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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Platte für ein Farbanzeigegerät, und ein
Anzeigegerät, insbesondere
ein Farbanzeigegerät.
Im Einzelnen bezieht sich die vorliegende Erfindung auf ein Anzeigegerät mit einer
Elektrodenplatte, welche mit einem hinsichtlich unterschiedlicher
Eigenschaften (insbesondere optische Eigenschaften) und Produktivität verbesserten
Maskierungselement versehenen ist.
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Bislang
ist im Allgemeinen ein Farbanzeigegerät, welches eine Kathodenstrahlröhre (CRT)
nutzt, verwendet worden.
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In
den letzten Jahren haben allerdings unterschiedliche Farbflüssigkristallgeräte beträchtliche
Aufmerksamkeit als Farbanzeigegeräte auf sich gezogen, indem
sie die oben genannten CRT-Anzeigegeräte ersetzten.
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1 zeigt
ein Beispiel eines solchen Farbflüssigkristallgerätes.
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Bezugnehmend
auf 1, weist ein Flüssigkristallanzeigegerät 1 ein
Flüssigkristallpanel
P und eine Hintergrundbeleuchtungseinheit B auf.
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Das
Flüssigkristallpanel
P weist ein Paar Glassubstrate auf, welche sich gegenüberliegend
und zueinander parallel angeordnet sind, und welche ein erstes (oberes)
Glassubstrat 3 und ein zweites (unteres) Glassubstrat 2 umfassen.
Das zweite (untere) Glassubstrat 2 ist mit Farbfiltern
(d.h., mit Farbfiltersegmenten) 5 der Primärfarben
(Rot (R), Grün
(G) und Blau (B) versehen, welche mit vorgeschriebenen Zwischenräume angeordnet
sind, an denen ein maskierender (lichtunterbrechender) ein Metall
wie zum Beispiel Chrom (Cr) enthaltender Film 6, angeordnet
ist. Die Farbfilter 5 und der maskierende Film 6 sind
mit einem Schutzfilm 7 bedeckt, auf dem eine Vielzahl von
streifenförmigen
(transparenten) Elektroden 9 ausgebildet sind, um eine
zweite Elektrodenplatte einzurichten. Andererseits ist das erste
(obere) Glassubstrat 3 ebenfalls mit einer Vielzahl an
streifenförmigen
(transparenten) Elektroden 10 ausgestattet, welche senkrecht
zu den streifenförmigen
Elektroden 9 angeordnet sind, um eine erste Elektrodenplatte
einzurichten. Diese ersten und zweiten Glassubstrate 3 und 2 (Elektrodenplatten)
sind mittels einer Flüssigkristallschicht 11 aneinander
angebracht.
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Die
Farbfilter 5 können
durch Verwendung von Verfahren, welche Färbeverfahren, Pigmentdispersionsverfahren
und eine Kombination aus einem Sputteringverfahren mit einem photolithogafischen
Verfahren beinhalten, ausgebildet werden. Der maskierende Film 6 kann
durch ein Sputteringverfahren und ein anschließendes photolithografisches
Verfahren gebildet werden.
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Auf
der Rückseite
des Flüssigkristallpanel
P ist eine Hintergrundbeleuchtungseinheit (Beleuchtungsmittel) zur
Beleuchtung der Flüssigkristallpanel
P so angeordnet, dass sie dem ersten Glassubstrat 3 gegenüberliegt
wie in 1 gezeigt.
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Wenn
das Flüssigkristallpanel
P angesteuert wird, so werden die Flüssigkristallmoleküle der Flüssigkristallschicht 11 dazu
veranlasst, für
jeden Pixel ein Umschalten zu bewirken. Des weiteren, wenn die Hintergrundbeleuchtungseinheit
B angesteuert (in Betrieb genommen) wird, so wird das Flüssigkristallpanel
P mit von der Hintergrundbeleuchtungseinheit B ausgegebenem Licht
beleuchtet (nachfolgend als „Hintergrundlicht oder
beleuchtendes Licht" bezeichnet),
wodurch transmittierte Lichtströme
des Hintergrundlichtes (beleuchtendes Licht) verschiedene Informationen
bereitstellen, wie zum Beispiel Farbdisplaybilder, in Abhängigkeit von
ihren Kombinationen mit den Farbfiltersegmenten, durch die das Hintergrundlicht
fällt.
Zwischen den Zwischenräumen
der Farbfiltersegmente des Farbfilters 5 ist, wie schon
oben beschrieben, der maskierende Film 6 angeordnet, wodurch
es möglich
ist, das Mischen der Primärfarben
zu verhindern, um den Kontrast zu erhöhen.
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Indes
wurde das obige Flüssigkristallgerät von einem
Problem begleitet, dergestalt, dass Licht, welches von der Betrachterseite
ausgegeben und in 1 als „A" gekennzeichnet (nachfolgend bezeichnet
als „externes
Licht", welches
das Element in der Richtung entgegengesetzt zu der des Hintergrundlichtes
beleuchtet), durch den maskierenden Film 6 reflektiert
wird, um die Anzeigequalität
des Flüssigkristallelementes
P zu vermindern.
