ( ネ ガ レ ジス 卜 の場合 ) あ る い は非露光部分
( ポジ レ ジス ト の場合 ) の レジス 卜 を除去する 目 的で行 なわれ 、 こ の現像 に よ っ て 所望の パ タ ー ンが形成さ れ る 。 現像液は、 使用する レジス 卜剤の成分に よ っ て異な り 、 レ ジス 卜 を溶解、 除去 し う る ものの中か ら 適宜選択 される 。 市販の レ ジス 卜剤を用 いる場合には、 それぞれ の レ ジス ト に適 し た現像液が市販されて いる ので 、 これ ら の市販品を用 いればよ いが、 主にアルカ リ 水溶液が多 い c
現像液の濃度お よ び現像時間は、 使用す る レ ジス ト お よ び現像液に よ っ て適宜選択される 。 現像時間は、 例え ば 2 0〜 3 0秒の間で選択される 。
⑤現像後、 純水シ ャ ワ ー 、 純水曆への浸漬等に よ り リ ンスを行な う 。 リ ン ス は現像液の除去を 目 的 と して行な われる 。
⑥ リ ンス後、 ポス トべ一 ク が行なわれる 。 ポス トべ一 ク はパターユングされた遮光膜用 レ ジス 卜 と 基板 と の密 着性 を高 め る た め等の 目 的 で 行 な われる 。 こ のポス ト ベ ー ク は 、 プ リ べー ク と 同様 に 、 オ ー ブ ン 、 ホ ッ ト プ レー ト 等に よ り 加熱す る こ と に よ っ て行なわれる 。 ボス トベーク における加熱温度お よ び加熱時間は邃宜選択さ れ 、 例 え ば 2 0 0〜 2 2 0 °Cの温度で 5〜 1 0分間行 なわれ る 。
*発明方法において は、 上述 し たブ ラ ッ ク マ ト リ ヅ ク スの形成後、 透明電槿上に ミ セ ル電解法に よ っ て導電性 多孔質の疎水性色素薄膜か ら な る 色素層を形成する 。
なお、 「 導電性多孔質 」 と は 、 当該膜ま たは層が多孔 質で あ る ので導電性を有する こ と 、 すなわ ち 、 当該膜ま たは層の下に S置された透明電極を液晶駆動用等に用い る こ と がで き る程度の導電性で あ る こ と を意味する 。 し たが っ て 、 当該膜ま たは曆を構成する 材料それ 自 体が導 電性で あ る必要はない 。
こ の ミ セ ル電解法で前記色素の薄膜を形成する に は 、 次の よ う な操作手順を用 いる こ と がで き る 。
つ ま り 、 水に必要に応 じて支持電解質等を加えて電気 伝導度を調節 し た水性媒体に 、 フ 口セ ン誘導体よ り な る ミ セ ル化剤 と 色素材料 ( 疎水性色素 ) と を加えて十分 に混合攪拌 して分散さ せる と 、 該色素材料を内部に取 り 込んだミ セルが形成される 。 これを電解処理す る と 、 ミ セ ルが陽 ¾に引 き 寄せ られて 、 陽極 ( 透明電槿 ) 上で ミ セ ル中の フ エ 口セ ン誘導体が電子 e を失い ( フ エ ロ セ ン 中の Fe2 +が Fe3 +に酸化される ) 、 それ と と も に ミ セ ル が崩壊 して 内部の色素材料が陽極上に析出 して薄膜を形 成する 。
一方、 酸化された フ 口セ ン誘導体は陰極に引 き 害せ られて電子 e _ を受け取 り 、 再びミ セ ルを形成する 。 こ の よ う な ミ セルの形成 と 崩壊が縵 り 返される工程で 、 色 素材料の粒子が透明電極上に析出 して薄膜状のもの と な り 、 所望する色素薄膜が形成される 。 こ う して形成され る 色素薄膜は、 一般に膜厚 0 . 1 〜 1 0 . 0 / m , 特に は 0 . 1 〜 2 . 0 mで あ り 、 多孔質 と なる ので 、 高い 導電性を有する 。 膜厚が 0 . 1 /t m未满だ と 色素層の色 相を十分に表示する こ と がで き ず、 1 0 . 0 mを越え る と 導電性が低 く な る ので好ま し く な い。
ミ セ ル電解法で用 いる ミ セ ル化剤は、 フ ユ 口セ ン誘導 7 体よ り な る もので あ る 。 こ こ で フ エ 口セ ン誘導体 と して は、 各種のものがあ る が、 例えば、 一般式 [ I ]
Figure imgf000019_0001
[ 式中 R 1 及びは R 2 それぞれ炭素数 6 以下の ア ルキ ル 基、 炭素数 6 以下のア ルコキ シ基、 ア ミ ノ 基、 ジ メ チル ア ミ ノ 基 、 水酸基 、 ァ セ チ ル ァ ミ ノ 基、 カ ルボキ シ ル 基、 メ ト キ シカ ルボニル基、 ァセ 卜 キ シ基、 アルデ ヒ 卜 基 あ る い はノヽ ロ ゲ ン を示 し 、 R 3 は水素 ま た は炭素数 4 〜 1 8 の直鎖あ る いは分岐アルキル基、 ま たはァ ルケ 二ル基を示 し 、 R 4 及び R 5 はそれぞれ水素 ま たはメ チ ル基を示 し 、 Y は酸素、 ォキ シ カ ルボニル基あ る い はァ シルォキ シ基を示 し 、 a は 0 〜 4 の整数、 b は 0 〜 4 の 整数、 m は 1 〜 : 1 8 の整数、 n は 2 . 0 〜 7 0 . 0 の実 数を示す。 ] で表わされる フ エ 口 セ ン誘導体を代表例 と し て挙げる こ と がで き る 。 こ れら の化合物は 、 例えば P C T 国際公開 W O 88/07538号公報、 W O 89/01939号公 報 、 特願昭 63- 233797号明細書等 に記載さ れて い る 。 R 1 及び R 2 の炭素数 6 以下のア ルカ リ 基は、 例えばメ チ ル基 (CH3) ま た はェチ ル基 (C2HS)で あ り 、 ア ル コ キ シ 基 は 、 例 え ば メ ト キ シ 基 ( 0 C H 3 )ま た は エ ト キ シ 基 ( 0 C 2 H 5 ) で あ り 、 ハ ロ ゲ ンは、 例えば塩素 , 臭素 , ふ つ 素 ま たは沃素で あ る 。 R 1 及びは R 2 は同一で あ っ て も 異な っ て いて も よ く 、 さ ら に R 1 及びは R 2 がそれぞれ 複数個の フ エ 口セ ン の五員環に存在 した場合に も 、 複数 の 置换基が それぞ れ同 一で あ っ て も 異な っ て いて も よ い。 ま た、 前記式 [ I ] 中の -Y-(CHCHO-) nH(i、