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Um
das Problem zu lösen,
ist die Verwendung eines maskierenden Filmes 16 oder 26 (wie
in 2A oder 2B gezeigt)
mit einer zwei oder drei Schichten enthaltenden Schichtstruktur
z.B. in der japanischen, offengelegten Patentanmeldung (JP-A) 2-144525,
61-235819 und 5-127014 vorgeschlagen worden. Bezugnehmend auf 2A,
weist der maskierende Film 16 eine aus einem Metalloxid(Chromoxid)-Film
bestehende erste Schicht 16a auf, die auf dem zweite Substrat 2 angeordnet
ist, und eine aus einem Metall(Chrom)-Film bestehende zweite Schicht 16b,
die auf die erste Schicht 16a angeordnet ist. Gleichermaßen, bezugnehmend auf 2B,
hat der maskierende Film 26 eine Schichtstruktur mit einer
aus einem Metall(Chrom)-Film bestehenden zweiten Schicht 26b,
die zwischen die erste und dritte Schicht 26a und 26c, jede
einzelne aus einem Metalloxid(Chromoxid)-Film bestehend, angeordnet
ist.
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Diese
maskierenden Filme 16 und 26 sind so entworfen,
um eine gute Anzeigequalität
durch den bzw. die Metalloxidfilm(e) (die ersten und dritten Schichten 16a, 26a und 26c),
wirksam im Verringern eines Grades der Reflektion des externen Lichtes,
zu bewahren und eine hinreichende lichtunterbrechende Eigenschaft
sicherzustellen.
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Diese
maskierenden Filme 16 und 26 werden im Allgemeinen
durch ein Sputterverfahren ausgebildet. Während des Sputterverfahrens,
im Falle eines chargenweise verarbeitenden Sputter-Gerätes, ist
es notwendig, unterschiedliche Sputterbedingungen anzuwenden, um
den Metallfilm und den Metalloxidfilm ausbilden. Zu diesem Zweck
sind verschiedene Methoden verwendet worden, einschließlich: (i)
einer, wobei ein Gasgemisch aus Ar und O2 (als
Umgebungsgas) und ein Metalltarget (Chrom im obigen Fall) verwendet
werden, um einen Metalloxidfilm (wie z.B. die ersten Schichten 16a und 26a,
in 2A und 2B gezeigt)
auszubilden und daraufhin das Umgebungsgas durch ein Argongas ersetzt
wird, während
das Metalltarget so verwendet wird, wie es zum Ausbilden eines Metallfilmes
verwendet wird (wie z.B. die zweiten Schichten 16b und 26b in 2A und 2B),
und (ii) einer, wobei ein Umgebungsgas aus Argon und ein Metalloxidtarget
verwendet werden, um einen Metalloxidfilm auszubilden (wie z.B.
die ersten Schichten 16a und 26a) und dann das
Metalloxidtarget durch ein Metalltarget ersetzt wird ohne das Umgebungsgas
Argon zu wechseln, um einen Metallfilm auszubilden (wie z.B. die
zweiten Schichten 16b und 26b).
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Des
Weiteren ist es möglich,
als eine Methode, welche nicht ein Chargenverfahren benutzt, eine
Methode anzuwenden, die einen fortlaufend (oder mengenbegrenzt) produzierendes
Sputtergerät
verwendet, wobei ein Substrat von einer zur Ausbildung eines Metalloxidfilmes
(wie z.B. die ersten Schichten 16a und 26a) mit
einem Gasgemisch aus Ar und O2 gefüllten ersten
Kammer, in eine mit einem Absperrschieber von der ersten Kammer
abgetrennte und zur Ausbildung eines Metallfilmes (wie z.B. die
zweiten Schichten 16b und 26b) mit einem Argongas
gefüllte
zweite Kammer überführt wird.
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Die
so ausgebildeten Metalloxid- und Metallfilme, welche eine Schichtstruktur
bilden, werden dann dem Mustern durch ein photolithografisch Verfahren
unterzogen, um einen gemusterten maskierenden Film mit einer Schichtstruktur
auszubilden.
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Allerdings
wurden die oben beschriebenen, in der obigen Art und Weise angefertigten,
maskierenden Filme 16 und 26 mit verschiedenen
Problemen aufgrund ihrer Schichtstruktur begleitet.
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Im
Einzelnen war es schwierig eine Schichtstruktur zu entwickeln, welche
dazu im Stande ist, eine Ausgewogenheit zwischen dem verringerten
Grad der Reflektion des externen Lichtes (d.h. eine verringerte Remission)
und einer Verbesserung in der lichtunterbrechenden Eigenschaft im
Falle der maskierenden Filme mit der oben beschriebenen Kombinationen
von Metalloxid- und Metallfilmen, beizubehalten. Des Weiteren zeigten
die Metalloxidfilme und Metallfilme in den herkömmlichen Schichtstrukturen
eines maskierenden Filmes, wie oben beschrieben, unterschiedliche Ätzungsgrade
während
des Musterns durch das photolithografischen Verfahren, was folglich
unebene (stufenweise) Seitenflächen
oder eine stufenweise auftretende Differenz in der Breite im Bezug
auf die Metall- oder Metalloxidfilme verursacht (d.h. ein breiterer
Metalloxidfilm und ein schmalerer Metallfilm), um die Anzeigequalität eines
Flüssigkristallpanel
P zu verschlechtern. Im Falle der Verwendung eines Sputtertargets
aus einem Metalloxid tritt ein Problem im Bezug auf die Massenproduktion auf,
wie zum Beispiel eine niedrige Sputterrate und ein Riss in (oder
ein Bruch von) dem Target. Des Weiteren wird das Gerät, im dem
Fall, wo das fortlaufend produzierende Sputtergerät verwendet
wird, von Problemen begleitet, wie zum Beispiel in dem eines kostspieligen
Gerätes
und komplizierten Film ausbildenden Schritten, wodurch ein Anstieg
in den Produktionskosten resultiert.
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Um
einen Grad der externen Lichtreflexion zu senken, ist es erforderlich,
den Sauerstoffgehalt eines Metalloxidfilmes angemessen zu kontrollieren,
der dazu verwendet wird, um einen Metalloxidfilm mit einem Extinktionskoeffizienten
innerhalb einer angemessenen Spannweite in einem Film ausbildenden
Schritt zu erstellen. Chrom (Cr) zum Beispiel hat allerdings eine
sehr hohe Aktivität
im Bezug auf Sauerstoff, so dass es schwierig ist, die Spannweite
des Extinktionskoeffizienten angemessen zu kontrollieren, welche
abhängig
von dem resultierenden Sauerstoffgehalt variiert, wodurch ein eine
gute Anzeigequalität
aufweisendes Farbdisplaygerät
zu erstellen fehlschlägt.
Demzufolge wird die Ausbeute von einem Produkt verringert, um die
Produktionskosten zu erhöhen.
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Es
sind ebenso Verfahren zur Ausbildung eines maskierenden Film vorgeschlagen
worden, mit: einem, wobei ein zum Färben geeignetes Kunstharz mit
Mustern versehen und dann mit einem schwarzen Farbstoff gefärbt wird
und einem, wobei durch einen Druckprozess aufgebrachte schwarze
Tinte zum Mustern verwendet wird.
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In
diesen Verfahren kann allerdings in einigen Fällen, wenn ein dünner Film
ausgebildet wird, keine zufrieden stellende lichtunterbrechende
(maskierende) Eigenschaft gewährleistet
werden. Des Weiteren ist im letzteren Verfahren die Präzision im
Mustern oder die Passgenauigkeit anfällig dafür, verringert zu werden.
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Der
europäische
Patentanmeldung Nr. 97 903 608.4 wurde als EP-A-090132 am 10. März 1999, Deutschland,
Frankreich, Großbritannien
und Niederlande nennend veröffentlicht,
und wurde zuerst als WO97/31290 am 28. August 1997 nach dem Anmeldetag
der vorliegenden Anmeldung veröffentlicht.
Dieses Dokument ist deshalb nur unter Artikel 54(3) EPC zitierbar.
Dieses Dokument legt ein schwach reflektierendes Dünnfilmsubstrat
offen, welches durch Ätzen
mit Muster versehen werden kann, um eine schwarze Matrix bereitzustellen,
welche zwischen roten, grünen
und blauen Farbfilterpixeln in einem farbigen Flüssigkristallpanel angeordnet
ist. Das Substrat hat vielfache Schichten, zum Beispiel von ungefähr zwei
bis sieben Schichten. Es kann durch Sputtern mit reaktivem Gas ausgebildet
werden und ein inertes Gas, wie zum Beispiel Stickstoff, einschließlich der
Edelgase wie zum Beispiel Argon, ein oxidierendes Gas, oder ein
Gas der Kohlenstoffoxide wie zum Beispiel CO oder CO2,
ist ein typisches Beispiel für
die Atmosphäre
beim Sputtern. Das Targetmaterial enthält die Metalle der Eisengruppe,
wie zum Beispiel zumindest eines aus Ni, Fe, Co, Mo, W, Ta und Nb,
und verschiedenartige Legierungen. Das Substrat enthält keinerlei
Chrom. Mehrere Bespiele werden aufgeführt, in denen Dünnschichtsubstrate
durch Sputtern auf einem transparenten Glassubstrat ausgebildet
werden, und in einigen dieser Beispiele werden drei Schichten ausgebildet.
Besonders im Beispiel Nummer 2, wobei das Nummerieren der Schichte
von dem Glassubstrat aus beginnt, sind alle Schichten unter Verwendung
einer Ni-Mo-Legierung
dargestellt worden. Schicht eins und zwei enthalten Sauerstoff und
Schicht drei kann optional Sauerstoff enthalten. Im Beispiel 3 sind
alle Schichten aus einer Ni-W-Legierung ausgebildet und die Schichten eins
und zwei enthalten Sauerstoff, wohingegen Schicht drei nur aus Metall
besteht. In Beispiel 5 sind alle drei Schichten nur aus Al-Ti gebildet.
In Beispiel 7 sind alle Schichten aus Ta gebildet und die erste
Schicht enthält zusätzlich Sauerstoff.
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Nach
dem ersten Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung, ist dort eine
Platte für
ein Farbanzeigegerät
vorgesehen, wie im Anspruch 1 dargelegt.
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Ein
zweiter Gesichtspunkt der Erfindung sieht ein Farbanzeigegerät mit der
Platte aus dem ersten Gesichtspunkt vor. Optionale Merkmale werden
in den anhängigen
Ansprüchen
dargelegt.
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Eine
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist geeignet, die Kosten der Entsorgung
des Abfalllösemittels
(Lösung)
durch Benutzung einer Mo-Ta-Legierung anstatt der Benutzung von
Chrom zu senken.
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist ein Anzeigegerät versehen mit:
einer
planaren optischen Modulationsvorrichtung mit einem transparenten
Substrat und einer Vielzahl an darauf angebrachten Pixeln, so dass
jedes einzelne für
die optische Modulation geeignet ist und
einer auf dem transparenten
Substrat angeordnete maskierenden Element und mit Zwischenräumen,
wobei
das maskierende Element eine Schicht einer C, O und eine Metallverbindung
(hierin mit einem einzelnen Metall und einer Legierung) enthaltenden
Metallverbindung enthält.
Die Metallkomponente kann Mo, vorzugsweise Mo und Ta, enthalten.
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Im
Besonderen enthält
in dieser Ausführungsform
das maskierende Element eine erste Schicht, welche auf dem transparenten
Substrat angeordnet ist, und welche eine Metallverbindung enthält, welche
C, O und eine Metallkomponente enthält, und eine zweite Schicht,
welche auf der ersten Schicht angeordnet ist und eine Metallkomponente
enthält.