I I
R4R5
Figure imgf000020_0001
0 (CH2CH0)„H -0 (CHCH20) nH CH3 CH
C-0 (CH2CH20) nH
II
0
C-0 (CH2CH0) nH -C-0 (CHCH20) nH
II I II I
0 CH3 0 CH3 等で あ る 。 ま た、 n は上記ォキ シアルキ レ ン基の繰 り 返 し数を示 すもので 、 2 . 0 〜 7 0 . 0 の整数のみな ら ず、 これ ら を含む実数を意味 し 、 ォ キ シア ルキ レ ン基の繰 り 返 し数 の平均値を示す も ので あ る 。 本発明の ミ セ ル電解法で用 い る フ ユ 口 セ ン誘導体は 、 前記一般式 [ I ] で表わされ る も のの ほ か に 、 様 々 な も のが あ り 、 ア ン モ ニ ゥ ム タ イ ブ、 ビ リ ジ ン タ イ プ ( P C T 国際公開 W O 88/07538号公 報等 ) をは じめ 、 特願昭 63-233797 号明細書、 同 63-23 3798号明細書、 同 63 - 248600号明細書、 同 63 - 248601号 明細書、 特願平 1 - 45370号明細書、 同 1 - 54956号明細書 、 同 1 -70680号明細書、 同 卜 70681号、 明細書同 1-764 98号明細書及び同 1-76499号明細書に記載された フ エ 口 セ ン誘導体を挙げる こ と がで き る 。
これ ら の フ エ 口セ ン誘導体は極めて効率良 く 疎水性物 質を水性媒体に可溶化な い し分散する こ と がで き る 。
*発明で用いる ミ セ ル電解法で は、 ま ず水性媒体中 に 上記の フ エ 口 セ ン誘導体よ り な る ミ セ ル化剤、 支持塩 びに色素材料を入れて 、 超音波、 ホモ ジナイ ザー あ る い は攪拌機等に よ り 充分に分散さ せて ミ セ ルを形成さ せ、 その後必要に応 じて過剰の色素材料を除去 し 、 得 られた ミ セ ル溶液 ( あ る いは分散液 ) を静置 し た ま ま あ る い は 若干 の 攪拌 を加 え な が ら 透 明 電極 を用 いて 電解処理す る 。 ま た 、 電解処理 中 に 前 記の 色素材料 を ミ セ ル瑢液 ( 分散液 ) に補充添加 して も よ く 、 あ る い は陽極近傍の ミ セ ル溶液 を系外へ拔 き 出 し 、 抜 き 出 し た ミ セ ル溶液 ( 分散液 ) に色素材料を加えて十分に混合攪拌 し 、 しか る後に こ の液を陽 s近傍へ昃す循環回路を併設 して も よ い 。 こ の 際の ミ セ ル化剤 の濃度 は 、 限界 ミ セ ル濃度以 上 、 具体的 に は 、 約 0 . l m M 以上で あれば よ い 。 一 方、 色素材料の濃度は、 飽和濃度以上で あればよ い 。
ま た電解条件は、 各種状況に応 じて適宜選択すればよ いが、 通常は、 液瘟 0 〜 7 0 。C。 好ま し く は 5 〜 4 0 °C で あ り 、 ま た電圧は ミ セル化剤で あ る フ エ 口セ ン誘導体 の酸化還元電位以上で水素発生電位以下の電圧、 具体的 に は 0 . 0 3 〜 : I . 0 0 V好ま し く は 0 . 1 5 〜 0 . 7 V と し 、 電流密度 は 1 0 m A Z cn2 以下、 好 ま し く は 5 0 〜 3 0 0 /t A ci2 と する 。
こ の電解処理を行な う と 、 ミ セル電解法の原理に し た が っ た反応が進行する 。 これを フ エ 口セ ン誘導体中の Fe ィ ォの ン挙動に着 目 する と 、 陽極で は フ エ 口セ ンの Fe2 + が F e 3 +と な っ て 、 ミ セ ルが崩壊 し 、 色素材料の粒子が陽 極 ( 透明電 S ) 上に析出する 。 一方、 陰植で は、 陽檁で 酸化された Fe3 +が Fe2 +に還元されて 、 も と の ミ セ ルに戻 る ので 、 繰 り 返 し同 じ瑢液で製膜操作を行な う こ と がで き る 。
こ の よ う な電解処理に よ り 。 陽極 ( 透明電極 ) 上に は 所望す る 色素材料の薄膜が形成される 。
ミ セ ル電解法で用 いる 支持塩 ( 支持電解質 ) は、 水性 媒体の電気伝導度を調節す る ため に必要に応 じ て加え る も ので あ る 。 こ の支持塩の添加量は、 可溶化あ る いは分 散 し て い る 色素材料の 析 出 を 妨 げ な い範囲で あれば よ く 、 通常は上記ミ セ ル化剤の 0 〜 3 0 0 倍程度の濃度、 好 ま し く は 5 0 〜 2 0 0 倍程度の濃度を 目 安 と する 。 こ の支持塩を加え ずに電解を行な う こ と も で き る が、 こ の 場合支持塩 を含 ま な い純度 の高 い薄膜が得 ら れる 。 ま た、 支持塩を用いる場合、 その支持塩の種類は、 ミ セル の 形成や 電極への 前記色素材料の析出 を妫げる こ と な く 、 氷性媒体の電気伝導度を調節 し得る もので あれば特 に制限はな い 。
具体的に は、 一般に広 く 支持塩 と して用い られて い る 硫酸塩 ( リ チ ウ ム , カ リ ウ ム , ナ ト リ ウ ム , ル ビ ジ ゥ ム , ア ル ミ ニ ウ ム な どの塩 ) 、 酢酸塩 ( リ チ ウ ム , カ リ ゥ ム , ナ ト リ ウム , ルビジ ウ ム , ベ リ リ ウム , マグネ シ ゥ ム , カ ルシ ウ ム , ス ト ロ ン チ ウ ム , ノ リ ウ ム , ア ル ミ ニ ゥム な どの塩 ) 、 ハロ ゲ ン化物塩 ( リ チ ウ ム , 力 リ ウ ム , ナ ト リ ウ ム , ルビジ ウム , マグネ シ ウム , カ ルシ ゥ ム , アル ミ ニ ウム な どの塩 ) 、 水溶性酸化物塩 ( リ チ ウ ム , カ リ ウ ム , ナ ト リ ウ ム , ル ビ ジ ウ ム , マ グ ネ シ ゥ ム , カ ル シ ウ ム , ア ル ミ ニ ウ ム な の塩 ) が好適で あ る 。
ミ セ ル電解法で用いる透明電棱の材料は、 フ エ 口セ ン 誘導体の酸化電位 ( + 0 . 1 5 〜 0 . 3 0 V対飽和甘コ ゥ電桟 ) よ り 貴な金属も し く は導電体で あれば よ い。 具 体的に は I T O ( 酸化イ ン ジ ウ ム と 酸化スズ と の混合酸 化物 ) 、 酸化スズ、 導電性高分子 フ ィ ルム な どが挙げ ら れる 。
太発明の製造方法において 、 色素膜を形成する色素材 料は光の三原則を呈する色素材料、 すなわ ち赤色、 綠色 及び青色の硖水性色素をは じめ、 各種の色を呈する もの が挙げ られる 。 赤色 と して は、 ベ リ レ ン系顔料、 レーキ 顔料、 ァ ゾ系顔料、 キナ ク リ ド ン系顔料、 ア ン ト ラ キ ノ ン系顔料あ る いはア ン ト ラ セ ン系顔料等があ り 、 例えば ベ リ レ ン顔料、 レーキ顔料(C a,B a,S r,M n ) 、 キチク リ ド ン 、 ナー フ ト ール A S 、 シ コ ミ ン顔料、 ジア ン ト ラ キ ノ ン 、 ズダン I , Π , ΙΠ , R、 ジスァ ゾ、 ベン ゾビラ ン 、 硫化カ ド ミ ウ ム系顔料、 F e ( ΙΠ ) 酸化物系顔料な どがあ り 、 その う ち ペ リ レ ン顔料や レーキ顔料が好ま しい。
ま た、 綠色色素 と して は、 ハ ロ ゲン多置換 フ タ ロ シ ア ニン系顔料、 ハ ロゲ ン 多置換銅フ タ ロ シアニン系顔料あ る いは ト リ フ エ ニルメ タ ン系塩基性染料等があ り 、 例.え ばク ロ 口多置換 フ タ ロ シアニン 、 その銅錯体あ る いはバ リ ウム — ト リ フ エ ニルメ タ ン染料な どがあ る 。 さ ら に 、 青色色素 と して は、 銅フ タ ロ シ ア ニ ン系顔料、 イ ン ダン ス ロ ン系顔料、 イ ン ド フ エ ノ ール系顔料あ る い は シァニ ン系顔料な どがあ り 、 例え ばク ロ 口銅フ タ ロ シ ア ニ ン 、 ク ロ 口 ア ル ミ ニ ウ ム フ タ ロ シ ア ニ ン 、 ノく ナ ジ ン酸 フ タ 口 シ ァ ニ ン 、 マ グ ネ シ ウ ム フ タ ロ シ ア ニ ン 、 亜鉛 フ タ ロ シ ァ ニ ン 、 鉄 フ タ ロ シ ア ニ ン 、 コ ノ ル ト フ タ ロ シ アニ ン な ど の フ タ ロ シ ア ニ ン金属錯体、 フ タ ロ シ ア ニ ン 、 メ ロ シ ァニ ン あ る いはイ ン ド フ エ ノ ールブルーな どがあ る 。
本発明 において三原色の疎水性色素薄膜を形成する に は、 最初に赤色、 綠色及び青色の疎水性色素のいずれか 一 つ を水性媒体 に 加 え て 、 前記の ミ セ ル電解法を行な い、 最初の所望色調の薄膜を形成 し 、 次いで疎水性色素 の種類を変えて次 々 に ミ セル電解法を繰 り 返 して行な う こ と に よ っ て 、 三原色 ( 赤 , , 青 ) の疎水性色素をそ れぞれの各透明電極上に形成する こ と がで き る 。
なお、 赤色、 綠色ま たは青色の疎水性色素を同時に水 性媒体中 に存在さ せて 、 こ れに ミ セ ル電解法を適用する こ と に よ つ て も同様のカ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と が で き る 。
次に 、 場合に よ り 、 色素層及びブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス の上か ら 、 ト ッ プコー ト剤例えば、 ア ク リ ル系捃脂、 ポ リ エーテ ル系樹脂、 ポ リ エステ ル系樹脂、 ポ リ オ レ フ ィ ン系樹脂、 フ ォ ス フ ァ ゼ ン樹脂、 ポ リ フ エ 二 レ ンサルフ ア イ ド系樹脂をスビン コー タ ま たはロールコー タ に よ つ て塗布 し 、 8 0 〜 1 5 0 。Cで 5 〜 6 0 分間乾燥 して導電 性コ ーテ ィ ング曆を形成する こ と がで き る 。 コーテ ィ ン グ層を設け る こ と に よ っ て液晶 と の接触面を平滑化する こ と がで き る 。 コーテ ィ ング層を導電性材料で調製すれ ば 、 コ ー テ ィ ン グ層 に よ る 電圧降下を防 ぐ こ と がで き る 。 ま た、 こ れ ら の コ ー ト剤に I T O粒子等の透明導電 性粒子を加えて も よ い。
最 後 に 、 必 要 に よ り 、 例 え ば ポ リ ア ミ ッ ク 酸モ ノ マ ー 、 ポ リ イ ミ ド系楔脂オ リ ゴマー等をスビン コー タ ま たはロ ールコ一 タ に よ っ て塗布 し 、 2 0 0 〜 3 0 0 °Cで 3 0 分間〜 2 時間重合 し、 純水等で洗浄 し 、 乾燥 ( 6 0 〜 1 0 0 °Cで 3 0 分間〜 2 時間ま たは紫外線照射等 ) し て最上曆 と して 向層を形成する 。 こ の配向層に よ っ て 液晶を配向させる 。 以下、 実施例に よ っ て本発明 を更に具体的に説明する が、 こ れは本発明の範囲 を限定する もので は な い 。
[ 実施例 1 ]
透明 I T O電極の形成