Die erste Schicht kann kontrolliert werden, ob sie einen Kohlenstoffgehalt
und einen Sauerstoffgehalt aufweist, jeder einzelne von denen im
Wesentlichen einheitlich in der Richtung ihrer Dicke oder jeder
einzelne von denen in Richtung ihrer Dicke von der Seite des transparenten
Substrates aus zu der zweiten Schicht hin sinkt. Ferner enthält das maskierende
Element des Weiteren eine dritte Schicht, welche auf der zweiten
angeordnet ist, und welche C, O und eine Metallkomponente enthält, die
aus der Gruppe, welche aus Mo, Ti, Cr, Al, Ta und W besteht, ausgewählt werden
kann. In diesem Falle kann die dritte Schicht bevorzugt Mo enthalten.
Gleichermaßen
kann die erste Schicht eine Metallkomponente enthalten, die aus
der Gruppe, welche aus Mo, Ti, Cr, Al, Ta und W besteht, ausgewählt ist
und die zweite Schicht kann eine Metallkomponente enthalten, die
aus der Gruppe, welche aus Mo, Ti, Cr, Al, Ta und W besteht, ausgewählt ist.
Unter diesem Umstand kann die erste Schicht vorzugsweise Mo und
die zweite Schicht vorzugsweise Mo enthalten.
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Das
Anzeigegerät
enthält
des Weitern eine Vielzahl an Farbfiltern, welche in Ausrichtung
zu den Pixeln und auf dem transparenten Substrat an den Zwischenräumen der
maskierenden Einheit angeordnet sind.
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Die
erste Schicht kann einen Brechungsindex n1 und
einen Extinktionskoeffizienten k1 aufweisen
und die zweite Schicht kann einen Brechungsindex n2 und
einen Extinktionskoeffizienten k2 aufweisen,
welche folgende Beziehungen gerecht werden: n1 < n2 und
k1 < k2. Die dritte Schicht kann einen Brechungsindex
von n3 und einen Extinktionskoeffizienten
k3 aufweisen, wobei der Brechungsindex n1 gleich zu oder kleiner als der Brechungsindex
n2 oder n3 ist und
der Extinktionskoeffizient k1 gleich zu
oder kleiner als der Extinktionskoeffizient k2 oder
k3 ist. Die oben genannten Brechungsindices
n1, n2 und n3 und die Extinktionskoeffizienten k1, k2 und k3 können
vorzugsweise folgenden Beziehungen gerecht wird: n1 < n2,
n3 < n2, k1 < k2 und
k3 < k2 (hierin bedeuten die Beziehungen der optischen
Konstanten jene bei einer identischer Wellenlänge im sichtbaren Bereich).
Des Weiteren kann die erste Schicht wünschenswerter Weise einen Extinktionskoeffizient
k aufweisen, welcher folgender Beziehung gerecht wird: 0,2 ≤ k ≤ 1,0. Das
maskierende Element kann einen Brechungsindex und eine Extinktionskoeffizienten
aufweisen, welche entsprechend mit der wachsender Entfernung vom transparenten
Substrat kontinuierlich größer werden.
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Das
oben erwähnte
Anzeigegerät
kann vorzugsweise ferner ein weiteres transparentes Substrat, welches
gegenüber
und im Wesentlichen parallel zu dem transparenten Substrat angeordnet
ist, und einen zwischen den transparenten Substraten angeordneten
Flüssigkristall
enthalten. Das Anzeigegerät
kann ferner ein auf der Rückseite
des weiteren transparenten Substrates aufgebrachtes Beleuchtungsmittel
enthalten.
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Die
erste und zweite Schicht kann durch ein folgende Schritte enthaltendes
Verfahren hergestellt werden:
Ausbildung der erste Schicht
auf dem transparenten Substrat durch Sputtern mit einem Target,
welches eine Metallkomponente enthält, die aus der Gruppe, welche
aus Ti, Cr, Al, Ta, Mo, und W besteht, ausgewählt ist, und mit einem ein
Gasgemisch aus Ar und CO2 enthaltenden Umgebungsgas
und,
Ausbilden der zweiten Schicht auf die erste Schicht durch
Sputtern mit einem Target, welches eine Metallkomponente enthält, die
aus der Gruppe, welche aus Ti, Cr, Al, Ta, Mo und W besteht, ausgewählt ist,
und mit einem Umgebungsgas aus Ar.
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Wo
ein Metall, wie zum Beispiel Chrom verwendet wird, erfordert die
Entsorgung der Abfalllösung
dafür höhere Kosten,
aber wo die Mo-Ta-Legierung oder Al verwendet wird, führt das
zu geringeren Kosten für die
Abfalllösungsentsorgung.
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Bevorzugte
Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung werden in Verbindung mit den beiliegenden
Zeichnungen beschrieben werden.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 ist
eine die allgemeinen Strukturen eines Flüssigkristallanzeigegerätes zeigende
schematische Schnittansicht.
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2A und 2B sind
jeweils eine schematische Schnittansicht zur Veranschaulichung der
Struktur einer herkömmlichen
maskierenden Schicht in der Art der Zweischichtstruktur (2A)
oder in der Art der Dreischichtstruktur (2B).
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3 ist
eine schematische Schnittansicht eines in einem ersten Vergleichbeispiel
eingeführten
Flüssigkristallanzeigepanels
(Vorrichtung) (folgt nachstehend).
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4 ist
eine schematische Schnittansicht eines vergrößerten Teilbereiches eines
in dem ersten Vergleichsbeispiel eingeführten maskierenden Elements.
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5 ist
ein Diagramm, welches das Verhältnis
zwischen Remission und Wellenlänge
als einen Effekt des ersten Vergleichsbeispiels zeigt.