ガ ラ ス基板 ( N A 4 5 : H O Y A製 : サ イ ズ 3 2 0 X 3 0 0 X 0 . 5 m m ) を 0 . 1 N の NaOHで洗浄 し た後、 純水に よ る 洗浄を、 排水の液抵抗が 1 0 7 Q Z cniに な る ま で繰 り 返 し た。 こ のガラ ス基板を真空スパ ッ タ装置の 中 に 入れ 、 I T O を ス ノ、 ' ッ タ し た 。 更に 、 形成さ れた I T O 層 を空気 中 で 1 0 0 で 表面酸化 し て 表面抵抗 1 0 0 Ωノ cm2 に調整 し た。 その後、 レ ジス 卜剤 ( F H - 2 1 3 0 : 富士ノヽ ン ト エ レ ク ト ロ ニ ク ステ ク ノ ロ ジー 社製 ) をロー ラ ー コー タ で塗布 し 、 8 0 °Cで 5 分間ブ レ ベ一 ク し た後、 5 0 0 W高圧水銀灯を用 い、 第 2 図に示 す ス ト ラ イ ブマ ス ク を介 し て 紫外線露光 ( 6 0 秒 ) を 行 っ た 、 な お 、 第 2 図 に 示す マ ス ク の各 々 の線の幅 は 9 0 mで各線の間隔は 2 0 it mで あ る 。
次に水洗を行い、 残 っ た レ ジス 卜剤付 I T O を現象液 ( H P R D — 4 1 0 富士ノヽ ン ト エ レ ク ト ロ ニ ク ステ ク ノ ロ ジー製 ) につ け 5 分間現像 し た。 更に氷洗 し 2 3 0 °C で 5 分間加熱 し た 。 レ ジ ス 卜 剤 が充分硬化 し た後、 I N♦ HCI/IM*FeCl3のエ ツ チ ン グ液につ け、 I T O を 2 0 分間 エ ッ チ ング し た。 エ ッ チ ング終了後、 純水で洗浄 し、 レ ジス ト剝雜剤 ( マイ ク ロ ス ト リ ッ プ 2 0 0 1 : 富士ハ ン トエ レク ト ロニク ステ ク ノ ロ ジー製 ) を用いて硬化 し レ ジス ト を剝離 し た。 更に水洗を行 っ た。
ブラ ッ ク ス ト ラ イ ブの形成
前記工程で得 られた I T O電極担持ガラ ス基板上に 、 紫外線硬化ポ リ マー と 黒色顔料 と を含むカ ラ ー レジス 卜 剤 ( カ ラ ー レ ジス 卜 C K : 富士ノヽ ン 卜エ レ ク ト ロニ ク ス テ ク ノ ロ ジー製 ) を 3 , 0 0 0 rpa でス ピ ン コー ト し て レ ジス ト膜を形成 した。 8 0 。Cで 5 分間プ リ べーク し た 後 、 酸 素 レ ジ ス 卜 剤 と し て ボ リ ビュ ル ア ル コ ー ル を 4 0 0 ΓΡΒ で スビン コー ト し た。 更に 、 8 0 °Cで 5 分間 プ リ べー ク した後、 5 0 0 W高圧水銀灯を用い、 第 3 図 に示す ブラ ッ ク ス ト ラ イ ブ用マスク を介 して紫外線露光 を行 っ た。 なお、 第 3 図のマス ク において ブラ ッ ク ス ト ラ イ ブ用のパ タ ー ン は内寸 9 0 X 3 1 0 t mで線幅 2 0 mで あ り 、 電極取出窓 口用パター ン は内寸 9 0 m X 5 m mで あ る 。 水洗を行 っ た後、 カ ラー レジス ト現像液 C D ( 富士ハ ン トエ レ ク ト ロニクステ ク ノ ロ ジー製 ) を 用いて現像 し た。 純水で洗铮 し 、 2 3 0 °Cで 1 0 分間ポ ス トべー ク を行 っ た。 こ う して 、 ブラ ッ ク ス ト ラ イ ブを 形成する と 同時に 、 三原色の各 々 に対応す る各電極線の 電極取出窓 口 を形成 し た 。 次に 、 同 じ色の電極線同志が 電気的に接続する が他の色の電極線 と は電気的に接続 し な い よ う に 、 導電性銀ペース ト を帯状に塗布 し て 3 本の 電極取出窓 口 帯を形成 し た。
色素層の形成
C ! J H 2 2 ( O C H 2 C H 2 ) ! 2 . 30 H
Figure imgf000029_0001
で表される化合物 ( F P E G ) の 2 aM水溶液に赤色顔料 (Lithol Scarlet K 3700 :BASF製 ) 、 ¾色顔料 ( He 1 iogen
Green L 9361: B A S F 製 ) 又は青色顔料 ( He 1 iogen Blue B 7080 :BASF製 ) を各々 l〜 2g加え て分散さ せ、 更に臭化 リ チ ウム ( 支持塩 ) 0 . 1 M を加え 、 超音波ホモ ジナイ ザで 3 0 分間分散さ せ、 更にスタ ー ラ で 3 日 間攪拌 して 色素分散液を調製 し た。
赤色顔料分散液中に前記工程で得 られた基板を浸漬 し
( 電極取出領域は浸漬 し ない ) 、 赤色色素用電極線の電 極取出窓 口 帯を用い、 参照電極 と して飽和甘 コ ゥ電極及 び陰極 と し て アル ミ ニ ウ ム板を利用 し 、 ミ セ ル電解を行 つ た ( 0 . 5 V , 2 5 て , 3 0 分 間 ) 。 電解処理終 了 後 、 純水で 洗浄 し 、 1 8 0 °C で 1 時間べ一 キ ン グ処理 し 、 赤色色素層 4 R を形成 し た。
同様に して 、 緑色色素層 4 G及び青色色素層 4 B を順 次形成 し た。
各色素層の平均腠厚は 、 それぞれ 0 . 5 μ» πι ( 赤色色 素層 ) 、 0 . 4 ^ m ( 綠色色素層 ) 及び 0 . 6 /i m ( 青 色色素層 ) で あ っ た。
コ ーテ ィ ン グ層及び配向層の形成
ト ッ プ コ ー ト 剤 ( ォ プ 卜 マ 一 J H R : 日 本合成 ゴム 製 ) を 3 , 0 0 0 rp« でス ピ ン コー ト し 、 8 0 °Cでプ レ ベー ク処理を行 っ た。 更に 、 ボ リ ア ミ ッ ク酸の N — メ チ ル ビ ロ リ ド ン 溶液 を 同様 に ス ピ ン コ ー ト し 、 真空中で 2 5 0 °Cで 1 時間重合さ せた。 純水で洗浄 した後、 8 0 °Cで 1 時間乾燥 して 、 導電性コーテ ィ ング層 5 ( 0 . 2 ^ m ) と 配向層 6 ( 0 . 1 μ. m ) と を有する太発明の力 ラ ー フ ィ ルタ を得た。
こ う し て得 られたカ ラ ー フ ィ ルタ の配向曆 6 の上に、 更に I T O を前記 と 同様にスパ ッ タ レ 、 カ ラー フ ィ ルタ 内部の I T O と の抵抗値を テ ス タ ーで '測定 し た と こ ろ 1 0 5 Ω /ca2で あ っ た 。 ま た 、 I T O 間の絶縁抵抗は 1 0 1 3 Q / CB2で あ り 、 導電性のカ ラ ー フ ィ ルタ が形成さ れた こ と がわか っ た。
[ 実旄 ^ 2 ] 透明 I T O 電極の形成
1 1 0膜 と して 200 /(:1112の面抵抗値を持っ 300 mm角の ガラス基板 ( H0YA (株) 社製 NA 45 ) 上に 、 紫外線硬化 型 レ ジス ト 剤 ( IG-28/T3: 富士 Λントテクノ Π - 社製 ) をキ シ レ ン で 2倍稀釈 し た瑢液を lOOOrpm の回転速度でス ピ ン コ ー ト する 。 ス ピ ン コ ー ト 後 、 80 Cにて 15分間ブ リ ベ一 ク を行な う 。 その後、 こ の レ ジス ト / I T O基板を露光 機に セ ッ 卜 す る 。
マスク は 、 線幅 100 ^ m 、 ギャ ッ プ 20 μ πι、 線長 155 ;t mのス ト ラ イ ブノヽ 'タ ー ン と す る 。 光源に は 2Kw の高圧 水銀灯を用いる ( 露光能力 : 10nw/cB s ) 。 プロキ シ ミ テ ィ ギャ ッ プ 70 mを と り 、 60秒間露光 し た後、 アル力 リ 現像液 に て 現像 す る 。 現像後 、 純水 に て リ ン ス し た 後、 180。Cでポス トべー ク する 。 次に 、 エ ッ チ ン グ液 と し て、 1M FeC 13 , IN HC1 ,0. IN HN03 , 0. IN Ce (Ν03) 4 か ら な る水溶液を準備 し 、 Ι Τ Ο をエ ッ チ ン グする 。 エ ッ チ ングの終点は電気抵抗に よ り 測定 し た。 前記エ ッ チ ング に は約 40分の時間を必要 と し た。 エ ッ チ ング後、 純水で リ ンス し 、 レジス ト を IN NaOH にて剝 Stする 。
以上の工程に よ り 、 ガ ラ ス基板上にス 卜 ラ イ プ状の I T O電極を形成する 。
遮光膜用一レ ジス ト お よ びブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成 導電性高遮光性 レジス ト ( 富士 Λントテクノ Πジ- 社製 CK) と 絶縁性透明 レ ジス ト ( ア ク リ ル系 レ ジス 卜 セ ルソ ルブァ セテー ト 103; 溶液 : 東亜合成 ( 株 ) 社製 ) と を 3 : 1 重量 部の比率で混合 し たものを遮光膜用 レ ジス 卜 ( ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ クス形成用 レ ジス ト ) と して用レヽる 。
先に作成 し た I T O電槿パタ ー ンニンク'ガラ ス基板を lOrpin で 回転さ せ、 こ の上に前記遮光膜用 レジス ト を 30 cc噴霧する 。 次に 、 2500 rpm でス ピン コ ー ト して基板上 に均一に製膜する 。 こ の基板を 80°Cで 15分間プ リ べ一 ク す る 。 2 k* の高圧水銀灯を有する ァ ラ イ メ ン 卜機能付露 光機で 位置合せ を し な が ら 、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スパ タ ー ン の転写用マス ク を介 して露光する 。 その後、 現像 液 ( 富士 Λントテクノ Q - 社製 CD を 4倍秭釈 したもの ) を用 いて 30秒間現像する 。 さ ら に 、 純水で リ ンス し 、 200 。C で 100 分間ポス トべー ク を行な う 。 こ う して 、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスを形成する と 同時に、 三原色の各々 に対応 す る 各電極線の電極取出窓 口 を形成する 。
色素膜の形成
4 il の純水に フ 口セ ン誘導体 ミ セル化剤 ( 同仁化学社 製 ) 、 LiBr ( 和光純薬社製 ) お よ びク ロモ フ タ ール A2B
( チ バ ガ イ ギ 一 社 製 ) を 加 え 、 そ れ ぞ れ 2mM/ £ , 0.1 /il , lOg/ϋ の濃度の溶液 と し 、 超音波ホモ ジナイ ザで 30分間分散さ せ、 ミ セ ル溶液 と し た後、 記工程で得 ら れた基板を ミ セ ル溶液に浸漬 し ( 電極取出領域は浸漬 し ない ) 、 赤色色素用電檨線 ( ス ト ラ イ ブ R)にボテ ン シ ヨ スタ ツ ト を接続 し 、 0.5 V で定電位電解を行ない、 力 ラ 一 フ ィ ル タ の赤色色素層 を形成す る 。 電解処理終 了 後、 純水で洗浄 し 、 オ ー ブ ン ( 180 °C ) でプ リ べー ク す る 。
同 様 に し て 、 籙 色 色 素 と し て へ リ オ ゲ ン グ リ ー ン L 9361 ( BASF社製 ) を用いて綠色色素層を、 青色色素 と してへ リ オゲン ブルー K7080 を、 綾色色素 と して ( BASF 社製 ) を用いて青色色素層を順次形成す る 。
こ の よ う に して得 られたカ ラ ー フ ィ ルタ のブラ ッ クス ト ラ イ プは、 膜厚 1.7 m、 遮光率が 92% と き わめて高 い上、 面抵抗は 109 Ω / c m 2で あ っ た 。