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6 ist
eine schematische Schnittansicht eines vergrößerten Teilbereiches eines
in einer Ausführungsform
eingeführten
maskierenden Elements (folgt nachstehend) in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung.
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7 ist
ein Diagramm, welcher das Verhältnis
zwischen Remission und Wellenlänge
als Effekt der Ausführungsform
zeigt.
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8 ist
ein Diagramm, welches das Verhältnis
zwischen Remission und Wellenlänge
als ein Effekt des zweiten Vergleichbeispiels zeigt.
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9 ist
ein Diagramm, welches das Verhältnis
zwischen Gasflussquotient und Extinktionskoeffizient zeigt.
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10 ist
ein Diagramm, welches das Verhältnis
zwischen Extinktionskoeffizienten und Remission zeigt.
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Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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Nachfolgend
werden Anzeigegeräte
mit Bezug auf 3–10 beschrieben
werden, wobei identische Strukturelemente (Komponenten) entsprechend
mit den identischen Referenznummern gekennzeichnet sind, sofern
sie nicht anderweitig spezifiziert sind. Eine schematische Schnittansicht
des Anzeigegerätes
wird in Übereinstimmung
mit der vorliegenden Erfindung, Bezug nehmend auf 6,
beschrieben werden.
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Des
Weiteren wird eine Erläuterung
der Strukturelemente, welche durch die gleichen Referenznummern
bezeichnet werden, wie jene in 1, bedarfsmäßig entfallen.
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Erstes Vergleichsbeispiel
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3 ist
eine schematische Schnittansicht eines Farbflüssigkristallanzeigegerätes in Übereinstimmung
mit dem ersten Vergleichsbeispiel des Anzeigegerätes.
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Mit
Bezug auf 3 enthält ein Farbflüssigkristallanzeigengerät 70 eine Flüssigkristallanzeigepanel
P und ein Hintergrundbeleuchtungseinheit bzw. -vorrichtung (als
Beleuchtungsmittel) B.
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Das
Anzeigepanel P enthält
ein Paar sich gegenüberliegend
angeordneten, transparenten Substraten, welche aus einem ersten
(oberen) Substrat 3 und einem zweitem (unterem) Substrat 2 bestehen,
welche im Wesentlichen zueinander parallel liegen, eine Vielzahl
an Farbfiltern (Farbfiltersegmenten) 5, einen maskierenden
Film (maskierendes Element) 76, einen Schutzfilm 7,
eine Vielzahl an transparenten Elektroden 9, eine Vielzahl
an transparenten Elektroden 10 und einen Flüssigkristall 11.
Auf den transparenten Elektroden 9 und 10 ist
jeweils eine Ausrichtungskontrollschicht (nicht eingezeichnet) angeordnet.
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In
diesem Beispiel ist ein jedes der transparenten Substrate 2 und 3 aus
einem 1 mm dicken, blauen Spiegelglas (plate glas) (n = ca. 1,52)
hergestellt, bei dem beide Oberflächen poliert sind (ein 1 mm
dicke Glasplatte „#7509", gefertigt von Corning
Glass Works; (n = ca. 1,52) kann ebenso benutzt werden).
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4 ist
der teilweise vergrößerte Ausschnitt
um eine die Lage betreffenden Beziehung zwischen den Farbfiltern 5 und
dem maskierenden Element 76 darzustellen.
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Bezug
nehmend auf 4 sind auf der Oberfläche des
zweiten Substrates 2 die Farbfilter 5 der Primärfarben
(R, G und B) in der Ausrichtung mit den Pixeln angeordnet (jeder
an einer Schnittfläche
der transparenten Elektroden 9 und 10), um die
Zwischenräume
zwischen den Segmenten des maskierenden Filmes 76 auszufüllen. Auf
den Farbfiltern 5 und dem maskierenden Film 76 ist
der Schutzfilm 7 angeordnet.
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Der
maskierende Film 76 hat eine geschichtete Struktur, welche
eine auf das zweite Substrat 2 angeordnete erste Schicht 76a und
eine auf die erste Schicht 76a angeordnete zweite Schicht 76b,
um so die Schicht 76a zu beschichten, enthält. Die
erste Schicht 76a enthält
eine Kohlenstoff (C) und Sauerstoff (O) enthaltende Legierung aus
Mo und Ta (Mo-Ta-Legierung) und die zweite Schicht 76b enthält eine
Mo-Ta-Legierung.
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In
diesem Beispiel wurden ein 146 nm (1460 Å) dicker maskierender Film 76 mit
einer 63,5 nm (635 Å)
dicken ersten Schicht 76a und einer 82,5 nm (825 Å) dicken
zweiten Schicht 76b durch einen Besputterungschritt und
einem mustergebenden Schritt in der folgenden Art und Weise ausgebildet.
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Im
Besputterungschritt, wurde ein ausreichend gewaschenes zweites Substrat 2 in
ein wannenförmiges
Magnetron-Besputtergerät
(mit Gleichstrom betrieben) in eine vorgeschriebene Position gebracht,
welches ein ein Gasgemisch aus Ar und CO2 enthaltendes
Ausführungsformgas
(embodiment gas) und ein Target mit einer Mo-Ta-Legierung (Mo:Ta
= 85 Gew.-% : 15 Gew.-%) verwendet. Das zweite Substrat 2 wurde
dem Verfahren des reaktiven Besputterns durch Benutzung des oben
genannten Gerätes
unter folgenden Bedingungen unterzogen.
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In
diesem Beispiel hat die erste Schicht 76a einen Sauerstoffgehalt
und einen Kohlenstoffgehalt, wobei jeder einheitlich in der Richtung
der Dicke ist.