R G B の フ ィ ルタ の腠厚は 0.6〜 1.0 mの範囲に と どま り 、 きわめて凹凸の少な いカ ラ ー フ ィ ルタ と な り 、 通電電極以外の電極 に 薄膜が形成 さ れる こ と な く 、 力 ラ ー フ ィ ル タ を製造 す る こ と がで き た 。 ま た 、 カ ラ ー フ ィ ルタ の抵抗値は 105 Ω /cm2と な り 導電性のカ ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た。
[ 実施例 3 ]
遮光膜用 レ ジ ス ト と し て 、 導電性高遮光性 レ ジス ト ( 富士ハントテクノ!]ジ- 社製 CK ) 、 絶縁性有機顔料 ( 赤色 ) 分散 レ ジス ト ( 富士 Λントテク Πジ- 社製 CR)、 絶縁性有機顔 料 ( 綾色 ) 分散 レ ジス ト ( 富士ハントテクノ Πジ- 社製 CG)、 絶 縁性有機顔料 ( 青色 ) 分散 レ ジス ト ( 富士ハントテクノ Πジ- 社 製 CB)を 、 それぞれ 3 : 1 : 1 : 1 の比率で混合 し た レ ジス ト を用 い 、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成時のス ビ ン コ 一 ト の 回転数を 2000rpa に し た こ と 以外は実施例 2 と 同様に し て カ ラ ー フ ィ ル タ を製造 し た 。
その結果 、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの物性は 、 膜厚 1.9 m 、 遮光率 が 93 % と き わ め て 高 い上 、 面抵抗 は 101
Ω /ca2と な り 、 通電電棧以外の電棧に薄膜が形成さ れる こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ル タ を製造す る こ と がで き た 。 ま た 、 カ ラ 一 フ ィ ル タ の抵抗値は 105 Ω /cm2と な り 導電性 の カ ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が ^! つ た 。
[ 実施例 4 ]
遮光膜 用 レ ジ ス 卜 と し て 、 導電性高遮光性 レ ジス 卜 ( 富士 Λントテクノ Π - 社製 CK ) と 絶縁性透 ¾ レ ジス ト ( ァ ク リ ル系 レ ジス 卜 ァ ロ ニ ッ ク スセ ル ソ ルブア セ テ ー ト 10 % 溶液 : 東亜合成 ( 株 ) 社製 ) を 1 : 1 重量部の比率で混 合 し た レ ジス ト を用 い 、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス形成時の ス ピ ン コ ー ト の 回転数 を lOOOrpB に し た こ と 以外は 、 実 施例 2 と 同様 に し て カ ラ 一 フ ィ ルタ を製造 し た 。 その結果、 ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの物性は、 膜厚 2.3 JLL m , 遮光率が 99% , 面抵抗 109 Ω /cm2と な り 、 通電電 極以外の電極に薄膜が形成される こ と な く 、 カ ラ 一 フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラ ー フ ィ ルタ の 抵抗値は 105 Ω /cni2と な り 導電性のカ ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た。
[ 実施例 5 ]
遮光膜用 レ ジ ス 卜 と し て 、 導電性粒子分散 レ ジス ト ( 導電性粒子 と して酸化ク ロム を含むも の ) 、 絶縁性透 明 レジス ト ( ア ク リ ル系 レ ジス ト ア 口ニ ッ ク スセルソル ブアセテー ト 10¾ 溶液 : 東亜合成 ( 株 ) 社製 ) 、 絶縁性 有機顔料 ( 赤色 ) 分散 レ ジ ス 卜 ( 富士 Λントテクノ πジ- 社製 CR)、 絶縁性有機顔料 ( 青色 ) 分散 レジス ト ( 富士ハントテ クノ Β5?- 社製 CB)をそれぞれ 1 : 1.5 : 5 : 5 重量部の比率で混 合 し た レ ジス ト を用 い、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスの形成時 のス ビン コー ト の回転数を 2000rpai に し た こ と 以外は、 実施例 2 と 同様に して カ ラ ー フ ィ ルタ を製造 し た。
その結果、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスの物性は 、 膜厚 1.9 H m , 遮光率が 97% 、 面抵抗 101 3Q /cm2と な り 、 通電電 極以外の電極に薄膜が形成される こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラ ー フ ィ ルタ の 抵抗値は 105 Ω /cm2と な り 導電性のカ ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た 。
[ 実施例 6 ]
遮光膜用 レジス ト と して 、 絶縁性有機顔料 ( 赤色 ) 分 散 レジス ト ( 富士 Λントテクノ - 社製 CR)、 絶縁性有機顔料 ( 青色 ) 分散 レ ジス ト ( 富士 Λントテクノ 社製 CB)、 絶縁 性有機顔料 ( 黒色 ) 分散 レジス ト ( ベリレンブラ、 yク合有 ; BASF 社製 : K0084 )、絶縁性透明 レ ジス ト ( ア ク リ ル系 レジス ト ァ ロニ ッ ク スセ ル ソ ルブアセテー ト 10¾ 溶液 : 東亜合 成 ( 株 ) 社製 ) をそれぞれ 15: 15.30 : 40 重量部の比率で 混合 し た レジス ト を用い、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスの形成 時の ス ピ ン コ ー ト の 回転数 を 2000 rpm に し た こ と 以外 は、 実旄 2 と 同様に してカ ラ ー フ ィ ルタ を製造 し た。
その結果、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの物性は、 膜厚 1.9 ^ m , 遮光率が 99% 、 面抵抗 101 3Q /cm2と な り 、 通電電 極以外の電 Sに薄膜が形成される こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラー フ ィ ルタ の 抵抗値は 105 Ω /ca2と な り 導電性のカ ラ ー フ ィ ル タ で あ る こ と が判 っ た。
[ 実施例 7 ]
遮光膜用 レ ジ ス ト と し て 、 黒色有機顔料 ( Λ·リレンブラタク; BASF社製 : K0084 ) を絶縁性透明 レ ジス ト ( ア ク リ ル系 レ ジ ス ト ァ ロニ ヅ ク ス セ ル ソ ルブァセ テ ー ト 10 瑢液 .: 東亜合成 ( 株 ) 社製 ) に 1 : 1.4重量部の比率 と な る よ う に分散さ せた レジス 卜 を用い 、 ブラ ッ ク マ 卜 リ ッ ク スの 形成時のス ビン コ一 ト の 回転数を 2000 rpin に し た こ と 以 外 は 、 実施例 2 と 同様 に し て カ ラ ー フ ィ ルタ を製造 し た。
その結果、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの物性は 、 膜厚 1 - 9 μ. m , 遮光率が 99% 、 面抵抗は 101 3Q /cm2と な り 、 通電 電極以外の電槿 に薄膜が形成 さ れ る こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラ ー フ ィ ル タ の抵抗値は 105 Ω /cm2と な り 導電性の力 ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た。
[ 実施例 8 ]
遮光膜用 レ ジ ス ト と し て 、 黒色有機顔料 ( Λ·リレンフ'ラタク; BASF社製 : K0084 ) を絶縁性透明 レジス ト ( 東 レ フ ォ 卜 ニース N M P 3¾ 溶液 : 東 レ製 ) に 1 : 1.5重量部の比率 と な る よ う に分散さ せた レジス 卜 を用 い 、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成時のス ビン コ一 卜 の回転数を 2000ΓΡΒ に し た こ と 以外は実施例 2 と 同様に して カ ラ ー フ ィ ルタ を 製造 し た。
その結果、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの物性は、 膜厚 1.9 μ, m , 遮光率が 97% 、 面抵抗は 101 3Q /cm2と な り 、 通電 雷槿以外の電極に薄膜が形成さ れる こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラ 一 フ ィ ルタ の抵抗値は 105 Ω /cm2と な り 導電性のカ ラ 一 フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た。
[ 実施例 9 ]
遮光膜用 レジス 卜 と して 、 絶縁性有機顔料 ( 赤色 ) 分 散 レジス ト ( 富士 Λントテクノ Π - 社製 CR)、 絶縁性有機顔料 ( 綠色 ) 分散 レ ジス ト ( 富士 Λントテク - 社製 CG)、 絶縁 性有機顔料 ( 青色 ) 分散 レジス ト ( 富士 Λントテクノ 社製
CB)をそれぞれ 1.5 : 1 : 1 重量部の比率で混合 し た レジス ト を用い、 ブラ ッ ク マ 卜 リ ッ ク スの形成時のス ビン コ一 ト の回転数を 400 rpiに し た こ と以外は、 実旌例 2 と 同様 に してカ ラ ー フ ィ ルタ を製造 し た。
その結果、 ブラ ッ ク マ 卜 リ ッ ク スの物性は、 膜厚 2.9 iL m , 遮光率が 88% 、 面抵抗は 1013Q /cn2と な り 、 通電 電槿以外の電極 に 薄膜が形成 さ れ る こ と な く 、 カ ラ ー フ ィ ルタ を製造する こ と がで き た。 ま た、 カ ラ ー フ ィ ル タ の抵抗値は 105 Ω /c鼉 2と な り 導電性のカ ラ ー フ ィ ルタ で あ る こ と が判 っ た。
[ 比較例 ]
遮光膜用 レジス ト と して 、 導電性透明 レジス 卜 ( 富士 ハントテクノ 社製 CK ) を用いた こ と 以外は、 実施例 2 と 同様に して カ ラ ー フ ィ ルタ を製造 し た。 その結果、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス の物性は 、 膜厚 2 . 4 . m , 遮光率が 9 9 % 、 面抵抗 1 0 5 Ω / c m 2と な り 、 第一色 目 の色素薄膜形成時に通電電極以外の電極に も薄膜が形 成 さ れ 、 カ ラ ー フ ィ ル タ を製造 す る こ と がで き な か つ た。
[ 産業上の利用可能性 ]