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Der
so ausgebildete maskierende Film 76 mit einer Schichtstruktur
(76a und 76b) war dem Verfahren des Musterns (Ätzen) durch
ein photolithografisches Verfahren unterworfen, um die Zwischenräume übrig zu lassen.
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Beim
Schritt des Ätzens
wurde eine Ätzmittelmischung
(H3PO4, HNO3 und CH3COOH) benutzt.
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Anschließend wurden
die Farbfilter 5 (R, G und B; Pigment-Dispersionsausführung) an
den Zwischenräumen
ausgebildet. Auf den Farbfiltern 5 und dem maskierenden
Film 76, wurden der Schutzfilm 7 (der zum Beispiel
Polyamidharz, polymere Siloxane und Siliziumdioxid enthält; in diesem
Beispiel wurde Polyamidharz benutzt) und die transparenten Elektroden 9 in
der Art und Weise wie in 3 ersichtlich ausgebildet. Des
Weiteren wurde ein Ausrichtungskontrollfilm (nicht abgebildet) auf
die transparenten Elektroden 9 ausgebildet. Andererseits
wurde das erste Substrat 3 sukzessiv mit den transparenten
Elektroden 10 und einem Ausrichtungskontrollfilm (nicht
abgebildet) beschichtet.
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Die
so behandelten ersten und zweiten Substrate 3 und 2 wurden
so auf einander angewandt, um so einen vorgeschriebener Zellspalt übrig bleiben
zu lassen, welcher dann mit den Flüssigkristallen 11 gefüllt wurde,
um das Flüssigkristallanzeigepanel
P zu erstellen.
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In
diesem Beispiel wurde die Messung der optischen Konstanten (n1, n2, k1 und
k2) der ersten und zweiten Schichten 76a und 76b des
maskierenden Filmes 76 vor dem mustergebenden Schritt mittels
eines Ellipsometers durchgeführt.
Die Ergebnisse werden nachfolgend gezeigt.
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Des
Weiteren wurde, um eine remissionsreduzierende Eigenschaft des externen
Lichtes des maskierenden Filmes 76 abzuschätzen, eine
Remission davon vor dem mustergebenden Schritt unter Verwendung eines
Reflektometers („V-3000", hergestellt von
K.K. Hitachi Seisakusho) gemessen.
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Als
Ergebnis zeigte der maskierende Film 76 eine Remission
von höchstens
11% im sichtbaren Bereich zwischen 400–700 nm, wie aus 5 ersichtlich.
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Wenn
in diesem Beispiel das obig angefertigte Flüssigkristallpanel P durch das
Bereitstellen eines vorgeschriebenen Signals zu den transparenten
Elektroden 9 und 10 angesteuert wird, während es
mit Licht aus der Hintergrundbeleuchtungseinheit beleuchtet wird,
verursacht der Flüssigkristall 11 das
Umschalten jedes einzelnen Pixels, wodurch transmittiertes Licht
verschiedene Daten oder Informationen zusammen mit den Farbfiltern 5 (durch
die das Licht passiert) bereitstellt.
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In
diesem Beispiel wird die erste Schicht 76a mit einer Metallkomponente
verwendet, die eine Mo-Ta-Legierung
und C und O enthält,
wodurch die Remission des maskierenden Filmes 76 auf ein
praktisch akzeptierbares Niveau aufgrund einer remissionserniedrigenden
Funktion der ersten Schicht 76a gesenkt wird. Dementsprechend,
selbst wenn das Anzeigegerät 70 an
einem hellen Ort (wie zum Beispiel im Freien) benutzt wird und externes
Licht von der Betrachterseite A (siehe 3 und 4)
aus auf das Gerät
fällt,
wird das einfallende (externe) Licht weniger stark auf der Oberfläche der
ersten Schicht reflektiert. Des Weiteren enthält in diesem Beispiel der maskierende
Film 76 auch die zweite Schicht 76b, welche ein
in der lichtunterbrechenden Eigenschaft hervorragendes Metall (Mo-Ta-Legierung)
enthält,
wodurch die Transmission eines Hintergrundlichtes und eines externen
Lichtes unterdrückt
werden kann. Folglich ist, verglichen mit den herkömmlichen
Schritten für
die Herstellung eines maskierenden Film (wie zum Beispiel Färben mit
einem schwarzen Farbstoff oder Nassbeschichten und Mustern mit schwarzer
Tinte, wie oben beschrieben), der in diesem Beispiel verwendete
Schritt der Ausbildung eines maskierenden Filmes, effektiv im Verbessern
der lichtunterbrechenden Eigenschaft und der Lagegenauigkeit des
resultierenden maskierenden Filmes zusätzlich zu einer remissionsreduzierenden
Eigenschaft, folglich wird ein Farbflüssigkristallanzeigegerät mit einer
guten Anzeigeleistung und einer guten Ausgewogenheit zwischen den
lichtunterbrechenden und remissionsreduzierenden Eigenschaften zur
Verfügung
gestellt.
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In
diesem Beispiel wird, wie oben beschrieben, der maskierende Film 76 aus
dem Metallkomponentenfilm 76a (Mo-Ta Legierung, C und O
enthaltend) und dem Metallfilm 76b (Mo-Ta Legierung) ausgebildet,
so dass durch Ätzen
verursachte, unebene (stufenweise) Seitenflächen des maskierenden Filmes 76 unterdrückt werden,
um einen höchst
genauen maskierenden Film 76 bereitzustellen.