上述 し た よ う に 、 *発明のカ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法 に よれば、 色素膜形成用の透明電極を液晶駆動用の透明 電極に使用する こ と がで き る カ ラ ー フ ィ ルタ を容易に製 造する こ と がで き る 。 即ち 、 ミ セ ル電解法に よ る 色素曆 は極めて薄 く 多孔質で あ る ので 、 その下に配置されて い る電極の電位抵抗降下が小さ く な り 、 直接液晶慝動側の フ ィ ルタ と して使用で き る 。 しかも 、 最上層に透明電極 を 設 け る 必要が な い の で 、 電極 と の煩雑 な位置合わせ
( ポジシ ョ ニング ) を必要 と し ない。 ま た、 本発明 にお け る 色素層 は 、 従来法で 形成 さ れ た も の に比べて導電 率、 耐熱性、 耐薬品性、 耐光性等に優れて いる 。 ま た、 こ の色素曆は 、 通電量を調節する こ と に よ っ て 、 その膜 厚を 自在に制御で き る ため、 レべ リ ン グが容易で あ る 。
し たが っ て 、 本発明のカ ラ ー フ ィ ルタ は、 例えば、 液 晶表示素子、 エ レ ク ト 口 ク ロ ミ ッ ク 表示素子、 調階表示 素子、 プラ ズマデ ィ スプ レイ パネ ル、 分光機器、 固体撮 像素子、 調光器な どの種々 の フ ィ ルタ に利用する こ と が で き る 。 具体的には、 例えばラ ッ プ 卜 ッ ブ型のパー ソ ナ ルコ ン ピュー タ 、 ワー ド プロセ ッ サ、 液晶カ ラ ーテ レビ ( 携帯用又は壁掛用 ) 、 オー ロ ラ ビジ ョ ン 、 ビデオカ メ ラ ビユ ー フ ァ イ ンダ、 時計、 測量機器パネル、 自動車の 内部パネル、 液晶カ ラ 一 フ ィ ルタ 、 液晶プロ ジ ェ ク タ 、 色調ガラス等の分野に有効に利用される 。
ま た、 *発明の遮光腠用 レジス ト は、 高絶縁性かつ高 遮光性で あ る と い う 優れた特性を有する 。 従 っ て 、 本 発明の遮光膜用 レジス 卜 に よれば、 従来の三色(R , G , B ) 混合 レジス ト に よ る遮光膜用 レジス ト を用いた場合に比 ベ、 同 じ膜厚で は、 遮光率が 5 0 ¾ 程度高い遮光膜を製造 する こ と がで き る 。 しかも 、 ミ セル電解法に よ る R G B カ ラ ー フ ィ ル タ を作成す る こ と が可能 と な り 、 カ ラ ー フ ィ ルタ形成後、 カ ラ ー フ ィ ルタ形成用電極を液晶駆動 用電 S と して用いる こ と が可能 と な る 。 更に、 カ ラ 一 フ ィ ルタ形成時に遮光膜用 レジス 卜 がなん ら妨げ と な ら な いだけで な く 、 遮光膜用 レジス ト の壁で微細領域を仕切 る こ と がで き 、 剝離ゃ斑のない安定 し たカ ラ ー フ ィ ルタ の製造が可能 と な る 。

Claims

請求の範囲
( 1 ) 絶縁性基板、 透明電極、 ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク ス及 び色素屠の順に積層され、 かつ色分解された個別の色に 相当する透明電極の各 々 の電極取出窓 口帯か ら な る電槿 取 り 出 し 領域 を表面の あ る 一辺 の 近 く に 有す る カ ラ ー フ ィ ル タ の製造方法で あ っ て 、 前記の個別の色に相当す る透明電檨以外の電極上に ブラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの形成 と 同時にブラ ッ ク マ ト リ ッ クス材にて電極取出窓 口帯 と しての絶縁曆を形成 し 、 铳いて その上か ら各 々 の電極取 出窓 口帯単位内は電気的に接続され、 しかも別の電極取 出窓 口 帯 と は電気的に接続されな い よ う に導電層を形成 する こ と に よ っ て電極取出窓 口 帯の各 々 を形成 し た後、 前記色素層を ミ セル電解法に よ っ て形成する こ と を特徴 と する カ ラ ー フ ィ ルタ の製造方法。
( 2 ) ブラ ッ ク マ ト リ ッ クスを、 絶縁性有機顔料分散 レ ジス ト ある いは絶縁性透明 レ ジス ト の少な く と も一種以 上の レ ジス ト と 導電性高遮光性 レ ジス 卜 と を含有する遮 光膜用 レジス ト を用いて フ ォ ト リ ソ マ ト グラ フ ィ 一法に よ り 形成する請求項 1 記載の製造方法。
( 3 ) ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ クス を 、 二種以上の絶縁性有機 顔料分散 レジス ト を含有する 遮光膜用 レ ジス 卜 を用 いて フ ォ ト リ ソ マ ト グラ フ ィ 一法に よ り 形成する 請求項 1 記 載の製造方法。
( 4 ) ブラ ッ クマ ト リ ッ ク スを、 絶縁性透 ¾ レジス 卜 に 黒色有機顔料 を分散 さ せ た遮光膜用 レ ジス ト を用 いて フ ォ ト リ ソ マ ト グラ フ ィ 一法に よ り 形成する請求項 1 記 載の製造方法。
( 5 ) ブ ラ ッ ク マ ト リ ッ ク スの面抵抗値を 107 Ω /cm2以 上 と する 請求項 2 , 3 ま たは 4 記載の製造方法。
( 6 ) 絶縁性有機顔料分散 レ ジス 卜 あ る いは絶縁性透明 レ ジス ト の少な く と も一種以上の レジス 卜 と 、 導電性高 遮光性 レジス 卜 と を含有 し た こ と を特徴 と する遮光膜用 レジス 卜 。
( 7 ) 二種以上の絶縁性有機顔料分散 レ ジス 卜 を含有 し た こ と を特徴 と する遮光膜用 レジス ト 。
( 8 ) 絶縁性透明 レジス ト に黒色有機顔料を分散させた こ と を特徴 と する 遮光膜用 レ ジス ト 。
( 9 ) 遮光膜 と し た と き の面抵抗値が 107 Ω /cm2以上で あ る前記請求項 6 , 7 ま たは 8 項記載の遮光膜用 レジス h 。
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