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In
diesem Beispiel zeigt der Metallkomponentenfilm 76a (sowohl
C als auch O enthaltend) eine geringere Schwankung im Extinktionskoeffizienten
k1, wenn er mit einem verglichen wird, der
unter identischen filmausbildenden (Sputtern) Bedingungen nur O
enthält,
folglich beständig
eine hervorragende remissionsreduzierende Eigenschaft bereitstellt.
Demzufolge ist das Anzeigegerät 70 in
der Anzeigequalität
und Ausbeute beim Produktionsverfahren verbessert.
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In
diesem Beispiel wird der maskierende Film 76 unter Verwendung
des ein Gasgemisches aus Ar und CO2 benutzendes,
reaktiven Sputterverfahren ausgebildet und ist folglich hervorragend
in der Steuerbarkeit und Reproduzierbarkeit, um den Metallkomponentenfilm 76a mit
einer guten Eigenschaft einfach zu erhalten und ebenso den Metallfilm 76b durch
das Abschalten der CO2-Zufuhr einfach auszubilden.
Demzufolge werden die Produktionskosten gesenkt.
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Ausführungsform
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Ein
Farbflüssigkristallanzeigegerät 80 hat,
wie ausschnittsweise in 6 im Bezug auf seine Ausführungsform
gezeigt, eine Struktur, welche zu jener aus dem ersten Vergleichsbeispiel
identisch ist, bis auf die Tatsache, dass der maskierende Film 86 eine
Schichtstruktur mit drei Schichten aufweist und auf folgende Weise
ausgebildet wurde.
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Die
ersten bis dritten Schichten 86a, 86b und 86c,
welche den maskierenden Film 86 darstellen, sind auf einem
transparenten Film 2 auf die gleiche Art und Weise wie
im ersten Vergleichsbeispiel unter den folgenden Bedingungen ausgebildet
worden.
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Die
so ausgebildeten ersten bis dritten Schichten 86a, 86b und 86c zeigten
die folgenden Brechungsindices n und Extinktionskoeffizienten k,
in gleicher Art und Weise gemessen, wie im ersten Vergleichsbeispiel.
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In
dieser Ausführungsform
zeigten das transparente Substrat 2 und der Schutzfilm 7 jeweils
einen Brechungsindex von um die 1,52.
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Bezug
nehmend auf diese Ausführungsform,
ist auf die Oberfläche
der zweiten Schicht (Metall(Mo-Ta Legierung)schicht) 86b die
dritte Schicht (Metallverbindung (Mo-Ta Legierung, welche C und
O enthält)) 86c ausgebildet,
wodurch die Remission eines Hintergrundlichtes aus der Hintergrundbeleuchtungseinheit
B verringert ist, wie schon in 7 gezeigt
(wie z.B. eine Remission von höchstens
4,1% im sichtbaren Bereich von 400–700 nm), wodurch eine aus
einer Hintergrundlichtreflektion entstehenden Fehlfunktion des Anzeigegerätes 80 unterbunden
wird.
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Im Übrigen ist
in dieser Ausführungsform
die unter Verwendung von Licht aus Richtung der Hintergrundlichtseite
B gemessene Remission im Wesentlichen gleich zu jener, wo unter
Verwendung von Licht von der Betrachterseite A (6)
gemessen wurde, solange der Brechungsindex (n = 1,52) der Schutzschicht 7 im
Wesentlichen gleich zu dem des transparenten Substrates 2 ist.
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Des
Weiteren sind im Bezug auf diese Ausführungsform die oben beschriebenen
vorteilhaften Effekte im ersten Vergleichsbeispiel durch das Anwenden
einer Kombination von Schichten der Metallverbindung (C und O enthaltende
Mo-Ta Legierung) 86a und 86c und der Metallschicht
(Mo-Ta Legierung) 86b erreicht worden.
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Zweites Vergleichsbeispiel
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Ein
Farbflüssigkristallanzeigegerät hat im
Bezug auf dieses Beispiel eine Struktur die identisch zu einer aus
dem ersten Vergleichsbeispiel ist, wie sie in 3 und 4 zeigt
wird, bis auf die Tatsache, dass ein maskierender Film 76 auf
die folgende Art und Weise ausgebildet wurde.
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Die
erste Schicht
76a wurde auf einem transparenten Substrat
2 durch
reaktives Besputtern in derselben Art und Weise wie im ersten Vergleichsbeispiel
ausgebildet, während
der CO
2-Gasfluß (sccm) in einer Rate von
4 sccm/min durch Massenflusskontrolle gesenkt wurde.
Bedingung | Erste
Schicht |
Target | Mo-Ta |
Leistung
(W/cm2) | 4,0 |
Gasdruck
(Pa) | 0,67 |
Argon-Durchfluss | 50
(konstant) |
(sccm) | |
CO2 Durchfluss (sccm) | 30
bis 10 (verändernd) |
Dicke
[nm] (Å) | 115,0
(1150) |
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Die
erste Schicht 76a wurde kontrolliert, ob sie einen Kohlenstoffanteil
und einen Sauerstoffanteil aufweist, jeder einzelne fortlaufend
von der Seite des Glassubstrates aus zu der Seite der zweiten Schicht
hin in der Richtung ihrer Dicke verringert. Im Übrigen können der Sauerstoffgehalt und
der Kohlenstoffgehalt durch Sekundärionen-Massenspektroskopie
(SIMS) und Elektronenspektroskopie zur Bestimmung von Elementen und
ihren Bindungszuständen
(ESCA) bestimmt werden.
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Auf
die erste Schicht 76a wurde eine 50 nm (500 Å) dicke
zweite Schicht 76b auf die gleiche Art und Weise wie im
ersten Vergleichsbeispiel ausgebildet.
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Der
so ausgebildete maskierende Film 76 zeigte eine Remission
von höchstens
5% im sichtbaren Bereich von 400–700 nm, wie in 8 gezeigt,
welche in derselben Art und Weise wie im ersten Vergleichsbeispiel
gemessen wurde.
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Im
Bezug auf dieses Beispiel, verglichen mit dem Anzeigegerät aus dem
ersten Vergleichsbeispiel, wird die Remission von einem externen
Licht weiter abgesenkt (8 und 5).
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Des
Weiteren werden im Bezug auf dieses Beispiel die oben beschrieben
vorteilhaften Effekte im ersten Vergleichsbeispiel in gleicher Weise
durch das Anwenden einer Kombination aus der Schicht der Metallverbindung
(C und O enthaltende Mo-Ta Legierung) 76a und der Metallschicht
(Mo-Ta Legierung) 76b erreicht.
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Um
den Einfluss der Metallarten auf die Remission zu beurteilen, wurden
sechs Arten einer Schicht der Metallverbindung, jede C und O enthaltend,
angefertigt und der Remessionsmessung in der gleichen Art und Weise
wie in dem ersten Vergleichsbeispiel unterworfen, wodurch die folgenden
Ergebnisse erhalten wurden.
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Wie
aus den obigen Ergebnissen ersichtlich, wurde festgestellt, dass
Mo, Cr und Ti die Remission der Metallkomponentenschicht (C und
O enthaltend) verringern. Des Weiteren werden ähnliche Ergebnisse bei der Verwendung
von Legierungen dieser Metalle erhalten. Allerdings benötigen Cr,
Ti, Chromlegierungen und Titanlegierungen höhere Produktions-(Bearbeitungs-)
kosten im Vergleich zu Mo und Molybdänlegierungen. Unter diesem
Gesichtspunkt mögen
Mo und Molybdänlegierungen
(wie zum Beispiel Mo-Ta) besonders bevorzugt verwendet werden.
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Im Übrigen werden
die Extinktionskoeffizienten k der Schicht der Metallverbindung
(welche eine Mo-Ta Legierung mit C und O enthält), in dem oben angeführten ersten
Vergleichsbeispiel und in der oben angeführten ersten Ausführungsform
festgelegt, je zwischen 0,319 und 0,753 zu sein, der Extinktionskoeffizient
k aber kann im Bereich von 0,2–1,0
variieren.
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Wir
haben durch das nachfolgende Experiment bestätigt, dass der Bereich des
Extinktionskoeffizienten bevorzugt zwischen 0,2–1,0 sein kann.
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Sechs
maskierende Filme wurden erstellt und einer Messung des Extinktionskoeffizienten
k bei 550 nm und der Remission (%) bei 550 nm in der gleichen Art
und Weise wie im ersten Vergleichsbeispiel unterworfen, bis auf
die Tatsache des Änderns
des Gasdurchflussquotienten (Ar:CO2) der
Metallkomponentenschicht, wie folgt.
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Die
Ergebnisse werden jeweils in 9 (Extinktionskoeffizient
gegen Gasdurchflussquotient) und in 10 (Remission
gegen Extinktionskoeffizient) dargestellt.
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Des
Weitern wurden sechs Flüssigkristallanzeigegeräte jeweils
unter Verwendung des obigen maskierenden Filmes ausgebildet und
der Betrachtung per Auge unterzogen, um die Anzeigequalität (als ein
Effekt des Verringerns der externen Lichtreflektion) zu bewerten.
Demzufolge wurde eine herausragende Anzeigequalität im Falle
eines Extinktionskoeffizienten von 0,22, 0,32, 0,75 und 0,95 bestätigt. Andererseits
führte
ein Extinktionskoeffizient von 0,1 und 1,27 zu einer geringeren
Anzeigequalität.
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Wie
in den ersten und zweiten Vergleichsbeispiel und der Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung beschrieben, enthält jede einzelne der Schichten
(76a, 76b, 86a, 86b und 86c),
welche den maskierenden Film (76 und 86) darstellen,
eine Mo-Ta-Legierung (Mo:Ta = 85 Gew.-% : 15 Gew.-%).
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Die
jeweiligen Schichten, welche den maskierenden Film darstellen, können unabhängig durch
einen weiteren Metallbestandteil, ausgewählt aus der Gruppe, welche
aus Mo, Cr, Al, Ta Ti, W und Legierungen dieser Metalle besteht,
enthalten.
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Des
Weiteren wird im Allgemeinen, als ein Umgebungsgas für den Schritt
des Besputterns, ein Gasgemisch aus Ar und CO2 verwendet,
es kann jedoch auch ein Gemisch aus CH4 und
O2 verwendet werden.
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Des
Weiteren wird das Target aus einer Mo-Ta-Legierung als ein Sputtertarget verwendet,
allerdings kann es durch ein Target aus einer Mo-Ta Legierung, welche
(nur) C enthält,
eine Mo-Ta Legierung, welche (nur) Sauerstoff enthält, eine
Mo-Ta Legierung, welches (beides) C und O enthält oder ein anderes Metall
oder Legierungen, welches zumindest C oder O enthält, ersetzt
werden.
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Obwohl
in der obigen Beschreibung das Flüssigkristallanzeigegerät der vorliegenden
Erfindung unter Verwendung des Flüssigkristallanzeigegerätes als
ein Beispiel dafür
erläutert
ist, kann das Anzeigegerät
der vorliegende Erfindung ebenfalls ein anderes Anzeigegerät enthalten,
einschließlich Plasmaanzeigegeräte und Elektroluminiszens(EL)anzeigegeräte, von
denen jedes einzeln mit einem zwischen den Pixeln angeordneten maskierenden
(lichtunterbrechenden) Element ausgestattet ist.